JP5246438B2 - Laser processing equipment - Google Patents

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本発明は、平板状の加工対象物をテーブルにセットして回転させ、パルス列状のレーザ光を加工対象物に照射するとともに、レーザ光の照射位置をテーブルの半径方向に移動させることにより、加工対象物の表面に螺旋状に加工跡(ピットあるいは反応跡)を形成するレーザ加工装置に関する。   The present invention sets a plate-like workpiece on a table and rotates it, irradiates the workpiece with a pulse-train-shaped laser beam, and moves the irradiation position of the laser beam in the radial direction of the table. The present invention relates to a laser processing apparatus that forms a processing trace (pit or reaction trace) spirally on the surface of an object.

従来から、平板状の加工対象物をテーブルにセットして回転させ、加工対象物にレーザ光を照射するとともに、レーザ光の照射位置をテーブルの半径方向に移動させることにより、加工対象物の表面を螺旋状にレーザ加工するレーザ加工装置は知られている。加工対象物の表面全体に複数のピットあるいはピットを形成するための反応跡(以下、これらを加工跡と総称する)を形成する場合、例えば、特許文献1に提案されているように、レーザ光の出射源であるレーザ光源にパルス列信号(レーザ駆動用パルス列信号)を供給して、時間に対する発光波形がパルス列状のレーザ光を照射する。   Conventionally, a flat workpiece is set on a table and rotated to irradiate the workpiece with laser light, and the laser beam irradiation position is moved in the radial direction of the table to thereby move the surface of the workpiece. A laser processing apparatus that performs laser processing in a spiral manner is known. When forming a plurality of pits or reaction traces for forming pits (hereinafter collectively referred to as machining traces) on the entire surface of the workpiece, for example, as proposed in Patent Document 1, laser light is used. A pulse train signal (laser drive pulse train signal) is supplied to a laser light source that is an emission source of the laser beam, and a laser beam having a light emission waveform with respect to time is emitted.

この場合、レーザ光の照射位置が回転線速度一定になるようにテーブルの回転を制御するとともに、レーザ駆動用パルス列信号の周期を設定された加工跡間隔と回転線速度とから定まる値に固定し、テーブルが1回転する間にレーザ光の照射位置が半径方向へ移動する距離を加工跡間隔と同じ値にすれば、回転方向の加工跡間隔と半径方向の加工跡間隔とが等しくなり、加工対象物の表面全体にわたって均一に加工跡を配置することができる。   In this case, the rotation of the table is controlled so that the irradiation position of the laser beam is constant, and the period of the pulse train signal for driving the laser is fixed to a value determined from the set processing trace interval and the rotational linear velocity. If the distance that the irradiation position of the laser beam moves in the radial direction during one rotation of the table is set to the same value as the processing trace interval, the processing trace interval in the rotation direction and the processing trace interval in the radial direction become equal. Processing traces can be arranged uniformly over the entire surface of the object.

特開2007−216263号公報JP 2007-216263 A

このようなレーザ加工は、例えば、LEDの基板作成時に使用される。LEDは、基板の上に化学気相成長法によって薄膜を積み重ねて作成されるが、この基板の表面に凹凸を形成することによって、発光層で生じた光に対する外界に取り出せる光の取り出し割合である光取り出し効率を向上させることができる。このため、パルス列状のレーザ光照射により、基板に微細な加工跡を形成して基板表面全体を凹凸状に加工する。   Such laser processing is used, for example, when an LED substrate is formed. An LED is formed by stacking thin films on a substrate by chemical vapor deposition. By forming irregularities on the surface of the substrate, the LED has a light extraction ratio that can be extracted to the outside with respect to the light generated in the light emitting layer. Light extraction efficiency can be improved. For this reason, fine processing traces are formed on the substrate by irradiating the pulsed laser beam, and the entire surface of the substrate is processed to be uneven.

従来のレーザ加工装置においては、レーザ光源から出射されるパルス列状のレーザ光のパルス幅、ハイレベルのレーザ強度、径方向移動加工跡及び回転線速度は、レーザ加工中、一定になるように設定されている。したがって、加工跡の大きさや間隔は常に一定で、複数の加工跡は規則正しく配列されたものとなる。詳細には、半径位置が変わると、テーブルが一回転する間にレーザ光照射位置が移動する距離すなわち円周の長さが変わるために、形成された加工跡部分を拡大して見た場合、図11(A)に示すように、形成された加工跡は平行四辺形上に配列されたものとなる。一方、LEDの製作のために基板に加工跡を形成する場合には、加工跡を図11(A)に示すように規則正しく形成するよりも、加工跡を図11(B)に示すようにランダムに形成した場合の方が光取り出し効率が高くなる場合があるという実験結果も得られている。しかしながら、従来のレーザ加工装置では加工跡をランダムに形成することができないと問題がある。   In conventional laser processing equipment, the pulse width, high-level laser intensity, radial movement processing trace, and rotational linear velocity of the pulse train emitted from the laser light source are set to be constant during laser processing. Has been. Therefore, the size and interval of the machining traces are always constant, and the plurality of machining traces are regularly arranged. Specifically, if the radial position changes, the distance that the laser light irradiation position moves during one rotation of the table, that is, the length of the circumference changes, so that when the formed processing trace portion is viewed in an enlarged manner, As shown in FIG. 11A, the formed machining traces are arranged on a parallelogram. On the other hand, when forming a processing mark on a substrate for manufacturing an LED, the processing marks are randomly formed as shown in FIG. 11B rather than regularly forming the processing marks as shown in FIG. There is also an experimental result that the light extraction efficiency may be higher in the case of forming the film. However, the conventional laser processing apparatus has a problem if the processing marks cannot be formed randomly.

本発明は、上記問題に対処するためになされたもので、加工対象物の加工領域全体にわたって加工跡をランダムに形成できるようにしたレーザ加工装置を提供することにある。なお、下記本発明の各構成要件の記載においては、本発明の理解を容易にするために、実施形態の対応箇所の符号を括弧内に記載しているが、本発明の各構成要件は、実施形態の符号によって示された対応箇所の構成に限定解釈されるべきものではない。   The present invention has been made to cope with the above-described problem, and provides a laser processing apparatus capable of randomly forming a processing mark over the entire processing region of a processing object. In addition, in the description of each constituent element of the present invention below, in order to facilitate understanding of the present invention, reference numerals of corresponding portions of the embodiment are described in parentheses, but each constituent element of the present invention is The present invention should not be construed as being limited to the configurations of the corresponding portions indicated by the reference numerals of the embodiments.

上記目的を達成するために、本発明の特徴は、加工対象物(OB)をセットするためのテーブル(21)と、テーブルを回転させる回転手段(22)と、テーブルにセットされて回転する加工対象物にレーザ光源(31)から出射されたレーザ光を対物レンズ(35)により集光して照射する加工ヘッド(30)と、加工ヘッドから出射されたレーザ光により加工対象物に形成されたレーザスポットを、テーブルに対して相対的にテーブルの半径方向に移動させる半径方向移動手段(23〜25)と、パルス列状の駆動信号を生成してレーザ光源に供給し、レーザ光源からパルス列状のレーザ光が出射されるようにレーザ光源を駆動するレーザ光源駆動手段(71,72)とを備え、加工対象物に、テーブルの半径方向に沿うとともに、テーブルの回転方向に沿った複数の加工跡を形成するようにしたレーザ加工装置において、テーブルの半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向にランダムに変化させる半径方向ランダム制御手段(43〜46,81〜83)を設けたことにある。 In order to achieve the above object, the present invention is characterized by a table (21) for setting a workpiece (OB), a rotating means (22) for rotating the table, and a processing set and rotated on the table. A processing head (30) that condenses and irradiates a laser beam emitted from a laser light source (31) onto an object by an objective lens (35), and a laser beam emitted from the processing head. Radial direction moving means (23-25) for moving the laser spot relative to the table in the radial direction of the table, and a pulse train-like drive signal are generated and supplied to the laser light source. Laser light source driving means (71, 72) for driving the laser light source so that the laser light is emitted, and along the radial direction of the table, In the laser machining apparatus to form a plurality of machining marks along the rotational direction of the Le, as between a plurality of processing traces formed along the radial direction of the table interval is changed randomly, a plurality of processing Random control means (43 to 46, 81 to 83) for controlling the formation of traces, which randomly changes the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the radial direction of the table. It is in providing.

これによれば、加工対象物にマトリクス状に形成される加工跡パターンにおいて、テーブルの半径方向に沿った複数の加工跡の間隔をランダムに変化させた加工跡パターンが形成される。その結果、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。 According to this, in the processing marks pattern to be formed in a matrix in the object, machining marks pattern of intervals of a plurality of machining marks along the radial direction of the table is changed at random is formed. As a result, it is possible to satisfy a demand for a random processing trace pattern.

具体的には、半径方向ランダム制御手段を、レーザ光源から対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向に変化させるための音響光学変調素子又は電気光学変調素子(43)と、音響光学変調素子又は電気光学変調素子にランダムに変化する電気信号を供給して、音響光学変調素子又は電気光学変調素子が加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向にランダムに変化させるように、音響光学変調素子又は電気光学変調素子を制御する光軸駆動回路(81)とで構成するとよい。これによれば、音響光学変調素子又は電気光学変調素子の時間応答性は高いので、テーブルを高速回転させて微細間隔の加工跡を加工対象物に形成する場合に有効である。   Specifically, the radial random control means is arranged on the optical path of the laser light from the laser light source to the objective lens, and changes the optical axis of the laser light irradiated to the workpiece in the radial direction of the table. The acousto-optic modulation element or electro-optic modulation element (43) and the electro-optic modulation element or electro-optic modulation element are supplied with a randomly changing electric signal so that the acousto-optic modulation element or electro-optic modulation element is applied to the workpiece. The optical axis drive circuit (81) for controlling the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element may be configured to randomly change the optical axis of the irradiated laser light in the radial direction of the table. According to this, since the time response of the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element is high, it is effective when a processing trace with a fine interval is formed on the workpiece by rotating the table at a high speed.

また、半径方向ランダム制御手段を、対物レンズを駆動して加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向に変化させるためのアクチュエータ(44)と、アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、対物レンズが加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向にランダムに変化させるように、アクチュエータを制御する光軸駆動回路(82)とで構成してもよい。この場合、アクチュエータとしては、例えばトラッキングアクチュエータを利用でき、光ディスクの記録再生に用いられる光ヘッドに備わっているトラッキングアクチュエータを加工ヘッドに備えるようにすることは簡単であり、光軸駆動回路も簡単に構成できるので、レーザ加工装置を安価かつ簡単に構成できる。   In addition, the radial direction random control means includes an actuator (44) for driving the objective lens to change the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the radial direction of the table, and an electric that randomly changes to the actuator. An optical axis drive circuit (82) that controls the actuator so as to change the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece by the objective lens randomly in the radial direction of the table by supplying a signal. Also good. In this case, for example, a tracking actuator can be used as the actuator, and it is easy to provide the processing head with the tracking actuator provided in the optical head used for recording / reproducing of the optical disk, and the optical axis drive circuit is also simple. Since it can be configured, the laser processing apparatus can be configured inexpensively and easily.

また、半径方向ランダム制御手段を、レーザ光源から対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、レーザ光源からのレーザ光を反射して対物レンズに導くミラー(45)と、ミラーを駆動して加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向に変化させるためのアクチュエータ(46)と、アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、ミラーが加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの半径方向にランダムに変化させるように、アクチュエータを制御する光軸駆動回路(83)とで構成してもよい。この場合も、ミラー、アクチュエータ及び光軸駆動回路は比較的簡単に構成されるので、レーザ加工装置を比較的安価かつ簡単に構成できる。   Further, a radial direction random control means is disposed on the optical path of the laser light from the laser light source to the objective lens, and reflects the laser light from the laser light source and guides it to the objective lens, and drives the mirror. The actuator (46) for changing the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the radial direction of the table and an electrical signal that randomly changes to the actuator are supplied, and the mirror is irradiated to the workpiece. The optical axis drive circuit (83) for controlling the actuator may be configured so that the optical axis of the laser beam is changed randomly in the radial direction of the table. Also in this case, since the mirror, the actuator, and the optical axis drive circuit are configured relatively simply, the laser processing apparatus can be configured relatively inexpensively and simply.

また、本発明の他の特徴は、テーブルの半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、半径方向移動手段を電気的に制御して、半径方向移動手段によってテーブルに対して相対的にテーブルの半径方向に移動するレーザスポットの移動速度をランダムに変化させる半径方向移動速度ランダム制御手段(50,62)を設けたことにある。これによれば、テーブルの半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がさらにランダムに変化し、さらに、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。また、この場合、レーザ加工装置に備わっている半径方向移動手段を電気的に制御するのみであるので、レーザ加工装置を安価かつ簡単に構成できる。 Another feature of the present invention is random control means for controlling the formation of a plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the radial direction of the table change randomly. Radial moving speed random control means (50) which electrically controls the radial moving means to randomly change the moving speed of the laser spot moving in the radial direction of the table relative to the table by the radial moving means. 62) . According to this, the interval between the plurality of machining traces formed along the radial direction of the table changes more randomly, and further, a request for a random machining trace pattern can be satisfied. Moreover, this case, since the radial moving means are provided in the laser machining apparatus is only electrically controlled, inexpensive and easily configured laser processing apparatus.

また、本発明の他の特徴は、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向にランダムに変化させる回転方向ランダム制御手段(47,84)を設けたことにある。これによれば、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔もランダムに変化し、さらに、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。 Another feature of the present invention is a random control means for controlling the formation of a plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly. Rotation direction random control means (47, 84) for randomly changing the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the rotation direction of the table is provided. According to this, the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table also change randomly, and further, a request for a random machining trace pattern can be satisfied.

具体的には、回転方向ランダム制御手段を、レーザ光源から対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向に変化させるための音響光学変調素子又は電気光学変調素子(47)と、音響光学変調素子又は電気光学変調素子にランダムに変化する電気信号を供給して、音響光学変調素子又は電気光学変調素子が加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向にランダムに変化させるように、音響光学変調素子又は電気光学変調素子を制御する光軸駆動回路(84)とで構成するとよい。これによれば、音響光学変調素子又は電気光学変調素子の時間応答性は高いので、テーブルを高速回転させて微細間隔の加工跡を加工対象物に形成する場合に有効である。   Specifically, the rotation direction random control means is arranged on the optical path of the laser beam from the laser light source to the objective lens, and changes the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the rotation direction of the table. The acousto-optic modulation element or electro-optic modulation element (47) and the electro-optic modulation element or electro-optic modulation element are supplied with an electric signal that randomly changes so that the acousto-optic modulation element or electro-optic modulation element is applied to the workpiece The optical axis drive circuit (84) for controlling the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element may be configured to randomly change the optical axis of the irradiated laser light in the rotation direction of the table. According to this, since the time response of the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element is high, it is effective when a processing trace with a fine interval is formed on the workpiece by rotating the table at a high speed.

また、回転方向ランダム制御手段を、対物レンズを駆動して加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向に変化させるためのアクチュエータと、アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、対物レンズが加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向にランダムに変化させるように、アクチュエータを制御する光軸駆動回路とで構成してもよい。この場合、対物レンズを回転方向に駆動するアクチュエータ及び光軸駆動回路は比較的簡単に構成されるので、レーザ加工装置を比較的安価かつ簡単に構成できる。   In addition, the rotation direction random control means supplies an actuator for driving the objective lens to change the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the rotation direction of the table, and an electric signal that randomly changes to the actuator. Then, the objective lens may be configured with an optical axis driving circuit that controls the actuator so that the optical axis of the laser light irradiated onto the workpiece is randomly changed in the rotation direction of the table. In this case, since the actuator and the optical axis drive circuit for driving the objective lens in the rotation direction are configured relatively simply, the laser processing apparatus can be configured relatively inexpensively and simply.

また、回転方向ランダム制御手段を、レーザ光源から対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、レーザ光源からのレーザ光を反射して対物レンズに導くミラーと、ミラーを駆動して加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向に変化させるためのアクチュエータと、アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、ミラーが加工対象物に照射されるレーザ光の光軸をテーブルの回転方向にランダムに変化させるように、アクチュエータを制御する光軸駆動回路とで構成してもよい。この場合も、ミラー、アクチュエータ及び光軸駆動回路は比較的簡単に構成されるので、レーザ加工装置を比較的安価かつ簡単に構成できる。   Further, the rotation direction random control means is arranged on the optical path of the laser light from the laser light source to the objective lens, reflects the laser light from the laser light source and guides it to the objective lens, and drives the mirror to be processed. An actuator for changing the optical axis of the laser beam irradiated to the object in the rotation direction of the table, and an optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece by the mirror by supplying an electric signal that randomly changes to the actuator May be configured with an optical axis drive circuit that controls the actuator so that the angle is changed randomly in the rotation direction of the table. Also in this case, since the mirror, the actuator, and the optical axis drive circuit are configured relatively simply, the laser processing apparatus can be configured relatively inexpensively and simply.

また、本発明の他の特徴は、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、回転手段を電気的に制御して、回転手段によって回転されるテーブルの回転速度をランダムに変化させる回転速度ランダム制御手段(50、61)を設けたことにある。これによっても、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔もランダムに変化し、さらに、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。この場合も、レーザ加工装置に備わっている回転手段を電気的に制御するのみであるので、レーザ加工装置を安価かつ簡単に構成できる。 Another feature of the present invention is a random control means for controlling the formation of a plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly. Rotation speed random control means (50, 61) for changing the rotation speed of the table rotated by the rotation means at random by electrically controlling the rotation means is provided. Also by this, the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table also change randomly, and further, a request for a random machining trace pattern can be satisfied. Also in this case, since the rotation means provided in the laser processing apparatus is only electrically controlled, the laser processing apparatus can be configured inexpensively and easily.

また、本発明の他の特徴は、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルス間隔をランダムに変化させるパルス間隔ランダム制御手段(50,72,72a)を設けたことにある。これによっても、テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔もランダムに変化し、さらに、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。この場合も、パルス間隔ランダム制御手段は、レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルス間隔をランダムに変化させるだけであるので、レーザ加工装置を安価かつ簡単に構成できる。また、これによれば、パルス列状の駆動信号におけるパルス間隔をランダムに変化させることは、複数の加工跡の形成に同期しているので、加工跡間隔を加工跡形成と同時にランダムに変化させることができ、微細間隔の加工跡を加工対象物に形成する場合にも有効である。 Another feature of the present invention is a random control means for controlling the formation of a plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly. There is provided pulse interval random control means (50, 72, 72a) for randomly changing the pulse interval in the pulse train drive signal generated by the laser light source driving means . Also by this, the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table also change randomly, and further, a request for a random machining trace pattern can be satisfied. Also in this case, since the pulse interval random control means merely changes the pulse interval in the pulse train-like drive signal generated by the laser light source driving means, the laser processing apparatus can be configured inexpensively and easily. In addition, according to this, changing the pulse interval in the pulse train drive signal at random is synchronized with the formation of a plurality of machining traces, so the machining trace interval can be changed randomly at the same time as the formation of the machining traces. It is also effective when forming traces of fine intervals on a workpiece.

また、本発明の他の特徴は、形成される複数の加工跡の大きさがランダムに変化するように、複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルスレベルをランダムに変化させるパルスレベルランダム制御手段(50,72,72a)を設けたことにある。これによれば、形成される複数の加工跡の大きさもランダムに変化し、さらに、ランダムな加工跡パターンの要望を満たすことができる。この場合も、パルスレベルランダム制御手段は、レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルスレベルをランダムに変化させるだけであるので、レーザ加工装置を安価かつ簡単に構成できる。また、これによれば、パルス列状の駆動信号におけるパルスレベルをランダムに変化させることは、複数の加工跡の形成に同期しているので、加工跡の大きさを加工跡形成と同時にランダムに変化させることができ、微細間隔の加工跡を加工対象物に形成する場合にも有効である。 Another feature of the present invention is a random control means for controlling the formation of a plurality of machining traces so that the sizes of the plurality of machining traces to be formed are randomly changed . The pulse level random control means (50, 72, 72a) for randomly changing the pulse level in the generated pulse train drive signal is provided. According to this, the size of a plurality of processing traces to be formed also changes randomly, and further, a request for a random processing trace pattern can be satisfied. Also in this case, since the pulse level random control means only changes the pulse level in the pulse train drive signal generated by the laser light source driving means at random, the laser processing apparatus can be configured inexpensively and easily. Also, according to this, changing the pulse level in the pulse train drive signal at random is synchronized with the formation of multiple machining traces, so the size of the machining traces changes randomly simultaneously with the formation of the machining traces. It is also effective when forming traces of fine intervals on a workpiece.

さらに、本発明の実施にあたっては、本発明は、レーザ加工装置の発明に限定されることなく、レーザ加工方法の発明としても実施し得るものである。   Furthermore, in carrying out the present invention, the present invention is not limited to the invention of the laser processing apparatus, but can also be implemented as an invention of a laser processing method.

本発明の一実施形態に係るレーザ加工装置のシステム構成図である。1 is a system configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1の光軸駆動回路の詳細ブロック図である。It is a detailed block diagram of the optical axis drive circuit of FIG. 図1のコントローラによって実行される加工準備プログラムを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process preparation program performed by the controller of FIG. 図3のランダムデータ生成ルーチンの詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the random data generation routine of FIG. 4桁のランダムデータから−1〜+1の間で変化する変換値を導出するために使われるテーブルを表す表である。It is a table | surface showing the table used in order to derive | lead-out the conversion value which changes between -1 to +1 from 4-digit random data. 図3のパルス制御データ生成ルーチンの詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the pulse control data generation routine of FIG. 図1のコントローラによって実行される加工制御プログラムを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process control program performed by the controller of FIG. 図1のコントローラによって実行されるスピンドルモータ制御データ生成プログラムを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the spindle motor control data generation program performed by the controller of FIG. 図1のコントローラによって実行されるフィードモータ制御データ生成プログラムを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the feed motor control data generation program performed by the controller of FIG. 前記実施形態の変形例に係るレーザ加工装置のシステム構成図である。It is a system block diagram of the laser processing apparatus which concerns on the modification of the said embodiment. (A)は従来の装置による加工跡の形成状態を示す図であり、(B)は本発明による加工跡(ピット)の形成状態を示す図である。(A) is a figure which shows the formation state of the process trace by the conventional apparatus, (B) is a figure which shows the formation state of the process trace (pit) by this invention.

以下、本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。図1は、実施形態に係るレーザ加工装置の概略システム構成図である。このレーザ加工装置は、平板状の加工対象物OBをセットして固定支持する支持部材としてのテーブル21と、加工対象物OBに向けてレーザ光を照射して加工対象物OBをレーザ加工する加工ヘッド30とを備えている。加工対象物OBは、加工ヘッド30から照射されたレーザ光により、表面にナノ単位の超微細ピットが無数に形成されてLEDの基板として使用される。テーブル21は、円盤状に形成されていて、スピンドルモータ22及びフィードモータ23によって駆動される。加工ヘッド30は、装置本体に固定されたヘッド支持フレーム(図示略)により固定されている。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic system configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment. This laser processing apparatus has a table 21 as a support member for setting and fixing and supporting a flat plate-shaped workpiece OB, and processing for laser processing the workpiece OB by irradiating a laser beam toward the workpiece OB. And a head 30. The processing object OB is used as an LED substrate by forming innumerable nano-sized ultra-fine pits on the surface by the laser light emitted from the processing head 30. The table 21 is formed in a disk shape and is driven by a spindle motor 22 and a feed motor 23. The processing head 30 is fixed by a head support frame (not shown) fixed to the apparatus main body.

スピンドルモータ22は、本発明の回転手段として機能するもので、その回転により、回転軸22bを介してテーブル21を回転駆動する。スピンドルモータ22内には、同モータ22すなわちテーブル21の回転を検出して、その回転を表す回転信号を出力するエンコーダ22aが組み込まれている。この回転信号は、テーブル21の回転位置が一つの基準回転位置に来るごとに発生されるインデックス信号Indexと、テーブル21が所定の微少角度だけ回転するたびにハイレベルとローレベルとを交互に切り替えるパルス列信号ΦA,ΦBとからなる。インデックス信号Indexは、テーブル21の基準回転位置の検出に使用される。パルス列信号ΦA,ΦBは、テーブル21の回転速度を制御するために使用され、回転方向を識別するために互いにπ/2だけ位相のずれた信号である。 The spindle motor 22 functions as a rotating means of the present invention, and the table 21 is rotationally driven through the rotation shaft 22b by the rotation. The spindle motor 22 incorporates an encoder 22a that detects the rotation of the motor 22, that is, the table 21, and outputs a rotation signal representing the rotation. The rotation signal is alternately switched between an index signal Index generated every time the rotation position of the table 21 comes to one reference rotation position and a high level and a low level each time the table 21 rotates by a predetermined minute angle. It consists of pulse train signals Φ A and Φ B. The index signal Index is used to detect the reference rotation position of the table 21. The pulse train signals Φ A and Φ B are signals that are used to control the rotational speed of the table 21 and are out of phase with each other by π / 2 to identify the rotational direction.

インデックス信号Indexはコントローラ50に供給され、パルス列信号ΦA,ΦBはスピンドルモータ制御回路61に供給される。スピンドルモータ制御回路61は、コントローラ50からの回転開始指示により作動開始し、エンコーダ22aから出力されるパルス列信号ΦA,ΦBの単位時間あたりのパルス数によりスピンドルモータ22の回転速度を計算し、計算した回転速度がコントローラ50によって指示された回転速度に等しくなるようにスピンドルモータ22の回転を制御する。このコントローラ50によって指示される回転速度は、加工対象物OBに対するレーザ光の回転線速度がほぼ一定になる速度であるが、時間経過に従ってランダムに微変動するものである。そして、このランダムに微変動する回転速度は、コントローラ50によって実行される後述するスピンドルモータ制御データ生成プログラムの処理によりコントローラ50から供給される。 The index signal Index is supplied to the controller 50, and the pulse train signals Φ A and Φ B are supplied to the spindle motor control circuit 61. The spindle motor control circuit 61 starts operation in response to a rotation start instruction from the controller 50, calculates the rotation speed of the spindle motor 22 based on the number of pulses per unit time of the pulse train signals ΦA and ΦB output from the encoder 22a, and calculates The rotation of the spindle motor 22 is controlled so that the rotation speed becomes equal to the rotation speed instructed by the controller 50. The rotational speed instructed by the controller 50 is a speed at which the rotational linear speed of the laser beam with respect to the workpiece OB becomes substantially constant, but it slightly fluctuates randomly with time. The rotational speed that slightly fluctuates randomly is supplied from the controller 50 by processing of a spindle motor control data generation program, which will be described later, executed by the controller 50.

フィードモータ23は、スクリューロッド24を回転させて、テーブル21を半径方向に駆動する。スクリューロッド24は、その一端にてフィードモータ23の回転軸に一体回転するように連結され、その他端に支持部材25に固着されたナット(図示しない)に螺合している。支持部材25は、スピンドルモータ22を固定支持するとともに、テーブル21の半径方向への移動のみが許容されている。したがって、フィードモータ23が回転すると、スピンドルモータ22、テーブル21及び支持部材25は、スクリューロッド24及びナットからなる送りネジ機構20によりテーブル21の半径方向に変位する。テーブル21の移動方向は、テーブル21の回転中心の移動軌跡を表す直線が、加工ヘッド30の照射位置を通るように設定されている。これらのフィードモータ23、スクリューロッド24及び支持部25が本発明の半径方向移動手段に対応する。   The feed motor 23 rotates the screw rod 24 to drive the table 21 in the radial direction. The screw rod 24 is connected to one end of the screw rod 24 so as to rotate integrally with the rotation shaft of the feed motor 23, and is screwed to a nut (not shown) fixed to the support member 25 at the other end. The support member 25 fixedly supports the spindle motor 22 and is only allowed to move in the radial direction of the table 21. Therefore, when the feed motor 23 rotates, the spindle motor 22, the table 21, and the support member 25 are displaced in the radial direction of the table 21 by the feed screw mechanism 20 including the screw rod 24 and the nut. The movement direction of the table 21 is set so that a straight line representing the movement locus of the rotation center of the table 21 passes through the irradiation position of the processing head 30. These feed motor 23, screw rod 24, and support portion 25 correspond to the radial movement means of the present invention.

フィードモータ23内にも、フィードモータ23の回転を検出して、前記エンコーダ22aと同様なパルス列信号ΦA,ΦBを出力するエンコーダ23aが組み込まれている。エンコーダ23aから出力されるパルス列信号ΦA,ΦBは、フィードモータ制御回路62と半径値検出回路63とに出力される。半径値検出回路63は、エンコーダ23aからのパルス列信号ΦA,ΦBのパルス数をフィードモータ23の回転方向に応じてカウントアップ又はカウントダウンし、そのカウント値からレーザ光が照射されるテーブル21の半径方向への送り位置(すなわち半径位置)を表わす半径値rを検出し、半径値rを表す信号をコントローラ50に出力する。なお、半径値検出回路63におけるカウント値の初期設定は、電源投入時にコントローラ50の指示によって行われる。 Also incorporated in the feed motor 23 is an encoder 23a that detects the rotation of the feed motor 23 and outputs the same pulse train signals Φ A and Φ B as the encoder 22a. The pulse train signals Φ A and Φ B output from the encoder 23 a are output to the feed motor control circuit 62 and the radius value detection circuit 63. The radius value detection circuit 63 counts up or counts down the number of pulses of the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 23a according to the rotation direction of the feed motor 23, and the laser beam is irradiated from the count value of the table 21. A radius value r representing the radial feed position (ie, radial position) is detected, and a signal representing the radius value r is output to the controller 50. The initial setting of the count value in the radius value detection circuit 63 is performed by an instruction from the controller 50 when the power is turned on.

すなわち、コントローラ50は、電源投入時に、フィードモータ制御回路62に支持部材25の初期位置への移動及び半径値検出回路63に初期設定を指示する。この指示により、フィードモータ制御回路62は、フィードモータ23を回転させて支持部材25を初期位置に移動させる。この初期位置は、フィードモータ23によって駆動される支持部材25の駆動限界位置である。半径値検出回路63は、この支持部材25の移動中、エンコーダ23aからのパルス列信号ΦA,ΦBを入力し続けている。そして、支持部材25が初期位置まで達してフィードモータ23の回転が停止すると、半径値検出回路63はエンコーダ23aからのパルス列信号ΦA,ΦBの入力停止を検出して、カウント値を「0」にリセットする。このとき、半径値検出回路63は、フィードモータ制御回路62に出力停止のための信号を出力し、これにより、フィードモータ制御回路62はフィードモータ23への駆動信号の出力を停止する。その後に、フィードモータ23が駆動された際には、半径値検出回路63は、パルス列信号ΦA,ΦBのパルス数をフィードモータ23の回転方向に応じてカウントアップ又はカウントダウンし、そのカウント値に基づいてテーブル21の半径方向への送り位置を表す半径値rを算出し、半径値rを表す信号をフィードモータ制御回路62及びコントローラ50に出力し続ける。 That is, the controller 50 instructs the feed motor control circuit 62 to move the support member 25 to the initial position and the radius value detection circuit 63 when the power is turned on. In response to this instruction, the feed motor control circuit 62 rotates the feed motor 23 to move the support member 25 to the initial position. This initial position is a drive limit position of the support member 25 driven by the feed motor 23. The radius value detection circuit 63 continues to input the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 23a while the support member 25 is moving. When the support member 25 reaches the initial position and the rotation of the feed motor 23 stops, the radius value detection circuit 63 detects the stop of the input of the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 23a, and sets the count value to “0”. To "". At this time, the radius value detection circuit 63 outputs a signal for stopping the output to the feed motor control circuit 62, whereby the feed motor control circuit 62 stops outputting the drive signal to the feed motor 23. Thereafter, when the feed motor 23 is driven, the radius value detection circuit 63 counts up or counts down the number of pulses of the pulse train signals Φ A and Φ B according to the rotation direction of the feed motor 23, and the count value The radius value r representing the feed position in the radial direction of the table 21 is calculated based on the above, and the signal representing the radius value r is continuously output to the feed motor control circuit 62 and the controller 50.

フィードモータ制御回路62は、コントローラ50の指示により、フィードモータ23を駆動制御して、レーザ光の照射位置をテーブル21の指定半径位置へ移動させたり、テーブル21を半径方向に指定速度で移動させたりする。具体的には、フィードモータ制御回路62は、コントローラ50によって指定される半径位置へのレーザ光の照射位置の移動が指示されたときには、半径値検出回路63によって検出される半径値rを用いてフィードモータ23の回転を制御し、検出される半径値rがコントローラ50から指定された半径位置に対応した値に等しくなるまでフィードモータ23を回転させる。   The feed motor control circuit 62 drives and controls the feed motor 23 in accordance with an instruction from the controller 50 to move the irradiation position of the laser beam to a designated radial position of the table 21 or move the table 21 in the radial direction at a designated speed. Or Specifically, the feed motor control circuit 62 uses the radius value r detected by the radius value detection circuit 63 when instructed to move the irradiation position of the laser beam to the radius position designated by the controller 50. The rotation of the feed motor 23 is controlled, and the feed motor 23 is rotated until the detected radius value r becomes equal to the value corresponding to the radius position designated by the controller 50.

また、フィードモータ制御回路62は、コントローラ50によって指定される移動速度でレーザ光の照射位置をテーブル21の半径方向に移動させることが指示されたときには、エンコーダ23aの出力するパルス列信号ΦA,ΦBからテーブル21の半径方向の移動速度を計算して、計算された移動速度がコントローラ50によって指定された移動速度と等しくなるようにフィードモータ23の回転を制御する。このコントローラ50によって指示される移動速度は、レーザ光が加工対象物OBを一回転する間に半径方向にほぼ一定量だけ変化する速度であるが、時間経過に従ってランダムに微変動するものである。そして、このランダムに微変動する移動速度は、コントローラ50によって実行される後述するフィードモータ制御データ生成プログラムの処理によりコントローラ50から供給される。 When the feed motor control circuit 62 is instructed to move the irradiation position of the laser beam in the radial direction of the table 21 at the moving speed designated by the controller 50, the pulse train signals Φ A , Φ output from the encoder 23a. The movement speed in the radial direction of the table 21 is calculated from B, and the rotation of the feed motor 23 is controlled so that the calculated movement speed becomes equal to the movement speed designated by the controller 50. The moving speed instructed by the controller 50 is a speed that changes by a substantially constant amount in the radial direction while the laser beam makes one rotation of the workpiece OB, but slightly fluctuates randomly as time passes. The moving speed that varies slightly at random is supplied from the controller 50 by processing of a feed motor control data generation program, which will be described later, executed by the controller 50.

次に、加工ヘッド30について説明する。加工ヘッド30は、レーザ光源31を備え、レーザ光源31から出射されたレーザ光を加工対象物OBに向けて照射するとともに、その反射光を受光する構成となっている。加工ヘッド30は、レーザ光源31、コリメートレンズ32、偏光ビームスプリッタ33、1/4波長板34、対物レンズ35、集光レンズ36、シリンドリカルレンズ37、4分割フォトディテクタ38、フォーカスアクチュエータ39などを備えている。レーザ光源31から出射したレーザ光は、コリメートレンズ32、偏光ビームスプリッタ33、1/4波長板34及び対物レンズ35を通過して加工対象物OBの表面で集光する。また、加工対象物OBの表面に集光したレーザ光は、加工対象物OBの表面で反射する。加工対象物OBの表面で反射した反射光は、対物レンズ35及び1/4波長板34を通過し、偏光ビームスプリッタ33に入射し、偏光ビームスプリッタ33によって反射されて集光レンズ36に入射する。集光レンズ36は、偏光ビームスプリッタ33による反射光をシリンドリカルレンズ37を介して4分割フォトディテクタ38に集光する。   Next, the processing head 30 will be described. The processing head 30 includes a laser light source 31 and is configured to irradiate laser light emitted from the laser light source 31 toward the processing object OB and to receive the reflected light. The processing head 30 includes a laser light source 31, a collimating lens 32, a polarizing beam splitter 33, a quarter wavelength plate 34, an objective lens 35, a condensing lens 36, a cylindrical lens 37, a four-divided photo detector 38, a focus actuator 39, and the like. Yes. The laser light emitted from the laser light source 31 passes through the collimating lens 32, the polarizing beam splitter 33, the quarter wavelength plate 34, and the objective lens 35, and is condensed on the surface of the processing object OB. Further, the laser beam condensed on the surface of the processing object OB is reflected on the surface of the processing object OB. The reflected light reflected from the surface of the workpiece OB passes through the objective lens 35 and the quarter wavelength plate 34, enters the polarization beam splitter 33, is reflected by the polarization beam splitter 33, and enters the condenser lens 36. . The condensing lens 36 condenses the light reflected by the polarization beam splitter 33 on a four-divided photo detector 38 via a cylindrical lens 37.

また、加工ヘッド30は、偏光ビームスプリッタ33によるレーザ光源31からのレーザ光の一部反射光を集光レンズ41を介して受光するフォトディテクタ42を備えている。集光レンズ41は、前記一部反射光をフォトディテクタ42上に集光する。フォトディテクタ42は、前記一部反射光の受光量を検出して、受光量を表す電気信号を出力する。このフォトディテクタ42による検出受光量は、レーザ光源31から出射されるレーザ光の強度に対応している。   The processing head 30 also includes a photodetector 42 that receives partially reflected light of the laser light from the laser light source 31 by the polarizing beam splitter 33 via the condenser lens 41. The condensing lens 41 condenses the partially reflected light on the photodetector 42. The photodetector 42 detects the amount of received light of the partially reflected light and outputs an electric signal representing the amount of received light. The amount of light received and detected by the photodetector 42 corresponds to the intensity of the laser light emitted from the laser light source 31.

さらに、加工ヘッド30は、音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラー45も備えている。音響光学変調素子43は、偏光ビームスプリッタ33と1/4波長板34との間に介装されて、偏光ビームスプリッタ33からのレーザ光の光軸、すなわち加工対象物OBに照射されるレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に変動させる。なお、この音響光学変調素子43は、レーザ光源31から対物レンズ34への光路上の位置であって、加工対象物OBに照射されるレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に変動させることができる位置であれば、いずれの位置に配置してもよい。トラッキングアクチュエータ44は、対物レンズ35をテーブル21の半径方向に駆動するもので、1/4波長板34からのレーザ光の光軸、すなわち加工対象物OBに照射されるレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に変動させる。ミラー45は、コリメートレンズ32と偏光ビームスプリッタ33との間に介装されて、コリメートレンズ32からのレーザ光を反射面にて反射して偏光ビームスプリッタ33に導く。このミラー45は、ミラーアクチュエータ46に組み付けられている。ミラーアクチュエータ46は、テーブル21の半径方向に対するミラー45の反射面の角度が変化するようにミラー45を駆動して、コリメートレンズ32から偏光ビームスプリッタ33へのレーザ光の光軸、すなわち加工対象物OBに照射されるレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に変動させる。なお、このミラー45も、レーザ光源31から対物レンズ34への光路上の位置であって、加工対象物OBに照射されるレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に変動させることができる位置であれば、いずれの位置に配置してもよい。   Further, the machining head 30 also includes an acousto-optic modulation element 43, a tracking actuator 44, and a mirror 45. The acousto-optic modulation element 43 is interposed between the polarization beam splitter 33 and the quarter-wave plate 34, and the optical axis of the laser beam from the polarization beam splitter 33, that is, the laser beam irradiated onto the workpiece OB. Is varied in the radial direction of the table 21. The acousto-optic modulation element 43 is a position on the optical path from the laser light source 31 to the objective lens 34, and varies the optical axis of the laser light applied to the workpiece OB in the radial direction of the table 21. As long as it is a position that can be used, it may be placed at any position. The tracking actuator 44 drives the objective lens 35 in the radial direction of the table 21, and the optical axis of the laser light from the quarter wavelength plate 34, that is, the optical axis of the laser light irradiated on the workpiece OB is set as a table. 21 is varied in the radial direction. The mirror 45 is interposed between the collimating lens 32 and the polarizing beam splitter 33, reflects the laser light from the collimating lens 32 on the reflecting surface and guides it to the polarizing beam splitter 33. The mirror 45 is assembled to the mirror actuator 46. The mirror actuator 46 drives the mirror 45 so that the angle of the reflecting surface of the mirror 45 with respect to the radial direction of the table 21 changes, so that the optical axis of the laser light from the collimating lens 32 to the polarization beam splitter 33, that is, the workpiece. The optical axis of the laser beam irradiated on the OB is varied in the radial direction of the table 21. The mirror 45 is also a position on the optical path from the laser light source 31 to the objective lens 34 and can change the optical axis of the laser light irradiated to the workpiece OB in the radial direction of the table 21. If so, it may be arranged at any position.

レーザ光源31は、レーザ駆動回路71によって駆動される。レーザ駆動回路71は、コントローラ50からの指令により作動を開始し、パルス信号供給回路72からパルス列信号を入力した場合には、周期及びデューティ比が入力したパルス列信号と同じであり、ハイ側パルスのレベル値が入力したパルス列信号のハイ側パルスのレベル値に比例し、かつロー側パルスのレベル値が基準値であるパルス列波形からなるレーザ駆動信号をレーザ光源31に出力する。レーザ駆動信号におけるハイ側パルスのレベル値は、加工対象物OBの表面へのレーザ光の照射によって加工対象物OBの表面を加工すなわちピットを形成するために必要な強度のレーザ光をレーザ光源31から出射させる高い値である。もちろん、このレベル値は、後述するフォーカスサーボ制御に利用できることは言うまでもない。また、基準値とは、レーザ光の照射によって加工対象物OBの表面が加工されないような小さなレベル値である。そして、このレーザ駆動信号を、後述する非加工用強度に設定されたレーザ駆動信号と区別するために、加工用強度に設定されたレーザ駆動信号という。なお、本明細書では、ハイ側パルスとは、ローレベルからハイレベルに切換わり、その後にハイレベルからローレベルに切換わるまでの矩形波状の波形を意味する。また、ロー側パルスとは、ハイレベルからローレベルに切換わり、その後にローレベルからハイレベルに切換わるまでの前記ハイ側パルスとは逆向きの矩形波状の波形を意味する。   The laser light source 31 is driven by a laser drive circuit 71. When the laser drive circuit 71 starts to operate in response to a command from the controller 50 and receives a pulse train signal from the pulse signal supply circuit 72, the cycle and duty ratio are the same as the input pulse train signal, and the high-side pulse A laser drive signal having a pulse train waveform whose level value is proportional to the level value of the high-side pulse of the input pulse train signal and whose level value of the low-side pulse is a reference value is output to the laser light source 31. The level value of the high-side pulse in the laser drive signal is determined such that the laser light source 31 has a laser beam having an intensity necessary for processing the surface of the workpiece OB by irradiating the surface of the workpiece OB, that is, forming pits. It is a high value which makes it radiate | emit from. Needless to say, this level value can be used for focus servo control described later. The reference value is a small level value that does not process the surface of the processing object OB by laser light irradiation. This laser drive signal is referred to as a laser drive signal set to a processing intensity in order to distinguish it from a laser drive signal set to a non-processing intensity described later. In the present specification, the high-side pulse means a rectangular waveform from when the low level is switched to the high level until the high level is switched to the low level. Further, the low-side pulse means a rectangular waveform having a direction opposite to that of the high-side pulse until switching from the high level to the low level and thereafter switching from the low level to the high level.

また、レーザ駆動回路71は、パルス信号供給回路72から直流信号を入力した場合には、非加工用強度に設定されたレベルの連続したレーザ駆動信号をレーザ光源31に出力する。この非加工用強度に設定されたレベル値は、前記基準値と同程度の値であって、加工対象物OBの表面へレーザ光を照射しても、加工対象物OBの表面が加工されることなく、かつフォーカスサーボ制御可能な程度の強度のレーザ光をレーザ光源31から出射させる程度の値である。そして、後の説明では、このレーザ駆動信号を、非加工用強度に設定されたレーザ駆動信号という。   Further, when a DC signal is input from the pulse signal supply circuit 72, the laser drive circuit 71 outputs a continuous laser drive signal at a level set to the non-processing intensity to the laser light source 31. The level value set for the non-working strength is a value similar to the reference value, and the surface of the workpiece OB is processed even when the surface of the workpiece OB is irradiated with laser light. The value is such that the laser light source 31 emits laser light having such intensity that the focus servo control can be performed without any problem. In the following description, this laser drive signal is referred to as a laser drive signal set to a non-processing intensity.

また、レーザ駆動回路71には、フォトディテクタ42からのレーザ光の受光量すなわちレーザ光源31から出射されるレーザ光の強度を表す電気信号が入力されている。レーザ駆動回路71は、このレーザ光の強度を表す電気信号を用いて、レーザ光源31の強度を前記加工用強度又は非加工用強度にフィードバック制御する。   The laser drive circuit 71 is supplied with an electrical signal representing the amount of laser light received from the photodetector 42, that is, the intensity of the laser light emitted from the laser light source 31. The laser drive circuit 71 feedback-controls the intensity of the laser light source 31 to the processing intensity or the non-processing intensity using an electrical signal representing the intensity of the laser light.

パルス信号供給回路72は、レーザ駆動回路71に出力するパルス列信号に関する情報(以下、パルス列信号情報という)を記憶するためのメモリ72aを内蔵している。パルス信号供給回路72は、コントローラ50からパルス列信号情報が供給されると、メモリ72aに供給されたパルス列信号情報を記憶する。そして、パルス信号供給回路72は、コントローラ50から加工強度のレーザ照射開始の指示があると、これらのメモリ72aに記憶した情報を用いてパルス列信号を生成してレーザ駆動回路71に出力する。パルス列信号情報とは、ロー側パルス及びハイ側パルスのパルス幅(持続時間)と、ハイ側パルスのレベル値である。なお、ロー側パルスのレベル値は、予め決められた固定の基準値である。ロー側パルスのパルス幅は、加工対象物OBに形成されるピットの回転方向の加工間隔に対応するもので、指定されたピットの加工間隔に比例した固定値にほぼ等しいが、時間経過に従って微変動する。ハイ側パルスのレベル値(レーザ光の強度に比例)は、加工対象物OBに形成されるピットの大きさに対応するもので、指定されたピットの大きさに比例した固定値にほぼ等しいが、時間経過に従って微変動する。これらのロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値は、コントローラ50によって実行される後述するパルス制御データ生成ルーチンの処理によりコントローラ50から供給される。また、ハイ側パルスのパルス幅(持続時間)は予め決められた値に設定されており、図示しない初期プログラムの実行により、コントローラ50から初期に供給されてメモリ72aに記憶される固定値である。また、パルス信号供給回路72は、コントローラ50から非加工強度のレーザ照射開始の指示があると、レーザ駆動回路71に直流信号を出力する。これらのレーザ駆動回路71及びパルス信号供給回路72が、本発明のレーザ光源駆動手段に対応する。   The pulse signal supply circuit 72 has a built-in memory 72a for storing information relating to the pulse train signal output to the laser drive circuit 71 (hereinafter referred to as pulse train signal information). When pulse train signal information is supplied from the controller 50, the pulse signal supply circuit 72 stores the pulse train signal information supplied to the memory 72a. The pulse signal supply circuit 72 generates a pulse train signal using information stored in the memory 72 a and outputs the pulse train signal to the laser drive circuit 71 when an instruction to start the laser irradiation with the processing intensity is given from the controller 50. The pulse train signal information is the pulse width (duration) of the low-side pulse and high-side pulse and the level value of the high-side pulse. The level value of the low-side pulse is a predetermined fixed reference value. The pulse width of the low-side pulse corresponds to the machining interval in the rotation direction of the pit formed on the workpiece OB, and is almost equal to a fixed value proportional to the designated pit machining interval. fluctuate. The level value of the high side pulse (proportional to the intensity of the laser beam) corresponds to the size of the pit formed on the workpiece OB and is substantially equal to a fixed value proportional to the size of the designated pit. Slightly fluctuates over time. The pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse are supplied from the controller 50 by processing of a later-described pulse control data generation routine executed by the controller 50. The pulse width (duration) of the high-side pulse is set to a predetermined value, and is a fixed value that is initially supplied from the controller 50 and stored in the memory 72a by executing an initial program (not shown). . The pulse signal supply circuit 72 outputs a DC signal to the laser drive circuit 71 when an instruction to start laser irradiation with non-processing intensity is given from the controller 50. These laser drive circuit 71 and pulse signal supply circuit 72 correspond to the laser light source drive means of the present invention.

次に、レーザ光のフォーカスサーボについて説明する。レーザ光の加工対象物OBの表面からの反射光は、4分割フォトディテクタ38で受光される。4分割フォトディテクタ38は、分割線で区切られた4つの同一正方形状の受光素子からなる4分割受光素子によって構成され、時計回りに配置された受光領域A,B,C,Dに入射した光の強度に比例した大きさの検出信号を受光信号(a,b,c,d)として出力する。4分割フォトディテクタ38は、4つの受光素子が配置された中央に反射光が集光するように固定されている。   Next, laser beam focus servo will be described. The reflected light of the laser beam from the surface of the object OB is received by the four-divided photodetector 38. The four-divided photodetector 38 is constituted by a four-divided light receiving element composed of four light receiving elements having the same square shape divided by dividing lines, and receives light incident on the light receiving areas A, B, C, and D arranged in the clockwise direction. A detection signal having a magnitude proportional to the intensity is output as a light reception signal (a, b, c, d). The quadrant photodetector 38 is fixed so that the reflected light is collected at the center where the four light receiving elements are arranged.

4分割フォトディテクタ38から出力される受光信号(a,b,c,d)は、HF信号増幅回路73に入力される。HF信号増幅回路73は、受光信号(a,b,c,d)をそれぞれ増幅してフォーカスエラー信号生成回路74に出力する。フォーカスエラー信号生成回路74は、増幅された受光信号(a’,b’,c’,d’)を使って演算によりフォーカスエラー信号を生成する。本実施形態においては、非点収差法によるフォーカスサーボ制御を用いているため、(a’+c’)−(b’+d’)の演算を行い、この演算結果をフォーカスエラー信号としてフォーカスサーボ回路75に出力する。フォーカスエラー信号(a’+c’)−(b’+d’)は、レーザ光の焦点位置の加工対象物OBの表面からのずれ量を表している。   The received light signals (a, b, c, d) output from the quadrant photodetector 38 are input to the HF signal amplifier circuit 73. The HF signal amplifying circuit 73 amplifies the received light signals (a, b, c, d) and outputs them to the focus error signal generating circuit 74. The focus error signal generation circuit 74 generates a focus error signal by calculation using the amplified light reception signals (a ′, b ′, c ′, d ′). In this embodiment, since the focus servo control by the astigmatism method is used, the calculation of (a ′ + c ′) − (b ′ + d ′) is performed, and the calculation result is used as a focus error signal, and the focus servo circuit 75 Output to. The focus error signal (a ′ + c ′) − (b ′ + d ′) represents the amount of deviation of the focal position of the laser beam from the surface of the workpiece OB.

フォーカスサーボ回路75は、コントローラ50により作動制御され、フォーカスエラー信号に基づいて、フォーカスサーボ信号を生成してドライブ回路76に出力する。ドライブ回路76は、このフォーカスサーボ信号に応じてフォーカスアクチュエータ39を駆動制御して、対物レンズ35をレーザ光の光軸方向に変位させる。この場合、フォーカスエラー信号(a’+c’)−(b’+d’)の値が常に一定値(例えば、ゼロ)となるようにフォーカスサーボ信号を生成することにより、加工対象物OBの表面にレーザ光を集光させ続けることができる。   The focus servo circuit 75 is operation-controlled by the controller 50, generates a focus servo signal based on the focus error signal, and outputs the focus servo signal to the drive circuit 76. The drive circuit 76 drives and controls the focus actuator 39 in accordance with the focus servo signal to displace the objective lens 35 in the optical axis direction of the laser light. In this case, by generating a focus servo signal so that the value of the focus error signal (a ′ + c ′) − (b ′ + d ′) is always a constant value (for example, zero), the surface of the object OB is processed. The laser beam can be continuously collected.

音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラー45には、光軸駆動回路81,82,83がそれぞれ接続されている。光軸駆動回路81は、図2に示すように、3つの正弦波発振器81a,81b,81c及び混合回路81dからなる。正弦波発振器81a,81b,81cは、コントローラ50から作動開始指令により作動を開始し、コントローラ50から供給される、変化割合Ra1と半径方向の加工間隔ΔPtの積に比例した振幅をそれぞれ有する正弦波信号をそれぞれ発生する。これらの正弦波信号の周波数は、図示のように、互いに異なり、それらの比は互いに整数比にならないように設定されており、例えば10MHz〜400MHz程度である。また、これらの正弦波信号の振幅は同じであってもよいし、異なっていてもよい。混合回路81dは、正弦波発振器81a,81b,81cから正弦波信号を加算混合した駆動信号を出力する。これにより、光軸駆動回路81からは、図示のように、その瞬時値がランダムに時間変化し、かつ前記変化割合Ra1と半径方向の加工間隔ΔPtの積に比例した最大振幅を有する波形信号(駆動信号)が音響光学変調素子43に供給され、音響光学変調素子43は、レーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に前記変化割合Ra1と半径方向の加工間隔ΔPtの積に応じた量だけランダムに変化させる。   Optical axis drive circuits 81, 82, and 83 are connected to the acousto-optic modulation element 43, the tracking actuator 44, and the mirror 45, respectively. As shown in FIG. 2, the optical axis drive circuit 81 includes three sine wave oscillators 81a, 81b, 81c and a mixing circuit 81d. The sine wave oscillators 81a, 81b, 81c start operating in response to an operation start command from the controller 50, and each has a sine wave having an amplitude proportional to the product of the change rate Ra1 and the radial machining interval ΔPt supplied from the controller 50. Each signal is generated. The frequencies of these sine wave signals are different from each other as shown in the figure, and their ratio is set so as not to be an integer ratio, for example, about 10 MHz to 400 MHz. The amplitudes of these sine wave signals may be the same or different. The mixing circuit 81d outputs a drive signal obtained by adding and mixing sine wave signals from the sine wave oscillators 81a, 81b, and 81c. Thereby, as shown in the figure, the optical axis drive circuit 81 randomly changes its instantaneous value over time, and has a waveform signal having a maximum amplitude proportional to the product of the change rate Ra1 and the radial machining interval ΔPt ( Drive signal) is supplied to the acousto-optic modulation element 43, and the acousto-optic modulation element 43 sets the optical axis of the laser beam in the radial direction of the table 21 by an amount corresponding to the product of the change rate Ra1 and the machining interval ΔPt in the radial direction. Change randomly.

光軸駆動回路82,83も、光軸駆動回路81と同様に構成されていて、それらの瞬時値がランダムに時間変化する駆動信号を、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46にそれぞれ供給する。ただし、光軸駆動回路82,83にはコントローラ50から変化割合Ra2と半径方向の加工間隔ΔPtの積及び変化割合Ra3と半径方向の加工間隔ΔPtの積がそれぞれ供給され、光軸駆動回路82,83は、前記変化割合Ra2と半径方向の加工間隔ΔPtの積及び変化割合Ra3と半径方向の加工間隔ΔPtの積にそれぞれ比例した振幅を有する駆動信号をそれぞれ出力する。トラッキングアクチュエータ44は、前記駆動信号に応じて集光レンズ36をトラッキング方向すなわちテーブル21の半径方向に駆動する。これにより、対物レンズ35もレーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に前記変化割合Ra2と半径方向の加工間隔ΔPtの積に応じた量だけランダムに変化させる。ミラーアクチュエータ46は、前記駆動信号に応じて、ミラー45の反射面の角度をテーブル21の半径方向に変更するようにミラー45を駆動する。これにより、ミラー45も、レーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に前記変化割合Ra3と半径方向の加工間隔ΔPtの積に応じた量だけランダムに変化させる。ただし、これらのトラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46は、音響光学変調素子43に比べて高い周波数に対する応答性を有していないので、光軸駆動回路82,83内の正弦波発振器から出力される正弦波信号の周波数は、光軸駆動回路81内の正弦波発振器から出力される正弦波信号の周波数に比べて低く、例えば0.1KHz〜50KHz程度である。   The optical axis drive circuits 82 and 83 are also configured in the same manner as the optical axis drive circuit 81, and supply drive signals whose instantaneous values randomly change with time to the tracking actuator 44 and the mirror actuator 46, respectively. However, the optical axis driving circuits 82 and 83 are supplied from the controller 50 with the product of the change rate Ra2 and the radial machining interval ΔPt and the product of the change rate Ra3 and the radial machining interval ΔPt, respectively. 83 respectively outputs drive signals having amplitudes proportional to the product of the change rate Ra2 and the radial machining interval ΔPt and the product of the change rate Ra3 and the radial machining interval ΔPt. The tracking actuator 44 drives the condenser lens 36 in the tracking direction, that is, the radial direction of the table 21 in accordance with the drive signal. Accordingly, the objective lens 35 also randomly changes the optical axis of the laser light in the radial direction of the table 21 by an amount corresponding to the product of the change rate Ra2 and the processing interval ΔPt in the radial direction. The mirror actuator 46 drives the mirror 45 so as to change the angle of the reflecting surface of the mirror 45 in the radial direction of the table 21 in accordance with the drive signal. Accordingly, the mirror 45 also randomly changes the optical axis of the laser light in the radial direction of the table 21 by an amount corresponding to the product of the change rate Ra3 and the processing interval ΔPt in the radial direction. However, since the tracking actuator 44 and the mirror actuator 46 do not have responsiveness to a higher frequency than the acousto-optic modulation element 43, the sine output from the sine wave oscillators in the optical axis drive circuits 82 and 83. The frequency of the wave signal is lower than the frequency of the sine wave signal output from the sine wave oscillator in the optical axis drive circuit 81, and is, for example, about 0.1 KHz to 50 KHz.

なお、光軸駆動回路81,82,83を構成する正弦波発振器に代えて、三角波形、鋸歯状波形などの異なる波形を発生する信号発生器を用いてもよい。また、正弦波発振器(又は他の波形を発生する信号発生器)の数に関しても、光軸駆動回路81,82,83から発生される信号の瞬時値がランダムに時間変化すれば、3個以外でもよい。さらに、前記正弦波発振器(又は他の波形を発生する信号発生器)から出力される波形信号として、周波数(すなわち周期)及び/又は振幅がランダムに変化する波形信号を採用してもよい。   Note that a signal generator that generates different waveforms such as a triangular waveform and a sawtooth waveform may be used in place of the sine wave oscillators constituting the optical axis driving circuits 81, 82, and 83. Further, regarding the number of sine wave oscillators (or other signal generators that generate other waveforms), if the instantaneous values of the signals generated from the optical axis drive circuits 81, 82, and 83 change with time, other than three. But you can. Furthermore, as a waveform signal output from the sine wave oscillator (or a signal generator that generates another waveform), a waveform signal whose frequency (that is, period) and / or amplitude changes randomly may be adopted.

コントローラ50は、CPU、ROM、RAMなどからなる複数のマイクロコンピュータと、ハードディスクや不揮発性メモリなどの記憶装置と、入出力インタフェース等から構成される電子制御装置である。記憶装置には、後述する各種プログラム及びルーチンが記憶されている。コントローラ50には、作業者が各種パラメータや処理等を指示するための入力装置51と、作業者に対して検査結果や作動状況等を視覚的に知らせるための表示装置52とが接続されている。   The controller 50 is an electronic control device including a plurality of microcomputers including CPUs, ROMs, RAMs, storage devices such as hard disks and nonvolatile memories, input / output interfaces, and the like. The storage device stores various programs and routines to be described later. Connected to the controller 50 are an input device 51 for an operator to instruct various parameters, processing, and the like, and a display device 52 for visually informing the operator of inspection results, operating conditions, and the like. .

レーザ加工を行うに際して、作業者は、入力装置51を用いてコントローラ50に対して加工準備プログラムの実行開始を指示する。加工準備プログラムは図3のフローチャートに示されており、その実行がステップS10にて開始される。この加工準備プログラムの実行開始後、コントローラ50は、ステップS11にて、表示装置52に加工条件(開始半径値Rf、終了半径値Re、回転線速度F、回転方向の加工間隔W、半径方向の加工間隔ΔPt、ハイ側パルスの基本レベル値Pw、最大変化割合R1,Rr,R3,R4)の入力を作業者に促し、作業者によって入力装置51を用いて入力された加工条件を入力して記憶する。なお、入力装置51からの入力に代えて、コントローラ50のメモリ内に記憶した値を利用するようにしてもよい。   When performing laser processing, the operator uses the input device 51 to instruct the controller 50 to start execution of the processing preparation program. The machining preparation program is shown in the flowchart of FIG. 3, and its execution is started in step S10. After starting the execution of the machining preparation program, the controller 50 displays the machining conditions (start radius value Rf, end radius value Re, rotation linear velocity F, rotation interval W in the rotation direction, radial direction) in step S11. The operator is prompted to input the processing interval ΔPt, the basic level value Pw of the high-side pulse, and the maximum change rate R1, Rr, R3, R4), and the processing conditions input by the operator using the input device 51 are input. Remember. Instead of the input from the input device 51, a value stored in the memory of the controller 50 may be used.

開始半径値Rfは、レーザ加工を開始するときのレーザスポットのテーブル21の回転中心からの距離である。終了半径値Reは、レーザ加工を終了するときのレーザスポットのテーブル21の回転中心からの距離である。回転線速度Fは、レーザ加工において、レーザスポット(照射位置)が加工対象物OBの表面を円周方向に移動する速度である。回転方向の加工間隔Wは、レーザ加工において、回転方向(周方向)にピットを形成する間隔、すなわち回転方向に隣接する2つのピット中心間の回転方向の間隔である。半径方向の加工間隔ΔPtは、レーザ加工において、半径方向にピットを形成する間隔、すなわちレーザスポットが加工対象物OB表面を1周分だけ移動したときのレーザスポットの半径方向移動量である。ハイ側パルスの基本レベル値Pwは、ハイ側パルスの基本レベルを表わしており、レーザ光の強度すなわちレーザ加工跡の大きさを比例制御するものである。最大変化割合R1は、回転線速度Fの最大の変化割合である。最大変化割合Rrは、半径方向の加工間隔ΔPtの最大の変化割合である。最大変化割合R3は、ロー側パルスのパルス幅(ローレベルの持続時間)の最大の変化割合である。最大変化割合R4は、ハイ側パルスのレベル値の最大の変化割合である。なお、これらの最大変化割合R1,Rr,R3,R4は、例えば数パーセント〜数十パーセント程度の値である。   The start radius value Rf is the distance from the rotation center of the table 21 of the laser spot when laser processing is started. The end radius value Re is the distance of the laser spot from the rotation center of the table 21 when the laser processing is ended. The rotation linear velocity F is a speed at which the laser spot (irradiation position) moves in the circumferential direction on the surface of the workpiece OB in laser processing. The processing interval W in the rotation direction is an interval at which pits are formed in the rotation direction (circumferential direction) in laser processing, that is, an interval in the rotation direction between two pit centers adjacent to the rotation direction. The processing interval ΔPt in the radial direction is an interval for forming pits in the radial direction in laser processing, that is, the amount of movement of the laser spot in the radial direction when the laser spot moves on the surface of the workpiece OB by one round. The basic level value Pw of the high-side pulse represents the basic level of the high-side pulse, and proportionally controls the intensity of the laser beam, that is, the size of the laser processing trace. The maximum change rate R1 is the maximum change rate of the rotational linear velocity F. The maximum change rate Rr is the maximum change rate of the processing interval ΔPt in the radial direction. The maximum change rate R3 is the maximum change rate of the pulse width (low level duration) of the low-side pulse. The maximum change rate R4 is the maximum change rate of the level value of the high-side pulse. Note that these maximum change ratios R1, Rr, R3, and R4 are values of, for example, several percent to several tens percent.

前記ステップS11の処理後、コントローラ50は、ステップS12にて、前記入力した回転線速度F及び回転方向の加工間隔Wと、固定値であるハイ側パルスのパルス幅Whとを用いた下記数1の実行により、ロー側パルスの基本パルス幅Wdを計算する。なお、このロー側パルスの基本パルス幅Wdとは、パルス信号供給回路72から出力されるパルス列信号のローレベルの基本的な持続時間、すなわちレーザ駆動回路71からレーザ光源31に供給される駆動パルス列信号のローレベルの基本的な持続時間を表す。
(数1)
Wd=(W/F)−Wh
After the process of step S11, the controller 50 uses the input rotational linear velocity F and the processing interval W in the rotational direction and the pulse width Wh of the high-side pulse, which is a fixed value, in step S12. To calculate the basic pulse width Wd of the low-side pulse. The basic pulse width Wd of the low-side pulse is the basic low-level duration of the pulse train signal output from the pulse signal supply circuit 72, that is, the drive pulse train supplied from the laser drive circuit 71 to the laser light source 31. Represents the basic duration of the low level of the signal.
(Equation 1)
Wd = (W / F) -Wh

次に、コントローラ50は、ステップS13にて、前記入力した半径方向の加工間隔ΔPtに対する最大変化割合Rrを用いて、音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44、ミラーアクチュエータ46及びフィードモータ制御回路62によるレーザ光の光軸の半径方向へのランダム変化の割合Ra1,Ra2,Ra3,R2を計算する。この場合、割合Ra1,Ra2,Ra3,R2は、最大変化割合Rrを4等分してもよいし、予め決めた設定した比率の割合にしてもよい。そして、コントローラ50は、ステップS14にて、前記計算した割合Ra1,Ra2,Ra3のそれぞれに半径方向の加工間隔ΔPtを乗算した値を光軸駆動回路81,82,83にそれぞれ供給する。光軸駆動回路81,82,83は、これらの供給された、割合Ra1,Ra2,Ra3のそれぞれに半径方向の加工間隔ΔPtを乗算した値をを記憶して、コントローラ50からの作動開始の指示を待つ。   Next, in step S13, the controller 50 uses the maximum change rate Rr with respect to the input radial processing interval ΔPt, by the acoustooptic modulator 43, the tracking actuator 44, the mirror actuator 46, and the feed motor control circuit 62. The ratios Ra1, Ra2, Ra3, R2 of the random change in the radial direction of the optical axis of the laser light are calculated. In this case, the ratios Ra1, Ra2, Ra3, and R2 may be obtained by dividing the maximum change ratio Rr into four equal parts, or may be ratios set in advance. In step S14, the controller 50 supplies values obtained by multiplying the calculated ratios Ra1, Ra2, Ra3 by the radial machining interval ΔPt to the optical axis drive circuits 81, 82, 83, respectively. The optical axis driving circuits 81, 82, 83 store the supplied values obtained by multiplying the ratios Ra 1, Ra 2, Ra 3 by the radial machining interval ΔPt, and the operation start instruction from the controller 50. Wait for.

前記ステップS14の処理後、コントローラ50は、ステップS15にて、ランダムデータ生成処理を実行することにより、「−1」〜「+1」の間で「0.01」単位でランダムに変化する4種類のランダムデータa(n),b(n),c(n),d(n)を生成する。このランダムデータ生成処理においては、まず、図4のランダムデータ生成ルーチンが実行される。このランダムデータ生成ルーチンは、その実行がステップS100にて開始され、コントローラ50は、ステップS101にて変数nを「1」に初期設定し、ステップS105,S106の処理により、変数nが予め決めた最大値nmaxになるまで、変数nを「1」ずつ増加させながら、ステップS102〜S106からなる循環処理を繰り返し実行する。そして、変数nが最大値nmaxに達した時点で、ステップS107にてこのランダムデータ生成ルーチンの実行を終了する。 After the processing in step S14, the controller 50 executes random data generation processing in step S15, thereby changing four types that change randomly in units of “0.01” between “−1” and “+1”. Random data a (n), b (n), c (n), and d (n) are generated. In this random data generation process, first, the random data generation routine of FIG. 4 is executed. The execution of this random data generation routine is started in step S100, and the controller 50 initializes the variable n to “1” in step S101, and the variable n is determined in advance by the processing in steps S105 and S106. The cyclic processing consisting of steps S102 to S106 is repeatedly executed while increasing the variable n by “1” until the maximum value n max is reached. Then, when the variable n reaches the maximum value n max , the execution of the random data generation routine is terminated in step S107.

ステップS102においては、コントローラ50は、10進法による4桁の乱数Ran(n)を設定する。この乱数Ran(n)の設定においては、予め用意された乱数プログラムの実行によってこのステップS102の処理ごとに乱数Ran(n)を計算してもよいし、予めnmax個の10進法による4桁の乱数をメモリ内に記憶しておき、変数nによって指定される乱数を乱数Ran(n)として設定してもよい。なお、値nmaxは、設定される乱数Ran(n)の数を示す予め決められた値である。ステップS103においては、前記設定された乱数Ran(n)が「9848」以下であるかを判定する。この判定処理を実行する理由は、「9849」〜「9999」の値に対しては、「−1」〜「+1」の間で「0.01」単位の「201」個の乱数を後述する変換テーブルに均等に割当てることができないためである。前記設定された乱数Ran(n)が「9848」よりも大きいときには、ステップS103にて「No」と判定されて、ステップS102,S103の処理がふたたび実行される。前記設定された乱数Ran(n)が「9848」以下であれば、ステップS103にて「Yes」と判定されて、ステップS104に進む。 In step S102, the controller 50 sets a four-digit random number Ran (n) in decimal notation. In setting this random number Ran (n), it may be calculated a random number Ran (n) for each processing of step S102 by executing a previously prepared random program, according to pre-n max pieces of decimal 4 A random number of digits may be stored in the memory, and the random number specified by the variable n may be set as the random number Ran (n). The value n max is a predetermined value indicating the number of set random numbers Ran (n). In step S103, it is determined whether the set random number Ran (n) is equal to or less than “9848”. The reason for executing this determination processing is that “201” random numbers in units of “0.01” between “−1” and “+1” will be described later for the values “9849” to “9999”. This is because they cannot be equally allocated to the conversion table. When the set random number Ran (n) is larger than “9848”, it is determined as “No” in step S103, and the processes in steps S102 and S103 are executed again. If the set random number Ran (n) is “9848” or less, “Yes” is determined in step S103, and the process proceeds to step S104.

ステップS104においては、前記設定された4桁の10進数である乱数Ran(n)が、図5の表に示す変換テーブルを用いて、「−1」から「+1」まで「0.01」単位で変化するデータのいずれかに変換される。変換テーブルは、乱数Ran(n)が取り得る「0000」から「9848」までの4桁の10進数に対して、「−1」から「+1」まで「0.01」ずつ増加するデータを均等に割り当てたものである。このステップS104の変換処理においては、図5の表中において、前記ステップS102の処理によって設定された4桁の乱数Ran(n)が属する行の右端の変換値がランダムデータa(n)として設定される。具体的には、例えば、設定された乱数Ran(n)が、表中の第1行目の「0000」、「0201」などのいずれかの値であれば、ランダムデータa(n)として、値「0.00」が設定される。また、設定された乱数Ran(n)が、表中の第2行目の「0001」、「0202」などのいずれかの値であれば、ランダムデータa(n)として、値「0.01」が設定される。   In step S104, the set 4-digit decimal number Ran (n) is expressed in units of “0.01” from “−1” to “+1” using the conversion table shown in the table of FIG. Is converted to one of the data that changes. The conversion table equalizes the data that increases by “0.01” from “−1” to “+1” with respect to the 4-digit decimal number from “0000” to “9848” that the random number Ran (n) can take. Assigned to. In the conversion process of step S104, in the table of FIG. 5, the conversion value at the right end of the row to which the 4-digit random number Ran (n) set by the process of step S102 belongs is set as random data a (n). Is done. Specifically, for example, if the set random number Ran (n) is any value such as “0000” or “0201” in the first row in the table, the random data a (n) The value “0.00” is set. If the set random number Ran (n) is any value such as “0001” and “0202” in the second row in the table, the value “0.01” is assumed as random data a (n). Is set.

このランダムデータ生成ルーチンの実行により、「−1」から「+1」までの「0.01」単位の数値をランダムに選択したランダムデータa(1)〜a(nmax)が設定されて、コントローラ50のメモリ内に記憶される。ふたたび、図3のステップS15のランダムデータ生成処理の説明に戻ると、ランダムデータb(n),c(n),d(n)に関しても、コントローラ50は、前述した図5と同様なランダムデータ生成ルーチンを実行して、「−1」から「+1」までの間を「0.01」単位のランダムに変化するランダムデータb(1)〜b(nmax),c(1)〜c(nmax),d(1)〜d(nmax)を生成して、コントローラ50内のメモリに記憶しておく。なお、これらの場合、ランダムデータb(n),c(n),d(n)の数を表す最大値nmaxに関しては、ランダムデータa(n)と同じ値であっても、異なる値であってもよい。また、ランダムデータb(n),c(n),d(n)に関しては、前記図5と同様なランダムデータ生成ルーチンを実行するのに代えて、ランダムデータa(1)〜a(nmax)中のa(p)〜a(nmax),a(1)〜a(p−1)を、ランダムデータb(1)〜b(nmax),c(1)〜c(nmax),d(1)〜d(nmax)としてもよい。なお、pは「2」〜「nmax」のうちのいずれかの整数値であり、b(n),c(n),d(n)によりそれぞれ異なる値である。さらに、図3のステップS15のランダムデータ生成処理に代えて、「−1」から「+1」までの間を「0.01」単位のランダムに変化するランダムデータa(1)〜a(nmax),b(1)〜b(nmax),c(1)〜c(nmax),d(1)〜d(nmax)を、コントローラ50内のメモリに予め記憶しておいてもよい。 By executing this random data generation routine, random data a (1) to a (n max ) in which numerical values in units of “0.01” from “−1” to “+1” are randomly selected are set, and the controller It is stored in 50 memories. Returning again to the description of the random data generation process in step S15 in FIG. 3, the controller 50 also performs random data similar to that in FIG. 5 described above for random data b (n), c (n), and d (n). The generation routine is executed, and random data b (1) to b (n max ), c (1) to c (1) that change randomly from “−1” to “+1” in units of “0.01”. n max ), d (1) to d (n max ) are generated and stored in the memory in the controller 50. In these cases, the maximum value n max representing the number of random data b (n), c (n), and d (n) is different from the random data a (n) even if it is the same value as the random data a (n). There may be. For random data b (n), c (n), and d (n), instead of executing a random data generation routine similar to FIG. 5, random data a (1) to a (n max ), A (p) to a (n max ), a (1) to a (p−1) in random data b (1) to b (n max ), c (1) to c (n max ) , D (1) to d (n max ). Note that p is an integer value of any one of “2” to “n max ”, and is different depending on b (n), c (n), and d (n). Further, in place of the random data generation process in step S15 in FIG. 3, random data a (1) to a (n max ) that change randomly between “−1” and “+1” in units of “0.01”. ), B (1) to b (n max ), c (1) to c (n max ), and d (1) to d (n max ) may be stored in the memory in the controller 50 in advance. .

前記ステップS15の処理後、コントローラ50は、ステップS16にて、パルス制御データ生成処理を実行することにより、前記計算したロー側パルスの基本パルス幅Wdに対してランダムに変化するロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)と、前記入力したハイ側パルスの基本レベル値Pwに対してランダムに変化するハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)を生成する。このパルス制御データ生成処理においては、図6のパルス制御データ生成ルーチンが実行される。このパルス制御データ生成ルーチンは、その実行がステップS200にて開始され、コントローラ50は、ステップS201にて変数nを「1」に初期設定し、ステップS205,S206の処理により、変数nが予め決めた最大値nmaxになるまで、変数nを「1」ずつ増加させながら、ステップS202〜S206からなる循環処理を繰り返し実行する。そして、変数nが最大値nmaxになった時点で、ステップS207にてこのパルス制御データ生成ルーチンの実行を終了する。 After the processing in step S15, the controller 50 corrects the low-side pulse that randomly changes with respect to the calculated basic pulse width Wd of the low-side pulse by executing the pulse control data generation processing in step S16. A correction level value Pw (n) of the high-side pulse that randomly changes with respect to the pulse width Wd (n) and the basic level value Pw of the input high-side pulse is generated. In this pulse control data generation process, the pulse control data generation routine of FIG. 6 is executed. The execution of this pulse control data generation routine is started in step S200. The controller 50 initializes the variable n to “1” in step S201, and the variable n is determined in advance by the processing in steps S205 and S206. The cyclic process consisting of steps S202 to S206 is repeatedly executed while increasing the variable n by “1” until the maximum value n max is reached. Then, when the variable n reaches the maximum value n max , the execution of this pulse control data generation routine is terminated in step S207.

ステップS202においては、前記計算したロー側パルスの基本パルス幅Wdと、前記計算したランダムデータc(n)と、前記入力した最大変化割合R3とを用いて、下記数2の演算の実行により、ランダムに変化するロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)が計算される。
(数2)
Wd(n)={1+R3・c(n)}・Wd
In step S202, by using the calculated basic pulse width Wd of the low-side pulse, the calculated random data c (n), and the input maximum change rate R3, A correction pulse width Wd (n) of a low-side pulse that randomly changes is calculated.
(Equation 2)
Wd (n) = {1 + R3 · c (n)} · Wd

ステップS203においては、前記入力したハイ側パルスの基本レベル値Pwと、前記計算したランダムデータd(n)と、前記入力した最大変化割合R4とを用いて、下記数3の演算の実行により、ランダムに変化するハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)が計算される。
(数3)
Pw(n)={1+R4・d(n)}・Pw
In step S203, by using the basic level value Pw of the input high-side pulse, the calculated random data d (n), and the input maximum change ratio R4, A correction level value Pw (n) of a randomly changing high side pulse is calculated.
(Equation 3)
Pw (n) = {1 + R4 · d (n)} · Pw

ステップS204においては、前記計算したロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)が、パルス信号供給回路72に出力される。パルス信号供給回路72は、前記出力されたロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)を、メモリ72aに記憶する。これらのステップS202〜S204の繰り返し処理により、パルス制御データ生成ルーチンが終了した時点で、ランダムに変化するnmax個ずつのロー側パルスの補正パルス幅Wd(1),Wd(2)・・・Wd(nmax)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(1),Pw(2)・・・Pw(nmax)がメモリ72aに記憶される。 In step S204, the calculated correction pulse width Wd (n) of the low-side pulse and the correction level value Pw (n) of the high-side pulse are output to the pulse signal supply circuit 72. The pulse signal supply circuit 72 stores the low pulse correction pulse width Wd (n) and the high pulse correction level value Pw (n) output in the memory 72a. The correction pulse widths Wd (1), Wd (2),..., For each of n max low-side pulses that change randomly when the pulse control data generation routine is completed by repeating the steps S202 to S204. wd (n max) and the high-side pulse correction level value Pw (1), Pw (2 ) ··· Pw (n max) is stored in the memory 72a.

ふたたび、図3の説明に戻ると、前記ステップS16のパルス制御データ生成処理の終了後、コントローラ50は、ステップS17にて、この加工準備プログラムの実行を終了する。なお、この加工準備プログラムは、加工対象物OBに新たな種類のピットを形成する場合に実行されるべきプログラムであり、複数の加工対象物OBに同一のピットを形成する場合には実行する必要はない。   Returning to the description of FIG. 3 again, after the completion of the pulse control data generation process in step S16, the controller 50 ends the execution of the machining preparation program in step S17. This machining preparation program is a program to be executed when forming a new type of pits on the workpiece OB, and needs to be executed when forming the same pits on a plurality of workpieces OB. There is no.

次に、レーザ加工について説明する。作業者は、加工対象物OBをテーブル21にセットし、入力装置51を使って、コントローラ50に対してレーザ加工制御プログラムの実行開始を指示する。このレーザ加工制御プログラムの実行は図7のステップS300にて開始され、コントローラ50は、ステップS301にて、スピンドルモータ制御回路61に対して、回転開始指令を出力する。コントローラ50は、回転開始指令を出力するにあたって、半径値検出回路63により検出される半径値rを入力し、この半径値rを用いて、レーザスポットの回転線速度が、レーザスポットの位置する半径位置とは無関係に常に、指定された回転線速度Fとなるようなスピンドルモータ22の回転速度を計算し、その計算した回転速度をスピンドルモータ制御回路61に対して出力する。スピンドルモータ制御回路61は、エンコーダ22aからのパルス列信号ΦA,ΦBを用いてスピンドルモータ22の回転速度を計算し、この計算した回転速度がコントローラ50から入力した回転速度と等しくなるようにスピンドルモータ22の回転制御を開始する。なお、コントローラ50は、回転開始指示を出力した後は、この加工制御プログラムとは異なる後述するスピンドルモータ制御データ生成プログラムの実行により、半径値rに応じたスピンドルモータ22の回転速度の計算を繰り返し、その都度、計算した回転速度をスピンドルモータ制御回路61に出力する。 Next, laser processing will be described. The operator sets the workpiece OB on the table 21 and uses the input device 51 to instruct the controller 50 to start executing the laser machining control program. The execution of the laser processing control program is started in step S300 in FIG. 7, and the controller 50 outputs a rotation start command to the spindle motor control circuit 61 in step S301. When outputting the rotation start command, the controller 50 inputs the radius value r detected by the radius value detection circuit 63, and using this radius value r, the rotational linear velocity of the laser spot is the radius at which the laser spot is located. Regardless of the position, the rotational speed of the spindle motor 22 is always calculated so that the specified rotational linear speed F is obtained, and the calculated rotational speed is output to the spindle motor control circuit 61. The spindle motor control circuit 61 calculates the rotation speed of the spindle motor 22 by using the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 22 a, and the spindle so that the calculated rotation speed becomes equal to the rotation speed input from the controller 50. The rotation control of the motor 22 is started. After outputting the rotation start instruction, the controller 50 repeatedly calculates the rotation speed of the spindle motor 22 according to the radius value r by executing a later-described spindle motor control data generation program that is different from the machining control program. Each time, the calculated rotation speed is output to the spindle motor control circuit 61.

続いて、コントローラ50は、ステップS302にて、フィードモータ制御回路62に対して開始半径位置への移動指令を出力する。開始半径位置とは、作業者が予め入力した開始半径値Rfに対応した半径位置である。フィードモータ制御回路62は、この移動指令により、フィードモータ23を回転させて、レーザ光の照射位置が開始半径値Rfに対応した半径位置に近づく方向にテーブル21を移動させ始める。そして、コントローラ50は、ステップS303にて、半径値検出回路63から半径値rを入力し、入力した半径値rが開始半径値Rfに等しくなるまで、すなわちレーザ光の照射位置が開始半径値Rfに対応した半径位置に達するまで、判定処理を実行し続ける。そして、テーブル21が移動して、半径値rが開始半径値Rfに等しくなると、コントローラ50は、ステップS303にて「Yes」と判定し、ステップS304にてレーザ駆動回路71に対して駆動開始指令を出力するとともにパルス信号供給回路72に直流信号出力の開始指令を出力する。これにより、パルス信号供給回路72はレーザ駆動回路71に直流信号を出力し、レーザ駆動回路71は、非加工用強度に設定された連続したレーザ駆動信号をレーザ光源31に出力する。この場合、レーザ駆動回路71は、フォトディテクタ42からの受光量を表す電気信号を用いて、レーザ駆動信号をフィードバック制御する。レーザ光源31は、レーザ駆動回路71から出力されたレーザ駆動信号により駆動されて、非加工用レーザ光を出射する。これにより、加工対象物OBの表面に非加工用レーザ光の光スポットが形成され、この光スポットの反射光が4分割フォトディテクタ38によって検出される。加工対象物OBは、非加工用レーザ光の照射によっては加工されない。   Subsequently, the controller 50 outputs a movement command to the start radius position to the feed motor control circuit 62 in step S302. The start radius position is a radius position corresponding to the start radius value Rf input in advance by the operator. In response to this movement command, the feed motor control circuit 62 rotates the feed motor 23 and starts moving the table 21 in a direction in which the irradiation position of the laser light approaches the radial position corresponding to the start radius value Rf. In step S303, the controller 50 inputs the radius value r from the radius value detection circuit 63, and the laser beam irradiation position is the start radius value Rf until the input radius value r becomes equal to the start radius value Rf. The determination process is continued until the radius position corresponding to is reached. Then, when the table 21 moves and the radius value r becomes equal to the start radius value Rf, the controller 50 determines “Yes” in step S303, and instructs the laser drive circuit 71 to start driving in step S304. And a DC signal output start command to the pulse signal supply circuit 72. As a result, the pulse signal supply circuit 72 outputs a DC signal to the laser drive circuit 71, and the laser drive circuit 71 outputs a continuous laser drive signal set to the non-processing intensity to the laser light source 31. In this case, the laser drive circuit 71 feedback-controls the laser drive signal using an electrical signal representing the amount of light received from the photodetector 42. The laser light source 31 is driven by the laser drive signal output from the laser drive circuit 71 and emits non-processing laser light. As a result, a light spot of non-machining laser light is formed on the surface of the workpiece OB, and the reflected light of this light spot is detected by the four-divided photodetector 38. The processing object OB is not processed by the irradiation of the non-processing laser beam.

前記ステップS304の処理後、コントローラ50は、ステップS305にて、フォーカスサーボ回路75に対してフォーカスサーボの開始指令を出力する。これにより、図示しないフォーカスアクチュエータ駆動回路がフォーカスアクチュエータ39を駆動させ、フォーカスサーボ回路75は、フォーカスエラー信号生成回路74からのフォーカスエラー信号を用いてフォーカスサーボ信号を生成し、図示しないS字検出回路がフォーカスエラー信号にS字の波形が形成されるタイミングで、このフォーカスサーボ信号に従ってドライブ回路76を介してフォーカスアクチュエータ39を駆動制御することを開始して、フォーカスサーボ制御が開始される。すなわち、レーザ光の焦点位置がレーザ光の光軸方向に移動し、レーザ光の焦点位置が加工対象物OBの表面に一致したタイミングでフォーカスサーボが開始される。そして、レーザ光の焦点位置が加工対象物OBの表面に一致するように、対物レンズ35がレーザ光の光軸方向に駆動制御される。   After the processing in step S304, the controller 50 outputs a focus servo start command to the focus servo circuit 75 in step S305. Thereby, a focus actuator drive circuit (not shown) drives the focus actuator 39, and the focus servo circuit 75 generates a focus servo signal using the focus error signal from the focus error signal generation circuit 74, and an S-character detection circuit (not shown). At the timing when an S-shaped waveform is formed in the focus error signal, drive control of the focus actuator 39 is started via the drive circuit 76 in accordance with the focus servo signal, and focus servo control is started. That is, the focus servo is started at the timing when the focal position of the laser beam moves in the optical axis direction of the laser beam and the focal position of the laser beam coincides with the surface of the workpiece OB. Then, the objective lens 35 is driven and controlled in the optical axis direction of the laser light so that the focal position of the laser light coincides with the surface of the workpiece OB.

次に、コントローラ50は、ステップS306にて、光軸駆動回路81,82,83にそれぞれ作動開始を指示する。この作動開始の指示により、光軸駆動回路81,82,83は、前述した加工準備プログラムの実行によりコントローラ50から供給された変化割合Ra1,Ra2,Ra3のそれぞれに半径方向の加工間隔ΔPtを乗算した値に比例した振幅を有するとともに、その瞬時値がランダムに変化する光軸駆動信号を音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46にそれぞれ供給し始める。これにより、音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46は、レーザ光の光軸をテーブル21の半径方向に、変化割合Ra1,Ra2,Ra3のそれぞれに半径方向の加工間隔ΔPtを乗算した値に応じた量だけそれぞれランダムに変化させ始める。   Next, in step S306, the controller 50 instructs the optical axis drive circuits 81, 82, 83 to start operation. In response to this operation start instruction, the optical axis drive circuits 81, 82, 83 multiply the change rates Ra1, Ra2, Ra3 supplied from the controller 50 by the execution of the machining preparation program described above by the machining intervals ΔPt in the radial direction. The optical axis drive signal whose amplitude is proportional to the measured value and whose instantaneous value changes at random is started to be supplied to the acousto-optic modulator 43, the tracking actuator 44 and the mirror actuator 46, respectively. As a result, the acoustooptic modulator 43, tracking actuator 44, and mirror actuator 46 multiply the optical axis of the laser beam in the radial direction of the table 21 and the change ratios Ra1, Ra2, Ra3 by the machining interval ΔPt in the radial direction. Start changing the amount of each value randomly.

次に、コントローラ50は、ステップS307にて、エンコーダ22aからスピンドルモータ22の回転を表す回転信号を読み込み、インデックス信号Indexが入力されたか否かを判定する。このインデックス信号Indexは、テーブル21の回転位置が基準回転位置に来るごとにエンコーダ22aから出力される信号、つまり、テーブル21が1回転する間に1度だけ基準回転位置において出力される信号である。インデックス信号Indexが入力されるまで、コントローラ50は、ステップS307にて「No」と判定し続けて、前記判定処理を繰り返し行う。インデックス信号Indexが入力されると、コントローラ50は、ステップS307にて「Yes」と判定して、ステップS308の処理を実行する。   Next, in step S307, the controller 50 reads a rotation signal indicating the rotation of the spindle motor 22 from the encoder 22a, and determines whether or not the index signal Index has been input. The index signal Index is a signal output from the encoder 22a every time the rotation position of the table 21 reaches the reference rotation position, that is, a signal output at the reference rotation position only once during one rotation of the table 21. . Until the index signal Index is input, the controller 50 continues to determine “No” in step S307 and repeats the determination process. When the index signal Index is input, the controller 50 determines “Yes” in step S307 and executes the process of step S308.

ステップS308においては、コントローラ50は、パルス信号供給回路72に対してパルス列信号出力の開始指令を出力するとともに、レーザ駆動回路71に作動開始を指示する。パルス信号供給回路72は、コントローラ50の出力したパルス列信号出力開始指令を入力すると、メモリ72aに記憶したパルス列信号情報に従ってレーザ駆動回路71にパルス列信号を出力する。この場合、パルス列信号情報であるロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値としては、前述したパルス制御データ生成ルーチンの実行により、コントローラ50から供給されてメモリ72aに記憶されているnmax個ずつのランダムに変化するロー側パルスの補正パルス幅Wd(1),Wd(2)・・・Wd(nmax)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(1),Pw(2)・・・Pw(nmax)が利用される。また、パルス列信号情報であるハイ側パルスのパルス幅(持続時間)Whとしては、図示しない初期プログラムの実行により、コントローラ50から初期に供給されてメモリ72aに記憶されている固定値が利用される。なお、ロー側パルスのレベル値は、予め決められた固定の基準値である。 In step S308, the controller 50 outputs a pulse train signal output start command to the pulse signal supply circuit 72 and instructs the laser drive circuit 71 to start operation. When the pulse signal supply circuit 72 receives the pulse train signal output start command output from the controller 50, the pulse signal supply circuit 72 outputs a pulse train signal to the laser drive circuit 71 in accordance with the pulse train signal information stored in the memory 72a. In this case, as the level value of the pulse width and the high-side pulse low side pulse is a pulse train signal information, by executing the pulse control data generating routine described above, n max that is supplied from the controller 50 is stored in the memory 72a The correction pulse widths Wd (1), Wd (2)... Wd (n max ) of the randomly changing low side pulse and the correction level values Pw (1), Pw (2) of the high side pulse. • Pw (n max ) is used. As the pulse width (duration) Wh of the high-side pulse that is pulse train signal information, a fixed value that is initially supplied from the controller 50 and stored in the memory 72a by execution of an initial program (not shown) is used. . The level value of the low-side pulse is a predetermined fixed reference value.

このパルス列信号情報を用いたパルス列信号の生成について具体的に説明すると、パルス信号供給回路72は、メモリ72a内に記憶されているロー側パルスの補正パルス幅Wd(1),Wd(2)・・・Wd(nmax)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(1),Pw(2)・・・Pw(nmax)を順次一つずつ読み出して、ロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値として設定するとともに、メモリ72a内に記憶されているハイ側パルスのパルス幅Whを読み出す。そして、パルス信号供給回路72は、固定の基準値によって規定されるレベルであり、かつ前記設定されたロー側パルスのパルス幅を有するロー側パルスと、前記設定されたハイ側パルスのレベル値によって規定されるレベルであって、前記読み出されたハイ側パルスのパルス幅Whを有するハイ側パルスからなる1つのパルス信号を順次生成して、レーザ駆動回路71に順次出力する。したがって、レーザ駆動回路71に供給されるパルス列信号は、ロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値が順次ランダムに変化したものとなる。この場合、厳密に言えば、パルス列信号のロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値はnmax個ずつの周期性を有することになるが、値nmaxとして充分に大きな値をとれば、レーザ加工した所定の領域では、ロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値は充分にランダムに変化しているものとみなすことができる。 The generation of the pulse train signal using the pulse train signal information will be described in detail. The pulse signal supply circuit 72 includes the correction pulse widths Wd (1), Wd (2),. ..Wd (n max ) and correction level values Pw (1), Pw (2)... Pw (n max ) of the high side pulse are read out one by one, and the pulse width of the low side pulse and the high side pulse And the pulse width Wh of the high-side pulse stored in the memory 72a is read out. The pulse signal supply circuit 72 is at a level defined by a fixed reference value and has a pulse width of the set low-side pulse and a level value of the set high-side pulse. One pulse signal composed of a high-side pulse having a prescribed level and having the pulse width Wh of the read high-side pulse is sequentially generated and sequentially output to the laser driving circuit 71. Therefore, the pulse train signal supplied to the laser drive circuit 71 has the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse sequentially and randomly changed. In this case, strictly speaking, the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse of the pulse train signal have periodicity of n max pieces, but if the value n max is sufficiently large, In the predetermined laser processed region, the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse can be considered to change sufficiently randomly.

レーザ駆動回路71は、このパルス信号供給回路72からのパルス列信号の入力により、周期及びデューティ比が入力したパルス列信号と同じであり、ハイ側パルスのレベル値が入力したパルス列信号のハイ側パルスのレベル値に比例し、かつロー側パルスのレベル値が基準値であるパルス列波形からなるレーザ駆動信号をレーザ光源31に出力し始める。なお、この場合も、レーザ駆動回路71は、フォトディテクタ42からの受光量を表す電気信号を用いて、レーザ駆動信号をフィードバック制御する。したがって、レーザ光源31は、ロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値が順次ランダムに変化したパルス列状の加工用レーザ光を出射する。この場合、厳密に言えば、パルス列信号のロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値はnmax個ずつの周期性を有することになるが、前述したように、値nmaxとして充分に大きな値をとれば、レーザ加工した所定の領域では、ロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値は充分にランダムに変化しているものとみなすことができる。 The laser drive circuit 71 receives the pulse train signal from the pulse signal supply circuit 72, so that the period and duty ratio are the same as the pulse train signal inputted, and the level value of the high pulse is the high side pulse of the inputted pulse train signal. The laser light source 31 starts to output a laser drive signal having a pulse train waveform that is proportional to the level value and whose level value of the low-side pulse is a reference value. In this case as well, the laser drive circuit 71 feedback-controls the laser drive signal using an electrical signal representing the amount of light received from the photodetector 42. Accordingly, the laser light source 31 emits a processing laser beam in the form of a pulse train in which the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse are sequentially changed at random. In this case, strictly speaking, the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse of the pulse train signal have periodicity of n max pieces, but as described above, the value n max is sufficient. If a large value is taken, it can be considered that the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse change sufficiently randomly in a predetermined region processed by laser processing.

レーザ光源31から出射した加工用レーザ光は、コリメートレンズ32、ミラー45、偏光ビームスプリッタ33、音響光学変調素子43、1/4波長板34及び対物レンズ35を通過して加工対象物OBの表面で集光する。したがって、加工対象物OBは、加工用レーザ光によって加工され始める。また、この場合、音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46は、加工用レーザ光の光軸をテーブル21の半径方向にそれぞれランダムに変化させているので、加工用レーザ光による加工対象物OBの加工位置も、テーブル21の半径方向にランダムに変化する。なお、この場合も、加工対象物OBの表面で反射した加工用レーザ光の反射光は、対物レンズ35、1/4波長板34、偏光ビームスプリッタ33、集光レンズ36及びシリンドリカルレンズ37を介して4分割フォトディテクタ38に入射する。そして、HF信号増幅回路73、フォーカスエラー信号生成回路74、フォーカスサーボ回路75、ドライブ回路76及びフォーカスアクチュエータ39は、前記4分割フォトディテクタ38に入射した加工用レーザ光の反射光を用いて、対物レンズ35をフォーカス制御する。   The processing laser light emitted from the laser light source 31 passes through the collimating lens 32, the mirror 45, the polarizing beam splitter 33, the acoustooptic modulator 43, the quarter wavelength plate 34, and the objective lens 35, and the surface of the processing object OB. To collect light. Therefore, the processing object OB starts to be processed by the processing laser beam. In this case, the acousto-optic modulator 43, the tracking actuator 44, and the mirror actuator 46 change the optical axis of the processing laser light at random in the radial direction of the table 21, so that the processing target by the processing laser light is used. The processing position of the object OB also changes randomly in the radial direction of the table 21. Also in this case, the reflected light of the processing laser light reflected on the surface of the processing object OB passes through the objective lens 35, the quarter wavelength plate 34, the polarization beam splitter 33, the condensing lens 36, and the cylindrical lens 37. Then, the light enters the quadrant photodetector 38. The HF signal amplification circuit 73, the focus error signal generation circuit 74, the focus servo circuit 75, the drive circuit 76, and the focus actuator 39 use the reflected light of the processing laser light incident on the four-divided photodetector 38, and the objective lens 35 is controlled in focus.

前記ステップS308の処理後、コントローラ50は、ステップS309にて、フィードモータ制御回路62に対して半径方向移動開始の指令を出力する。これにより、フィードモータ23がフィードモータ制御回路62により駆動され、テーブル21は半径方向に移動し始める。なお、コントローラ50は、半径方向移動開始指示を出力した後は、この加工制御プログラムとは異なる後述するフィードモータ制御データ生成プログラムの実行により、半径値rに応じたフィードモータ23の回転速度の計算を繰り返し、その都度、計算した回転速度をスピンドルモータ制御回路61に出力する。これにより、加工対象物OBに対する加工用レーザ光の照射位置は、テーブル21の半径方向にも変化し始めて、加工対象物OBにはピットがテーブル21の回転方向及び半径方向に形成され始める。   After the process of step S308, the controller 50 outputs a command to start radial movement to the feed motor control circuit 62 in step S309. Thereby, the feed motor 23 is driven by the feed motor control circuit 62, and the table 21 starts to move in the radial direction. After outputting the radial direction movement start instruction, the controller 50 calculates the rotational speed of the feed motor 23 according to the radius value r by executing a feed motor control data generation program, which will be described later, which is different from the machining control program. The calculated rotation speed is output to the spindle motor control circuit 61 each time. Thereby, the irradiation position of the processing laser beam on the processing object OB starts to change in the radial direction of the table 21, and pits start to be formed in the rotation direction and the radial direction of the table 21 on the processing object OB.

前記ステップS309の処理後、コントローラ50は、ステップS310にて、半径値検出回路63により検出される半径値rを入力して、入力した半径値rが終了半径値Re以上となったか否かを判断する。終了半径値Reは、前述のように、作業者がレーザ加工条件として入力した値である。ステップS310の処理は、半径値rが終了半径値Re以上となるまで繰り返される。従って、この間は、パルス信号供給回路72からパルス列信号が出力され加工対象物OBのレーザ加工が継続される。   After the processing in step S309, the controller 50 inputs the radius value r detected by the radius value detection circuit 63 in step S310, and determines whether or not the input radius value r is equal to or greater than the end radius value Re. to decide. The end radius value Re is a value input by the operator as the laser processing condition as described above. The process of step S310 is repeated until the radius value r becomes equal to or greater than the end radius value Re. Accordingly, during this time, a pulse train signal is output from the pulse signal supply circuit 72, and laser processing of the workpiece OB is continued.

ここで、前記加工制御プログラムと並行して、コントローラ50によって実行されるスピンドルモータ制御データ生成プログラム及びフィードモータ制御データ生成プログラムについて説明する。   Here, a spindle motor control data generation program and a feed motor control data generation program executed by the controller 50 in parallel with the machining control program will be described.

スピンドルモータ制御データ生成プログラムは、図8に示すように、その実行がステップS400にて開始される。この実行開始後、コントローラ50は、ステップS401にて変数nを「1」に初期設定して、ステップS402にてエンコーダ22aからのインデックス信号Indexの入力を待つ。インデックス信号Indexが入力されると、コントローラ50は、ステップS402にて「Yes」と判定して、ステップS403にて半径値検出回路63からレーザスポットが位置する半径位置を表す半径値rを入力する。そして、コントローラ50は、ステップS404にて、半径値r及び回転線速度Fを用いた下記数4の演算を実行することにより、加工レーザ光によるレーザスポットの回転線速度が前記入力した回転線速度Fに維持されるように、テーブル21の基本回転速度Roを計算する。
(数4)
Ro=F/2・π・r
The spindle motor control data generation program is started in step S400 as shown in FIG. After starting the execution, the controller 50 initializes the variable n to “1” in step S401, and waits for the input of the index signal Index from the encoder 22a in step S402. When the index signal Index is input, the controller 50 determines “Yes” in step S402, and inputs a radius value r representing the radius position where the laser spot is located from the radius value detection circuit 63 in step S403. . Then, in step S404, the controller 50 executes the calculation of the following equation 4 using the radius value r and the rotational linear velocity F, so that the rotational linear velocity of the laser spot by the processing laser beam is the input rotational linear velocity. The basic rotational speed Ro of the table 21 is calculated so as to be maintained at F.
(Equation 4)
Ro = F / 2 · π · r

次に、コントローラ50は、ステップS405にて、前記計算した基本回転速度Ro、前記計算したランダムデータa(1)〜a(nmax)中の変数nによって指定されるランダムデータa(n)、及び前記入力した最大変化割合R1を用いて、下記数5の演算の実行によって補正回転速度Ro’を計算する。
(数5)
Ro’={1+R1・a(n)}・Ro
そして、コントローラ50は、ステップS406にて、この計算した補正回転速度Ro’をスピンドルモータ制御回路61に出力する。
Next, the controller 50, in step S405, the random data a (n) specified by the calculated basic rotational speed Ro and the variable n in the calculated random data a (1) to a (n max ), Then, using the inputted maximum change rate R1, the corrected rotational speed Ro ′ is calculated by executing the following equation (5).
(Equation 5)
Ro ′ = {1 + R1 · a (n)} · Ro
Then, the controller 50 outputs the calculated corrected rotational speed Ro ′ to the spindle motor control circuit 61 in step S406.

スピンドルモータ制御回路61は、エンコーダ22aからのパルス列信号ΦA,ΦBを用いて計算したスピンドルモータ22の回転速度が前記コントローラ50から出力された補正回転速度Ro’に等しくなるように、スピンドルモータ22の回転を制御する。したがって、スピンドルモータ22は、前記補正回転速度Ro’で回転し始める。前記ステップS406の処理後、コントローラ50は、ステップS407にて後述するレーザ照射停止指令があったかを判定する。レーザ照射停止指令がなければ、コントローラ50は、ステップS407にて「No」と判定し、ステップS408にて変数nがランダムデータa(1)〜a(nmax)の最後すなわち値nmaxに達したかを判定する。変数nが値nmaxに達していなければ、コントローラ50は、ステップS408にて「No」と判定し、ステップS409にて変数nに「1」を加算してプログラムをステップS402に戻す。そして、コントローラ50は、ステップS402にて、ふたたびエンコーダ22aからのインデックス信号Indexの入力を待つ。 The spindle motor control circuit 61 adjusts the spindle motor 22 so that the rotational speed of the spindle motor 22 calculated using the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 22a is equal to the corrected rotational speed Ro ′ output from the controller 50. 22 is controlled. Therefore, the spindle motor 22 starts to rotate at the corrected rotational speed Ro ′. After the process of step S406, the controller 50 determines whether a laser irradiation stop command (to be described later) has been issued in step S407. If there is no laser irradiation stop command, the controller 50 determines “No” in step S407, and the variable n reaches the end of the random data a (1) to a (n max ), that is, the value n max in step S408. Determine if you did. If the variable n has not reached the value n max , the controller 50 determines “No” in step S408, adds “1” to the variable n in step S409, and returns the program to step S402. In step S402, the controller 50 again waits for the input of the index signal Index from the encoder 22a.

インデックス信号Indexが入力されると、コントローラ50は、ステップS402にて「Yes」と判定して、前述したステップS403〜S407の処理をふたたび実行する。これにより、前記数5の演算により新たに計算された補正回転速度Ro’がスピンドルモータ制御回路61に出力され、スピンドルモータ22は、前記新たに計算された補正回転速度Ro’で回転し始める。そして、レーザ照射停止指令がなく、かつ変数nが値nmaxに達しない限り、コントローラ50は、ステップS407、S408にて「No」と判定し続け、変数nを「1」ずつ増加させながら、ステップS402〜S406の処理により、新たな半径値r及びランダムデータa(n)に基づいて新たな補正回転速度Ro’をスピンドルモータ制御回路61に出力して、スピンドルモータ22の回転速度が補正回転速度Ro’になるように制御する。 When the index signal Index is input, the controller 50 determines “Yes” in step S402 and executes the processes of steps S403 to S407 described above again. As a result, the corrected rotational speed Ro ′ newly calculated by the calculation of Equation 5 is output to the spindle motor control circuit 61, and the spindle motor 22 starts to rotate at the newly calculated corrected rotational speed Ro ′. As long as there is no laser irradiation stop command and the variable n does not reach the value n max , the controller 50 continues to determine “No” in steps S407 and S408, while increasing the variable n by “1”, Through the processing in steps S402 to S406, a new corrected rotational speed Ro ′ is output to the spindle motor control circuit 61 based on the new radius value r and random data a (n), and the rotational speed of the spindle motor 22 is corrected and rotated. Control is performed so that the speed Ro ′ is reached.

そして、変数nが値nmaxに達すると、コントローラ50は、ステップS408にて「Yes」と判定し、ステップS401にて変数nを「1」に戻した後、前述したステップS402以降の処理を実行する。このような処理により、加工用レーザ光の照射位置が1回転するごとに、加工対象物OBの回転速度が基本回転速度Roから若干だけランダムに変化する。その結果、加工用レーザ光の照射位置が1回転するごとに、加工用レーザ光によって加工対象物OB上に形成されるピットの回転方向位置がランダムに変化する。この場合も、厳密に言えば、ランダムデータa(n)はnmax個ずつの周期性を有することになるが、値nmaxとして充分に大きな値をとれば、レーザ加工した所定の領域では、加工対象物OB上に形成される1回転ごとのピットの回転方向位置は充分にランダムに変化しているものとみなすことができる。 When the variable n reaches the value n max , the controller 50 determines “Yes” in step S408, returns the variable n to “1” in step S401, and then performs the processing from step S402 onward. Run. By such processing, every time the irradiation position of the processing laser light is rotated once, the rotation speed of the processing object OB is randomly changed from the basic rotation speed Ro slightly. As a result, every time the irradiation position of the processing laser light is rotated once, the rotational position of the pit formed on the processing object OB by the processing laser light is randomly changed. Also in this case, strictly speaking, the random data a (n) has a periodicity of n max pieces, but if a sufficiently large value is taken as the value n max , in a predetermined region processed by laser processing, It can be considered that the rotation direction position of the pit for each rotation formed on the workpiece OB changes sufficiently randomly.

フィードモータ制御データ生成プログラムは、図9に示すように、その実行がステップS500にて開始される。この実行開始後、コントローラ50は、ステップS501にて変数mを「1」に初期設定して、ステップS502にて半径値検出回路63からレーザスポットが位置する半径位置を表す半径値rを入力する。そして、コントローラ50は、ステップS503にて、加工間隔ΔPt、半径値r及び回転線速度Fを用いた下記数6の演算を実行することにより、加工用レーザ光によるレーザスポットの半径方向の1回転当たりの移動量が前記入力した加工間隔ΔPtに維持されるようなテーブル21の基本半径方向移動速度Frを計算する。
(数6)
Fr=ΔPt/(2・π・r/F)
The feed motor control data generation program is started in step S500 as shown in FIG. After starting the execution, the controller 50 initializes the variable m to “1” in step S501, and inputs a radius value r representing the radius position where the laser spot is located from the radius value detection circuit 63 in step S502. . Then, in step S503, the controller 50 performs the following mathematical expression 6 using the processing interval ΔPt, the radius value r, and the rotational linear velocity F, thereby performing one rotation in the radial direction of the laser spot by the processing laser beam. A basic radial direction moving speed Fr of the table 21 is calculated such that the amount of movement per unit is maintained at the input machining interval ΔPt.
(Equation 6)
Fr = ΔPt / (2 · π · r / F)

次に、コントローラ50は、ステップS505にて、前記計算した基本半径方向移動速度Fr、前記計算したランダムデータb(1)〜b(mmax)中の変数mによって指定されるランダムデータb(m)、及び前記入力した最大変化割合R2を用いて、下記数7の演算の実行によって補正半径方向移動速度Fr’を計算する。
(数7)
Fr’={1+R2・b(m)}・Fr
そして、コントローラ50は、ステップS505にて、この計算した補正半径方向移動速度Fr’をフィードモータ制御回路62に出力する。
Next, in step S505, the controller 50 determines the random data b (m (m) specified by the calculated basic radial movement speed Fr and the variable m in the calculated random data b (1) to b (m max ). ) And the inputted maximum change rate R2, the corrected radial movement speed Fr ′ is calculated by executing the following equation (7).
(Equation 7)
Fr ′ = {1 + R2 · b (m)} · Fr
Then, the controller 50 outputs the calculated corrected radial direction moving speed Fr ′ to the feed motor control circuit 62 in step S505.

フィードモータ制御回路62は、エンコーダ23aからのパルス列信号ΦA,ΦBからテーブル21の半径方向移動速度を計算し、この計算した半径方向移動速度が補正半径方向移動速度Fr’に等しくなるようにフィードモータ23の回転を制御する。このフィードモータ23の回転制御により、加工用レーザ光のレーザスポットは前記補正半径方向移動速度Fr’でテーブル21の半径方向に移動し始める。前記ステップS505の処理後、コントローラ50は、ステップS506にて後述するレーザ照射停止指令があったかを判定する。レーザ照射停止指令がなければ、コントローラ50は、ステップS506にて「No」と判定し、ステップS507にて変数mがランダムデータb(1)〜b(mmax)の最後すなわち値mmaxに達したかを判定する。変数mが値mmaxに達していなければ、コントローラ50は、ステップS507にて「No」と判定し、ステップS508にて変数mに「1」を加算してプログラムをステップS502に戻す。 The feed motor control circuit 62 calculates the radial movement speed of the table 21 from the pulse train signals Φ A and Φ B from the encoder 23a, and the calculated radial movement speed becomes equal to the corrected radial movement speed Fr ′. The rotation of the feed motor 23 is controlled. By controlling the rotation of the feed motor 23, the laser spot of the processing laser light starts to move in the radial direction of the table 21 at the corrected radial movement speed Fr ′. After the process of step S505, the controller 50 determines whether a laser irradiation stop command (to be described later) has been issued in step S506. If there is no laser irradiation stop command, the controller 50 determines “No” in step S506, and the variable m reaches the end of the random data b (1) to b (m max ), that is, the value m max in step S507. Determine if you did. If the variable m has not reached the value m max , the controller 50 determines “No” in step S507, adds “1” to the variable m in step S508, and returns the program to step S502.

そして、コントローラ50は、前述したステップS502〜S505の処理をふたたび実行する。これにより、前記数7の演算により新たに計算された補正半径方向移動速度Fr’がフィードモータ制御回路62に出力され、フィードモータ23は、前記新たに計算された補正半径方向移動速度Fr’に対応した回転速度で回転し始める。そして、レーザ照射停止指令がなく、かつ変数mが値mmaxに達しない限り、コントローラ50は、ステップS506、S507にて「No」と判定し続け、変数mを「1」ずつ増加させながら、ステップS502〜S505の処理により、新たな半径値r及びランダムデータb(n)に基づいて新たな補正半径方向移動速度Fr’をフィードモータ制御回路62に出力して、フィードモータ23の回転速度を補正半径方向移動速度Fr’に対応した回転速度に制御する。 Then, the controller 50 executes the processes of steps S502 to S505 described above again. As a result, the corrected radial movement speed Fr ′ newly calculated by the calculation of Equation 7 is output to the feed motor control circuit 62, and the feed motor 23 is set to the newly calculated corrected radial movement speed Fr ′. Start rotating at the corresponding rotation speed. As long as there is no laser irradiation stop command and the variable m does not reach the value m max , the controller 50 continues to determine “No” in steps S506 and S507, and increases the variable m by “1”. Through the processing in steps S502 to S505, a new corrected radial movement speed Fr ′ is output to the feed motor control circuit 62 based on the new radius value r and the random data b (n), and the rotation speed of the feed motor 23 is determined. The rotation speed is controlled to correspond to the correction radial direction movement speed Fr ′.

そして、変数mが値mmaxに達すると、コントローラ50は、ステップS507にて「Yes」と判定し、ステップS501に変数mを「1」に戻した後、前述したステップS502以降の処理を実行する。このような処理により、加工用レーザ光の半径方向の移動速度が基本半径方向移動速度Frから若干だけランダムに変化する。その結果、加工用レーザ光によって加工対象物OB上に形成されるピットの半径方向位置がランダムに変化する。この場合も、厳密に言えば、ランダムデータb(m)はmmax個ずつの周期性を有することになるが、値mmaxとして充分に大きな値をとれば、レーザ加工した所定の領域では、加工対象物OB上に形成されるピットの半径方向位置は充分にランダムに変化しているものとみなすことができる。 When the variable m reaches the value m max , the controller 50 determines “Yes” in step S507, returns the variable m to “1” in step S501, and then executes the processes in and after step S502 described above. To do. By such processing, the moving speed in the radial direction of the processing laser light changes slightly at random from the basic radial moving speed Fr. As a result, the radial position of the pits formed on the workpiece OB by the machining laser light changes randomly. Again, strictly speaking, although the random data b (m) will have a periodicity of m max pieces each, taking a sufficiently large value as the value m max, a predetermined region of laser machining, It can be considered that the radial position of the pit formed on the workpiece OB changes sufficiently randomly.

ふたたび、図7の加工制御プログラムの説明に戻ると、半径値検出回路63により検出される半径値rが終了半径値Re以上となると、コントローラ50は、ステップS310にて「Yes」と判定して、ステップS311〜S316の処理を実行する。ステップS311において、フォーカスサーボ回路75に作動停止指令が出力されて、フォーカスサーボ回路75によるフォーカスサーボ制御が停止される。ステップS312においては、光軸駆動回路81〜83にそれ作動停止指令が出力されて、光軸駆動回路81〜83の作動も停止される。ステップS314においては、パルス信号供給回路72にパルス列信号の出力停止指令が出力されるとともに、レーザ駆動回路71にレーザ光の照射停止指令が出力されて、パルス信号供給回路72によるパルス列信号の出力及びレーザ駆動回路71によるレーザ駆動信号の出力が停止される。これにより、レーザ光源31は、加工用レーザ光の出射を停止する。ステップS315においては、フィードモータ制御回路62に半径方向への移動停止指令が出力されて、フィードモータ制御回路62は、フィードモータ23を停止させる。ステップS316においては、スピンドルモータ制御回路61に回転停止指令が出力されて、スピンドルモータ制御回路61は、スピンドルモータ22の回転を停止させる。そして、コントローラ50は、ステップS317にてレーザ加工制御ルーチンを終了する。   Returning to the description of the machining control program in FIG. 7 again, when the radius value r detected by the radius value detection circuit 63 is equal to or greater than the end radius value Re, the controller 50 determines “Yes” in step S310. , Steps S311 to S316 are executed. In step S311, an operation stop command is output to the focus servo circuit 75, and focus servo control by the focus servo circuit 75 is stopped. In step S312, the operation stop command is output to the optical axis drive circuits 81 to 83, and the operation of the optical axis drive circuits 81 to 83 is also stopped. In step S 314, a pulse train signal output stop command is output to the pulse signal supply circuit 72, and a laser beam irradiation stop command is output to the laser drive circuit 71. The output of the laser drive signal by the laser drive circuit 71 is stopped. As a result, the laser light source 31 stops emitting the processing laser light. In step S315, a feed stop command in the radial direction is output to the feed motor control circuit 62, and the feed motor control circuit 62 stops the feed motor 23. In step S316, a rotation stop command is output to the spindle motor control circuit 61, and the spindle motor control circuit 61 stops the rotation of the spindle motor 22. And the controller 50 complete | finishes a laser processing control routine in step S317.

また、前記ステップS314のレーザ光の照射停止指令の発生に伴い、コントローラ50は、図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラムにおいても、ステップS407にて「Yes」と判定して、ステップS410にてスピンドルモータ制御データ生成プログラムの実行を終了する。さらに、コントローラ50は、前記レーザ光の照射停止指令の発生に伴い、図9のフィードモータ制御データ生成プログラムにおいても、ステップS506にて「Yes」と判定して、ステップS509にてフィードモータ制御データ生成プログラムの実行を終了する。   Further, with the generation of the laser beam irradiation stop command in step S314, the controller 50 determines “Yes” in step S407 also in the spindle motor control data generation program of FIG. 8, and the spindle in step S410. The execution of the motor control data generation program is terminated. Further, the controller 50 determines “Yes” in step S506 in the feed motor control data generation program of FIG. 9 in response to the generation of the laser beam irradiation stop command, and feed motor control data in step S509. Terminates the generation program execution.

このような加工制御プログラムの実行により、加工対象物OBの表面には、図11(B)に示すように、回転方向及び半径方向にほぼ等間隔のピットパターンが形成される。ただし、前記ピットの形成中、光軸駆動回路81〜83から出力される駆動信号により、音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラー45が加工用レーザ光の光軸を半径方向に少量だけランダムに変化させる。また、図9のフィードモータ制御データ生成プログラムによって生成される補正半径方向移動速度Fr’により、フィードモータ制御回路62はフィードモータ23の回転速度を制御して、加工用レーザ光の半径方向の照射位置を少量だけランダムに変化させる。これらのランダム制御により、加工対象物OBの表面に形成されるピットの位置は半径方向に少量だけランダムに変化する。   By executing such a machining control program, as shown in FIG. 11B, pit patterns with substantially equal intervals in the rotational direction and the radial direction are formed on the surface of the workpiece OB. However, during the formation of the pits, the acousto-optic modulator 43, the tracking actuator 44, and the mirror 45 randomly change the optical axis of the laser beam for processing in the radial direction by a drive signal output from the optical axis drive circuits 81 to 83. To change. Further, the feed motor control circuit 62 controls the rotational speed of the feed motor 23 based on the corrected radial movement speed Fr ′ generated by the feed motor control data generation program of FIG. Change the position randomly by a small amount. By these random controls, the position of the pits formed on the surface of the workpiece OB changes randomly by a small amount in the radial direction.

また、前記ピットの形成中、図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラムによって生成される補正回転速度Ro’により、スピンドルモータ制御回路61はスピンドルモータ22の回転速度を制御して、1回転ごとの加工用レーザ光の回転方向の照射位置を少量だけランダムに変化させる。また、パルス信号供給回路72は、ロー側パルスのパルス幅を各パルス毎にランダムに変化させたパルス列信号をレーザ駆動回路71に出力し、レーザ駆動回路71は加工対象物OBの表面に照射される加工用レーザ光の出射間隔をランダムに変化させる。これらの制御により、加工対象物OBの表面に形成されるピットの位置は回転方向に少量だけランダムに変化する。   Further, during the formation of the pits, the spindle motor control circuit 61 controls the rotation speed of the spindle motor 22 by the corrected rotation speed Ro ′ generated by the spindle motor control data generation program of FIG. The irradiation position in the rotation direction of the laser beam for use is randomly changed by a small amount. The pulse signal supply circuit 72 outputs a pulse train signal obtained by randomly changing the pulse width of the low-side pulse for each pulse to the laser drive circuit 71, and the laser drive circuit 71 is irradiated on the surface of the workpiece OB. The emission interval of the processing laser beam is changed randomly. By these controls, the positions of the pits formed on the surface of the workpiece OB are randomly changed by a small amount in the rotation direction.

さらに、前記ピットの形成中、パルス信号供給回路72は、ハイ側パルスのレベル値を各パルス毎にランダムに変化させたパルス列信号をレーザ駆動回路71に出力し、レーザ駆動回路71は加工対象物OBの表面に照射される加工用レーザ光の照射強度をランダムに変化させる。この制御により、加工対象物OBの表面に照射される加工用レーザ光の強度がランダムに変化し、加工対象物OBの表面に形成されるピットの大きさがランダムに変化する。これらのランダム制御により、図11(B)に示すように、加工対象物OBの表面に形成されるピットは、規則的でなくなり、それらの回転方向位置(図示横方向位置)、半径方向位置(図示縦方向位置)及び大きさがランダムに変化したものとなる。   Further, during the formation of the pits, the pulse signal supply circuit 72 outputs a pulse train signal obtained by randomly changing the level value of the high-side pulse for each pulse to the laser drive circuit 71, and the laser drive circuit 71 The irradiation intensity of the processing laser beam irradiated on the surface of the OB is randomly changed. By this control, the intensity of the processing laser light irradiated on the surface of the workpiece OB changes randomly, and the size of the pits formed on the surface of the workpiece OB changes randomly. By these random controls, as shown in FIG. 11B, the pits formed on the surface of the workpiece OB are not regular, and their rotational direction position (lateral position in the figure), radial position ( The position in the illustrated vertical direction) and the size change randomly.

特に、この実施形態においては、音響光学変調素子43をランダムに変化する駆動信号で制御することによりピットの位置を半径方向に少量だけランダムに変化させ、パルス信号供給回路72から出力されるパルス列信号のロー側パルスのパルス幅をランダムに変化させることによりピットの位置を回転方向に少量だけランダムに変化させ、かつパルス信号供給回路72から出力されるパルス列信号のハイ側パルスのレベル値をランダムに変化させることによりピットの大きさをランダムに変化させるようにした。これらのランダム制御は、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46による加工用レーザ光の光軸の半径方向へのランダム変化、スピンドルモータ22の回転速度のランダム制御による加工用レーザ光の照射位置の回転方向へのランダム変化、並びにフィードモータ23の回転速度のランダム制御による加工用レーザ光の照射位置の半径方向へのランダム変化に比べて時間応答性が高い。したがって、テーブル21を高速回転させて微細間隔のピットを加工対象物OBに形成する場合のランダム制御にとって極めて有効である。   In particular, in this embodiment, the acousto-optic modulation element 43 is controlled by a randomly changing drive signal so that the pit position is randomly changed by a small amount in the radial direction, and the pulse train signal output from the pulse signal supply circuit 72 By randomly changing the pulse width of the low-side pulse, the pit position is randomly changed by a small amount in the rotation direction, and the level value of the high-side pulse of the pulse train signal output from the pulse signal supply circuit 72 is randomly The size of the pits was changed randomly by changing it. These random controls are performed by randomly changing the optical axis of the processing laser beam in the radial direction by the tracking actuator 44 and the mirror actuator 46, and by rotating the irradiation position of the processing laser beam by random control of the rotation speed of the spindle motor 22. The time response is higher than the random change in the radial direction of the irradiation position of the processing laser beam by the random change of the laser beam and the random control of the rotation speed of the feed motor 23. Therefore, it is extremely effective for random control when the table 21 is rotated at a high speed to form finely spaced pits on the workpiece OB.

このようにしてピットパターンが形成された加工対象物OBをテーブル21から取り外せば、複数のピットがランダムに形成された加工対象物OBを得ることができる。そして、新たな加工対象物OBにピットパターンを形成する場合には、作業者は、新たな加工対象物OBをテーブル21にセットし、入力装置51を使って、コントローラ50に対してレーザ加工制御プログラムの実行開始を指示する。これにより、前述のようにして、新たな加工対象物OBにランダムな複数のピットが形成される。   If the workpiece OB on which the pit pattern is formed in this manner is removed from the table 21, the workpiece OB on which a plurality of pits are randomly formed can be obtained. When forming a pit pattern on a new workpiece OB, the operator sets the new workpiece OB on the table 21 and uses the input device 51 to perform laser machining control on the controller 50. Instructs the start of program execution. Thereby, as described above, a plurality of random pits are formed on the new workpiece OB.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の実施にあたっては、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変形も可能である。   The embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the object of the present invention.

例えば、本実施形態においては、ピットの形成される半径方向の位置をランダムに変化させるために、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46による加工用レーザ光の光軸の半径方向へのランダム変化を採用した。しかし、これらのランダム制御に加えて、図10に示すように、加工用レーザ光の光軸を回転方向に変位させるための音響光学変調素子47、すなわち加工対象物OBの表面上にて加工用レーザ光の光軸を音響光学変調素子43による場合とは直交方向へ変位させる音響光学変調素子47を設けるようにしてもよい。この場合、上記実施形態の光軸駆動回路81〜83と同様に構成した光軸駆動回路84を設けて、光軸駆動回路84から出力される制御信号により、音響光学変調素子47に加工用レーザ光の光軸を回転方向にランダムに変化させるようにするとよい。   For example, in the present embodiment, in order to randomly change the radial position where pits are formed, random change in the radial direction of the optical axis of the processing laser beam by the tracking actuator 44 and the mirror actuator 46 is employed. . However, in addition to these random controls, as shown in FIG. 10, an acousto-optic modulation element 47 for displacing the optical axis of the processing laser beam in the rotational direction, that is, processing on the surface of the processing object OB. An acousto-optic modulation element 47 that displaces the optical axis of the laser light in a direction orthogonal to the case of the acousto-optic modulation element 43 may be provided. In this case, an optical axis drive circuit 84 configured in the same manner as the optical axis drive circuits 81 to 83 of the above embodiment is provided, and a processing laser is supplied to the acousto-optic modulation element 47 by a control signal output from the optical axis drive circuit 84. It is preferable to change the optical axis of light randomly in the rotation direction.

他の構成は、上記実施形態の場合と同じである。ただし、ミラー45は省略可能である。この変形例によっても、加工対象物OBの表面に形成されるピットは、規則的でなくなり、それらの回転方向位置(図示横方向位置)、半径方向位置(図示縦方向位置)及び大きさがランダムに変化したものとなる。また、この変形例においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットは光軸駆動回路84及び音響光学変調素子47によって回転方向にランダムに変化し、この音響光学変調素子47によるランダム制御は時間応答性が高いので、パルス列信号のロー側パルスのパルス幅のランダム制御を省略しても、テーブル21を高速回転させて微細間隔のピットを加工対象物OBに形成する場合のランダム制御にとって極めて有効である。   Other configurations are the same as those in the above embodiment. However, the mirror 45 can be omitted. Even in this modification, the pits formed on the surface of the workpiece OB are not regular, and their rotational direction position (lateral position in the figure), radial position (vertical position in the figure), and size are random. Will be changed. In this modification, the pits formed on the surface of the workpiece OB are randomly changed in the rotation direction by the optical axis drive circuit 84 and the acoustooptic modulator 47, and the random control by the acoustooptic modulator 47 is Since the time response is high, even if the random control of the pulse width of the low-side pulse of the pulse train signal is omitted, it is extremely useful for the random control when the table 21 is rotated at a high speed to form pits with fine intervals on the workpiece OB. It is valid.

また、上記実施形態においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットを半径方向にランダムに変化させるために、光軸駆動回路81,82,83による音響光学変調素子43、トラッキングアクチュエータ44及びミラーアクチュエータ46のランダム制御、並びにフィードモータ制御回路62によるフィードモータ23のランダム制御を採用した。しかし、ピットを半径方向にランダムに変化させるためには、これらのランダム制御のうちの少なくとも1つを採用すればよく、必要に応じて、これらのランダム制御のうちのいずれか1乃至3つを省略してもよい。さらに、ピットを半径方向にランダムに変化させることが必要なければ、これらのランダム制御の全てを省略してもよい。このことは、上記変形例においては、光軸駆動回路84による音響光学変調素子47を用いたランダム制御、及びフィードモータ制御回路62によるフィードモータ23のランダム制御を省略することを意味する。   In the above embodiment, in order to randomly change the pits formed on the surface of the workpiece OB in the radial direction, the acoustooptic modulator 43, the tracking actuator 44, and the optical axis driving circuits 81, 82, and 83 are used. Random control of the mirror actuator 46 and random control of the feed motor 23 by the feed motor control circuit 62 are employed. However, in order to randomly change the pits in the radial direction, at least one of these random controls may be adopted, and if necessary, any one to three of these random controls may be used. It may be omitted. Further, if it is not necessary to randomly change the pits in the radial direction, all of these random controls may be omitted. This means that in the above modification, random control using the acousto-optic modulation element 47 by the optical axis drive circuit 84 and random control of the feed motor 23 by the feed motor control circuit 62 are omitted.

また、上記実施形態においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットを回転方向にランダムに変化させるために、スピンドルモータ制御回路61によるスピンドルモータ22のランダム制御、及びパルス列信号のロー側パルスのパルス幅のランダム制御を採用した。しかし、ピットを回転方向にランダムに変化させるためには、これらのランダム制御のうちの少なくとも1つを採用すればよく、必要に応じて、これらのランダム制御のうちのいずれか一方を省略してもよい。さらに、ピットを回転方向にランダムに変化させることが必要なければ、これらのランダム制御の全てを省略してもよい。   Further, in the above embodiment, in order to randomly change the pits formed on the surface of the workpiece OB in the rotation direction, the spindle motor 22 is randomly controlled by the spindle motor control circuit 61, and the low-side pulse of the pulse train signal. Adopted random control of the pulse width. However, in order to change the pits randomly in the rotation direction, it is sufficient to employ at least one of these random controls, and omit one of these random controls as necessary. Also good. Furthermore, if it is not necessary to change the pits randomly in the rotation direction, all of these random controls may be omitted.

また、上記実施形態においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットの大きさをランダムに変化させるために、パルス列信号のハイ側パルスのレベル値のランダム制御を採用した。しかし、ピットの大きさをランダムに変化させることが必要なければ、このランダム制御を省略してもよい。   Further, in the above embodiment, random control of the level value of the high-side pulse of the pulse train signal is employed in order to randomly change the size of the pit formed on the surface of the workpiece OB. However, this random control may be omitted if it is not necessary to randomly change the size of the pits.

また、上記実施形態及び変形例においては、スピンドルモータ制御回路61に補正回転速度Ro’を出力してスピンドルモータ22の回転速度をランダムに変化させることにより、加工対象物OBの表面に形成されるピットの回転方向の間隔を1回転ごとにランダムに変化させるようにした。しかし、これに代えて、光軸駆動回路81〜84と同様に構成した光軸駆動回路から出力されてランダムに変化する駆動信号を用いて、スピンドルモータ22の回転速度をランダムに変化させ、加工対象物OBの表面に形成されるピットの回転方向の間隔をランダムに変化させるようにしてもよい。この場合、コントローラ50による図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラム中のステップS402〜S404の処理により、基本回転速度Roをスピンドルモータ制御回路61に出力するようにする。そして、前記駆動信号をスピンドルモータ制御回路61に供給し、スピンドルモータ制御回路61は、基本回転速度Roに駆動信号を加えた信号でスピンドルモータ22の回転を制御することにより、スピンドルモータ22の回転速度を基本回転速度Roに対して前記駆動信号分だけ変動させるようにすればよい。   Further, in the above embodiment and the modified example, the correction rotational speed Ro ′ is output to the spindle motor control circuit 61 to change the rotational speed of the spindle motor 22 at random, thereby forming on the surface of the workpiece OB. The interval in the pit rotation direction was randomly changed for each rotation. However, instead of this, the rotational speed of the spindle motor 22 is randomly changed by using a drive signal that is output from an optical axis drive circuit configured in the same manner as the optical axis drive circuits 81 to 84 and changes randomly. You may make it change the space | interval of the rotation direction of the pit formed in the surface of the target object OB at random. In this case, the basic rotation speed Ro is output to the spindle motor control circuit 61 by the processing of steps S402 to S404 in the spindle motor control data generation program of FIG. Then, the drive signal is supplied to the spindle motor control circuit 61. The spindle motor control circuit 61 controls the rotation of the spindle motor 22 by controlling the rotation of the spindle motor 22 with a signal obtained by adding the drive signal to the basic rotation speed Ro. The speed may be changed by the drive signal with respect to the basic rotation speed Ro.

また、上記実施形態及び変形例においては、フィードモータ制御回路62に補正半径方向移動速度Fr’を出力してフィードモータ23の回転速度をランダムに変化させることにより、加工対象物OBの表面に形成されるピットの半径方向の間隔をランダムに変化させるようにした。しかし、これに代えて、前記場合と同様に、光軸駆動回路81〜84と同様に構成した光軸駆動回路から出力されてランダムに変化する駆動信号を用いて、フィードモータ23の回転速度をランダムに変化させ、加工対象物OBの表面に形成されるピットの半径方向の間隔をランダムに変化させるようにしてもよい。この場合、コントローラ50による図9のフィードモータ制御データ生成プログラム中のステップS502〜S503の処理により、基本半径方向移動速度Frをフィードモータ制御回路62に出力するようにする。そして、前記駆動信号をフィードモータ制御回路62に供給し、フィードモータ制御回路62は、基本半径方向移動速度Frによるフィードモータ23の回転速度の制御に、駆動信号によるフィードモータ23の回転制御を加えて、フィードモータ23の回転速度を基本半径方向移動速度Frに対応した回転速度に対して前記駆動信号分だけ変動させるようにすればよい。   Moreover, in the said embodiment and modification, it forms on the surface of the workpiece OB by outputting correction | amendment radial direction moving speed Fr 'to the feed motor control circuit 62, and changing the rotational speed of the feed motor 23 at random. The pit radial interval was changed randomly. However, instead of this, as in the case described above, the rotational speed of the feed motor 23 is adjusted using a drive signal that is output from an optical axis drive circuit configured similarly to the optical axis drive circuits 81 to 84 and changes at random. You may make it change at random and change the space | interval of the radial direction of the pit formed in the surface of the workpiece OB at random. In this case, the basic radial direction moving speed Fr is output to the feed motor control circuit 62 by the processing of steps S502 to S503 in the feed motor control data generation program of FIG. Then, the drive signal is supplied to the feed motor control circuit 62. The feed motor control circuit 62 adds the rotation control of the feed motor 23 by the drive signal to the control of the rotation speed of the feed motor 23 by the basic radial direction moving speed Fr. Thus, the rotational speed of the feed motor 23 may be varied by the amount corresponding to the drive signal with respect to the rotational speed corresponding to the basic radial direction moving speed Fr.

また、上記実施形態及び変形例においては、パルス信号供給回路72が、コントローラ50によるパルス制御データ生成ルーチンに実行によりメモリ72aに記憶されていてランダムに変化するロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)を用いて、パルス列信号の各1つずつのパルスのロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値をランダムに変更するようにした。しかし、これに代えて、図1及び図10に破線で示すように、エンコーダ22aからインデックス信号Indexをパルス信号供給回路72に供給するようにする。そして、パルス信号供給回路72は、インデックス信号Indexが入力するごとに、すなわち加工対象物OBが1回転するごとに、前記ロー側パルスの補正パルス幅Wd(n)及びハイ側パルスの補正レベル値Pw(n)を用いて、パルス列信号のロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値をランダムに変更するようにしてもよい。これによれば、加工対象物OBの1回転ごとにしか、パルス列信号のロー側パルスのパルス幅及びハイ側パルスのレベル値は変更されないので、ランダムの程度は低くなるが、加工対象物OBに形成されるピット全体を通して見れば、ピット間の回転方向間隔及びピットの大きさはランダムに変化したものとなる。この場合、パルス信号供給回路72内のメモリ72aの容量を小さく抑えることが可能である。   Further, in the above embodiment and the modification, the pulse signal supply circuit 72 is stored in the memory 72a by executing the pulse control data generation routine by the controller 50, and the correction pulse width Wd (n ) And the correction level value Pw (n) of the high-side pulse, the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse of each pulse train signal are randomly changed. However, instead of this, the index signal Index is supplied from the encoder 22a to the pulse signal supply circuit 72 as shown by the broken lines in FIGS. The pulse signal supply circuit 72 receives the correction pulse width Wd (n) of the low-side pulse and the correction level value of the high-side pulse every time the index signal Index is input, that is, every time the workpiece OB rotates once. Pw (n) may be used to randomly change the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse of the pulse train signal. According to this, since the pulse width of the low-side pulse and the level value of the high-side pulse of the pulse train signal are changed only for each rotation of the workpiece OB, the degree of randomness is low, but the workpiece OB When viewed throughout the formed pits, the interval between the pits in the rotational direction and the size of the pits change randomly. In this case, the capacity of the memory 72a in the pulse signal supply circuit 72 can be kept small.

また、上記実施形態及び変形例においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットを半径方向及び回転方向にランダムに変化させるために、音響光学変調素子(EOD)43,47を用いた。しかし、音響光学変調素子43,47に代えて、電気光学変調素子をそれぞれ用いるようにしてもよい。そして、この場合も、光軸駆動回路81,84と同様に構成した光軸駆動回路からの駆動信号により、電気光学変調素子を駆動制御するとよい。これによっても、電気光学変調素子は時間応答性が良好であるので、テーブル21を高速回転させて微細間隔のピットを加工対象物OBに形成する場合のランダム制御にとって極めて有効である。   In the above-described embodiment and modification, acousto-optic modulation elements (EOD) 43 and 47 are used to randomly change the pits formed on the surface of the workpiece OB in the radial direction and the rotation direction. However, instead of the acousto-optic modulation elements 43 and 47, electro-optic modulation elements may be used. In this case, the electro-optic modulation element may be driven and controlled by a drive signal from an optical axis drive circuit configured similarly to the optical axis drive circuits 81 and 84. Also by this, since the electro-optic modulation element has a good time response, it is extremely effective for random control when the table 21 is rotated at a high speed to form pits with fine intervals on the workpiece OB.

また、上記実施形態においては、加工対象物OBの表面に形成されるピットを半径方向にランダムに変化させるために、トラッキングアクチュエータ44、並びにミラー45及びミラーアクチュエータ46のランダム制御を採用した。しかし、これに代えて、ポリゴンミラー及びポリゴンミラーを駆動するアクチュエータ、ガルバノミラー及びガルバノミラーを駆動するアクチュエータ、レーザ光源31を駆動するアクチュエータなどを用いて、レーザ光の光軸を半径方向にランダムに変化させて、加工対象物OBの表面に形成されるピットを半径方向にランダムに変化させるようにしてもよい。この場合も、上記実施形態の光軸駆動回路82,83と同様な光軸駆動回路からの駆動信号により、前記アクチュエータを駆動制御するようにすればよい。また、加工対象物OBの表面に形成されるピットを回転方向にランダムに変化させるために、上記実施形態のミラー45及びミラーアクチュエータ46、前記変形例のポリゴンミラー及びポリゴンミラーを駆動するアクチュエータ、ガルバノミラー及びガルバノミラーを駆動するアクチュエータ、レーザ光源31を駆動するアクチュエータなどを用いてもよい。この場合も、上記実施形態の光軸駆動回路82,83と同様な光軸駆動回路からの駆動信号により、前記アクチュエータを駆動制御するようにすればよい。ただし、この場合には、ミラー45、ポリゴンミラー、ガルバノミラー、ガルバノミラー及びレーザ光源31の駆動により、レーザ光の光軸を回転方向に変化させる必要がある。   In the above-described embodiment, random control of the tracking actuator 44, the mirror 45, and the mirror actuator 46 is employed in order to randomly change the pits formed on the surface of the workpiece OB in the radial direction. However, instead of this, using a polygon mirror and an actuator for driving the polygon mirror, an actuator for driving the galvano mirror and the galvano mirror, an actuator for driving the laser light source 31, etc., the optical axis of the laser light is randomly selected in the radial direction. The pits formed on the surface of the workpiece OB may be changed randomly in the radial direction. Also in this case, the actuator may be driven and controlled by a drive signal from an optical axis drive circuit similar to the optical axis drive circuits 82 and 83 of the above embodiment. Further, in order to randomly change the pits formed on the surface of the workpiece OB in the rotational direction, the mirror 45 and the mirror actuator 46 of the above embodiment, the polygon mirror and the actuator for driving the polygon mirror of the modification, a galvano An actuator that drives the mirror and the galvanometer mirror, an actuator that drives the laser light source 31, and the like may be used. Also in this case, the actuator may be driven and controlled by a drive signal from an optical axis drive circuit similar to the optical axis drive circuits 82 and 83 of the above embodiment. However, in this case, it is necessary to change the optical axis of the laser light in the rotation direction by driving the mirror 45, the polygon mirror, the galvanometer mirror, the galvanometer mirror, and the laser light source 31.

また、上記実施形態においては、コントローラ50は、図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラム及び図9のフィードモータ制御データ生成プログラムを、図7の加工制御プログラムと同時に並行して実行するようにした。しかし、これに代えて、コントローラ50は、図7の加工制御プログラムの実行中、図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラム及び図9のフィードモータ制御データ生成プログラムを、所定の短時間ごとに割込み実行するようにしてもよい。この場合、図8のスピンドルモータ制御データ生成プログラムにおいては、ステップS401の変数nの初期設定処理を省略して、スピンドルモータ制御データ生成プログラムの最初の実行の際に別途用意した初期設定プログラムの実行により変数nを「1」に初期設定する。また、ステップS402にてインデックス信号Indexの入力がない場合には、ステップS402にて「No」と判定してスピンドルモータ制御データ生成プログラムの実行を終了する。ただし、この場合、エンコーダ22aから入力されるインデックス信号Indexを短時間だけコントローラ50に記憶しておく必要がある。また、ステップS409の処理後に、このスピンドルモータ制御データ生成プログラムの実行を終了するようにする。さらに、ステップS408にて「Yes」すなわち変数nが最大値nmaxに達した場合には変数nを「1」に初期設定した後に、このスピンドルモータ制御データ生成プログラムの実行を終了するようにする。 Further, in the above embodiment, the controller 50 executes the spindle motor control data generation program of FIG. 8 and the feed motor control data generation program of FIG. 9 in parallel with the machining control program of FIG. However, instead of this, the controller 50 interrupts the spindle motor control data generation program of FIG. 8 and the feed motor control data generation program of FIG. 9 at predetermined intervals during execution of the machining control program of FIG. You may make it do. In this case, in the spindle motor control data generation program of FIG. 8, the initial setting process of the variable n in step S401 is omitted, and the initial setting program prepared separately at the first execution of the spindle motor control data generation program is executed. The variable n is initialized to “1”. If no index signal Index is input in step S402, it is determined as “No” in step S402, and the execution of the spindle motor control data generation program is terminated. However, in this case, the index signal Index input from the encoder 22a needs to be stored in the controller 50 for a short time. In addition, after the processing in step S409, the execution of the spindle motor control data generation program is terminated. Furthermore, when “Yes”, that is, the variable n reaches the maximum value n max in step S408, the variable n is initialized to “1”, and then the execution of the spindle motor control data generation program is terminated. .

また、図9のフィードモータ制御データ生成プログラムにおいては、ステップS501の変数mの初期設定処理を省略して、フィードモータ制御データ生成プログラムの最初の実行の際に別途用意した初期設定プログラムの実行により変数mを「1」に初期設定する。また、ステップS508の処理後に、このフィードモータ制御データ生成プログラムの実行を終了するようにする。さらに、ステップS507にて「Yes」すなわち変数mが最大値mmaxに達した場合には変数mを「1」に初期設定した後に、このフィードモータ制御データ生成プログラムの実行を終了するようにする。 In the feed motor control data generation program of FIG. 9, the initial setting process of the variable m in step S501 is omitted, and the initial setting program prepared at the first execution of the feed motor control data generation program is executed. The variable m is initialized to “1”. In addition, after the process of step S508, the execution of the feed motor control data generation program is terminated. Further, if “Yes”, that is, the variable m reaches the maximum value m max in step S507, the variable m is initialized to “1”, and then the execution of the feed motor control data generation program is terminated. .

また、上記実施形態においては、レーザ光の照射位置をテーブル21の半径方向に移動させるにあたって、テーブル21を移動させるようにしているが、加工ヘッド30をテーブル21の半径方向に移動させる構成であってもよい。また、テーブル21と加工ヘッド30との両方を関連させて移動させるようにすることもできる。   In the above embodiment, the table 21 is moved when the irradiation position of the laser beam is moved in the radial direction of the table 21. However, the processing head 30 is moved in the radial direction of the table 21. May be. Further, both the table 21 and the processing head 30 can be moved in association with each other.

さらに、上記実施形態においては、LEDの製作用基板上に微細ピットを形成するようにしたが、現像液等の後処理によりピットが形成される微細反応跡を形成する場合にも、上記実施形態に係るレーザ加工装置及びレーザ加工方法を利用できる。また、LEDの製作用基板以外でも平板上に微細ピット又は微細反応跡をランダムに形成する場合にも、上記実施形態に係るレーザ加工装置及びレーザ加工方法を利用できる。   Furthermore, in the above-described embodiment, fine pits are formed on the LED production substrate. However, in the case of forming fine reaction traces in which pits are formed by post-processing of a developer or the like, the above-described embodiment is also used. The laser processing apparatus and laser processing method which concern on can be utilized. Further, the laser processing apparatus and the laser processing method according to the above-described embodiment can be used even when fine pits or fine reaction traces are randomly formed on a flat plate other than the LED production substrate.

21…テーブル、22…スピンドルモータ、23…フィードモータ、30…加工ヘッド、31…レーザ光源、35…対物レンズ、43,47…音響光学変調素子、44…トラッキングアクチュエータ、45…ミラー、46…ミラーアクチュエータ、50…コントローラ、52…半径値検出回路、61…スピンドルモータ制御回路、62…フィードモータ制御回路、63…半径値検出回路、72…パルス信号供給回路、81〜84…光軸駆動回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Table, 22 ... Spindle motor, 23 ... Feed motor, 30 ... Processing head, 31 ... Laser light source, 35 ... Objective lens, 43, 47 ... Acoustooptic modulator, 44 ... Tracking actuator, 45 ... Mirror, 46 ... Mirror Actuator, 50 ... Controller, 52 ... Radius value detection circuit, 61 ... Spindle motor control circuit, 62 ... Feed motor control circuit, 63 ... Radius value detection circuit, 72 ... Pulse signal supply circuit, 81-84 ... Optical axis drive circuit

Claims (12)

加工対象物をセットするためのテーブルと、
前記テーブルを回転させる回転手段と、
前記テーブルにセットされて回転する加工対象物にレーザ光源から出射されたレーザ光を対物レンズにより集光して照射する加工ヘッドと、
前記加工ヘッドから出射されたレーザ光により前記加工対象物に形成されたレーザスポットを、前記テーブルに対して相対的に前記テーブルの半径方向に移動させる半径方向移動手段と、
パルス列状の駆動信号を生成して前記レーザ光源に供給し、前記レーザ光源からパルス列状のレーザ光が出射されるように前記レーザ光源を駆動するレーザ光源駆動手段とを備え、
加工対象物に、前記テーブルの半径方向に沿うとともに、前記テーブルの回転方向に沿った複数の加工跡を形成するようにしたレーザ加工装置において、
前記テーブルの半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向にランダムに変化させる半径方向ランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
A table for setting the workpiece,
Rotating means for rotating the table;
A processing head for condensing and irradiating a laser beam emitted from a laser light source on a workpiece to be set and rotated by the objective lens;
Radial direction moving means for moving a laser spot formed on the object to be processed by the laser light emitted from the processing head in the radial direction of the table relative to the table;
A laser light source driving unit configured to generate a pulse train drive signal and supply the laser light source to drive the laser light source so that a pulse train laser beam is emitted from the laser light source;
In the laser processing apparatus adapted to form a plurality of processing marks along the rotation direction of the table as well as along the radial direction of the table on the processing object,
As interval of the plurality of processing traces formed along the radial direction of the table is changed at random, a random controlling means for controlling the formation of said plurality of processing marks are irradiated to the processing object A laser processing apparatus comprising a radial random control means for randomly changing the optical axis of the laser beam in the radial direction of the table .
請求項1に記載したレーザ加工装置において、
前記半径方向ランダム制御手段を、
前記レーザ光源から前記対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向に変化させるための音響光学変調素子又は電気光学変調素子と、
前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子にランダムに変化する電気信号を供給して、前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子が前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向にランダムに変化させるように、前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子を制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 1 ,
The radial random control means,
An acousto-optic modulation element or electro-optical element arranged on the optical path of laser light from the laser light source to the objective lens, and for changing the optical axis of the laser light irradiated on the workpiece in the radial direction of the table A modulation element;
An electrical signal that randomly changes is supplied to the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element, and the optical axis of the laser beam irradiated onto the workpiece by the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element is A laser processing apparatus configured with an optical axis driving circuit for controlling the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element so as to be randomly changed in a radial direction.
請求項1に記載したレーザ加工装置において、
前記半径方向ランダム制御手段を、
前記対物レンズを駆動して前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向に変化させるためのアクチュエータと、
前記アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、前記対物レンズが前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向にランダムに変化させるように、前記アクチュエータを制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 1 ,
The radial random control means,
An actuator for driving the objective lens to change the optical axis of the laser light applied to the object to be processed in the radial direction of the table;
The actuator is controlled such that an electric signal that randomly changes is supplied to the actuator, and the objective lens randomly changes the optical axis of the laser light applied to the object to be processed in the radial direction of the table. A laser processing device composed of an optical axis drive circuit.
請求項1に記載したレーザ加工装置において、
前記半径方向ランダム制御手段を、
前記レーザ光源から前記対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、前記レーザ光源からのレーザ光を反射して前記対物レンズに導くミラーと、
前記ミラーを駆動して前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向に変化させるためのアクチュエータと、
前記アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、前記ミラーが前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの半径方向にランダムに変化させるように、前記アクチュエータを制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 1 ,
The radial random control means,
A mirror disposed on the optical path of laser light from the laser light source to the objective lens, and reflecting the laser light from the laser light source and guiding it to the objective lens;
An actuator for driving the mirror to change the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the radial direction of the table;
Light that controls the actuator by supplying an electrical signal that randomly changes to the actuator, so that the mirror randomly changes the optical axis of the laser beam irradiated on the workpiece in the radial direction of the table. A laser processing device composed of a shaft drive circuit.
請求項1乃至4のうちのいずれか一つに記載したレーザ加工装置において、
前記テーブルの半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記半径方向移動手段を電気的に制御して、前記半径方向移動手段によって前記テーブルに対して相対的に前記テーブルの半径方向に移動するレーザスポットの移動速度をランダムに変化させる半径方向移動速度ランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
In the laser processing apparatus as described in any one of Claims 1 thru | or 4 ,
Random control means for controlling the formation of the plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the radial direction of the table are randomly changed, wherein the radial movement means is electrically is controlled to, characterized in that a radial movement speed random control means for changing at random the movement speed of the laser spot moves radially relatively the table for the table by the radial moving means laser processing apparatus according to.
請求項1乃至5のうちのいずれか一つに記載したレーザ加工装置において、
前記テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向にランダムに変化させる回転方向ランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
In the laser processing apparatus as described in any one of Claims 1 thru | or 5 ,
Random control means for controlling the formation of the plurality of machining traces so that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly, and irradiates the workpiece. A laser processing apparatus comprising a rotation direction random control means for randomly changing an optical axis of a laser beam in a rotation direction of the table.
請求項6に記載したレーザ加工装置において、
前記回転方向ランダム制御手段を、
前記レーザ光源から前記対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向に変化させるための音響光学変調素子又は電気光学変調素子と、
前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子にランダムに変化する電気信号を供給して、前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子が前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向にランダムに変化させるように、前記音響光学変調素子又は電気光学変調素子を制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 6 ,
The rotation direction random control means,
An acousto-optic modulation element or electro-optical element arranged on the optical path of laser light from the laser light source to the objective lens, and for changing the optical axis of the laser light irradiated on the workpiece in the rotation direction of the table A modulation element;
An electrical signal that randomly changes is supplied to the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element, and the optical axis of the laser beam irradiated onto the workpiece by the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element is A laser processing apparatus configured with an optical axis driving circuit for controlling the acousto-optic modulation element or the electro-optic modulation element so as to change randomly in the rotation direction.
請求項6に記載したレーザ加工装置において、
前記回転方向ランダム制御手段を、
前記対物レンズを駆動して前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向に変化させるためのアクチュエータと、
前記アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、前記対物レンズが前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向にランダムに変化させるように、前記アクチュエータを制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 6 ,
The rotation direction random control means,
An actuator for driving the objective lens to change the optical axis of the laser light applied to the object to be processed in the rotation direction of the table;
The actuator is controlled so that an electric signal that randomly changes is supplied to the actuator, and the objective lens randomly changes the optical axis of the laser light applied to the object to be processed in the rotation direction of the table. A laser processing device composed of an optical axis drive circuit.
請求項6に記載したレーザ加工装置において、
前記回転方向ランダム制御手段を、
前記レーザ光源から前記対物レンズへのレーザ光の光路上に配置されて、前記レーザ光源からのレーザ光を反射して前記対物レンズに導くミラーと、
前記ミラーを駆動して前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向に変化させるためのアクチュエータと、
前記アクチュエータにランダムに変化する電気信号を供給して、前記ミラーが前記加工対象物に照射されるレーザ光の光軸を前記テーブルの回転方向にランダムに変化させるように、前記アクチュエータを制御する光軸駆動回路と
で構成したレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 6 ,
The rotation direction random control means,
A mirror disposed on the optical path of laser light from the laser light source to the objective lens, and reflecting the laser light from the laser light source and guiding it to the objective lens;
An actuator for driving the mirror to change the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece in the rotation direction of the table;
Light that controls the actuator so as to supply an electrical signal that randomly changes to the actuator so that the mirror randomly changes the optical axis of the laser light applied to the workpiece in the rotation direction of the table. A laser processing device composed of a shaft drive circuit.
請求項1乃至9のうちのいずれか一つに記載したレーザ加工装置において、
前記テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記回転手段を電気的に制御して、前記回転手段によって回転される前記テーブルの回転速度をランダムに変化させる回転速度ランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
In the laser processing apparatus as described in any one of Claims 1 thru | or 9 ,
Random control means for controlling the formation of the plurality of machining traces such that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly, and electrically controls the rotation means. Then , a laser processing apparatus comprising a rotation speed random control means for randomly changing the rotation speed of the table rotated by the rotation means.
請求項1乃至10のうちのいずれか一つに記載したレーザ加工装置において、
前記テーブルの回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔がランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルス間隔をランダムに変化させるパルス間隔ランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
In the laser processing apparatus as described in any one of Claims 1 thru | or 10 ,
Random control means for controlling the formation of the plurality of machining traces so that the intervals between the plurality of machining traces formed along the rotation direction of the table change randomly, and generated by the laser light source driving means A laser processing apparatus characterized by comprising pulse interval random control means for randomly changing a pulse interval in a drive signal in the form of a pulse train.
請求項1乃至11のうちのいずれか一つに記載したレーザ加工装置において、
前記形成される複数の加工跡の大きさがランダムに変化するように、前記複数の加工跡の形成を制御するランダム制御手段であって、前記レーザ光源駆動手段にて生成されるパルス列状の駆動信号におけるパルスレベルをランダムに変化させるパルスレベルランダム制御手段を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
In the laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 11 ,
Random control means for controlling the formation of the plurality of processing traces so that the sizes of the plurality of processing traces to be randomly changed, the pulse train drive generated by the laser light source driving means A laser processing apparatus comprising pulse level random control means for randomly changing a pulse level in a signal.
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