JP5231314B2 - Bonding optical element and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、偏心を減らしつつ、耐湿、耐熱性を持たせた接合光学素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a bonded optical element having reduced moisture and heat resistance while reducing eccentricity, and a method for manufacturing the same.

例えば、3層接合光学素子を得る例として、2つのガラス又はプラスチックの光学基材に未硬化のエネルギー硬化型樹脂を挟み、次いで、当該樹脂にエネルギーを照射して硬化させる方法がある。   For example, as an example of obtaining a three-layer bonded optical element, there is a method in which an uncured energy curable resin is sandwiched between two glass or plastic optical substrates, and then the resin is irradiated with energy to be cured.

しかし、光学基材と樹脂を接合する際、光学基材同士の光軸等がずれたまま樹脂を硬化してしまうと、目的の光学性能を得られなくなってしまう。
そのため、接合光学素子においては、光学基材と樹脂を硬化する前に、ズレを修正することで光学性能を確保する必要がある。
However, when the optical base material and the resin are bonded, if the resin is cured while the optical axes of the optical base materials are shifted, the intended optical performance cannot be obtained.
Therefore, in the bonded optical element, it is necessary to ensure optical performance by correcting the deviation before curing the optical base material and the resin.

これに対し、例えば特許文献1及び特許文献2には、光学基材の位置決め(特に、貼り合わせ面同士の位置決め)を容易にするための技術が開示されている。
特許文献1には、光学基材が光学有効径の外周に接触により基材同士の位置関係を決定するための位置決め部を有しており、その接触する部位を互いに嵌合することで、位置決め可能な技術が提案されている。
On the other hand, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose techniques for facilitating the positioning of the optical base material (particularly, positioning of the bonding surfaces).
In Patent Document 1, the optical base material has a positioning portion for determining the positional relationship between the base materials by contact on the outer periphery of the optical effective diameter, and the contacted portions are fitted to each other so as to be positioned. Possible technologies have been proposed.

また、特許文献2には、貼り合わせる2枚の光学基材の光学有効径の外周を線接触させることで、光学基材同士を位置決めし、貼り合わせる技術が提案されている。   Patent Document 2 proposes a technique in which optical substrates are positioned and bonded together by bringing the outer periphery of the optical effective diameter of two optical substrates to be bonded into line contact.

特開平05−19104号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-19104 特開2001−42212号公報JP 2001-42212 A

しかしながら、特許文献1及び特許文献2の技術を用いて製造された接合光学素子では、いずれも光学基材同士が直接接触した状態となっている。
このため、使用環境下の温度・湿度が変化すると、応力の問題が発生することになる。具体的には、光学基材の有する線膨張率の差により、光学基材の膨張・収縮量が異なる場合には、膨張、収縮量の差が原因となって接触している部分に応力が発生する。これにより、通常の光学素子が温湿度変化によって変化する以上に大きな変形を起こし、面形状が低下するおそれが生じる。
However, in the bonded optical element manufactured using the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 2, both optical substrates are in direct contact with each other.
For this reason, when the temperature and humidity in the usage environment change, a problem of stress occurs. Specifically, when the amount of expansion / contraction of the optical base material is different due to the difference in the linear expansion coefficient of the optical base material, the stress is applied to the contacted part due to the difference in expansion / contraction amount. Occur. As a result, there is a risk that the normal optical element will be deformed more than it changes due to temperature and humidity changes, and the surface shape will be lowered.

本発明は斯かる課題を解決するためになされたもので、貼り合わせる際に少なくとも2つの光学基材の位置決め部間に隙間を設けることで、環境変化に対して面形状の精度が高い接合光学素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve such a problem, and a bonding optical having high surface shape accuracy with respect to environmental changes is provided by providing a gap between the positioning portions of at least two optical base materials when bonding. An object is to provide an element and a method for manufacturing the element.

前記目的を達成するため、本発明では接合光学素子の製造方法において、
光学有効径よりも外側に位置決め部を持つ少なくとも2枚の光学基材を、エネルギー硬化型樹脂により貼り合せた接合光学素子の製造方法において、
前記2枚の光学基材の位置決め部同士を接触させる工程と、
前記2枚の光学基材の光軸に垂直な方向の位置関係を保持したまま前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程と、を有する。
In order to achieve the above object, in the present invention, in the method for manufacturing a bonded optical element,
In the method for manufacturing a bonded optical element in which at least two optical base materials having a positioning portion outside the effective optical diameter are bonded with an energy curable resin,
The step of bringing the positioning portions of the two optical substrates into contact with each other;
And a step of separating the positioning portions of the two optical substrates while maintaining the positional relationship in the direction perpendicular to the optical axis of the two optical substrates.

この場合、前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程として、
光軸側に背を向けた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う一の光学基材の吸水率を上げる工程と、
光軸側を向いた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う他の光学基材の吸水率を下げる工程と、のうち少なくとも1つの工程と、
前記2枚の光学基材を貼り合わせる工程と、を有する。
In this case, as a step of separating the positioning portions of the two optical substrates,
A step of increasing the water absorption rate of one optical base material that is positioned by contacting with a positioning portion on the surface facing the optical axis side;
Reducing the water absorption rate of another optical base material that is positioned by contacting the positioning portion on the surface facing the optical axis side, and at least one of the steps;
Bonding the two optical substrates together.

好ましくは、前記一の光学基材の吸水率を上げる工程が、
相対湿度90%RH 以上の雰囲気下で行うことである。
また、好ましくは、前記他の光学基材の吸水率を下げる工程が、
相対湿度20%RH 以下の雰囲気下で行うことである。
Preferably, the step of increasing the water absorption rate of the one optical substrate comprises
It is performed in an atmosphere with a relative humidity of 90% RH or higher.
Preferably, the step of lowering the water absorption rate of the other optical substrate is as follows:
The relative humidity is 20% RH or less.

また、前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程として、
光軸側に背を向けた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う一の光学基材の温度を上げる工程と、
光軸側を向いた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う他の光学基材の温度を下げる工程と、のうち少なくとも1つの工程と、
前記2枚の光学基材を貼り合わせる工程と、を有する。
Moreover, as a step of separating the positioning portions of the two optical substrates,
Increasing the temperature of one optical substrate that performs positioning by contacting with a positioning portion on the surface facing the optical axis side; and
Lowering the temperature of another optical base material that is positioned by contacting the positioning portion on the surface facing the optical axis side, at least one of the steps,
Bonding the two optical substrates together.

好ましくは、前記一の光学基材の温度を上げる工程が、
一の光学基材の温度を50℃以上の温度に設定することである。
また、好ましくは、前記他の光学基材の温度を下げる工程が、
他の光学基材の温度を10℃以下の温度に設定することである。
Preferably, the step of raising the temperature of the one optical substrate comprises
The temperature of one optical substrate is set to a temperature of 50 ° C. or higher.
In addition, preferably, the step of lowering the temperature of the other optical substrate,
The temperature of the other optical substrate is set to a temperature of 10 ° C. or lower.

また、本発明の接合光学素子は、光学有効径の外周部に位置決め部を有する少なくとも2つの光学基材と、
前記少なくとも2つの光学基材と前記位置決め部とによって空間が形成され、
当該空間内の少なくとも光学有効径内に充填されるエネルギー硬化型樹脂によるレンズ層と、を備え、
前記位置決め部は、光軸に垂直な方向の位置関係を保持したまま光軸方向に離反していることを特徴とする。
Moreover, the bonded optical element of the present invention includes at least two optical base materials having positioning portions on the outer peripheral portion of the optical effective diameter,
A space is formed by the at least two optical base materials and the positioning portion,
A lens layer made of an energy curable resin filled in at least the optical effective diameter in the space,
The positioning portion is separated in the optical axis direction while maintaining a positional relationship in a direction perpendicular to the optical axis.

本発明によれば、貼り合わせる少なくとも2つの光学基材の位置決め部間に隙間を設けることで、環境変化に対して面形状の精度が高い接合光学素子及びその製造方法を得ることができる。   According to the present invention, by providing a gap between the positioning portions of at least two optical substrates to be bonded together, it is possible to obtain a bonded optical element having a high surface shape accuracy and a manufacturing method thereof with respect to environmental changes.

実施の形態1での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。2 is a cross-sectional view of two optical substrates to be bonded in Embodiment 1. FIG. 2つの光学基材を位置決めした状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which positioned the two optical base materials. 2つの光学基材を離反させた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which separated two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 実施の形態1での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element in the first embodiment. 実施の形態2での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。6 is a cross-sectional view of two optical substrates to be bonded together in Embodiment 2. FIG. 2つの光学基材の一方に樹脂を吐出した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which discharged resin to one of two optical base materials. 2つの光学基材により位置決めを行った状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which performed positioning with two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 実施の形態2での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。5 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element in a second embodiment. 第3の実施の形態での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。It is sectional drawing of two optical base materials bonded together in 3rd Embodiment. 2つの光学基材の一方に樹脂を吐出した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which discharged resin to one of two optical base materials. 2つの光学基材を貼り合わせた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which bonded together two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 実施の形態3での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element in a third embodiment. 実施の形態4での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of two optical substrates to be bonded together in a fourth embodiment. 貼り合わせた光学基材を放置してできた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state made by leaving the optical base material bonded together. 実施の形態4での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element according to Embodiment 4. 実施の形態5での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。It is sectional drawing of two optical base materials bonded together in Embodiment 5. FIG. 2つの光学基材の一方に樹脂を吐出した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which discharged resin to one of two optical base materials. 2つの光学基材を貼り合わせた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which bonded together two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 実施の形態5での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element in a fifth embodiment. 実施の形態6での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。It is sectional drawing of two optical base materials bonded together in Embodiment 6. FIG. 2つの光学基材を貼り合わせた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which bonded together two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 実施の形態6での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a method for manufacturing a cemented optical element in a sixth embodiment. 実施の形態7での貼り合わせる2つの光学基材の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of two optical substrates to be bonded together in a seventh embodiment. 2つの光学基材を貼り合わせた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which bonded together two optical base materials. 2つの光学基材がごく僅かに離反した状態の接合光学素子の断面図である。It is sectional drawing of the joining optical element of the state which two optical base materials left | separated very slightly. 第7の実施の形態での接合光学素子の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the joining optical element in 7th Embodiment.

以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
[実施の形態1]
(貼り合わせる基材形状)
図1は、貼り合わせる2つの光学基材11、12の断面図であり、図2は、2つの光学基材11、12を位置決めした状態の断面図である。また、図3は、2つの光学基材11、12を離反させた状態の断面図であり、図4は、2つの光学基材11、12を貼り合わせてできた接合光学素子10の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Embodiment 1]
(Base material shape to be bonded)
FIG. 1 is a cross-sectional view of two optical base materials 11 and 12 to be bonded, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a state in which the two optical base materials 11 and 12 are positioned. 3 is a cross-sectional view showing a state in which the two optical base materials 11 and 12 are separated from each other, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the bonded optical element 10 formed by bonding the two optical base materials 11 and 12 together. It is.

図1に示すように、光学基材11は両凹レンズ形状をなしている。この光学基材11は、貼り合わせ面13と反貼り合わせ面14とを有している。
貼り合わせ面13は、その近似曲率半径R1aがR1a=8mmの非球面形状をなしている。なお、この貼り合わせ面13は球面形状であってもよい(他の実施の形態も同様である)。
As shown in FIG. 1, the optical substrate 11 has a biconcave lens shape. The optical substrate 11 has a the mating surface 13 1 bonded with anti adhesion surface 14 1.
Bonding surface 13 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 8 mm. Incidentally, the bonding surface 13 1 is (are similar other embodiments) may be a spherical shape.

また、反貼り合わせ面14は、その近似曲率半径R1bがR1b=38mmの非球面形状をなしている。なお、この反貼り合わせ面14は球面形状であってもよい(他の実施の形態も同様である)。 Moreover, anti-bonding surface 14 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 38mm. Incidentally, the anti-bonding surface 14 1 is (are similar other embodiments) may be a spherical shape.

この光学基材11は、中心肉厚tがt=0.8mm、外径DがD=φ12.4mmのガラス成形レンズである。
本実施の形態では、光学基材11として、光学硝材S−BSL7((株)オハラ製)を用いた。この光学基材11は、光学有効面を有する貼り合わせ面13の外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面16が形成されている。ここで、光学有効面は、光学有効径D(図1参照)の面である。また、平坦面16は、輪帯状の平面である。ただし、平坦面16は、必ずしも光軸O−Oと直交する面である必要はなく、平坦面に代えて曲面であってもよい。
This optical substrate 11 is a glass molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 0.8 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ12.4 mm.
In the present embodiment, an optical glass material S-BSL7 (manufactured by OHARA INC.) Is used as the optical substrate 11. The optical substrate 11, the outer peripheral portion of the mating surface 13 1 bonded with an optically effective surface, the flat surface 16 1 orthogonal to the optical axis O-O is formed. Here, the optically effective surface is a surface having an optically effective diameter D 0 (see FIG. 1). Further, the flat surface 16 1 is a plan zonal. However, the flat surface 16 1 is not necessarily a plane perpendicular to the optical axis O-O, it may be a curved surface instead of a flat surface.

また、この平坦面16の外周部に、斜面の位置決め部17が形成されている。この位置決め部17は、光軸O−Oに対して45°の角度をなしている。この位置決め部17は、光軸側に背を向けた面となっており、光学基材12が有する位置決め部17(後述)と面接触することで、光学基材11と光学基材12の位置決めを行う。 Further, the outer periphery of the flat surface 16 1, the positioning portion 17 1 of the inclined surface is formed. The positioning unit 17 1 has an angle of 45 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 17 1, the optical axis side has a surface turned away, by positioning portion 17 2 (described later) and the surface contact optical substrate 12 has, optical substrate 11 and the optical base 12 Perform positioning.

ここで「位置決め」とは、例えば2つの光学基材の夫々の光軸方向の位置と、夫々の光軸に垂直方向の位置のどちらか少なくとも1つの位置関係が決定されることをいい、この位置決めを行う部分として位置決め部がある。この点は後述する各実施の形態においても同様である。   Here, “positioning” means, for example, that at least one of the positions of the two optical substrates in the optical axis direction and the position perpendicular to the respective optical axes is determined. There is a positioning part as a part for positioning. This also applies to each embodiment described later.

ここで、斜面の位置決め部17は、輪帯状の平面である。従って、位置決め部17は、本実施の形態では円錐形状の側面の一部の形状をなしている。ただし、斜面の位置決め部17は、位置決め部17と対向して接触すればよいため、必ずしも平面である必要はなく、また輪帯状である必要もない。例えば、輪帯状に等間隔に分割された4つの位置決め部といった形状でも良い。 Here, the positioning portion 17 1 of the inclined surface is a plane zonal. Thus, the positioning unit 17 1, in this embodiment form part of the shape of the side surface of the conical shape. However, the positioning portion 17 1 on the inclined surface only needs to be opposed to and contact with the positioning portion 17 2, and thus does not necessarily have to be a flat surface and does not have to have a ring shape. For example, it may be a shape such as four positioning portions that are divided into annular zones at equal intervals.

なお、本実施の形態では、位置決め部17の傾斜角度を光軸O−Oに対して45°としたが、これに限らない。例えば、この傾斜角度を0°よりも大きく90°よりも小さい値としてもよい。この点は、後述する各実施の形態においても同様である。 In the present embodiment, the inclination angle of the positioning portion 17 1 was 45 ° with respect to the optical axis O-O, not limited to this. For example, the inclination angle may be a value larger than 0 ° and smaller than 90 °. This also applies to each embodiment described later.

次に、光学基材12はメニスカスレンズ形状をなしている。この光学基材12は、貼り合わせ面13と反貼り合わせ面14とを有している。貼り合わせ面13は、その近似曲率半径R2aがR2a=6.4mmの非球面形状をなしている。なお、この貼り合わせ面13は球面形状であってもよい(他の実施の形態も同様である)。 Next, the optical substrate 12 has a meniscus lens shape. The optical substrate 12, and a mating surface 13 2 anti bonded surface 14 2 paste. The bonding surface 13 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 6.4 mm. Incidentally, the bonding surface 13 2 (same is true of the other embodiments) may be a spherical shape.

また、反貼り合わせ面14は、その近似曲率半径R2bがR2b=16mmの非球面形状をなしている。なお、この反貼り合わせ面14は球面形状であってもよい(他の実施の形態も同様である)。 Moreover, anti-bonding surface 14 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 16 mm. Incidentally, the anti-bonding surface 14 2 (same is true of the other embodiments) may be a spherical shape.

この光学基材12は、中心肉厚tがt=2.4mm、外径DがD=φ12.4mmのプラスチック成形レンズである。
本実施の形態では、この光学基材12の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
The optical base 12 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 2.4 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ12.4 mm.
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) is used as the material of the optical base 12.

この光学基材12は、光学有効面を有する貼り合わせ面13の外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面16が形成されている。ここで、光学有効面は、光学有効径D(図1参照)の面である。また、平坦面16は、輪帯状の平面である。ただし、平坦面16は、必ずしも光軸O−Oと直交する面である必要はなく、平坦面に代えて曲面であってもよい。この点は後述する各実施の形態においても同様である。 The optical substrate 12, the outer peripheral portion of the mating surface 13 2 bonded with the optical effective surface, the flat surface 16 2 orthogonal to the optical axis O-O is formed. Here, the optically effective surface is a surface having an optically effective diameter D 0 (see FIG. 1). Further, the flat surface 16. 2 is a plan of the ring-shaped. However, the flat surface 16 2 is not necessarily a plane perpendicular to the optical axis O-O, it may be a curved surface instead of a flat surface. This also applies to each embodiment described later.

また、この平坦面16の外周部に、斜面の位置決め部17が形成されている。この位置決め部17は、光軸O−Oに対して45°の角度をなしている。この位置決め部17は、光軸側を向いた面となっており、光学基材11が有する位置決め部17と面接触することで、光学基材11と光学基材12の位置決めを行う。 Further, the outer periphery of the flat surface 162, positioning portions 17 and second inclined surfaces are formed. The positioning unit 17 2, an angle of 45 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 17 2, has a facing the optical axis side surface, by contacting the positioning unit 17 1 and the surface having the optical substrate 11, to position the optical substrate 11 and the optical substrate 12.

なお、本実施の形態では、2つの光学基材11,12を貼り合わせる場合について説明するが、これに限らない。例えば、2つ以上の光学基材を貼り合わせてもよい。この点は、全ての実施の形態を通じて共通する。
(貼り合わせ方法)
図5は、実施の形態1における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
In addition, although this Embodiment demonstrates the case where two optical base materials 11 and 12 are bonded together, it is not restricted to this. For example, two or more optical substrates may be bonded together. This point is common to all the embodiments.
(Lamination method)
FIG. 5 is a flowchart showing an outline of the bonding method in the first embodiment. Details of the bonding method are as follows.

図2に示すように、光学基材11と光学基材12とが位置決め部17と位置決め部17とで接触した時点で、貼り合わせ面13と貼り合わせ面13との間に空間3が形成される。後述するように、この空間3の光学有効径内は、紫外線硬化型樹脂1によって充填される。そして、この紫外線硬化型樹脂1により、レンズ層としての樹脂層4(図4参照)が形成される。 As shown in FIG. 2, the space between the optical substrate 11 and the optical base 12 and the positioning portion 17 1 at the time of the contact with the positioning portion 17 2, the mating surface 13 1 and the bonding surface 13 2 Paste 3 is formed. As will be described later, the inside of the optical effective diameter of the space 3 is filled with the ultraviolet curable resin 1. And the resin layer 4 (refer FIG. 4) as a lens layer is formed with this ultraviolet curable resin 1. FIG.

貼り合わせに際しては、光学基材11と光学基材12とを、貼り合わせ面13,13が略対向した状態で保持する。このとき、光学基材11は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)に載せた状態である。 In the bonded, and an optical base 11 and the optical base 12 is held in a state in which the bonding surface 13 1, 13 2 is substantially opposed. At this time, the optical substrate 11 is in a state of being placed on a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown).

また、光学基材12は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)に吸着により固定した状態である。この場合、成形装置(図示せず)の各保持部は、各光学基材11、12を、その光軸O−Oに対して垂直の面で保持している。   The optical substrate 12 is in a state of being fixed by adsorption to a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown). In this case, each holding part of the molding apparatus (not shown) holds the optical base materials 11 and 12 on a surface perpendicular to the optical axis OO.

次いで、光学基材11と光学基材12とを近接させ、夫々の位置決め部17,17を接触させる(S1)。すると、光学基材12に対し光学基材11は光軸O−Oと垂直方向に移動する。そして、2つの光学基材11,12の位置決めがなされる。 Next, the optical base material 11 and the optical base material 12 are brought close to each other and the positioning portions 17 1 and 17 2 are brought into contact with each other (S1). Then, the optical substrate 11 moves in a direction perpendicular to the optical axis OO with respect to the optical substrate 12. Then, the two optical base materials 11 and 12 are positioned.

位置決め部17、17は、貼り合わせ面13,13の光軸O−Oに対する同軸度が高精度に加工されている。このため、光学基材11の光軸O−Oと光学基材12の光軸O−Oとは、位置決め部17、17が互いに嵌合することで正確に位置決めされる。この状態で、光学基材11を吸着により保持部(図示せず)によって固定する。 Positioning unit 17 1, 17 2, coaxiality is processed with high precision for the bonding surface 13 1, 13 2 of the optical axis O-O. For this reason, the optical axis OO of the optical base material 11 and the optical axis OO of the optical base material 12 are accurately positioned by fitting the positioning portions 17 1 and 17 2 to each other. In this state, the optical substrate 11 is fixed by a holding part (not shown) by suction.

その後、図3に示すように、光学基材11と光学基材12とを光軸O−O方向に所定距離だけ離反させる(S2)。ここで、光学基材11の光軸O−Oと光学基材12の光軸O−Oとは、既に位置決めされているため、光学基材11と光学基材12とを光軸O−O方向に離反させても、両者の光軸O−Oは一致している。   Then, as shown in FIG. 3, the optical base material 11 and the optical base material 12 are separated by a predetermined distance in the optical axis OO direction (S2). Here, since the optical axis OO of the optical base material 11 and the optical axis OO of the optical base material 12 are already positioned, the optical base material 11 and the optical base material 12 are connected to the optical axis OO. Even if they are separated in the direction, the optical axes OO of both coincide.

続いて、紫外線硬化型樹脂1を、光学基材11の貼り合わせ面13に所望量吐出する(S3)。次いで、光学基材11に対し光学基材12を光軸O−O方向に近接移動させる。そして、光学基材11及び光学基材12の位置決め部17,17が互いに接触する直前まで、紫外線硬化型樹脂1を押延する(S4)。 Subsequently, an ultraviolet curable resin 1, a desired discharge amount on the bonding surface 13 1 of the optical substrate 11 (S3). Next, the optical substrate 12 is moved close to the optical substrate 11 in the direction of the optical axis OO. Then, the ultraviolet curable resin 1 is stretched until immediately before the positioning portions 17 1 and 17 2 of the optical base material 11 and the optical base material 12 come into contact with each other (S4).

この場合、位置決め部17,17には、光軸方向で0,03mmの隙間が生じる。
図4に示すように、この状態を保持したまま、一方の光学基材11を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射する(S5)。こうして、紫外線により紫外線硬化型樹脂1を硬化させ樹脂層4にした。
In this case, a clearance of 0.03 mm is generated in the positioning portions 17 1 and 17 2 in the optical axis direction.
As shown in FIG. 4, while maintaining this state, the ultraviolet lamp 5 irradiates ultraviolet rays from below through one optical substrate 11 (S5). Thus, the ultraviolet curable resin 1 was cured with ultraviolet rays to form a resin layer 4.

この場合の紫外線は、15±2mW/cmの略均一な照度分布を有している。このような紫外線を200秒照射した。なお、樹脂層4の外周部には空気層6が形成されている。 The ultraviolet rays in this case have a substantially uniform illuminance distribution of 15 ± 2 mW / cm 2 . Such ultraviolet rays were irradiated for 200 seconds. An air layer 6 is formed on the outer periphery of the resin layer 4.

このとき、光学基材11,12と紫外線硬化型樹脂1との密着性を上げるため、光学基材11,12の貼り合わせ前に所定の処理を行うのがよい。すなわち、光学基材11の貼り合わせ面13は、シランカップリング剤を処理する。また、光学基材12の貼り合わせ面13は、紫外線オゾン処理による親水処理を行った後、シランカップリング剤処理を行う。 At this time, in order to increase the adhesion between the optical base materials 11 and 12 and the ultraviolet curable resin 1, it is preferable to perform a predetermined treatment before the optical base materials 11 and 12 are bonded together. That is, the bonding surface 13 1 of the optical substrate 11 processes the silane coupling agent. Also, the bonding surface 13 2 of the optical substrate 12, after performing a hydrophilic treatment by UV ozone treatment, performing silane coupling agent treatment.

しかし、これに限らない。例えば、光軸O−Oに垂直な方向の位置関係を固定状態に保持したまま、光学基材11,12の位置決め部17、17を離反させてもよい。また、本実施の形態では光学基材11を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射した。しかしこれに限らず、例えば光学基材12を通して上方から紫外線を照射してもよい。これらの点は、後述する各実施の形態においても同様である。
(貼り合わせ後の形状)
図4に示すように、2つの光学基材11,12を貼り合わせてできた接合光学素子10は、中心樹脂厚tがt=0.05mmであり、樹脂層4の有効径D(D=φ8.8mm)における樹脂厚tはt=0.5mmであった。
However, it is not limited to this. For example, the positioning portions 17 1 and 17 2 of the optical base materials 11 and 12 may be separated while maintaining the positional relationship in the direction perpendicular to the optical axis OO in a fixed state. In the present embodiment, ultraviolet rays are irradiated from below through the optical substrate 11 by the ultraviolet lamp 5. However, the present invention is not limited to this. For example, ultraviolet rays may be irradiated from above through the optical substrate 12. These points are the same in each embodiment described later.
(Shape after bonding)
As shown in FIG. 4, the bonded optical element 10 formed by bonding the two optical base materials 11 and 12 has a center resin thickness t 0 of t 0 = 0.05 mm, and an effective diameter D 0 of the resin layer 4. The resin thickness t 3 at (D 0 = φ8.8 mm) was t 3 = 0.5 mm.

また、この接合光学素子10の位置決め部17,17には、光軸方向に0.03mmの隙間hが生じた。
本実施の形態によれば、接合光学素子10は、位置決め部17、17に隙間hを有する。このため、温湿度環境が変化しても位置決め部17,17が接触することがない。よって、光学基材11,12に応力が発生することを防止できる。これにより、光学基材11,12の面形状変化や貼り合わせ面の剥離を防止することができる。
In addition, a gap h of 0.03 mm occurred in the optical axis direction in the positioning portions 17 1 and 17 2 of the bonded optical element 10.
According to the present embodiment, the cemented optical element 10 has the gap h in the positioning portions 17 1 and 17 2 . For this reason, the positioning portions 17 1 and 17 2 do not come into contact with each other even when the temperature and humidity environment changes. Therefore, it is possible to prevent stress from being generated in the optical base materials 11 and 12. Thereby, the surface shape change of the optical base materials 11 and 12 and peeling of the bonding surface can be prevented.

[実施の形態2]
(貼り合わせる基材形状)
図6は、貼り合わせる2つの光学基材21、22の断面図であり、また、図7は、2つの光学基材21に樹脂を吐出した状態の断面図であり、図8は、2つの光学基材21、22により樹脂を押延するとともに、位置決めを行った状態の断面図である。さらに、図9は、2つの光学基材が僅かに離反した状態の接合光学素子20の断面図である。
[Embodiment 2]
(Base material shape to be bonded)
6 is a cross-sectional view of the two optical base materials 21 and 22 to be bonded, FIG. 7 is a cross-sectional view of a state in which resin is discharged onto the two optical base materials 21, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a state in which resin is stretched by optical base materials 21 and 22 and positioning is performed. Further, FIG. 9 is a cross-sectional view of the bonded optical element 20 in a state where the two optical substrates are slightly separated.

図6に示すように、光学基材21は両凹レンズ形状をなしている。この光学基材21は、貼り合わせ面23と反貼り合わせ面24とを有している。
貼り合わせ面23は、その曲率半径R1aがR1a=12.5mmの球面形状をなしている。
As shown in FIG. 6, the optical substrate 21 has a biconcave lens shape. The optical substrate 21 has a bonding surface 23 1 and an anti-bonding surface 24 1 .
Bonding surface 23 1 is the radius of curvature R1a is no spherical shape of R1a = 12.5 mm.

また、反貼り合わせ面24は、その近似曲率半径R1bがR1b=180mmの非球面形状をなしている。
この光学基材21は、中心肉厚tがt=2mm、外径DがD=φ20mmのガラス成形レンズである。
Moreover, anti-bonding faces 24 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 180 mm.
This optical substrate 21 is a glass molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 2 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ20 mm.

本実施の形態では、光学基材21の材質として、光学硝材S−LAM60((株)オハラ製)を用いた。この光学基材21は、貼り合わせ面23の外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面26が形成されている。 In the present embodiment, an optical glass material S-LAM60 (manufactured by OHARA INC.) Is used as the material of the optical substrate 21. The optical substrate 21, the outer peripheral portion of the bonding surface 23 1, the flat surface 26 perpendicular to the optical axis O-O is formed.

この光学基材21は、貼り合わせ面23が平坦面26と接する位置に位置決め部27が形成されている。この位置決め部27は貼り合わせ面23の縁部分、つまり光軸に向いた面の部分の一部であり、光学基材22が有する位置決め部27(後述)と線接触することで、光学基材21と光学基材22の位置決めを行う。 The optical substrate 21, bonding surface 23 1 is positioned 27 1 formed at a position in contact with the flat surface 26. This positioning portion 27 1 is a part of the edge portion of the bonding surface 23 1 , that is, a portion of the surface facing the optical axis, and is in line contact with a positioning portion 27 2 (described later) of the optical base material 22. The optical base 21 and the optical base 22 are positioned.

次に、光学基材22は両凸レンズ形状をなしている。この光学基材22は、貼り合わせ面23と反貼り合わせ面24とを有している。貼り合わせ面23は、その曲率半径R2aがR2a=16mmの球面形状をなしている。 Next, the optical substrate 22 has a biconvex lens shape. The optical substrate 22 has a the mating surface 23 2 bonded with anti adhesion surface 24 2. The bonding surface 23 2, the radius of curvature R2a is no spherical shape of R2a = 16 mm.

また、反貼り合わせ面24は、その近似曲率半径R2bがR2b=34mmの非球面形状をなしている。
この光学基材22は、中心肉厚tがt=6mm、外径DがD=φ20mmのガラス成形レンズである。
Moreover, anti-bonding faces 24 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 34 mm.
This optical substrate 22 is a glass molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 6 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ20 mm.

本実施の形態では、光学基材22の材質として、光学硝材S−BSL7((株)オハラ製)を用いた。
この光学基材22は、貼り合わせ面23の面の一部が光学基材21の持つ位置決め部27と線接触することで位置決め部27として機能する。ここで、位置決め部27は貼り合わせ面23の光軸に背を向けた部分の面であり、光学基材21が有する位置決め部27と面接触することで、光学基材21と光学基材22の位置決めを行う。
In the present embodiment, an optical glass material S-BSL7 (manufactured by OHARA INC.) Is used as the material of the optical substrate 22.
The optical substrate 22, a part of the bonding surface 23 second surface serves as a positioning portion 27 2 on contact positioning section 27 1 and the line having the optical substrate 21. Here, a surface of the part with its back to the optical axis of the positioning section 27 2 bonding surface 23, by contact positioning section 27 1 and the surface having the optical substrate 21, optical substrate 21 and the optical base The material 22 is positioned.

この線接触は、輪帯状に接触しているが、必ずしも輪帯状に線接触しなくてもよく、一部が線接触するだけでもよい。
(貼り合わせ方法)
図10は、実施の形態2における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
The line contact is in a ring shape, but it is not always necessary to make a line contact in the ring shape, and a part of the line contact may be in line contact.
(Lamination method)
FIG. 10 is a flowchart showing an outline of the bonding method in the second embodiment. Details of the bonding method are as follows.

図6に示すように、光学基材21と光学基材22とを、貼り合わせ面23、23を略対向させた状態で保持する。このとき、光学基材21は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)に載せた状態である。また、光学基材22は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)を吸着により固定した状態である。こうして、成形装置(図示せず)の各保持部は、光学基材21、22を、その光軸O−Oに対して垂直の面で保持している。 As shown in FIG. 6, the optical base material 21 and the optical base material 22 are held in a state where the bonding surfaces 23 1 and 23 2 are substantially opposed to each other. At this time, the optical substrate 21 is in a state of being placed on a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown). Moreover, the optical base material 22 is a state in which a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown) is fixed by suction. Thus, each holding part of the molding apparatus (not shown) holds the optical base materials 21 and 22 on a surface perpendicular to the optical axis OO.

次いで、図7に示すように、紫外線硬化型樹脂1を、光学基材21の貼り合わせ面23に所望量吐出する(S11)。その後、図8に示すように、光学基材21と光学基材22とを近接移動させ、光学基材21に所望量吐出された紫外線硬化型樹脂1を光学基材22によって押延させると共に(S12)、夫々の位置決め部27,27を接触させる。 Then, as shown in FIG. 7, the ultraviolet curing resin 1, a desired discharge amount on the bonding surface 23 1 of the optical substrate 21 (S11). Thereafter, as shown in FIG. 8, the optical base material 21 and the optical base material 22 are moved close to each other, and the ultraviolet curable resin 1 discharged to the optical base material 21 by a desired amount is stretched by the optical base material 22 ( S12), the positioning portions 27 1 and 27 2 are brought into contact with each other.

ここで、位置決め部27,27は、線接触している。位置決め部27、27は、貼り合わせ面23,23の光軸O−Oに対する同軸度が高精度に加工されている。このため、光学基材21の光軸O−Oと光学基材22の光軸O−Oとは、位置決め部27、27が互いに嵌合することで正確に位置決めされる。 Here, the positioning portions 27 1 and 27 2 are in line contact. The positioning portions 27 1 and 27 2 are processed with high accuracy in the degree of coaxiality of the bonding surfaces 23 1 and 23 2 with respect to the optical axis OO. For this reason, the optical axis OO of the optical base material 21 and the optical axis OO of the optical base material 22 are accurately positioned by fitting the positioning portions 27 1 and 27 2 to each other.

その後、図9に示すように、光学基材21と光学基材22とを矢印方向(光軸方向)に微小量離反させる(S13)。そして、位置決め部27と位置決め部27との間に、光軸方向に0.02mmの隙間を形成する。 Thereafter, as shown in FIG. 9, the optical base material 21 and the optical base material 22 are separated by a minute amount in the direction of the arrow (optical axis direction) (S13). Between the positioning portion 27 1 and the positioning unit 27 2, to form a gap of 0.02mm along the optical axis.

この状態を保持したまま、一方の光学基材21を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射する(S14)。こうして、紫外線により紫外線硬化型樹脂1を硬化させ樹脂層4にした。この場合の紫外線は、40±2mW/cm2の略均一な照度分布を持つ。このような紫外線を120秒照射した。   While maintaining this state, the ultraviolet lamp 5 irradiates ultraviolet rays from below through one optical substrate 21 (S14). Thus, the ultraviolet curable resin 1 was cured with ultraviolet rays to form a resin layer 4. The ultraviolet rays in this case have a substantially uniform illuminance distribution of 40 ± 2 mW / cm 2. Such ultraviolet rays were irradiated for 120 seconds.

この場合、光学基材21,22と紫外線硬化型樹脂1との密着性を上げるため、貼り合わせ前に、光学基材21と光学基材22の貼り合わせ面をシランカップリング剤で処理する。
(貼り合わせ後の形状)
図9に示すように、2つの光学基材21,22を貼り合わせてできた接合光学素子20は、中心樹脂厚tがt=1mmであり、位置決め部27、27には、光軸O−O方向に0.02mmの隙間が生じた。
In this case, in order to improve the adhesion between the optical substrates 21 and 22 and the ultraviolet curable resin 1, the bonding surfaces of the optical substrate 21 and the optical substrate 22 are treated with a silane coupling agent before bonding.
(Shape after bonding)
As shown in FIG. 9, the bonded optical element 20 formed by bonding the two optical base materials 21 and 22 has a center resin thickness t 0 of t 0 = 1 mm, and the positioning portions 27 1 and 27 2 include A gap of 0.02 mm was generated in the optical axis OO direction.

本実施の形態によれば、位置決め部27、27に隙間を有するため、温湿度環境が変化しても位置決め部27,27が接触することがない。このため、光学基材21,22に応力が発生することを防止できる。 According to the present embodiment, since the positioning portions 27 1 and 27 2 have gaps, the positioning portions 27 1 and 27 2 do not come into contact with each other even if the temperature and humidity environment changes. For this reason, it can prevent that a stress generate | occur | produces in the optical base materials 21 and 22. FIG.

これにより、光学基材21,22の面形状変化や貼り合わせ面の剥離を防止することができる。また、紫外線硬化型樹脂1を押延しつつ位置決めを行うため、成形のサイクルタイムを短縮することができる。   Thereby, the surface shape change of the optical base materials 21 and 22 and peeling of the bonding surface can be prevented. Further, since the positioning is performed while the ultraviolet curable resin 1 is stretched, the molding cycle time can be shortened.

[実施の形態3]
(貼り合わせる基材形状)
図11は、貼り合わせる2つの光学基材31、32の断面図であり、図12は、2つの光学基材31に樹脂を吐出した状態の断面図であり、図13は、2つの光学基材31、32を貼り合わせた状態の断面図である。さらに、図14は、貼り合わせた光学基材31、32を放置してできた接合光学素子30の断面図である。
[Embodiment 3]
(Base material shape to be bonded)
11 is a cross-sectional view of the two optical base materials 31 and 32 to be bonded together, FIG. 12 is a cross-sectional view of a state in which resin is discharged to the two optical base materials 31, and FIG. It is sectional drawing of the state which bonded the materials 31 and 32. FIG. Further, FIG. 14 is a cross-sectional view of the bonded optical element 30 that is formed by leaving the bonded optical base materials 31 and 32 to stand.

図11に示すように、光学基材31は、両凹レンズ形状をなしている。この光学基材31は、貼り合わせ面33と反貼り合わせ面34とを有している。貼り合わせ面33は、その近似曲率半径R1aがR1a=8mmの非球面形状をなしている。 As shown in FIG. 11, the optical substrate 31 has a biconcave lens shape. The optical substrate 31 has a the mating surface 33 1 bonded with anti adhesion surface 34 1. Bonding surface 33 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 8 mm.

また、反貼り合わせ面34は、その近似曲率半径R1bがR1b=38mmの非球面形状をなしている。
この光学基材31は、中心肉厚tがt=0.8mm、外径DがD=φ12.4mmのガラス成形レンズである。
Moreover, anti-bonding surface 34 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 38mm.
The optical substrate 31 is a glass molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 0.8 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ12.4 mm.

本実施の形態では、光学基材31の材質として、光学硝材S−BSL7((株)オハラ製)を用いた。この光学基材31は、貼り合わせ面33の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面36を有している。さらに、この平坦面36の外周部に、斜面の位置決め部37が形成されている。 In the present embodiment, an optical glass material S-BSL7 (manufactured by OHARA INC.) Is used as the material of the optical substrate 31. The optical substrate 31, the outer peripheral portion of the bonding surface 33 1 of the optical effective diameter D 0, and has a flat surface 36 1 orthogonal to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 36 1, the positioning portion 37 1 of the inclined surface is formed.

この位置決め部37は、光軸O−Oに対して45°の角度を有している。この位置決め部37は、光軸側に背を向けた面となっており、光学基材32が有する位置決め部37(後述)と面接触することで、光学基材31と光学基材32の位置決めを行う。 The positioning unit 37 1 has an angle of 45 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 37 1, the optical axis side has a surface turned away, by contact positioning section 37 2 (below) the surface having the optical substrate 32, optical substrate 31 and the optical base 32 Perform positioning.

次に、光学基材32は、メニスカスレンズ形状をなしている。この光学基材32は、貼り合わせ面33と反貼り合わせ面34とを有している。貼り合わせ面33は、その近似曲率半径R2aがR2a=6.4mmの非球面形状をなしている。 Next, the optical substrate 32 has a meniscus lens shape. The optical substrate 32 has a the mating surface 33 2 bonded with anti adhesion surface 34 2. The bonding surface 33 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 6.4 mm.

また、反貼り合わせ面34は、その近似曲率半径R2bがR2b=16mmの非球面形状をなしている。
この光学基材32は、中心肉厚tがt=2.4mm、外径DがD=φ12.4mmのプラスチック成形レンズである。
Moreover, anti-bonding surface 34 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 16 mm.
The optical substrate 32 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 2.4 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ12.4 mm.

本実施の形態では、光学基材32の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
この光学基材32は、貼り合わせ面33の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面36を有している。さらに、この平坦面36の外周部に、斜面の位置決め部37が形成されている。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) is used as the material of the optical substrate 32.
The optical substrate 32, the outer peripheral portion of the bonding surface 33 2 of the optical effective diameter D 0, and has a flat surface 36 2 orthogonal to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 36 2, the positioning portion 37 2 of the inclined surface is formed.

この位置決め部37は、光軸O−Oに対して45°の角度を有している。この位置決め部37は、光軸側を向いた面となっており、光学基材31が有する位置決め部37と面接触することで、光学基材31と光学基材32の位置決めを行う。
(貼り合わせ方法)
図15は、実施の形態3における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
The positioning portion 37 2 has an angle of 45 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 37 2, has a facing the optical axis side surface, by contacting the positioning unit 37 1 and the surface having the optical substrate 31, to position the optical substrate 31 and the optical base 32.
(Lamination method)
FIG. 15 is a flowchart showing an outline of the bonding method according to the third embodiment. Details of the bonding method are as follows.

本実施の形態では、光学基材31と光学基材32とが位置決め部37と位置決め部37とで接触した時点で、貼り合わせ面33と貼り合わせ面33との間に空間3(図13参照)が形成される。 In this embodiment, the space 3 between the optical substrate 31 and the optical base 32 and the positioning portion 37 1 at the time of the contact with the positioning portion 37 2, the mating surface 33 1 and the bonding surface 33 2 Paste (See FIG. 13) is formed.

後述するように、この空間3のうち、光学有効径内は熱硬化型樹脂2によって充填される(図13参照)。そして、この熱硬化型樹脂2により、レンズ層としての樹脂層4が形成される(図14参照)。   As will be described later, the inside of the optical effective diameter of the space 3 is filled with the thermosetting resin 2 (see FIG. 13). And the resin layer 4 as a lens layer is formed with this thermosetting resin 2 (refer FIG. 14).

まず、一方の光学基材31は常温に放置する。また、他方の光学基材32は、温度50℃、相対湿度20%以下の恒温恒湿槽に24時間放置して乾燥させる(S21)。こうして、光学基材32の吸水率を下げる。   First, one optical substrate 31 is left at room temperature. The other optical substrate 32 is left to dry in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 20% or less for 24 hours (S21). Thus, the water absorption rate of the optical substrate 32 is lowered.

ここで、吸水率の定義は、以下のようにする。
吸水率(%)=(吸水後の重量−乾燥時の重量)/乾燥時の重量×100
すなわち、吸水していない物質の重量に対する、吸水したときの吸水量の割合をいう。
Here, the definition of the water absorption rate is as follows.
Water absorption rate (%) = (weight after water absorption−weight when dried) / weight when dried × 100
That is, the ratio of the amount of water absorption when water is absorbed with respect to the weight of a substance that has not absorbed water.

なお、吸水可能な限界量は物質で異なり、限界量を吸水したときの吸水率を飽和吸水率という。
その後、熱硬化型樹脂2を、光学基材31の貼り合わせ面33に所定量吐出する(S22)。
In addition, the limit amount that can be absorbed varies depending on the substance, and the water absorption rate when the limit amount is absorbed is referred to as a saturated water absorption rate.
Thereafter, the thermosetting resin 2, a predetermined amount ejected bonding surface 33 1 of the optical substrate 31 (S22).

次いで、光学基材32を恒温恒湿槽から取り出す。そして、取り出した光学基材32が雰囲気温度とほぼ一致した時点で、図12のように、光学基材31と光学基材32とを、貼り合わせ面33,33が略対向した状態で保持する。このとき、光学基材31は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)に載せた状態である。 Next, the optical substrate 32 is taken out from the constant temperature and humidity chamber. Then, when the taken out optical base material 32 substantially matches the ambient temperature, as shown in FIG. 12, the optical base material 31 and the optical base material 32 are in a state where the bonding surfaces 33 1 and 33 2 are substantially opposed to each other. Hold. At this time, the optical substrate 31 is in a state of being placed on a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown).

また、光学基材32は、成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)を吸着により固定した状態である。こうして、成形装置(図示せず)の各保持部は、光学基材31、32を、その光軸O−Oに対して垂直の面で保持している。   Moreover, the optical base material 32 is a state in which a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown) is fixed by suction. Thus, each holding part of the molding apparatus (not shown) holds the optical base materials 31 and 32 on a surface perpendicular to the optical axis OO.

次いで、光学基材31と光学基材32とを近接させ、光学基材31、32の光学有効径Dよりも外側にある位置決め部37、37が、互いに嵌合するまで熱硬化型樹脂2を押延する(S23)。すると、2つの光学基材31,32の位置決めがなされる。 Next, the optical base material 31 and the optical base material 32 are brought close to each other, and the thermosetting type is performed until the positioning portions 37 1 and 37 2 outside the optical effective diameter D 0 of the optical base materials 31 and 32 are fitted to each other. Resin 2 is stretched (S23). Then, the two optical base materials 31 and 32 are positioned.

位置決め部37、37は、貼り合わせ面33,33の光軸O−Oに対する同軸度が高精度に加工されている。このため、光学基材31の光軸O−Oと光学基材32の光軸O−Oとは、位置決め部37、37が互いに嵌合することで正確に位置決めされる。 Positioning unit 37 1, 37 2, coaxiality is processed with high accuracy bonding surface 33 1, 33 2 with respect to the optical axis O-O. Therefore, the optical axis O-O of the optical axis O-O and the optical substrate 32 of the optical substrate 31, is accurately positioned by the positioning unit 37 1, 37 2 are fitted to each other.

この位置決め部37、37は、嵌合することで樹脂層4は所望の中心肉厚となる。また、貼り合わせ面33、33の光軸O−Oに対する同軸度は高精度に加工されている。このため、光学基材31の光軸O−Oと光学基材32の光軸O−Oは、光学基材31、32の位置決め部37、37が互いに嵌合することで、高精度に位置決めされる。 By fitting the positioning portions 37 1 and 37 2 , the resin layer 4 has a desired center thickness. Further, the coaxial degree of the bonding surface 33 1, 33 2 with respect to the optical axis O-O is processed with high precision. For this reason, the optical axis OO of the optical base material 31 and the optical axis OO of the optical base material 32 are highly accurate because the positioning portions 37 1 and 37 2 of the optical base materials 31 and 32 are fitted to each other. Is positioned.

この状態を保持したまま、貼り合わせた光学基材31、32を加熱炉に入れる。こうして、50℃で6時間加熱し、熱硬化型樹脂2を硬化させ(S24)、樹脂層4にした。なお、樹脂層4の外周部には空気層6が形成されている。   While maintaining this state, the bonded optical base materials 31 and 32 are put in a heating furnace. In this way, the thermosetting resin 2 was cured by heating at 50 ° C. for 6 hours (S24), and the resin layer 4 was obtained. An air layer 6 is formed on the outer periphery of the resin layer 4.

このとき、光学基材31,32と熱硬化型樹脂2との密着性を上げるため、貼り合わせ前に、光学基材31の貼り合わせ面はシランカップリング剤を処理した。また、光学基材32の貼り合わせ面は、紫外線オゾン処理による親水処理を行った後、シランカップリング剤を処理した。
(貼り合わせ後の形状)
2つの光学基材31,32を貼り合わせてできたものを一定時間放置する。この場合、光学基材32が雰囲気の相対湿度に対応した吸水率になると、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に大きくなる。このため、図14のように、位置決め部(37、37)に隙間hのある接合光学素子30となる。
At this time, in order to improve the adhesion between the optical base materials 31 and 32 and the thermosetting resin 2, the bonding surface of the optical base material 31 was treated with a silane coupling agent before the bonding. Moreover, the bonding surface of the optical base material 32 was treated with a silane coupling agent after being subjected to hydrophilic treatment by ultraviolet ozone treatment.
(Shape after bonding)
A product obtained by bonding the two optical substrates 31 and 32 is left for a certain period of time. In this case, when the optical base material 32 has a water absorption rate corresponding to the relative humidity of the atmosphere, the optical base material 32 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding. For this reason, as shown in FIG. 14, the bonded optical element 30 has a gap h in the positioning portions (37 1 , 37 2 ).

接合光学素子30は、中心樹脂厚tがt=0.05mmであり、樹脂層4の光学有効径D(φ8.8mm)における樹脂厚tは、t=0.5mmであった。
本実施の形態によれば、光軸側を向いた面で嵌合する光学基材32の吸水率を、通常使用環境下の相対湿度における吸水率よりも小さくすることで、貼り合わせ後、通常使用環境の相対湿度下で、位置決め精度が変化することなく、嵌合部に隙間hを形成することができる。
The junction optical element 30 has a center resin thickness t 0 of t 0 = 0.05 mm, and a resin thickness t 3 at the optical effective diameter D 0 (φ8.8 mm) of the resin layer 4 is t 3 = 0.5 mm. It was.
According to the present embodiment, the water absorption rate of the optical base material 32 fitted on the surface facing the optical axis side is made smaller than the water absorption rate at the relative humidity under the normal use environment. The gap h can be formed in the fitting portion without changing the positioning accuracy under the relative humidity of the usage environment.

従って、温湿度環境が変化しても位置決め部37、37が接触することはなく、位置決め部37、37に応力が生じない。こうして、接合光学素子30の面形状変化や貼り合わせ面の剥離を防止することができる。 Therefore, even if the temperature and humidity environment changes, the positioning portions 37 1 and 37 2 do not come into contact with each other, and no stress is generated in the positioning portions 37 1 and 37 2 . In this way, it is possible to prevent the surface shape change of the bonding optical element 30 and the peeling of the bonded surface.

また、貼り合わせ時に位置決め部37、37に機械的に隙間を作って保持する必要がないため、接合光学素子30の厚さ方向(光軸方向)の精度は、成形装置の精度の影響を受けることがない。 Moreover, since there is no need to hold making mechanically gap positioning unit 37 1, 37 2 at the time of bonding, the precision in the thickness direction of the bonding optical element 30 (optical axis direction), accuracy influence of the molding device Not receive.

さらに、熱硬化型樹脂2の硬化前に、貼り合わせた光学基材31,32を装置から外すことが可能であるため、生産性が高いという効果を有する。   Furthermore, since the bonded optical base materials 31 and 32 can be removed from the apparatus before the thermosetting resin 2 is cured, the productivity is high.

[実施の形態4]
(貼り合わせる基材形状)
図16は、貼り合わせる2つの光学基材41、42の断面図であり、図17は、光学基材41、42を貼り合わせてできた接合光学素子40を放置した状態の断面図である。
[Embodiment 4]
(Base material shape to be bonded)
FIG. 16 is a cross-sectional view of the two optical base materials 41 and 42 to be bonded together, and FIG. 17 is a cross-sectional view of a state where the bonded optical element 40 formed by bonding the optical base materials 41 and 42 is left untreated.

図16に示すように、光学基材41は、両凹レンズ形状をなしている。この光学基材41は、貼り合わせ面43と反貼り合わせ面44とを有している。
貼り合わせ面43は、その近似曲率半径R1aがR1a=8mmの非球面形状をなしている。また、反貼り合わせ面44は、その近似曲率半径R1bがR1b=38mmの非球面形状をなしている。
As shown in FIG. 16, the optical substrate 41 has a biconcave lens shape. The optical substrate 41 has a the mating surface 43 1 bonded with anti adhesion surface 44 1.
Bonding surface 43 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 8 mm. Moreover, anti-bonding surface 44 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 38mm.

この光学基材41は、中心肉厚tがt=0.8mm、外径DがD=φ12.4mmのガラス成形レンズである。この光学基材41は、第3の実施の形態の光学基材31と同一である。 This optical substrate 41 is a glass molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 0.8 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ12.4 mm. This optical substrate 41 is the same as the optical substrate 31 of the third embodiment.

本実施の形態では、光学基材41として、光学硝材S−BSL7((株)オハラ製)を用いた。この光学基材41は、貼り合わせ面43の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面46を有している。また、この平坦面46の外周部に、斜面の位置決め部47を有している。 In the present embodiment, an optical glass material S-BSL7 (manufactured by OHARA INC.) Is used as the optical base material 41. The optical substrate 41, the outer peripheral portion of the bonding surface 43 1 of the optical effective diameter D 0, and has a flat surface 46 1 orthogonal to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 46 1, and a positioning portion 47 1 of the inclined surface.

この位置決め部47は、光軸O−Oに対して45°の角度を有している。この位置決め部47は、光軸側に背を向けた面となっており、光学基材42が有する位置決め部47(後述)と面接触することで、光学基材41と光学基材42の位置決めを行う。 The positioning unit 47 1 has an angle of 45 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 47 1 has a surface with its back toward the optical axis, by positioning unit 47 2 (below) and surface contact with the optical substrate 42, optical substrate 41 and the optical base 42 Perform positioning.

次に、光学基材42は、メニスカスレンズ形状をなしている。この光学基材42は、貼り合わせ面43と反貼り合わせ面44とを有している。貼り合わせ面43は、その近似曲率半径R2aがR2a=6.4mmの非球面形状をなしている。 Next, the optical substrate 42 has a meniscus lens shape. The optical substrate 42 has a the mating surface 43 2 bonded with anti adhesion surface 44 2. The bonding surface 43 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 6.4 mm.

また、反貼り合わせ面44は、その近似曲率半径R2bがR2b=16mmの非球面形状をなしている。
この光学基材42は、中心肉厚tがt=2.4mm、外径DがD=φ12.4mmのプラスチック成形レンズである。この光学基材42は、第3の実施の形態の光学基材32と同一である。
Moreover, anti-bonding surface 44 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 16 mm.
This optical substrate 42 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 2.4 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ12.4 mm. This optical base material 42 is the same as the optical base material 32 of the third embodiment.

すなわち、光学基材42の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
この光学基材42は、貼り合わせ面43の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面46を有している。また、この平坦面46の外周部に、斜面の位置決め部47が形成されている。
That is, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was used as the material of the optical substrate 42.
The optical substrate 42, the outer peripheral portion of the bonding surface 43 2 of the optical effective diameter D 0, and has a flat surface 46 2 orthogonal to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 46 2, the positioning portion 47 2 of the inclined surface is formed.

この位置決め部47は、光軸に対して45°の角度を有している。この位置決め部47は、光軸側を向いた面となっており、光学基材41が有する位置決め部47と面接触することで、光学基材41と光学基材42の位置決めを行う。
(貼り合わせ方法)
図18は、実施の形態4における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
The positioning portion 47 2 has an angle of 45 ° with respect to the optical axis. The positioning unit 47 2, has a facing the optical axis side surface, by contacting the positioning unit 47 1 and the surface having the optical substrate 41, to position the optical substrate 41 and the optical base 42.
(Lamination method)
FIG. 18 is a flowchart showing an outline of the bonding method according to the fourth embodiment. Details of the bonding method are as follows.

本実施の形態では、実施の形態3で説明したものと同様に、光学基材41と光学基材42とが位置決め部47と位置決め部47とで接触した時点で、貼り合わせ面43と貼り合わせ面43との間に空間3(図17参照)が形成される。後述するように、この空間3の光学有効径内は熱硬化型樹脂2(図17参照)によって充填される。そして、この熱硬化型樹脂2により、レンズ層としての樹脂層4(図17参照)が形成される。 In this embodiment, similar to that described in the third embodiment, when the optical base 41 and the optical substrate 42 is in contact with the positioning portion 47 1 and the positioning unit 47 2, the bonding surface 43 1 space 3 (see FIG. 17) is formed between the bonding faces 43 2. As will be described later, the inside of the optical effective diameter of the space 3 is filled with the thermosetting resin 2 (see FIG. 17). The thermosetting resin 2 forms a resin layer 4 (see FIG. 17) as a lens layer.

まず、光学基材42を、温度50℃、相対湿度20%以下の恒温恒湿槽に24時間放置する(S31)。こうして、光学基材42を乾燥させてその吸水率を下げる。光学基材42は乾燥させた後、これを恒温恒湿槽から取り出す。   First, the optical substrate 42 is left in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 20% or less for 24 hours (S31). Thus, the optical substrate 42 is dried to reduce its water absorption rate. After the optical substrate 42 is dried, it is taken out from the constant temperature and humidity chamber.

また、光学基材41を保持する成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)にヒーターを取り付ける。そして、成形装置(図示せず)の保持部を加熱することで、光学基材41の温度を60℃に加熱する(S32)。このとき、光学基材41を加熱炉で予備加熱することにより、温度上昇の時間を短縮することができる。   Further, a heater is attached to a holding portion (not shown) of a molding apparatus (not shown) that holds the optical base material 41. And the temperature of the optical base material 41 is heated to 60 degreeC by heating the holding | maintenance part of a shaping | molding apparatus (not shown) (S32). At this time, the temperature rise time can be shortened by preheating the optical substrate 41 in a heating furnace.

その後、熱硬化型樹脂2を、光学基材41の貼り合わせ面43に所定量吐出する(S33)。先ほど取り出した光学基材42が雰囲気温度とほぼ一致した時点で光学基材41に近接させる。 Thereafter, the thermosetting resin 2, a predetermined amount ejected bonding surface 43 1 of the optical substrate 41 (S33). The optical base material 42 taken out earlier is brought close to the optical base material 41 when it substantially matches the ambient temperature.

なお、貼り合わせ工程(S34、S35)については、前述した実施の形態3と同様であるので、その説明を省略する。
(貼り合わせ後の形状)
光学基材41の温度を60℃に加熱して、光学基材41と光学基材42とを貼り合わせた状態で一定時間放置する。やがて、光学基材41が常温(雰囲気温度)にもどり、光学基材42が雰囲気の相対湿度に対応した吸水率になる。
In addition, since it is the same as that of Embodiment 3 mentioned above about the bonding process (S34, S35), the description is abbreviate | omitted.
(Shape after bonding)
The temperature of the optical substrate 41 is heated to 60 ° C., and the optical substrate 41 and the optical substrate 42 are left to stand for a certain period of time. Eventually, the optical substrate 41 returns to normal temperature (atmosphere temperature), and the optical substrate 42 has a water absorption rate corresponding to the relative humidity of the atmosphere.

すると、光学基材41の温度は、60℃から常温に変化したため、光学基材41は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に小さくなる。
一方、光学基材42の吸水率は、20%以下から雰囲気の相対湿度に変化したため、光学基材42は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に大きくなる。
Then, since the temperature of the optical base material 41 has changed from 60 ° C. to room temperature, the optical base material 41 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding.
On the other hand, since the water absorption rate of the optical base material 42 has changed from 20% or less to the relative humidity of the atmosphere, the optical base material 42 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding.

このため、図17のような位置決め部47と位置決め部47の間に隙間hを有する接合光学素子40が得られる。
本実施の形態によれば、大きな環境変化が生じたとしても位置決め部47,47が接触することはない。このため、光学基材41、42に応力が発生することはない。こうして、本実施の形態によれば、接合光学素子40の面形状変化や貼り合わせ面の剥離を防止することができる。
Therefore, bonding the optical element 40 having a gap h between the positioning portion 47 1 and the positioning unit 47 2 as shown in FIG. 17 is obtained.
According to the present embodiment, even if a large environmental change occurs, the positioning portions 47 1 and 47 2 do not come into contact with each other. For this reason, no stress is generated in the optical base materials 41 and 42. Thus, according to the present embodiment, it is possible to prevent the surface shape change of the bonding optical element 40 and the peeling of the bonded surface.

[実施の形態5]
(貼り合わせる基材形状)
図19は、貼り合わせる2つの光学基材51、52の断面図であり、図20は、光学基材51に樹脂を吐出した状態の断面図である。また、図21は、2つの光学基材51、52を貼り合わせた状態の断面図であり、図22は、貼り合わせてできた接合光学素子50が放置された状態の断面図である。
[Embodiment 5]
(Base material shape to be bonded)
FIG. 19 is a cross-sectional view of the two optical base materials 51 and 52 to be bonded together, and FIG. 20 is a cross-sectional view of a state in which a resin is discharged onto the optical base material 51. FIG. 21 is a cross-sectional view of a state in which two optical substrates 51 and 52 are bonded together, and FIG. 22 is a cross-sectional view of a state in which the bonded optical element 50 formed by bonding is left unattended.

図19に示されるように、光学基材51は、凹メニスカスレンズ形状をなしている。
この光学基材の51は、貼り合わせ面53と反貼り合わせ面54とを有している。貼り合わせ面53は、その近似曲率半径R1aがR1a=12mmの非球面形状をなしている。
As shown in FIG. 19, the optical base 51 has a concave meniscus lens shape.
The 51 of the optical substrate includes a with mating surface 53 1 bonded with anti adhesion surface 54 1. Bonding surface 53 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 12 mm.

また、反貼り合わせ面54は、その近似曲率半径R1bがR1b=20mmの非球面形状をなしている。
この光学基材51は、中心肉厚tがt=1mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。
Moreover, anti-bonding surface 54 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 20 mm.
This optical substrate 51 is a plastic molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 1 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ20 mm.

この光学基材51は、貼り合わせ面53の外周部に、光軸O−Oと直交する面である平坦面56を有している。また、この平坦面56の外周部に、斜面の位置決め部57が形成されている。この位置決め部57は、光軸に対して30°の角度を有している。 The optical substrate 51, the outer peripheral portion of the bonding surface 53 1 has a flat surface 56 1 is a plane perpendicular to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 56 1, the positioning portion 57 1 of the inclined surface is formed. The positioning unit 57 1 has an angle of 30 ° with respect to the optical axis.

この位置決め部57は、光軸側を向いた面となっており、光学基材52が有する位置決め部57(後述)と面接触することで、光学基材51と光学基材52の位置決めを行う。さらに、この位置決め部57の外周部には、光軸O−Oと直交する平坦面58が形成されている。 The positioning unit 57 1 has a surface facing the optical axis side, by surface contact with the positioning portion 57 2 having the optical substrate 52 (described later), the positioning of the optical substrate 51 and the optical base 52 I do. Moreover, this outer peripheral portion of the positioning unit 57 1, the flat surface 58 1 orthogonal to the optical axis O-O is formed.

本実施の形態では、光学基材51の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
光学基材52は両凸レンズ形状をなしている。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) is used as the material of the optical substrate 51.
The optical substrate 52 has a biconvex lens shape.

この光学基材52は、貼り合わせ面53と反貼り合わせ面54とを有している。貼り合わせ面53は、その近似曲率半径R2aがR2a=13mmの非球面形状をなしている。 The optical substrate 52 has a the mating surface 53 2 bonded with anti adhesion surface 54 2. The bonding surface 53 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 13 mm.

また、反貼り合わせ面54は、その近似曲率半径R2bがR2b=80mmの非球面形状をなしている。この光学基材52は、中心肉厚tがt=5mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。 Moreover, anti-adhesion surface 542 is the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 80 mm. This optical substrate 52 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 5 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ20 mm.

この光学基材52は、貼り合わせ面53の外周部に光軸に平行な面である段差部55を有している。また、この段差部55を介して光軸O−Oと直交する平坦面56を有している。さらに、この平坦面56の外周部に、斜面の位置決め部57が形成されている。 The optical substrate 52 has a step portion 55 is a plane parallel to the optical axis to the outer peripheral portion of the bonding surface 53 2. Also it has a flat surface 56 2 orthogonal to the optical axis O-O through the stepped portion 55. Further, the outer periphery of the flat surface 56 2, the positioning portion 57 2 of the inclined surface is formed.

この位置決め部57は、光軸O−Oに対して30°の角度を有している。この位置決め部57は、光軸側に背を向けた面となっており、光学基材51が有する位置決め部57と面接触することで、光学基材51と光学基材52の位置決めを行う。さらに、この位置決め部57の外周部には、光軸O−Oと直交する平坦面58が形成されている。 The positioning portion 57 2 has an angle of 30 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 57 2, has a surface with its back toward the optical axis, by contact positioning section 57 1 and the surface having the optical substrate 51, the positioning of the optical substrate 51 and the optical base 52 Do. Further, on the outer peripheral portion of the positioning portion 57 2, a flat surface 58 perpendicular to the optical axis O-O 2 is formed.

本実施の形態では、光学基材52の材質として、PMMA(アクリル)樹脂(デルペット80N:旭化成ケミカルズ(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
(貼り合わせ方法)
図23は、実施の形態5における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PMMA (acrylic) resin (Delpet 80N: manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) is used as the material of the optical substrate 52.
(Lamination method)
FIG. 23 is a flowchart showing an outline of the bonding method in the fifth embodiment. Details of the bonding method are as follows.

光学基材52を、温度50℃、相対湿度90%以上の恒温恒湿槽に12時間放置し、吸水した(S41)。こうして、光学基材52の吸水率を上げた。
一方、図20に示すように、光学基材51に対しては、その貼り合わせ面53に、紫外線硬化型樹脂1を所望量吐出する(S42)。
The optical substrate 52 was left in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 90% or more for 12 hours to absorb water (S41). Thus, the water absorption rate of the optical substrate 52 was increased.
On the other hand, as shown in FIG. 20, for the optical substrate 51, the mating surface 53 1 thereof attached to the desired discharge amount of the ultraviolet curing resin 1 (S42).

その後、光学基材52を恒温恒湿槽から取り出す。取り出した光学基材52が雰囲気温度とほぼ一致した時点で光学基材51に近接させる。
さらに、図21に示すように、光学基材51、52の光学有効径Dよりも外側にある位置決め部57,57が、互いに嵌合するまで紫外線硬化型樹脂1を押延する(S43)。
Thereafter, the optical substrate 52 is taken out from the constant temperature and humidity chamber. When the taken out optical substrate 52 substantially matches the ambient temperature, the optical substrate 52 is brought close to the optical substrate 51.
Furthermore, as shown in FIG. 21, the positioning unit 57 1 outside than the optical effective diameter D 0 of the optical substrate 51, 52, 57 2, to押延the ultraviolet curing resin 1 to be fitted to each other ( S43).

この位置決め部57,57は、嵌合することで樹脂層4が所望の樹脂厚となる。また、貼り合わせ面53、53の光軸O−Oに対する同軸度は高精度に加工されている。このため、光学基材51の光軸O−Oと光学基材52の光軸は、光学基材51、52の位置決め部57,57が互いに嵌合することで位置決めされる。 When the positioning portions 57 1 and 57 2 are fitted, the resin layer 4 has a desired resin thickness. Further, the coaxiality of the bonding surfaces 53 1 and 53 2 with respect to the optical axis OO is processed with high accuracy. For this reason, the optical axis OO of the optical base material 51 and the optical axis of the optical base material 52 are positioned by fitting the positioning portions 57 1 and 57 2 of the optical base materials 51 and 52 to each other.

この場合、樹脂層4の外周部には空気層6が形成されている。
この状態を保持したまま、一方の光学基材51を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射し(S44)、紫外線硬化型樹脂1を硬化させ樹脂層4にした。この場合の紫外線は、30±2mW/cmの略均一な照度分布を持つ。このような紫外線を150秒照射した。
In this case, an air layer 6 is formed on the outer peripheral portion of the resin layer 4.
While maintaining this state, ultraviolet rays were irradiated from below through one optical substrate 51 by the ultraviolet lamp 5 (S44), and the ultraviolet curable resin 1 was cured to form a resin layer 4. The ultraviolet rays in this case have a substantially uniform illuminance distribution of 30 ± 2 mW / cm 2 . Such ultraviolet rays were irradiated for 150 seconds.

また、光学基材51,52と紫外線硬化型樹脂1との密着性を上げるため、貼り合わせ前に、光学基材51,52の貼り合わせ面53、53はプラズマ放電による親水処理を行った後、シランカップリング剤を処理した。
(貼り合わせ後の形状)
接着してできた接合光学素子を一定時間放置すると、光学基材52が雰囲気の相対湿度に対応した吸水率になる。すると、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に小さくなる。
Moreover, in order to improve the adhesiveness of the optical base materials 51 and 52 and the ultraviolet curable resin 1, before bonding, the bonding surfaces 53 1 and 53 2 of the optical base materials 51 and 52 are subjected to a hydrophilic treatment by plasma discharge. After that, the silane coupling agent was treated.
(Shape after bonding)
If the bonded optical element formed by bonding is left for a certain period of time, the optical substrate 52 has a water absorption rate corresponding to the relative humidity of the atmosphere. Then, it becomes substantially similar to the shape immediately after bonding.

このため、図22に示すように、位置決め部57,57に隙間hがある接合光学素子50が得られる。また、2つの光学基材51,52を貼り合わせてできた接合光学素子50は、中心樹脂厚tがt=0.5mmであり、樹脂層の光学有効径D(φ15mm)における樹脂厚tはt=0.25mmであった。 Therefore, as shown in FIG. 22, bonding the optical element 50 there is a gap h is obtained in the positioning unit 57 1, 57 2. Further, the bonded optical element 50 formed by bonding the two optical substrates 51 and 52 has a center resin thickness t 0 of t 0 = 0.5 mm, and a resin at the optical effective diameter D 0 (φ15 mm) of the resin layer. Thickness t 3 was t 3 = 0.25 mm.

本実施の形態によれば、熱線膨張率の近い2つのプラスチック基材(51,52)同士を貼り合わせて、隙間hのある接合光学素子50を得ることができた。すなわち、熱線膨張率の近い2つのプラスチック基材(51,52)同士を貼り合わせることができた。   According to the present embodiment, it was possible to obtain a bonded optical element 50 having a gap h by bonding two plastic base materials (51, 52) having close thermal expansion coefficients. That is, two plastic substrates (51, 52) having a close thermal expansion coefficient could be bonded together.

しかも、大きな環境変化が生じたとしても位置決め部57,57が接触することはない。このため、光学基材51、52に応力が発生することはない。 Moreover, large even positioning portion 57 as the environmental change occurs 1, 57 2 does not contact. For this reason, no stress is generated in the optical base materials 51 and 52.

[実施の形態6]
(貼り合わせる基材形状)
図24は、貼り合わせる2つの光学基材61、62の断面図であり、図25は、2つの光学基材61、62を貼り合わせた状態の断面図である。また、図26は、貼り合わせた2つの光学基材がごくわずかに離反した状態の接合光学素子60の断面図である。
[Embodiment 6]
(Base material shape to be bonded)
24 is a cross-sectional view of the two optical substrates 61 and 62 to be bonded together, and FIG. 25 is a cross-sectional view of the state in which the two optical substrates 61 and 62 are bonded together. FIG. 26 is a cross-sectional view of the bonded optical element 60 in a state where the two optical substrates bonded together are slightly separated from each other.

図24に示されるように、光学基材61は、凹メニスカスレンズ形状をなしている。
この光学基材の61は、貼り合わせ面63と反貼り合わせ面64とを有している。貼り合わせ面63は、その近似曲率半径R1aがR1a=12mmの非球面形状をなしている。
As shown in FIG. 24, the optical substrate 61 has a concave meniscus lens shape.
The 61 of the optical substrate includes a with mating surface 63 1 bonded with anti adhesion surface 64 1. Bonding surface 63 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 12 mm.

また、反貼り合わせ面64は、その近似曲率半径R1bがR1b=20mmの非球面形状をなしている。
この光学基材61は、中心肉厚tがt=1mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。
Moreover, anti-bonding surface 64 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 20 mm.
The optical substrate 61 is a plastic molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 1 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ20 mm.

この光学基材61は、貼り合わせ面63の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面66を有している。また、この平坦面66の外周部に、斜面の位置決め部67が形成されている。この位置決め部67は、光軸に対して30°の角度を有している。 The optical substrate 61, the outer periphery of the optical effective diameter D 0 of the bonding surface 63 1 has a flat surface 66 1 orthogonal to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 66 1, the positioning portion 67 1 of the inclined surface is formed. The positioning unit 67 1 has an angle of 30 ° with respect to the optical axis.

この位置決め部67は、光軸側を向いた面となっており、他方の光学基材62の有する位置決め部67と面接触することで位置決めを行う。さらに、位置決め部67の外周部には、光軸O−Oと直交する平坦面68が形成されている。 The positioning unit 67 1 has a surface facing the optical axis side, for positioning by the positioning unit 67 2 and the surface contact with the other of the optical substrate 62. Further, the outer peripheral portion of the positioning unit 67 1, the flat surface 68 1 orthogonal to the optical axis O-O is formed.

本実施の形態では、光学基材61の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
光学基材62は、両凸レンズ形状をなしている。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) is used as the material of the optical substrate 61.
The optical substrate 62 has a biconvex lens shape.

この光学基材62は、貼り合わせ面63と反貼り合わせ面64とを有している。貼り合わせ面63は、その近似曲率半径R2aがR2a=13mmの非球面形状をなしている。 The optical substrate 62 has a the mating surface 63 2 bonded with anti adhesion surface 64 2. The bonding surface 63 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 13 mm.

また、反貼り合わせ面64は、その近似曲率半径R2bがR2b=80mmの非球面形状をなしている。この光学基材62は、中心肉厚tがt=5mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。 Moreover, anti-bonding surface 64 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 80 mm. This optical substrate 62 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 5 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ20 mm.

この光学基材62は、貼り合わせ面63の光学有効径Dの外周部に段差部65を有している。また、この段差部65を介して光軸O−Oと直交する平坦面66を有している。さらに、この平坦面66の外周部に、斜面の位置決め部67が形成されている。 The optical substrate 62 has a stepped portion 65 on the outer peripheral portion of the bonding surface 63 2 of the optical effective diameter D 0. Also it has a flat surface 66 2 orthogonal to the optical axis O-O through the step portion 65. Further, the outer periphery of the flat surface 66 2, the positioning portion 67 2 of the inclined surface is formed.

この位置決め部67は、光軸O−Oに対して30°の角度を有している。この位置決め部67は、光軸側に背を向けた面となっており、他方の光学基材62の有する位置決め部67と面接触することで位置決めを行う。さらに、この位置決め部67の外周部には、光軸O−Oと直交する平坦面68が形成されている。
(貼り合わせ方法)
図27は、実施の形態6における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
The positioning portion 67 2 has an angle of 30 ° with respect to the optical axis O-O. The positioning unit 67 2, has a surface with its back toward the optical axis, for positioning by the positioning unit 67 2 and the surface contact with the other of the optical substrate 62. Further, on the outer peripheral portion of the positioning portion 67 2, a flat surface 68 perpendicular to the optical axis O-O 2 is formed.
(Lamination method)
FIG. 27 is a flowchart showing an outline of the bonding method according to the sixth embodiment. Details of the bonding method are as follows.

光学基材61を、温度50℃、相対湿度10%以下の恒温恒湿槽に24時間放置した。こうして、光学基材61を乾燥させて吸水率を下げた(S51)。また、光学基材62を、温度50℃、相対湿度90%以上の恒温恒湿槽に12時間放置した。こうして、光学基材62を吸水して吸水率を上げた(S52)。   The optical substrate 61 was left in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 10% or less for 24 hours. Thus, the optical substrate 61 was dried to reduce the water absorption rate (S51). The optical substrate 62 was left in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 90% or more for 12 hours. Thus, the optical substrate 62 was absorbed to increase the water absorption rate (S52).

その後、光学基材61を恒温恒湿槽から取り出し、雰囲気温度とほぼ一致させた。一方、光学基材61に対しては、その貼り合わせ面63に、紫外線硬化型樹脂1を所望量吐出した(S53)。 Then, the optical base material 61 was taken out from the constant temperature and humidity chamber, and was made to correspond with atmospheric temperature substantially. On the other hand, with respect to the optical substrate 61, the mating surface 63 1 that adhered to the ultraviolet curing resin 1 to the desired discharge amount (S53).

次に、図25のように、光学基材61、62の光学有効径Dよりも外側にある位置決め部67,67が、互いに嵌合するまで紫外線硬化型樹脂1を押延する(S54)。この位置決め部67,67は、嵌合することで樹脂層4は所望の樹脂厚となる。なお、樹脂層4の外周部には空気層6が形成されている。また、貼り合わせ面63、63の光軸O−Oに対する同軸度は高精度に加工されている。 Next, as shown in FIG. 25, the ultraviolet curable resin 1 is stretched until the positioning portions 67 1 and 67 2 outside the optical effective diameter D 0 of the optical bases 61 and 62 are fitted to each other ( S54). When the positioning portions 67 1 and 67 2 are fitted, the resin layer 4 has a desired resin thickness. An air layer 6 is formed on the outer periphery of the resin layer 4. The coaxiality of the bonding surfaces 63 1 and 63 2 with respect to the optical axis OO is processed with high accuracy.

このため、光学基材61の光軸O−Oと光学基材62の光軸O−Oは、光学基材61、62の位置決め部67,67が互いに嵌合することで位置決めされる。また、本実施の形態では、平坦面68、68も互いに嵌合している。 Therefore, the optical axis OO of the optical base 61 and the optical axis OO of the optical base 62 are positioned by fitting the positioning portions 67 1 and 67 2 of the optical bases 61 and 62 to each other. . In the present embodiment, the flat surfaces 68 1 and 68 2 are also fitted with each other.

この状態を保持したまま、一方の光学基材61を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射する(S55)。こうして、紫外線により紫外線硬化型樹脂1を硬化させ樹脂層4にした。この場合の紫外線は、30±2mW/cmのほぼ均一な照度分布を持つ。このような紫外線を150秒照射した。 While maintaining this state, the ultraviolet lamp 5 irradiates ultraviolet rays from below through one optical substrate 61 (S55). Thus, the ultraviolet curable resin 1 was cured with ultraviolet rays to form a resin layer 4. The ultraviolet rays in this case have a substantially uniform illuminance distribution of 30 ± 2 mW / cm 2 . Such ultraviolet rays were irradiated for 150 seconds.

また、光学基材61,62と紫外線硬化型樹脂1との密着性を上げるため、貼り合わせ前に、光学基材61,62の貼り合わせ面63、63はプラズマ放電による親水処理を行った後、シランカップリング剤を処理した。
(貼り合わせ後の形状)
図25のようにして貼り合わせたものを一定時間放置すると、光学基材61及び光学基材62が雰囲気の相対湿度に対応した吸水率になる。すると、光学基材61は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に大きくなる。一方、光学基材62は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に小さくなる。
Moreover, in order to improve the adhesiveness of the optical base materials 61 and 62 and the ultraviolet curable resin 1, the bonding surfaces 63 1 and 63 2 of the optical base materials 61 and 62 are subjected to a hydrophilic treatment by plasma discharge before the bonding. After that, the silane coupling agent was treated.
(Shape after bonding)
When the substrates bonded as shown in FIG. 25 are left for a certain period of time, the optical base 61 and the optical base 62 have a water absorption rate corresponding to the relative humidity of the atmosphere. Then, the optical substrate 61 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding. On the other hand, the optical base material 62 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding.

このため、図26のように、位置決め部67,67に隙間hがある接合光学素子60が得られる。また、2つの光学基材61,62を貼り合わせてできた接合光学素子60は、中心樹脂厚tがt=0.5mmであった。また、樹脂層4の光学有効径D(φ15mm)における樹脂厚tはt=0.25mmであった。 For this reason, as shown in FIG. 26, the bonded optical element 60 with the gap h between the positioning portions 67 1 and 67 2 is obtained. Further, two optical substrates 61 and 62 bonded optical element 60 Deki by bonding, the central resin thickness t 0 was t 0 = 0.5 mm. Further, the resin thickness t 3 at the optically effective diameter D 0 (φ15 mm) of the resin layer 4 was t 3 = 0.25 mm.

本実施の形態によれば、熱線膨張率の近いプラスチック基材(61,62)同士を貼り合わせて、隙間のある接合光学素子60を得ることができた。
また、光学基材61を乾燥、光学基材62を吸水させて貼り合わせている。このため、一方を吸水もしくは乾燥させたものと比較して、位置決め部67,67の隙間hをより大きくすることができる。このため、光学基材61、62に応力が発生することはない。
According to the present embodiment, it was possible to obtain a bonded optical element 60 with a gap by bonding together plastic base materials (61, 62) having a similar coefficient of thermal linear expansion.
Further, the optical substrate 61 is dried and the optical substrate 62 is absorbed to be bonded. Therefore, in comparison with those obtained one of the water absorption or drying, a larger positioning unit 67 1, 67 2 of the gap h. For this reason, no stress is generated in the optical substrates 61 and 62.

[実施の形態7]
(貼り合わせる基材形状)
図28は、貼り合わせる2つの光学基材71、72の断面図であり、図29は、2つの光学基材71、72を貼り合わせた状態の断面図である。また、図30は、貼り合わせた2つの光学基材がごくわずか離反した状態の接合光学素子70の断面図である。
[Embodiment 7]
(Base material shape to be bonded)
FIG. 28 is a cross-sectional view of the two optical substrates 71 and 72 to be bonded together, and FIG. 29 is a cross-sectional view of the state in which the two optical substrates 71 and 72 are bonded together. FIG. 30 is a cross-sectional view of the bonded optical element 70 in a state where the two optical substrates bonded together are slightly separated from each other.

図28に示されるように、光学基材71は、凹メニスカスレンズ形状をなしている。
この光学基材の71は、貼り合わせ面73と反貼り合わせ面74とを有している。貼り合わせ面73は、その近似曲率半径R1aがR1a=12mmの非球面形状をなしている。
As shown in FIG. 28, the optical substrate 71 has a concave meniscus lens shape.
The 71 of the optical substrate includes a with mating surface 73 1 bonded with anti adhesion surface 74 1. Bonding surface 73 1, the approximate radius of curvature R1a is no aspherical shape of R1a = 12 mm.

また、反貼り合わせ面74は、その近似曲率半径R1bがR1b=20mmの非球面形状をなしている。
この光学基材71は、中心肉厚tがt=1mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。
Moreover, anti-bonding surface 74 1, the approximate radius of curvature R1b is no aspherical shape of R1b = 20 mm.
The optical base 71 is a plastic molded lens having a center thickness t 1 of t 1 = 1 mm and an outer diameter D 1 of D 1 = φ20 mm.

この光学基材71は、貼り合わせ面73の光学有効径Dの外周部に、光軸O−Oと直交する平坦面76を有している。また、この平坦面76の外周部に、斜面の位置決め部77が形成されている。この位置決め部77は、光軸O−Oに対して30°の角度を有している。 The optical substrate 71, the outer peripheral portion of the bonding surface 73 1 of the optical effective diameter D 0, and has a flat surface 761 perpendicular to the optical axis O-O. Further, the outer periphery of the flat surface 76 1, the positioning portion 77 1 of the inclined surface is formed. The positioning unit 77 1 has an angle of 30 ° with respect to the optical axis O-O.

この位置決め部77は、光軸側を向いた面となっており、他方の光学基材72の有する位置決め部77と面接触する。さらに、位置決め部77の外周部には、光軸と直交する平坦面78が形成されている。 The positioning unit 77 1 has a surface facing the optical axis side, and the positioning portion 77 2 and the surface contact with the other of the optical substrate 72. Further, the outer peripheral portion of the positioning unit 77 1, the flat surface 78 1 perpendicular to the optical axis is formed.

本実施の形態では、光学基材71の材質として、PC(ポリカーボネート)樹脂(ユピゼータEP5000:三菱ガス化学(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いた。
光学基材72は、両凸レンズ形状をなしている。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of PC (polycarbonate) resin (Iupizeta EP5000: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) is used as the material of the optical substrate 71.
The optical substrate 72 has a biconvex lens shape.

この光学基材72は、貼り合わせ面73と反貼り合わせ面74とを有している。貼り合わせ面73は、その近似曲率半径R2aがR2a=13mmの非球面形状をなしている。 The optical substrate 72 has a the mating surface 73 2 bonded with anti adhesion surface 74 2. The bonding surface 73 2, the approximate radius of curvature R2a is no aspherical shape of R2a = 13 mm.

また、反貼り合わせ面74は、その近似曲率半径R2bがR2b=80mmの非球面形状をなしている。この光学基材72は、中心肉厚tがt=5mm、外径DがD=φ20mmのプラスチック成形レンズである。 Moreover, anti-bonding surface 74 2, the approximate radius of curvature R2b is no aspherical shape of R2b = 80 mm. This optical substrate 72 is a plastic molded lens having a center thickness t 2 of t 2 = 5 mm and an outer diameter D 2 of D 2 = φ20 mm.

光学基材72の材質として本実施の形態では、COP(シクロオレフィンポリマー)樹脂(ゼオネックス480R:日本ゼオン(株)社製)の熱可塑性樹脂を用いたが、この樹脂は、飽和吸水率が0.01%以下と非常に小さく、吸水による寸法変化を無視することができる。
(貼り合わせ方法)
図31は、実施の形態7における貼り合わせ方法の概略をフローチャートで示したものである。貼り合わせ方法の詳細については次に示すとおりである。
In the present embodiment, a thermoplastic resin of COP (cycloolefin polymer) resin (Zeonex 480R: manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) is used as the material of the optical base material 72, but this resin has a saturated water absorption of 0. .01% or less, which is very small, and the dimensional change due to water absorption can be ignored.
(Lamination method)
FIG. 31 is a flowchart schematically showing the bonding method according to the seventh embodiment. Details of the bonding method are as follows.

光学基材71を保持する成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)を冷却する。これにより、光学基材71の基材温度を10℃以下にする。また、光学基材72を保持している成形装置(図示せず)の保持部(図示せず)を加熱する。これにより、光学基材72の基材温度を60℃以上にする。   A holding unit (not shown) of a molding apparatus (not shown) that holds the optical substrate 71 is cooled. Thereby, the base-material temperature of the optical base material 71 shall be 10 degrees C or less. Moreover, the holding part (not shown) of the shaping | molding apparatus (not shown) holding the optical base material 72 is heated. Thereby, the substrate temperature of the optical substrate 72 is set to 60 ° C. or higher.

この状態で、光学基材71の貼り合わせ面73に紫外線硬化型樹脂1を所望量吐出する。
そして、図29のように、この光学基材71に光学基材72を近接させる。
In this state, a desired amount of ejecting ultraviolet curable resin 1 to the bonding surface 73 1 of the optical substrate 71.
Then, as shown in FIG. 29, the optical base 72 is brought close to the optical base 71.

このとき、光学基材72の光学有効径Dよりも外側にある位置決め部77が、光学基材71の位置決め部77に接触するまで紫外線硬化型樹脂1を押延する。
この位置決め部77,77は、接触することで樹脂層4が所望の樹脂厚となる。なお、樹脂層4の外周部には空気層6が形成されている。また、光学基材71、72の光軸は、光学基材71、72の位置決め部77,77が接触することで高精度に位置決めされる。
At this time, the positioning portion 77 2 which is outside the optical effective diameter D 0 of the optical substrate 72, to押延the ultraviolet curing resin 1 until it contacts the positioning portion 771 of the optical substrate 71.
The positioning portions 77 1 and 77 2 come into contact with each other, so that the resin layer 4 has a desired resin thickness. An air layer 6 is formed on the outer periphery of the resin layer 4. In addition, the optical axes of the optical base materials 71 and 72 are positioned with high accuracy when the positioning portions 77 1 and 77 2 of the optical base materials 71 and 72 are in contact with each other.

さらに、本実施の形態では、紫外線硬化型樹脂1の吐出量は、光学基材71と光学基材72が接触し樹脂層4の厚さと2つの光学基材71,72の光軸方向の位置が決まった状態で、空間3に充填する量とした。   Further, in the present embodiment, the discharge amount of the ultraviolet curable resin 1 is such that the optical base 71 and the optical base 72 are in contact with each other, the thickness of the resin layer 4 and the positions of the two optical bases 71 and 72 in the optical axis direction. Was determined, and the amount filled in the space 3 was determined.

この状態を保持したまま、一方の光学基材71を通して下方から紫外線ランプ5により紫外線を照射する。こうして、紫外線により紫外線硬化型樹脂1を樹脂層4にした。この場合の紫外線の中心照度は25±2mW/cm、周辺照度は10±2mW/cmの山型の照度分布を持つ。この紫外線を20秒照射した。その後、照度200±5mW/cmのほぼ均一な照度分布を持つ紫外線を60秒照射した。 While maintaining this state, the ultraviolet lamp 5 irradiates ultraviolet rays from below through one optical substrate 71. Thus, the ultraviolet curable resin 1 was made into the resin layer 4 by ultraviolet rays. In this case, the central illuminance of ultraviolet rays has a mountain-shaped illuminance distribution of 25 ± 2 mW / cm 2 and the peripheral illuminance is 10 ± 2 mW / cm 2 . This ultraviolet ray was irradiated for 20 seconds. Thereafter, ultraviolet rays having an almost uniform illuminance distribution with an illuminance of 200 ± 5 mW / cm 2 were irradiated for 60 seconds.

また、光学基材71,72と紫外線硬化型樹脂1との密着性を上げるため、貼り合わせ前に両光学基材71,72の貼り合わせ面73,73に対し、プラズマ放電による親水処理を行った後、シランカップリング剤を処理した。 Further, in order to improve the adhesion between the optical base materials 71 and 72 and the ultraviolet curable resin 1, the hydrophilic treatment by plasma discharge is performed on the bonding surfaces 73 1 and 73 2 of the optical base materials 71 and 72 before the bonding. Then, the silane coupling agent was treated.

なお、この場合、加熱炉による予備加熱、及び冷却炉による予備冷却を行なうと、加熱・冷却の時間を短縮することができる。
(貼り合わせ後の形状)
図29のようにして貼り合わせたものを一定時間放置すると、光学基材71及び光学基材72は常温(雰囲気温度)に戻る。すると、光学基材71は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に大きくなる。一方、光学基材72は、貼り合わせ直後の形状に対して略相似的に小さくなる。
In this case, if preheating with a heating furnace and precooling with a cooling furnace are performed, the heating / cooling time can be shortened.
(Shape after bonding)
When the bonded substrates as shown in FIG. 29 are left for a certain period of time, the optical base material 71 and the optical base material 72 return to room temperature (atmospheric temperature). Then, the optical base material 71 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding. On the other hand, the optical base material 72 becomes substantially similar to the shape immediately after bonding.

このため、図30のように、得られた接合光学素子70には位置決め部77,77に隙間hが生じている。
また、2つの光学基材71,72を貼り合わせてできた接合光学素子70は、樹脂層4の中心樹脂厚tがt=0.5mmであり、光学有効径D(φ15mm)における樹脂厚tはt=0.25mmであった。
For this reason, as shown in FIG. 30, a gap h is formed in the positioning portions 77 1 and 77 2 in the obtained bonded optical element 70.
Further, in the bonded optical element 70 formed by bonding the two optical base materials 71 and 72, the center resin thickness t 0 of the resin layer 4 is t 0 = 0.5 mm, and the optical effective diameter D 0 (φ15 mm). The resin thickness t 3 was t 3 = 0.25 mm.

本実施の形態によれば、吸水しないプラスチック基材(光学基材72)を用いた場合であっても、位置決め部77,77に隙間hのある接合光学素子70を得ることができた。また、光学基材61を乾燥、光学基材62を吸水させて貼り合わせている。 According to the present embodiment, even when a plastic base material (optical base material 72) that does not absorb water is used, it is possible to obtain the bonded optical element 70 having the gap h in the positioning portions 77 1 and 77 2 . . Further, the optical substrate 61 is dried and the optical substrate 62 is absorbed to be bonded.

このため、一方を吸水もしくは乾燥させたものと比較して、位置決め部67,67の隙間hをより大きくすることができる。このため、光学基材61、62に応力が発生することはない。 Therefore, in comparison with those obtained one of the water absorption or drying, a larger positioning unit 67 1, 67 2 of the gap h. For this reason, no stress is generated in the optical substrates 61 and 62.

なお、本実施の形態では、一方の光学基材71を冷却し、他方の光学基材72を加熱したが、これに限らない。例えば、光学基材71を冷却し、光学基材72を加熱することなく常温のままとしてもよい。また、光学基材71を冷却することなく常温のままとし、光学基材72を加熱してもよい。   In the present embodiment, one optical substrate 71 is cooled and the other optical substrate 72 is heated. However, the present invention is not limited to this. For example, the optical base material 71 may be cooled and the optical base material 72 may be kept at room temperature without being heated. Further, the optical base material 72 may be heated while keeping the optical base material 71 at a normal temperature without cooling.

これにより、いずれの場合も、位置決め部77,77に隙間のある接合光学素子70を得ることができる。この場合、光学基材71及び光学基材72を加熱・冷却するよりも設備が安価ですむ。 Thereby, in any case, the bonded optical element 70 having a gap in the positioning portions 77 1 and 77 2 can be obtained. In this case, the equipment is less expensive than heating and cooling the optical base material 71 and the optical base material 72.

なお、本実施の形態で記載した光学基材の形状・材質、樹脂の種類、吸水(乾燥)時の温度や時間等はこれに限定されるものではない。   Note that the shape and material of the optical substrate, the type of resin, the temperature and time during water absorption (drying), and the like described in this embodiment are not limited thereto.

1・・・紫外線硬化型樹脂
2・・・熱硬化型樹脂
3・・・空間
4・・・樹脂層
5・・・紫外線ランプ
6・・・空気層
10,20,30,40,50,60,70・・・接合光学素子
11,12,21,22,31,32,41,42,51,52,61,62,71,72・・・光学基材
13,13,23,23,33,33,43,43,53,53,63,63,73,73・・・貼り合わせ面
14,14,24,24,34,34,44,44,54,54,64,64,74,74・・・反貼り合わせ面
55,65,75・・・段差部
16,16,26,36,36,46,46,56,56,66,66,76,7658,58,68,68,78,78・・・平坦面
17,17,27,27,37,37,47,47,57,57,67,67,77,77・・・位置決め部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ultraviolet curable resin 2 ... Thermosetting resin 3 ... Space 4 ... Resin layer 5 ... Ultraviolet lamp 6 ... Air layer 10, 20, 30, 40, 50, 60 , 70 ... Bonding optical elements 11, 12, 21, 22, 31, 32, 41, 42, 51, 52, 61, 62, 71, 72 ... optical base materials 13 1 , 13 2 , 23 1 , 23 2 , 33 1 , 33 2 , 43 1 , 43 2 , 53 1 , 53 2 , 63 1 , 63 2 , 73 1 , 73 2 ... Bonding surfaces 14 1 , 14 2 , 24 1 , 24 2 , 34 1, 34 2, 44 1, 44 2, 54 1, 54 2, 64 1, 64 2, 74 1, 74 2 ... anti adhesion surface 55, 65, 75 ... stepped portion 16 1, 16 2, 26 and 36 1, 36 2, 46 1, 46 2, 56 1, 56 2, 66 , 66 2, 76 1, 76 2 58 1, 58 2, 68 1, 68 2, 78 1, 78 2 ... flat surface 17 1, 17 2, 27 1, 27 2, 37 1, 37 2, 47 1 , 47 2 , 57 1 , 57 2 , 67 1 , 67 2 , 77 1 , 77 2 ... Positioning part

Claims (8)

光学有効径よりも外側に位置決め部を持つ少なくとも2枚の光学基材を、エネルギー硬化型樹脂により貼り合せた接合光学素子の製造方法において、
前記2枚の光学基材の位置決め部同士を接触させる工程と、
前記2枚の光学基材の光軸に垂直な方向の位置関係を保持したまま、前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程と、を有する
接合光学素子の製造方法。
In the method for manufacturing a bonded optical element in which at least two optical base materials having a positioning portion outside the effective optical diameter are bonded with an energy curable resin,
The step of bringing the positioning portions of the two optical substrates into contact with each other;
A step of separating the positioning portions of the two optical base materials while maintaining a positional relationship in a direction perpendicular to the optical axis of the two optical base materials.
前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程が、
光軸側に背を向けた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う一の光学基材の吸水率を上げる工程と、
光軸側を向いた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う他の光学基材の吸水率を下げる工程と、のうち少なくとも1つの工程と、
前記2枚の光学基材を貼り合わせる工程と、
を有する
請求項1記載の接合光学素子の製造方法。
The step of separating the positioning portions of the two optical base materials,
A step of increasing the water absorption rate of one optical base material that is positioned by contacting with a positioning portion on the surface facing the optical axis side;
Reducing the water absorption rate of another optical base material that is positioned by contacting the positioning portion on the surface facing the optical axis side, and at least one of the steps;
Bonding the two optical substrates together;
The method for producing a cemented optical element according to claim 1.
前記一の光学基材の吸水率を上げる工程が、
相対湿度90%RH 以上の雰囲気下で行うことである
請求項2に記載の接合光学素子の製造方法。
The step of increasing the water absorption rate of the one optical substrate,
The method for manufacturing a bonded optical element according to claim 2, wherein the method is performed in an atmosphere having a relative humidity of 90% RH or more.
前記他の光学基材の吸水率を下げる工程が、
相対湿度20%RH 以下の雰囲気下で行うことである
請求項2に記載の接合光学素子の製造方法。
The step of lowering the water absorption rate of the other optical substrate,
The method for manufacturing a bonded optical element according to claim 2, wherein the method is performed in an atmosphere having a relative humidity of 20% RH or less.
前記2枚の光学基材の位置決め部を離反させる工程が、
光軸側に背を向けた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う一の光学基材の温度を上げる工程と、
光軸側を向いた面上の位置決め部で接触する事で位置決めを行う他の光学基材の温度を下げる工程と、のうち少なくとも1つの工程と、
前記2枚の光学基材を貼り合わせる工程と、を有する
請求項1記載の接合光学素子の製造方法。
The step of separating the positioning portions of the two optical base materials,
Increasing the temperature of one optical substrate that performs positioning by contacting with a positioning portion on the surface facing the optical axis side; and
Lowering the temperature of another optical base material that is positioned by contacting the positioning portion on the surface facing the optical axis side, at least one of the steps,
The method for producing a bonded optical element according to claim 1, further comprising a step of bonding the two optical substrates.
前記一の光学基材の温度を上げる工程が、
前記一の光学基材の温度を50℃以上の温度に設定することである
請求項5に記載の接合光学素子の製造方法。
The step of raising the temperature of the one optical substrate comprises:
The method for manufacturing a bonded optical element according to claim 5, wherein the temperature of the one optical substrate is set to a temperature of 50 ° C. or higher.
前記他の光学基材の温度を下げる工程が、
前記他の光学基材の温度を10℃以下の温度に設定することである
請求項5に記載の接合光学素子の製造方法。
Lowering the temperature of the other optical substrate,
The method for manufacturing a bonded optical element according to claim 5, wherein the temperature of the other optical substrate is set to a temperature of 10 ° C. or lower.
光学有効径の外周部に位置決め部を有する少なくとも2つの光学基材と、
前記少なくとも2つの光学基材と前記位置決め部とによって空間が形成され、
当該空間内の少なくとも光学有効径内に充填されるエネルギー硬化型樹脂によるレンズ層と、を備え、
前記位置決め部は、光軸に垂直な方向の位置関係を保持したまま光軸方向に離反していることを特徴とする接合光学素子。
At least two optical substrates having positioning portions on the outer periphery of the optical effective diameter;
A space is formed by the at least two optical base materials and the positioning portion,
A lens layer made of an energy curable resin filled in at least the optical effective diameter in the space,
The bonding optical element, wherein the positioning portion is separated in the optical axis direction while maintaining a positional relationship in a direction perpendicular to the optical axis.
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