JP5229849B2 - センサ - Google Patents
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Description
[1]絶縁膜を含む基板、前記基板の絶縁膜に接触している作用電極、および前記基板に接続している対電極を有する二端子素子を含むセンサ。
[2]前記絶縁膜は、酸化シリコンまたは窒化シリコンである、[1]記載のセンサ。
[3]前記作用電極は多数の開口部を有する、[1]または[2]記載のセンサ。
[4]前記作用電極はメッシュ形電極、櫛形電極、放射状形電極または格子形電極である、[3]記載のセンサ。
[5]前記基板は、半導体または導電体からなる支持基板をさらに含む、[1]〜[4]のいずれかに記載のセンサ。
[6]前記対電極は、前記支持基板に配置される、[5]記載のセンサ。
[7]前記対電極は、前記絶縁膜に配置される、[1]〜[5]のいずれかに記載のセンサ。
[8]前記二端子素子は、複数の前記作用電極を有する、[1]〜[7]のいずれかに記載のセンサ。
[9]前記基板の絶縁膜に結合された被検出物質認識分子をさらに含む、[1]〜[8]のいずれかに記載のセンサ。
[10]前記被検出物質認識分子は抗体または抗原である、[9]記載のセンサ。
[11][1]〜[9]のいずれかに記載のセンサを用いて被検出物質を検出する方法であって、前記被検出物質を含みうる溶液を、前記作用電極に提供するステップと、前記提供前と提供後の二端子素子の電気特性の変化から、前記被検出物質を検出するステップと、を含む検出方法。
[12]前記作用電極に提供した溶液の溶媒を、乾燥させるステップをさらに含む、[11]記載の検出方法。
[13]前記電気特性は、前記二端子素子のIV特性である、[11]または[12]記載の検出方法。
[14]前記IV特性のヒステリシスの程度から、前記被検出物質の量を測定するステップをさらに含む、[13]記載の検出方法。
本発明のセンサは、二端子素子を含むことを特徴とする。前記二端子素子は、1)絶縁膜を含む基板、2)前記絶縁膜に接触している作用電極、3)前記基板に接続している対電極を有する。
絶縁膜の材質の例には、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウムおよび酸化チタンなどの無機化合物、ならびにアクリル樹脂およびポリイミドなどの有機化合物などが含まれる。絶縁膜の表面には、水酸基、アミノ基またはカルボキシル基などの官能基が導入されていてもよい。絶縁膜の厚さは、特に限定されないが、10〜1000nmが好ましく、20〜500nmが特に好ましい。絶縁膜が薄すぎると、トンネル電流が流れてしまう可能性がある。一方、絶縁膜が厚すぎると、感度が低下する可能性がある。
支持基板の材質は、半導体または導電体であることが好ましい。半導体の例には、シリコン、ゲルマニウムなどのIV族元素、砒化ガリウム、リン化インジウムなどのIII−V化合物、テルル化亜鉛などのII−VI化合物などが含まれる。導電体の例には、アルミニウムやニッケルなどが含まれる。支持基板の厚さは、特に限定されないが、0.1〜1.0mmであることが好ましく、0.3〜0.5mmが特に好ましい。
図1は、作用電極の形状の例を示す平面図である。図1(A)はメッシュ形の作用電極、図1(B)は櫛形の作用電極を示している。図1において、作用電極140a,140bは、導電性部材142および開口部144を有する。
前述の通り、作用電極は多数の開口部を有する形状を有しうるが、その場合には当該開口部領域の絶縁膜に、被検出物質認識分子を結合させることが好ましい。
本発明の検出方法は、前述のセンサを用いることを特徴とする。本明細書において「検出」とは、被検出物質の有無を判断することだけではなく、被検出物質の量を測定することも含む。
図2は、本発明の実施の形態1に係るセンサの構成を示す図である。図2(A)は実施の形態1に係るセンサの斜視図であり、図2(B)および図2(C)は実施の形態1に係るセンサの断面図である。
実施の形態1では、作用電極と対電極を基板の異なる面に配置する例を示した。実施の形態2では、作用電極と対電極を基板の同一の面に配置する例を示す。
実施の形態1,2では、作用電極を絶縁膜上に配置し、対電極を支持基板上に配置する例を示した。実施の形態3では、作用電極および対電極を共に絶縁膜上に配置する例を示す。
実施の形態1〜3では、一の基板に一の作用電極を配置する例を示した。実施の形態4では、一の基板に複数の作用電極を配置する例を示す。
図5に示されるセンサを作製した。基板の面積は4cm2(2cm×2cm)とし、支持基板は厚さ500μmのシリコン基板として、絶縁膜は厚さ300nmの酸化シリコン膜とした。
絶縁膜上に直径5mmの円形の放射状形電極(金属材質;チタンと金の二層構造、櫛の幅;100μm、櫛の高さ;チタン50nmおよび金60nm、櫛の間隔;250μm)を、真空蒸着法により形成して、作用電極とした。
対電極はインジウム電極として、基板の裏面(絶縁膜がない面)の支持基板の全面に配置した。
本実施例では、リジンを検出対象とした。0.01重量%リジン水溶液を原液として、純水で希釈系列(1×101倍,1×102倍,1×103倍,1×104倍,1×1012倍)を作製することで、各種濃度の試料溶液を得た。各試料溶液は、2μlあたり、1.68×1012個(1×101倍希釈)、1.68×1011個(1×102倍希釈)、1.68×1010個(1×103倍希釈)、1.68×109個(1×104倍希釈)、1.68×101個(1×1012倍希釈)のリジン分子を含む。
各試料溶液(2μl)を、作用電極に滴下した。作用電極−対電極間のIV特性を測定した。IV特性の測定は、作用電極に印加する電圧を−20Vから+20Vに、次いで+20Vから−20Vに約1分間かけて変化させて、その間の電流値を測定する(対電極側に設けた電流計で測定した)ことで行った。測定後、各作用電極に提供した試料溶液を3時間かけて自然乾燥させて(気温24℃、湿度30%)、再び作用電極−対電極間のIV特性を各作用電極について同様に測定した。
図6は、比較例として試料溶液を作用電極に提供せずにIV特性を測定した結果を示すグラフである。1回目の測定の結果を破線で、1回目の測定から3時間後に行った2回目の測定の結果を実線で示す(ほぼ完全に重なっている)。いずれの測定においても、作用電極に印加する電圧を−20Vから+20Vに変化させた際のIV曲線(下側の曲線)と+20Vから−20Vに変化させた際のIV曲線(上側の曲線)とが一致しておらず、ヒステリシスが観察された。
いずれの領域から近似直線を求めるかは、例えば、基板のシリコンの種類に応じて決められる。基板のシリコンがP型であれば、図9に示されたように、IV曲線の左上の領域から近似直線を求めることが好ましい。一方、基板のシリコンがN型であれば、IV曲線の左上の領域が、光の影響や空乏層の影響を受けやすいので、右下の領域から近似直線を求めることが好ましいと思われる。
110〜114 基板
120 支持基板
130,132 絶縁膜
140 作用電極
142 導電性部材
144 開口部
150〜156 対電極
160 試料溶液
170 非検出物質認識分子
Claims (2)
- 半導体または導電体からなる支持基板および前記支持基板の上に形成された絶縁膜を含む基板と、前記絶縁膜の上に配置されており、開口部を有する作用電極と、前記支持基板に接続されている対電極と、を有する二端子素子と、
前記開口部内に位置する前記絶縁膜に結合された被検出物質認識分子と、を含み、
前記作用電極と前記対電極との間の電気特性の変化により被検出物質を検出する、
センサ。 - 前記被検出物質認識分子は、抗体または抗原である、請求項1記載のセンサ。
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