JP5216261B2 - 配線形成装置、配線形成方法及び噴出制御装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明の配線形成装置、配線形成方法及び噴出制御装置の実施形態を、図面を参照して説明する。
図1は、実施形態の配線リペア装置の概略的な構成を示す構成図である。図1において、この実施形態の配線リペア装置100は、帯電電極101、第1制御電極102、第2制御電極103、ノズル104、配管105、貯留槽106、加圧ガス供給管107、を少なくとも有して構成される。
次に、実施形態の配線リペア装置100による配線形成工程について説明する。
以上のように、この実施形態によれば、配管内を流れる導電性粒子に対して負の電荷を帯電させる帯電電極と、ノズルから噴出された導電性粒子に対して正の電界を印加する第1制御電極と、第1制御電極を通過する導電性粒子に対して負の電界を印加する第2制御電極とを備えることにより、ノズルから噴出した導電性粒子は、第1制御電極及び第2制御電極からの電界の影響を受けて、ガラス基板上において導電性粒子のビーム径を収束させることができる。その結果、第2制御電極を通過する導電性粒子のビーム径を所望の大きさに制御することができるので、微細な配線を形成することができる。
(B−1)上述した実施形態では、第1制御電極102及び第2制御電極103が電界を印加することでノズル104から噴出する導電性粒子のビーム径を制御する場合を例示して説明したが、磁界を印加して導電性粒子のビーム径を制御してもよい。
Claims (7)
- ノズルから噴出させた導電性粒子を基板に塗布して配線を修復する配線形成装置において、
前記ノズルから前記導電性粒子を噴出させる前に、当該導電性粒子を帯電させる帯電手段と、
前記ノズルから噴出する前記導電性粒子に対して電界又は磁界を印加して、当該ノズルから噴出させる当該導電性粒子のビーム径を制御する噴出制御手段と、
を備え、
前記噴出制御手段が、
前記帯電手段によって帯電させた極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記ノズルから噴出させる前記導電性粒子を発散制御する発散制御部と、
前記発散制御部が印加する電界又は磁界の極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記発散制御部により発散された前記導電性粒子を収束制御する収束制御部と
を有する
ことを特徴とする配線形成装置。 - 前記帯電手段は、前記導電性粒子を負に帯電させ、前記発散制御部は、前記導電性粒子に対して正の電界を印加し、前記収束制御部は、前記導電性粒子に対して負の電界を印加する、ことを特徴とする請求項1に記載の配線形成装置。
- 前記帯電手段は、前記導電性粒子を正に帯電させ、前記発散制御部は、前記導電性粒子に対して負の電界を印加し、前記収束制御部は、前記導電性粒子に対して正の電界を印加する、ことを特徴とする請求項1に記載の配線形成装置。
- ノズルから噴出させた導電性粒子を基板に塗布して配線を修復する配線形成方法において、
帯電手段が、前記ノズルから前記導電性粒子を噴出させる前に、前記導電性粒子を帯電させる帯電工程と、
噴出制御手段が、前記ノズルから噴出される前記導電性粒子に対して電界又は磁界を印加して、当該ノズルから噴出させる前記導電性粒子のビーム径を制御する噴出制御工程と、
を有し、
前記噴出制御手段が、
前記帯電手段によって帯電させた極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記ノズルから噴出させる前記導電性粒子を発散制御する発散制御工程と、
前記発散制御工程で印加する電界又は磁界の極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記発散制御工程により発散された前記導電性粒子を収束制御する収束制御工程と
を有する
ことを特徴とする配線形成方法。 - 前記帯電手段は前記導電性粒子を負に帯電させ、
前記噴出制御工程が、前記導電性粒子に対して正の電界を印加する発散制御工程と、次いで前記導電性粒子に対して負の電界を印加する収束制御工程とを有する、
ことを特徴とする請求項4に記載の配線形成方法。 - 前記帯電手段は前記導電性粒子を正に帯電させ、
前記噴出制御工程が、前記導電性粒子に対して負の電界を印加する発散制御工程と、次いで前記導電性粒子に対して正の電界を印加する収束制御工程とを有する、
ことを特徴とする請求項4に記載の配線形成方法。 - 基板上の配線の修復箇所に対して導電性粒子を噴出するノズルの噴出制御をする噴出制御装置において、
前記ノズルから前記導電性粒子を噴出させる前に、当該導電性粒子を帯電させる帯電手段と、
前記ノズルから噴出される前記導電性粒子に対して電界又は磁界を印加して、当該ノズルから噴出させる前記導電性粒子のビーム径を制御する噴出制御手段と、
を備え、
前記噴出制御手段が、
前記帯電手段によって帯電させた極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記ノズルから噴出させる前記導電性粒子を発散制御する発散制御部と、
前記発散制御部が印加する電界又は磁界の極性とは逆の極性の電界又は磁界を印加して、前記発散制御部により発散された前記導電性粒子を収束制御する収束制御部と
を有する
ことを特徴とする噴出制御装置。
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