JP5208292B2 - Object processing method - Google Patents

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JP5208292B2 JP2012054672A JP2012054672A JP5208292B2 JP 5208292 B2 JP5208292 B2 JP 5208292B2 JP 2012054672 A JP2012054672 A JP 2012054672A JP 2012054672 A JP2012054672 A JP 2012054672A JP 5208292 B2 JP5208292 B2 JP 5208292B2
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Description

本発明は、顕微鏡における対象物の処理方法に関するものである。   The present invention relates to a method for processing an object in a microscope.

顕微鏡を含む計測装置に関する従来のシステムとして、特許文献1及び2に記載のものがある。特許文献1では、ウエハ表面のキズや汚れを目視で観察するマクロ検査を行った後に、特徴が確認された箇所を顕微鏡で精査するミクロ検査を行っている。構成としては、キャリアとミクロ検査部との間に、ウエハを回転・傾斜可能なマクロ検査部を設けている。ウエハ検査はマクロ検査装置とミクロ検査装置の別々の装置によって行うことが多いが、こうした構成とすることによって検査工程の簡易化を実現している。   Patent Documents 1 and 2 disclose conventional systems related to a measuring apparatus including a microscope. In Patent Document 1, after performing a macro inspection for visually observing scratches and dirt on the wafer surface, a micro inspection is performed in which a portion where the characteristics are confirmed is examined with a microscope. As a configuration, a macro inspection unit capable of rotating and tilting the wafer is provided between the carrier and the micro inspection unit. Wafer inspection is often performed by separate apparatuses, a macro inspection apparatus and a micro inspection apparatus. By adopting such a configuration, the inspection process can be simplified.

また、特許文献2では、対象物を同一光軸上に挟んだ対物レンズと焦点設定用対物レンズを有し、焦点設定用対物レンズで予備計測を行った後に対物レンズで本計測を行っている。これによって対象物のガラス層の厚さが変更されても高精度に対物レンズの焦点設定を行うことができる。   Further, in Patent Document 2, an objective lens and a focus setting objective lens sandwiching an object on the same optical axis are provided, and after performing preliminary measurement with the focus setting objective lens, main measurement is performed with the objective lens. . Thereby, even if the thickness of the glass layer of the object is changed, the focus of the objective lens can be set with high accuracy.

このように、顕微鏡を含む計測装置では、対象物の諸特性を予め計測することによって観測条件を決定して本計測するシステム構成がとられることが多い。この理由としては、予備計測の結果から予め観測条件を決定しておくことによって、本計測する際に観測以外の作業をできるだけ削減することが出来るからである。   As described above, a measurement apparatus including a microscope often has a system configuration in which an observation condition is determined by measuring various characteristics of an object in advance to perform a main measurement. The reason for this is that the work other than the observation can be reduced as much as possible in the main measurement by determining the observation conditions in advance from the result of the preliminary measurement.

特登録02915864Special Registration 0295864 特登録03715013Special registration 037115013

しかしながら、近年、顕微鏡を用いて大量の対象物を処理する際に、特許文献1及び2のような各対象物の予備計測と本計測(撮像)を順次処理するものよりも短時間で処理することが求められている。   However, in recent years, when a large amount of objects are processed using a microscope, the preliminary measurement of each object and the main measurement (imaging) as in Patent Documents 1 and 2 are processed in a shorter time than those sequentially processed. It is demanded.

そこで、本発明は、対象物の処理スループットを向上させることが可能な顕微鏡を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a microscope capable of improving the processing throughput of an object.

本発明の第1の側面は、投影光学系により撮像素子に投影された対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、対象物を前記計測部により計測を行う位置から前記撮像部により撮像を行う位置へ搬送することに並行して、前記計測部における前記対象物の計測結果を用いて前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件の設定を行うことを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, there is provided an imaging unit that images an object projected on an imaging device by a projection optical system, and the object for setting an imaging condition used when the imaging unit images the object. In a processing method of an object in a microscope having a measurement unit that measures an object, in parallel with conveying the object from a position where measurement is performed by the measurement unit to a position where imaging is performed by the imaging unit, The imaging condition used when the said imaging part images the said target object is set using the measurement result of the said target object in a measurement part, It is characterized by the above-mentioned.

本発明の第2の側面は、投影光学系により撮像素子に投影された検体を含む対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために、前記計測部において前記対象物の位置、姿勢、厚さ、うねり、透過量、反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測のうち少なくとも1つを行い、前記計測部での計測に並行して、前記撮像部において前記対象物とは異なる対象物の撮像を行うことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided an imaging unit that images an object including a specimen projected onto an imaging device by a projection optical system, and an imaging condition that is used when the imaging unit images the object. In the object processing method in the microscope having a measurement unit that measures the object, the position of the object in the measurement unit in order to set an imaging condition used when imaging the object, At least one of posture, thickness, swell, transmission amount, reflected light amount measurement, and measurement of the shape dimension of the specimen is performed, and in parallel with the measurement by the measurement unit, the object in the imaging unit is It is characterized by imaging different objects.

本発明の第3の側面は、投影光学系により撮像素子に投影された対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、前記計測部における前記対象物の計測と並行して前記撮像部における前記対象物とは異なる対象物の撮像を行い、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件として、前記撮像部で前記対象物を撮像する際の前記対象物の位置または姿勢、前記対象物に照明する光の光量または波長、前記対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のうち少なくとも1つを設定することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided an imaging unit that images an object projected onto an image sensor by a projection optical system, and the object for setting an imaging condition used when the imaging unit images the object. In a processing method of an object in a microscope having a measurement unit that measures an object, imaging an object different from the object in the imaging unit in parallel with the measurement of the object in the measurement unit, As imaging conditions used when imaging the object by the imaging unit, the position or orientation of the object when imaging the object by the imaging unit, the light amount or wavelength of light illuminating the object, At least one of an imaging area, an imaging time, a visual field shielding area, and an optical path length correction amount for imaging an object is set.

本発明によれば、計測部から撮像部へ対象物を搬送する間に撮像条件を設定する動作を行うことで、対象物の処理スループットを向上することが可能となる。また、撮像部における撮像と計測部における計測を並行して処理することで、ある対象物の撮像中に、次の対象物の予備計測を並行して行うことができる。これにより、対象物の処理スループットを向上することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to improve the processing throughput of an object by performing an operation of setting an imaging condition while conveying the object from the measurement unit to the imaging unit. In addition, by performing the imaging in the imaging unit and the measurement in the measurement unit in parallel, the preliminary measurement of the next target can be performed in parallel during the imaging of a certain target. Thereby, it is possible to improve the processing throughput of the object.

本発明の第1実施形態に係る顕微鏡のシステム構成例System configuration example of a microscope according to the first embodiment of the present invention 本発明の第1実施形態に係る顕微鏡の計測シーケンス例Example of measurement sequence of the microscope according to the first embodiment of the present invention 本発明の第2実施形態に係る顕微鏡のシステム構成例System configuration example of a microscope according to the second embodiment of the present invention 本発明の第2実施形態に係る顕微鏡の計測シーケンス例Example of measurement sequence of microscope according to second embodiment of the present invention

本発明の好ましい実施の形態では、まず対象物を撮像する際に使用する撮像条件を設定するために対象物を計測部で計測した後、対象物の撮像部への搬送と並行して撮像条件の設定を行う。これにより、対象物の処理スループットを向上することができる。更に好ましくは、その後、撮像部での対象物の撮像と並行して次の対象物を撮像する際に使用する撮像条件を設定するために、次の対象物を計測部で計測する。このことによって、対象物の処理スループットをより一層向上することができる。   In a preferred embodiment of the present invention, first, an object is measured by a measuring unit in order to set an imaging condition to be used when the object is imaged, and then the imaging condition is parallel to the conveyance of the object to the imaging unit. Set up. Thereby, the processing throughput of the object can be improved. More preferably, after that, in order to set the imaging condition used when imaging the next object in parallel with the imaging of the object by the imaging unit, the next object is measured by the measurement unit. As a result, the processing throughput of the object can be further improved.

(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態に係る顕微鏡におけるシステム構成例について図面を用いて説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a system configuration example in the microscope according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1と図2に、対象物の撮像と予備計測を並行処理するシステム構成について示す。図1と図2に示すように、対象物を撮像する撮像部1は、第1対象物10を照明する第1照明ユニット20、投影ユニット40を介して得られる投影像を撮像する第1撮像ユニット50と第1撮像ユニット50で得られた画像を処理する第1画像処理系51を含んで構成される。ここで、第1撮像ユニット50は、複数の撮像素子(CCDやCMOSおよび光電管等で、その形状はエリアセンサやラインセンサ等)が並べられたものや、1つの撮像素子によって構成されたものを用いることができる。   FIG. 1 and FIG. 2 show a system configuration for parallel processing of imaging of an object and preliminary measurement. As shown in FIGS. 1 and 2, the imaging unit 1 that captures an object captures a projection image obtained via a first illumination unit 20 and a projection unit 40 that illuminate the first object 10. A first image processing system 51 that processes images obtained by the unit 50 and the first imaging unit 50 is configured. Here, the first image pickup unit 50 includes a plurality of image pickup elements (CCD, CMOS, photoelectric tube, etc., the shape of which is an area sensor, a line sensor, etc.) or a single image pickup element. Can be used.

第1対象物10は、第1カバーガラス11と第1検体12及び第1スライドガラス13から構成される(ここで、カバーガラスは無くても構わない)。第1照明ユニット20は、第1光源21と第1光源21からの光束を整形する第1コリメータ22及び、例えばレンズやミラーを含む第1照明光学系23等から構成される。第1光源21には、水銀ランプやLED等が用いられる。投影ユニット40は、投影光学系41と鏡筒43から構成される。投影光学系41には、レンズのみで構成される光学系やレンズとミラーとを組み合わせた光学系が含まれる。また、レンズやミラーなどの位置や姿勢を調整して光学系の収差などの補正を行う光学素子の駆動調整機構42を用いることができる。さらに、光路長補正用の平行平板44などの光学素子を鏡筒43内部や鏡筒43と第1撮像ユニット50との間や鏡筒43と第1対象物10との間などの光路中に出し入れできる機構を設けることもできる。これにより、例えばカバーガラスの厚さが変更されたときに光路長補正することができる。カバーガラスの厚さが薄い場合には厚い平行平板を配置し、カバーガラスの厚さが厚い場合には薄い平行平板を配置するなどする。   The first object 10 includes a first cover glass 11, a first specimen 12, and a first slide glass 13 (here, the cover glass may be omitted). The first illumination unit 20 includes a first light source 21, a first collimator 22 that shapes a light beam from the first light source 21, and a first illumination optical system 23 including a lens and a mirror, for example. A mercury lamp, LED, or the like is used for the first light source 21. The projection unit 40 includes a projection optical system 41 and a lens barrel 43. The projection optical system 41 includes an optical system composed of only a lens and an optical system combining a lens and a mirror. Further, it is possible to use a drive adjustment mechanism 42 for the optical element that corrects aberrations of the optical system by adjusting the position and posture of the lens and mirror. Further, an optical element such as a parallel plate 44 for correcting the optical path length is placed in the optical path such as the inside of the lens barrel 43, between the lens barrel 43 and the first imaging unit 50, or between the lens barrel 43 and the first object 10. A mechanism that can be taken in and out can also be provided. Thereby, for example, when the thickness of the cover glass is changed, the optical path length can be corrected. When the cover glass is thin, a thick parallel plate is disposed, and when the cover glass is thick, a thin parallel plate is disposed.

計測部2は、変位計60や第2照明ユニット25、第2撮像ユニット61や第2画像処理系62、変位信号処理系63等を含んで構成される。計測部2では、第2対象物15の予備計測を行うことで、撮像部1で第2対象物15を撮像する際に用いる撮像条件を決定するためのパラメータを検出する。   The measuring unit 2 includes a displacement meter 60, a second illumination unit 25, a second imaging unit 61, a second image processing system 62, a displacement signal processing system 63, and the like. In the measurement unit 2, by performing preliminary measurement of the second object 15, a parameter for determining an imaging condition used when the imaging unit 1 images the second object 15 is detected.

第2対象物15は、第2カバーガラス16と第2検体17と第2スライドガラス18から構成される(ここで、カバーガラスは無くても構わない)。第2照明ユニット25は、第2光源26、第2光源26からの光束を整形する第2コリメータ27及び、例えばレンズやミラーを含む第2照明光学系28等から構成される。画像処理系62は、第2撮像ユニット61で得られた画像を処理する。ここで、第2撮像ユニット61は、複数の撮像素子(CCDやCMOSおよび光電管等で、その形状はエリアセンサやラインセンサ等)が並べられたものや、1つの撮像素子によって構成されたものを用いることができる。   The second object 15 includes a second cover glass 16, a second specimen 17, and a second slide glass 18 (here, the cover glass may be omitted). The second illumination unit 25 includes a second light source 26, a second collimator 27 that shapes the light beam from the second light source 26, and a second illumination optical system 28 including, for example, a lens and a mirror. The image processing system 62 processes the image obtained by the second imaging unit 61. Here, the second image pickup unit 61 includes a plurality of image pickup elements (CCD, CMOS, phototube, etc., the shape of which is an area sensor, a line sensor, etc.) arranged or one image pickup element. Can be used.

こうした装置構成からなる撮像部1における撮像と、計測部2における計測を並行処理することによって、複数の対象物を連続処理する際の処理スループットを向上することができる。並行処理を行うための制御は、制御部100が行う。   By performing parallel processing of imaging in the imaging unit 1 having such a device configuration and measurement in the measurement unit 2, it is possible to improve processing throughput when continuously processing a plurality of objects. The control unit 100 performs control for performing parallel processing.

また、撮像部1と計測部2の間での対象物の搬送は、回転粗動ステージ71と、第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73を含む搬送装置70によって行われる。第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73は、真空吸着や機械的な方法によって対象物をそれぞれ保持する。第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73は、リニアモータ等によって、回転粗動ステージ71に対してx、y、z方向に移動する。回転粗動ステージ71の駆動源には、リニアモータやUSM、ACモータ、DCモータ等を用いることができる。ここでは粗微動型ステージによる搬送装置を示すが、回転粗動ステージ71の位置決め精度で十分であれば、微動ステージを用いない構成であってもよい。また、回転粗動ステージ71と、第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73には、照明ユニットからの光が対象物に照明されるように開口が設けられている。   Further, the conveyance of the object between the imaging unit 1 and the measurement unit 2 is performed by a conveyance device 70 including a rotary coarse movement stage 71, a first fine movement stage 72, and a second fine movement stage 73. The first fine movement stage 72 and the second fine movement stage 73 hold the object by vacuum suction or a mechanical method, respectively. The first fine movement stage 72 and the second fine movement stage 73 are moved in the x, y, and z directions with respect to the rotary coarse movement stage 71 by a linear motor or the like. A linear motor, a USM, an AC motor, a DC motor, or the like can be used as a drive source for the rotary coarse movement stage 71. Here, a conveying device using a coarse / fine movement type stage is shown, but if the positioning accuracy of the rotary coarse movement stage 71 is sufficient, a structure without using the fine movement stage may be used. In addition, the rotary coarse movement stage 71, the first fine movement stage 72, and the second fine movement stage 73 are provided with openings so that light from the illumination unit is illuminated onto the object.

複数の対象物を連続処理する際のシーケンスを図2(a)〜(e)に示す。(a)Step1では、対象物Aを第1微動ステージ72上へ搬入して、計測部2により予備計測を行う。この際、対象物Aを例えばプレパラートAとすれば、その位置や姿勢及びうねり等を変位計60を用いて計測する。変位計60には、レーザー変位計や超音波変位計あるいはプレパラートへ光を斜入射させた反射光をセンサ内部に取り込む光学式の変位計等を用いることができる。プレパラートを構成するカバーガラスの厚さや透過または反射光量やプレパラートに含まれる検体の形状寸法を第2照明ユニット25や第2撮像ユニット61で計測する。   A sequence when continuously processing a plurality of objects is shown in FIGS. (A) In Step 1, the object A is carried onto the first fine movement stage 72, and preliminary measurement is performed by the measurement unit 2. At this time, if the object A is, for example, a preparation A, its position, posture, swell, and the like are measured using the displacement meter 60. As the displacement meter 60, a laser displacement meter, an ultrasonic displacement meter, or an optical displacement meter that takes in reflected light obtained by obliquely making light incident on a slide can be used. The second illumination unit 25 and the second imaging unit 61 measure the thickness of the cover glass constituting the preparation, the amount of transmitted or reflected light, and the shape of the specimen included in the preparation.

(b)Step2では、搬送装置70を回転させてプレパラートAを撮像部1へ搬送した後、プレパラートBを第2微動ステージ73上へ搬入する。ここで、制御部100により、これらの動作と並行してStep1で予備計測を行ったプレパラートAの撮像条件を設定する。ここで、撮像条件の設定とは例えば、変位計60を用いたプレパラートAのうねり計測結果をもとにプレパラートの位置や姿勢を第1微動ステージ72を用いて調整して投影光学系41の合焦点位置へと調整することをいう。また、第2照明ユニット25と第2撮像ユニット61から得られた透過光量あるいは反射光量をもとに第1照明ユニット20の照明光量や波長および撮像時間や視野遮蔽領域の調整を行うことも含む。さらには、プレパラートに含まれる検体の存在領域を撮像素子で処理する撮像領域に設定することや、レンズやミラーなどの位置や姿勢の駆動調整機構42を用いて収差などの補正を行うことなどが挙げられる。ここで、プレパラートに含まれる検体の存在領域のみを撮像領域として処理すれば、必要な画素の画像処理だけで済むため、さらなる計測スループットの向上を実現できる。このため、第1撮像ユニット50には、部分読み出し可能なアドレス回路により制御されるCMOSセンサを採用することが有効である。検体の存在領域はプレパラートAの透過光量あるいは反射光量から特定することができる。その存在領域を撮像領域として、それに応じた位置にある画素からの信号のみを処理して画像を取得する。   (B) In Step 2, the conveyance device 70 is rotated to convey the preparation A to the imaging unit 1, and then the preparation B is carried onto the second fine movement stage 73. Here, in parallel with these operations, the control unit 100 sets the imaging conditions for the preparation A for which preliminary measurement was performed in Step 1. Here, the setting of the imaging conditions refers to, for example, adjusting the position and posture of the preparation using the first fine movement stage 72 based on the swell measurement result of the preparation A using the displacement meter 60 and adjusting the projection optical system 41. Adjustment to the focal position. In addition, adjustment of the illumination light amount, wavelength, imaging time, and field-of-view shielding area of the first illumination unit 20 based on the transmitted light amount or the reflected light amount obtained from the second illumination unit 25 and the second imaging unit 61 is also included. . Furthermore, the presence region of the specimen included in the preparation may be set as an imaging region to be processed by the imaging device, or aberrations may be corrected using the position and orientation drive adjustment mechanism 42 such as a lens and a mirror. Can be mentioned. Here, if only the presence region of the specimen included in the preparation is processed as the imaging region, only the image processing of necessary pixels is required, so that further improvement in measurement throughput can be realized. For this reason, it is effective to employ a CMOS sensor controlled by a partially readable address circuit for the first imaging unit 50. The region where the specimen is present can be specified from the transmitted light amount or reflected light amount of the preparation A. The presence area is set as an imaging area, and an image is acquired by processing only signals from pixels located at the corresponding positions.

次の(c)Step3において、プレパラートAの撮像と並行してプレパラートBを予備計測する。そして、プレパラートAの撮像とプレパラートBの予備計測が終了した後、搬送装置70を回転させることと並行して撮像部1における撮像条件をプレパラートBに合わせて設定する。この際、搬送装置70に配線等が設けられている場合、巻きつかないようにStep2とは回転方向を逆にすることや、スリップリングを用いることが有効である。   In the next (c) Step 3, the preparation B is preliminarily measured in parallel with the imaging of the preparation A. After the preparation A and the preliminary measurement of the preparation B are completed, the imaging conditions in the imaging unit 1 are set in accordance with the preparation B in parallel with the rotation of the transport device 70. At this time, when wiring or the like is provided in the transport device 70, it is effective to reverse the rotation direction from Step 2 or to use a slip ring so as not to be wound.

次に、(d)Step4でプレパラートAを搬出してプレパラートCを搬入する。(e)Step5でプレパラートBの撮像とプレパラートCの予備計測を並行して行った後、搬送装置70を回転させることと並行して撮像部1における撮像条件をプレパラートCに合わせて設定する。その後は、Step4とStep5の処理を繰り返し行う。   Next, (d) Prepare A is carried out and Step C is carried in at Step 4. (E) After performing the imaging of the preparation B and the preliminary measurement of the preparation C in Step 5 in parallel, the imaging conditions in the imaging unit 1 are set in accordance with the preparation C in parallel with the rotation of the transport device 70. After that, Step 4 and Step 5 are repeated.

このように、撮像と予備計測とを並行して行うこと、更には搬送と撮像条件の設定とを並行して行うことで、スループットの向上を図ることができる。   Thus, throughput can be improved by performing imaging and preliminary measurement in parallel, and further performing conveyance and setting of imaging conditions in parallel.

(第2実施形態)
第2実施形態について図3と図4を用いて説明する。ここで示すシステム構成は、第1実施形態とは主に対象物の搬送装置や計測部の構成が異なる。
(Second Embodiment)
A second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. The system configuration shown here is different from the first embodiment mainly in the configuration of the object transfer device and the measurement unit.

計測部2は、第3照明ユニット30やシャックハルトマン・センサ37、第2撮像ユニット61や第2画像処理系62、変位信号処理系63等を含んで構成される。計測部2では、第2対象物15の予備計測を行うことで、撮像部1で第2対象物15を撮像する際に用いる撮像条件を決定するためのパラメータを検出する。   The measuring unit 2 includes a third illumination unit 30, a Shack-Hartmann sensor 37, a second imaging unit 61, a second image processing system 62, a displacement signal processing system 63, and the like. In the measurement unit 2, by performing preliminary measurement of the second object 15, a parameter for determining an imaging condition used when the imaging unit 1 images the second object 15 is detected.

第2対象物15は、第2カバーガラス16と第2検体17と第2スライドガラス18から構成される。第3照明ユニット30は、例えば第3光源31、第3光源31からの光束を整形する第3コリメータ32及びビームスプリッタ34、凸レンズ35や凹レンズ36などを含む第3照明光学系33から構成される。ここで、凸レンズ35や凹レンズ36は、照明光の拡大あるいは縮小して収差補正するためのものであり、図示の個数や構成に限定されるものではない。画像処理系62は、第2撮像ユニット61で得られた画像を処理する。   The second object 15 includes a second cover glass 16, a second specimen 17, and a second slide glass 18. The third illumination unit 30 includes, for example, a third light source 31, a third collimator 32 that shapes a light beam from the third light source 31, a beam splitter 34, a third illumination optical system 33 including a convex lens 35 and a concave lens 36. . Here, the convex lens 35 and the concave lens 36 are for correcting aberrations by enlarging or reducing illumination light, and are not limited to the number and configuration shown in the figure. The image processing system 62 processes the image obtained by the second imaging unit 61.

搬送装置は、図3に示すように第1搬送装置75と第2搬送装置78を有し、それぞれ第1粗動ステージ76と第1微動ステージ72、第2粗動ステージ79と第2微動ステージ73から構成される。第1粗動ステージ76と第2粗動ステージ79はマグネットを有しており、固定子81に設けられたコイルとによりローレンツ型の平面モータを構成している。第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73は、リニアモータ等によって、それぞれ第1粗動ステージ76及び第2粗動ステージ79に対してx、y、z方向に移動する。ここでは、粗微動構成としたが、コイルが複数積層された固定子を用いることで、微動ステージを用いない構成であってもよい。また、第1粗動ステージ76と第2粗動ステージ79側にコイルを用い、固定子81側にマグネットを用いた構成でもよい。さらに、上述したローレンツ型の平面モータではなく、平面パルスモータを用いてもよい。   As shown in FIG. 3, the transfer device includes a first transfer device 75 and a second transfer device 78, and a first coarse movement stage 76 and a first fine movement stage 72, and a second coarse movement stage 79 and a second fine movement stage, respectively. 73. The first coarse motion stage 76 and the second coarse motion stage 79 have magnets, and a coil provided on the stator 81 constitutes a Lorentz type planar motor. The first fine movement stage 72 and the second fine movement stage 73 are moved in the x, y, and z directions with respect to the first coarse movement stage 76 and the second coarse movement stage 79, respectively, by a linear motor or the like. Here, although a coarse / fine movement configuration is used, a configuration in which a fine movement stage is not used may be used by using a stator in which a plurality of coils are stacked. Further, a configuration in which a coil is used on the first coarse movement stage 76 and the second coarse movement stage 79 side and a magnet is used on the stator 81 side may be used. Further, a flat pulse motor may be used instead of the Lorentz type flat motor described above.

固定子81、第1粗動ステージ76及び第2粗動ステージ79、第1微動ステージ72及び第2微動ステージ73には、照明ユニットからの光が対象物に照明されるように開口が設けられている。その他の点は、第1実施形態と同じなので説明は省略する。   The stator 81, the first coarse movement stage 76 and the second coarse movement stage 79, the first fine movement stage 72, and the second fine movement stage 73 are provided with openings so that the light from the illumination unit is illuminated onto the object. ing. Since other points are the same as those of the first embodiment, description thereof will be omitted.

複数の対象物を連続処理する際のシーケンスを、図4(a)〜(e)に示す。(a)Step1では、対象物Aを搬送装置上へ搬入して予備計測を行う。この際、対象物AをプレパラートAとすれば、そのうねり等を第3照明ユニット30とシャックハルトマン・センサ37等を用いて計測する。そして、プレパラートを構成するカバーガラスの厚さや透過または反射光量を第3照明ユニット30や第2撮像ユニット61等を用いて計測する。(b)Step2では、第1搬送装置75と第2搬送装置78を水平移動し位置を交換させてプレパラートAを撮像部1へ搬送した後、プレパラートBを計測部2へ搬入する。ここで、制御部100によって、これらの動作と並行してStep1で予備計測を行ったプレパラートAの撮像条件を設定する。   A sequence when continuously processing a plurality of objects is shown in FIGS. (A) In Step 1, the object A is carried onto the transport device and preliminary measurement is performed. At this time, if the object A is a preparation A, the swell or the like is measured using the third lighting unit 30 and the Shack-Hartmann sensor 37 or the like. And the thickness of the cover glass which comprises a preparation, the transmitted or reflected light quantity is measured using the 3rd illumination unit 30, the 2nd imaging unit 61 grade | etc.,. (B) In Step 2, the first transport device 75 and the second transport device 78 are moved horizontally to exchange positions, transport the preparation A to the imaging unit 1, and then transport the preparation B into the measurement unit 2. Here, in parallel with these operations, the control unit 100 sets imaging conditions for the preparation A for which preliminary measurement was performed in Step 1.

次の(c)Step3では、制御部100によってプレパラートAの撮像と並行してプレパラートBを予備計測する。そして、プレパラートAの撮像とプレパラートBの予備計測が終了した後、第1搬送装置75と第2搬送装置78を水平移動し位置を交換すると並行して撮像部1における撮像条件をプレパラートBに合わせて設定する。この際、第1搬送装置75と第2搬送装置78に配線等が設けられている場合、巻きつかないようにStep2とは移動方向を逆にすることが有効である。   In the next (c) Step 3, the control unit 100 preliminarily measures the preparation B in parallel with the imaging of the preparation A. Then, after the imaging of the preparation A and the preliminary measurement of the preparation B are completed, the imaging conditions in the imaging unit 1 are adjusted to the preparation B in parallel with the horizontal movement of the first conveyance device 75 and the second conveyance device 78 and exchanging positions. To set. At this time, when wiring or the like is provided in the first transport device 75 and the second transport device 78, it is effective to reverse the moving direction from Step 2 so as not to wind.

次に、(d)Step4でプレパラートAを搬出してプレパラートCを搬入する。(e)Step5でプレパラートBの撮像とプレパラートCの予備計測を制御部100によって並行して行った後、第1搬送装置75と第2搬送装置78を水平移動し位置を交換することと撮像部1における撮像条件をプレパラートCに合わせて設定することを並行して行う。   Next, (d) Prepare A is carried out and Step C is carried in at Step 4. (E) After performing the imaging of the preparation B and the preliminary measurement of the preparation C in Step 5 by the control unit 100 in parallel, the first conveyance device 75 and the second conveyance device 78 are horizontally moved to exchange positions and the imaging unit. In parallel, the imaging condition in 1 is set in accordance with the preparation C.

その後は、Step4とStep5の処理を繰り返し行う。上記実施形態では搬送装置としてステージを用いたが、ベルトコンベアやロボットハンド等を用いて搬送することも考えられる。   After that, Step 4 and Step 5 are repeated. In the above embodiment, the stage is used as the transfer device, but it is also possible to transfer using a belt conveyor or a robot hand.

以上のように、第1実施形態ではプレパラートの移動には回転ステージを用い、予備計測には変位計を用いた構成を説明した。また、第2実施形態ではプレパラートの移動には平面モータを用い、予備計測にはシャックハルトマン・センサを用いた構成を説明した。しかしながら、プレパラートの移動には回転ステージを用い、予備計測にはシャックハルトマン・センサを用いた構成や、プレパラートの移動には平面モータを用い、予備計測には変位計を用いた構成でもよい。   As described above, the first embodiment has described the configuration using the rotary stage for the preparation movement and the displacement meter for the preliminary measurement. In the second embodiment, a configuration using a planar motor for the preparation movement and a Shack-Hartmann sensor for the preliminary measurement has been described. However, a rotary stage may be used for the preparation movement, a Shack-Hartmann sensor may be used for the preliminary measurement, a planar motor may be used for the preparation movement, and a displacement meter may be used for the preliminary measurement.

本発明の思想を考慮すれば、一方の対象物の撮像と他方の対象物の予備計測とを並行して行うことができれば、プレパラートの移動や予備計測の構成は特に限定されるものではない。   Considering the idea of the present invention, the configuration of the slide movement and the preliminary measurement is not particularly limited as long as the imaging of one object and the preliminary measurement of the other object can be performed in parallel.

1 撮像部
2 計測部
10 第1対象物
15 第2対象物
20 第1照明ユニット
25 第2照明ユニット
30 第3照明ユニット
40 投影ユニット
50 第1撮像ユニット
61 第2撮像ユニット
100 制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Imaging part 2 Measuring part 10 1st target object 15 2nd target object 20 1st illumination unit 25 2nd illumination unit 30 3rd illumination unit 40 Projection unit 50 1st imaging unit 61 2nd imaging unit 100 Control part

Claims (7)

投影光学系により撮像素子に投影された対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、
対象物を前記計測部により計測を行う位置から前記撮像部により撮像を行う位置へ搬送することに並行して、前記計測部における前記対象物の計測結果を用いて前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件の設定を行うことを特徴とする対象物の処理方法。
An imaging unit that images the object projected onto the image sensor by the projection optical system; a measurement unit that measures the object to set an imaging condition used when the imaging unit images the object; In a method for processing an object in a microscope having
In parallel with transporting the object from the position where measurement is performed by the measurement unit to the position where imaging is performed by the imaging unit, the object is measured by the imaging unit using the measurement result of the object in the measurement unit. An object processing method, wherein an imaging condition used for imaging is set.
前記撮像条件は、前記撮像部で前記対象物を撮像する際の前記対象物の位置または姿勢、前記対象物に照明する光の光量または波長、前記対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の対象物の処理方法。   The imaging conditions include the position or orientation of the object when the imaging unit captures the object, the light amount or wavelength of light that illuminates the object, the imaging area when imaging the object, and the imaging time The object processing method according to claim 1, further comprising at least one of: a field-of-view shielding region, and an optical path length correction amount. 投影光学系により撮像素子に投影された検体を含む対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、
前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために、前記計測部において前記対象物の位置、姿勢、厚さ、うねり、透過光量、反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測のうち少なくとも1つを行い、
前記計測部での計測に並行して、前記撮像部において前記対象物とは異なる対象物の撮像を行うことを特徴とする対象物の処理方法。
An imaging unit that images an object including a specimen projected onto an imaging element by a projection optical system, and a measurement that measures the object to set an imaging condition used when imaging the object by the imaging unit In a processing method of an object in a microscope having a part,
In order to set imaging conditions used when imaging the object, the measurement unit measures the position, posture, thickness, swell, transmitted light amount, reflected light amount of the object, and measures the shape dimension of the specimen. Do at least one of them,
In parallel with the measurement by the measurement unit, the imaging unit performs imaging of an object different from the object.
前記対象物は、更にカバーガラスを含み、
前記計測部では、前記対象物の位置、姿勢、厚さ、うねり、透過光量、反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測、前記カバーガラスの厚さの計測のうち少なくとも1つを行うことを特徴とする請求項3に記載の対象物の処理方法。
The object further includes a cover glass,
The measurement unit performs at least one of the position, posture, thickness, undulation, transmitted light amount, reflected light amount measurement of the object, measurement of the shape of the specimen, and measurement of the thickness of the cover glass. The processing method of the target object of Claim 3 characterized by these.
前記撮像条件は、前記撮像部で前記対象物を撮像する際の前記対象物の位置または姿勢、前記対象物に照明する光の光量または波長、前記対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項3または4に記載の対象物の処理方法。   The imaging conditions include the position or orientation of the object when the imaging unit captures the object, the light amount or wavelength of light that illuminates the object, the imaging area when imaging the object, and the imaging time 5. The object processing method according to claim 3, further comprising at least one of a field-of-view shielding region and an optical path length correction amount. 投影光学系により撮像素子に投影された対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記対象物の計測を行う計測部と、を有する顕微鏡における対象物の処理方法において、
前記計測部における前記対象物の計測と並行して前記撮像部における前記対象物とは異なる対象物の撮像を行い、
前記撮像部で前記対象物を撮像する際に用いる撮像条件として、前記撮像部で前記対象物を撮像する際の前記対象物の位置または姿勢、前記対象物に照明する光の光量または波長、前記対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のうち少なくとも1つを設定することを特徴とする対象物の処理方法。
An imaging unit that images the object projected onto the image sensor by the projection optical system; a measurement unit that measures the object to set an imaging condition used when the imaging unit images the object; In a method for processing an object in a microscope having
In parallel with the measurement of the object in the measurement unit, to image an object different from the object in the imaging unit,
As imaging conditions used when imaging the object by the imaging unit, the position or orientation of the object when imaging the object by the imaging unit, the light amount or wavelength of light illuminating the object, A processing method for an object, wherein at least one of an imaging area, an imaging time, a visual field shielding area, and an optical path length correction amount when imaging the object is set.
前記対象物はプレパラートであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の対象物の処理方法The method of processing an object according to any one of claims 1 to 6 , wherein the object is a preparation.
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