JP5189448B2 - Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method - Google Patents

Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method Download PDF

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Description

本発明は、平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法に関する。   The present invention relates to a planographic printing plate precursor and a method for making a planographic printing plate.

従来、平版印刷版としては、親水性表面を有する支持体上に感光性樹脂層を設けた構成を有し、その製版方法として、通常は、リスフィルムを介して面露光(マスク露光)した後、非画像部を現像液により除去することにより所望の印刷版を得ていた。しかし近年のデジタル化技術により、レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報にしたがって版面に走査することで、リスフィルムを介することなく直接版面に露光処理を行うコンピュータートゥプレート(CTP)技術が開発され、またこれに適応した感光性平版印刷版(平版印刷版原版)が開発されている。
このようなレーザー光による露光に適した平版印刷版原版として、重合性感光層を用いた平版印刷版原版を挙げることができる。重合性感光層は光重合開始剤又は重合開始系(以下、単に開始剤又は開始系ともいう。)を選択することで、他の従来の感光層に比べ高感度化が容易である。
レーザー光源としては、405nmあるいは830nmの半導体レーザー、FD−YAGレーザーなどが用いられる。近年、システムコスト、取扱性の観点から、405nmの半導体レーザーを搭載したCTPシステムが普及している。
Conventionally, a lithographic printing plate has a structure in which a photosensitive resin layer is provided on a support having a hydrophilic surface. As a plate-making method, usually, surface exposure (mask exposure) is performed through a lithographic film. The desired printing plate was obtained by removing the non-image area with a developer. However, computer-to-plate that directly exposes the plate surface without using a lith film by scanning the plate surface according to digitized image information with highly directional light such as laser light by recent digitization technology. (CTP) technology has been developed, and a photosensitive lithographic printing plate (lithographic printing plate precursor) adapted to the technology has been developed.
Examples of the lithographic printing plate precursor suitable for exposure with such laser light include a lithographic printing plate precursor using a polymerizable photosensitive layer. By selecting a photopolymerization initiator or a polymerization initiator system (hereinafter also simply referred to as an initiator or an initiator system), the polymerizable photosensitive layer can be easily increased in sensitivity as compared with other conventional photosensitive layers.
As the laser light source, a 405 nm or 830 nm semiconductor laser, an FD-YAG laser, or the like is used. In recent years, CTP systems equipped with a 405 nm semiconductor laser have become widespread from the viewpoint of system cost and handleability.

また、特許文献1には、エチレン性不飽和結合を有する化合物、M(X)n〔式中、MはB、Al、Fe、Sn又はZnを表し、Xはハロゲン、nは1〜3の整数を表す。〕で表されるルイス酸及びa)オニウム塩,b)ハロゲン原子を有するトリアジン系化合物,c)鉄アレーン錯体,d)ビスイミダゾールから選ばれるラジカル発生剤を含有することを特徴とする光重合性組成物が開示されている。 Patent Document 1 discloses a compound having an ethylenically unsaturated bond, M (X) n [wherein M represents B, Al, Fe, Sn, or Zn, X represents halogen, and n represents 1 to 3. Represents an integer. And a radical generator selected from a) an onium salt, b) a triazine compound having a halogen atom, c) an iron arene complex, and d) bisimidazole. A composition is disclosed.

特開平9−309907号公報JP-A-9-309907

本発明の目的は、細線抜け性及び耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製版方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor excellent in fine line loss and printing durability, and a lithographic printing plate making method.

本発明の上記課題は以下の<1>又は<7>に記載の手段によって解決された。好ましい実施態様である<2>〜<6>及び<8>〜<10>と共に以下に記載する。
<1>支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、及び、(E)フェノチアジン系化合物を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版、
<2>前記(E)フェノチアジン系化合物が、下記式(1)で表される化合物である上記<1>に記載の平版印刷版原版、
The above-described problems of the present invention have been solved by the means described in <1> or <7> below. It describes below with <2>-<6> and <8>-<10> which are preferable embodiments.
<1> A photosensitive layer containing (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and (E) a phenothiazine-based compound is provided on the support. Lithographic printing plate precursor, characterized by
<2> The lithographic printing plate precursor as described in <1> above, wherein the (E) phenothiazine compound is a compound represented by the following formula (1):

Figure 0005189448
(式(1)中、X及びYはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、p及びqはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表す。)
Figure 0005189448
(In formula (1), X and Y each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an alkylthio group, and p and q each independently represent an integer of 0 to 4.)

<3>リン酸基及び/又はホスホン酸基を有する樹脂を含む層を支持体と感光層との間に有する上記<1>又は<2>に記載の平版印刷版原版、
<4>前記(E)フェノチアジン系化合物の含有量が、前記(C)重合性化合物の総重量100重量部に対し、0.005〜0.1重量部である上記<1>〜<3>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版、
<5>前記(E)フェノチアジン系化合物の含有量が、前記(C)重合性化合物の総重量100重量部に対し、0.01〜0.05重量部である上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版、
<6>前記(B)重合開始剤が、オニウム塩及び/又はヘキサアリールビイミダゾール化合物である上記<1>〜<5>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版、
<7>上記<1>〜<6>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、現像液の存在下で非露光部の感光層を除去する現像工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法、
<8>前記現像液のpHが、5〜10である上記<7>に記載の平版印刷版の製版方法、
<9>前記現像工程が、非露光部の感光層の除去及びガム引きを1液で同時に行う工程である上記<7>又は<8>に記載の平版印刷版の製版方法、
<10>前記現像工程の前及び後のいずれにも水洗工程を施さない上記<7>〜<9>のいずれか1つに記載の平版印刷版の製版方法。
<3> The lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2> above, which has a layer containing a resin having a phosphate group and / or a phosphonic acid group between the support and the photosensitive layer.
<4> The above <1> to <3>, wherein the content of the (E) phenothiazine-based compound is 0.005 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total weight of the polymerizable compound (C). The lithographic printing plate precursor as described in any one of
<5> The above <1> to <4>, wherein the content of the (E) phenothiazine compound is 0.01 to 0.05 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total weight of the polymerizable compound (C). The lithographic printing plate precursor as described in any one of
<6> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <5> above, wherein the (B) polymerization initiator is an onium salt and / or a hexaarylbiimidazole compound,
<7> An exposure process for image exposure of the lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <6> above, and a development process for removing the photosensitive layer in the non-exposed area in the presence of the developer. A process for making a lithographic printing plate, comprising:
<8> The plate making method of a lithographic printing plate according to <7>, wherein the pH of the developer is 5 to 10,
<9> The plate making method of a lithographic printing plate according to the above <7> or <8>, wherein the development step is a step of simultaneously removing the photosensitive layer in the non-exposed area and gumming with one liquid,
<10> The method for making a lithographic printing plate as described in any one of <7> to <9>, wherein the water washing step is not performed before and after the development step.

本発明によれば、細線抜け性及び耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製版方法を提供することができた。   According to the present invention, it was possible to provide a lithographic printing plate precursor excellent in fine line pull-out and printing durability, and a lithographic printing plate making method.

以下、本発明の平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the lithographic printing plate precursor and the lithographic printing plate making method of the present invention will be described in detail.

(平版印刷版原版)
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、及び、(E)フェノチアジン系化合物を含有する感光層を有することを特徴とする。
また、本発明の平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版である。
(Lithographic printing plate precursor)
The planographic printing plate precursor of the present invention comprises (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and (E) a phenothiazine compound on a support. It has the photosensitive layer to contain.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is a negative lithographic printing plate precursor.

平版印刷版原版の感光層に従来の重合禁止剤を使用した場合、重合禁止剤の重合禁止効果から細線抜け性は優れるものの、耐刷性は逆に悪化するという問題があった。
上記問題を鑑み、本発明者らは種々の検討を行った結果、感光層にフェノチアジン系化合物を含有させることにより、細線抜け性及び耐刷性が両方とも優れた平版印刷版原版が得られることを見いだした。
When a conventional polymerization inhibitor is used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor, there is a problem that the printing durability is deteriorated, although the fine line pull-out property is excellent due to the polymerization inhibitory effect of the polymerization inhibitor.
In view of the above problems, the present inventors have conducted various studies. As a result, by including a phenothiazine-based compound in the photosensitive layer, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor excellent in both fine line pull-out property and printing durability. I found.

<感光層>
本発明の平版印刷版原版における感光層(以下、「画像形成層」又は「記録層」ともいう。)は、基本成分として、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、及び、(E)フェノチアジン系化合物を含有する。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer (hereinafter also referred to as “image forming layer” or “recording layer”) in the lithographic printing plate precursor according to the invention comprises (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) as basic components. It contains a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and (E) a phenothiazine compound.

(A)増感色素
本発明の平版印刷版原版における感光層は、増感色素を含有する。
例えば300〜450nmに極大吸収を有する増感色素や、500〜600nmに極大吸収を有する増感色素、750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素(赤外線吸収剤)を添加することで、各々、当業界で通常用いられている405nmのバイオレットレーザ、532nmのグリーンレーザ、830nmのIRレーザに対応した高感度な平版印刷版を提供することができる。
まず、350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素について説明する。
この様な増感色素としては、例えば、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。
(A) Sensitizing dye The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a sensitizing dye.
For example, by adding a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm, a sensitizing dye having a maximum absorption at 500 to 600 nm, and a sensitizing dye (infrared absorber) having a maximum absorption at 750 to 1,400 nm, High-sensitivity lithographic printing plates corresponding to a 405 nm violet laser, a 532 nm green laser, and an 830 nm IR laser, which are usually used in the industry, can be provided.
First, a sensitizing dye having a maximum absorption in the wavelength region of 350 to 450 nm will be described.
Examples of such a sensitizing dye include merocyanine dyes, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, and the like.

360nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記式(IX)で表される色素である。   Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 360 nm to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following formula (IX).

Figure 0005189448
(式(IX)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環基又はヘテロ環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又はNR3を表す。R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、AとR1及びR2とR3はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。)
Figure 0005189448
(In the formula (IX), A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 3. R 1 , R 2 and R 3 represent Each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and A and R 1 and R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.)

式(IX)についてさらに詳しく説明する。
1、R2及びR3はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、好ましくは、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換の芳香族複素環残基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、又は、ハロゲン原子を表す。
Formula (IX) will be described in more detail.
R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, It represents a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

次に、式(IX)におけるAについて説明する。
Aは置換基を有してもよい芳香族環基又はヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環の具体例としては、式(IX)中のR1、R2及びR3で記載したものと同様のものが挙げられる。
Next, A in the formula (IX) will be described.
A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent. Specific examples of the aromatic ring or heterocyclic ring which may have a substituent include R 1 in formula (IX), It includes the same as those described for R 2 and R 3.

このような増感色素の具体例としては特開2007−58170号公報の段落0047〜0053に記載の化合物が好ましく用いられる。   As specific examples of such sensitizing dyes, compounds described in paragraphs 0047 to 0053 of JP-A-2007-58170 are preferably used.

さらに、下記式(V)〜(VII)で示される増感色素も用いることができる。   Furthermore, sensitizing dyes represented by the following formulas (V) to (VII) can also be used.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(V)中、R1〜R14はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。ただし、R1〜R10の少なくとも1つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
式(VI)中、R15〜R32はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。ただし、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (V), R < 1 > -R < 14 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom each independently. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In the formula (VI), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(VII)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、−NR45基又は−OR6基を表し、R4、R5及びR6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、k、m及びnはそれぞれ独立に、0〜5の整数を表す。 In formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an —NR 4 R 5 group or an —OR 6 group, and R 4 , R 5 And R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and k, m and n each independently represents an integer of 0 to 5.

また、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号の各公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。
前記感光層における増感色素の好ましい添加量は、感光層の全固形分100重量部に対し、0.05〜30重量部であることが好ましく、0.1〜20重量部であることがより好ましく、0.2〜10重量部であることがさらに好ましい。
JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, JP 2007-328243. The sensitizing dyes described in each of the above publications can also be preferably used.
A preferable addition amount of the sensitizing dye in the photosensitive layer is preferably 0.05 to 30 parts by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the photosensitive layer. The amount is preferably 0.2 to 10 parts by weight.

続いて、本発明にて好適に用いられる750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素について詳述する。なお、本発明においては、「750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素」を、「赤外線吸収剤」ともいう。
ここに使用される増感色素は、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、前記重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させるものと推定されている。いずれせよ、750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素を添加することは、750nm〜1,400nmの波長を有する赤外線レーザ光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。
Subsequently, a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1,400 nm that is preferably used in the present invention will be described in detail. In the present invention, the “sensitizing dye having maximum absorption at 750 to 1,400 nm” is also referred to as “infrared absorber”.
The sensitizing dye used here is highly sensitive to infrared laser irradiation (exposure) and is in an electronically excited state. The electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), etc., associated with the electronically excited state are the photosensitive layer. It is presumed that it acts on a polymerization initiator coexisting therein to cause a chemical change in the polymerization initiator to generate a radical. In any case, the addition of a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1,400 nm is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1,400 nm. Compared with a printing plate precursor, it can exhibit high image forming properties.

赤外線吸収剤は、750〜1,400nmの波長に吸収極大を有する染料又は顔料であることが好ましい。   The infrared absorber is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 to 1,400 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記式(a)で表されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following formula (a).

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を表し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、又は、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を表す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 carbon atom containing a hetero atom. Represents a hydrocarbon group of ˜12. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

1及びR2はそれぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を表す。感光層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。
1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を表す。
3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。
また、Za-は、対アニオンを表す。ただし、式(a)で表されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及び、スルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及び、アリールスルホン酸イオンである。なお、対イオンとして、ハロゲン化物イオンを含有してないものが特に好ましい。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.
Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by the formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of storage stability of the photosensitive layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions. It is particularly preferable that the counter ion does not contain a halide ion.

顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものは、カーボンブラックである。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.
Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。
表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment.
The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、0.1μm〜1μmの範囲にあることが特に好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

前記感光層におけるこれらの赤外線吸収剤の含有量は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し、0.01〜50重量%であることが好ましく、0.1〜10重量%であることがより好ましく、染料の場合は0.5〜10重量%であることがさらに好ましく、また、顔料の場合は0.1〜10重量%であることがさらに好ましい。   The content of these infrared absorbers in the photosensitive layer is 0.01 to 50% by weight with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer. It is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight in the case of dyes, and 0.1 to 10% by weight in the case of pigments. More preferably it is.

(B)重合開始剤
本発明の平版印刷版原版における感光層は、重合開始剤(以下、「開始剤化合物」ともいう。)を含有する。
開始剤化合物は、増感色素の電子励起状態に起因する電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基から選択される少なくとも1種を生成する化合物である。以下、このようにして生じたラジカル、酸、塩基を単に活性種と呼ぶ。開始剤化合物が存在しない場合や、開始剤化合物のみを単独で用いた場合には、実用上十分な感度が得られない。増感色素と開始剤化合物を併用する一つの態様として、これらを、適切な化学的方法(増感色素と開始剤化合物との化学結合による連結等)によって単一の化合物として利用することも可能である。
(B) Polymerization initiator The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as “initiator compound”).
The initiator compound is a compound that undergoes an action such as electron transfer, energy transfer, and heat generation caused by the electronically excited state of the sensitizing dye to generate a chemical change and generate at least one selected from radicals, acids, and bases. It is. Hereinafter, radicals, acids, and bases generated in this way are simply referred to as active species. When the initiator compound is not present or when only the initiator compound is used alone, practically sufficient sensitivity cannot be obtained. As one mode in which a sensitizing dye and an initiator compound are used in combination, they can be used as a single compound by an appropriate chemical method (such as linking a sensitizing dye and an initiator compound through a chemical bond). It is.

通常、これらの開始剤化合物の多くは、次の(1)〜(3)に代表される初期化学プロセスをへて、活性種を生成するものと考えられる。すなわち、(1)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、(2)開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、(3)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解である。個々の開始剤化合物が(1)〜(3)のどのタイプに属するかに関しては、曖昧な場合も多いが、本発明における増感色素は、これらいずれのタイプの開始剤化合物と組み合わせても非常に高い増感効果を示す。   Usually, many of these initiator compounds are considered to generate active species through the initial chemical process represented by the following (1) to (3). (1) Reductive decomposition of the initiator compound based on the electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, (2) Electron transfer from the initiator compound to the electronically excited state of the sensitizing dye (3) decomposition of the initiator compound from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound. In many cases, it is ambiguous as to which type (1) to (3) each initiator compound belongs, but the sensitizing dye in the present invention can be combined with any of these types of initiator compounds. Shows a high sensitizing effect.

本発明における開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用できる。 具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。
中でも、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物及びメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、ヘキサアリールビイミダゾール化合物が特に好ましい。
上記の重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。
As the initiator compound in the present invention, those known to those skilled in the art can be used without limitation. Specifically, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, An iron arene complex is mentioned.
Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable.
Two or more of the above polymerization initiators can be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300〜450nmに極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of hexaarylbiimidazole compounds include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5. , 5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2, 2′-bis (o, o′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5 ′ -Tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5 Examples include 5′-tetraphenylbiimidazole.
The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm.

本発明において好適に用いられるオニウム塩(本発明においては、酸発生剤としてではなく、イオン性の重合開始剤として機能する)は、下記式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention (in the present invention, functions as an ionic polymerization initiator, not as an acid generator) is represented by the following formulas (RI-I) to (RI-III). Onium salt.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン及びスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21及びAr22はそれぞれ独立に、置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
In formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms.
Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
31 -は1価の陰イオンを表
す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1,400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents. Represents. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms.
Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1,400 nm.

その他の重合開始剤としては、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号の各公報に記載の重合開始剤を好ましく用いることができる。   As other polymerization initiators, JP-A No. 2007-171406, JP-A No. 2007-206216, JP-A No. 2007-206217, JP-A No. 2007-225701, JP-A No. 2007-225702, JP-A No. 2007-316582, The polymerization initiators described in JP-A-2007-328243 can be preferably used.

本発明における重合開始剤は、単独又は2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は、感光層全固形分の重量に対し、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.1〜15重量%であることがより好ましく、1.0〜10重量%であることがさらに好ましい。
The polymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer. Preferably, it is 1.0 to 10% by weight.

(C)重合性化合物
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、それらの共重合体、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能又は多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the photosensitive layer in the invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two. It is selected from the compounds having the above. Such a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without any particular limitation. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, copolymers thereof, or mixtures thereof.
Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and a polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent amine compound are used.
Further, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used.
Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、以下のものが例示できる。
アクリル酸エステルとしては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が例示できる。
Specific examples of the ester monomer of the polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include the following.
Acrylic esters include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylol Methylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate Dipentaerythritol diacrylate, Dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が例示できる。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane and the like.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が例示できる。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等が例示できる。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が例示できる。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が例示できる。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
さらに、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.
Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が例示できる。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1,6-hexamethylene bismethacrylamide, Examples include diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(A)で表される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上のビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Can be mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(式中、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(In the formula, R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.)

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上の重合性化合物が好ましい。
また、画像部、すなわち、硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上の重合性化合物がよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもできる。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も考慮することができる。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher polymerizable compound is preferable.
In order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, a tri- or higher functional polymerizable compound is preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene type). It is also effective to adjust both sensitivity and strength by using a compound or a vinyl ether compound).
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or using two or more of them together. In addition, a specific structure can be selected for the purpose of improving the adhesion to the support or the protective layer described later. In addition, the usage method of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be considered.

前記感光層における重合性化合物の含有量は、感光層の全固形分に対して、5〜75重量%であることが好ましく、25〜70重量%であることがより好ましく、30〜60重量%であることがさらに好ましい。   The content of the polymerizable compound in the photosensitive layer is preferably 5 to 75% by weight, more preferably 25 to 70% by weight, and more preferably 30 to 60% by weight with respect to the total solid content of the photosensitive layer. More preferably.

(D)バインダーポリマー
本発明の平版印刷版原版における感光層は、バインダーポリマーを含有する。
本発明に用いることができるバインダーポリマーの化学構造は、特に限定されないが、弱アルカリ性の処理液への溶解性、すなわち現像性の観点から酸基を有する有機高分子が好ましく、特にカルボン酸又はその塩を含有する有機高分子がより好ましい。
本発明に用いることができるバインダーポリマーとしては、カルボン酸含有のアルカリ水可溶又は膨潤性の有機高分子が例示できる。
この様な有機高分子としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が有用である。バインダーポリマーとして、カルボン酸(塩)基を含有する(メタ)アクリル酸エステルに由来するモノマー単位を含む共重合体が好ましい。
また、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなども有用である。
さらに、特公平7−120040号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号の各公報に記載のポリウレタン樹脂もアルカリ水可溶又は膨潤性バインダーとして有用である。
本発明に使用するバインダーポリマーとして、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、又は、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。
(D) Binder polymer The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a binder polymer.
The chemical structure of the binder polymer that can be used in the present invention is not particularly limited, but is preferably an organic polymer having an acid group from the viewpoint of solubility in a weakly alkaline processing liquid, that is, developability, and particularly carboxylic acid or its carboxylic acid. An organic polymer containing a salt is more preferable.
Examples of the binder polymer that can be used in the present invention include carboxylic acid-containing alkaline water-soluble or swellable organic polymers.
Examples of such organic polymers include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. , JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itacon Acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like are useful. As the binder polymer, a copolymer containing a monomer unit derived from a (meth) acrylic acid ester containing a carboxylic acid (salt) group is preferable.
Also useful are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain and those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxy group.
Further, Japanese Patent Publication No. 7-120040, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication No. 63-287947, Japanese Patent Publication No. Hei 1 Polyurethane resins described in JP-A Nos. 271741 and 11-352691 are also useful as alkaline water-soluble or swellable binders.
As the binder polymer used in the present invention, an acrylic resin, a methacrylic resin, or a urethane resin is preferably used.

本発明に用いることができるバインダーポリマーとして好適な材料の一例は、下記(a)カルボン酸(その塩を含む。)を含有するモノマー単位及び(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位を有する共重合体である。
(a)カルボン酸を含有するモノマー単位としては特に限定されないが、下記構造が好ましく用いられる。
An example of a material suitable as a binder polymer that can be used in the present invention is a copolymer having a monomer unit containing the following (a) carboxylic acid (including a salt thereof) and (b) a monomer unit imparting radical crosslinkability. It is a polymer.
(A) Although it does not specifically limit as a monomer unit containing carboxylic acid, The following structure is used preferably.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子よりなる群から選択される2以上の原子を含んで構成され、その原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。 In the formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. And represents a linking group having 2 to 82 atoms. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 5.

式(I)においてR2で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成され、その総原子数は、2〜82であることが好ましく、2〜50であることがより好ましく、2〜30であることがさらに好ましい。R2で表される連結基は置換基を有していてもよい。ここで示す総原子数とは、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。より具体的には、R2で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることがさらに好ましく、5〜10であることが最も好ましい。
なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、式(I)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。
In the formula (I), the linking group represented by R 2 includes two or more atoms selected from the group consisting of carbon atoms, hydrogen atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms, and the total atoms The number is preferably 2 to 82, more preferably 2 to 50, and even more preferably 2 to 30. The linking group represented by R 2 may have a substituent. The total number of atoms shown here refers to the number of atoms including the substituent when the linking group has a substituent. More specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 2 is preferably 1-30, more preferably 3-25, and 4-20. More preferred is 5-10.
The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and the terminal COOH in the formula (I), and particularly when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes the path with the least number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).

式(I)においてR2で表される連結基として、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレン、あるいはこれらの基を構成する任意の炭素原子上の水素原子を除き(n+1)価の基としたものなどが挙げられ、これらの基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有するものが好ましい。特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。
2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を
挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基が挙げられる。
式(I)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
式(I)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。
(a)アルカリ可溶性を付与するモノマー単位の具体例としては、以下に示す(a−1)〜(a−12)に示す構造の化合物が挙げられる。
この(a)カルボン酸を含有するモノマーの含有量は、総モノマー単位数を100とした場合、そのうちの5〜50単位であることが好ましく、5〜25単位であることがより好ましく、5〜15単位であることがさらに好ましい。
More specifically, the linking group represented by R 2 in formula (I) is alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, or a hydrogen atom on any carbon atom constituting these groups (n + 1). ) Having a valent group, and those having a structure in which a plurality of these groups are linked by amide bonds or ester bonds are preferred. In particular, those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are preferable. Structurally, the structure is a chain structure having an ester bond in the structure, or a cyclic structure as described above. What has is preferable.
Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), carbonization. Examples thereof include a hydrogen group (alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group), alkoxy group, and aryloxy group.
A in formula (I) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.
N in the formula (I) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.
(A) Specific examples of the monomer unit imparting alkali solubility include compounds having the structures shown in (a-1) to (a-12) shown below.
When the total number of monomer units is 100, the content of the monomer containing (a) carboxylic acid is preferably 5 to 50 units, more preferably 5 to 25 units, More preferably, it is 15 units.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

また、(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位の具体例としては、以下の(b−1)〜(b−11)に示す構造が挙げられる。   Specific examples of the monomer unit that imparts (b) radical crosslinkability include the structures shown in the following (b-1) to (b-11).

Figure 0005189448
Figure 0005189448

この(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位の含有量は、総モノマー単位数を100とした場合、そのうちの5〜90単位であることが好ましく、20〜85単位であることがより好ましく、40〜80単位であることがさらに好ましい。   The content of the monomer unit that imparts (b) radical crosslinkability, when the total number of monomer units is 100, is preferably 5 to 90 units, more preferably 20 to 85 units, More preferably, it is 40 to 80 units.

本発明に用いることができるバインダーポリマーは、(a)アルカリ可溶性を付与するモノマー単位も、(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位も含まないエチレン性不飽和化合物に由来するモノマー単位を共重合成分として有していてもよい。
このようなモノマー単位としては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位が好ましい。特に、特開2007−272134号公報の段落0061〜0084に記載のアミド基(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位が好ましく用いられる。このモノマーの含有量は、総モノマー単位数を100とした場合、そのうちの5から50単位であることが好ましく、5〜35単位であることがより好ましく、5〜25単位であることがさらに好ましい。
The binder polymer that can be used in the present invention is a copolymer of monomer units derived from an ethylenically unsaturated compound that contains neither (a) a monomer unit that imparts alkali solubility nor (b) a monomer unit that imparts radical crosslinkability. You may have as a component.
As such a monomer unit, a monomer unit derived from (meth) acrylic acid ester or (meth) acrylic acid amide is preferable. In particular, a monomer unit derived from an amide group (meth) acrylic acid amide described in paragraphs 0061 to 0084 of JP-A-2007-272134 is preferably used. The content of this monomer is preferably 5 to 50 units, more preferably 5 to 35 units, even more preferably 5 to 25 units, when the total number of monomer units is 100. .

本発明における感光層には、バインダーポリマーとして、前述のモノマー単位の組み合わせを有する付加重合体以外に、側鎖に架橋性基を有するウレタン樹脂も使用することができる。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像形成層中で起こる化学反応によりバインダーポリマーを架橋することができる基のことである。このような機能を有する基であれば特にその化学構造は限定されないが、例えば、付加重合し得る官能基としてエチレン性不飽和基、エポキシ基/オキセタニル基等の環状エーテル基が挙げられる。また、光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン原子、オニウム塩構造等が挙げられる。中でも、エチレン性不飽和基が好ましい。また、特開2007−17948号公報の段落0130〜0139に記載された官能基が例示できる。   In the photosensitive layer according to the invention, a urethane resin having a crosslinkable group in the side chain can be used as the binder polymer in addition to the addition polymer having the above-mentioned combination of monomer units. Here, the crosslinkable group is a group capable of crosslinking the binder polymer by a chemical reaction that occurs in the image forming layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. The chemical structure is not particularly limited as long as it is a group having such a function. Examples of the functional group capable of addition polymerization include cyclic ether groups such as an ethylenically unsaturated group and an epoxy group / oxetanyl group. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen atom, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Among these, an ethylenically unsaturated group is preferable. Moreover, the functional group described in Paragraphs 0130 to 0139 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-17948 can be illustrated.

上記の側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、感光層の皮膜形成剤として機能するだけでなく、アルカリ性の処理液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性又は膨潤性であることが要求される。そのため、側鎖に架橋性基の他にアルカリ水可溶性基、例えばカルボキシル基(その塩を含む。)などを有する。ポリウレタン樹脂は、感光層の酸価が低くとも未露光部の現像性を低下させることなく、露光部の現像ダメージを抑制することができ、良好な汚れ性と高い耐刷性を兼ね備えることができる点で好ましい。
以下に側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂について、さらに詳しく説明する。
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the above side chain not only functions as a film-forming agent for the photosensitive layer, but also needs to be dissolved in an alkaline processing solution, so that it may be soluble or swellable in alkaline water. Required. Therefore, in addition to the crosslinkable group, the side chain has an alkali water-soluble group such as a carboxyl group (including salts thereof). Polyurethane resin can suppress the development damage of the exposed area without lowering the developability of the unexposed area even if the acid value of the photosensitive layer is low, and can have both good stain resistance and high printing durability. This is preferable.
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain will be described in more detail below.

本発明で特に好ましく用いられる側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、(i)ジイソシアネート化合物、(ii)カルボキシル基を有するジオール化合物、(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物及び必要であれば(iv)カルボキシル基を有さないジオール化合物、(v)アミノ基を有する化合物を重付加反応させることにより得ることができる。   The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain particularly preferably used in the present invention comprises (i) a diisocyanate compound, (ii) a diol compound having a carboxyl group, (iii) a diisocyanate compound having a crosslinkable group, and if necessary. (Iv) It can be obtained by polyaddition reaction of a diol compound having no carboxyl group and (v) a compound having an amino group.

上記(i)、(ii)及び(iii)の化合物は特開2007−17948号公報の段落0142〜0167に記載された式(4)〜(10)及び具体例が挙げられる。   Examples of the compounds (i), (ii) and (iii) include formulas (4) to (10) and specific examples described in paragraphs 0142 to 0167 of JP-A No. 2007-17948.

ここで、ポリウレタン樹脂の側鎖に架橋性基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に架橋性基を含有するジイソシアネート化合物を用いる方法が好適である。トリイソシアネート化合物と架橋性基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、側鎖に架橋性基を有するものとしては、特開2007−17948号公報の段落0179〜0178の化合物が挙げられる。   Here, as a method for introducing a crosslinkable group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diisocyanate compound containing a crosslinkable group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is suitable. A diisocyanate compound obtained by addition reaction of a triisocyanate compound and a monofunctional alcohol having a crosslinkable group or 1 equivalent of a monofunctional amine compound, having a crosslinkable group in the side chain, Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0179 to 0178 of JP 2007-17948.

(iv)カルボキシル基を有さないジオール化合物
ポリウレタン樹脂の側鎖に不飽和基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法も採用できる。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものも含まれ、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、不飽和基を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により製造される化合物も含まれる。これら化合物の具体的例には、特開2007−17948号公報の段落0180〜0225に記載された一般式(A’)、式(a)〜(e)、式(11)〜(22)及び具体的化合物が挙げられる。
(Iv) Diol compound having no carboxyl group As a method for introducing an unsaturated group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diol compound containing an unsaturated group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is also employed. it can. Such diol compounds include, for example, those commercially available such as trimethylolpropane monoallyl ether, halogenated diol compounds, triol compounds, aminodiol compounds, carboxylic acids containing unsaturated groups, acids Also included are compounds produced by reaction with chlorides, isocyanates, alcohols, amines, thiols, alkyl halide compounds. Specific examples of these compounds include general formula (A ′), formulas (a) to (e), formulas (11) to (22) described in paragraphs 0180 to 0225 of JP-A No. 2007-17948, and Specific compounds may be mentioned.

(v)アミノ基を有する化合物
画像形成層に使用できるバインダーポリマーとして、ポリウレタン樹脂の製造において、さらにアミノ基含有化合物を組み合わせてジイソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成してポリウレタン樹脂の構造に組み込んでもよい。アミノ基含有化合物としては、特開2007−17948号公報の段落0227〜0230に記載された式(31)及び式(32)及び具体的化合物が挙げられる。
(V) A compound having an amino group As a binder polymer that can be used in an image forming layer, in the production of a polyurethane resin, an amino group-containing compound is further combined and reacted with a diisocyanate compound to form a urea structure and incorporated into the structure of the polyurethane resin. But you can. Examples of the amino group-containing compound include Formula (31) and Formula (32) and specific compounds described in paragraphs 0227 to 0230 of JP-A No. 2007-17948.

本発明に用いることができるバインダーポリマーは、ポリウレタン合成時に側鎖に架橋性基を導入して得られる上記のポリウレタン樹脂のほかに、特開2003−270775号公報に記載されるようなカルボキシル基を有するポリウレタンに高分子反応で架橋性基を導入して得られるポリウレタン樹脂も例示できる。   The binder polymer that can be used in the present invention includes a carboxyl group as described in JP-A-2003-270775, in addition to the polyurethane resin obtained by introducing a crosslinkable group into the side chain during polyurethane synthesis. The polyurethane resin obtained by introduce | transducing a crosslinkable group by polymer reaction to the polyurethane which has is also illustrated.

本発明では、特に、融点が45℃以上のモノマーと、前記架橋性基を有するウレタン樹脂のうち、Tgが好ましくは45℃以上、より好ましくは50℃以上の架橋性基を有するウレタン樹脂との組み合わせが特に好ましく用いられる。かかるウレタン樹脂の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, among the monomers having a melting point of 45 ° C. or higher and the urethane resin having the crosslinkable group, Tg is preferably 45 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher. Combinations are particularly preferably used. Specific examples of such urethane resins are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

感光層の現像性を維持するためには、使用されるバインダーポリマーは、適当な分子量を有することが好ましく、重量平均分子量は5,000〜300,000であることがより好ましく、20,000〜150,000であることがさらに好ましい。   In order to maintain the developability of the photosensitive layer, the binder polymer used preferably has an appropriate molecular weight, more preferably a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000, and 20,000 to More preferably, it is 150,000.

これらのバインダーポリマーは、感光層中に任意な量で含有させることができるが、前記感光層中におけるバインダーポリマーの含有量は、10〜90重量%であることが好ましく、30〜80重量%であることがより好ましい。   These binder polymers can be contained in an arbitrary amount in the photosensitive layer, but the content of the binder polymer in the photosensitive layer is preferably 10 to 90% by weight, and 30 to 80% by weight. More preferably.

(E)フェノチアジン系化合物
本発明の平版印刷版原版における感光層は、フェノチアジン系化合物を含有する。
本発明に用いることができるフェノチアジン系化合物としては、フェノチアジン環を有する化合物であれば、特に制限はないが、フェノチアジン環の窒素原子上の基が水素原子である化合物であることが好ましい。また、フェノチアジン系化合物は、フェノチアジン環上少なくとも1つ水素原子以外の基を有する化合物であることが好ましい。
また、フェノチアジン系化合物としては、下記式(1)で表される化合物がより好ましい。
(E) Phenothiazine-based compound The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a phenothiazine-based compound.
The phenothiazine-based compound that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a phenothiazine ring, but is preferably a compound in which the group on the nitrogen atom of the phenothiazine ring is a hydrogen atom. The phenothiazine-based compound is preferably a compound having at least one group other than a hydrogen atom on the phenothiazine ring.
Moreover, as a phenothiazine type compound, the compound represented by following formula (1) is more preferable.

Figure 0005189448
(式(1)中、X及びYはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、p及びqはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表す。)
Figure 0005189448
(In formula (1), X and Y each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an alkylthio group, and p and q each independently represent an integer of 0 to 4.)

式(1)におけるX及びYは、フェノチアジン環の芳香環上の任意の位置で結合することができる。
また、X及びYはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基であることがより好ましい。
前記X及びYにおけるアルキル基、アルコキシ基中のアルキル基、並びに、アルキルチオ基中のアルキル基は、置換基を有していてもよい。前記置換基は、1つ有していても、2以上有していても、有していなくともよい。また、置換基がさらに置換基により置換されていてもよい。
置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、及び、アリールチオ基が挙げられる。
式(1)におけるp及びqはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表し、0〜2であることが好ましく、0又は1であることがより好ましい。また、p及びqは、p及びqがともに0、p又qの一方が1でありかつ他方が0であることがさらに好ましい。
X and Y in Formula (1) can be bonded at any position on the aromatic ring of the phenothiazine ring.
X and Y each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an alkylthio group, preferably a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and a fluorine atom, a chlorine atom, or a carbon number of 1 to 4 It is more preferable that it is an alkyl group or a C1-C4 alkoxy group.
The alkyl group in X and Y, the alkyl group in the alkoxy group, and the alkyl group in the alkylthio group may have a substituent. The number of the substituents may be one, two or more, or not. Further, the substituent may be further substituted with a substituent.
Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, and an arylthio group.
P and q in Formula (1) each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1. Further, in p and q, it is more preferable that both p and q are 0, and one of p and q is 1 and the other is 0.

前記フェノチアジン系化合物としては、具体的には例えば、フェノチアジン、10−メチルフェノチアジン、2−メチルフェノチアジン、2−クロロフェノチアジン、2−トリフルオロメチルフェノチアジン、2−メトキシフェノチアジン、ビス(α−メチルベンジル)フェノチアジン、3,7−ジオクチルフェノチアジン、ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェノチアジン等が挙げられる。これらの中でも、フェノチアジンが特に好ましい。
フェノチアジン系化合物は、感光層中に1種のみ含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。
Specific examples of the phenothiazine compound include phenothiazine, 10-methylphenothiazine, 2-methylphenothiazine, 2-chlorophenothiazine, 2-trifluoromethylphenothiazine, 2-methoxyphenothiazine, and bis (α-methylbenzyl) phenothiazine. 3,7-dioctylphenothiazine, bis (α, α-dimethylbenzyl) phenothiazine, and the like. Among these, phenothiazine is particularly preferable.
Only one type of phenothiazine-based compound may be contained in the photosensitive layer, or two or more types may be contained.

前記フェノチアジン系化合物の含有量が、前記(C)重合性化合物の総重量100重量部に対し、0.001〜0.5重量部であることが好ましく、0.005〜0.1重量部であることがより好ましく、0.01〜0.05重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であると、細線抜け性と耐刷性とをより優れたレベルで両立できる。   The content of the phenothiazine-based compound is preferably 0.001 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total weight of the polymerizable compound (C), and 0.005 to 0.1 parts by weight. More preferably, it is 0.01 to 0.05 part by weight. Within the above range, fine line pull-out and printing durability can be achieved at a more excellent level.

(F)マイクロカプセル
本発明においては、前記感光層構成成分及び後述のその他の構成成分を感光層に含有させる方法として、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、前記構成成分の一部をマイクロカプセルに内包させて感光層に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内及び外に、任意の比率で含有させることが可能である。
(F) Microcapsule In the present invention, as a method for causing the photosensitive layer to contain the photosensitive layer constituents and other constituents described later, for example, JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742 are described. As described above, a part of the components can be encapsulated in microcapsules and added to the photosensitive layer. In that case, each component can be contained in the microcapsule and outside at any ratio.

感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。
マイクロカプセルの製造方法としては、例えば、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素−ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書に見られるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報に見られるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for microencapsulating the photosensitive layer constituent components, known methods can be applied.
As a method for producing microcapsules, for example, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,047 and 2,800,498, each specification of U.S. Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, U.S. Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, by precipitation of polymers, and U.S. Pat. No. 3,796,669. A method using a polyol wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and urea-formaldehyde found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. System or urea formaldehyde-resorcino A method using a system wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose found in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いることができる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及び、これらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferred microcapsule wall that can be used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said water-insoluble polymer.

マイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましく、0.05〜2.0μmがより好ましく、0.10〜1.0μmがさらに好ましい。上記範囲であると、良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and still more preferably 0.10 to 1.0 μm. In the above range, good resolution and stability over time can be obtained.

(G)その他の感光層成分
本発明の平版印刷版原版における感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。
添加剤としては、現像性の促進及び塗布面状を向上させるための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上などのための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、感光層の製造中又は保存中のラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するためのフェノチアジン系化合物以外の重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、現像性向上のための親水性低分子化合物、感度向上のための共増感剤や連鎖移動剤、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。これらの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号の各公報に記載の化合物を使用することができる。
(G) Other photosensitive layer components The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention may further contain various additives as required.
Additives include surfactants for improving developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and improving the dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas. In order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, polymerization inhibitors other than phenothiazine-based compounds to prevent unnecessary thermal polymerization of radically polymerizable compounds during production or storage of photosensitive layers Higher fat derivatives, inorganic fine particles for improving the cured film strength of the image area, hydrophilic low molecular weight compounds for improving the developability, co-sensitizers and chain transfer agents for improving the sensitivity, plasticity for improving the plasticity An agent or the like can be added. Any of these compounds can be used, for example, JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, The compounds described in JP-A 2007-316582 and JP-A 2007-328243 can be used.

連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、又は、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成することができる。   As the chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can generate hydrogen by donating hydrogen to a low-activity radical species to generate radicals, or after being oxidized and deprotonated.

前記感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。   In particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) are chain-transferred to the photosensitive layer. It can be preferably used as an agent.

中でも、下記式(S)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。   Among these, a thiol compound represented by the following formula (S) is particularly preferably used. By using this thiol compound as a chain transfer agent, avoiding a decrease in sensitivity due to evaporation from the photosensitive layer or diffusion to other layers, excellent storage stability, and high sensitivity and high durability lithographic printing plate precursor can get.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

式(S)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は、置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In formula (S), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. Alternatively, it represents an atomic group that forms a 6-membered heterocycle, and A may further have a substituent.

<感光層の形成>
本発明の平版印刷版原版における感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布して形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
塗布液の固形分濃度は、1〜50重量%であることが好ましい。
前記感光層は、同一若しくは異なる上記各成分を同一若しくは異なる溶剤に分散、又は、溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photosensitive layer>
The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention can be formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this.
These solvents are used alone or in combination.
The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by weight.
The photosensitive layer may be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、0.3〜3.0g/m2が好ましい。上記範囲であると、良好な感度と感光層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Moreover, although the photosensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, it is preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within the above range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)が設けられることが好ましい。
本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)以上であると、製造時・生保存時における不要な重合反応を抑制でき、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じることを抑制できる。また、酸素透過性Aが20(mL/m2・day)以下であると、感度に優れる。酸素透過性Aは、1.5≦A≦12(mL/m2・day)であることがより好ましく、2.0≦A≦10.0(mL/m2・day)の範囲であるであることがさらに好ましい。
また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen which hinders the polymerization reaction during exposure.
The protective layer used in the present invention preferably has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day). When the oxygen permeability A is 1.0 (mL / m 2 · day) or more, unnecessary polymerization reaction during production and raw storage can be suppressed, and unnecessary fogging and image line weight increase during image exposure. It is possible to suppress the occurrence of a problem that occurs. Moreover, when the oxygen permeability A is 20 (mL / m 2 · day) or less, the sensitivity is excellent. The oxygen permeability A is more preferably 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), and is in the range of 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (mL / m 2 · day). More preferably it is.
In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It is desirable that it can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール(PVA)、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独又は混合して使用できる。これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As the material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol (PVA), vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, acetic acid Water / soluble polymers such as vinyl / vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc. These can be used alone or in combination. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。
ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100モル%加水分解され、重合繰り返し単位が300〜2,400の範囲のものを挙げることができる。
具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。これらは単独又は混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が、20〜95重量%であることが好ましく、30〜90重量%であることがより好ましい。
The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components.
Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are hydrolyzed by 71 to 100 mol% and have a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2,400.
Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like. These can be used alone or in combination. As a preferable embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is preferably 20 to 95% by weight, and more preferably 30 to 90% by weight.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、さらにはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。   Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドン又はその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が、3.5〜80重量%であることが好ましく、10〜60重量%であることがより好ましく、15〜30重量%であることがさらに好ましい。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoints of oxygen barrier properties, development removability, and the content in the protective layer is preferably 3.5 to 80% by weight. 10 to 60% by weight, more preferably 15 to 30% by weight.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。
前記ポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2,000〜1,000万の範囲のものが好ましく使用でき、2万〜300万の範囲のものがより好ましく使用できる。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity.
The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) is preferably in the range of 2,000 to 10 million, more preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数重量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数重量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added to the (co) polymer in an amount corresponding to several weight% to give flexibility, and sodium alkyl sulfate, alkyl sulfone Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer % By weight can be added.

また、画像部との密着性や、耐傷性も、版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60重量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing 20 to 60% by weight and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
(式中、AはK、Na、Caのいずれかを表し、B及びCはFe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかを表し、DはSi又はAlを表す。)
で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
本発明においては、前記無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。
無機質の層状化合物のアスペクト比は、20以上であることが好ましく、100以上であることがより好ましく、200以上であることがさらに好ましい。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin plate-like shape. For example, the following formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
(In the formula, A represents any of K, Na, and Ca, B and C represent any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D represents Si or Al. Represents.)
And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by 3MgO.4SiO.H 2 O.
In the present invention, among the inorganic layered compounds, fluorine-based swellable synthetic mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful.
The aspect ratio of the inorganic stratiform compound is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and further preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured from, for example, a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が、0.3〜20μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましく、1〜5μmであることがさらに好ましい。また、前記粒子の平均の厚さは、0.1μm以下であることが好ましく、0.05μm以下であることがより好ましく、0.01μm以下であることがさらに好ましい。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは、厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   The average major axis of the inorganic layered compound is preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and even more preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and further preferably 0.01 μm or less. For example, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound among the inorganic layered compounds is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止することができるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When particles of inorganic layered compounds having a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration of the layer is prevented, and even when stored for a long time under a high humidity condition, the storage stability is excellent without a decrease in image forming property in the lithographic printing plate precursor due to a change in humidity.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、重量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の重量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by weight ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of kinds of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-mentioned weight ratio.

保護層に用いる無機質層状化合物の分散方法は、特開2007−171406号公報、特開2007−206216号公報、特開2007−206217号公報、特開2007−225701号公報、特開2007−225702号公報、特開2007−316582号公報、特開2007−328243号公報等に記載の方法が用いられる。   The dispersion method of the inorganic stratiform compound used for the protective layer is disclosed in JP 2007-171406 A, JP 2007-206216 A, JP 2007-206217 A, JP 2007-225701 A, and JP 2007-225702 A. The methods described in Japanese Patent Laid-Open No. 2007-316582 and Japanese Patent Laid-Open No. 2007-328243 are used.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。 The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / The range of m 2 is more preferable, and when the inorganic layered compound is not contained, the range of 0.5 to 5 g / m 2 is more preferable.

<支持体>
本発明の平版印刷版原版に用いることができる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な支持体であればよいが、親水性支持体であることが好ましい。
例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、前記金属がラミネートされ若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム及びアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
<Support>
The support that can be used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like support, but is preferably a hydrophilic support.
For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which the metal is laminated or deposited. A preferable support includes a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等が挙げられる。合金中の異元素の含有量は10重量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or aluminum alloy. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであることが好ましく、0.15〜0.4mmであることがより好ましく、0.2〜0.3mmであることがさらに好ましい。   The thickness of the support is preferably 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and further preferably 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上及び感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、さらに、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80重量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であることが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であることが好ましく、1.5〜4.0g/m2であることがより好ましい。上記範囲であると、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within the above range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the planographic printing plate can be obtained.

本発明に用いることができる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の各公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、及び、親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく、従来公知のいずれの方法も行うことができる。   As a support that can be used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but further improvement in adhesiveness to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation, etc. Therefore, if necessary, the micropore enlargement treatment, the micropore sealing treatment, and the hydrophilicity described in JP 2001-253181 A and JP 2001-322365 A A surface hydrophilization treatment or the like immersed in an aqueous solution containing a compound can be appropriately selected and performed. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理及び熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Among these, a sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a sealing treatment with water vapor, and a sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、又は、電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが好ましい。
親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、ホウ素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン及び遷移金属よりなる群から選択される少なくとも一つの元素の酸化物又は水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネート又はアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物又は水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。
When using a support with insufficient surface hydrophilicity, such as a polyester film, it is preferable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic.
The hydrophilic layer is at least selected from the group consisting of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals described in JP-A-2001-199175. Obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 or a hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing one elemental oxide or hydroxide colloid. A hydrophilic layer having an organic hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or metal oxide Hydrophilic film composed of an inorganic thin film having a surface containing It is preferred. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or hydroxide colloid is preferable.

また、支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側、反対側、又は、両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であることが好ましい。上記範囲であると、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within the above range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

<下塗り層>
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、感光層は下塗り層の上に設けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と感光層との密着性を強化し、また、未露光部においては、感光層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。
また、下塗り層はリン酸基及び/又はホスホン酸基を有する樹脂を含むことも好ましい。特にホスホン酸基を有する樹脂を有することが好ましく、前記支持体の親水化処理において言及したポリビニルホスホン酸で処理することにより形成された下塗り層が好ましく用いられる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であることが好ましく、1〜30mg/m2であることがより好ましい。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the photosensitive layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer reinforces the adhesion between the support and the photosensitive layer in the exposed area, and easily peels the photosensitive layer from the support in the unexposed area, thereby improving the developability.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of description are mentioned suitably. Particularly preferred compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group and an allyl group and a support-adsorptive group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and a phosphoric acid ester. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The undercoat layer preferably also contains a resin having a phosphate group and / or a phosphonic acid group. In particular, it preferably has a resin having a phosphonic acid group, and an undercoat layer formed by treatment with the polyvinylphosphonic acid mentioned in the hydrophilization treatment of the support is preferably used.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1-100 mg / m 2, more preferably 1 to 30 mg / m 2.

<バックコート層>
支持体に表面処理を施した後、又は、下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
バックコート層としては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494等のケイ素のアルコキシ化合物を用いることが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
<Back coat layer>
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a backcoat layer can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat layer include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organic metal compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174, and the like. Preferable examples include a coating layer made of a metal oxide. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

(平版印刷版の製版方法)
次に本発明の平版印刷版の製版方法、すなわち製版プロセス、について説明する。
本発明の平版印刷版の製版方法は、本発明の平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、現像液の存在下で非露光部の感光層を除去する現像工程を含むことを特徴とする。
また、本発明の平版印刷版の製版方法は、前記現像工程が、非露光部の感光層の除去及びガム引きを1液で同時に行う工程であることが好ましい。
さらに、本発明の平版印刷版の製版方法は、前記現像工程の前及び後のいずれにも水洗工程を施さない製造方法であることが好ましい。
また、前記現像液としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有することが好ましい。本発明の平版印刷版原版を画像露光した後、上記現像液で処理することにより、感光層の現像処理とガム引きを1浴で行うことができる。また、保護層が設けられた平版印刷版原版の場合には、この保護層の除去、感光層の現像処理、及び、得られた画像へのガム引きを1浴で行うことができる。
ここで、感光層の現像処理とは、上記の処理液により、感光層の非露光部を除去して、露光部に対応する画像を形成することをいう。
(Plate making method of lithographic printing plate)
Next, the plate making method of the planographic printing plate of the present invention, that is, the plate making process will be described.
The plate making method of the lithographic printing plate of the present invention comprises an exposure step of image exposure of the lithographic printing plate precursor of the present invention, and a development step of removing the photosensitive layer in the non-exposed area in the presence of a developer. To do.
In the lithographic printing plate making method of the present invention, the developing step is preferably a step in which the photosensitive layer in the non-exposed area is removed and gummed simultaneously with one liquid.
Furthermore, it is preferable that the lithographic printing plate making method of the present invention is a production method in which a water washing step is not performed before and after the developing step.
The developer preferably contains carbonate ions, hydrogen carbonate ions, and water-soluble polymer compounds. After the lithographic printing plate precursor of the present invention is image-exposed and then processed with the developer, the photosensitive layer can be developed and gummed in one bath. Further, in the case of a lithographic printing plate precursor provided with a protective layer, removal of the protective layer, development of the photosensitive layer, and gumming of the obtained image can be performed in one bath.
Here, the development processing of the photosensitive layer means that an image corresponding to the exposed portion is formed by removing the non-exposed portion of the photosensitive layer with the above processing solution.

本発明において、平版印刷版原版から平版印刷版を製造する製版プロセスにおいては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像形成層中の画像形成反応が促進され、感度の向上、耐刷性の向上及び感度の安定化という利点が得られる。さらに、画像強度及び耐刷性の向上を目的として、現像により得られた画像を後加熱したり、全面露光することも有効である。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。現像後の加熱にはより強い条件を利用する。200〜500℃の温度範囲が好ましい。   In the present invention, in the plate making process for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor, the entire surface of the lithographic printing plate precursor may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, as necessary. . By such heating, an image forming reaction in the image forming layer is promoted, and the advantages of improved sensitivity, improved printing durability, and stabilized sensitivity are obtained. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to post-heat the image obtained by development or to expose the entire surface. Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. Stronger conditions are used for heating after development. A temperature range of 200-500 ° C is preferred.

<露光工程>
平版印刷版原版を画像様に露光する露光工程は、2つに大別できる。その一つは、線画像、網点画像等を有する透明原画を通して行う画像露光であり、他の一つは、デジタルデータに基づきレーザー光源を走査して行う画像露光である。
走査露光方式の平版印刷版原版露光装置としては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源の中で連続発振可能なものが好ましく利用することができる。現実的には平版印刷版原版(以下「原版」ともいう。)の感度と製版時間の関係で、以下の露光装置が特に好ましい。
・内面ドラム方式で総出力20mW以上の半導体レーザーとなるように、ガスレーザーあるいは固体レーザー光源を1個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの露光装置。
・フラットベッド方式で総出力20mW以上となるように、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜10本)の露光装置。
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となるように、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜9本)の露光装置。
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となるように、半導体レーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(10本以上)の露光装置。
<Exposure process>
The exposure process for exposing the planographic printing plate precursor imagewise can be roughly divided into two. One is image exposure performed through a transparent original image having a line image, halftone dot image, and the like, and the other is image exposure performed by scanning a laser light source based on digital data.
As the lithographic printing plate precursor exposure apparatus of the scanning exposure method, there are an inner drum method, an outer drum method, and a flat bed method as an exposure mechanism, and a light source that can continuously oscillate among the light sources can be preferably used. . Practically, the following exposure apparatus is particularly preferable because of the relationship between the sensitivity of the lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as “original plate”) and the plate making time.
A single-beam to triple-beam exposure apparatus that uses one or more gas lasers or solid-state laser light sources so that the internal drum system produces a semiconductor laser with a total output of 20 mW or more.
A multi-beam (1 to 10) exposure apparatus using one or more semiconductor lasers, gas lasers or solid-state lasers so that the total output is 20 mW or more in a flat bed system.
A multi-beam (1 to 9) exposure apparatus that uses one or more semiconductor lasers, gas lasers, or solid-state lasers to achieve a total output of 20 mW or more in the external drum system.
A multi-beam (10 or more) exposure apparatus that uses one or more semiconductor lasers or solid state lasers so that the total output is 20 mW or more in the external drum system.

以上のようなレーザー直描型の平版印刷版原版においては、一般に原版感度X(J/cm2)、原版の露光面積S(cm2)、レーザー光源1個のパワーq(W)、レーザー本数n、全露光時間t(s)との間に式(eq 1)が成立する。
X・S=n・q・t (eq 1)
In the laser direct drawing type lithographic printing plate precursor as described above, generally, the sensitivity of the original plate X (J / cm 2 ), the exposure area S (cm 2 ) of the original plate, the power q (W) of one laser light source, the number of lasers Formula (eq 1) is established between n and the total exposure time t (s).
X · S = n · q · t (eq 1)

i)内面ドラム(シングルビーム)方式の場合:
レーザー回転数f(ラジアン/s)、原版の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)の間には一般的に式(eq 2)が成立する。
f・Z・t=Lx (eq 2)
i) Internal drum (single beam) method:
Equation (eq 2) is generally established between the laser rotation speed f (radians / s), the original sub-scanning length Lx (cm), the resolution Z (dots / cm), and the total exposure time t (s). .
f · Z · t = Lx (eq 2)

ii)外面ドラム(マルチビーム)方式の場合:
ドラム回転数F(ラジアン/s)、原版の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 3)が成立する。
F・Z・n・t=Lx (eq 3)
ii) External drum (multi-beam) method:
A general formula between the drum rotation speed F (radians / s), the original sub-scanning length Lx (cm), the resolution Z (dots / cm), the total exposure time t (s), and the number of beams (n) eq 3) holds.
F.Z.n.t = Lx (eq 3)

iii)フラットヘッド(マルチビーム)方式の場合:
ポリゴンミラーの回転数H(ラジアン/s)、原版の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 4)が成立する。
H・Z・n・t=Lx (eq 4)
iii) Flat head (multi-beam) method:
It is generally between the polygon mirror rotation speed H (radians / s), the original sub-scanning length Lx (cm), resolution Z (dots / cm), total exposure time t (s), and number of beams (n). Equation (eq 4) holds.
H.Z.n.t = Lx (eq 4)

実際の印刷版原版に要求される解像度(2,560dpi)、版サイズ(A1/B1、副走査長42inch)、20枚/1時間程度の露光条件と本発明に係る平版印刷版原版の感光特性(感光波長、感度:約0.1mJ/cm2)を上記式に代入することで、本発
明に係る平版印刷版原版においては総出力20mW以上のレーザーを用いたマルチビーム露光方式との組み合わせが特に好ましいことが理解できる。さらに操作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラム方式の半導体レーザーマルチビーム(10本以上)露光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。
Resolution required for an actual printing plate precursor (2,560 dpi), plate size (A1 / B1, sub-scanning length 42 inches), exposure conditions of about 20 sheets / hour and photosensitive characteristics of the planographic printing plate precursor according to the present invention By substituting (photosensitive wavelength, sensitivity: about 0.1 mJ / cm 2 ) into the above formula, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be combined with a multi-beam exposure method using a laser having a total output of 20 mW or more. It can be seen that it is particularly preferable. Further, by combining operability, cost, etc., a combination with an external drum type semiconductor laser multi-beam (10 or more) exposure apparatus is most preferable.

本発明に用いることができる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長750〜1,200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、100mW以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。1画素あたりの露光時間は、20μ秒以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。光源としてAlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。 Although the infrared laser which can be used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser which radiate | emit infrared rays with a wavelength of 750-1,200 nm are mentioned suitably. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >. As the light source, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 5 to 30 mW) is suitable in terms of wavelength characteristics and cost.

また、本発明の平版印刷版原版の感光層成分は高い水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもでき、このような構成の平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった方式を行うこともできる。   Further, the photosensitive layer component of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be made soluble in neutral water or weak alkaline water by using a highly water-soluble component. After loading on the printing press, a system such as exposure-development can be performed on the press.

<現像液>
本発明の平版印刷版の製版方法に用いることができる現像液(「処理液」ともいう。)は、特に制限はなく、公知の現像液などが例示できるが、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する水溶液であることが好ましい。炭酸イオン及び炭酸水素イオンが存在することでpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、炭酸水素イオンとしては、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいが、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩や炭酸水素塩を使用する場合、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Developer>
The developer (also referred to as “processing solution”) that can be used in the plate making method of the lithographic printing plate of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include known developers, but carbonate ions, bicarbonate ions, and water An aqueous solution containing a functional polymer compound is preferred. The presence of carbonate ions and hydrogen carbonate ions exerts a pH buffering effect, and even when a developer is used for a long period of time, fluctuations in pH can be suppressed, and development deterioration due to pH fluctuations, development residue generation, and the like can be suppressed. Carbonate and bicarbonate ions may be added to the developer, but carbonate and bicarbonate ions are generated by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate. You may let them. When carbonate or bicarbonate is used, it is not particularly limited, but an alkali metal salt is preferable. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

前記現像液のpHとしては、特に制限はないが、2〜11であることが好ましく、4〜10.8であることがより好ましく、4.5〜10であることがさらに好ましく、5〜10であることが特に好ましく、5以上10未満であることが最も好ましい。
また、炭酸イオン及び炭酸水素イオンを含む現像液におけるpHとしては、8.5〜10.8の範囲であることが好ましく、pH9.0〜10.5であることがより好ましく、pH9.5〜10.3であることが特に好ましい。このpH範囲内であると、非画像部の現像性が低下せず、また、空気中の炭酸ガスの影響により処理能力が変動しないので好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular as pH of the said developing solution, It is preferable that it is 2-11, It is more preferable that it is 4-10.8, It is further more preferable that it is 4.5-10, 5-10 Particularly preferred is 5 or more and less than 10.
Moreover, as pH in the developing solution containing a carbonate ion and hydrogencarbonate ion, it is preferable that it is the range of 8.5-10.8, It is more preferable that it is pH9.0-10.5, pH9.5- Particularly preferred is 10.3. Within this pH range, the developability of the non-image area does not deteriorate, and the processing capability does not vary due to the influence of carbon dioxide in the air, which is preferable.

本発明の平版印刷版の製版方法に使用される現像液は、アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩及び水溶性樹脂を含有するpH8.5〜10.5の水溶液であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The developer used in the lithographic printing plate making method of the present invention is preferably an aqueous solution having a pH of 8.5 to 10.5 containing an alkali metal carbonate, a hydrogen carbonate and a water-soluble resin. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

前記炭酸塩及び炭酸水素塩の総量は、現像液の重量に対して、1〜20重量%が好ましく、3〜15重量%がより好ましく、4〜12重量%が最も好ましい。この濃度が1重量%以上であると現像性、処理能力が低下せず、20重量%以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、さらに廃液時の中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたさない。   The total amount of the carbonate and bicarbonate is preferably 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 15% by weight, and most preferably 4 to 12% by weight based on the weight of the developer. When this concentration is 1% by weight or more, developability and processing capacity do not decrease, and when it is 20% by weight or less, it becomes difficult to produce precipitates and crystals, and further, it becomes difficult to gel during neutralization in the waste liquid. Does not interfere with waste liquid treatment.

また、アルカリ濃度の微少な調整、感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。
有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらのアルカリ剤は、単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
Further, for the purpose of assisting the fine adjustment of the alkali concentration and the dissolution of the photosensitive layer, another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together.
Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

本発明に用いることができる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。   Examples of water-soluble polymer compounds that can be used in the present invention include soybean polysaccharides, modified starches, gum arabic, dextrin, fiber derivatives (such as carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol. And derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymers, vinyl acetate / maleic anhydride copolymers, styrene / maleic anhydride copolymers, and the like.

上記大豆多糖類としては、従来知られているものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10重量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   As said soybean polysaccharide, what is known conventionally can be used, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by weight aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉としては、下記式(III)で示されるものが好ましい。式(III)で示される澱粉としては、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等のいずれの澱粉も使用できる。これらの澱粉の変性は、酸又は酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、さらにアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。   As said modified starch, what is shown by following formula (III) is preferable. As the starch represented by the formula (III), any starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat can be used. These starch modifications can be made by, for example, a method of decomposing within 5 to 30 glucose residues per molecule with an acid or enzyme, and further adding oxypropylene in an alkali.

Figure 0005189448
(式中、エーテル化度(置換度)はグルコース単位当たり0.05〜1.2の範囲で、nは3〜30の整数を示し、mは1〜3の整数を示す。)
Figure 0005189448
(In the formula, the degree of etherification (degree of substitution) is in the range of 0.05 to 1.2 per glucose unit, n represents an integer of 3 to 30, and m represents an integer of 1 to 3.)

上記水溶性高分子化合物の中でも特に好ましいものとして、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。   Among the water-soluble polymer compounds, soybean polysaccharides, modified starch, gum arabic, dextrin, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol and the like are particularly preferable.

水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の処理液中における含有量は、0.1〜20重量%が好ましく、0.5〜10重量%より好ましい。   Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the treatment liquid is preferably 0.1 to 20% by weight, and more preferably 0.5 to 10% by weight.

処理液には界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有してもよい。
本発明に用いることができるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
The treatment liquid may contain a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.).
Examples of the anionic surfactant that can be used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid salts, linear alkyl benzene sulfonic acid salts, and branched alkyl benzene sulfonic acid. Salts, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfone Acid salts, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfate esters, Fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates Saponification product of styrene-maleic anhydride copolymer, saponification product of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensate, and the like. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters, and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

本発明に用いることができるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant that can be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明に用いることができるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。   Nonionic surfactants that can be used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkyl. Amine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, oil and fat ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, etc. Polyol alcohol fatty acid ester of glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, sorbitol and soy Fatty acid esters of the tail, fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.

これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、ソルビトール及び/又はソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。   These nonionic surfactants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。さらに、処理液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10重量%が好ましく、0.01〜5重量%がより好ましい。また、アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
これら界面活性剤は、単独、又は、組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で0.1〜20重量%の範囲が好適に使用される。
From the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer preferably has an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 6 or more, preferably 8 or more. It is more preferable. Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the treatment liquid is preferably 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.01 to 5% by weight. Further, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
These surfactants can be used alone or in combination. Further, the content of these surfactants in the developer is preferably in the range of 0.1 to 20% by weight in terms of active ingredients.

本発明に用いることができる現像液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。   In addition to the above, the developer that can be used in the present invention may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like.

湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。これらの湿潤剤は単独で用いてもよいが、2種以上併用してもよい。一般に、上記湿潤剤は処理液の全重量に基づいて0.1〜5重量%の量で使用される。   As the wetting agent, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are preferably used. These wetting agents may be used alone or in combination of two or more. Generally, the wetting agent is used in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the processing solution.

防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 、ベンズトリアゾール誘導体、ア
ミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。
防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用時の処理液に対して0.01〜4重量%の範囲が好ましく、また種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。
Examples of preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, and benztriazole derivatives. Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives of pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, 1 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.
The addition amount of the preservative is an amount that exerts stability against bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the types of bacteria, molds, yeasts, but is 0. The range of 01 to 4% by weight is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。
これらキレート剤は処理液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量としては使用時の処理液に対して0.001〜1.0重量%が好適である。
Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.
These chelating agents are selected so that they exist stably in the treatment liquid composition and do not impair the printability. The addition amount is preferably 0.001 to 1.0% by weight with respect to the treatment liquid at the time of use.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系のHLBの5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化等がいずれも使用できる。
消泡剤の含有量は、使用時の処理液に対して0.001〜1.0重量%の範囲が好適である。
As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, nonionic HLB 5 or less compound can be used. Silicon antifoaming agents are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.
The content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by weight with respect to the treatment liquid at the time of use.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩の形で用いることもできる。
有機酸の含有量は処理液の全重量に基づいて0.01〜0.5重量%の量が好ましい。
Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt.
The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by weight based on the total weight of the treatment liquid.

含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), and aromatic hydrocarbons (toluene). , Xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, tricrene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。   Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.) , (Acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene Glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40重量%未満が好ましい。   If the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. If the developer contains an organic solvent, safety, ignition, From the viewpoint of properties, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by weight.

無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。
無機塩の含有量は処理液の全重量に基づいて0.01〜0.5重量%の量が好ましい。
Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like.
The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by weight based on the total weight of the treatment liquid.

<現像工程>
本発明の平版印刷版の製版方法における現像工程について詳述する。
通常の現像工程においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ性現像液により現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。
本発明においては、現像とガム引き1液で行うことが好ましい。
本発明における「ガム引き」とは、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物による版面親水化処理のことを意味する。すなわち、現像及びガム引き工程の後に、別途ガム引き工程が行われないことが好ましい。
本発明においては、現像液中に水溶性高分子化合物を含有することが好ましい。また、後水洗工程を行わず、一液で現像とガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。
さらに、前水洗工程も行うことなく、保護層の除去、現像処理及びガム引きを1液で同時に行うことが好ましい。また、現像処理及びガム引きの後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
本発明における平版印刷版原版の現像処理は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは約15〜約40℃の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行うことができる。また、自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量の増大により現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させることが好ましい。
<Development process>
The development step in the lithographic printing plate making method of the present invention will be described in detail.
In a normal development process, the protective layer is removed by a pre-water washing process, then development is performed with an alkaline developer, alkali is removed by a post-water washing process, gumming is performed in a gumming process, and drying is performed in a drying process.
In the present invention, development and gumming are preferably performed with a single solution.
“Gum-drawing” in the present invention means a plate surface hydrophilization treatment with a surfactant and / or a water-soluble polymer compound. That is, it is preferable that a separate gumming process is not performed after the development and gumming processes.
In the present invention, the developer preferably contains a water-soluble polymer compound. Moreover, it is preferable to perform a drying process after developing and gumming by one liquid, without performing a post-water washing process.
Furthermore, it is preferable to simultaneously perform removal of the protective layer, development processing, and gumming with one liquid without performing a pre-water washing step. Moreover, it is preferable to dry after removing a surplus developing solution using a squeeze roller after a development process and gumming.
The development of the lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out in accordance with a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably about 15 to about 40 ° C., for example, by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in a developer and brushing It can be performed by rubbing with, for example. Further, when developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued due to an increase in the processing amount. Therefore, it is preferable to restore the processing capability using a replenishing solution or a fresh developing solution.

本発明における親水性支持体は、後述する実施例1で説明するように、機械的粗面化処理を施すことができる。この機械的粗面化の処理に図2で示すような装置を使用することができる。   The hydrophilic support in the present invention can be subjected to a mechanical surface roughening treatment as described in Example 1 described later. An apparatus as shown in FIG. 2 can be used for this mechanical roughening treatment.

平版印刷版原版は、図1に例示する自動現像処理装置を用いて現像処理を施した。
ここで、「現像処理」とは、画像形成層の現像の他に、保護層の除去、ガム引き及び乾燥よりなる群から選ばれた1以上の処理をも含む複合処理を意味するものとする。
使用した処理液は、実施例に例示する。自動現像処理装置は、回転ブラシロール1を2本有する自動処理機である。回転ブラシロール1としては、1本目の回転ブラシロール1に、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径90mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.94m/sec)させた。また、2本目の回転ブラシロール1には、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径60mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.63m/sec)させた。露光済みの平版印刷版原版12の搬送は、回転ブラシロール1とこれと対向する受けロール2の間に平版印刷版原版12が通過するように、三対の搬送ロール3の間を図示した搬送方向に、給版台8から排版台9まで、途中に設けられた搬送ガイド板4の上を搬送速度100cm/minで行った。
4カ所のスプレーパイプ5には、管路6によりフィルター7を通して、現像液タンク10に貯留された現像液を、循環ポンプ11により供給して、各スプレーパイプ5から版面にシャワーリングして供給した。なお、現像液タンク10の容量は、10リットルであり、現像液は循環使用した。
自動現像処理装置から排出された平版印刷版は、水洗することなく乾燥機(不図示)により乾燥した。
本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動現像処理装置のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、これらが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の画像形成層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも現像に効果的である。
The planographic printing plate precursor was developed using an automatic development processing apparatus illustrated in FIG.
Here, the “development process” means a composite process including one or more processes selected from the group consisting of removal of the protective layer, gumming and drying in addition to the development of the image forming layer. .
The used processing liquid is illustrated in the Examples. The automatic developing apparatus is an automatic processor having two rotating brush rolls 1. As the rotating brush roll 1, a brush roll having an outer diameter of 90 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) is used for the first rotating brush roll 1 is the same as the conveying direction. The direction was 200 revolutions per minute (peripheral speed of brush tip 0.94 m / sec). The second rotating brush roll 1 uses a brush roll having an outer diameter of 60 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) are used. It was rotated 200 times (peripheral speed of the brush tip 0.63 m / sec). The exposed lithographic printing plate precursor 12 is conveyed between the three pairs of conveying rolls 3 so that the lithographic printing plate precursor 12 passes between the rotating brush roll 1 and the receiving roll 2 facing it. In the direction from the plate supply table 8 to the discharge plate table 9, the transfer was performed on the transfer guide plate 4 provided in the middle at a transfer speed of 100 cm / min.
To the four spray pipes 5, the developer stored in the developer tank 10 is supplied by the circulation pump 11 through the filter 7 through the conduit 6, and is supplied by showering from each spray pipe 5 to the plate surface. . The capacity of the developer tank 10 was 10 liters, and the developer was circulated.
The lithographic printing plate discharged from the automatic development processor was dried by a drier (not shown) without washing with water.
The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the transport direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. Thus, when using two or more rotating brush rolls, it is preferable that these rotate in the opposite direction. This further ensures the removal of the image forming layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective for development to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.

(実施例1〜8、及び、比較例1〜5)
<支持体の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3重量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、15%硫酸水溶液溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、さらに1%ポリビニルホスホン酸水溶液を用いて75℃で親水化処理を行って支持体を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.44μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
(Examples 1-8 and Comparative Examples 1-5)
<Production of support>
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. This degreased aluminum plate was neutralized by dipping in a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Next, this aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current for 60 seconds under conditions of 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 in a 0.3 wt% hydrochloric acid aqueous solution, and then kept at 60 ° C. Desmutting treatment was performed for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution. The surface-roughened aluminum plate subjected to desmut treatment was anodized in a 15% aqueous sulfuric acid solution at 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a voltage of 15 V for 1 minute, and further 1% polyvinylphosphonic acid Hydrophilic treatment was performed at 75 ° C. using an aqueous solution to prepare a support. When the surface roughness was measured, it was 0.44 μm (Ra display according to JIS B0601).

<感光層の形成>
支持体上に、下記組成の感光層塗布液(A)をバー塗布した後、90℃、60秒でオーブン乾燥し、実施例1〜8、比較例1〜5の平版印刷版原版を作製した。乾燥塗布量は1.3g/m2であった。
<Formation of photosensitive layer>
A photosensitive layer coating solution (A) having the following composition was bar coated on the support and then oven-dried at 90 ° C. for 60 seconds to prepare lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5. . The dry coating amount was 1.3 g / m 2 .

<感光層塗布液(A)>
・下記バインダーポリマー(1)(重量平均分子量:8万) 0.34重量部
・下記重合性化合物(1) 0.68重量部
(PLEX6661−O、エボニックデグサジャパン(株)製)
・下記増感色素(1) 0.06重量部
・下記重合開始剤(1) 0.18重量部
・下記連鎖移動剤(1) 0.02重量部
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40重量部
(顔料:15重量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合モル比83/17)):10重量部、シクロヘキサノン:15重量部)
・熱重合禁止剤 0.01重量部
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・下記フッ素系界面活性剤(1)(重量平均分子量:1.1万) 0.001重量部
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.02重量部
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・黄色顔料の分散物 0.04重量部
(黄色顔料Novoperm Yellow H2G(クラリアント社製):15重量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合モル比83/17)):10重量部、シクロヘキサノン:15重量部)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5重量部
・メチルエチルケトン 8.0重量部
・下記表1に記載の重合禁止剤 表1に記載した量
<Photosensitive layer coating solution (A)>
-The following binder polymer (1) (weight average molecular weight: 80,000) 0.34 parts by weight-The following polymerizable compound (1) 0.68 parts by weight (PLEX6661-O, manufactured by Evonik Degussa Japan Co., Ltd.)
The following sensitizing dye (1) 0.06 part by weight The following polymerization initiator (1) 0.18 part by weight The following chain transfer agent (1) 0.02 part by weight A dispersion of ε-phthalocyanine pigment 0.40 Parts by weight (pigment: 15 parts by weight, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 83/17)): 10 parts by weight, cyclohexanone: 15 parts by weight)
・ 0.01 parts by weight of thermal polymerization inhibitor (N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
-The following fluorosurfactant (1) (weight average molecular weight: 11,000) 0.001 part by weight-Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.02 part by weight (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Pluronic L44)
-Dispersion of yellow pigment 0.04 parts by weight (yellow pigment Novoperm Yellow H2G (manufactured by Clariant): 15 parts by weight, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 83/17)): 10 Parts by weight, cyclohexanone: 15 parts by weight)
1-methoxy-2-propanol 3.5 parts by weight Methyl ethyl ketone 8.0 parts by weight Polymerization inhibitor described in Table 1 below Amount shown in Table 1

Figure 0005189448
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なお、表1中におけるa−1〜a−4、c−1及びc−2は下記に示す化合物である。   In Table 1, a-1 to a-4, c-1 and c-2 are the compounds shown below.

Figure 0005189448
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<保護層1の形成>
感光層上に、下記組成よりなる保護層塗布液(A)を、乾燥塗布量が1.0g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。
<保護層塗布液(A)>
・下記雲母分散液(A) 0.6重量部
・スルホン酸変性ポリビニルアルコール 0.8重量部
(ゴーセランCKS−50、日本合成化学(株)製、ケン化度:99モル%、平均重合度:300、変性度:約0.4モル%)
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))(分子量7万)
0.001重量部
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.002重量部
・水 13重量部
<Formation of protective layer 1>
On the photosensitive layer, a protective layer coating solution (A) having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 1.0 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds. A protective layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.
<Protective layer coating solution (A)>
-0.6 part by weight of the following mica dispersion (A)-0.8 part by weight of sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol (Goselan CKS-50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., degree of saponification: 99 mol%, average degree of polymerization: 300, degree of modification: about 0.4 mol%)
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) (molecular weight 70,000)
0.001 part by weight / surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.002 part by weight / water 13 part by weight

(雲母分散液(A)の調製)
水368重量部に合成雲母(ソマシフME−100、コープケミカル(株)製、アスペクト比:1,000以上)の32重量部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになるまで分散し、雲母分散液(A)を得た。
(Preparation of mica dispersion (A))
32 parts by weight of synthetic mica (Somasif ME-100, manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1,000 or more) was added to 368 parts by weight of water, and the average particle size (laser scattering method) was 0. 0 using a homogenizer. Dispersion was performed until the thickness became 5 μm, and a mica dispersion liquid (A) was obtained.

(1)露光、現像及び印刷
表1に示した上記の支持体、感光層、保護層を有する各々の平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光を実施した。露光画像として、抜き細線評価用画像として、5〜100μm幅(5μm間隔)の抜き細線が並んだ画像を使用した。耐刷評価用としては、ベタ耐刷評価可能な画像を使用した。画像描画は、解像度2400dpiで、版面露光量0.05mJ/cm2で画像様露光を実施した。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを実施し、その後、下記組成の現像液Aを用い、図1に示す構造の自動現像処理装置にて、現像液中への浸漬時間(現像時間)が、20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。
(1) Exposure, development and printing Each lithographic printing plate precursor having the above support, photosensitive layer and protective layer shown in Table 1 is a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (InGaN-based semiconductor laser 405 nm, manufactured by FUJIFILM Electronic Imaging Ltd). Image exposure was carried out by mounting ± 10 nm emission / output 30 mW. As the exposure image, an image in which drawn thin lines having a width of 5 to 100 μm (5 μm intervals) were arranged as the drawn thin line evaluation image was used. For printing durability evaluation, an image capable of solid printing durability evaluation was used. For image drawing, imagewise exposure was performed with a resolution of 2400 dpi and a plate surface exposure of 0.05 mJ / cm 2 .
Next, preheating is performed at 100 ° C. for 30 seconds, and then using the developer A having the following composition, the immersion time (development time) in the developer is set in the automatic development processing apparatus having the structure shown in FIG. Development processing was performed at a conveyance speed of 20 seconds.

<現像液A(pH=9.7)>(以下単位は、重量部)
・水 8329.8
・炭酸ナトリウム 130
・炭酸水素ナトリウム 70
・アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩 500(固形分換算)
(三洋化成工業(株)製、エレミノールMON)
・アラビアガム(重量平均分子量:20万) 250
・ヒドロキシアルキル化澱粉 700
(日澱化学(株)製:ペノンJE66)
・第一燐酸アンモニウム 20
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.1
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.1
<Developer A (pH = 9.7)> (Units are parts by weight)
・ Water 8329.8
・ Sodium carbonate 130
・ Sodium bicarbonate 70
・ Alkyl diphenyl ether disulfonate 500 (converted to solid content)
(Sanyo Chemical Industry Co., Ltd., Eleminor MON)
・ Gum arabic (weight average molecular weight: 200,000) 250
・ Hydroxyalkylated starch 700
(Nippon Chemical Co., Ltd .: Penon JE66)
・ Primary ammonium phosphate 20
2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.1
2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.1

次いで、現像後の平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。   Next, the developed lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 ( Volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) were used for printing at a printing speed of 6,000 sheets per hour.

〔評価〕
実施例1〜8、比較例1〜5の平版印刷版原版を用いて、耐刷性、及び、抜き細線を以下のように評価した。
[Evaluation]
Using the planographic printing plate precursors of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, the printing durability and the drawn fine lines were evaluated as follows.

<耐刷性>
印刷枚数を増やしていくと徐々に平版印刷版上に形成された感光層の画像が磨耗しインキ受容性が低下するため、これに伴い、印刷用紙における画像のインキ濃度が低下する。そこで、10,000gの現像液を使用した場合におけるインキ濃度(反射濃度)が、印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
<Print durability>
As the number of printed sheets is increased, the image on the photosensitive layer formed on the planographic printing plate gradually wears out and the ink receptivity is lowered. Accordingly, the ink density of the image on the printing paper is lowered. Accordingly, the printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when the ink density (reflection density) when using 10,000 g of the developer was reduced by 0.1 from the start of printing.

<抜き細線>
各々の平版印刷版原版について上記の通り現像処理を行い、得られた印刷版について、主操作方向の抜き細線の幅を目視により確認し、抜き細線を評価した。
<Thin wire>
Each lithographic printing plate precursor was developed as described above, and the obtained printing plate was visually checked for the width of the drawn fine line in the main operation direction, and the drawn fine line was evaluated.

耐刷性と抜き細線の評価を行った結果、表2に示すように、フェノチアジン系重合禁止剤を添加した実施例1〜8の平版印刷版では、耐刷の低下が小さく、抜き細線を無添加のものと比べて良化できていることがわかったが、比較例においては不満足なものであった。   As a result of the evaluation of the printing durability and the drawn fine line, as shown in Table 2, the lithographic printing plates of Examples 1 to 8 to which a phenothiazine-based polymerization inhibitor was added exhibited a small decrease in printing durability and no drawn fine line. Although it turned out that it was improving compared with the additive, it was unsatisfactory in the comparative example.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

Figure 0005189448
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(実施例9〜16、及び、比較例6〜10)
<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(k)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後には、ニップローラで液切りを行った。
(Examples 9 to 16 and Comparative Examples 6 to 10)
<Surface treatment>
For the surface treatment, the following various treatments (a) to (k) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)機械的粗面化処理
図2に示したような装置を使って、比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図2において、21はアルミニウム板、22及び24はローラ状ブラシ、23は研磨スラリー液、25、26、27及び28は支持ローラである。研磨剤の平均粒径は30μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は45mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment Using an apparatus as shown in FIG. 2, a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied as a polishing slurry to the surface of the aluminum plate. However, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller-like nylon brush. In FIG. 2, 21 is an aluminum plate, 22 and 24 are roller brushes, 23 is a polishing slurry, and 25, 26, 27 and 28 are support rollers. The average particle size of the abrasive was 30 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 45 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板を苛性ソーダ濃度2.6重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6% by weight, an aluminum ion concentration of 6.5% by weight and a temperature of 70 ° C. / M 2 dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment Desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007重量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は図3に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by weight of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 3, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was subjected to an etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by weight and an aluminum ion concentration of 6.5% by weight to dissolve the aluminum plate by 0.50 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15重量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used in the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in the nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸5.0g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源の波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の炬形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 5.0 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The waveform of the AC power supply is electrochemically roughened using a trapezoidal trapezoidal wave AC with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal trapezoidal wave AC Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali etching treatment The aluminum plate was subjected to etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by weight and an aluminum ion concentration of 6.5% by weight to dissolve the aluminum plate by 0.10 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washing with water by spraying was performed.

(j)陽極酸化処理
陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5重量%含む)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment is carried out using an anodizing apparatus (first and second electrolysis section length 6 m, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2.4 m each). went. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5% by weight of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.

(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1重量%水溶液の処理槽中へ、10秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行い、表面シリケート親水化処理された支持体を得た。
(K) Alkali metal silicate treatment An aluminum support obtained by anodizing treatment was immersed in a treatment tank of a 1 wt% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C for 10 seconds. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Thereafter, washing with water using well water was performed to obtain a support subjected to a surface silicate hydrophilization treatment.

次に、下記中間層塗布液(B)を乾燥塗布量が10mg/m2になるように上記の表面
処理を施したアルミニウム支持体上に塗布して、乾燥した。
<中間層塗布液(B)>
・ポリビニルホスホン酸 0.017重量部
・メタノール 9.00重量部
・水 1.00重量部
Next, the following intermediate layer coating solution (B) was coated on the aluminum support subjected to the above surface treatment so as to have a dry coating amount of 10 mg / m 2 and dried.
<Intermediate layer coating solution (B)>
・ Polyvinylphosphonic acid 0.017 weight part ・ Methanol 9.00 weight part ・ Water 1.00 weight part

<感光層の形成>
下記感光層用塗布液(B)を調製し、上記のように形成された中間層上にワイヤーバーを用いて塗布し、実施例9〜16、比較例6〜10の平版印刷版原版を作製した。乾燥は、温風式乾燥装置にて125℃で34秒間行った。乾燥後の被覆量は1.4g/m2であった。
<Formation of photosensitive layer>
The following coating solution (B) for the photosensitive layer is prepared and applied onto the intermediate layer formed as described above using a wire bar to produce lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 16 and Comparative Examples 6 to 10. did. Drying was performed at 125 ° C. for 34 seconds using a warm air dryer. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .

<感光層用塗布液(B)>
・赤外線吸収剤(IR−1) 0.038重量部
・重合開始剤A(S−1) 0.061重量部
・重合開始剤B(I−1) 0.094重量部
・メルカプト化合物(E−1) 0.015重量部
・エチレン性不飽和化合物(M−1) 0.425重量部
(商品名:A−BPE−4、新中村化学工業(株))
・バインダーポリマーA(B−1)(重量平均分子量:11万) 0.311重量部
・バインダーポリマーB(B−2)(重量平均分子量:10万) 0.250重量部
・バインダーポリマーC(B−3)(重量平均分子量:12万) 0.062重量部
・添加剤(T−1) 0.079重量部
・重合禁止剤(Q−1) 0.0012重量部
・エチルバイオレット(EV−1) 0.021重量部
・フッ素系界面活性剤 0.0081重量部
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、メチルイソブチルケトン(MIBK)30重量%溶液)
・メチルエチルケトン 5.886重量部
・メタノール 2.733重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.886重量部
・表4に記載の重合禁止剤 表4に記載した量
<Coating solution for photosensitive layer (B)>
Infrared absorber (IR-1) 0.038 parts by weight Polymerization initiator A (S-1) 0.061 parts by weight Polymerization initiator B (I-1) 0.094 parts by weight Mercapto compound (E- 1) 0.015 part by weight / ethylenically unsaturated compound (M-1) 0.425 part by weight (trade name: A-BPE-4, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-Binder polymer A (B-1) (weight average molecular weight: 110,000) 0.311 parts by weight-Binder polymer B (B-2) (weight average molecular weight: 100,000) 0.250 parts by weight-Binder polymer C (B -3) (weight average molecular weight: 120,000) 0.062 parts by weight, additive (T-1) 0.079 parts by weight, polymerization inhibitor (Q-1) 0.0012 parts by weight, ethyl violet (EV-1) ) 0.021 parts by weight · Fluorosurfactant 0.0081 parts by weight (Megafac F-780-F Dainippon Ink & Chemicals, Inc., methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by weight solution)
-Methyl ethyl ketone 5.886 parts by weight-methanol 2.733 parts by weight-1-methoxy-2-propanol 5.886 parts by weight-polymerization inhibitor described in Table 4 Amount described in Table 4

なお、上記感光層用塗布液(B)に用いた、赤外線吸収剤(IR−1)、重合開始剤A(S−1)、重合開始剤B(I−1)、メルカプト化合物(E−1)、重合性化合物(M−1)、バインダーポリマーA(B−1)、バインダーポリマーB(B−2)、バインダーポリマーC(B−3)、添加剤(T−1)、重合禁止剤(Q−1)、及びエチルバイオレット(EV−1)の構造を以下に示す。なお、下記において、Meはメチル基を表す。   In addition, the infrared absorber (IR-1), the polymerization initiator A (S-1), the polymerization initiator B (I-1), and the mercapto compound (E-1) used in the photosensitive layer coating solution (B). ), Polymerizable compound (M-1), binder polymer A (B-1), binder polymer B (B-2), binder polymer C (B-3), additive (T-1), polymerization inhibitor ( The structures of Q-1) and ethyl violet (EV-1) are shown below. In the following, Me represents a methyl group.

Figure 0005189448
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Figure 0005189448
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Figure 0005189448
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なお、表4中におけるa−1〜a−4、c−1及びc−2は、前記に示した化合物である。   In Table 4, a-1 to a-4, c-1 and c-2 are the compounds shown above.

<下部保護層の形成>
形成された感光層上に、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50、ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール、日本合成化学工業(株)製)、界面活性剤A(日本エマルジョン社製、エマレックス710)、及び、界面活性剤B(アデカプルロニックP−84:旭電化工業(株)製)の混合水溶液(下部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(下部保護層形成用塗布液)中の合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/界面活性剤A/界面活性剤Bの含有量割合は、7.5/89/2/1.5(重量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/m2であった。
<Formation of lower protective layer>
On the formed photosensitive layer, synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (Goselan CKS-50, saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300) , Sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), surfactant A (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., Emalex 710), and surfactant B (Adeka Pluronic P-84: Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) )) Mixed aqueous solution (coating liquid for forming the lower protective layer) was applied with a wire bar and dried at 125 ° C. for 30 seconds with a hot air dryer.
The content ratio of synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / surfactant A / surfactant B in this mixed aqueous solution (coating liquid for forming the lower protective layer) was 7.5 / 89/2 / 1.5. (Weight%) and the coating amount (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .

<上部保護層の形成>
下部保護層上に、有機フィラー(アートパールJ−7P、根上工業(株)製)、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(L−3266:ケン化度87モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール、日本合成化学工業(株)製)、増粘剤(セロゲンFS−B、第一工業製薬(株)製)、及び、界面活性剤(日本エマルジョン(株)製、エマレックス710)の混合水溶液(上部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(上部保護層形成用塗布液)中の有機フィラー/合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/増粘剤/界面活性剤の含有量割合は、3.2/2.0/80.5/11.5/2.8(重量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.76g/m2
であった。
<Formation of upper protective layer>
On the lower protective layer, an organic filler (Art Pearl J-7P, manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.), synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol ( L-3266: Saponification degree 87 mol%, polymerization degree 300, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), thickener (Serogen FS-B, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Then, a mixed aqueous solution of the surfactant (Emulex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) is applied with a wire bar and dried at 125 ° C. for 30 seconds with a hot air dryer. It was.
The content ratio of the organic filler / synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / thickener / surfactant in the mixed aqueous solution (upper protective layer forming coating solution) is 3.2 / 2.0 / 80. 5 / 11.5 / 2.8 (% by weight), and the coating amount (the coating amount after drying) is 1.76 g / m 2.
Met.

<バックコート層の形成>
平版印刷版原版AとBの感光層及び保護層を設けた側と反対の面に、特開平6−35174号公報の実施例1と同様のバックコート層を設けた。
<Formation of back coat layer>
A back coat layer similar to that in Example 1 of JP-A-6-35174 was provided on the side opposite to the side of the planographic printing plate precursors A and B on which the photosensitive layer and protective layer were provided.

〔露光、現像及び印刷〕
<製版>
得られた平版印刷版原版を、露光、現像処理、乾燥の各工程順に処理した。
露光に用いた光源(セッター):赤外線半導体レーザー(Creo社製Trendsetter3244VX:水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載)にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2,400dpiの条件で画像様露光を行った。露光画像として、抜き細線評価用画像として、5〜100μm幅(5μm間隔)の抜き細線が並んだ画像を使用した。耐刷評価用としては、ベタ耐刷評価可能な画像を使用した。
露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、下記組成の現像液Bを用い、図1に示す構造の自動現像処理装置にて現像処理を実施した。現像液のpHは、9.7であった。自動現像処理装置は、回転ブラシロールを2本有し1本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
[Exposure, development and printing]
<Plate making>
The obtained lithographic printing plate precursor was processed in the order of steps of exposure, development, and drying.
Light source (setter) used for exposure: Image-like exposure was performed with an infrared semiconductor laser (Trendsetter 3244VX manufactured by Creo, equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser) under conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. It was. As the exposure image, an image in which drawn thin lines having a width of 5 to 100 μm (5 μm intervals) were arranged as the drawn thin line evaluation image was used. For printing durability evaluation, an image capable of solid printing durability evaluation was used.
After the exposure, the heat treatment and the water washing treatment were not carried out, and the development treatment was carried out with an automatic development treatment apparatus having a structure shown in FIG. The pH of the developer was 9.7. The automatic development processing apparatus has two rotating brush rolls, and the first brush roll is a brush roll having an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted. Used, 200 revolutions per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed 0.52 m / sec at the tip of the brush), the second brush roll has a polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length A brush roll having an outer diameter of 50 mm implanted with a thickness of 17 mm) was rotated 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of the brush tip of 0.52 m / sec). The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min.
The developer was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the printing plate. The tank capacity of the developer was 10 liters.

<現像液B>
・水 8619.3重量部
・炭酸ナトリウム 130重量部
・炭酸水素ナトリウム 70重量部
・ニューコールB4SN(100%換算)(日本乳化剤(株)製) 400重量部
・アラビアガム(重量平均分量:20万) 400重量部
・リン酸変性澱粉
(日澱化学(株)製:ペトロコートHN25) 200重量部
・エチレンジアミンテトラアセテート四ナトリウム塩 80重量部
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.1重量部
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.1重量部
<Developer B>
-Water 8619.3 parts by weight-Sodium carbonate 130 parts by weight-Sodium hydrogen carbonate 70 parts by weight-New Coal B4SN (100% conversion) (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 400 parts by weight-Gum arabic (weight average weight: 200,000) ) 400 parts by weight-Phosphate modified starch (manufactured by Nissho Chemical Co., Ltd .: Petrocoat HN25) 200 parts by weight-80 parts by weight of ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt-2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.1 part by weight 2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.1 part by weight

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6,000 sheets per hour.

〔評価〕
実施例9〜16、及び、比較例6〜10の平版印刷版原版を用いて、耐刷性、及び、抜き細線を前記実施例1と同様な方法で評価した。
[Evaluation]
Using the lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 16 and Comparative Examples 6 to 10, the printing durability and the drawn fine lines were evaluated in the same manner as in Example 1.

耐刷性と抜き細線の評価を行った結果、表5に示すように、フェノチアジン系重合禁止剤を添加した実施例9〜16の平版印刷版では、耐刷の低下が小さく、抜き細線を無添加のものと比べて良化できていることがわかったが、比較例においては不満足なものであった。また、表6に示すように、細線と耐刷性とのバランスから、フェノチアジン系重合禁止剤の添加量は、重合性化合物の0.01%〜0.05%が好ましいことがわかる。   As a result of the evaluation of the printing durability and the drawn fine line, as shown in Table 5, in the planographic printing plates of Examples 9 to 16 to which the phenothiazine polymerization inhibitor was added, the decrease in printing durability was small and no drawn fine line was observed. Although it turned out that it was improving compared with the additive, it was unsatisfactory in the comparative example. Further, as shown in Table 6, it can be seen that the addition amount of the phenothiazine-based polymerization inhibitor is preferably 0.01% to 0.05% of the polymerizable compound from the balance between the fine line and the printing durability.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

Figure 0005189448
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(実施例17〜24、及び、比較例11〜15)
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A1050)を10重量%水酸化ナトリウム水溶液に60℃で25秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、20重量%硝酸水溶液で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1重量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1重量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20重量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。このようにして得た支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.25μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
(Examples 17 to 24 and Comparative Examples 11 to 15)
(Production of support)
An aluminum plate (material JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm is etched by immersing in a 10 wt% aqueous sodium hydroxide solution at 60 ° C for 25 seconds, washed with running water, neutralized and washed with a 20 wt% aqueous nitric acid solution, and then Washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment using a sinusoidal alternating waveform current in a 1 wt% aqueous nitric acid solution at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by weight sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by weight sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 under the condition of dm 2 . The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.25 μm (Ra indication according to JIS B0601).

次に、下記下塗り液(C)をバー塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量10mg/m2の下塗り層を有する支持体を作製した。 Next, the following undercoat liquid (C) was bar-coated and then oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds to prepare a support having an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 .

<下塗り液(C)>
・下記下塗り化合物(1)(重量平均分子量:5万) 0.017重量部
・メタノール 9.00重量部
・水 1.00重量部
<Undercoat liquid (C)>
・ Undercoat compound (1) below (weight average molecular weight: 50,000) 0.017 parts by weight • 9.00 parts by weight of methanol • 1.00 part by weight of water

Figure 0005189448
Figure 0005189448

〔平版印刷版原版の作製〕
上記の下塗り層を付与した支持体上に、下記組成の感光層塗布液(C)をバー塗布した後、100℃、44秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層を形成し、この上に下記組成の保護層塗布液(C)をバー塗布した後、125℃、70秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.25g/m2の保護層を形成し実施例17〜24、比較例11〜15の平版印刷版原版を作製した。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
A photosensitive layer coating solution (C) having the following composition was bar coated on the support provided with the undercoat layer, followed by oven drying at 100 ° C. for 44 seconds, and a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 . A protective layer coating solution (C) having the following composition was coated on the bar, followed by oven drying at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 1.25 g / m 2. The lithographic printing plate precursors 17-17 and Comparative Examples 11-15 were prepared.

<感光層塗布液(C)>
・下記バインダーポリマーP−22(重量平均分子量:6.2万、ない、下記における各モノマー下部の数値はモル%を表す。) 0.45重量部
・前記重合性化合物(1) 0.52重量部
(PLEX 6661−O、デグサジャパン(株)製)
・前記増感色素(1) 0.04重量部
・前記重合開始剤(1) 0.08重量部
・共増感剤(1)(前記連鎖移動剤(1)) 0.05重量部
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40重量部
(顔料:15重量部、分散剤 前記バインダーポリマー(1):10重量部、溶剤: シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15重量部/20重量部/40重量部)
・熱重合禁止剤 0.006重量部
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・前記フッ素系界面活性剤(1) 0.002重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0重量部
・メチルエチルケトン 8.0重量部
・下記表7に記載の重合禁止剤 表7に記載した量
<Photosensitive layer coating solution (C)>
-The following binder polymer P-22 (weight average molecular weight: 62,000, not, the numerical value at the bottom of each monomer in the following represents mol%) 0.45 parts by weight-The polymerizable compound (1) 0.52 weight (PLEX 6661-O, manufactured by Degussa Japan Co., Ltd.)
-0.04 part by weight of the sensitizing dye (1)-0.08 part by weight of the polymerization initiator (1)-0.05 part by weight of the co-sensitizer (1) (the chain transfer agent (1)) -Dispersion of phthalocyanine pigment 0.40 part by weight (pigment: 15 parts by weight, dispersant The binder polymer (1): 10 parts by weight, solvent: cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by weight / 20 parts by weight / 40 parts by weight)
-Thermal polymerization inhibitor 0.006 parts by weight (N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
-Fluorosurfactant (1) 0.002 parts by weight-1-methoxy-2-propanol 8.0 parts by weight-Methyl ethyl ketone 8.0 parts by weight-Polymerization inhibitor described in Table 7 below Table 7 amount

Figure 0005189448
Figure 0005189448

Figure 0005189448
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なお、表7中におけるa−1〜a−4、c−1及びc−2は、前記に示した化合物である。   In Table 7, a-1 to a-4, c-1 and c-2 are the compounds shown above.

<保護層塗布液(C)>
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.02重量部
・水 13重量部
・CKS50:日本合成化学(株)製(ケン化度:99モル%、平均重合度:300、スルホン酸変性度:約0.4モル%) 0.66重量部
・雲母分散液:合成雲母(ソマシフMEB−3L、コープケミカル(株)製、アスペクト比:1,000以上) 1.6重量部
・フィラー:アートパールJ−7P(根上工業(株)製、シリカ被覆粒子、分子量10万、20重量%) 0.16重量部
<Protective layer coating solution (C)>
-Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.02 parts by weight-Water 13 parts by weight-CKS50: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. (degree of saponification: 99 mol%, average degree of polymerization: 300) 0.66 parts by weight Mica dispersion: Synthetic mica (Somasif MEB-3L, manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1,000 or more) 1.6 weights Part / Filler: Art Pearl J-7P (Negami Kogyo Co., Ltd., silica-coated particles, molecular weight 100,000, 20% by weight) 0.16 parts by weight

〔露光、現像及び印刷〕
上記平版印刷版原版各々を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー 405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光した。画像は、解像度2438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、50%の平網を版面露光量0.09mJ/cm2で描画した。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを行った後、下記組成の現像液Cを用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。現像液のpHは、リン酸と水酸化ナトリウムを用い、全て4.5に調整した。自動現像処理機は、回転ブラシロールを2本有し1本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
[Exposure, development and printing]
Each of the above lithographic printing plate precursors was prepared by using FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was performed using a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (equipped with InGaN-based semiconductor laser 405 nm ± 10 nm emission / output 30 mW). The image was drawn with a resolution of 2438 dpi using an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., and a 50% flat screen was drawn with a plate exposure of 0.09 mJ / cm 2 .
Next, after preheating at 100 ° C. for 30 seconds, development processing was performed with an automatic development processor having a structure shown in FIG. The pH of the developer was all adjusted to 4.5 using phosphoric acid and sodium hydroxide. The automatic processor has two rotating brush rolls, and the first brush roll is a brush roll having an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted. Used, 200 revolutions per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed 0.52 m / sec at the tip of the brush), the second brush roll has a polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length A brush roll having an outer diameter of 50 mm implanted with a thickness of 17 mm) was rotated 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of the brush tip of 0.52 m / sec). The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min.
The developer was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the printing plate. The tank capacity of the developer was 10 liters.

<現像液C>
・水 100重量部
・下記界面活性剤W−8 10重量部
・アラビアガム(重量平均分子量:20万) 10重量部
・第一リン酸アンモニウム 0.1重量部
・クエン酸 0.1重量部
・エチレンジアミンテトラアセテート四ナトリウム塩 0.1重量部
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.001重量部
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.001重量部
<Developer C>
-100 parts by weight of water-10 parts by weight of the following surfactant W-8-10 parts by weight of gum arabic (weight average molecular weight: 200,000)-0.1 parts by weight of monobasic ammonium phosphate-0.1 parts by weight of citric acid- Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.1 parts by weight 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.001 part by weight 2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.001 part by weight

Figure 0005189448
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得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6,000 sheets per hour.

〔評価〕
実施例17〜24、及び、比較例11〜15の平版印刷版原版を用いて、耐刷性、及び、抜き細線を前記実施例1と同様な方法で評価した。
[Evaluation]
Using the lithographic printing plate precursors of Examples 17 to 24 and Comparative Examples 11 to 15, the printing durability and the drawn fine lines were evaluated in the same manner as in Example 1.

耐刷性と抜き細線の評価を行った結果、表8に示すように、フェノチアジン系重合禁止剤を添加した実施例17〜24の平版印刷版では、耐刷の低下が小さく、抜き細線を無添加のものと比べて良化できていることがわかったが、比較例においては不満足なものであった。   As a result of the evaluation of the printing durability and the drawn fine line, as shown in Table 8, the lithographic printing plates of Examples 17 to 24 to which a phenothiazine polymerization inhibitor was added showed a small decrease in printing durability and no drawn fine line. Although it turned out that it was improving compared with the additive, it was unsatisfactory in the comparative example.

Figure 0005189448
Figure 0005189448

Figure 0005189448
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自動現像処理装置の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic image development processing apparatus. アルミニウム支持体の作製における機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for the machine roughening process in preparation of an aluminum support body. アルミニウム支持体の作成における電気化学的な粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of an aluminum support body.

符号の説明Explanation of symbols

1:回転ブラシロール
2:受けロール
3:搬送ロール
4:搬送ガイド板
5:スプレーパイプ
6:管路
7:フィルター
8:給版台
9:排版台
10:現像液タンク
11:循環ポンプ
12:版
21:アルミニウム板
22,24:ローラ状ブラシ
23:研磨スラリー液
25,26,27,28:支持ローラ
1: rotating brush roll 2: receiving roll 3: transport roll 4: transport guide plate 5: spray pipe 6: pipeline 7: filter 8: plate supply table 9: plate discharge table 10: developer tank 11: circulation pump 12: plate 21: Aluminum plate 22, 24: Roller brush 23: Polishing slurry liquid 25, 26, 27, 28: Support roller

Claims (8)

支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、及び、(E)フェノチアジン系化合物を含有する感光層を有し、
前記(B)重合開始剤が、オニウム塩及び/又はヘキサアリールビイミダゾール化合物であり、
前記(E)フェノチアジン系化合物が、下記式(1)で表される化合物であることを特徴とする
平版印刷版原版。
Figure 0005189448
(式(1)中、X及びYはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、p及びqはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表す。)
On a support, (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and have a photosensitive layer containing (E) phenothiazine compound,
The (B) polymerization initiator is an onium salt and / or a hexaarylbiimidazole compound,
The lithographic printing plate precursor wherein the (E) phenothiazine-based compound is a compound represented by the following formula (1) .
Figure 0005189448
(In formula (1), X and Y each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an alkylthio group, and p and q each independently represent an integer of 0 to 4.)
リン酸基及び/又はホスホン酸基を有する樹脂を含む層を支持体と感光層との間に有する請求項1に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 1, further comprising a layer containing a resin having a phosphoric acid group and / or a phosphonic acid group between the support and the photosensitive layer. 前記(E)フェノチアジン系化合物の含有量が、前記(C)重合性化合物の総重量100重量部に対し、0.005〜0.1重量部である請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate according to claim 1 or 2 , wherein the content of the (E) phenothiazine compound is 0.005 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total weight of the polymerizable compound (C). Original edition. 前記(E)フェノチアジン系化合物の含有量が、前記(C)重合性化合物の総重量100重量部に対し、0.01〜0.05重量部である請求項1〜のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。 The content of the (E) phenothiazine compound, wherein the total weight 100 parts by weight of the polymerizable compound (C), in any one of claims 1 to 3 is 0.01 to 0.05 parts by weight The lithographic printing plate precursor described. 請求項1〜のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、
現像液の存在下で非露光部の感光層を除去する現像工程を含むことを特徴とする
平版印刷版の製版方法。
An exposure step for image exposure of the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4 , and
A plate making method of a lithographic printing plate comprising a developing step of removing a photosensitive layer in a non-exposed portion in the presence of a developer.
前記現像液のpHが、2〜11である請求項に記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to claim 5 , wherein the developer has a pH of 2 to 11. 前記現像工程が、非露光部の感光層の除去及びガム引きを1液で行う工程である請求項又はに記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to claim 5 or 6 , wherein the developing step is a step of removing the photosensitive layer in the non-exposed area and gumming with one solution. 前記現像工程の前及び後のいずれにも水洗工程を施さない請求項のいずれか1つに記載の平版印刷版の製版方法。 The plate making method of a lithographic printing plate according to any one of claims 5 to 7 , wherein a water washing step is not performed before and after the development step.
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