JP2010049107A - Method for manufacturing lithographic printing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a lithographic printing plate by which excellent treatment performance is secured in spite of one-liquid treatment and excellent inking property is also secured. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a lithographic printing plate includes steps for image-exposing a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer containing (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer and (E) a specific compound on a support, and subjecting the exposed precursor to one-liquid treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a method for preparing a lithographic printing plate.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と印刷インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(感光層、画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing uses the property that water and printing ink repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (photosensitive layer, image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Yes. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lithographic film, and then the portion that becomes the image portion of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is removed with an alkaline developer or organic A lithographic printing plate is obtained by performing plate making by a method of dissolving and removing with a solvent and exposing a hydrophilic support surface to form a non-image portion.

このように従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層をアルカリ性現像液などによって溶解除去する工程が必要であるが、環境および安全上、より中性域に近い現像液での処理や少ない廃液が課題として挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっており、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   Thus, in the plate making process of the conventional lithographic printing plate precursor, after the exposure, a step of dissolving and removing unnecessary image recording layers with an alkaline developer or the like is necessary, but in terms of environment and safety, it is more neutral. Treatment with a near developer and a small amount of waste liquid are cited as problems. In particular, in recent years, disposal of waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述のように、現像液の低アルカリ化、処理工程の簡素化は、地球環境への配慮と省スペース、低ランニングコストへの適合化との両面から、従来にも増して強く望まれるようになってきている。しかし前述のように、従来の現像処理工程はpH11以上のアルカリ水溶液で現像した後、水洗浴にてアルカリ剤を流し、その後、親水性樹脂を主とするガム液で処理するという3つの工程からなっており、そのため自動現像機自体も大きくスペースを取ってしまい、さらに現像廃液、水洗廃液、ガム廃液処理の問題等、環境およびランニングコスト面での課題を残している。   As mentioned above, the low alkali level of the developer and the simplification of the processing process are more strongly desired than ever in terms of consideration for the global environment, space saving, and low running cost. It has become to. However, as described above, the conventional development processing step consists of three steps of developing with an alkaline aqueous solution having a pH of 11 or more, then pouring an alkaline agent in a washing bath, and then processing with a gum solution mainly containing a hydrophilic resin. For this reason, the automatic developing machine itself takes up a large space, and there are still problems in terms of environment and running cost, such as a problem of developing waste liquid, washing waste liquid, and gum waste liquid.

これに対して、例えば、特許文献1には、アルカリ金属の炭酸塩及び炭酸水素塩を有するpH8.5〜11.5、導電率3〜30mS/cmの現像液で処理する現像方法が提案されているが、水洗及びガム液処理工程を必要としており、環境およびランニングコスト面の課題解決には至らない。
また、特許文献2の実施例にはpH11.9〜12.1の水溶性高分子化合物を含有する処理液による処理が記載されている。しかしながら、この処理により得られた印刷版は、pH12のアルカリが版面に付着したままの状態であり、作業者に対して安全面で問題がある上に、印刷版作成後に印刷までの経時が長くなると画像部が次第に溶解して着肉性の低下を招く。
On the other hand, for example, Patent Document 1 proposes a developing method in which processing is performed with a developer having an alkali metal carbonate and a bicarbonate having a pH of 8.5 to 11.5 and an electrical conductivity of 3 to 30 mS / cm. However, it requires water washing and a gum solution treatment process, and does not lead to solution of environmental and running cost problems.
Moreover, the Example of patent document 2 describes the process by the process liquid containing the water-soluble high molecular compound of pH 11.9-12. However, the printing plate obtained by this treatment is in a state in which the alkali of pH 12 remains attached to the plate surface, and there is a problem in terms of safety for the operator, and the time until printing after the printing plate preparation is long. As a result, the image portion gradually dissolves, leading to a decrease in the inking property.

画像記録層の親油性を確保する方法として、例えば、フェノール性水酸基およびステアリル基を例とする炭素数4〜20の直鎖、分岐又は環状アルキル基を有するポリマーを用いる方法が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。しかし、上記のような親油性ポリマーをバインダーの主成分として使用する場合には、添加量が多いため、現像性など他性能に及ぼす影響が大きくなるという問題点があり、他方、このような親油性のポリマーを、添加剤として少量を用いた場合には、期待したほどのインキ着肉性向上効果が得られないという問題点があった。
また、画像記録層の親油性を確保する方法としては、フルオロ脂肪族基を有する高分子化合物を含有させる方法が提案されている(例えば、特許文献4、5参照。)。しかし、フッ素原子を多数含む官能基を有する化合物は、撥油性、撥水性、耐アルカリ現像性などの特性を有するため、多量に配合すると着肉性が低下するだけでなく、現像性の低下や現像浴中に現像カスが沈積したりヘドロが発生するなどの問題点があった。
他方、特許文献6には、ネガ型平版印刷版原版において支持体裏面との擦れによる画像記録層のキズ・残膜発生を抑制する為に、画像記録層表面と支持体裏面との静止摩擦係数を特定の範囲に制御する目的で、ベヘン酸等の長鎖脂肪族基を有する化合物を画像記録層に添加することが提案されている。しかしながら、このネガ型平版印刷版原版は、画像露光後、アルカリ現像−水洗−ガム処理のステップを経て製版処理される為、前述のように、省スペース、廃液処理、環境、ランニングコスト等の問題点は何ら解決していない。
特開平11−65126号公報 欧州特許出願公開第1868036号明細書 特開2004−117882号公報 特開2002−311577号公報 特開2004−101893号公報 特開2002−296768号公報
As a method for ensuring the lipophilicity of the image recording layer, for example, a method using a polymer having a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms such as phenolic hydroxyl group and stearyl group has been proposed ( For example, see Patent Document 3.) However, when the lipophilic polymer as described above is used as the main component of the binder, there is a problem that the effect on other performances such as developability becomes large because the addition amount is large. When a small amount of an oily polymer is used as an additive, there has been a problem that the effect of improving the ink depositability as expected cannot be obtained.
Further, as a method for ensuring the lipophilicity of the image recording layer, a method of containing a polymer compound having a fluoroaliphatic group has been proposed (see, for example, Patent Documents 4 and 5). However, a compound having a functional group containing a large number of fluorine atoms has properties such as oil repellency, water repellency, and alkali development resistance. There have been problems such as development debris depositing and sludge generation in the developing bath.
On the other hand, Patent Document 6 discloses a static friction coefficient between the surface of an image recording layer and the back surface of the support in order to suppress the generation of scratches and residual films on the image recording layer due to rubbing with the back surface of the support in the negative lithographic printing plate precursor. It has been proposed to add a compound having a long-chain aliphatic group such as behenic acid to the image recording layer for the purpose of controlling the content of the image recording layer to a specific range. However, since this negative lithographic printing plate precursor is subjected to plate making processing after image exposure and then through alkali development, water washing and gum processing steps, as described above, there are problems such as space saving, waste liquid processing, environment, and running cost. The point is not solved at all.
JP-A-11-65126 European Patent Application No. 1868036 JP 2004-117882 A JP 2002-311577 A JP 2004-101893 A JP 2002-296768 A

従って、本発明の目的は1液処理にもかかわらず、処理性に優れ、また着肉性に優れた平版印刷版の作製方法を提供することにある。   Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for preparing a lithographic printing plate which is excellent in processability and excellent in inking properties despite the one-liquid treatment.

本発明者は、鋭意検討した結果、下記構成により前記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventor has found that the object can be achieved by the following configuration, and has completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.

(1) (A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、および(E)下記一般式(I)で表される化合物を含有する感光層を支持体上に有する平版印刷版原版を画像露光後、1液処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
1 −X 一般式(I)
(式中、R 1 は、総炭素数8〜32の炭化水素基を示す。Xは、−CO−Y−R 2 、−Y−CO−R 2 、−NH−CO−Y−R 2 、−O−CO−NH−R 2 、−NH−CO−NH−R 2 、−SO 2 −Y−R 2 、−Y−SO 2 −R 2 、−O−SO 2 −R 2 、−CO−O−CO−R 2 または−Y−R 3 を示す。Yは、−O−、−S−、−NR 4
−または単結合を示す。ただし、Xが−Y−R 3 の時、Yは単結合ではない。R 2 、R 3及びR 4 は、それぞれ水素原子または総炭素数20以下の炭化水素基を示す。)
(2) 前記平版印刷版原版が、感光層上に保護層を有することを特徴とする上記(1)に記載の平版印刷版の作製方法。
(3) 前記保護層が酸変性ポリビニルアルコールを含有することを特徴とする上記(2)に記載の平版印刷版の作製方法。
(4) 前記1液処理における処理液が、炭酸イオン、炭酸水素イオン、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物を含有する水溶液であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。
(5) 前記1液処理における処理液が、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物を含有し、pHが8.5〜10.8の水溶液であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。
(6) 前記(D)バインダーポリマーが、側鎖に酸基を有することを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。
(7) 前記酸基が、カルボン酸基であることを特徴とする上記(6)に記載の平版印刷版の作製方法。
(1) Photosensitive layer containing (A) sensitizing dye, (B) polymerization initiator, (C) polymerizable compound, (D) binder polymer, and (E) a compound represented by the following general formula (I) A method for preparing a lithographic printing plate, comprising subjecting a lithographic printing plate precursor having a slab to a support to one-liquid treatment after image exposure.
R 1 —X Formula (I)
(In the formula, R 1 represents a hydrocarbon group having 8 to 32 carbon atoms in total. X represents —CO—Y—R 2 , —Y—CO—R 2 , —NH—CO—Y—R 2 , -O-CO-NH-R 2 , -NH-CO-NH-R 2, -SO 2 -Y-R 2, -Y-SO 2 -R 2, -O-SO 2 -R 2, -CO- Represents O—CO—R 2 or —Y—R 3 , wherein Y represents —O—, —S—, —NR 4;
-Or a single bond. However, when X is —Y—R 3 , Y is not a single bond. R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a total carbon number of 20 or less. )
(2) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (1) above, wherein the lithographic printing plate precursor has a protective layer on the photosensitive layer.
(3) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (2) above, wherein the protective layer contains acid-modified polyvinyl alcohol.
(4) The processing liquid in the one-liquid processing is an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions, a surfactant and / or a water-soluble polymer compound. A method for producing a lithographic printing plate according to any one of the above items.
(5) The above-described (1) to (1), wherein the treatment liquid in the one-liquid treatment is an aqueous solution containing a surfactant and / or a water-soluble polymer compound and having a pH of 8.5 to 10.8. The method for producing a lithographic printing plate according to any one of (3).
(6) The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (5) above, wherein the (D) binder polymer has an acid group in a side chain.
(7) The method for producing a lithographic printing plate as described in (6) above, wherein the acid group is a carboxylic acid group.

本発明の平版印刷版の作製方法は、処理性に優れ、また着肉性の良好な平版印刷版を提供することができる。さらに、弱アルカリ性処理液で1液現像が可能であるため、処理工程の簡素化、地球環境への配慮、省スペース、低ランニングコスト等のメリットがある。   The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention can provide a lithographic printing plate having excellent processability and good inking properties. Furthermore, since one-component development is possible with a weak alkaline processing solution, there are advantages such as simplification of processing steps, consideration for the global environment, space saving, and low running cost.

〔平版印刷版原版〕
まず、本発明の平版印刷版の作製方法に用いる平版印刷版原版について説明する。平版印刷版原版は支持体上に感光層を有する。
[Lithographic printing plate precursor]
First, the lithographic printing plate precursor used in the lithographic printing plate preparation method of the present invention will be described. The lithographic printing plate precursor has a photosensitive layer on a support.

<感光層>
本発明の平版印刷版原版における感光層は、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、および(E)一般式(I)で表される化合物を含有する。以下、感光層の構成成分について詳細に説明する。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention is represented by (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and (E) a general formula (I). Containing the compound. Hereinafter, the components of the photosensitive layer will be described in detail.

(A)増感色素
感光層には、例えば、350〜450nmに極大吸収を有する増感色素、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤を添加することで、各々、当業界で通常用いられている405nmのバイオレットレーザ、532nmのグリーンレーザ、803nmのIRレーザに対応した高感度な平版印刷版原版を提供することができる。
まず、350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素について説明する。この様な増感色素としては、例えば、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。
(A) Sensitizing dye For example, a sensitizing dye having a maximum absorption at 350 to 450 nm and an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm are added to the photosensitive layer. It is possible to provide a highly sensitive lithographic printing plate precursor corresponding to the 405 nm violet laser, 532 nm green laser, and 803 nm IR laser.
First, a sensitizing dye having a maximum absorption in the wavelength region of 350 to 450 nm will be described. Examples of such a sensitizing dye include merocyanine dyes, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, and the like.

350nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点から好ましい色素は下記一般式(IV)で表される色素である。   Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm, a dye preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IV).

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(IV)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子またはN−(R3)をあらわす。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、AとR1およびR2とR3はそれぞれ互いに結合して、
脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。
In the general formula (IV), A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or N- (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, A and R 1, and R 2 and R 3 are bonded to each other;
An aliphatic or aromatic ring may be formed.

一般式(IV)について更に詳しく説明する。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。 General formula (IV) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 are each independently a monovalent nonmetallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

一般式(IV)におけるAは、置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環は、一般式(IV)中のR1、R2およびR3で記載した置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基と同様のものが挙げられる。 A in the general formula (IV) represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, and the aromatic ring or heterocyclic ring which may have a substituent in the general formula (IV) And the same as the substituted or unsubstituted aryl group and the substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue described in R 1 , R 2 and R 3 .

このような増感色素の具体例としては、特開2007−58170号の段落番号〔0047〕〜〔0053〕に記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of such a sensitizing dye include the compounds described in JP-A 2007-58170, paragraphs [0047] to [0053].

さらに、下記一般式(V)〜(VII)のいずれかで示される増感色素も用いることができる。   Furthermore, a sensitizing dye represented by any one of the following general formulas (V) to (VII) can also be used.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

Figure 2010049107
Figure 2010049107

式(V)中、R1〜R14は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
式(VI)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (V), R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In the formula (VI), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

式(VII)中、R1、R2およびR3は各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、−NR45基または−OR6基を表し、R4、R5およびR6は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、k、mおよびnは各々0〜5の整数を表す。 In formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an —NR 4 R 5 group or an —OR 6 group, and R 4 , R 5 And R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and k, m and n each represents an integer of 0 to 5.

また、特開2007-171406号公報、特開2007-206216号公報、特開2007-206217号公報、特開2007-225701号公報、特開2007-225702号公報、特開2007-316582号公報、特開2007-328243号公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。
350nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素の好ましい添加量は、感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、最も好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。
In addition, JP 2007-171406 A, JP 2007-206216 A, JP 2007-206217 A, JP 2007-225701 A, JP 2007-225702 A, JP 2007-316582 A, Sensitizing dyes described in JP-A-2007-328243 can also be preferably used.
The preferable addition amount of the sensitizing dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts per 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. It is in the range of 0.2 to 10 parts by weight, most preferably 0.2 to 10 parts by weight.

続いて、本発明にて好適に用いられる750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素について詳述する。
このような増感色素は、赤外線吸収剤を包含し、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させるものと推定されている。いずれせよ、750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素を添加することは、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザ光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。
Subsequently, a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm that is preferably used in the present invention will be described in detail.
Such a sensitizing dye includes an infrared absorber, and is highly sensitive to infrared laser irradiation (exposure) and is in an electronically excited state. Electron transfer, energy transfer, and heat generation (photothermal conversion function) associated with the electronically excited state. It is estimated that these act on the polymerization initiator coexisting in the photosensitive layer to cause a chemical change in the polymerization initiator to generate radicals. In any case, the addition of a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1400 nm is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1400 nm, and the conventional lithographic printing plate precursor Compared with this, high image forming properties can be exhibited.

赤外線吸収剤は、750nm〜1400nmの波長域に吸収極大を有する染料または顔料であることが好ましい。   The infrared absorber is preferably a dye or pigment having an absorption maximum in a wavelength region of 750 nm to 1400 nm.

染料としては、市販の染料および例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、−X2−L1または以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, -X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、および
アリールスルホン酸イオンである。尚、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and does not require charge neutralization, Za - is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of storage stability of the photosensitive layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions. In addition, the thing which does not contain a halogen ion as a counter ion is especially preferable.

顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   The infrared absorber may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

赤外線吸収剤は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   From the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer, the infrared absorbent is 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer. In the case of, it is particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

(B)重合開始剤
本発明の感光層は重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)を含有する。開始剤化合物は増感色素の電子励起状態に起因する電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基から選択される少なくとも1種を生成する化合物である。以下、このようにして生じたラジカル、酸、塩基を単に活性種と呼ぶ。開始剤化合物が存在しない場合や、開始剤化合物のみを単独で用いた場合には、実用上十分な感度が得られない。増感色素と開始剤化合物を併用する一つの態様として、これらを
、適切な化学的方法(増感色素と開始剤化合物との化学結合による連結等)によって単一の化合物として利用することも可能である。
(B) Polymerization initiator
The photosensitive layer of the present invention contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as an initiator compound). The initiator compound is a compound that undergoes a chemical change through the action of electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. caused by the electronic excitation state of the sensitizing dye, and generates at least one selected from radicals, acids, and bases. is there. Hereinafter, radicals, acids, and bases generated in this way are simply referred to as active species. When the initiator compound is not present or when only the initiator compound is used alone, practically sufficient sensitivity cannot be obtained. As one mode in which a sensitizing dye and an initiator compound are used in combination, they can be used as a single compound by an appropriate chemical method (such as linking a sensitizing dye and an initiator compound through a chemical bond). It is.

通常これらの開始剤化合物の多くは、次の(1)から(3)に代表される初期化学プロセスをへて、活性種を生成するものと考えられる。即ち、(1)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、(2)開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、(3)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解である。個々の開始剤化合物が(1)から(3)のどのタイプに属するかに関しては、曖昧な場合も多いが、本発明においては、これら何れのタイプの開始剤化合物と組み合わせても非常に高い増感効果が得られる。   Usually, many of these initiator compounds are considered to generate active species through the initial chemical processes represented by the following (1) to (3). (1) Reductive decomposition of the initiator compound based on the electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, (2) Electron transfer from the initiator compound to the electronically excited state of the sensitizing dye (3) decomposition of the initiator compound from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound. In many cases, it is ambiguous as to which type (1) to (3) each individual initiator compound belongs, but in the present invention, a very high increase can be achieved by combining any of these types of initiator compounds. A feeling effect is obtained.

本発明における開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。   As the initiator compound in the present invention, those known among those skilled in the art can be used without limitation. Specifically, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds can be used. , Hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and iron arene complexes. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable. Two or more polymerization initiators may be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール系化合物としては、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、350〜450nmに極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of hexaarylbiimidazole compounds include lophine dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, such as 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5. , 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2, 2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5 ' − Traphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4, Examples include 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.
The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption at 350 to 450 nm.

本発明において好適に用いられるオニウム塩(本発明においては、酸発生剤としてではなく、イオン性の重合開始剤として機能する)は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention (in the present invention, functions as an ionic polymerization initiator, not as an acid generator) is represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III). Onium salt.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数6〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. C2-C12 alkenyl group, C2-C12 alkynyl group, C6-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C6-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C2-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 6 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数6〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン、カルボン酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 2 to 12 carbon atoms, aryl groups having 6 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, aryloxy groups having 6 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C2-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 6 to 12 carbon atoms. Z 21 represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, sulfate ions, and carboxylate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオア
ルキル基、炭素数6〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン、カルボン酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 6 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, sulfate ions, and carboxylate ions. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm.

その他、特開2007-171406号公報、特開2007-206216号公報、特開2007-206217号公報、特開2007-225701号公報、特開2007-225702号公報、特開2007-316582号公報、特開2007-328243号公報に記載の重合開始剤を好ましく用いることができる。   In addition, JP 2007-171406 A, JP 2007-206216 A, JP 2007-206217 A, JP 2007-225701 A, JP 2007-225702 A, JP 2007-316582 A, A polymerization initiator described in JP-A-2007-328243 can be preferably used.

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
The polymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0 mass%-10 mass%.

(C)重合性化合物
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体ならびにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。重合性化合物の例としては、以下の一般式(1)〜(5)で表される化合物が上げられる。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the photosensitive layer in the invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and preferably has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably It is selected from compounds having two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. The polymerizable compound has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a copolymer thereof and a mixture thereof. Examples of the polymerizable compound include compounds represented by the following general formulas (1) to (5).

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(1)中、Rl〜R3はそれぞれ独立に1価の有機基を表す。R1としては、好ましくは、水素原子またはアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。また、R2またはR3としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール基がラジカル反応性の高いことから好ましい。 In general formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group. R 1 preferably includes a hydrogen atom or an alkyl group, and among them, a hydrogen atom and a methyl group are preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently hydrogen atom, halogen atom, amino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy Group, alkylamino group, arylamino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group, and an aryl group are preferable because of high radical reactivity.

Xは酸素原子、硫黄原子、−N(R12)−または−C(R1213)−を表し、R12またはR13は1価の有機基を表す。ここで、R12またはR13で表される1価の有機基としては、アルキル基などが挙げられる。R12またはR13としては、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。R12またはR13はLを構
成する原子と結合して環を形成してもよい。
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 12 ) — or —C (R 12 R 13 ) —, and R 12 or R 13 represents a monovalent organic group. Here, examples of the monovalent organic group represented by R 12 or R 13 include an alkyl group. R 12 or R 13 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group because of high radical reactivity. R 12 or R 13 may combine with the atoms constituting L to form a ring.

有機基は導入可能であれば置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   The organic group may have a substituent as long as it can be introduced. Examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, Examples thereof include an alkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group.

Lは、水素、フッ素、塩素、臭素、沃素、炭素、窒素、酸素、硼素、硫黄、リン、珪素、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、銀、パラジウム、鉛、ジルコニウム、ロジウム、錫、白金、タングステンから構成されるn価の有機残基であり、水素、フッ素、塩素、臭素、沃素、炭素、窒素、酸素、硼素、硫黄、リン、珪素、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムから構成されるn価の有機残基であることが好ましく、水素、フッ素、塩素、臭素、沃素、炭素、窒素、酸素、硼素、硫黄、リン、珪素から構成されるn価の有機残基であることがより好ましい。   L is hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, iodine, carbon, nitrogen, oxygen, boron, sulfur, phosphorus, silicon, lithium, sodium, potassium, magnesium, calcium, aluminum, scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron N-valent organic residue composed of cobalt, nickel, zinc, gallium, germanium, silver, palladium, lead, zirconium, rhodium, tin, platinum, tungsten, hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, iodine, carbon , Preferably an n-valent organic residue composed of nitrogen, oxygen, boron, sulfur, phosphorus, silicon, lithium, sodium, potassium, magnesium, calcium, hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, iodine, carbon, It is more preferably an n-valent organic residue composed of nitrogen, oxygen, boron, sulfur, phosphorus, and silicon.

nは、自然数を表し、1以上100以下が好ましく、2以上80以下がより好ましく、3以上60以下が更に好ましい。   n represents a natural number, preferably from 1 to 100, more preferably from 2 to 80, and still more preferably from 3 to 60.

一般式(1)で表される重合性化合物の具体例としては、(a)不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、2−ヒドロキシメチルアクリル酸、α−ブロモアクリル酸、フマル酸、メサコン酸、マレイン酸など)や、(b)そのエステル類、(c)そのアミド類が挙げられ、好ましくは、(d)不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、(f)不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、(g)ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、(h)イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に(i)ハロゲン基、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、上記不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ケトン(例えば、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトンなど)に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   Specific examples of the polymerizable compound represented by the general formula (1) include (a) unsaturated carboxylic acid (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, 2-hydroxymethylacrylic acid, α-bromoacrylic acid, fumaric acid, mesaconic acid, maleic acid, etc.), (b) esters thereof, (c) amides thereof, preferably (d) unsaturated carboxylic acid and aliphatic polyvalent Esters with alcohol compounds and (f) amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds are used. And (g) an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional Alternatively, a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. (H) an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol; i) A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a halogen group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. Moreover, it is also possible to use the compound group replaced with unsaturated ketone (for example, vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, etc.) instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) Examples include modified triacrylates and polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in Japanese Patent No. 5241 and JP-A-2-226149, those containing an amino group described in JP-A-1-165613, and the like are also preferably used.
The aforementioned ester monomers can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報に記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, 2 molecules per molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having one or more isocyanate groups Is mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP 17654, JP-B 62-39417, and JP-B 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報、特公昭52−30490号公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号公報、特公平1−40337号公報、特公平1−40336号公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報に記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に記載の光硬化性モノマーおよびオリゴマーも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 Etc. can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, 300-308 pages (1984) can also be used photocurable monomers and oligomers.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(2)において、R1〜R5はそれぞれ独立に1価の有機基を表す。R1〜R5としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール基がより好ましい。R1〜R5は、任意の2つで環を形成しても良く、Lを構成する原子に連結して環を形成しても良い。 In General formula (2), R < 1 > -R < 5 > represents a monovalent organic group each independently. R 1 to R 5 are preferably hydrogen atom, halogen atom, amino group, dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Examples thereof include an oxy group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group, and an aryl group are more preferable. R 1 to R 5 may form a ring with any two, or may be linked to the atoms constituting L to form a ring.

有機基は導入可能であれば置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Yは酸素原子、硫黄原子、−N(R12)−または−C(R1213)−を表す。R12、R13は、一般式(1)のR12、R13と同義であり、好ましい例も同様である。 The organic group may have a substituent as long as it can be introduced, and examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 12 ) — or —C (R 12 R 13 ) —. R 12, R 13 has the same meaning as R 12, R 13 in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

L、nは一般式(1)のL、nと同義であり、好ましい例も同様である。   L and n are synonymous with L and n in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

一般式(2)で表される重合性化合物の具体例としては、不飽和二重結合を有するアルコール(例えば、アリルアルコール、エチレングリコールモノアリルエーテル、2-メチル-2-プロペン-1-オール、3-ブテン-1-オール、3-ブテン-2-オール、2-メチル-3-ブテン-2-オール、4-ペンテン-1-オール、2-シクロヘキセン-1-オール、レチノール等)と単官能或いは多官能カルボン酸(酢酸、安息香酸、アセチルサリチル酸、こはく酸、マレイン酸、トリカルバリン酸、酒石酸、クエン酸、1,3,5-シクロヘキサントリカルボン酸、フタル酸、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸等)のエステル化合物、不飽和二重結合を有するアルコールと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネート(ブチルイソシアネート、1,4-ジイソシアナトブタン、1,3-ビス(シソシアナトメチル)シクロヘキサン、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、イソシアナト酢酸エチル、アリルイソチオシアネート、フェニルイソチオシアネート、フェニルイソシアネート、2-クロロフェニルイソシアネート、3-メトキシフェニルイソシアネート、2-イソシアナト安息香酸メチル、3-シアノフェニルイソシアネート、1-ナフチルイソシアネート、4,4’-メチレンビス(フェニルイソシアネート)、4,4’-オキシビス(フェニルイソシアネート)等)のウレタン化合物、不飽和二重結合を有するアルコールと単官能或いは多官能アルコール(エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジオール、イノシトール、グリセロール、1,1,1-トリス(ヒドロキシメチル)エタン、トリメチロールプロパン、トリエタノールアミン、ペンタエリスリトール、キシリトール、L-マンノース、D-グルコース、デキストリン、ヒドロキシエチルアクリレート、ジエチルビス(ヒドロキシエチル)マロネート、1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)シアヌル酸、フェノール、クレゾール、カテコール、1,5-ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールA等)のエーテル化合物、不飽和二重結合を有するアルコールと単官能或いは多官能エポキシ化合物(エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、シクロヘキセンオキサイド、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5-シクロヘキサントリカルボン酸トリグリシジルエステル、トリス(2,3-エポキシプロピル)イソシアヌレート等)の付加反応物、不飽和二重結合を有するアルコールと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキル(1,4-ジブロモブタン、1-ヨードオクタン、マレイン酸 ビス(2-ブロモエチル)エステル等)又は単官能或いは多官能アルコールのスルホン酸(メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、カンファースルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸等)エステルの置換反応物、不飽和二重結合を有するハロゲン化アルキル(例えば、アリルブロミド、4-ブロモ-1-ブテン、3-クロロ-2-メチルプロペンなど)や不飽和二重結合を有するアルコールのスルホン酸エステルと単官能或いは多官能アルコール、単官能或いは多官能アミン(例えば、ブチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、スペルミジン、ペンタエチレンヘキサミン、1,2-ジアミノシクロヘキサン、2,2’-オキシビス(エチルアミン)、モルホリン、4,4’-トリメチレンジピペリジン、ピペラジン、ピリジン、グリシン、プロリン、4,4’-メチレンジアニリンなど)、単官能或いは多官能ホスフィン(例えば、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなど)、単官能或いは多官能チオール(例えば、ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオン酸)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2-メルカプト酢酸)など)、単官能或いは多官能カルボニル化合物(例えば、アセトン、マロン酸ジエチル、アセト酢酸t-ブチル、フェニル酢酸エチルなど)、単官能或いは多官能カルボン酸塩等の求核性化合物の置換反応物、不飽和二重結合を有するアミン(例えば、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、ゲラニルアミン、N-エチル-2-メチルアリルアミンなど)と単官能或いは多官能カルボン酸のアミド、不飽和二重結合を有するアミンと単官能或いは多官能イソシアネートのウレア、不飽和二重結合を有するアミンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルや単官能或いは多官能アルコールのスルホン酸エステルの置換反応物、不飽和二重結合を有するアミンと単官能或いは多官能カルボニル化合物(例えば、アセトン、2,3-ブタンジオン、1,4-シクロヘキサンジオン、テレフタルアルデヒドなど)のイミン、不飽和二重結合を有するアミンと単官能或いは多官能スルホン酸(例えば、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、1,5-ナフタレンジスルホン酸、1,3,5-ナフタレントリスルホン酸など)のスルホンアミド、不飽和二重結合を有するイソ(チオ)シアネート(例えば、アリルイソシアネート、アリルイソチオシアネートなど)と単官能或いは多官能アルコールのウレタン、不飽和二重結合を有するイソ(チオ)シアネートと単官能或いは多官能アミンのウレア、不飽和二重結合を有するイソ(チオ)シアネートと単官能或いは多官能カルボン酸のアミド、不飽和二重結合を有するイソ(チオ)シアネートと単官能或いは多官能チオールとの付加反応物、不飽和二重結合を有するイソ(チオ)シアネートと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートの付加反応物が挙げられる。   Specific examples of the polymerizable compound represented by the general formula (2) include alcohols having an unsaturated double bond (for example, allyl alcohol, ethylene glycol monoallyl ether, 2-methyl-2-propen-1-ol, 3-buten-1-ol, 3-buten-2-ol, 2-methyl-3-buten-2-ol, 4-penten-1-ol, 2-cyclohexen-1-ol, retinol, etc.) and monofunctional Or polyfunctional carboxylic acid (acetic acid, benzoic acid, acetylsalicylic acid, succinic acid, maleic acid, tricarbaric acid, tartaric acid, citric acid, 1,3,5-cyclohexanetricarboxylic acid, phthalic acid, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid Acid ester compounds, alcohols with unsaturated double bonds, and mono- or polyfunctional iso (thio) cyanates (butyl isocyanate, 1,4-diisocyanatobutane, 1,3-bis (sisocyanatomethyl) Chlorohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, ethyl isocyanatoacetate, allyl isothiocyanate, phenyl isothiocyanate, phenyl isocyanate, 2-chlorophenyl isocyanate, 3-methoxyphenyl isocyanate, methyl 2-isocyanatobenzoate, Urethane compounds such as 3-cyanophenyl isocyanate, 1-naphthyl isocyanate, 4,4′-methylenebis (phenylisocyanate), 4,4′-oxybis (phenylisocyanate), monofunctional or alcohol having an unsaturated double bond Polyfunctional alcohols (ethanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, cyclohexanediol, Nositol, glycerol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) ethane, trimethylolpropane, triethanolamine, pentaerythritol, xylitol, L-mannose, D-glucose, dextrin, hydroxyethyl acrylate, diethylbis (hydroxyethyl) malonate 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) cyanuric acid, phenol, cresol, catechol, 1,5-dihydroxynaphthalene, bisphenol A, etc.) ether compounds, alcohols with unsaturated double bonds and monofunctional or Polyfunctional epoxy compounds (ethylene glycol diglycidyl ether, glycidyl methacrylate, cyclohexene oxide, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5-cyclohexanetricarboxylic acid triglycidyl ester, Addition reaction product of ris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, etc., alcohol having unsaturated double bond and monofunctional or polyfunctional alkyl halide (1,4-dibromobutane, 1-iodooctane, maleic acid) Bis (2-bromoethyl) ester) or monofunctional or polyfunctional alcohol sulfonic acid (methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, camphorsulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, etc.) ester substitution reaction product, Alkyl halides with heavy bonds (eg, allyl bromide, 4-bromo-1-butene, 3-chloro-2-methylpropene, etc.) and sulfonate esters of alcohols with unsaturated double bonds and monofunctional or polyfunctional Alcohol, monofunctional or polyfunctional amine (for example, butylamine, ethylenediamine, triethylamine, Lumidine, pentaethylenehexamine, 1,2-diaminocyclohexane, 2,2'-oxybis (ethylamine), morpholine, 4,4'-trimethylenedipiperidine, piperazine, pyridine, glycine, proline, 4,4'-methylenedi Aniline, etc.), monofunctional or polyfunctional phosphine (eg, triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, etc.), monofunctional or polyfunctional thiol (eg, dodecyl mercaptan, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionic acid), dipentaerythritol hexa Nucleophiles such as kiss (2-mercaptoacetic acid), monofunctional or polyfunctional carbonyl compounds (eg acetone, diethyl malonate, t-butyl acetoacetate, ethyl phenylacetate), monofunctional or polyfunctional carboxylates Substitution reaction product An amine having a sum double bond (eg, allylamine, diallylamine, triallylamine, geranylamine, N-ethyl-2-methylallylamine, etc.), an amide of a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid, an amine having an unsaturated double bond Monofunctional or polyfunctional isocyanate urea, unsaturated double bond amine and monofunctional or polyfunctional alkyl halide or monofunctional or polyfunctional alcohol sulfonate substitution reaction product, unsaturated double bond amine And imines of monofunctional or polyfunctional carbonyl compounds (eg acetone, 2,3-butanedione, 1,4-cyclohexanedione, terephthalaldehyde, etc.), amines with unsaturated double bonds and monofunctional or polyfunctional sulfonic acids ( For example, toluene sulfonic acid, methane sulfonic acid, 1,5-naphthalenedisulfonic acid 1,3,5-naphthalene trisulfonic acid, etc.) sulfonamides, iso (thio) cyanates with unsaturated double bonds (eg allyl isocyanate, allyl isothiocyanate, etc.) and urethanes of monofunctional or polyfunctional alcohols, Iso (thio) cyanate having unsaturated double bond and urea of monofunctional or polyfunctional amine, iso (thio) cyanate having unsaturated double bond and amide of monofunctional or polyfunctional carboxylic acid, unsaturated double bond An addition reaction product of an iso (thio) cyanate having a monofunctional or polyfunctional thiol and an addition reaction product of an iso (thio) cyanate having an unsaturated double bond and a monofunctional or polyfunctional iso (thio) cyanate .

Figure 2010049107
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式(3)において、R1〜R3はそれぞれ独立に1価の有機基を表す。R1〜R3としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール基がより好ましい。R1〜R5は、任意の2つで環を形成しても良く、Lを構成する原子に連結して環を形成しても良い。 In Formula (3), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group. R 1 to R 3 are preferably hydrogen atom, halogen atom, amino group, dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Examples thereof include an oxy group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group, and an aryl group are more preferable. R 1 to R 5 may form a ring with any two, or may be linked to the atoms constituting L to form a ring.

有機基は導入可能であれば置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R12)−または−C(R1213)−を表す。R12、R13は、一般式(1)のR12、R13と同義であり、好ましい例も同様である。 The organic group may have a substituent as long as it can be introduced, and examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Further, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 12) - or -C (R 12 R 13) - represents a. R 12, R 13 has the same meaning as R 12, R 13 in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

L、nは一般式(1)のL、nと同義であり、好ましい例も同様である。   L and n are synonymous with L and n in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

一般式(3)で表される重合性化合物の具体例としては、酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、1,3,5-シクロヘキサントリカルボン酸トリビニルなどの単官能或いは多官能カルボン酸ビニルエステル、1,4-シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテルなどのビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどのビニルエーテルアルコールと単官能或いは多官能カルボン酸のエステル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどのビニルエーテルアルコールと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレタン、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどのビニルエーテルアルコールと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルや単官能或いは多官能アルコールのスルホン酸エステルの置換生成物、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどのビニルエーテルアルコールと単官能或いは多官能エポキシの付加生成物、2-クロロエチルビニルエーテルなどのビニルエーテルハロゲン化アルキルやp-トルエンスルホン酸ビニルオキシエチルエステルなどのビニルエーテルスルホン酸エステルと単官能或いは多官能アルコール、単官能或いは多官能アミン、単官能或いは多官能ホスフィン、単官能或いは多官能チオール、単官能或いは多官能カルボニル化合物、単官能或いは多官能カルボン酸塩等の求核性化合物の置換反応物、3-アミノ-1-プロパノールビニルエーテル、2-(ジエチルアミノ)エタノールビニルエーテルなどのビニルエーテルアミンと単官能或いは多官能カルボン酸のアミド、3-アミノ-1-プロパノールビニルエーテル、2-(ジエチルアミノ)エタノールビニルエーテルなどのビニルエーテルアミンと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレア、3-アミノ-1-プロパノールビニルエーテル、2-(ジエチルアミノ)エタノールビニルエーテルなどのビニルエーテルアミンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルの置換生成物、3-アミノ-1-プロパノールビニルエーテル、2-(ジエチルアミノ)エタノールビニルエーテルなどのビニルエーテルアミンと単官能或いは多官能スルホン酸のスルホンアミド等の単官能或いは多官能ビニルエーテル、N-ビニルルバゾール、N-ビニルピロリジノン、N-ビニルフタルイミド等の単官能或いは多官能ビニルアミド、が挙げられる。   Specific examples of the polymerizable compound represented by the general formula (3) include monofunctional or polyfunctional carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, isopropenyl acetate, trivinyl 1,3,5-cyclohexanetricarboxylate, 1,4 -Vinyl ethers such as cyclohexanedimethanol divinyl ether and trimethylolpropane trivinyl ether, vinyl ether alcohols such as ethylene glycol monovinyl ether and diethylene glycol monovinyl ether and monofunctional or polyfunctional carboxylic acid esters, vinyl ethers such as ethylene glycol monovinyl ether and diethylene glycol monovinyl ether Alcohol and monofunctional or polyfunctional iso (thio) cyanate urethane, ethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether Substitution products of vinyl ether alcohols such as water and monofunctional or polyfunctional alkyl halides or sulfonic acid esters of monofunctional or polyfunctional alcohols, vinyl ether alcohols such as ethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether and monofunctional or polyfunctional epoxy Addition products, vinyl ether alkyl halides such as 2-chloroethyl vinyl ether, vinyl ether sulfonate esters such as p-toluenesulfonic acid vinyloxyethyl ester and monofunctional or polyfunctional alcohols, monofunctional or polyfunctional amines, monofunctional or polyfunctional Substitution reaction product of nucleophilic compound such as functional phosphine, monofunctional or polyfunctional thiol, monofunctional or polyfunctional carbonyl compound, monofunctional or polyfunctional carboxylate, 3-amino-1-propanol Nyl ether, vinyl ether amine such as 2- (diethylamino) ethanol vinyl ether and monofunctional or polyfunctional carboxylic acid amide, 3-amino-1-propanol vinyl ether, vinyl ether amine such as 2- (diethylamino) ethanol vinyl ether and monofunctional or polyfunctional Iso (thio) cyanate urea, 3-amino-1-propanol vinyl ether, substitution products of vinyl ether amines such as 2- (diethylamino) ethanol vinyl ether and monofunctional or polyfunctional alkyl halides, 3-amino-1-propanol vinyl ether , Monofunctional or polyfunctional vinyl ethers, such as sulfonamides of monofunctional or polyfunctional sulfonic acids, vinyl ether amines such as 2- (diethylamino) ethanol vinyl ether, N-vinyl rubazole, N-vinyl pyrrole Non monofunctional or polyfunctional vinyl amide, such as N- vinyl phthalimide, and the like.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(4)において、R1〜R3は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R1〜R3としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール基がより好ましい。R4〜R8は、それぞれ独立に1価の有機基か、Lに連結する2価の有機基を表す。1価の有機基としては、前述の有機基が好ましく、2価の有機基としては、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、ハロゲン、珪素、燐から構成される2価の有機基であることが好ましい。またR4〜R8の任意の2つで環を形成しても良く、Lを構成する原子に連結して環を形成しても良い。 In General formula (4), R < 1 > -R < 3 > represents a monovalent organic group each independently. R 1 to R 3 are preferably hydrogen atom, halogen atom, amino group, dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Examples thereof include an oxy group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group, and an aryl group are more preferable. R 4 to R 8 each independently represents a monovalent organic group or a divalent organic group linked to L. As the monovalent organic group, the above-described organic groups are preferable, and the divalent organic group is a divalent organic group composed of hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, halogen, silicon, and phosphorus. Is preferred. Further, any two of R 4 to R 8 may form a ring, or may be connected to an atom constituting L to form a ring.

有機基は導入可能であれば置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。   The organic group may have a substituent as long as it can be introduced, and examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1).

L、nは一般式(1)のL、nと同義であり、好ましい例も同様である。   L and n are synonymous with L and n in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

一般式(4)で表される重合性化合物の具体例としては、p-スチレンカルボン酸などのカルボン酸基含有スチレンやp-スチレンスルホン酸などのスルホン酸基含有スチレンと単官能或いは多官能アルコールのエステル、p-スチレンカルボン酸などのカルボン酸基含有スチレンやp-スチレンスルホン酸などのスルホン酸基含有スチレンと単官能或いは多官能アミンのアミド、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能カルボン酸のエステル、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレタン、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルや単官能或いは多官能アルコールのスルホン酸エステルの置換生成物、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能エポキシの付加生成物、p-クロロメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-クロロエチルエステルなどのハロゲン化アルキル基含有スチレンやp-トシルオキシメチルスチレンなどのスルホン酸エステル基含有スチレンと単官能或いは多官能アルコール、単官能或いは多官能アミン、単官能或いは多官能ホスフィン、単官能或いは多官能チオール、単官能或いは多官能カルボニル化合物、単官能或いは多官能カルボン酸塩等の求核性化合物の置換反応物、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能カルボン酸のアミド、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレア、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルの置換生成物、p-アミノ
メチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能スルホン酸のスルホンアミドが挙げられる。
Specific examples of the polymerizable compound represented by the general formula (4) include carboxylic acid group-containing styrene such as p-styrene carboxylic acid and sulfonic acid group-containing styrene such as p-styrene sulfonic acid and monofunctional or polyfunctional alcohol. Esters of carboxylic acid groups such as p-styrene carboxylic acid and amides of sulfonic acid group-containing styrene such as p-styrene sulfonic acid and monofunctional or polyfunctional amines, p-hydroxymethyl styrene and p-styrene carboxylic acid 2 -Hydroxyl-containing styrene and monofunctional or polyfunctional carboxylic acid esters such as hydroxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester, p-hydroxymethylstyrene and p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester and p- Monofunctional with hydroxyl group-containing styrene such as styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester Or urethane of polyfunctional iso (thio) cyanate, hydroxyl group-containing styrene such as p-hydroxymethylstyrene, p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester, and monofunctional or polyfunctional halogen Substituted products of sulfonates of alkyl halides and monofunctional or polyfunctional alcohols, hydroxyl group-containing styrenes such as p-hydroxymethylstyrene, p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester And monofunctional or polyfunctional epoxy addition products, halogenated alkyl groups such as p-chloromethylstyrene and p-styrenecarboxylic acid 2-chloroethyl ester, and sulfonic acid ester groups such as p-tosyloxymethylstyrene Styrene and monofunctional or polyfunctional polymers A substitution reaction product of a nucleophilic compound such as alcohol, monofunctional or polyfunctional amine, monofunctional or polyfunctional phosphine, monofunctional or polyfunctional thiol, monofunctional or polyfunctional carbonyl compound, monofunctional or polyfunctional carboxylate, Amino group-containing styrene such as p-aminomethylstyrene and monofunctional or polyfunctional carboxylic acid amide, p-aminomethylstyrene or other amino group-containing styrene and monofunctional or polyfunctional iso (thio) cyanate urea, p-amino Examples thereof include substitution products of amino group-containing styrene such as methylstyrene and monofunctional or polyfunctional alkyl halides, and amino group-containing styrene such as p-aminomethylstyrene and sulfonamide of monofunctional or polyfunctional sulfonic acid.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(5)において、R1〜R3は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R1〜R3としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール基がより好ましい。R5は1価の有機基を表す。1価の有機基としては、前述の1価の有機基が好ましい。またR5はLと共に環を形成しても良い。 In General formula (5), R < 1 > -R < 3 > represents a monovalent organic group each independently. R 1 to R 3 are preferably hydrogen atom, halogen atom, amino group, dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Examples thereof include an oxy group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group, and an aryl group are more preferable. R 5 represents a monovalent organic group. As the monovalent organic group, the aforementioned monovalent organic group is preferable. R 5 may form a ring with L.

有機基は導入可能であれば置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Wは酸素原子、硫黄原子、−N(R12)−、または−C(R1213)−を表す。R12、R13は、一般式(1)のR12、R13と同義であり、好ましい例も同様である。 The organic group may have a substituent as long as it can be introduced, and examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Further, W is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 12) -, or -C (R 12 R 13) - represents a. R 12, R 13 has the same meaning as R 12, R 13 in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

L、nは一般式(1)のL、nと同義であり、好ましい例も同様である。   L and n are synonymous with L and n in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

一般式(5)で表される重合性化合物の具体例としては、ビニルホスホン酸、メチル2-ホスホノアクリレートなどビニルホスホン酸と単官能或いは多官能アルコールのエステル、単官能或いは多官能アミンのアミド、ビス(2-ヒドロキシエチル)ビニルホスホン酸p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能カルボン酸のエステル、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレタン、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルや単官能或いは多官能アルコールのスルホン酸エステルの置換生成物、p-ヒドロキシメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-ヒドロキシエチルエステルやp-スチレンスルホン酸2-ヒドロキシエチルエステルなどの水酸基含有スチレンと単官能或いは多官能エポキシの付加生成物、p-クロロメチルスチレンやp-スチレンカルボン酸2-クロロエチルエステルなどのハロゲン化アルキル基含有スチレンやp-トシルオキシメチルスチレンなどのスルホン酸エステル基含有スチレンと単官能或いは多官能アルコール、単官能或いは多官能アミン、単官能或いは多官能ホスフィン、単官能或いは多官能チオール、単官能或いは多官能カルボニル化合物、単官能或いは多官能カルボン酸塩等の求核性化合物の置換反応物、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能カルボン酸のアミド、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能イソ(チオ)シアネートのウレア、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能ハロゲン化アルキルの置換生成物、p-アミノメチルスチレンなどのアミノ基含有スチレンと単官能或いは多官能スルホン酸のスルホンアミドが挙げられる。   Specific examples of the polymerizable compound represented by the general formula (5) include vinylphosphonic acid and ester of monofunctional or polyfunctional alcohol such as vinylphosphonic acid and methyl 2-phosphonoacrylate, and amide of monofunctional or polyfunctional amine. , Bis (2-hydroxyethyl) vinylphosphonic acid p-hydroxymethylstyrene, p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester, p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester, and other hydroxyl group-containing styrene and monofunctional or polyfunctional carboxylic acid Esters of acids, urethanes of hydroxyl-containing styrene and monofunctional or polyfunctional iso (thio) cyanates such as p-hydroxymethylstyrene, p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester, p-Hydroxymethyl styrene or p-styrene carboxylic acid 2-H Substitution products of hydroxyl group-containing styrene such as loxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester with monofunctional or polyfunctional alkyl halides and sulfonic acid esters of monofunctional or polyfunctional alcohols, p-hydroxymethylstyrene, Addition products of hydroxyl-containing styrene and monofunctional or polyfunctional epoxy such as p-styrenecarboxylic acid 2-hydroxyethyl ester and p-styrenesulfonic acid 2-hydroxyethyl ester, p-chloromethylstyrene and p-styrenecarboxylic acid 2 Sulfuric acid ester group-containing styrene such as -chloroethyl ester and sulfonic acid ester group styrene such as p-tosyloxymethylstyrene, monofunctional or polyfunctional alcohol, monofunctional or polyfunctional amine, monofunctional or polyfunctional phosphine, Functional or polyfunctional thiol, simple Functional or polyfunctional carbonyl compounds, substitution reaction products of nucleophilic compounds such as monofunctional or polyfunctional carboxylates, amino group-containing styrene such as p-aminomethylstyrene and amides of monofunctional or polyfunctional carboxylic acids, p- Substitution products of amino group-containing styrene such as aminomethylstyrene and urea of monofunctional or polyfunctional iso (thio) cyanate, amino group-containing styrene such as p-aminomethylstyrene and monofunctional or polyfunctional alkyl halide, p- Examples include amino group-containing styrene such as aminomethylstyrene and sulfonamide of monofunctional or polyfunctional sulfonic acid.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount and the like can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、重合性化合物は単独で用いても2種以上併用してもよい。重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is used in an amount of preferably 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. Moreover, a polymeric compound may be used independently or may be used together 2 or more types. The use method of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoints of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. In addition, a layer configuration / coating method such as overcoating can also be carried out.

(D)バインダーポリマー
感光層に使用するバインダーポリマーの化学構造は、特に限定されないが、弱アルカリ性の処理液への溶解性、すなわち現像性の観点からは側鎖に酸基を有する有機高分子が好ましく、特にカルボン酸又はその塩を含有する有機高分子がより好ましい。
バインダーポリマーとしては、カルボン酸含有のアルカリ水可溶又は膨潤性の有機高分子が用いられる。この様な有機高分子としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭54−92723号公報、特開昭59−53836号公報、特開昭59−71048号公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が有用である。バインダーポリマーとして、カルボン酸(塩)基を含有する(メタ)アクリル酸エステルに由来するモノマー単位を含む共重合体が好ましい。
また、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなども有用である。
さらに、特公平7−120040号公報、特公平7−120041号公報、特公平7−120042号公報、特公平8−12424号公報、特開昭63−287944号公報、特開昭63−287947号公報、特開平1−271741号公報、特開平11−352691号公報に記載のポリウレタン樹脂もアルカリ水可溶又は膨潤性バインダーとして有用である。
バインダーポリマーとして、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂又はウレタン樹脂が好ましく用いられる。
(D) Binder polymer The chemical structure of the binder polymer used in the photosensitive layer is not particularly limited, but from the viewpoint of solubility in weakly alkaline processing liquid, that is, developability, an organic polymer having an acid group in the side chain is used. An organic polymer containing a carboxylic acid or a salt thereof is particularly preferable.
As the binder polymer, a carboxylic acid-containing alkaline water-soluble or swellable organic polymer is used. Examples of such an organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54. -25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer Polymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like are useful. As the binder polymer, a copolymer containing a monomer unit derived from a (meth) acrylic acid ester containing a carboxylic acid (salt) group is preferable.
Also useful are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain and those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group.
Further, Japanese Patent Publication No. 7-120040, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication No. 63-287947. The polyurethane resins described in JP-A Nos. 1-271741 and 11-352691 are also useful as alkaline water-soluble or swellable binders.
As the binder polymer, an acrylic resin, a methacrylic resin, or a urethane resin is preferably used.

バインダーポリマーとして好適な一例は、下記(a)カルボン酸(その塩を含む。)を含有する繰り返し単位及び(b)ラジカル架橋性を付与する繰り返し単位を有する共重合体である。
(a)カルボン酸を含有する繰り返し単位としては特に限定されないが、下記構造が好ましく用いられる。
A suitable example of the binder polymer is a copolymer having a repeating unit containing the following (a) carboxylic acid (including a salt thereof) and (b) a repeating unit imparting radical crosslinkability.
(A) Although it does not specifically limit as a repeating unit containing carboxylic acid, The following structure is used preferably.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成され、その原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。 In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. And represents a linking group having 2 to 82 atoms. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 5.

一般式(I)においてR2で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成され、その総原子数は2〜82であり、好ましくは2〜50であり、より好ましくは2〜30である。R2で表される連結基は置換基を有していてもよい。ここで示す総原子数とは、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。より具体的には、R2で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることがさらに好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(I)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。 The linking group represented by R 2 in the general formula (I) includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. The number is 2 to 82, preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 30. The linking group represented by R 2 may have a substituent. The total number of atoms shown here refers to the number of atoms including the substituent when the linking group has a substituent. More specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 2 is preferably 1-30, more preferably 3-25, and 4-20. More preferred is 5-10. The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and the terminal COOH in the general formula (I), and particularly when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes a path with the least number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).

一般式(I)においてR2で表される連結基として、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレン、あるいはこれらの基を構成する任意の炭素原子上の水素原子を除き(n+1)価の基としたものなどが挙げられ、これらの基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有するものが好ましい。特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。
2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基が挙げられる。
一般式(I)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
一般式(I)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷性の点で好ましくは1である。
(a)カルボン酸を含有する繰り返し単位の含有量は、総繰り返し単位数を100とした場合、そのうちの5から50、好ましくは5から25、より好ましくは、5〜15である。
(a)カルボン酸を含有する繰り返し単位の具体例としては、以下の(a−1)から(a−12)に示す構造が挙げられる。
As the linking group represented by R 2 in the general formula (I), more specifically, alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, or a hydrogen atom on any carbon atom constituting these groups is removed ( n + 1) valent groups are exemplified, and those having a structure in which a plurality of these groups are linked by amide bonds or ester bonds are preferred. In particular, those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are preferable. Structurally, the structure is a chain structure having an ester bond in the structure, or a cyclic structure as described above. What has is preferable.
Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), carbonization. Examples thereof include a hydrogen group (alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group), alkoxy group, and aryloxy group.
A in the general formula (I) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.
N in the general formula (I) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.
(A) When the total number of repeating units is 100, the content of repeating units containing carboxylic acid is 5 to 50, preferably 5 to 25, more preferably 5 to 15 of them.
(A) Specific examples of the repeating unit containing a carboxylic acid include the structures shown in the following (a-1) to (a-12).

Figure 2010049107
Figure 2010049107

また、(b)ラジカル架橋性を付与する繰り返し単位の具体例としては、以下の(b−1)から(b−11)に示す構造が挙げられる。   Specific examples of the repeating unit (b) imparting radical crosslinkability include the structures shown in the following (b-1) to (b-11).

Figure 2010049107
Figure 2010049107

(b)ラジカル架橋性を付与する繰り返し単位の含有量は、総繰り返し単位数を100とした場合、そのうちの5から90、好ましくは20から85、より好ましくは、40〜80である。   (B) When the total number of repeating units is 100, the content of repeating units imparting radical crosslinkability is from 5 to 90, preferably from 20 to 85, more preferably from 40 to 80.

本発明に使用するバインダーポリマーは、カルボン酸もラジカル架橋性を付与する基も含まないエチレン性不飽和化合物に由来する繰り返し単位を共重合成分として有していてもよい。このような繰り返し単位としては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸アミドに由来する繰り返し単位が好ましい。特に、特開2007−272134号の段落0061〜0084に記載のアミド基(メタ)アクリル酸アミドに由来する繰り返し単位が好ましく用いられる。かかる繰り返し単位の含有量は、総繰り返し単位数を100とした場合、そのうちの5から50、好ましくは5〜35、より好ましくは5〜25である。   The binder polymer used in the present invention may have a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated compound containing neither a carboxylic acid nor a group imparting radical crosslinkability as a copolymerization component. Such a repeating unit is preferably a repeating unit derived from (meth) acrylic acid ester or (meth) acrylic acid amide. In particular, a repeating unit derived from an amide group (meth) acrylic acid amide described in paragraphs 0061 to 0084 of JP-A-2007-272134 is preferably used. When the total number of repeating units is 100, the content of such repeating units is 5 to 50, preferably 5 to 35, more preferably 5 to 25 of them.

本発明においては、バインダーポリマーとして、側鎖に架橋性基を有するウレタン樹脂も使用することができる。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こる化学反応によりバインダーポリマーを架橋することができる基のことである。このような機能を有する基であれば特にその化学構造は限定されないが、例えば、付加重合し得る官能基としてエチレン性不飽和基、エポキシ基/オキセタニル基等の環状エーテル基が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン原子、オニウム塩構造等が挙げられる。中でも、エチレン性不飽和基が好ましく、特開2007−17948号公報の段落0130〜0139に記載された官能基が含まれる。   In the present invention, a urethane resin having a crosslinkable group in the side chain can also be used as the binder polymer. Here, the crosslinkable group is a group capable of crosslinking the binder polymer by a chemical reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. The chemical structure is not particularly limited as long as it is a group having such a function. Examples of the functional group capable of addition polymerization include cyclic ether groups such as an ethylenically unsaturated group and an epoxy group / oxetanyl group. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen atom, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Among these, an ethylenically unsaturated group is preferable and includes functional groups described in paragraphs 0130 to 0139 of JP2007-17948A.

上記の側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、感光層の皮膜形成剤として機能するだけでなく、アルカリ性の処理液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性又は膨潤性であることが要求される。そのため、側鎖に架橋性基の他にアルカリ水可溶性基、例えばカルボキシル基(その塩を含む。)などを有する。ポリウレタン樹脂は、感光層の
酸価が低くとも未露光部の現像性を低下させることなく、露光部の現像ダメージを抑制することができ、良好な汚れ性と高い耐刷性を兼ね備えることができる点で好ましい。
以下に側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂について、さらに詳しく説明する。
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the above side chain not only functions as a film-forming agent for the photosensitive layer but also needs to be dissolved in an alkaline processing solution, so that it may be soluble or swellable in alkaline water. Required. Therefore, in addition to the crosslinkable group, the side chain has an alkali water-soluble group such as a carboxyl group (including salts thereof). Polyurethane resin can suppress the development damage of the exposed area without lowering the developability of the unexposed area even if the acid value of the photosensitive layer is low, and can have both good stain resistance and high printing durability. This is preferable.
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain will be described in more detail below.

本発明で特に好ましく用いられる側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、(i)ジイソシアネート化合物、(ii)カルボキシル基を有するジオール化合物、(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物及び必要であれば(iv)カルボキシル基を有さないジオール化合物、(v)アミノ基を有する化合物を重付加反応させることにより得ることができる。   The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain particularly preferably used in the present invention comprises (i) a diisocyanate compound, (ii) a diol compound having a carboxyl group, (iii) a diisocyanate compound having a crosslinkable group, and if necessary. (Iv) It can be obtained by polyaddition reaction of a diol compound having no carboxyl group and (v) a compound having an amino group.

上記(i)、(ii)及び(iii)の化合物としては、特開2007−17948号公報の段落0142〜0167に記載された式(4)〜(10)で表される化合物及び具体例が挙げられる。   Examples of the compounds (i), (ii) and (iii) include compounds represented by formulas (4) to (10) and specific examples described in paragraphs 0142 to 0167 of JP-A No. 2007-17948. Can be mentioned.

ポリウレタン樹脂の側鎖に架橋性基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に架橋性基を含有するジイソシアネート化合物を用いる方法が好適である。トリイソシアネート化合物と架橋性基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、側鎖に架橋性基を有するものとしては、特開2007−17948号公報の段落0171〜0178に記載の化合物が含まれる。   As a method for introducing a crosslinkable group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diisocyanate compound containing a crosslinkable group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is suitable. A diisocyanate compound obtained by addition reaction of a triisocyanate compound and a monofunctional alcohol having a crosslinkable group or 1 equivalent of a monofunctional amine compound, having a crosslinkable group in the side chain, The compounds described in paragraphs 0171 to 0178 of Kaikai 2007-17948 are included.

(iv)カルボキシル基を有さないジオール化合物
ポリウレタン樹脂の側鎖に不飽和基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法も採用できる。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものも含まれ、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、不飽和基を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により製造される化合物も含まれる。これら化合物の具体的例には、特開2007−17948号公報の段落0180〜0225に記載された一般式(A’)、式(a)〜(e)、式(11)〜(22)で表される化合物及び具体的化合物が含まれる。
(Iv) Diol compound having no carboxyl group As a method for introducing an unsaturated group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diol compound containing an unsaturated group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is also employed. it can. Such diol compounds include, for example, those commercially available such as trimethylolpropane monoallyl ether, halogenated diol compounds, triol compounds, aminodiol compounds, carboxylic acids containing unsaturated groups, acids Also included are compounds produced by reaction with chlorides, isocyanates, alcohols, amines, thiols, alkyl halide compounds. Specific examples of these compounds include those represented by general formula (A ′), formulas (a) to (e), and formulas (11) to (22) described in paragraphs 0180 to 0225 of JP2007-17948A. Compounds represented and specific compounds are included.

(v)アミノ基を有する化合物
ポリウレタン樹脂の製造において、さらにアミノ基含有化合物を組み合わせてジイソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成してポリウレタン樹脂の構造に組み込んでもよい。アミノ基含有化合物には、特開2007−17948号公報の段落0227〜0230に記載された式(31)及び式(32)で表される化合物及び具体的化合物が含まれる。
(V) Compound having an amino group In the production of a polyurethane resin, an amino group-containing compound may be further combined and reacted with a diisocyanate compound to form a urea structure and incorporated into the structure of the polyurethane resin. The amino group-containing compounds include compounds represented by formula (31) and formula (32) and specific compounds described in paragraphs 0227 to 0230 of JP2007-17948A.

本発明に使用するバインダーポリマーには、ポリウレタン合成時に側鎖に架橋性基を導入して得られる上記のポリウレタン樹脂のほかに、特開2003−270775号公報に記載されるようなカルボキシル基を有するポリウレタンに高分子反応で架橋性基を導入して得られるポリウレタン樹脂も含まれる。   The binder polymer used in the present invention has a carboxyl group as described in JP-A-2003-270775 in addition to the polyurethane resin obtained by introducing a crosslinkable group into the side chain during polyurethane synthesis. A polyurethane resin obtained by introducing a crosslinkable group into a polyurethane by a polymer reaction is also included.

本発明では、融点が45℃以上の重合性化合物と上記架橋性基を有するウレタン樹脂のうちTgが45℃以上、より好ましくは50℃以上の架橋性基を有するウレタン樹脂との組み合わせが特に好ましく用いられる。かかるウレタン樹脂の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, a combination of a polymerizable compound having a melting point of 45 ° C. or higher and a urethane resin having a crosslinkable group having a Tg of 45 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher among the urethane resins having the crosslinkable group is particularly preferable. Used. Specific examples of such urethane resins are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

感光性層の現像性を維持するためには、使用されるバインダーポリマーは適当な分子量を有することが好ましい。バインダーポリマーの重量平均分子量は5,000〜300,000が好ましく、20,000〜150,000がより好ましい。   In order to maintain the developability of the photosensitive layer, the binder polymer used preferably has an appropriate molecular weight. The weight average molecular weight of the binder polymer is preferably 5,000 to 300,000, more preferably 20,000 to 150,000.

バインダーポリマーは、感光層中に任意な量で含有させることができるが、90重量%を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない場合があるので、好ましくは10〜90重量%、より好ましくは30〜80重量%である。   The binder polymer can be contained in an arbitrary amount in the photosensitive layer. However, when it exceeds 90% by weight, it may not give a preferable result in terms of formed image strength and the like. 90% by weight, more preferably 30 to 80% by weight.

(E)一般式(I)で表される化合物
1 −X 一般式(I)
一般式(I)中、R 1 は、総炭素数8〜32の炭化水素基を示す。好ましくは総炭素数が12〜27の炭化水素基であり、さらに好ましくは総炭素数が15〜25の炭化水素基である。炭化水素基は、ハロゲン基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基等の置換基を有していてもよい。また、炭化水素基中に、エーテル結合、エステル結合、アミド結合を有していても良い。ただし、これらの置換基および結合を含めて、R 1 中の総炭素数は8〜32であることを要する。総炭素数が8未満であると着肉性改良効果が低下し、総炭素数が32を超えると、感光層の現像液に対する溶解性が低下する傾向がある。好ましいR 1 の具体例としては、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等の直鎖アルキル基、14−メチルペンタデシル基、16−メチルヘプタデシル基等の分岐アルキル基、9−オクタデセニル基等の二重結合を含むアルキル基、ノニルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
(E) Compound represented by general formula (I)
R 1 —X Formula (I)
In general formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group having a total carbon number of 8 to 32. A hydrocarbon group having a total carbon number of 12 to 27 is preferable, and a hydrocarbon group having a total carbon number of 15 to 25 is more preferable. The hydrocarbon group may have a substituent such as a halogen group, a hydroxy group, a cyano group, or an amino group. Further, the hydrocarbon group may have an ether bond, an ester bond, or an amide bond. However, the total number of carbon atoms in R 1 including these substituents and bonds is required to be 8 to 32. When the total number of carbon atoms is less than 8, the effect of improving the inking property is lowered. When the total number of carbon atoms exceeds 32, the solubility of the photosensitive layer in the developer tends to be lowered. Specific examples of preferable R 1 include linear alkyl groups such as decyl group, dodecyl group, hexadecyl group and octadecyl group, branched alkyl groups such as 14-methylpentadecyl group and 16-methylheptadecyl group, and 9-octadecenyl group. And an alkyl group containing a double bond such as an aryl group such as a nonylphenyl group.

一般式(I)中、Xは、−CO−Y−R 2 、−Y−CO−R 2 、−NH−CO−Y−R 2 、−O−CO−NH−R 2 、−NH−CO−NH−R 2 、−SO 2 −Y−R 2 、−Y−SO 2 −R 2 、−O−SO 2 −R 2 、−CO−O−CO−R 2または−Y−R 3 を示す。ここで、Yは、−O−、−S−、−NR 4 −または単結合を示す。ただし、Xが−Y−R 3 の時は、Yは単結合ではない。R 2 、R 3 及びR 4 はそれぞれ独立に水素原子または総炭素数20以下の炭化水素基を示す。炭化水素基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。また、炭化水素基中には、エーテル結合、エステル結合、アミド結合を有していても良い。R 2 、R 3 及びR 4 の好ましい具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、ドデシル基等が挙げられる。 In general formula (I), X represents —CO—Y—R 2 , —Y—CO—R 2 , —NH—CO—Y—R 2 , —O—CO—NH—R 2 , —NH—CO. —NH—R 2 , —SO 2 —Y—R 2 , —Y—SO 2 —R 2 , —O—SO 2 —R 2 , —CO—O—CO—R 2 or —Y—R 3 is shown. . Here, Y represents —O—, —S—, —NR 4 — or a single bond. However, when X is —Y—R 3 , Y is not a single bond. R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a total carbon number of 20 or less. The hydrocarbon group may have a substituent, and preferred examples of the substituent include a halogen group, a hydroxy group, a cyano group, and an amino group. Further, the hydrocarbon group may have an ether bond, an ester bond, or an amide bond. Preferable specific examples of R 2 , R 3 and R 4 include a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, phenyl group, A benzyl group, a naphthyl group, a dodecyl group, etc. are mentioned.

一般式(I)で表される化合物の好ましい具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
カルボン酸(一般式(I)においてXが−COOH)としては、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、ア
ラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸等が挙げられる。また、前記例示したカルボン酸のエステル類(Xが−COOR2)としては、例えば、カルボン酸メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル、ドデシルエステル、フェニルエステル、ナフチルエステル、アリルエステル、及び(メタ)アクリル酸または4−スチレンカルボン酸のドデシルエステル、ヘキサデシルエステル、ノニルフェニルエステル等も好ましく挙げられる。
Preferred specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Carboxylic acids (X in formula (I) where X is —COOH) include enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, Examples include stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, mellicic acid, laccellic acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, celetic acid, erucic acid, brassic acid, etc. It is done. Examples of the carboxylic acid esters exemplified above (X is —COOR 2 ) include, for example, carboxylic acid methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester, dodecyl ester, phenyl ester, naphthyl ester, allyl ester, and ( Preferable examples include dodecyl ester, hexadecyl ester, and nonylphenyl ester of (meth) acrylic acid or 4-styrenecarboxylic acid.

チオカルボン酸エステル(Xが−COSR2)としては、例えば、前記例示したカルボン酸のメチルチオエステル、エチルチオエステル、プロピルチオエステル、ブチルチオエステル、ベンジルチオエステル等が挙げられる。カルボン酸アミド(Xが−CONH 2 或いは−CONHR2)としては、例えば、前記例示したカルボン酸のアミド、メチルアミド、エチルアミド、アリルアミド、および(メタ)アクリル酸または4−スチレンカルボン酸のドデシルアミド、ヘキサデシルアミド、ヘキサデシルアニリド等が挙げられる。ウレタン、ウレア誘導体(Xが−O−CO−NH−R2或いは−NH−CO−NH−R2)としては、例えば、オクタデシルアミンと2−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応生成物、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアナートとヘキシルアミンとの反応生成物等が挙げられる。 Examples of the thiocarboxylic acid ester (X is —COSR 2 ) include methylthioester, ethylthioester, propylthioester, butylthioester, and benzylthioester of the carboxylic acid exemplified above. Examples of the carboxylic acid amide (X is —CONH 2 or —CONHR 2 ) include amides of carboxylic acid, methylamide, ethylamide, allylamide, and (meth) acrylic acid or dodecylamide of 4-styrenecarboxylic acid, hexa Examples include decylamide and hexadecylanilide. Examples of urethane and urea derivatives (X is —O—CO—NH—R 2 or —NH—CO—NH—R 2 ) include, for example, reaction products of octadecylamine and 2-hydroxyethyl acrylate, 2-methacryloyloxy Examples include a reaction product of ethyl isocyanate and hexylamine.

アルコール(Xが−OH)としては、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフェノール、1−ドコサノール、1−ヘキセニルフェノール、(2−メチル−1−ヘプテニル)フェノール、(2−エチルヘキシル)オキシフェノール、ドデシルオキシフェノール、ドデカノイルオキシフェノール、オレオイルアミノフェノール、ドデカノイルアミノフェノール、2−ヘキシルシクロヘキサノール、N−オクチル−2−ヒドロキシニコチン酸アミド、1−S−オクチル−β−D−チオグルコピラノシド、ソルビタンモノラウレート、N−ドデカノイル−3−ピロリジノール等が挙げられる。スルホン酸誘導体(Xが−SO 2 −O−R2或いは−SO 2 −NH−R2)としては、ドデシルベンゼンスルホン酸フェニルエステル、ノナンスルホン酸アニリド等が挙げられる。その他、さらに、γ−ドデカノラクトン、1−ドデシル−2−ピロリジノン等のラクトン及びラクタム(Xが−CO−O−R2或いはCO−NH−R2)、2−ドデセン−1−イルコハク酸無水物等の環状酸無水物(Xが−CO−O−CO−R2)、1−ドコサナール等のアルデヒド(Xが−CO−H)が挙げられる。これらの化合物のなかでも、室温で固体である化合物が好ましい。また、アリル基、(メタ)アクリロイル基及びスチリル基のようなラジカル重合可能な官能基を有することが、感光層の膜性向上の観点から、さらに好ましい。 Examples of the alcohol (X is —OH) include octylphenol, nonylphenol, dodecylphenol, 1-docosanol, 1-hexenylphenol, (2-methyl-1-heptenyl) phenol, (2-ethylhexyl) oxyphenol, dodecyloxyphenol, dodeca Noyloxyphenol, oleoylaminophenol, dodecanoylaminophenol, 2-hexylcyclohexanol, N-octyl-2-hydroxynicotinamide, 1-S-octyl-β-D-thioglucopyranoside, sorbitan monolaurate, N -Dodecanoyl-3-pyrrolidinol and the like. Examples of the sulfonic acid derivative (X is —SO 2 —O—R 2 or —SO 2 —NH—R 2 ) include dodecylbenzenesulfonic acid phenyl ester and nonanesulfonic acid anilide. In addition, lactones and lactams such as γ-dodecanolactone and 1-dodecyl-2-pyrrolidinone (X is —CO—O—R 2 or CO—NH—R 2 ), 2-dodecen-1-ylsuccinic anhydride And cyclic acid anhydrides (X is —CO—O—CO—R 2 ) and aldehydes (X is —CO—H) such as 1-docosanal. Of these compounds, compounds that are solid at room temperature are preferred. Further, it is more preferable to have a radical polymerizable functional group such as an allyl group, a (meth) acryloyl group and a styryl group from the viewpoint of improving the film properties of the photosensitive layer.

一般式(I)で表される化合物の含有量は、感光層固形分中、0.001〜10重量%が好適であり、より好ましくは0.01〜5重量%である。含有量が0.001重量%より少ないと着肉性の改良が十分でなく、また、10重量%より多いと感光層の現像液に対する溶解性が低下する可能性があり、いずれも好ましくない。   The content of the compound represented by the general formula (I) is preferably 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight in the solid content of the photosensitive layer. When the content is less than 0.001% by weight, the improvement of the inking property is not sufficient, and when the content is more than 10% by weight, the solubility of the photosensitive layer in the developer may be lowered.

<その他の感光層成分>
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進および塗布面状を向上させるための界面活性剤、現像性・耐刷性向上の為のマイクロカプセル、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上などのための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、感光層の製造中または保存中の重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、現像性向上のための親水性低分子化合物、感度向上の為の共増感剤や連鎖移動剤、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。これの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007-171406号公報、特開2007-206216号公報、特開2007-206217号公報、特開2007-225701号公報、特開2007-225702号公報、特開2007-316582号公報、特開2007-328243号公報に記載の化合物を使用することができる。
<Other photosensitive layer components>
The photosensitive layer of the present invention can further contain various additives as required. Additives include surfactants for improving developability and improving the surface of the coating, microcapsules for improving developability and printing durability, and improving the developability and dispersion stability of microcapsules. Hydrophilic polymers, colorants and print-out agents for visual recognition of image areas and non-image areas, polymerization inhibitors for preventing unnecessary thermal polymerization of polymerizable compounds during production or storage of the photosensitive layer, oxygen Higher fat derivatives to prevent polymerization inhibition due to polymerization, inorganic fine particles to improve the cured film strength of the image area, hydrophilic low molecular weight compounds to improve developability, co-sensitizers and chain transfer agents to improve sensitivity Further, a plasticizer for improving plasticity can be added. Any of these compounds can be used, for example, JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007. The compounds described in JP-A-225702, JP-A-2007-316582, and JP-A-2007-328243 can be used.

連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
なかでも、下記一般式(VI)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
As the compound that acts as a chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.
In the photosensitive layer of the present invention, in particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) are used. It can be preferably used as a chain transfer agent.
Especially, the thiol compound represented by the following general formula (VI) is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, the problem of odor and sensitivity reduction due to evaporation from the photosensitive layer and diffusion to other layers are avoided, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

一般式(VI)中、Rは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環または6員環の複素環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In general formula (VI), R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A has a carbon atom together with an N = CN moiety. It represents an atomic group that forms a membered ring or a six-membered heterocyclic ring, and A may further have a substituent.

<感光層の形成>
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、これを支持体に塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photosensitive layer>
The photosensitive layer of the present invention is formed by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent to prepare a coating solution, which is then coated on a support. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. A solvent is used individually or in mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The photosensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as the coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)が設けられることが好ましい。本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/ m2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは1.5≦A≦12(mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(mL/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害しないこと、感光層との密着性に優れていること、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が挙げられる。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention preferably has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day). When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. Conversely, when the oxygen permeability A is 20 (mL / m 2 · day ) Beyond decrease in sensitivity may be incurred. The oxygen permeability A is more preferably in the range of 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), further preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (mL / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer are that it does not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, has excellent adhesion to the photosensitive layer, and development after exposure. It can be easily removed in the process. Such a device for the protective layer has been conventionally devised and described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物が好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferable, and specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl alcohol / phthalate. Water-soluble polymers such as vinyl acid copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc., may be used alone or in combination. Can be used. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が70〜100モル%、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。ポリビニルアルコールの保護層中の含有率は、好ましくは20〜95質量%、より好ましくは30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 70 to 100 mol% and a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. The content rate in the protective layer of polyvinyl alcohol becomes like this. Preferably it is 20-95 mass%, More preferably, it is 30-90 mass%.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。   Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

一般に、平版印刷版原版の製版工程において、水洗処理による保護層の除去をあらかじめすることなく、現像液にて、保護層と未露光部の感光層を除去する場合、保護層の水溶
性が低いと、未露光部の感光層の除去性が悪くなる(保護層を除去するための時間を要し、現像性が低下する)。
ポリビニルアルコールは、鹸化度が70モル%〜100モル%の範囲において、鹸化度が低いほど、水溶性が高い。また、前述の酸変性ポリビニルアルコールも水溶性が高い。このため、保護層に含有されるポリビニルアルコールの平均鹸化度を70モル%〜93モル%の範囲に調整するか、または、保護層中に酸変性ポリビニルアルコールを含有させると、保護層の水溶性が向上し、現像液にて、保護層と未露光部の感光層を除去する場合でも、現像性が向上し、保護層起因の現像かすの発生も少なくる利点がある。
Generally, in the plate making process of a lithographic printing plate precursor, when the protective layer and the photosensitive layer in the unexposed area are removed with a developer without removing the protective layer by washing in advance, the water solubility of the protective layer is low. Then, the removability of the photosensitive layer in the unexposed area is deteriorated (it takes time to remove the protective layer and the developability is lowered).
Polyvinyl alcohol has a higher water solubility as the saponification degree is lower in the saponification degree range of 70 mol% to 100 mol%. The acid-modified polyvinyl alcohol described above is also highly water soluble. For this reason, when the average saponification degree of polyvinyl alcohol contained in the protective layer is adjusted to a range of 70 mol% to 93 mol%, or the acid-modified polyvinyl alcohol is contained in the protective layer, the water solubility of the protective layer is increased. Even when the protective layer and the unexposed photosensitive layer are removed with a developer, there is an advantage that the developability is improved and the occurrence of development debris due to the protective layer is reduced.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60%. It is 15 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の水溶性高分子化合物の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を水溶性高分子化合物に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を水溶性高分子化合物に対して数質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble polymer compound, and flexibility can be imparted. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers based on water-soluble polymer compounds Mass% can be added.

また、感光層との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the photosensitive layer and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。
本発明の無機質の層状化合物のアスペクト比は、好ましくは20以上であり、さらに好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any one of K, Na, and Ca, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
In the present invention, among the inorganic layered compounds described above, fluorine-based swellable synthetic mica that is a synthetic inorganic layered compound is particularly useful.
The aspect ratio of the inorganic layered compound of the present invention is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When particles of inorganic layered compounds having a large aspect ratio are contained in the protective layer in this way, the coating film strength is improved and oxygen and moisture permeation can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

保護層に用いる無機質層状化合物の分散には、特開2007-171406号公報、特開2007-206216号公報、特開2007-206217号公報、特開2007-225701号公報、特開2007-225702号公報、特開2007-316582号公報、特開2007-328243号公報等に記載の方法が用いられる。   In order to disperse the inorganic stratiform compound used in the protective layer, JP-A-2007-171406, JP-A-2007-206216, JP-A-2007-206217, JP-A-2007-225701, JP-A-2007-225702 The methods described in JP-A No. 2007-316582, JP-A 2007-328243 and the like are used.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。 The coating amount of the protective layer is preferably 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / The range of m 2 is more preferable, and in the case where no inorganic layered compound is contained, the range of 0.5 to 5 g / m 2 is more preferable.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状の親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in the refining technology.
It may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to the roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (electrochemical surface roughening treatment that dissolves the surface), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, an aqueous solution containing an anodized film micropore expansion treatment, micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365 The surface hydrophilization treatment to be immersed can be appropriately selected and performed. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with aqueous solution containing inorganic fluorine compounds such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、
同第3,280,734号および同第3,902,734号に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
As hydrophilization treatment, U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461,
There are alkali metal silicate methods as described in US Pat. Nos. 3,280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in No.272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. The hydrophilic layer includes at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A No. 2001-199175. An hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing an oxide or hydroxide colloid, or an organic hydrophilic matrix obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A No. 2002-79772 A hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion consisting of hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a surface containing a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film is preferred. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed as described in JP-A No. 2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、感光層は下塗り層の上に設けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と感光層との密着性を強化し、また、未露光部においては、感光層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号に記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the photosensitive layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer reinforces the adhesion between the support and the photosensitive layer in the exposed area, and easily peels the photosensitive layer from the support in the unexposed area, thereby improving developability.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, described in JP-A-2-304441. Preferable examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group. Particularly preferable compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group or an allyl group and a support adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, or a phosphoric acid ester. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成した後、必要に応じて、支持体の裏
面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is applied to the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
As the back coat, for example, an organic polymer compound described in JP-A-5-45885, an organic metal compound or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is obtained by hydrolysis and polycondensation. A coating layer made of a metal oxide is preferable. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔平版印刷版の作製方法〕
次に、本発明に係る平版印刷版の作製方法について説明する。
本発明によれば、本発明に用いられる平版印刷版原版を、画像露光後、1液現像処理することにより、非画像部の感光層を除去して平版印刷版を作製することができる。平版印刷版原版が保護層を有する場合には、この現像処理により保護層も除去される。
[Preparation method of planographic printing plate]
Next, a method for producing a lithographic printing plate according to the present invention will be described.
According to the present invention, the lithographic printing plate precursor used in the present invention is subjected to one-liquid development after image exposure, whereby the lithographic printing plate can be produced by removing the photosensitive layer in the non-image area. When the lithographic printing plate precursor has a protective layer, the protective layer is also removed by this development treatment.

平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
望ましい光源の波長は350nmから450nmであり、具体的にはInGaN系半導体レーザーが好適である。
The lithographic printing plate precursor is exposed through a transparent original having a line image, a halftone dot image or the like, or is exposed imagewise by laser beam scanning or the like using digital data.
A desirable wavelength of the light source is 350 nm to 450 nm, and specifically, an InGaN semiconductor laser is suitable.

350nm〜450nmの入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザとして、Arイオンレーザ(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザ(356nm、351nm、10mW〜1W)、He−Cdレーザー(441nm、325nm、1mW〜100mW)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)とSHG結晶×2回の組み合わせ(355nm、5mW〜1W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(430nm、10mW)、半導体レーザー系として、KNbO3リング共振器(430nm、30mW)、導波型波長変換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW)、その他、パルスレーザとしてN2レーザ(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)。特にこの中でAlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410nm、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。
As available laser light sources of 350 nm to 450 nm, the following can be used.
As a gas laser, an Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a He—Cd laser (441 nm, 325 nm, 1 mW to 100 mW), and a solid laser as Nd: YAG (YVO 4 ) and SHG crystal × 2 combinations (355 nm, 5 mW to 1 W), Cr: LiSAF and SHG crystal combination (430 nm, 10 mW), as a semiconductor laser system, KNbO 3 ring resonator (430 nm, 30 mW), Combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs / InGaAs semiconductor (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaInP, AlGaAs semiconductor (300 nm to 350 nm, 5 mW to 100 mW) ), AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW), and N 2 laser (337 nm, pulse 0.1 to 10 mJ) and XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ) as a pulse laser. In particular, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 400 to 410 nm, 5 to 30 mW) is preferable in terms of wavelength characteristics and cost.

走査露光方式の平版印刷版露光装置としては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源の中で連続発振可能なものが好ましく利用することができる。現実的には平版印刷版原版の感度と製版時間の関係で、以下の露光装置が特に好ましい。
・内面ドラム方式で総出力20mW以上の半導体レーザーとなる様に、ガスレーザあるいは固体レーザー光源を1個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの露光装置
・フラットベッド方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜10本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜9本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(10本以上)の露光装置
As the lithographic printing plate exposure apparatus of the scanning exposure method, there are an inner drum method, an outer drum method, and a flat bed method as an exposure mechanism, and a light source that can continuously oscillate among the light sources can be preferably used. Practically, the following exposure apparatus is particularly preferable because of the relationship between the sensitivity of the lithographic printing plate precursor and the plate making time.
・ Single beam to triple beam exposure equipment that uses one or more gas lasers or solid-state laser light sources so that it becomes a semiconductor laser with a total output of 20 mW or more with an internal drum system. ・ A total output of 20 mW or more with a flat bed system. Multi-beam (1 to 10) exposure equipment that uses one or more semiconductor lasers, gas lasers, or solid-state lasers • Use one or more semiconductor lasers, gas lasers, or solid-state lasers to achieve a total output of 20 mW or more with the external drum system Multi-beam (1 to 9) exposure apparatus ・ Multi-beam (10 or more) exposure apparatus using one or more semiconductor lasers or solid-state lasers so that the total output is 20 mW or more by the external drum system.

以上のようなレーザー直描型の平版印刷版原版においては、一般に感材感度X(J/cm2)、感材の露光面積S(cm2)、レーザー光源1個のパワーq(W)、レーザー本数
n、全露光時間t(s)との間に式(eq1)が成立する。
In the laser direct drawing type lithographic printing plate precursor as described above, generally the photosensitive material sensitivity X (J / cm 2 ), the photosensitive material exposure area S (cm 2 ), the power q (W) of one laser light source, Equation (eq1) is established between the number of lasers n and the total exposure time t (s).

X・S=n・q・t (eq 1)   X · S = n · q · t (eq 1)

i)内面ドラム(シングルビーム)方式の場合
レーザー回転数f(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)の間には一般的に式(eq 2)が成立する。
i) In the case of the internal drum (single beam) system, the laser rotation speed f (radians / s), the sub-scanning length Lx (cm) of the photosensitive material, the resolution Z (dots / cm), and the total exposure time t (s) In general, equation (eq 2) holds.

f・Z・t=Lx (eq 2)   f · Z · t = Lx (eq 2)

ii)外面ドラム(マルチビーム)方式の場合
ドラム回転数F(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 3)が成立する。
ii) External drum (multi-beam) method Drum rotation speed F (radians / s), photosensitive material sub-scanning length Lx (cm), resolution Z (dots / cm), total exposure time t (s), number of beams In general, equation (eq 3) is established during (n).

F・Z・n・t=Lx (eq 3)   F.Z.n.t = Lx (eq 3)

iii)フラットヘッド(マルチビーム)方式の場合
ポリゴンミラーの回転数H(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 4)が成立する。
iii) Flat head (multi-beam) system polygon mirror rotation speed H (radians / s), photosensitive material sub-scanning length Lx (cm), resolution Z (dots / cm), total exposure time t (s), Equation (eq 4) is generally established between the number of beams (n).

H・Z・n・t=Lx (eq 4)   H.Z.n.t = Lx (eq 4)

実際の印刷版に要求される解像度(2560dpi)、版サイズ(A1/B1、副走査長42inch)、20枚/1時間程度の露光条件と本発明の平版印刷版原版の感光特性(感光波長、感度:約0.1mJ/cm2)を上記式に代入することで、本発明の平版印刷版原版においては総出力20mW以上のレーザーを用いたマルチビーム露光方式との組み合わせが特に好ましいことが理解できる。さらに操作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラム方式の半導体レーザーマルチビーム(10本以上)露光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。 Resolution (2560 dpi) required for the actual printing plate, plate size (A1 / B1, sub-scan length 42 inch), exposure conditions of about 20 sheets / hour and photosensitive characteristics of the planographic printing plate precursor of the present invention (photosensitive wavelength, By substituting (sensitivity: about 0.1 mJ / cm 2 ) into the above formula, it is understood that a combination with a multi-beam exposure method using a laser having a total output of 20 mW or more is particularly preferable in the planographic printing plate precursor of the present invention. it can. Further, by combining operability, cost, etc., a combination with an external drum type semiconductor laser multi-beam (10 or more) exposure apparatus is most preferable.

本発明における画像露光に用いられる光源の波長としては、750nm〜1400nmも好ましい。この波長で露光し得るものであれば如何なるものでもよいが、固体レーザーおよび半導体レーザーが好ましく用いられる。レーザーの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。露光のエネルギーが低すぎると感光層の硬化が十分に進行しない。また、露光のエネルギーが高すぎると感光層がレーザーアブレーションされ、画像が損傷することがある。   The wavelength of the light source used for image exposure in the present invention is preferably 750 nm to 1400 nm. Any solid-state laser and semiconductor laser can be used as long as they can be exposed at this wavelength. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm <2>. If the exposure energy is too low, the photosensitive layer is not sufficiently cured. If the exposure energy is too high, the photosensitive layer may be laser ablated and the image may be damaged.

本発明における画像露光では、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。   In the image exposure according to the present invention, the light beams of the light sources can be overlapped for exposure. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。
The light source scanning method of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, and the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

次に、現像処理工程について詳述する。通常の処理工程においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥するのに対して、本発明においては、1液で現像処理することができる。好ましくは、炭酸イオン、炭酸水素イオン、並びに界面活性剤及び/ 又は水溶性高分子化合物を含有する水溶液を用いることにより、現像とガム引きを同時に行うことができる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像とガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことができる。さらに、保護層の除去も現像及びガム引きと同時に行うことができるので、前水洗工程も必要としない。現像及びガム引きの後、スクイズローラー等を用いて余剰の処理液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。   Next, the development processing step will be described in detail. In a normal processing step, the protective layer is removed by the pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is removed by the post-water washing step, the gum treatment is performed in the gumming step, and the drying step is performed. In the present invention, development can be performed with one liquid. Preferably, development and gumming can be simultaneously performed by using an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions, and a surfactant and / or a water-soluble polymer compound. Therefore, a post-water washing step is not particularly required, and after performing development and gumming with one liquid, a drying step can be performed. Further, since the protective layer can be removed simultaneously with development and gumming, no pre-water washing step is required. After development and gumming, it is preferable to dry after removing excess processing liquid using a squeeze roller or the like.

本発明における現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。
このような現像処理に用いられる自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号公報、特開昭60−59351号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版をシリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
The development processing in the present invention can be suitably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member.
As an automatic processor used for such development processing, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 2-220061 and Hei 60-59351 perform rubbing treatment while conveying a lithographic printing plate precursor after image recording. The automatic processing machine described in US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768, and British Patent 2,297,719 are used to rub the lithographic printing plate precursor after image recording set on the cylinder while rotating the cylinder. Machine. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報、特開平3−100554号公報、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
また、回転ブラシロールは、必要により、2本以上の複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in JP-A-58-159533, JP-A-3-100554, and JP-A-62-167253, a metal or plastic grooved material in which brush materials are arranged in a row is used as a core. It is possible to use a brush roll that is radially wound around a plastic or metal roll to become a gap.
The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylonitrile, poly (meth) acrylate, etc. Acrylic and polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene) can be used. For example, the fiber has a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm. Can be used.
Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.
Moreover, it is preferable to use two or more rotating brush rolls if necessary.

回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても逆方向であってもよいが、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor. However, when two or more rotating brush rolls are used, at least one rotating brush roll is used. It is preferred that the rotating brush rolls rotate in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

現像工程のあと、連続的又は不連続的に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。   It is preferable to provide a drying step continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.

本発明の平版印刷版の作製方法において好適に用いられる自動処理機の構造の1例を図1に模式的に示す。図1の自動処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版
印刷版原版4は現像槽20で現像とガム引きを行い、乾燥部10で乾燥される。
An example of the structure of an automatic processor suitably used in the method for producing a lithographic printing plate of the present invention is schematically shown in FIG. The automatic processor shown in FIG. 1 basically includes a developing unit 6 and a drying unit 10, and the planographic printing plate precursor 4 is developed and gummed in a developing tank 20 and dried in a drying unit 10.

(処理液)
本発明の平版印刷版原版の製版方法に使用される処理液(以下、現像液とも云う)としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。また、処理液のpHは8.5〜10.8の範囲であることが好ましい。pHがこの範囲にあることで、良好な現像性、処理安定性、耐刷性等の性能が得られる。好ましいpHは、9.0〜10.5、更に好ましくは、9.4〜10.2である。処理液に、界面活性剤もしくは水溶性高分子化合物を含有させることにより、現像とガム引きを1液で行うことができる。
(Processing liquid)
The processing liquid used in the plate making method of the lithographic printing plate precursor according to the present invention (hereinafter also referred to as developer) is an aqueous solution containing carbonate ion, hydrogen carbonate ion, surfactant and / or water-soluble polymer compound. preferable. Moreover, it is preferable that pH of a process liquid is the range of 8.5-10.8. When the pH is within this range, performance such as good developability, processing stability and printing durability can be obtained. The preferred pH is 9.0 to 10.5, more preferably 9.4 to 10.2. By including a surfactant or a water-soluble polymer compound in the processing liquid, development and gumming can be performed with one liquid.

本発明の現像液は、炭酸イオンと炭酸水素イオンが存在することで緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に含有させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいが、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。炭酸塩及び炭酸水素塩は単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
現像液中における炭酸イオン/炭酸水素イオンのモル比率は、10/90〜90/10であり、より好ましくは、20/80〜80/20であり、更に好ましくは、30/70〜70/30である。
The developer of the present invention exhibits a buffering action due to the presence of carbonate ions and hydrogen carbonate ions, and can suppress pH fluctuations even when the developer is used for a long period of time. Generation etc. can be suppressed. In order to contain carbonate ion or hydrogen carbonate ion in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, but by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. The carbonates and bicarbonates may be used alone or in combination of two or more.
The molar ratio of carbonate ion / bicarbonate ion in the developer is 10/90 to 90/10, more preferably 20/80 to 80/20, and still more preferably 30/70 to 70/30. It is.

炭酸塩及び炭酸水素塩の総量は、現像液の質量に対して0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、2〜12質量%が最も好ましい。総量が0.5質量%以上であると現像性、処理能力が低下せず、20質量%以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、さらに廃液時の中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたさない。   The total amount of carbonate and bicarbonate is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and most preferably 2 to 12% by mass with respect to the mass of the developer. If the total amount is 0.5% by mass or more, developability and processing capacity are not lowered, and if it is 20% by mass or less, it is difficult to form precipitates and crystals, and further, it is difficult to gel during neutralization in the waste liquid. Does not interfere with waste liquid treatment.

アルカリ濃度の微少な調整、感光性層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。有機アルカリ剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
なかでも、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが好適に使用可能である。有機アルカリ剤の含有量は、現像液に対して0.5〜15質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましい。
For the purpose of assisting the fine adjustment of the alkali concentration and the dissolution of the photosensitive layer, another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. An organic alkali agent is used individually or in combination of 2 or more types.
Of these, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine can be preferably used. 0.5-15 mass% is preferable with respect to a developing solution, and, as for content of an organic alkali agent, 1-10 mass% is more preferable.

<水溶性高分子化合物>
現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。水溶性高分子化合物の好ましい酸価は、0〜3.0meq/gである。
<Water-soluble polymer compound>
Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and the like Derivatives, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymers, vinyl acetate / maleic anhydride copolymers, styrene / maleic anhydride copolymers, and the like. A preferable acid value of the water-soluble polymer compound is 0 to 3.0 meq / g.

大豆多糖類としては、従来知られているものが使用でき、例えば市販品としてソヤファ
イブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。
As the soybean polysaccharide, conventionally known ones can be used. For example, as a commercially available product, there is Soya Five (manufactured by Fuji Oil Co., Ltd.), and various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

変性澱粉としては、下記一般式(III)で示されるものが好ましい。一般式(III)で示される変性澱粉の製造には、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等のいずれの澱粉も使用できる。これらの澱粉の変性は、酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で行うことができる。   As modified starch, what is shown by the following general formula (III) is preferable. For the production of the modified starch represented by the general formula (III), any starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat can be used. These starches can be modified by a method of decomposing in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule with an acid or an enzyme, and further adding oxypropylene in an alkali.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

式(III)中、エーテル化度(置換度)はグルコース単位当たり0.05〜1.2の範囲で、nは3〜30の整数を示し、mは1〜3の整数を示す。   In formula (III), the degree of etherification (degree of substitution) is in the range of 0.05 to 1.2 per glucose unit, n represents an integer of 3 to 30, and m represents an integer of 1 to 3.

水溶性高分子化合物の中でも特に好ましいものとして、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の処理液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%である。
Particularly preferable among the water-soluble polymer compounds include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol and the like.
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the treatment liquid is preferably 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass.

<界面活性剤>
現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性系等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキル
スルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
<Surfactant>
Examples of the surfactant used in the developer include anionic, nonionic, cationic, and amphoteric systems.
Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates. , Alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil , Sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates Tellurium salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates, styrene-anhydrous Examples thereof include partial saponification products of maleic acid copolymer, partial saponification products of olefin-maleic anhydride copolymer, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

カチオン系界面活性剤としては、例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

ノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。   Nonionic surfactants include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid. Amidoethylene oxide adducts, fat and oil ethylene oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymers, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymers, and polyhydric alcohol type glycerol Fatty acid ester, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan Fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.

本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。   In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、ノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。また、アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
両性系界面活性剤としては、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、塩酸アルキルジアミノエチルグリシン液、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン等が挙げられる。
界面活性剤は単独もしくは組み合わせて使用することができる。界面活性剤の現像液中における含有量は0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant preferably has an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 6 or more, more preferably 8 or more. Further, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
Examples of amphoteric surfactants include 2-alkyl-N-carboxymethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, alkyldiaminoethylglycine hydrochloride, lauryldimethylaminoacetic acid betaine, and the like.
Surfactants can be used alone or in combination. The content of the surfactant in the developer is preferably from 0.01 to 10% by mass, and more preferably from 0.01 to 5% by mass.

<その他の添加剤>
本発明の処理液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。
<Other additives>
In addition to the above, the treatment liquid of the present invention may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like.

湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。湿潤剤は単独で用いても、2種以上併用してもよい。一般に、湿潤剤は処理液に対して0.1〜5質量%の量で使用される。   As the wetting agent, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are preferably used. The wetting agent may be used alone or in combination of two or more. Generally, the wetting agent is used in an amount of 0.1 to 5% by mass with respect to the treatment liquid.

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等
の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、処理液に対して0.01〜4質量%の範囲が好ましい。
Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives such as pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1, 1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used. It is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization. The addition amount of the preservative is an amount that exhibits a stable effect on bacteria, fungi, yeast, and the like, and varies depending on the type of bacteria, fungi, yeast, etc., but is 0.01-4 for the treatment liquid. A range of mass% is preferred.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。キレート剤は処理液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は処理液に対して0.001〜1.0質量%が好適である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents. A chelating agent is selected that is stably present in the treatment liquid composition and does not impair the printability. The addition amount is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the treatment liquid.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系のHLBの5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。消泡剤の含有量は、処理液に対して0.001〜1.0質量%の範囲が好適である。   As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, nonionic HLB 5 or less compound can be used. Silicon antifoaming agents are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used. The content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by mass with respect to the treatment liquid.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は処理液に対して0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the treatment liquid.

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) ) Or halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichrene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。 Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.) , (Acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene Glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は処理液に対して0.01〜0.5質量%の量が好ましい。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the treatment liquid.

現像液の温度は、通常60℃以下、好ましくは10℃〜50℃、より好ましくは15〜40℃程度である。   The temperature of the developer is usually 60 ° C. or lower, preferably 10 ° C. to 50 ° C., more preferably about 15 to 40 ° C.

上記の現像液は、平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いることができ、前記の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版の作製方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。   The developer described above can be used as a developer and developer replenisher for a lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to the automatic processor. When developing using an automatic processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so the processing capability may be restored using a replenisher or a fresh developer. This replenishing method is also preferably applied to the lithographic printing plate preparation method of the present invention.

本発明においては、上記の通り、露光工程の後、直ちに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程との間に加熱処理工程を設けることもできる。この加熱処理は、耐刷性を向上させ、さらに画像硬化度の版面内での均一性を高める効果があり、その条件はそれら効果のある範囲で適宜設定することができる。加熱手段としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。例えば、版面到達温度が70〜150℃の範囲で、1秒〜5分間の間で保持することにより行なうことができる。好ましくは80℃〜140℃で5秒〜1分間、より好ましくは90℃〜130℃で10〜30秒間である。この範囲であると上記の効果を効率よく得られ、また熱による印刷版の変形などの悪影響が無い点で好ましい。
また、本発明においては上述の露光工程および、必要により加熱処理工程の後に、現像工程が施され平版印刷版を得る。露光工程に用いられるプレートセッタ、加熱処理に用いられる加熱処理手段および現像工程に使用される現像装置はお互いに接続されて、自動的に連続処理されることが好ましい。具体的にはプレートセッタと、現像装置がコンベアなどの運搬手段によって結合されている製版ラインが挙げられる。プレートセッタと現像装置の間に加熱処理手段が入っていても良く、加熱手段と現像装置は一体の装置となっていても良い。
In the present invention, as described above, the development treatment may be performed immediately after the exposure step, but a heat treatment step may be provided between the exposure step and the development step. This heat treatment has the effect of improving the printing durability and further improving the uniformity of the image curing degree within the plate surface, and the conditions can be appropriately set within the range where these effects are present. Examples of the heating means include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. For example, it can be carried out by holding the plate surface temperature in the range of 70 to 150 ° C. for 1 second to 5 minutes. Preferably, the temperature is 80 ° C to 140 ° C for 5 seconds to 1 minute, more preferably 90 ° C to 130 ° C for 10 to 30 seconds. This range is preferable in that the above effect can be obtained efficiently and there is no adverse effect such as deformation of the printing plate due to heat.
In the present invention, a development process is performed after the above exposure process and, if necessary, a heat treatment process to obtain a lithographic printing plate. The plate setter used in the exposure process, the heat treatment means used in the heat treatment, and the developing device used in the development process are preferably connected to each other and automatically continuously processed. Specifically, there is a plate making line in which a plate setter and a developing device are coupled by a conveying means such as a conveyor. A heat treatment unit may be provided between the plate setter and the developing device, and the heating unit and the developing device may be integrated.

平版印刷版原版が作業環境における周囲の光の影響を受け易い場合は、上記の製版ラインがフィルタまたはカバーなどで遮光されていることが好ましい。
現像により画像形成した後、紫外線光などの活性光線で全面露光を行い、画像部の硬化促進を行っても良い。全面露光時の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀灯、ガリウム灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ、各種レーザー光などが挙げられる。さらに、十分な耐刷性を得るためには全面露光量としては少なくとも10mJ/cm2以上が好ましく、より好ましくは100mJ/cm2以上である。
上記全面露光時に同時に加熱を行ってもよく、加熱を行うことによりさらに耐刷性の向上が認められる。加熱装置としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。このとき版面温度は30℃〜150℃であることが好ましく、より好ましくは、35〜130℃であり、更
に好ましくは、40〜120℃である。具体的には、特開2000−89478号に記載の方法を利用することができる。
また、耐刷性等の向上を目的として、現像後の印刷版を非常に強い条件で加熱することもできる。加熱温度は、通常200〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる恐れがある。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
When the lithographic printing plate precursor is easily affected by ambient light in the working environment, the plate making line is preferably shielded from light by a filter or a cover.
After image formation by development, the entire surface may be exposed with an actinic ray such as ultraviolet light to accelerate the curing of the image area. Examples of the light source for the entire surface exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a gallium lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, and various laser lights. Furthermore, in order to obtain sufficient printing durability, the overall exposure amount is preferably at least 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 mJ / cm 2 or more.
Heating may be performed simultaneously with the entire surface exposure, and further improvement in printing durability is recognized by heating. Examples of the heating device include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. At this time, the plate surface temperature is preferably 30 ° C to 150 ° C, more preferably 35 ° C to 130 ° C, and still more preferably 40 ° C to 120 ° C. Specifically, the method described in JP-A-2000-89478 can be used.
Further, for the purpose of improving printing durability, the developed printing plate can be heated under very strong conditions. The heating temperature is usually in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
The lithographic printing plate thus obtained is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〜21及び比較例1〜3〕
<支持体の作製>
厚さ0.3mmのアルミニウム板を10質量%水酸化ナトリウム水溶液に60℃で25秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、20質量%硝酸水溶液で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30質量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20質量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。その表面粗さを測定したところ、0.28μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
[Examples 1-21 and Comparative Examples 1-3]
<Production of support>
An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in a 10% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, neutralized with a 20% by mass nitric acid aqueous solution, and then washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by mass sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 under the condition of dm 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.28 μm (Ra display according to JIS B0601).

得られたアルミニウム板を、4g/Lのポリビニルホスホン酸を含有する40℃の水溶液に10秒間浸漬し、20℃の水道水で2秒間洗浄、乾燥することで支持体を得た。
<感光層の形成>
上記支持体上に、下記組成の感光層塗布液をバー塗布した後、90℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層を形成した。
The obtained aluminum plate was immersed in a 40 ° C. aqueous solution containing 4 g / L of polyvinylphosphonic acid for 10 seconds, washed with 20 ° C. tap water for 2 seconds, and dried to obtain a support.
<Formation of photosensitive layer>
On the support, a photosensitive layer coating solution having the following composition was bar-coated, followed by oven drying at 90 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .

(感光層塗布液)
・下記増感色素(A-1) 0.052g
・下記重合開始剤(B-1) 0.099g
・下記エチレン性不飽和化合物(C-1) 0.584g
(PLEX 6661−O、デグサジャパン(株)製)
・下記バインダーポリマー(D-1)(平均分子量4.2万) 0.389g
・一般式(I)で表される化合物 0.013g
(表1に記載の(E)成分)
・下記共増感剤(F-1) 0.047g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.466g

(顔料:15質量部、分散剤 下記ポリマー(1):10質量部、
溶剤: シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−
メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.003g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.003g
(メガファックF780、大日本インキ(株)製)
・1−メトキシ−2−プロパノール 6.63g
・メチルエチルケトン 7.38g
(Photosensitive layer coating solution)
・ The following sensitizing dye (A-1) 0.052 g
-0.099g of the following polymerization initiator (B-1)
・ The following ethylenically unsaturated compound (C-1) 0.584 g
(PLEX 6661-O, manufactured by Degussa Japan Co., Ltd.)
・ The following binder polymer (D-1) (average molecular weight: 42,000) 0.389 g
-Compound represented by general formula (I) 0.013 g
(Component (E) listed in Table 1)
-0.047g of the following co-sensitizer (F-1)
・ 0.466 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion

(Pigment: 15 parts by mass, dispersant: Polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent: cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-
(Methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
-Thermal polymerization inhibitor 0.003g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ Fluorine-based nonionic surfactant 0.003 g
(Megafuck F780, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
・ 6.63 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 7.38g

Figure 2010049107
Figure 2010049107

Figure 2010049107
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<保護層1の形成>
感光層上に、下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布量が1.0g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。
(保護層塗布液(1))
・下記雲母分散液(1) 4.18g
・スルホン酸変性ポリビニルアルコール 2.17g
(ゴーセランCKS−50、日本合成化学(株)製
[ケン化度:99モル%、平均重合度:300、変性度:約0.4モル%])
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.162g
・水 45.5g
<Formation of protective layer 1>
On the photosensitive layer, a protective layer coating solution (1) having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 1.0 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer. And a lithographic printing plate precursor was obtained.
(Protective layer coating solution (1))
・ The following mica dispersion (1) 4.18g
・ Sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol 2.17 g
(Goceran CKS-50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. [degree of saponification: 99 mol%, average degree of polymerization: 300, degree of modification: about 0.4 mol%])
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.162g
・ Water 45.5g

(雲母分散液(1)の調製)
水968gに合成雲母(ソマシフME−100、コープケミカル社製、アスペクト比:1000以上)の32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになる迄分散し、雲母分散液(1)を得た。
(Preparation of mica dispersion (1))
To 968 g of water, 32 g of synthetic mica (Somasif ME-100, manufactured by Corp Chemical Co., aspect ratio: 1000 or more) was added and dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 0.5 μm. A dispersion (1) was obtained.

(1)露光および現像
各平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光を行った。画像露光は、解像度2438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、50%の平網を、版面露光量0.05mJ/cm2で実施した。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを実施し、その後、下記現像液1〜11を表1に示す通りに各々用い、図1に示す構造の自動処理機にて、現像液中への浸漬時間(現像時間)が、20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。
(1) Exposure and development Each lithographic printing plate precursor was subjected to image exposure using a violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (equipped with InGaN semiconductor laser 405 nm ± 10 nm emission / output 30 mW) manufactured by FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was carried out at a resolution of 2438 dpi using an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., and 50% flat netting was carried out with a plate exposure of 0.05 mJ / cm 2 .
Next, preheating was performed at 100 ° C. for 30 seconds, and then each of the following developers 1 to 11 was used as shown in Table 1, and the immersion time in the developer was measured with an automatic processor having the structure shown in FIG. Development processing was carried out at a conveyance speed at which (development time) was 20 seconds.

以下に、使用した各現像液の組成を示す。各成分の量は、質量部である。   The composition of each developer used is shown below. The amount of each component is parts by mass.

Figure 2010049107
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(2)評価
<処理性>
上記の通り、自動処理機で、各々の平版印刷版原版を500m現像処理した際に、自動処理機の漕壁に付着したカスの発生状況を観察した。評価は、カスの発生がない場合○、カスが若干発生するが、許容し得る場合△、カス発生が顕著な場合×とした。結果を表1に記載する。
<着肉性>
現像後の平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを
用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。画像部に正常にインキがのり、問題のない印刷物が得られるのに要する印刷枚数を評価した。この枚数が少ないほど着肉性が良好であることを示す。結果を表1に記載する。
(2) Evaluation <Processability>
As described above, when each lithographic printing plate precursor was subjected to 500 m 2 development processing with an automatic processor, the state of occurrence of debris adhering to the wall of the automatic processor was observed. The evaluation was ◯ when no residue was generated, 若干 was slightly generated, but Δ when acceptable, and × when residue was remarkable. The results are listed in Table 1.
<Incarnation>
The developed lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (an etchant manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour. The number of printed sheets required for the ink to be properly applied to the image area and to obtain a print with no problem was evaluated. The smaller the number, the better the inking property. The results are listed in Table 1.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

〔実施例22〜42及び比較例4〜6〕
<支持体の作成>
以下の(a)〜(e)の各種表面処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
(a)厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径30μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いブラシ回転数250rpmでアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。
(b)この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
(c)次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが
0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(d)次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(e)この板を15%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。このアルミニウム板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
次に、このアルミニウム支持体表面に下記下塗り層塗布液をワイヤーバーにて塗布し、100℃10秒間乾燥した。塗布量は5mg/mであった。
[Examples 22 to 42 and Comparative Examples 4 to 6]
<Creation of support>
The following various surface treatments (a) to (e) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was removed with the nip roller.
(A) In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment is performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter is 0. The aluminum surface was grained using three .3 mm bundled nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm.sup.3) having a median diameter of 30 .mu.m at a brush rotation speed of 250 rpm, and washed thoroughly with water.
(B) This plate was etched by being immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20% nitric acid aqueous solution at 60 ° C. for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
(C) Next, an electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm @ 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
(D) Next, a 0.5% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C., with the aluminum plate serving as the anode at an electric charge of 50 C / dm 2 . Then, an electrochemical surface roughening treatment was performed in the same manner as in nitric acid electrolysis, and then water washing by spraying was performed.
(E) The plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15% sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5 mass% of aluminum ions) as an electrolyte, and then washed with water. Dried. When the center line average roughness (Ra) of this aluminum plate was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.51 μm.
Next, the following undercoat layer coating solution was applied to the surface of the aluminum support with a wire bar and dried at 100 ° C. for 10 seconds. The coating amount was 5 mg / m 2 .

(下塗り層塗布液)
・ポリビニルホスホン酸 0.024g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
(Undercoat layer coating solution)
・ Polyvinylphosphonic acid 0.024g
・ Methanol 27g
・ Ion exchange water 3g

<感光層の形成>
この下塗り層上に、下記組成の感光層塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の塗布量が1.0g/m2となるように塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で34秒間乾燥して感光層を形成した。
<Formation of photosensitive layer>
On this undercoat layer, a photosensitive layer coating solution having the following composition was applied using a wire bar so that the coating amount after drying was 1.0 g / m 2, and the temperature was set at 34 ° C. at 115 ° C. using a hot air dryer. The photosensitive layer was formed by drying for 2 seconds.

(感光層塗布液)
・下記増感色素(A-2) 0.024g
・下記重合開始剤(B-2) 0.064g
・下記重合開始剤(B-3) 0.094g
・下記エチレン性不飽和化合物(C-2) 0.327g
(A-BPE-4、新中村化学工業(株)製)
・下記バインダーポリマー(D-2)(平均分子量10万) 0.327g
・一般式(I)で表される化合物 0.010g
(表1に記載の(E)成分
・上記共増感剤(F-1) 0.023g
・下記共増感剤(F-2) 0.074g
・銅フタロシアニン顔料 0.071g
・熱重合禁止剤 0.001g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.003g
(メガファックF780、大日本インキ(株)製)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.074g
・メチルエチルケトン 3.224g
・メタノール 1.675g
(Photosensitive layer coating solution)
-0.024g of the following sensitizing dye (A-2)
-0.064 g of the following polymerization initiator (B-2)
-0.094g of the following polymerization initiator (B-3)
・ The following ethylenically unsaturated compound (C-2) 0.327 g
(A-BPE-4, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ The following binder polymer (D-2) (average molecular weight 100,000) 0.327 g
-Compound represented by general formula (I) 0.010 g
(Component (E) described in Table 1) 0.023 g of the above-mentioned co-sensitizer (F-1)
・ The following co-sensitizer (F-2) 0.074g
・ Copper phthalocyanine pigment 0.071g
-Thermal polymerization inhibitor 0.001g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ Fluorine-based nonionic surfactant 0.003 g
(Megafuck F780, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
・ 3.074 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 3.224g
・ Methanol 1.675g

Figure 2010049107
Figure 2010049107

<保護層2の形成>
感光層上に、下記組成よりなる保護層塗布液(2)を、乾燥塗布量が1.37g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。
(保護層塗布液(2))
・上記雲母分散液 3.258g
・スルホン酸変性ポリビニルアルコール 1.307g
(ゴーセランCKS−50、日本合成化学(株)製)
・ポリビニルアルコール 0.327g
(PVA405、(株)クラレ製)
・ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体 0.045g
(Luvitec VA64W、BASF製)
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.032g
・水 25.48g
<Formation of protective layer 2>
A protective layer coating solution (2) having the following composition was applied on the photosensitive layer using a bar so that the dry coating amount was 1.37 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to protect the protective layer. And a lithographic printing plate precursor was obtained.
(Protective layer coating solution (2))
-3.258 g of the above mica dispersion
・ Sulphonic acid-modified polyvinyl alcohol 1.307 g
(Goceran CKS-50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl alcohol 0.327g
(PVA405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
-Vinylpyrrolidone / vinyl acetate copolymer 0.045g
(Luvitec VA64W, manufactured by BASF)
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.032g
・ Water 25.48g

各平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、解像度175lpiの80%平網画像を、出力8W、外面ドラム回転数206rpm、版面エネルギー100mJ/cm2で露光した。露光後プレヒートは行わずに、現像液1〜11を表2に示す通りに各々用い、図1に示す構造の自動処理機にて、現像液中への浸漬時間(現像時間)が、20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。
処理性、着肉性について実施例1と同様に評価した。評価結果を表2に示す。
Each lithographic printing plate precursor was exposed with a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser, and an 80% flat screen image with a resolution of 175 lpi, an output of 8 W, an outer drum rotation speed of 206 rpm, and a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 . did. Without preheating after exposure, each of Developers 1 to 11 was used as shown in Table 2, and the immersion time (development time) in the developer was 20 seconds with the automatic processor having the structure shown in FIG. Development processing was carried out at a conveying speed of
The processability and the inking property were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2010049107
Figure 2010049107

表1、2の結果から明らかなように、支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、バインダーポリマー、および一般式(I)で表される化合物を含有する感光層を有する平版印刷版原版を画像露光後、1液処理する本発明の平版印刷版の作製方法は、処理性に優れており、また着肉性に優れた平版印刷版を得ることができる。
これに対して、一般式(I)で表される化合物を含まない場合(比較例1及び4)あるいは一般式(I)のR 1の炭素数が本発明の範囲外で少ない場合(比較例2及び5)は着肉性に劣り、一般式(I)のR 1の炭素数が本発明の範囲外で多い場合(比較例3及び6)は処理性に劣っている。
As is clear from the results of Tables 1 and 2, the support has a photosensitive layer containing a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, a binder polymer, and a compound represented by the general formula (I). The method for preparing a lithographic printing plate of the present invention in which the lithographic printing plate precursor is subjected to one-liquid treatment after image exposure is excellent in processability, and a lithographic printing plate having excellent inking properties can be obtained.
On the other hand, when the compound represented by the general formula (I) is not included (Comparative Examples 1 and 4) or when the carbon number of R 1 in the general formula (I) is small outside the scope of the present invention (Comparative Example) 2 and 5) have poor inking properties, and when the number of carbon atoms of R 1 in the general formula (I) is large outside the scope of the present invention (Comparative Examples 3 and 6), the processing properties are inferior.

自動処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic processor.

符号の説明Explanation of symbols

4 平版印刷版原版
6 現像部
10 乾燥部
16 搬送ローラ
20 現像槽
22 搬送ローラ
24 ブラシローラ
26 スクイズローラ
28 バックアップローラ
36 ガイドローラ
38 串ローラ
4 Planographic printing plate precursor 6 Developing unit 10 Drying unit 16 Transport roller 20 Developing tank 22 Transport roller 24 Brush roller 26 Squeeze roller 28 Backup roller 36 Guide roller 38 Skewer roller

Claims (7)

(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)バインダーポリマー、および(E)下記一般式(I)で表される化合物を含有する感光層を支持体上に有する平版印刷版原版を画像露光後、1液処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
1 −X 一般式(I)
(式中、R 1 は、総炭素数8〜32の炭化水素基を示す。Xは、−CO−Y−R 2 、−Y−CO−R 2 、−NH−CO−Y−R 2 、−O−CO−NH−R 2 、−NH−CO−NH−R 2 、−SO 2 −Y−R 2 、−Y−SO 2 −R 2 、−O−SO 2 −R 2 、−CO−O−CO−R 2 または−Y−R 3 を示す。Yは、−O−、−S−、−NR 4
−または単結合を示す。ただし、Xが−Y−R 3 の時、Yは単結合ではない。R 2 、R 3及びR 4 は、それぞれ水素原子または総炭素数20以下の炭化水素基を示す。)
(A) A sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a binder polymer, and (E) a photosensitive layer containing a compound represented by the following general formula (I). A method for preparing a lithographic printing plate, comprising subjecting the lithographic printing plate precursor provided thereon to a one-liquid treatment after image exposure.
R 1 —X Formula (I)
(In the formula, R 1 represents a hydrocarbon group having 8 to 32 carbon atoms in total. X represents —CO—Y—R 2 , —Y—CO—R 2 , —NH—CO—Y—R 2 , -O-CO-NH-R 2 , -NH-CO-NH-R 2, -SO 2 -Y-R 2, -Y-SO 2 -R 2, -O-SO 2 -R 2, -CO- Represents O—CO—R 2 or —Y—R 3 , wherein Y represents —O—, —S—, —NR 4;
-Or a single bond. However, when X is —Y—R 3 , Y is not a single bond. R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a total carbon number of 20 or less. )
前記平版印刷版原版が、感光層上に保護層を有することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor has a protective layer on the photosensitive layer. 前記保護層が酸変性ポリビニルアルコールを含有することを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for producing a lithographic printing plate according to claim 2, wherein the protective layer contains acid-modified polyvinyl alcohol. 前記1液処理における処理液が、炭酸イオン、炭酸水素イオン、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物を含有する水溶液であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   The treatment liquid in the one-liquid treatment is an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions, a surfactant, and / or a water-soluble polymer compound. A method for preparing a lithographic printing plate. 前記1液処理における処理液が、界面活性剤及び/又は水溶性高分子化合物を含有し、pHが8.5〜10.8の水溶液であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   The treatment liquid in the one-liquid treatment is an aqueous solution containing a surfactant and / or a water-soluble polymer compound and having a pH of 8.5 to 10.8. 2. A method for producing a lithographic printing plate as described in item 1. 前記(D)バインダーポリマーが、側鎖に酸基を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the (D) binder polymer has an acid group in a side chain. 前記酸基が、カルボン酸基であることを特徴とする請求項6に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for producing a lithographic printing plate according to claim 6, wherein the acid group is a carboxylic acid group.
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