JP5170406B2 - Light emitting device - Google Patents

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Description

本発明は、発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device.

近年、プロジェクタやディスプレイなどの表示装置の光源用の発光装置として、高輝度で色再現性に優れたレーザ装置が期待されている。しかしながら、スクリーン面での乱反射光が相互に干渉して発生するスペックルノイズが問題となることがある。この問題に対しては、例えば下記特許文献1では、スクリーンを揺動させてスペックルパターンを変化させることでスペックルノイズを低減させる方法が提案されている。
特開平11−64789号公報
In recent years, a laser device having high luminance and excellent color reproducibility is expected as a light emitting device for a light source of a display device such as a projector or a display. However, speckle noise generated by irregularly reflected light on the screen surface may be a problem. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2004-228620 proposes a method for reducing speckle noise by changing the speckle pattern by swinging the screen.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-64789

しかしながら、上記特許文献1に開示された方法では、スクリーンが限定されてしまう、スクリーンを動かすためのモーター等の部材が必要になってしまう、モーター等から雑音が発生してしまう、などの新たな問題が発生する場合がある。   However, in the method disclosed in Patent Document 1, the screen is limited, a member such as a motor for moving the screen is required, and noise is generated from the motor or the like. Problems may occur.

また、スペックルノイズを低減させるために、光源用の発光装置として、一般的なLED(Light Emitting Diode)を用いることも考えられる。しかしながら、LEDでは、十分な光出力を得られないことがある。   In order to reduce speckle noise, it is also conceivable to use a general LED (Light Emitting Diode) as a light emitting device for a light source. However, there are cases where a sufficient light output cannot be obtained with an LED.

本発明の目的の1つは、スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光素子を有する発光装置を提供することにある。   One object of the present invention is to provide a light-emitting device having a novel light-emitting element that can reduce speckle noise and has high output.

本発明に係る発光装置は、
実装モジュールと、
前記実装モジュールの上方に実装された発光素子と、
を含み、
前記発光素子は、
クラッド層と、
前記クラッド層の上方に形成された活性層と、
前記活性層の上方に形成された他のクラッド層と、
を有し、
前記活性層のうちの少なくとも一部は、利得領域を構成し、
前記利得領域は、平面的に見て、前記活性層の第1側面から第2側面まで、前記第1側面の垂線に対して傾いた方向に向かって設けられ、
前記実装モジュールは、
前記利得領域の前記第1側面側の第1端面から出射される第1出射光を、前記発光素子の上側に向けて反射させる第1反射面と、
前記利得領域の前記第2側面側の第2端面から出射される第2出射光を、前記発光素子の上側に向けて反射させる第2反射面と、
を有する。
The light emitting device according to the present invention is
Mounting module;
A light emitting device mounted above the mounting module;
Including
The light emitting element is
A cladding layer;
An active layer formed above the cladding layer;
Another cladding layer formed above the active layer;
Have
At least a part of the active layer constitutes a gain region,
The gain region is provided in a direction inclined with respect to a normal to the first side surface from the first side surface to the second side surface of the active layer in a plan view.
The mounting module is
A first reflecting surface that reflects the first emitted light emitted from the first end surface on the first side surface side of the gain region toward the upper side of the light emitting element;
A second reflecting surface that reflects the second emitted light emitted from the second end surface on the second side surface of the gain region toward the upper side of the light emitting element;
Have

本発明に係る発光装置の有する発光素子では、後述するように、前記利得領域に生じる光のレーザ発振を抑制または防止することができる。従って、スペックルノイズを低減させることができる。さらに、本発明に係る発光装置では、前記利得領域に生じる光は、該利得領域内において利得を受けながら進行して、外部に出射されることができる。従って、従来の一般的なLEDよりも高い出力を得ることができる。以上のように、本発明によれば、スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光素子を有する発光装置を提供することができる。   In the light emitting element included in the light emitting device according to the present invention, as will be described later, laser oscillation of light generated in the gain region can be suppressed or prevented. Therefore, speckle noise can be reduced. Furthermore, in the light emitting device according to the present invention, the light generated in the gain region can travel while receiving a gain in the gain region and be emitted to the outside. Therefore, it is possible to obtain a higher output than conventional general LEDs. As described above, according to the present invention, it is possible to provide a light-emitting device having a novel light-emitting element that can reduce speckle noise and has high output.

なお、本発明に係る記載では、「上方」という文言を、例えば、「特定の部材(以下「A部材」という)の「上方」に形成された他の特定の部材(以下「B部材」という)」などと用いている。本発明に係る記載では、この例のような場合に、A部材上に直接B部材が形成されているような場合と、A部材上に他の部材を介してB部材が形成されているような場合とが含まれるものとして、「上方」という文言を用いている。   In the description of the present invention, the word “upper” is referred to as, for example, another specific member (hereinafter referred to as “B member”) formed “above” a “specific member (hereinafter referred to as“ A member ”). ) "Etc. In the description according to the present invention, in this case, the B member is formed directly on the A member, and the B member is formed on the A member via another member. The word “above” is used as a case where the case is included.

本発明に係る発光装置において、
前記第1反射面による第1反射光の進む向きと、前記第2反射面による第2反射光の進む向きとは、同じであることができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The traveling direction of the first reflected light by the first reflecting surface and the traveling direction of the second reflected light by the second reflecting surface can be the same.

本発明に係る発光装置において、
前記第1反射光の進む向き、および、前記第2反射光の進む向きは、前記活性層の上面に対して垂直上向きであることができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The traveling direction of the first reflected light and the traveling direction of the second reflected light may be vertically upward with respect to the upper surface of the active layer.

本発明に係る発光装置において、
前記第1出射光の進む向きは、平面的に見て、前記活性層の上面に平行な面と前記第1反射面との交線に対して直角を成し、
前記第2出射光の進む向きは、平面的に見て、前記活性層の上面に平行な面と前記第2反射面との交線に対して直角を成すことができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The direction in which the first emitted light travels is perpendicular to the line of intersection between the surface parallel to the upper surface of the active layer and the first reflecting surface when viewed in a plane.
The traveling direction of the second emitted light may be perpendicular to the line of intersection between the surface parallel to the upper surface of the active layer and the second reflecting surface in plan view.

本発明に係る発光装置において、
前記利得領域では、前記第1側面側から平面的に見て、前記第1端面と前記第2端面とは重なっていないことができる。
In the light emitting device according to the present invention,
In the gain region, the first end surface and the second end surface may not overlap each other when viewed in plan from the first side surface side.

本発明に係る発光装置において、
前記クラッド層に電気的に接続された電極と、
前記他のクラッド層に電気的に接続された他の電極と、
を有することができる。
In the light emitting device according to the present invention,
An electrode electrically connected to the cladding layer;
Another electrode electrically connected to the other cladding layer;
Can have.

なお、本発明に係る記載では、「電気的に接続」という文言を、例えば、「特定の部材(以下「C部材」という)に「電気的に接続」された他の特定の部材(以下「D部材」という)」などと用いている。本発明に係る記載では、この例のような場合に、C部材とD部材とが、直接接して電気的に接続されているような場合と、C部材とD部材とが、他の部材を介して電気的に接続されているような場合とが含まれるものとして、「電気的に接続」という文言を用いている。   In the description according to the present invention, the phrase “electrically connected” is used as, for example, another specific member (hereinafter “electrically connected” to “specific member (hereinafter referred to as“ C member ”)”. It is used as "D member"). In the description according to the present invention, in the case of this example, the case where the C member and the D member are directly connected and electrically connected, and the C member and the D member are the other members. The term “electrically connected” is used as a case where the case where the terminals are electrically connected to each other is included.

本発明に係る発光装置において、
前記利得領域は、複数設けられ、
複数の前記利得領域の前記第1端面に対する前記第1反射面の各々は、全体として1つの平面を構成し、
前記複数の利得領域の前記第2端面に対する前記第2反射面の各々は、全体として1つの平面を構成することができる。
In the light emitting device according to the present invention,
A plurality of the gain regions are provided,
Each of the first reflecting surfaces with respect to the first end surface of the plurality of gain regions constitutes one plane as a whole,
Each of the second reflecting surfaces with respect to the second end surface of the plurality of gain regions may constitute one plane as a whole.

本発明に係る発光装置において、
前記利得領域は、複数設けられ、
複数の前記利得領域の前記第1端面に対する前記第1反射面の各々は、前記第1出射光の前記第1端面から前記第1反射面までの光路長が同じになる位置に設けられ、
前記複数の利得領域の前記第2端面に対する前記第2反射面の各々は、前記第2出射光の前記第2端面から前記第2反射面までの光路長が同じになる位置に設けられていることができる。
In the light emitting device according to the present invention,
A plurality of the gain regions are provided,
Each of the first reflecting surfaces with respect to the first end surface of the plurality of gain regions is provided at a position where the optical path lengths from the first end surface of the first emitted light to the first reflecting surface are the same,
Each of the second reflective surfaces with respect to the second end surface of the plurality of gain regions is provided at a position where the optical path lengths from the second end surface to the second reflective surface of the second emitted light are the same. be able to.

本発明に係る発光装置において、
前記第1反射面および前記第2反射面の各々の反射率は、50%より高く、100%以下であることができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The reflectivity of each of the first reflective surface and the second reflective surface may be higher than 50% and 100% or lower.

本発明に係る発光装置において、
前記実装モジュールは、前記発光素子を支持する支持部材を有し、
前記支持部材の熱伝導率は、前記発光素子の熱伝導率よりも高いことができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The mounting module has a support member that supports the light emitting element,
The support member may have a thermal conductivity higher than that of the light emitting device.

本発明に係る発光装置において、
前記活性層は、前記発光素子のうちの前記実装モジュール側に設けられていることができる。
In the light emitting device according to the present invention,
The active layer may be provided on the mounting module side of the light emitting element.

本発明に係る発光装置において、
前記発光素子を封止する封止部材を含み、
前記第1反射光および前記第2反射光は、前記封止部材を透過することができる。
In the light emitting device according to the present invention,
Including a sealing member for sealing the light emitting element,
The first reflected light and the second reflected light can pass through the sealing member.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。   Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

1. 第1の実施形態
1.1. まず、第1の実施形態に係る発光装置1000について説明する。
1. 1. First embodiment 1.1. First, the light emitting device 1000 according to the first embodiment will be described.

図1は、発光装置1000を概略的に示す平面図であり、図2は、図1のII−II線断面図であり、図3は、図1のIII−III線断面図である。なお、図1及び図3では、封止部材148については、便宜上、その図示を省略している。また、図2では、便宜上、発光素子100を簡略化して示してある。   1 is a plan view schematically showing the light emitting device 1000, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 1 and 3, the sealing member 148 is not shown for convenience. In FIG. 2, the light emitting element 100 is simplified for convenience.

発光装置1000は、図1〜図3に示すように、実装モジュール160と、発光素子100と、を含む。発光装置1000は、さらに、例えば、絶縁部材146と、端子144と、第1接続部材142と、第2接続部材143と、封止部材148と、を含むことができる。なお、ここでは、発光素子100がInGaAlP系(赤色)の半導体発光素子である場合について説明する。   As illustrated in FIGS. 1 to 3, the light emitting device 1000 includes a mounting module 160 and a light emitting element 100. The light emitting device 1000 can further include, for example, an insulating member 146, a terminal 144, a first connection member 142, a second connection member 143, and a sealing member 148. Here, a case where the light emitting element 100 is an InGaAlP-based (red) semiconductor light emitting element will be described.

発光素子100は、実装モジュール160の上に実装されている。発光素子100は、図1〜図3に示すように、クラッド層(以下「第1クラッド層」という)110と、その上に形成された活性層108と、その上に形成されたクラッド層(以下「第2クラッド層」という)106と、を有する。発光素子100は、さらに、例えば、基板102と、バッファ層104と、コンタクト層112と、電極(以下「第1電極」という)122と、電極(以下「第2電極」という)120と、を有することができる。   The light emitting element 100 is mounted on the mounting module 160. As shown in FIGS. 1 to 3, the light emitting device 100 includes a clad layer (hereinafter referred to as “first clad layer”) 110, an active layer 108 formed thereon, and a clad layer ( (Hereinafter referred to as “second cladding layer”) 106. The light emitting element 100 further includes, for example, a substrate 102, a buffer layer 104, a contact layer 112, an electrode (hereinafter referred to as “first electrode”) 122, and an electrode (hereinafter referred to as “second electrode”) 120. Can have.

基板102としては、例えば、第1導電型(例えばn型)のGaAs基板などを用いることができる。   As the substrate 102, for example, a first conductivity type (for example, n-type) GaAs substrate or the like can be used.

バッファ層104は、例えば図3に示すように、基板102下に形成されていることができる。バッファ層104は、例えば、後述するエピタキシャル成長工程において(図5参照)、バッファ層104の上方に形成される層の結晶性を向上させることができる。バッファ層104としては、例えば、基板102よりも結晶性の良好な(例えば欠陥密度の低い)第1導電型(n型)のGaAs層、InGaP層などを用いることができる。   The buffer layer 104 can be formed under the substrate 102 as shown in FIG. 3, for example. The buffer layer 104 can improve the crystallinity of a layer formed above the buffer layer 104, for example, in an epitaxial growth step described later (see FIG. 5). As the buffer layer 104, for example, a first conductivity type (n-type) GaAs layer, InGaP layer, or the like having better crystallinity (for example, lower defect density) than the substrate 102 can be used.

第2クラッド層106は、バッファ層104下に形成されている。第2クラッド層106は、例えば、第1導電型の半導体からなる。第2クラッド層106としては、例えばn型AlGaP層などを用いることができる。   The second cladding layer 106 is formed under the buffer layer 104. The second cladding layer 106 is made of, for example, a first conductivity type semiconductor. As the second cladding layer 106, for example, an n-type AlGaP layer can be used.

活性層108は、第2クラッド層106下に形成されている。活性層108は、例えば、発光素子100のうちの実装モジュール160側に設けられている。即ち、活性層108は、例えば、発光素子100のうち、厚さ方向の中間よりも下側(基板102側とは反対側)に設けられている。活性層108は、例えば、InGaPウェル層とInGaAlPバリア層とから構成される量子井戸構造を3つ重ねた多重量子井戸(MQW)構造を有する。   The active layer 108 is formed under the second cladding layer 106. The active layer 108 is provided on the mounting module 160 side of the light emitting element 100, for example. In other words, the active layer 108 is provided, for example, on the light emitting element 100 below the middle in the thickness direction (on the side opposite to the substrate 102 side). The active layer 108 has, for example, a multiple quantum well (MQW) structure in which three quantum well structures each composed of an InGaP well layer and an InGaAlP barrier layer are stacked.

活性層108の一部は、利得領域180を構成している。利得領域180には、光を生じさせることができ、この光は、利得領域180内で利得を受けることができる。活性層108の形状は、例えば直方体(立方体である場合を含む)などである。活性層108は、図1に示すように、第1側面107及び第2側面109を有する。第1側面107と第2側面109とは、例えば対向しており、例えば平行である。   A part of the active layer 108 constitutes a gain region 180. The gain region 180 can generate light, and this light can receive gain within the gain region 180. The shape of the active layer 108 is, for example, a rectangular parallelepiped (including a cube). The active layer 108 has a first side surface 107 and a second side surface 109 as shown in FIG. The first side surface 107 and the second side surface 109 face each other, for example, and are parallel, for example.

利得領域180は、平面的に見て(図1参照)、第1側面107から第2側面109まで、第1側面107の垂線Pに対して傾いた方向に向かって設けられている。これにより、利得領域180に生じる光のレーザ発振を抑制または防止することができる。なお、利得領域180が、ある方向に向かって設けられている場合とは、当該方向が、平面的に見て、利得領域180の第1側面107側の第1端面170の中心と、第2側面109側の第2端面172の中心とを結ぶ方向に一致する場合をいう。   The gain region 180 is provided from the first side surface 107 to the second side surface 109 in a direction inclined with respect to the normal line P of the first side surface 107 when viewed in plan (see FIG. 1). Thereby, laser oscillation of light generated in the gain region 180 can be suppressed or prevented. Note that the case where the gain region 180 is provided in a certain direction means that the direction corresponds to the center of the first end surface 170 on the first side face 107 side of the gain region 180 and the second direction when viewed in plan. This refers to the case where it coincides with the direction connecting the center of the second end surface 172 on the side surface 109 side.

図4は、図1〜図3の例における活性層108を第1側面107側から平面的に見た図である。本実施形態に係る利得領域180では、図4に示すように、第1側面107側の第1端面170と、第2側面109側の第2端面172とは、重なっていない。これにより、利得領域180に生じる光を、第1端面170と第2端面172との間で、直接的に多重反射させないことができる。その結果、直接的な共振器を構成させないことができるため、利得領域180に生じる光のレーザ発振をより確実に抑制または防止することができる。従って、発光素子100は、レーザ光ではない光を発することができる。なお、この場合には、図4に示すように、利得領域180において、第1端面170と、第2端面172とのずれ幅xが正の値であれば良い。   FIG. 4 is a plan view of the active layer 108 in the example of FIGS. 1 to 3 as seen from the first side face 107 side. In the gain region 180 according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, the first end surface 170 on the first side surface 107 side and the second end surface 172 on the second side surface 109 side do not overlap. As a result, light generated in the gain region 180 can be prevented from being directly subjected to multiple reflection between the first end surface 170 and the second end surface 172. As a result, since a direct resonator cannot be formed, laser oscillation of light generated in the gain region 180 can be more reliably suppressed or prevented. Therefore, the light emitting element 100 can emit light that is not laser light. In this case, as shown in FIG. 4, the shift width x between the first end face 170 and the second end face 172 may be a positive value in the gain region 180.

また、図示の例では、図1に示すように、利得領域180の第1端面170の幅aは、第2端面172の幅bと同じであるが、異なっていても良い。利得領域180の平面形状は、例えば図1に示すような平行四辺形などである。   In the illustrated example, as shown in FIG. 1, the width a of the first end face 170 of the gain region 180 is the same as the width b of the second end face 172, but may be different. The planar shape of the gain region 180 is, for example, a parallelogram as shown in FIG.

第1クラッド層110は、活性層108下に形成されている。第1クラッド層110は、例えば第2導電型(例えばp型)の半導体からなる。第1クラッド層110としては、例えばp型AlGaP層などを用いることができる。   The first cladding layer 110 is formed under the active layer 108. The first cladding layer 110 is made of, for example, a second conductivity type (eg, p-type) semiconductor. As the first cladding layer 110, for example, a p-type AlGaP layer can be used.

例えば、p型の第1クラッド層110、不純物がドーピングされていない活性層108、及びn型の第2クラッド層106により、pinダイオードが構成される。第1クラッド層110及び第2クラッド層106の各々は、活性層108よりも禁制帯幅が大きく、屈折率が小さい層である。活性層108は、光を増幅する機能を有する。第1クラッド層110及び第2クラッド層106は、活性層108を挟んで、注入キャリア(電子および正孔)並びに光を閉じ込める機能を有する。   For example, the p-type first cladding layer 110, the active layer 108 not doped with impurities, and the n-type second cladding layer 106 constitute a pin diode. Each of the first cladding layer 110 and the second cladding layer 106 is a layer having a larger forbidden band width and a smaller refractive index than the active layer 108. The active layer 108 has a function of amplifying light. The first cladding layer 110 and the second cladding layer 106 have a function of confining injected carriers (electrons and holes) and light with the active layer 108 interposed therebetween.

コンタクト層112は、例えば図3に示すように、第1クラッド層110下に形成されていることができる。コンタクト層112としては、第1電極122とオーミックコンタクトする層を用いることができる。コンタクト層112は、例えば第2導電型の半導体からなる。コンタクト層112としては、例えばp型GaAs層などを用いることができる。   The contact layer 112 can be formed under the first cladding layer 110, for example, as shown in FIG. As the contact layer 112, a layer in ohmic contact with the first electrode 122 can be used. The contact layer 112 is made of, for example, a second conductivity type semiconductor. As the contact layer 112, for example, a p-type GaAs layer can be used.

第1電極122は、コンタクト層112下に形成されている。第1電極122は、コンタクト層112を介して、第1クラッド層110と電気的に接続されている。第1電極122は、発光素子100を駆動するための一方の電極である。第1電極122としては、例えば、コンタクト層112側からCr層、AuZn層、Au層の順序で積層したものなどを用いることができる。第1電極122の上面は、利得領域180と同様の平面形状を有している。図示の例では、第1電極122とコンタクト層112との接触面の平面形状によって、電極122,120間の電流経路が決定され、その結果、利得領域180の平面形状が決定されることができる。なお、図示しないが、例えば、第2電極120と基板102との接触面が、利得領域180と同じ平面形状を有していても良い。   The first electrode 122 is formed under the contact layer 112. The first electrode 122 is electrically connected to the first cladding layer 110 via the contact layer 112. The first electrode 122 is one electrode for driving the light emitting element 100. As the first electrode 122, for example, a layer in which a Cr layer, an AuZn layer, and an Au layer are stacked in this order from the contact layer 112 side can be used. The upper surface of the first electrode 122 has a planar shape similar to that of the gain region 180. In the illustrated example, the current path between the electrodes 122 and 120 is determined by the planar shape of the contact surface between the first electrode 122 and the contact layer 112, and as a result, the planar shape of the gain region 180 can be determined. . Although not shown, for example, the contact surface between the second electrode 120 and the substrate 102 may have the same planar shape as the gain region 180.

第2電極120は、基板102の上の全面に形成されている。第2電極120は、該第2電極120とオーミックコンタクトする層(図示の例では基板102)と接していることができる。第2電極120は、基板102及びバッファ層104を介して、第2クラッド層106と電気的に接続されている。第2電極120は、発光素子100を駆動するための他方の電極である。第2電極120としては、例えば、基板102側からCr層、AuGe層、Ni層、Au層の順序で積層したものなどを用いることができる。なお、第2クラッド層106とバッファ層104との間に、第2コンタクト層(図示せず)を設け、ドライエッチングなどにより該第2コンタクト層の第2クラッド層106側を露出させ、第2電極120を第2コンタクト層下に設けることもできる。これにより、片面電極構造を得ることができる。第2コンタクト層としては、例えばn型GaAs層などを用いることができる。また、図示しないが、例えば、エピタキシャルリフトオフ(ELO)法、レーザリフトオフ法などを用いて、基板102とその下に設けられた部材とを切り離すことができる。即ち、発光素子100は、基板102を有しないこともできる。この場合には、例えばバッファ層104の直接上に第2電極120を形成することができる。   The second electrode 120 is formed on the entire surface of the substrate 102. The second electrode 120 can be in contact with a layer that is in ohmic contact with the second electrode 120 (the substrate 102 in the illustrated example). The second electrode 120 is electrically connected to the second cladding layer 106 through the substrate 102 and the buffer layer 104. The second electrode 120 is the other electrode for driving the light emitting element 100. As the second electrode 120, for example, a layer in which a Cr layer, an AuGe layer, a Ni layer, and an Au layer are stacked in this order from the substrate 102 side can be used. In addition, a second contact layer (not shown) is provided between the second cladding layer 106 and the buffer layer 104, and the second cladding layer 106 side of the second contact layer is exposed by dry etching or the like. The electrode 120 can also be provided under the second contact layer. Thereby, a single-sided electrode structure can be obtained. For example, an n-type GaAs layer can be used as the second contact layer. Although not shown, the substrate 102 and a member provided thereunder can be separated using, for example, an epitaxial lift-off (ELO) method, a laser lift-off method, or the like. That is, the light emitting element 100 may not have the substrate 102. In this case, for example, the second electrode 120 can be formed directly on the buffer layer 104.

発光素子100では、第1電極122と第2電極120との間に、pinダイオードの順バイアス電圧を印加すると、活性層108の利得領域180において電子と正孔との再結合が起こる。この再結合により発光が生じる。この生じた光を起点として、連鎖的に誘導放出が起こり、利得領域180内を光が進行し、その間に光強度が増幅され、第1端面170から第1出射光L1として出射され、第2端面172から第2出射光L2として出射されることができる。第1出射光L1及び第2出射光L2は、例えば、光の屈折により、第1側面107の垂線Pに対する利得領域180の傾きよりも、さらに傾いた方向に出射されることができる。   In the light emitting element 100, when a forward bias voltage of a pin diode is applied between the first electrode 122 and the second electrode 120, recombination of electrons and holes occurs in the gain region 180 of the active layer 108. This recombination causes light emission. Starting from this generated light, stimulated emission occurs in a chain, the light travels in the gain region 180, the light intensity is amplified in the meantime, and is emitted from the first end face 170 as the first outgoing light L1, and the second The light can be emitted from the end surface 172 as the second emitted light L2. The first emitted light L1 and the second emitted light L2 can be emitted in a direction further inclined than the inclination of the gain region 180 with respect to the perpendicular P of the first side surface 107, for example, due to light refraction.

実装モジュール160は、図1及び図2に示すように、第1反射面162と、第2反射面164と、を有する。実装モジュール160は、さらに、例えば、第1支持部材140と、第2支持部材141と、反射部163と、を有することができる。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, the mounting module 160 includes a first reflecting surface 162 and a second reflecting surface 164. The mounting module 160 can further include, for example, a first support member 140, a second support member 141, and a reflection portion 163.

第1反射面162は、図2に示すように、第1出射光L1を、発光素子100の上側に向けて反射させることができる。同様に、第2反射面164は、第2出射光L2を、発光素子100の上側に向けて反射させることができる。第1出射光L1は、第1反射面162により反射され、第1反射光L3として、例えば、活性層108の上面に対して垂直上向き(図1のZ方向)に進むことができる。第1出射光L1の進む向きと、第1反射光L3の進む向きとは、例えば直角を成している。同様に、第2出射光L2は、第2反射面164により反射され、第2反射光L4として、例えば、活性層108の上面に対して垂直上向きに進むことができる。第2出射光L2の進む向きと、第2反射光L4の進む向きとは、例えば直角を成している。また、例えば図示の例では、第1反射面162による第1反射光L3の進む向きと、第2反射面164による第2反射光L4の進む向きとは、同じである。第1反射面162の第1出射光L1に対する反射率は、50%より高く、100%以下であることが好ましい。同様に、第2反射面164の第2出射光L2に対する反射率は、50%より高く、100%以下であることが好ましい。   As shown in FIG. 2, the first reflecting surface 162 can reflect the first emitted light L <b> 1 toward the upper side of the light emitting element 100. Similarly, the second reflecting surface 164 can reflect the second emitted light L2 toward the upper side of the light emitting element 100. The first emitted light L1 is reflected by the first reflecting surface 162, and can travel, for example, vertically upward (Z direction in FIG. 1) with respect to the upper surface of the active layer 108 as the first reflected light L3. The direction in which the first emitted light L1 travels and the direction in which the first reflected light L3 travels form, for example, a right angle. Similarly, the second emitted light L2 is reflected by the second reflecting surface 164, and can travel vertically upward as the second reflected light L4 with respect to the upper surface of the active layer 108, for example. The direction in which the second emitted light L2 travels and the direction in which the second reflected light L4 travels form, for example, a right angle. Further, for example, in the illustrated example, the traveling direction of the first reflected light L3 by the first reflecting surface 162 and the traveling direction of the second reflected light L4 by the second reflecting surface 164 are the same. The reflectance of the first reflecting surface 162 with respect to the first outgoing light L1 is preferably higher than 50% and not higher than 100%. Similarly, the reflectance of the second reflecting surface 164 with respect to the second emitted light L2 is preferably higher than 50% and not higher than 100%.

第1出射光L1の進む向きは、例えば、図1に示すように、活性層108の上面に平行な面(X−Y平面)と第1反射面162との交線Vに対して直角を成している。同様に、第2出射光L2の進む向きは、例えば、活性層108の上面に平行な面と第2反射面164との交線Wに対して直角を成している。   For example, as shown in FIG. 1, the traveling direction of the first emitted light L <b> 1 is perpendicular to an intersection line V between a plane parallel to the upper surface of the active layer 108 (XY plane) and the first reflecting surface 162. It is made. Similarly, the traveling direction of the second outgoing light L2 is, for example, perpendicular to the intersecting line W between the surface parallel to the upper surface of the active layer 108 and the second reflecting surface 164.

第1支持部材140は、例えば、第2支持部材141を介して、間接的に発光素子100を支持することができる。第1支持部材140としては、例えば、板状(直方体形状)の部材に凹部145を設けたものを用いることができる。凹部145の側面は、水平方向(図1のX−Y方向)に対して、例えば45度傾いていることができる。凹部145の側面の数は、例えば4つである。例えば凹部145の4つの側面により、発光素子100は囲まれている。   For example, the first support member 140 can indirectly support the light emitting element 100 via the second support member 141. As the 1st support member 140, what provided the recessed part 145 in the plate-shaped (cuboid shape) member can be used, for example. The side surface of the recess 145 can be inclined, for example, 45 degrees with respect to the horizontal direction (the XY direction in FIG. 1). The number of side surfaces of the recess 145 is, for example, four. For example, the light emitting element 100 is surrounded by four side surfaces of the recess 145.

第2支持部材(サブマウント)141は、例えば、直接的に発光素子100を支持することができる。第2支持部材141は、図1〜図3に示すように、第1支持部材140の凹部145の底面の上に形成されている。第2支持部材141上には、発光素子100が形成されている。第2支持部材141としては、例えば、板状の部材を用いることができる。なお、例えば、第2支持部材141を設けずに、第1支持部材140が直接的に発光素子100を支持することもできる。   The second support member (submount) 141 can directly support the light emitting element 100, for example. As shown in FIGS. 1 to 3, the second support member 141 is formed on the bottom surface of the concave portion 145 of the first support member 140. The light emitting element 100 is formed on the second support member 141. As the second support member 141, for example, a plate-like member can be used. For example, the first support member 140 may directly support the light emitting element 100 without providing the second support member 141.

第1支持部材140の熱伝導率は、例えば、第2支持部材141の熱伝導率よりも高く、第2支持部材141の熱伝導率は、例えば、発光素子100の熱伝導率よりも高い。支持部材140,141の各々の熱伝導率は、例えば140W/mK以上である。支持部材140,141の各々は、例えば、Cu、Al、Mo、W、Si、C、Be、Auや、これらの化合物(例えば、AlN、BeOなど)や合金(例えばCuMoなど)などからなることができる。また、これらの例示を組み合わせたもの、例えば銅(Cu)層とモリブデン(Mo)層の多層構造などから、支持部材140,141の各々を構成することもできる。   For example, the thermal conductivity of the first support member 140 is higher than the thermal conductivity of the second support member 141, and the thermal conductivity of the second support member 141 is higher than the thermal conductivity of the light emitting element 100, for example. The thermal conductivity of each of the support members 140 and 141 is, for example, 140 W / mK or more. Each of the support members 140 and 141 is made of, for example, Cu, Al, Mo, W, Si, C, Be, Au, a compound thereof (for example, AlN, BeO), an alloy (for example, CuMo), or the like. Can do. In addition, each of the support members 140 and 141 can be configured from a combination of these examples, for example, a multilayer structure of a copper (Cu) layer and a molybdenum (Mo) layer.

反射部163は、第1支持部材140の凹部145の側面上に形成されることができる。反射部163は、凹部145の傾斜している側面に沿って形成されているため、反射部163も傾斜している。反射部163の表面のうち、第1出射光L1が入射する面が第1反射面162であり、第2出射光L2が入射する面が第2反射面164である。反射部163は、例えば、Al、Ag、Auなどからなることができる。反射部163を設けることにより、反射面162,164の反射率を高くすることができる。なお、例えば、反射部163を設けずに、第1支持部材140の凹部145の傾斜している側面を、第1反射面162及び第2反射面164とすることもできる。   The reflection part 163 may be formed on the side surface of the recess 145 of the first support member 140. Since the reflection part 163 is formed along the inclined side surface of the recess 145, the reflection part 163 is also inclined. Of the surface of the reflector 163, the surface on which the first outgoing light L1 is incident is the first reflective surface 162, and the surface on which the second outgoing light L2 is incident is the second reflective surface 164. The reflector 163 can be made of, for example, Al, Ag, Au, or the like. By providing the reflecting portion 163, the reflectance of the reflecting surfaces 162 and 164 can be increased. Note that, for example, the inclined side surfaces of the recesses 145 of the first support member 140 can be used as the first reflecting surface 162 and the second reflecting surface 164 without providing the reflecting portion 163.

第1支持部材140には、図1及び図3に示すように、例えば円柱状の貫通孔147が形成されている。この貫通孔147内には、例えば、絶縁部材146に側面を覆われた円柱状の端子144が設けられている。絶縁部材146は、例えば、樹脂、セラミックス(例えばAlN等)などからなる。端子144は、例えば銅(Cu)などからなる。   As shown in FIGS. 1 and 3, for example, a cylindrical through hole 147 is formed in the first support member 140. In the through hole 147, for example, a columnar terminal 144 whose side surface is covered with an insulating member 146 is provided. The insulating member 146 is made of, for example, resin, ceramics (for example, AlN). The terminal 144 is made of, for example, copper (Cu).

端子144は、例えば、ボンディングワイヤ等の第1接続部材142により、発光素子100の第2電極120と接続されている。第1接続部材142は、出射光L1,L2の光路を遮らないように設けられている。また、発光素子100の第1電極122は、例えば、めっきバンプ等の第2接続部材143により、第2支持部材141と接続されている。第2支持部材141は、第1支持部材140と接続されている。従って、端子144と第1支持部材140とに異なる電位を与えることにより、第1電極122と第2電極120との間に電圧を印加することができる。   The terminal 144 is connected to the second electrode 120 of the light emitting element 100 by a first connection member 142 such as a bonding wire, for example. The first connecting member 142 is provided so as not to block the optical paths of the emitted lights L1 and L2. Further, the first electrode 122 of the light emitting element 100 is connected to the second support member 141 by a second connection member 143 such as a plating bump, for example. The second support member 141 is connected to the first support member 140. Therefore, a voltage can be applied between the first electrode 122 and the second electrode 120 by applying different potentials to the terminal 144 and the first support member 140.

封止部材148は、例えば、図2に示すように、実装モジュール160上に設けられている。封止部材148は、例えば、第1支持部材140の凹部145を密閉して、該凹部145内に設けられた発光素子100を封止することができる。封止部材148は、反射光L3,L4の波長に対して透過性のある材質である。これにより、第1反射光L3のうちの少なくとも一部は、封止部材148を透過することができ、第2反射光L4のうちの少なくとも一部は、封止部材148を透過することができる。封止部材148は、例えば、石英、ガラス、水晶、プラスチックなどからなることができる。これらは、反射光L3,L4の波長に応じて適宜選択されることができる。これにより、光の吸収損失を低減することができる。   For example, as illustrated in FIG. 2, the sealing member 148 is provided on the mounting module 160. For example, the sealing member 148 can seal the light emitting element 100 provided in the recess 145 by sealing the recess 145 of the first support member 140. The sealing member 148 is made of a material that is transmissive to the wavelengths of the reflected lights L3 and L4. Thereby, at least a part of the first reflected light L3 can pass through the sealing member 148, and at least a part of the second reflected light L4 can pass through the sealing member 148. . The sealing member 148 can be made of, for example, quartz, glass, quartz, plastic, or the like. These can be appropriately selected according to the wavelengths of the reflected lights L3 and L4. Thereby, the absorption loss of light can be reduced.

本実施形態に係る発光装置1000は、例えば、プロジェクタ、ディスプレイ、照明装置、計測装置などの光源に適用されることができる。このことは、後述する実施形態についても同様である。   The light emitting device 1000 according to the present embodiment can be applied to a light source such as a projector, a display, a lighting device, and a measurement device. The same applies to the embodiments described later.

1.2. 次に、第1の実施形態に係る発光装置1000の製造方法の例について、図面を参照しながら説明するが、以下の例に限定されるわけではない。   1.2. Next, an example of a method for manufacturing the light emitting device 1000 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings, but is not limited to the following example.

図5〜図8は、発光装置1000の製造工程を概略的に示す断面図であり、図5〜図7は、図3に示す断面図に対応しており、図8は、図2に示す断面図に対応している。   5 to 8 are cross-sectional views schematically showing a manufacturing process of the light-emitting device 1000, FIGS. 5 to 7 correspond to the cross-sectional view shown in FIG. 3, and FIG. 8 is shown in FIG. Corresponds to the sectional view.

(1)まず、図5に示すように、基板102上に、バッファ層104、第2クラッド層106、活性層108、第1クラッド層110、及びコンタクト層112を、この順でエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法などを用いることができる。   (1) First, as shown in FIG. 5, the buffer layer 104, the second cladding layer 106, the active layer 108, the first cladding layer 110, and the contact layer 112 are epitaxially grown in this order on the substrate 102. As a method for epitaxial growth, for example, MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) method, MBE (Molecular Beam Epitaxy) method or the like can be used.

(2)次に、図6に示すように、コンタクト層112上に第1電極122を形成する。第1電極122は、例えば、真空蒸着法により全面に導電層を形成した後、該導電層をフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより形成される。また、第1電極122は、例えば、真空蒸着法およびリフトオフ法の組み合わせ等により、所望の形状に形成されることもできる。   (2) Next, as shown in FIG. 6, the first electrode 122 is formed on the contact layer 112. The first electrode 122 is formed, for example, by forming a conductive layer on the entire surface by a vacuum deposition method and then patterning the conductive layer using a photolithography technique and an etching technique. The first electrode 122 can also be formed in a desired shape by, for example, a combination of a vacuum deposition method and a lift-off method.

次に、図6に示すように、基板102の下面全面の下に第2電極120を形成する。第2電極120の製法は、例えば、上述した第1電極122の製法の例示と同じである。なお、第1電極122及び第2電極120の形成順序は、特に限定されない。   Next, as shown in FIG. 6, the second electrode 120 is formed under the entire lower surface of the substrate 102. The manufacturing method of the second electrode 120 is the same as the example of the manufacturing method of the first electrode 122 described above, for example. Note that the order of forming the first electrode 122 and the second electrode 120 is not particularly limited.

(3)以上の工程により、図6に示すように、本実施形態の発光素子100が得られる。次に、発光素子100の第1電極122の上に、例えばめっき法などにより、第2接続部材143を形成することができる。   (3) The light emitting element 100 of this embodiment is obtained by the above process as shown in FIG. Next, the second connection member 143 can be formed on the first electrode 122 of the light emitting element 100 by, for example, plating.

(4)次に、例えば金型成型などにより、所望の形状の第1支持部材140を作製することができる。次に、図7に示すように、公知の方法により第1支持部材140に貫通孔147を設ける。次に、貫通孔147の内側の側面を覆うように絶縁部材146を形成する。絶縁部材146は、貫通孔147を塞がないように形成される。絶縁部材146は、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法などにより成膜される。次に、絶縁部材146の内側に棒状の端子144を挿入する。なお、棒状の端子144の周囲に絶縁部材146を形成したものを、貫通孔147に挿入する方法を用いることもできる。   (4) Next, the first support member 140 having a desired shape can be produced by, for example, mold molding. Next, as shown in FIG. 7, a through hole 147 is provided in the first support member 140 by a known method. Next, the insulating member 146 is formed so as to cover the inner side surface of the through hole 147. The insulating member 146 is formed so as not to block the through hole 147. The insulating member 146 is formed by, for example, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. Next, a rod-shaped terminal 144 is inserted inside the insulating member 146. A method in which an insulating member 146 formed around the rod-shaped terminal 144 is inserted into the through hole 147 can also be used.

(5)次に、図8に示すように、第1支持部材140の所望の領域に反射部163を形成することができる。反射部163は、例えば、所望の領域以外をフォトレジスト等のマスクで覆い、蒸着法などを用いて形成されることができる。なお、反射部163の形成は、例えば、上記貫通孔147の形成前に行われることもできる。   (5) Next, as shown in FIG. 8, the reflective portion 163 can be formed in a desired region of the first support member 140. The reflective portion 163 can be formed using, for example, an evaporation method by covering a region other than a desired region with a mask such as a photoresist. In addition, formation of the reflection part 163 can also be performed before formation of the said through-hole 147, for example.

(6)次に、第2支持部材141を第1支持部材140に実装することができる。次に、図3に示すように、発光素子100を裏返して、即ち、発光素子100のうちの活性層108側を実装モジュール160側に向けて(ジャンクションダウン)、第2支持部材141に発光素子100をフリップチップ実装することができる。なお、発光素子100を第2支持部材141に実装した後に、第2支持部材141を第1支持部材140に実装しても良い。   (6) Next, the second support member 141 can be mounted on the first support member 140. Next, as shown in FIG. 3, the light emitting element 100 is turned over, that is, the active layer 108 side of the light emitting element 100 is directed to the mounting module 160 side (junction down), and the light emitting element is attached to the second support member 141. 100 can be flip-chip mounted. Note that the second support member 141 may be mounted on the first support member 140 after the light emitting element 100 is mounted on the second support member 141.

次に、図3に示すように、端子144と、発光素子100の第2電極120とを、第1接続部材142により接続する。本工程は、例えばワイヤーボンディングなどにより行われる。   Next, as illustrated in FIG. 3, the terminal 144 and the second electrode 120 of the light emitting element 100 are connected by the first connection member 142. This step is performed, for example, by wire bonding.

次に、図2に示すように、封止部材148を、例えば窒素雰囲気中で実装モジュール160に接着または溶接する。これにより、発光素子100を封止することができる。   Next, as shown in FIG. 2, the sealing member 148 is bonded or welded to the mounting module 160 in a nitrogen atmosphere, for example. Thereby, the light emitting element 100 can be sealed.

(7)以上の工程により、図1〜図3に示すように、本実施形態の発光装置1000が得られる。   (7) The light emitting device 1000 of the present embodiment is obtained by the above steps as shown in FIGS.

1.3. 本実施形態に係る発光装置1000の有する発光素子100では、上述したように、利得領域180に生じる光のレーザ発振を抑制または防止することができる。従って、スペックルノイズを低減させることができる。さらに、本実施形態に係る発光装置1000では、利得領域180に生じる光は、利得領域180内において利得を受けながら進行して、外部に出射されることができる。従って、従来の一般的なLEDよりも高い出力を得ることができる。以上のように、本実施形態によれば、スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光素子を有する発光装置を提供することができる。   1.3. In the light emitting element 100 included in the light emitting device 1000 according to this embodiment, as described above, laser oscillation of light generated in the gain region 180 can be suppressed or prevented. Therefore, speckle noise can be reduced. Furthermore, in the light emitting device 1000 according to the present embodiment, light generated in the gain region 180 can travel while receiving gain in the gain region 180 and can be emitted to the outside. Therefore, it is possible to obtain a higher output than conventional general LEDs. As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a light-emitting device having a novel light-emitting element that can reduce speckle noise and has high output.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、発光素子100から水平方向に出射された2つの出射光L1,L2を共に発光素子100の上側に向けて反射させることができる。これにより、図示しない後段の光学系(反射光L3,L4が入射する光学系)の構成を簡素化することができる。   Further, in the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the two emitted lights L1 and L2 emitted from the light emitting element 100 in the horizontal direction can be both reflected toward the upper side of the light emitting element 100. Thereby, the structure of the optical system of the back | latter stage which is not shown in figure (optical system into which reflected light L3, L4 injects) can be simplified.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、2つの出射光L1,L2を共に同じ向きに向けて反射させることができる。即ち、第1反射面162による第1反射光L3の進む向きと、第2反射面164による第2反射光L4の進む向きとを同じにすることができる。これにより、後段の光学系の構成をさらに簡素化することができ、かつ、後段の光学系の光軸合わせを容易化することができる。   Further, in the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the two outgoing lights L1 and L2 can be both reflected in the same direction. That is, the traveling direction of the first reflected light L3 by the first reflecting surface 162 and the traveling direction of the second reflected light L4 by the second reflecting surface 164 can be made the same. As a result, the configuration of the subsequent optical system can be further simplified, and the optical axis alignment of the subsequent optical system can be facilitated.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、反射面162,164は、実装モジュール160と一体的に設けられている。これにより、発光装置1000を小型化することができる。   Further, in the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the reflecting surfaces 162 and 164 are provided integrally with the mounting module 160. Thereby, the light emitting device 1000 can be reduced in size.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、2つの反射面162,164の反射率を50%より高くすることができる。これにより、発光素子100の両端から出射される出射光L1,L2を効率良く利用することができる。   In the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the reflectance of the two reflecting surfaces 162 and 164 can be made higher than 50%. Thereby, the emitted lights L1 and L2 emitted from both ends of the light emitting element 100 can be efficiently used.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、第1支持部材140や第2支持部材141の熱伝導率を、発光素子100の熱伝導率よりも高くすることができる。これにより、第1支持部材140や第2支持部材141は、ヒートシンクとして機能することができる。従って、本実施形態によれば、放熱性に優れた発光装置1000を提供することができる。さらに、本実施形態に係る発光装置1000では、活性層108は、発光素子100のうちの実装モジュール160側に設けられている。これにより、より一層放熱性に優れた発光装置1000を提供することができる。   In the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the thermal conductivity of the first support member 140 and the second support member 141 can be made higher than the thermal conductivity of the light emitting element 100. Thereby, the 1st support member 140 and the 2nd support member 141 can function as a heat sink. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to provide the light emitting device 1000 having excellent heat dissipation. Furthermore, in the light emitting device 1000 according to the present embodiment, the active layer 108 is provided on the mounting module 160 side of the light emitting element 100. Accordingly, it is possible to provide the light emitting device 1000 that is further excellent in heat dissipation.

また、本実施形態に係る発光装置1000では、封止部材148を用いて発光素子100を封止することができる。これにより、発光装置1000の信頼性の向上を図ることができる。   In the light emitting device 1000 according to this embodiment, the light emitting element 100 can be sealed using the sealing member 148. Thereby, the reliability of the light emitting device 1000 can be improved.

1.4. 次に、本実施形態に係る発光装置の変形例について説明する。なお、上述した図1〜図3に示す発光装置1000の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。   1.4. Next, a modification of the light emitting device according to this embodiment will be described. In addition, a different point from the example of the light-emitting device 1000 shown in FIGS. 1-3 mentioned above is demonstrated, and description is abbreviate | omitted about the same point.

(1)まず、第1の変形例について説明する。   (1) First, a first modification will be described.

図9は、本変形例に係る発光装置1100を概略的に示す平面図である。   FIG. 9 is a plan view schematically showing a light emitting device 1100 according to this modification.

発光装置1000の例では、図1に示すように、発光素子100の外縁の4つの側面の各々に対して、第1支持部材140の外縁の4つの側面の各々が平行ではない場合について説明した。これに対し、本変形例では、図9に示すように、発光素子100の外縁の4つの側面の各々に対して、第1支持部材140の外縁の4つの側面の各々を平行にして揃えることができる。図示の例では、第1支持部材140の凹部の傾斜している側面の数は6つであり、そのうちの2つの上に形成された反射部163の表面が第1反射面162及び第2反射面164である。本変形例においても、例えば、第1出射光L1の進む向きは、水平面(X−Y平面)と第1反射面162との交線Vに対して直角を成し、第2出射光L2の進む向きは、水平面と第2反射面164との交線Wに対して直角を成していることができる。   In the example of the light emitting device 1000, as illustrated in FIG. 1, the case where each of the four side surfaces of the outer edge of the first support member 140 is not parallel to each of the four side surfaces of the outer edge of the light emitting element 100 has been described. . On the other hand, in this modification, as shown in FIG. 9, each of the four side surfaces of the outer edge of the first support member 140 is made parallel to each of the four side surfaces of the outer edge of the light emitting element 100. Can do. In the illustrated example, the number of the inclined side surfaces of the concave portion of the first support member 140 is six, and the surface of the reflecting portion 163 formed on two of the two sides is the first reflecting surface 162 and the second reflecting surface. Surface 164. Also in this modification, for example, the traveling direction of the first emitted light L1 is perpendicular to the intersection line V between the horizontal plane (XY plane) and the first reflecting surface 162, and the second emitted light L2 The advancing direction can be perpendicular to the intersection line W between the horizontal plane and the second reflecting surface 164.

(2)次に、第2の変形例について説明する。   (2) Next, a second modification will be described.

図10は、本変形例に係る発光装置1200を概略的に示す平面図である。図11は、本変形例に係る別の発光装置1300を概略的に示す平面図であり、図12は、図11のXII−XII線断面図である。   FIG. 10 is a plan view schematically showing a light emitting device 1200 according to this modification. FIG. 11 is a plan view schematically showing another light emitting device 1300 according to this modification, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII in FIG.

発光装置1000の例では、図1に示すように、利得領域180が1つ設けられている場合について説明した。これに対し、本変形例では、利得領域180は、複数(例えば図示の例では3つ)設けられていることができる。本変形例では、例えば、図10に示すように、3つの利得領域180の第1端面170に対する第1反射面(第1出射光L1を反射させる面)の各々が、全体として1つの平面166を構成していることができる。同様に、本変形例では、例えば、3つの利得領域180の第2端面172に対する第2反射面(第2出射光L2を反射させる面)の各々が、全体として1つの平面168を構成していることができる。図10に示す例では、3つの第1出射光L1の第1端面170から第1反射面(即ち平面166)までの光路長の各々は、異なる値である。例えば、3つの第1端面170のうち、平面166に近いものほど、そこから出射される第1出射光L1の第1端面170から平面166までの光路長は短くなっている。また、図示の例では、3つの第2出射光L2の第2端面172から第2反射面(即ち平面168)までの光路長の各々についても同様である。   In the example of the light emitting device 1000, the case where one gain region 180 is provided as shown in FIG. 1 has been described. On the other hand, in this modification, a plurality of gain regions 180 (for example, three in the illustrated example) can be provided. In the present modification, for example, as shown in FIG. 10, each of the first reflecting surfaces (surfaces that reflect the first outgoing light L1) with respect to the first end surfaces 170 of the three gain regions 180 has a single flat surface 166 as a whole. Can be configured. Similarly, in the present modification, for example, each of the second reflection surfaces (surfaces that reflect the second emitted light L2) with respect to the second end surface 172 of the three gain regions 180 forms one plane 168 as a whole. Can be. In the example shown in FIG. 10, each of the optical path lengths from the first end face 170 to the first reflecting surface (that is, the plane 166) of the three first outgoing lights L1 has a different value. For example, the optical path length from the first end face 170 to the plane 166 of the first outgoing light L1 emitted from the first end face 170 that is closer to the plane 166 is shorter among the three first end faces 170. In the illustrated example, the same applies to each of the optical path lengths from the second end face 172 to the second reflecting surface (that is, the plane 168) of the three second outgoing lights L2.

また、本変形例では、例えば、図11及び図12に示すように、3つの利得領域180の第1端面170に対する第1反射面162の各々は、第1出射光L1の第1端面170から第1反射面162までの光路長が同じになる位置に設けられていることができる。同様に、本変形例では、例えば、3つの利得領域180の第2端面172に対する第2反射面164の各々は、第2出射光L2の第2端面172から第2反射面164までの光路長が同じになる位置に設けられていることができる。図11及び図12に示す例では、図10に示す例とは異なり、3つの第1反射面162の各々は、1つの平面を構成せずに、別個の平面である。また、図示の例では、3つの第2反射面164の各々についても同様である。   Further, in the present modification, for example, as shown in FIGS. 11 and 12, each of the first reflecting surfaces 162 with respect to the first end surfaces 170 of the three gain regions 180 is separated from the first end surface 170 of the first emitted light L1. The optical path length to the 1st reflective surface 162 can be provided in the position used as the same. Similarly, in the present modification, for example, each of the second reflection surfaces 164 with respect to the second end surfaces 172 of the three gain regions 180 has an optical path length from the second end surface 172 to the second reflection surface 164 of the second emitted light L2. Can be provided at the same position. In the example shown in FIGS. 11 and 12, unlike the example shown in FIG. 10, each of the three first reflecting surfaces 162 does not constitute one plane but is a separate plane. In the illustrated example, the same applies to each of the three second reflecting surfaces 164.

(3)次に、第3の変形例について説明する。   (3) Next, a third modification will be described.

図13は、本変形例に係る発光装置1400を概略的に示す断面図である。なお、図13に示す断面図は、発光装置1000の例における図3に示す断面図に対応している。   FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device 1400 according to this modification. Note that the cross-sectional view shown in FIG. 13 corresponds to the cross-sectional view shown in FIG.

発光装置1000の例では、第1電極122の上から下まで、利得領域180と同じ平面形状を有する場合について説明した。これに対し、例えば、図13に示す例では、第1電極122の下部は、利得領域180と異なる平面形状を有することができる。本変形例では、コンタクト層112下に、開口部を有する絶縁層202を形成し、該開口部を埋め込む第1電極122を形成することができる。第1電極122は、開口部内および絶縁層(開口部含む)202下に形成されている。本変形例では、第1電極122の上部は、利得領域180と同じ平面形状を有し、第1電極122の下部は、絶縁層202と同じ平面形状を有している。絶縁層202としては、例えば、SiN層、SiO層、ポリイミド層などを用いることができる。絶縁層202は、例えば、CVD法、塗布法などにより成膜される。第1電極122は、例えば、直接、第2支持部材141に接合される。この接合は、例えば、合金接合や、半田ペーストを用いた接合などにより行われる。 In the example of the light emitting device 1000, the case where the first electrode 122 has the same planar shape as the gain region 180 from the top to the bottom has been described. On the other hand, for example, in the example shown in FIG. 13, the lower portion of the first electrode 122 can have a planar shape different from that of the gain region 180. In this modification, the insulating layer 202 having an opening can be formed under the contact layer 112, and the first electrode 122 filling the opening can be formed. The first electrode 122 is formed in the opening and under the insulating layer (including the opening) 202. In this modification, the upper portion of the first electrode 122 has the same planar shape as the gain region 180, and the lower portion of the first electrode 122 has the same planar shape as the insulating layer 202. As the insulating layer 202, for example, a SiN layer, a SiO 2 layer, a polyimide layer, or the like can be used. The insulating layer 202 is formed by, for example, a CVD method or a coating method. For example, the first electrode 122 is directly joined to the second support member 141. This joining is performed by, for example, alloy joining or joining using a solder paste.

本変形例によれば、発光装置1000の例に比べ、第1電極122の下部の体積を増やすことができるため、放熱性に優れた発光装置1400を提供することができる。   According to this modification, since the volume under the first electrode 122 can be increased as compared with the example of the light emitting device 1000, the light emitting device 1400 having excellent heat dissipation can be provided.

(4)次に、第4の変形例について説明する。   (4) Next, a fourth modification will be described.

図14は、本変形例に係る発光装置1500を概略的に示す断面図である。図15は、本変形例に係る別の発光装置1600を概略的に示す断面図である。なお、図14及び図15に示す断面図の各々は、発光装置1000の例における図2に示す断面図に対応している。   FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device 1500 according to this modification. FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing another light emitting device 1600 according to this modification. Note that each of the cross-sectional views shown in FIGS. 14 and 15 corresponds to the cross-sectional view shown in FIG.

発光装置1000の例では、図2に示すように、第1反射光L3及び第2反射光L4が、活性層108の上面に対して垂直上向き(図1のZ方向)に進む場合について説明した。これに対し、本変形例では、第1反射光L3及び第2反射光L4のうちの少なくとも一方は、活性層108の上面に対して垂直上向きに進まないことができる。例えば、図14に示すように、第1反射光L3及び第2反射光L4は、鉛直方向(図1のZ方向)から同じ側に傾いた方向に進むことができる。図14に示す例では、第1反射光L3の進む向きと、第2反射光L4の進む向きとは、同じである。また、例えば、図15に示すように、第1反射光L3は、鉛直方向から一方の側に傾いた方向に進むことができ、第2反射光L4は、鉛直方向から他方の側に傾いた方向に進むことができる。図15に示す例では、第1反射光L3の進む向きと、第2反射光L4の進む向きとは、広がる方向であるが、図示しないが、狭まる方向であっても良い。なお、本変形例においても、第1反射光L3及び第2反射光L4は、発光素子100の上側に向けて進むことができる。本変形例では、第1反射面162及び第2反射面164の傾斜する角度は、適宜調整されている。   In the example of the light emitting device 1000, as shown in FIG. 2, the case where the first reflected light L3 and the second reflected light L4 travel vertically upward (Z direction in FIG. 1) with respect to the upper surface of the active layer 108 has been described. . On the other hand, in the present modification, at least one of the first reflected light L3 and the second reflected light L4 cannot advance vertically upward with respect to the upper surface of the active layer 108. For example, as shown in FIG. 14, the first reflected light L3 and the second reflected light L4 can travel in the direction inclined to the same side from the vertical direction (Z direction in FIG. 1). In the example shown in FIG. 14, the traveling direction of the first reflected light L3 is the same as the traveling direction of the second reflected light L4. Further, for example, as shown in FIG. 15, the first reflected light L3 can travel in a direction inclined from the vertical direction to one side, and the second reflected light L4 is inclined from the vertical direction to the other side. You can go in the direction. In the example shown in FIG. 15, the traveling direction of the first reflected light L3 and the traveling direction of the second reflected light L4 are directions of spreading, but although not shown, they may be narrowing directions. Note that also in the present modification, the first reflected light L3 and the second reflected light L4 can travel toward the upper side of the light emitting element 100. In the present modification, the inclination angles of the first reflecting surface 162 and the second reflecting surface 164 are adjusted as appropriate.

(5)次に、第5の変形例について説明する。   (5) Next, a fifth modification will be described.

発光装置1000の例では、利得領域180の平面形状は、図1に示すように、直線状である場合について説明したが、本変形例では、図示しないが、例えば、利得領域180の平面形状は、曲線状や、直線状と曲線状の組み合わせなどであることができる。   In the example of the light emitting device 1000, the planar shape of the gain region 180 has been described as being linear as shown in FIG. 1, but in this modification, for example, the planar shape of the gain region 180 is not illustrated. It can be a curved line or a combination of a straight line and a curved line.

(6)次に、第6の変形例について説明する。   (6) Next, a sixth modification will be described.

発光装置1000の例では、発光素子100がInGaAlP系の半導体発光素子である場合について説明したが、本変形例では、発光利得領域が形成可能なあらゆる材料系を用いることができる。半導体材料であれば、例えば、AlGaN系、InGaN系、GaAs系、InGaAs系、GaInNAs系、ZnCdSe系などの半導体材料を用いることができる。また、本変形例では、例えば有機材料などを用いることもできる。   In the example of the light-emitting device 1000, the case where the light-emitting element 100 is an InGaAlP-based semiconductor light-emitting element has been described. However, in this modification, any material system capable of forming a light-emitting gain region can be used. As the semiconductor material, for example, an AlGaN-based, InGaN-based, GaAs-based, InGaAs-based, GaInNAs-based, or ZnCdSe-based semiconductor material can be used. Moreover, in this modification, an organic material etc. can also be used, for example.

(7)なお、変形例は、上述した例に限定されるわけではない。例えば、各変形例を適宜組み合わせることも可能である。また、必要に応じて、後述する実施形態にもこれらの変形例を適用できる。   (7) The modified example is not limited to the above-described example. For example, it is possible to appropriately combine the modified examples. Further, these modifications can be applied to the embodiments described later as needed.

2. 第2の実施形態
2.1. 次に、第2の実施形態に係る発光装置2000について説明する。
2. Second Embodiment 2.1. Next, a light emitting device 2000 according to the second embodiment will be described.

図16は、発光装置2000を概略的に示す断面図である。なお、図16に示す断面図は、第1の実施形態に係る発光装置1000における図3に示す断面図に対応している。また、第2の実施形態に係る発光装置2000において、上述した第1の実施形態に係る発光装置1000の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。   FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing the light emitting device 2000. The cross-sectional view shown in FIG. 16 corresponds to the cross-sectional view shown in FIG. 3 in the light emitting device 1000 according to the first embodiment. Further, in the light emitting device 2000 according to the second embodiment, members having the same functions as those of the constituent members of the light emitting device 1000 according to the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and detailed descriptions thereof are given. Omitted.

発光装置2000は、実装モジュール160と、発光素子600と、を含む。発光装置2000は、さらに、例えば、絶縁部材146と、端子144と、第1接続部材142と、封止部材148と、を含むことができる。   The light emitting device 2000 includes a mounting module 160 and a light emitting element 600. The light emitting device 2000 can further include, for example, an insulating member 146, a terminal 144, a first connection member 142, and a sealing member 148.

発光素子600は、図16に示すように、第1クラッド層110と、活性層108と、第2クラッド層106と、絶縁部602と、を含む。発光素子600は、さらに、例えば、第1電極122と、第2電極120と、基板102と、バッファ層104と、コンタクト層112と、を含むことができる。   As shown in FIG. 16, the light emitting device 600 includes a first cladding layer 110, an active layer 108, a second cladding layer 106, and an insulating part 602. The light emitting device 600 can further include, for example, a first electrode 122, a second electrode 120, a substrate 102, a buffer layer 104, and a contact layer 112.

活性層108の全部は、利得領域180を構成している。例えば、第2クラッド層106、活性層108、第1クラッド層110、及びコンタクト層112は、利得領域180と同じ平面形状を有している。例えば、少なくともコンタクト層112のうちの第1電極122との接触面側の部分(コンタクト層112の下部)が、柱状の半導体堆積体(以下「柱状部」という)610を構成することができる。例えば、図16に示すように、第2クラッド層106、活性層108、第1クラッド層110、及びコンタクト層112が、柱状部610を構成することができる。   The entire active layer 108 constitutes a gain region 180. For example, the second cladding layer 106, the active layer 108, the first cladding layer 110, and the contact layer 112 have the same planar shape as the gain region 180. For example, at least a portion of the contact layer 112 on the side of the contact surface with the first electrode 122 (lower portion of the contact layer 112) can constitute a columnar semiconductor deposited body (hereinafter referred to as “columnar portion”) 610. For example, as shown in FIG. 16, the second cladding layer 106, the active layer 108, the first cladding layer 110, and the contact layer 112 can constitute a columnar portion 610.

絶縁部602は、図16に示すように、柱状部610の側方に設けられている。絶縁部602は、例えば、柱状部610の第1電極122側とは反対側に接する層(図示の例ではバッファ層104)の下に形成されている。絶縁部602は、第1電極122と、バッファ層104との間に形成されている。絶縁部602は、例えば、活性層108の第1側面107と第2側面109との間において、少なくとも活性層108の側面を覆うことができる。例えば、柱状部610の側面のうち、第1側面107側および第2側面109側以外の側面は、絶縁部602により覆われている。絶縁部602は、図16に示すように、柱状部610の側面に接している。電極120,122間の電流は、絶縁部602を避けて、該絶縁部602に挟まれた柱状部610を流れることができる。例えば、柱状部610の平面形状によって、電極120,122間の電流経路が決定され、その結果、利得領域180の平面形状が決定される。なお、図示しないが、柱状部610及び絶縁部602は、基板102側に形成されることもできる。   As shown in FIG. 16, the insulating portion 602 is provided on the side of the columnar portion 610. The insulating portion 602 is formed, for example, under a layer (buffer layer 104 in the illustrated example) that is in contact with the opposite side of the columnar portion 610 to the first electrode 122 side. The insulating unit 602 is formed between the first electrode 122 and the buffer layer 104. For example, the insulating unit 602 can cover at least the side surface of the active layer 108 between the first side surface 107 and the second side surface 109 of the active layer 108. For example, of the side surfaces of the columnar portion 610, the side surfaces other than the first side surface 107 side and the second side surface 109 side are covered with the insulating portion 602. As shown in FIG. 16, the insulating portion 602 is in contact with the side surface of the columnar portion 610. The current between the electrodes 120 and 122 can flow through the columnar portion 610 sandwiched between the insulating portions 602, avoiding the insulating portions 602. For example, the current path between the electrodes 120 and 122 is determined by the planar shape of the columnar portion 610, and as a result, the planar shape of the gain region 180 is determined. Although not shown, the columnar portion 610 and the insulating portion 602 can also be formed on the substrate 102 side.

絶縁部602は、例えば、活性層108の屈折率よりも低い屈折率を有することができる。そして、例えば活性層108の側面が絶縁部602により覆われていることにより、活性層108内に効率良く光を閉じ込めることができる。本実施形態に係る発光素子600では、利得領域180において発生した光は、屈折率差によって形成された、利得領域180の軸方向(上述した「ある方向」)に伝搬する伝搬モードに結合する。そのため、利得領域180の軸方向と異なる方向へ伝搬するような光はほとんど存在しない。例えば、利得領域180において対向する第1端面170と第2端面172とが、第1側面107側から平面的に見て重なっている場合に、その重なり部分において第1端面170と第2端面172とを垂直に結ぶ方向は、利得領域180の軸方向とは異なる。そのため、この第1端面170と第2端面172とを垂直に結ぶ方向へ伝搬するような光はほとんど存在しない。従って、利得領域180を第1側面107の垂線Pに対して傾いた方向に向かって設け、光の多重反射を抑制または防止することにより、レーザ光ではない光を発する発光素子600を得ることができる。絶縁部602としては、例えば、SiN層、SiO層、ポリイミド層などを用いることができる。 The insulating unit 602 can have a refractive index lower than that of the active layer 108, for example. For example, when the side surface of the active layer 108 is covered with the insulating portion 602, light can be efficiently confined in the active layer 108. In the light emitting device 600 according to the present embodiment, light generated in the gain region 180 is coupled to a propagation mode that is formed by the refractive index difference and propagates in the axial direction of the gain region 180 (the above-described “certain direction”). Therefore, there is almost no light that propagates in a direction different from the axial direction of the gain region 180. For example, when the first end surface 170 and the second end surface 172 facing each other in the gain region 180 overlap in a plan view from the first side surface 107 side, the first end surface 170 and the second end surface 172 are overlapped at the overlapping portion. Is different from the axial direction of the gain region 180. For this reason, there is almost no light propagating in the direction connecting the first end face 170 and the second end face 172 vertically. Therefore, the light emitting element 600 that emits light that is not laser light can be obtained by providing the gain region 180 in a direction inclined with respect to the normal line P of the first side surface 107 and suppressing or preventing multiple reflection of light. it can. As the insulating portion 602, for example, a SiN layer, a SiO 2 layer, a polyimide layer, or the like can be used.

第1電極122は、例えば、図16に示すように、柱状部610及び絶縁部602の下の全面に形成されている。これにより、上述した図1〜図3に示す発光装置1000の例に比べ、第1電極122の体積が増えるため、放熱性に優れた発光装置2000を提供することができる。   For example, as shown in FIG. 16, the first electrode 122 is formed on the entire surface under the columnar portion 610 and the insulating portion 602. Thereby, since the volume of the 1st electrode 122 increases compared with the example of the light-emitting device 1000 shown in FIGS. 1-3 mentioned above, the light-emitting device 2000 excellent in heat dissipation can be provided.

2.2. 次に、第2の実施形態に係る発光装置2000の製造方法の例について、図面を参照しながら説明するが、以下の例に限定されるわけではない。なお、上述した第1の実施形態に係る発光装置1000の製造方法と異なる点について説明し、同様の点については詳細な説明を省略する。   2.2. Next, an example of a method for manufacturing the light emitting device 2000 according to the second embodiment will be described with reference to the drawings, but is not limited to the following example. Note that differences from the method of manufacturing the light emitting device 1000 according to the first embodiment described above will be described, and detailed description of similar points will be omitted.

図17及び図18は、発光装置2000の製造工程を概略的に示す断面図であり、図16に示す断面図に対応している。   17 and 18 are cross-sectional views schematically showing the manufacturing process of the light-emitting device 2000, and correspond to the cross-sectional view shown in FIG.

(1)まず、基板102上に、バッファ層104、第2クラッド層106、活性層108、第1クラッド層110、及びコンタクト層112を形成する。   (1) First, the buffer layer 104, the second cladding layer 106, the active layer 108, the first cladding layer 110, and the contact layer 112 are formed on the substrate 102.

(2)次に、図17に示すように、第2クラッド層106、活性層108、第1クラッド層110、及びコンタクト層112をパターニングする。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを用いて行われる。本工程により、柱状部610を形成することができる。   (2) Next, as shown in FIG. 17, the second cladding layer 106, the active layer 108, the first cladding layer 110, and the contact layer 112 are patterned. The patterning is performed using, for example, a photolithography technique and an etching technique. By this step, the columnar portion 610 can be formed.

(3)次に、図18に示すように、柱状部610の側面を覆うように絶縁部602を形成する。具体的には、まず、例えば、CVD法、塗布法などにより、バッファ層104の上方(コンタクト層112上を含む)の全面に絶縁層(図示せず)を成膜する。次に、例えば、エッチング技術などを用いて、コンタクト層112の上面を露出させる。以上の工程により、絶縁部602を得ることができる。   (3) Next, as shown in FIG. 18, an insulating portion 602 is formed so as to cover the side surface of the columnar portion 610. Specifically, first, an insulating layer (not shown) is formed on the entire surface of the buffer layer 104 (including on the contact layer 112) by, for example, a CVD method or a coating method. Next, the upper surface of the contact layer 112 is exposed using, for example, an etching technique. Through the above steps, the insulating portion 602 can be obtained.

次に、図18に示すように、第1電極122及び第2電極120を形成する。第1電極122は、平坦な面上の全面に成膜されれば良いため、第1電極122の断線リスクを低減することができる。また、第1電極122のパターニング工程は不要であるため、製造工程を簡素化することができる。   Next, as shown in FIG. 18, the first electrode 122 and the second electrode 120 are formed. Since the first electrode 122 may be formed over the entire surface of a flat surface, the risk of disconnection of the first electrode 122 can be reduced. Moreover, since the patterning process of the 1st electrode 122 is unnecessary, a manufacturing process can be simplified.

(4)以上の工程により、図18に示すように、本実施形態の発光素子600が得られる。本実施形態では、発光素子600の第1電極122の上に、第2接続部材143(図3参照)を形成しないことができる。   (4) Through the above steps, the light emitting device 600 of this embodiment is obtained as shown in FIG. In the present embodiment, the second connection member 143 (see FIG. 3) may not be formed on the first electrode 122 of the light emitting element 600.

(5)この後の工程は、上述した第1の実施形態に係る発光装置1000の製造方法における工程と同様である。   (5) The subsequent steps are the same as the steps in the method for manufacturing the light emitting device 1000 according to the first embodiment described above.

(6)以上の工程により、本実施形態の発光装置2000が得られる。   (6) The light emitting device 2000 of the present embodiment is obtained through the above steps.

2.3.本実施形態によれば、上述した第1の実施形態と同様に、スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光素子を有する発光装置を提供することができる。   2.3. According to the present embodiment, as in the first embodiment described above, it is possible to provide a light emitting device having a novel light emitting element that can reduce speckle noise and has high output.

2.4. 次に、本実施形態に係る発光装置の変形例について説明する。なお、上述した図16に示す発光装置2000の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。   2.4. Next, a modification of the light emitting device according to this embodiment will be described. Note that differences from the example of the light-emitting device 2000 illustrated in FIG. 16 described above will be described, and description of similar points will be omitted.

(1)まず、第1の変形例について説明する。   (1) First, a first modification will be described.

図19は、本変形例に係る発光装置の製造工程を概略的に示す断面図である。なお、図19に示す断面図は、発光装置2000の例における図16に示す断面図に対応している。   FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing a manufacturing process of the light emitting device according to this modification. Note that the cross-sectional view shown in FIG. 19 corresponds to the cross-sectional view shown in FIG.

発光装置2000の例では、図17に示すように柱状部610を形成した後、絶縁層(図示せず)を成膜し、その後、コンタクト層112を露出させることにより、絶縁部602を形成する場合について説明した。これに対し、本変形例では、まず、例えば、図19に示すように、コンタクト層112上であって、利得領域180の上方の領域を、フォトレジスト等のマスク層704で覆う。次に、例えばプロトン等のイオン706を、マスク層704をマスクとして、例えばバッファ層104の上面に達する深さまで注入する。以上の工程により、本変形例に係る絶縁部602を形成することができる。   In the example of the light emitting device 2000, after forming the columnar portion 610 as shown in FIG. 17, an insulating layer (not shown) is formed, and then the contact layer 112 is exposed to form the insulating portion 602. Explained the case. On the other hand, in this modified example, first, as shown in FIG. 19, for example, the region above the gain region 180 on the contact layer 112 is covered with a mask layer 704 such as a photoresist. Next, ions 706 such as protons are implanted to a depth reaching the upper surface of the buffer layer 104, for example, using the mask layer 704 as a mask. Through the above steps, the insulating portion 602 according to the present modification can be formed.

(2)次に、第2の変形例について説明する。   (2) Next, a second modification will be described.

図20は、本変形例に係る発光装置2100を概略的に示す断面図である。   FIG. 20 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device 2100 according to this modification.

発光装置2000の例では、図16に示すように、絶縁部602が厚膜である場合について説明した。これに対し、本変形例では、図20に示すように、絶縁部602は薄膜であることができる。本変形例では、絶縁部602の厚さ(鉛直方向の長さ)は、柱状部610を覆う部分では、柱状部610の厚さと同じであるが、それ以外の部分では、柱状部610の厚さよりも小さくなっている。   In the example of the light emitting device 2000, as shown in FIG. 16, the case where the insulating portion 602 is a thick film has been described. On the other hand, in this modification, as shown in FIG. 20, the insulating part 602 can be a thin film. In this modification, the thickness (the length in the vertical direction) of the insulating portion 602 is the same as the thickness of the columnar portion 610 in the portion covering the columnar portion 610, but the thickness of the columnar portion 610 in the other portions. It is smaller than this.

図示の例では、上述した図1〜図3に示す発光装置1000の例と同様に、第1電極122は、利得領域180と同じ平面形状を有し、第2接続部材143により第2支持部材141と接合されている。   In the illustrated example, the first electrode 122 has the same planar shape as that of the gain region 180, as in the example of the light-emitting device 1000 illustrated in FIGS. 1 to 3 described above, and the second support member 143 provides the second support member. 141.

(3)なお、変形例は、上述した例に限定されるわけではない。例えば、各変形例を適宜組み合わせることも可能である。また、必要に応じて、上述した実施形態にもこれらの変形例や発光装置2000の例を適用できる。   (3) The modification is not limited to the above-described example. For example, it is possible to appropriately combine the modified examples. Moreover, these modifications and the example of the light-emitting device 2000 are applicable also to embodiment mentioned above as needed.

3. 上記のように、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できよう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。   3. Although the embodiments of the present invention have been described in detail as described above, those skilled in the art will readily understand that many modifications are possible without substantially departing from the novel matters and effects of the present invention. Accordingly, all such modifications are intended to be included in the scope of the present invention.

第1実施形態の発光装置を概略的に示す平面図。1 is a plan view schematically showing a light emitting device according to a first embodiment. 第1実施形態の発光装置を概略的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device according to a first embodiment. 第1実施形態の発光装置を概略的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device according to a first embodiment. 第1実施形態の活性層を第1側面側から平面的に見た図。The figure which looked at the active layer of 1st Embodiment planarly from the 1st side surface side. 第1実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第1変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the 1st modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第2変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the 2nd modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第2変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the 2nd modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第2変形例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the 2nd modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第3変形例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the 3rd modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第4変形例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the 4th modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第1実施形態の発光装置の第4変形例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the 4th modification of the light-emitting device of 1st Embodiment. 第2実施形態の発光装置を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the light-emitting device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の発光装置の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the light-emitting device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の発光装置の第1変形例の製造工程を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the manufacturing process of the 1st modification of the light-emitting device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の発光装置の第2変形例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the 2nd modification of the light-emitting device of 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

100 発光素子、102 基板、104 バッファ層、106 第2クラッド層、107 第1側面、108 活性層、109 第2側面、110 第1クラッド層、112 コンタクト層、120 第2電極、122 第1電極、140 第1支持部材、141 第2支持部材、142 第1接続部材、143 第2接続部材、144 端子、145 凹部、146 絶縁部材、147 貫通孔、148 封止部材、160 実装モジュール、162 第1反射面、163 反射部、164 第2反射面、166,168 平面、170 第1端面、172 第2端面、180 利得領域、202 絶縁層、600 発光素子、602 絶縁部、610 柱状部、704 マスク層、706 イオン,1000,1100,1200,1300,1400,1500,1600,2000,2100 発光装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Light emitting element, 102 board | substrate, 104 buffer layer, 106 2nd clad layer, 107 1st side surface, 108 active layer, 109 2nd side surface, 110 1st clad layer, 112 contact layer, 120 2nd electrode, 122 1st electrode 140, first support member, 141 second support member, 142 first connection member, 143 second connection member, 144 terminal, 145 recess, 146 insulating member, 147 through hole, 148 sealing member, 160 mounting module, 162 first 1 reflective surface, 163 reflective portion, 164 second reflective surface, 166, 168 plane, 170 first end surface, 172 second end surface, 180 gain region, 202 insulating layer, 600 light emitting element, 602 insulating portion, 610 columnar portion, 704 Mask layer, 706 ions, 1000, 1100, 1200, 1300, 1400, 15 0,1600,2000,2100 light-emitting device

Claims (12)

発光素子と、
前記発光素子が実装される実装基板と、
を含み、
前記発光素子は、
活性層と、
前記活性層を挟む2つのクラッド層と、
を有し、
前記活性層のうちの少なくとも一部は、電流が注入されて光を発生し増幅する利得領域を構成し、
前記利得領域は、前記活性層と前記クラッド層との積層方向からの平面視にて、前記活性層の第1側面から当該第1側面に対向する前記活性層の第2側面にわたって、前記第1側面の垂線に対して傾いた方向に延在して設けられ、
前記実装基板は、
前記利得領域の前記第1側面側の第1端面から出射される第1出射光を、前記実装基板の前記発光素子が実装される面から離間する方向に反射させる第1反射面と、
前記利得領域の前記第2側面側の第2端面から出射される第2出射光を、前記実装基板の前記発光素子が実装される面から離間する方向に反射させる第2反射面と、
を有し、
前記利得領域は、複数設けられ、
複数の前記利得領域の前記第1端面に対する前記第1反射面の各々は、前記第1出射光の前記第1端面から前記第1反射面までの光路長が同じになる位置に設けられ、
前記複数の利得領域の前記第2端面に対する前記第2反射面の各々は、前記第2出射光の前記第2端面から前記第2反射面までの光路長が同じになる位置に設けられ、
前記第1反射面の各々は、別個の平面であり、
前記第2反射面の各々は、別個の平面であり、
前記第1反射面によって反射される光の進む向きと、前記第2反射面によって反射される光の進む向きとは、同じである、発光装置。
A light emitting element;
A mounting substrate on which the light emitting element is mounted;
Including
The light emitting element is
An active layer,
Two cladding layers sandwiching the active layer;
Have
At least a portion of the active layer constitutes a gain region where current is injected to generate and amplify light;
The gain region extends from the first side surface of the active layer to the second side surface of the active layer facing the first side surface in a plan view from the stacking direction of the active layer and the cladding layer. Provided extending in a direction inclined with respect to the vertical of the side surface,
The mounting substrate is
A first reflecting surface for reflecting the first emitted light emitted from the first end surface on the first side surface side of the gain region in a direction away from the surface on which the light emitting element of the mounting substrate is mounted;
A second reflecting surface for reflecting the second emitted light emitted from the second end surface on the second side surface of the gain region in a direction away from the surface on which the light emitting element of the mounting substrate is mounted;
I have a,
A plurality of the gain regions are provided,
Each of the first reflecting surfaces with respect to the first end surface of the plurality of gain regions is provided at a position where the optical path lengths from the first end surface of the first emitted light to the first reflecting surface are the same,
Each of the second reflecting surfaces with respect to the second end surface of the plurality of gain regions is provided at a position where the optical path lengths from the second end surface to the second reflecting surface of the second emitted light are the same.
Each of the first reflective surfaces is a separate plane;
Each of the second reflective surfaces is a separate plane;
The direction in which the light reflected by the first reflecting surface travels is the same as the direction in which the light reflected by the second reflecting surface travels .
請求項において、
前記第1反射面によって反射される光の進む向き、および、前記第2反射面によって反射される光の進む向きは、前記活性層の上面に対して垂直上向きである、発光装置。
In claim 1 ,
The direction in which the light reflected by the first reflective surface travels and the direction in which the light reflected by the second reflective surface travels are vertically upward with respect to the upper surface of the active layer.
請求項1または2において、
前記第1出射光の進む向きは、前記積層方向からの平面視にて、前記活性層の上面に平行な面と前記第1反射面との交線に対して直角を成し、
前記第2出射光の進む向きは、前記積層方向からの平面視にて、前記活性層の上面に平行な面と前記第2反射面との交線に対して直角を成す、発光装置。
In claim 1 or 2 ,
The traveling direction of the first emitted light is perpendicular to the line of intersection between the surface parallel to the upper surface of the active layer and the first reflecting surface in a plan view from the stacking direction,
The light emitting device, wherein the traveling direction of the second emitted light is perpendicular to a line of intersection between a surface parallel to the upper surface of the active layer and the second reflecting surface in a plan view from the stacking direction.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記利得領域では、前記第1側面側からの平面視にて、前記第1端面と前記第2端面とは重なっていない、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3 ,
In the gain region, the first end surface and the second end surface do not overlap with each other in plan view from the first side surface side.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記発光素子は、
前記2つのクラッド層に電気的に接続された電極を有する、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4 ,
The light emitting element is
A light emitting device having an electrode electrically connected to the two cladding layers.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記第1反射面および前記第2反射面の各々の反射率は、50%より高く、100%以下である、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 5 ,
The reflectance of each of the first reflection surface and the second reflection surface is higher than 50% and 100% or less.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記実装基板は、前記発光素子を支持する支持部材を有し、
前記支持部材の熱伝導率は、前記発光素子の熱伝導率よりも高い、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 6 .
The mounting substrate has a support member that supports the light emitting element,
The light-emitting device wherein the support member has a thermal conductivity higher than that of the light-emitting element.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記発光素子は、前記活性層を直接的または間接的に支持する支持基板をさらに有し、
前記活性層は、前記支持基板に対して前記実装基板側に設けられている、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 7 ,
The light emitting device further includes a support substrate that directly or indirectly supports the active layer,
The light emitting device, wherein the active layer is provided on the mounting substrate side with respect to the support substrate.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記発光素子を封止する封止部材を含み、
前記第1反射面によって反射される光および前記第2反射面によって反射される光は、前記封止部材を透過する、発光装置。
In any one of Claims 1 thru | or 8 .
Including a sealing member for sealing the light emitting element,
The light emitting device, wherein the light reflected by the first reflecting surface and the light reflected by the second reflecting surface are transmitted through the sealing member.
光が出射される第1端面、前記第1端面の法線方向に対して斜めに延びる複数の光導波路、を含む半導体発光素子と、  A semiconductor light emitting device including a first end face from which light is emitted, and a plurality of optical waveguides extending obliquely with respect to a normal direction of the first end face;
前記半導体発光素子が配置された凹部を有する実装基板と、を備え、  A mounting substrate having a recess in which the semiconductor light emitting element is disposed,
前記第1端面は、前記複数の光導波路の端部の各々に対応する複数の第1光出射部を備え、  The first end surface includes a plurality of first light emitting portions corresponding to the end portions of the plurality of optical waveguides,
前記凹部の内側の側壁は、前記第1端面から出射される光を反射する第1反射面を備え、  The inner side wall of the recess includes a first reflecting surface that reflects light emitted from the first end surface,
前記第1反射面は、前記複数の第1光出射部の各々から出射される光の前記第1光出射部と前記第1反射面との間の光路長が互いに等しくなるように、表面が階段状に形成されている、発光装置。  The surface of the first reflecting surface is such that the optical path lengths between the first light emitting portion and the first reflecting surface of the light emitted from each of the plurality of first light emitting portions are equal to each other. A light emitting device formed in a step shape.
請求項10において、  In claim 10,
前記半導体発光素子は、前記第1端面と反対側の面である第2端面をさらに含み、  The semiconductor light emitting device further includes a second end surface that is a surface opposite to the first end surface,
前記第2端面は、前記複数の光導波路の端部の各々に対応する複数の第2光出射部を備え、  The second end surface includes a plurality of second light emitting portions corresponding to the ends of the plurality of optical waveguides,
前記凹部の内側の側壁は、前記第2端面から出射される光を反射する第2反射面を備え、  The inner side wall of the recess includes a second reflecting surface that reflects light emitted from the second end surface,
前記第2反射面は、前記複数の第2光出射部の各々から出射される光の前記第2光出射部と前記第2反射面との間の光路長が互いに等しくなるように、表面が階段状に形成されている、発光装置。  The surface of the second reflecting surface is such that the optical path lengths between the second light emitting portion and the second reflecting surface of the light emitted from each of the plurality of second light emitting portions are equal to each other. A light emitting device formed in a step shape.
請求項11において、  In claim 11,
前記複数の第1光出射部の各々から出射された光の前記第1光出射部と前記第1反射面との間の光路長と、前記複数の第2光出射部の各々から出射された光の前記第2光出射部と前記第2反射面との間の光路長と、が等しい、発光装置。  The light emitted from each of the plurality of first light emitting units is emitted from each of the plurality of second light emitting units and the optical path length between the first light emitting unit and the first reflecting surface. The light emitting device, wherein an optical path length between the second light emitting portion of light and the second reflecting surface is equal.
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