JP5156905B2 - Aptamer generating apparatus and aptamer generating method - Google Patents

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Description

本発明は、一本鎖DNAのライブラリからSELEX(Systematic evolution of ligands by exponential enrichment)法による淘汰(洗浄)と、PCR(Polymerase chain reaction)法による増幅を繰り返してターゲットと結合するDNAアプタマー(aptamer)を取得する生成方法に関する。   The present invention is a DNA aptamer that binds to a target by repeatedly performing a SELEX (systematic evolution of ligands by exponential enrichment) method 淘汰 (washing) and PCR (Polymerase chain reaction) method amplification from a single-stranded DNA library. It is related with the generation method which acquires.

従来、アプタマー生成方法においては、固定化用の磁気ビーズを用いて、磁気ビーズを好むDNAを予め排除する前処理洗浄を行った後に、後処理洗浄をSELEX法により、複数の淘汰(洗浄)を行ない、淘汰圧が高い条件下で生成したアプタマーを得るようにしている(以下「従来技術」という)。この淘汰に用いられるチップホルダAは、図14に示すように、横に8本、縦に12本のチップBが直立状態に装填されている。淘汰を行う場合には、チップホルダAからチップ把持部Cにより一回分の淘汰に必要な横8本のチップBを同時に取り上げて把持し、試薬槽に移動してチップBによって洗浄液を吸引した後、8本のチューブDの上方に移動して全チップBから洗浄液を同時に注入する方法で行っている。例えば、淘汰を4回行う場合には、順次淘汰回数を重ねる毎に横8本のチップBを同時に取り上げてチューブDに注入していくことで行われるようにしている。なお、図14において、黒丸はチップがチップホルダAに装填されている状態を示し、白丸はチップBが取り上げられて空になった状態を示す。 Conventionally, in the aptamer generation method, after pre-cleaning using a magnetic bead for immobilization to preliminarily remove DNA that prefers magnetic beads, post-cleaning is performed using the SELEX method to remove a plurality of wrinkles (washes). In this way, an aptamer generated under conditions of high soot pressure is obtained (hereinafter referred to as “prior art”). As shown in FIG. 14 , the chip holder A used for this bag is loaded with eight chips B horizontally and twelve chips B vertically. In the case of performing scissors, after picking up and gripping eight horizontal chips B necessary for a single scissor from the chip holder A and moving them to the reagent tank, the cleaning liquid is sucked by the chips B. In this method, the cleaning liquid is simultaneously injected from all the chips B by moving above the eight tubes D. For example, when wrinkles are performed four times, the horizontal eight chips B are simultaneously picked up and injected into the tube D every time the number of sprinkles is repeated. In FIG. 14 , black circles indicate a state in which the chip is loaded in the chip holder A, and white circles indicate a state in which the chip B is picked up and is empty.

淘汰を行う他の技術として、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。この特許文献1に記載の技術は、アフィニティーカラム装置(磁気ビーズに対応する)、PCRサーマルサイクラー装置、アプタマー分離精製装置、および各装置を順次に連結して各装置からの回収物を次工程に送る移動装置を有し、オリゴヌクレオチド混合物からアフィニティーカラム装置を介して特定したアプタマー候補分子をPCRサーマルサイクラー装置中で増幅し、このPCR生成物からアプタマー分離精製装置によって目的のアプタマーを選別し、回収する構成を有する。これにより、オリゴヌクレオチドの混合物をアフィニティー選別し、得られた目的アプタマーをPCR装置にて増幅した後、分離精製機に通して精製する一連の工程を繰り返すことにより、高純度のアプタマーが得られるようにしている。
特開2001−61475号公報
As another technique for performing scissors, for example, a technique described in Patent Document 1 is known. The technique described in Patent Document 1 is such that an affinity column device (corresponding to magnetic beads), a PCR thermal cycler device, an aptamer separation / purification device, and each device are sequentially connected to collect the recovered material from each device in the next step. A candidate aptamer molecule identified from the oligonucleotide mixture via the affinity column device is amplified in the PCR thermal cycler device, and the target aptamer is selected from the PCR product by the aptamer separation and purification device and recovered. It has the composition to do. As a result, a high purity aptamer can be obtained by repeating a series of steps of affinity-selecting a mixture of oligonucleotides, amplifying the obtained aptamer obtained with a PCR apparatus, and then purifying it through a separation and purification machine. I have to.
JP 2001-61475 A

しかしながら、上記の従来技術にあっては、4回の淘汰(洗浄)を行うチューブが仮に1本必要である場合に、他の7本のチューブDは無駄となり、その結果、チップBを不必要に消費する。また、通常は淘汰回数と必要本数とが異なるアプタマーを生成する場合には、チップの不必要となる消費が増大するだけでなく、チップ把持部CによるチップBの取り上げ工程もそれに応じて増加し、ひいてはアプタマー生成に要する作業時間が厖大になるという問題がある。   However, in the above-described prior art, if one tube that performs four times of cleaning (cleaning) is necessary, the other seven tubes D are wasted, and as a result, the chip B is unnecessary. To consume. Further, when an aptamer having a different number of wrinkles and a required number is usually generated, not only the unnecessary consumption of the chip increases, but also the picking process of the chip B by the chip gripping part C increases accordingly. As a result, there is a problem that the work time required to generate the aptamer becomes enormous.

例えば、4回の淘汰を行ったチューブと、5回の淘汰を行ったチューブと、6回の淘汰を行ったチューブを用意するためには、全体として3回のアプタマー生成工程を必要とし、淘汰作業だけでも合計15回も必要となるという問題がある。   For example, in order to prepare a tube that has been subjected to four times of wrinkles, a tube that has been subjected to five times of wrinkles, and a tube that has been subjected to six times of wrinkles, three aptamer generation steps are required as a whole. There is a problem that a total of 15 tasks are required for the work alone.

また、上記の特許文献1に記載の技術は、高速液体クロマトグラフ等の分離精製装置を設けることで、サーマルサイクラーで増幅されたアプタマー候補分子を含む混合液を精製するようにしているため、装置全体が複雑で、大がかりなものとなり、また、煩瑣な操作を要し、コストが嵩張るといった問題がある。   Moreover, since the technique described in Patent Document 1 is provided with a separation and purification device such as a high performance liquid chromatograph, the mixture liquid containing aptamer candidate molecules amplified by a thermal cycler is purified. There are problems that the whole is complicated and large-scale, and that cumbersome operations are required, resulting in increased costs.

本発明は、上記技術的課題に着目してなされたものであり、複雑で煩瑣な操作を要することがなく、莫大な労力を低減し、コスト安価でアプタマー生成の時間を大幅に低減可能なアプタマー生成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made by paying attention to the above technical problems, and does not require complicated and troublesome operations, and it can reduce enormous labor, can be produced at low cost and can greatly reduce the time for generating aptamers. An object is to provide a generation method.

(1)上記の目的を達成するために、本発明は、反応容器としての複数連のチューブにおいて、処理洗浄で淘汰を行うアプタマー生成装置であって、淘汰回数を、分注機に把持されるチップによる洗浄液供給回数によって前記複数連のチューブ毎に変えられるようにすると共に、前記複数連のチューブが個別に必要とする淘汰回数に対応させて、洗浄液入りの複数のチップをチップホルダの複数の孔部空孔を含む状態で予め装填しておき、前記分注機が、前記チップホルダにおける前記チップの有無の状態を許容しながら、複数の前記チップをまとめて把持することを特徴とする。
(2)また、本発明は、反応容器としての複数連のチューブにおいて、処理洗浄で淘汰を行うアプタマー生成方法であって、淘汰回数を、分注機に把持されるチップによる洗浄液の供給回数によって前記複数連のチューブ毎に変えられるようにすると共に、前記複数連のチューブが個別に必要とする淘汰回数に対応させて、洗浄液入りの複数のチップを、チップホルダの複数の孔部に空孔を含む状態で予め装填しておき、前記分注機が、前記チップホルダにおける前記チップの有無の状態を許容しながら、複数の前記チップをまとめて把持することを特徴とする。
(1) To achieve the above object, the present invention provides a plurality communicating tubes as reaction vessel, met aptamer generation apparatus performs selection processing washed grip, the淘汰回 number, the dispensing machine while to be changed for each tube of said plurality with each other by supplying the number of the cleaning liquid by chips, the plurality communication tubes so as to correspond to淘汰回 number of required individual, a plurality of chips of the cleaning solution containing The chip holder is loaded in advance with holes in the plurality of holes of the chip holder, and the dispenser grips the plurality of chips together while permitting the presence or absence of the chips in the chip holder. and to Turkey and features.
(2) Further, the present invention is an aptamer generation method in which a plurality of tubes as a reaction vessel are subjected to soot by treatment washing, and the number of soots is determined by the number of times of supply of cleaning liquid by a chip held by a dispenser. The plurality of tubes each containing the cleaning liquid can be changed into the plurality of holes of the chip holder so that the plurality of tubes can be changed for each of the plurality of tubes and corresponding to the number of times required for the plurality of tubes individually. The dispensing machine grips a plurality of the chips together while allowing the state of the presence or absence of the chips in the chip holder.

これによれば、分注機はチップホルダに装填されたチップだけを引き上げて(取り上げて)把持するので、チップを把持した位置に対応するチューブにだけ洗浄液が注入され、それ以外のチップを把持しないチューブには洗浄液の注入が停止される。これにより、選択的な淘汰を実行できる。   According to this, since the dispenser pulls up (holds) and holds only the chip loaded in the chip holder, the cleaning liquid is injected only into the tube corresponding to the position where the chip is gripped, and the other chips are gripped. The injection of the cleaning solution is stopped in the tube that does not. Thereby, selective selection can be performed.

本発明によれば、チューブラックに保持された反応容器としての複数連のチューブが必要とする淘汰の目標回数に応じて、分注機から洗浄液を選択的に注入する。このため、淘汰圧(条件)を臨機応変に変化させることができ、淘汰圧にばらつきある淘汰作業であっても、より短時間で作業を達成でき、この結果、より多くのターゲットに対応したアプタマーを短時間で容易に創成することができる効果を奏する。   According to the present invention, the cleaning liquid is selectively injected from the dispenser according to the target number of soots required by a plurality of tubes as reaction containers held in the tube rack. For this reason, the dredging pressure (conditions) can be changed flexibly, and even dredging work with varying drooping pressure can be accomplished in a shorter time. As a result, aptamers corresponding to more targets can be achieved. The effect that can be easily created in a short time is exhibited.

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図を参照して詳述する。図1は実施形態のアプタマー生成方法に適用されるアプタマー生成装置1の外観斜視図、図2は該アプタマー生成装置1の内部における平面図、図3は該アプタマー生成装置1のブロック図である。アプタマー生成装置1は、その前面上部にタッチパネル2が設けられ、後述するシーケンサ23を中心とする電子回路が組み込まれ、タッチパネル2から入力される制御信号がシーケンサ23やコンピュータ24へ出力するようになっている。アプタマー生成装置1はウィンドゥが嵌め込まれ、外部雰囲気から内部を遮断していて、外部天井面に設けたクリーンユニット3により内部環境を清浄な状態に維持する。また、アプタマー生成装置1内部の天井部には、分注手段の一部である分注機4、およびアプタマーや洗浄液の入ったチューブを把持するロボットハンド5が移動可能に懸垂される。分注機4には、後述するチップホルダ8の孔部に立てて差し込まれたチップ32を抜き取って保持する図示されないチップ把持部が設けられる。ロボットハンド5は一対のハンド部でなり、これらハンド部の間隔を狭めることで後述するチューブラック33などの両側縁を把持し、間隔を広げることで把持したチューブラック33などを離したりする。なお、チップラック33には、チップの有無を検出する図示されないチップ検出センサが設けられている。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an external perspective view of an aptamer generating apparatus 1 applied to the aptamer generating method of the embodiment, FIG. 2 is a plan view inside the aptamer generating apparatus 1, and FIG. 3 is a block diagram of the aptamer generating apparatus 1. The aptamer generating device 1 is provided with a touch panel 2 at the upper front portion thereof, and an electronic circuit centered on a sequencer 23 described later is incorporated, and a control signal input from the touch panel 2 is output to the sequencer 23 and the computer 24. ing. The aptamer generating apparatus 1 is fitted with a window, shuts the inside from the external atmosphere, and maintains the internal environment in a clean state by the clean unit 3 provided on the external ceiling surface. In addition, a dispenser 4 that is a part of the dispensing unit and a robot hand 5 that grips a tube containing the aptamer and the cleaning liquid are suspended from the ceiling inside the aptamer generating apparatus 1 so as to be movable. The dispenser 4 is provided with a tip gripping portion (not shown) that pulls out and holds the tip 32 inserted in a hole in the tip holder 8 described later. The robot hand 5 is composed of a pair of hand parts, and grips both side edges of a tube rack 33 and the like which will be described later by narrowing the distance between the hand parts, and releases the gripped tube rack 33 and the like. The chip rack 33 is provided with a chip detection sensor (not shown) that detects the presence or absence of a chip.

アプタマー生成装置1内部の作業台7には、淘汰圧を可変にしてアプタマーを自動的に創成するに必要となる機構要素として、チップを縦横にマトリックス状に立てて配列保持するチップラック(チップホルダ)8、DNAを洗浄する反応容器としてのチューブ(反応チューブ)9、該チューブ9を振動して攪拌するミキサユニット10,磁気手段を昇降させる磁気昇降ステージ11,チューブ9に被せたチューブ蓋を取り外す蓋取ステージ12,取り外した該チューブ蓋を置くためのチューブ蓋ラック置場13,PCR産物を4℃の温度条件下で保管するPCR産物保管槽14,PCR試薬を4℃の条件下で調整する調整ステージ15、試薬槽16,自動開閉扉付きのアンモニア槽17、チップ廃棄口18,廃液槽19,自動開閉扉と温度調節付きのPCR本体20、試薬槽置場21,および試薬槽22が設けられている。上記分注機4やロボットハンド5は、図2に示す天井部に設けた案内レール6に沿ってコンピュータによるシーケンス制御にしたがって3次元空間を自由に移動制御される。従って、このアプタマー生成装置1は、分注機4やロボットハンド5が、アプタマー生成処理プログラムにより、上記所定のステージや種々の機構要素へ移動して動作し、後述する所用の前処理洗浄や後処理洗浄が実行できるようになっている。なお、アプタマー生成装置1の内部には蛍光灯、および殺菌灯なども配備されている。   The work table 7 in the aptamer generating apparatus 1 has a chip rack (chip holder) that holds chips arranged vertically and horizontally in a matrix as a mechanism element necessary for automatically creating an aptamer with variable repulsive pressure. 8) A tube (reaction tube) 9 as a reaction vessel for washing DNA, a mixer unit 10 that vibrates and stirs the tube 9, a magnetic lifting stage 11 that lifts and lowers the magnetic means, and a tube lid that covers the tube 9 is removed. Lid stage 12, tube lid rack place 13 for placing the removed tube lid, PCR product storage tank 14 for storing PCR products at 4 ° C., adjustment for adjusting PCR reagents under 4 ° C. Stage 15, reagent tank 16, ammonia tank 17 with automatic opening / closing door, chip disposal port 18, waste liquid tank 19, automatic opening / closing door and temperature PCR body 20 with sections reagent reservoir Area 21 and the reagent tank 22, are provided. The dispensing machine 4 and the robot hand 5 are freely moved and controlled in a three-dimensional space according to sequence control by a computer along guide rails 6 provided on the ceiling shown in FIG. Therefore, the aptamer generating apparatus 1 is operated by the dispenser 4 or the robot hand 5 moving to the predetermined stage or various mechanism elements according to the aptamer generating processing program, and performing the pre-processing cleaning and the post-processing described later. Processing cleaning can be performed. Note that a fluorescent lamp, a germicidal lamp, and the like are also provided inside the aptamer generating apparatus 1.

アプタマー生成装置1の自動制御システムは、図3に示すブロック図で構成され、シーケンサ23を中心として上記アプタマー生成装置1における適宜の機構要素を制御する。シーケンサ23には、入力インターフェース、出力インターフェース、プログラム、データ格納部が設けられる。入力インターフェースには、上記タッチパネル2と演算部としてのコンピュータ24とが接続される。タッチパネル2は種々のスイッチやキーが設けられ、これらを操作することで種々の制御条件を入力したり、プログラムを変更したりできるようになっている。また、パネル2からはコンピュータ24へも制御条件が入力できるようになっていて、これによりシーケンサ23内部のデータ格納部のデータやプログラムを書き換え変更して設定できる。タッチパネル2から入力される制御条件に応じてプログラムが実行され、演算処理された結果が出力インターフェースから出力され、アプタマー生成処理の手順が実行される。   The automatic control system of the aptamer generation device 1 is configured by the block diagram shown in FIG. 3 and controls appropriate mechanism elements in the aptamer generation device 1 with the sequencer 23 as a center. The sequencer 23 is provided with an input interface, an output interface, a program, and a data storage unit. The touch panel 2 and a computer 24 as a calculation unit are connected to the input interface. The touch panel 2 is provided with various switches and keys. By operating these switches, various control conditions can be input and programs can be changed. In addition, control conditions can be input from the panel 2 to the computer 24, whereby data and programs in the data storage section in the sequencer 23 can be rewritten and set. The program is executed in accordance with the control conditions input from the touch panel 2, the result of the arithmetic processing is output from the output interface, and the aptamer generation processing procedure is executed.

また、入力インターフェースには、分注機7の図示されないチップ把持部に設置したチップセンサからの検出信号が入力される。これにより、チップセンサがチップホルダ8にチップが保持されているか、保持されない空状態であるかを検出し、チップの存在が検出されたチップは、分注機4のチップ把持部により把持されてチップホルダ8から取り出されるようになっている。   In addition, a detection signal from a chip sensor installed in a chip gripping unit (not shown) of the dispenser 7 is input to the input interface. Thereby, the chip sensor detects whether the chip is held in the chip holder 8 or is not held, and the chip in which the presence of the chip is detected is gripped by the chip gripping portion of the dispenser 4. It is taken out from the chip holder 8.

なお、仮に検出結果と、予め設定された淘汰条件に不一致がある場合には、その場で動作を停止し、エラーを表示するようにすることも可能である。   If there is a discrepancy between the detection result and a preset saddle condition, it is possible to stop the operation on the spot and display an error.

一方、出力インターフェースには、8連タイプの分注機7、ロボットハンド5,PCR20、磁気昇降ユニット25、蓋取りユニット26,冷却試薬槽16,25%アンモニア槽17、およびPCR産物保管槽14などが接続される。これにより、出力インターフェースから出力された制御信号により、これら制御対象が制御され、所定のアプタマー生成処理が行われる。   On the other hand, the output interface includes an eight-series type dispenser 7, a robot hand 5, a PCR 20, a magnetic lifting unit 25, a capping unit 26, a cooling reagent tank 16, a 25% ammonia tank 17, a PCR product storage tank 14, and the like. Is connected. Thereby, these control objects are controlled by the control signal output from the output interface, and a predetermined aptamer generation process is performed.

図4は、淘汰圧を可変する方法を説明する図である。分注手段の一構成要素であるチップホルダ8は、12行8列のマトリックス状に配列されたチップ32を保持する孔部を有し、横一列に8個の孔部(以下、「8連の孔部」ともいう)が、また、縦方向に12列の孔部が並べられ、合計で96個の孔部が設けられている。黒丸で示した部分はチップ32を示し、白丸の部分はチップ32が存在しない空の孔部を示す。   FIG. 4 is a diagram for explaining a method for varying the soot pressure. The tip holder 8 which is one component of the dispensing means has holes for holding the chips 32 arranged in a matrix of 12 rows and 8 columns, and has eight holes (hereinafter referred to as “8 series”). 12 holes are arranged in the vertical direction, and a total of 96 holes are provided. A black circle indicates the chip 32, and a white circle indicates an empty hole where the chip 32 does not exist.

チップホルダ8の各行ごとにおける8連の孔部には、淘汰の目標回数に応じてスポイト状のチップ32が、空孔を含むような状態でセットされる。具体的に図4には、後述するチューブラック33に保持される8連のチューブ34の洗浄回数(淘汰回数)を左側から順に4,3,2,1,4,3,2,1回に設定する場合を示す。、図4(a)は、チップホルダ8の一ライン目のチップ32列を用いて淘汰を行う1回目の淘汰工程、同(b)は二ライン目のチップ32列を用いて淘汰を行う2回目の淘汰工程、同(c)は三ライン目のチップ32列を用いて淘汰を行う3回目の淘汰工程、同(d)は四ライン目のチップ32列を用いて淘汰を行う4回目の淘汰工程である。なお、淘汰における洗浄水の注入工程は上記のシーケンサ23により処理が実行されていく。淘汰圧(淘汰回数)可変の注入工程を可能にするために、チップラック8には、その最も左側の縦の列から右側の縦の列の順に、4本、3本、2本、1本、4本、3本、2本、1本のチップ32が先頭ライン位置から順番にセットされるようになっている。なお、淘汰回数(洗浄回数)は、装置が稼働する前にタッチパネル2で任意に入力して設定しておくことで、設定条件とチップ32の配置状態が一致しているか否かを検出できる。   In the eight holes in each row of the chip holder 8, a dropper-shaped chip 32 is set so as to include holes according to the target number of times of scissors. Specifically, in FIG. 4, the number of cleanings (the number of sputums) of the eight tubes 34 held in the tube rack 33 described later is 4, 3, 2, 1, 4, 3, 2, 1 in order from the left. Indicates the case of setting. FIG. 4A shows the first wrinkling process in which the first row of chips 32 rows of the chip holder 8 is used, and FIG. 4B shows that the second row of chips 32 is used 2 The third wrinkle process, (c) is a third wrinkle process in which wrinkles are performed using the third row of chips 32 rows, and (d) is the fourth time in which wrinkles are carried out using the fourth row of chips 32 rows. It is a dredging process. In addition, the process of injecting the washing water in the tub is executed by the sequencer 23 described above. In order to enable an injection process with variable soot pressure (number of times of soot), the chip rack 8 has four, three, two, one in order from the leftmost vertical column to the right vertical column. Four, three, two, and one chip 32 are set in order from the top line position. Note that the number of times of washing (the number of times of washing) is arbitrarily input and set on the touch panel 2 before the apparatus is operated, so that it is possible to detect whether or not the setting condition matches the arrangement state of the chip 32.

こうして、淘汰1回目では、第1行の孔部の全部に保持されたチップ32が分注機4のチップ把持部により把持されてチップホルダ8から取り出される。取り出されたチップ32は、分注機4によりチューブラック33の真上の位置まで移動し、次いで下降移動してチップ32の先端部がチューブ34に進入し、エア圧を作用させてチップ32内の洗浄水をチューブ34に注入するようになっている(注入工程)。図4において、洗浄水が注入されたチューブは、黒色で表示した。なお、洗浄水は食塩水などが好ましいが、これ以外のものであってもよい。また、食塩水濃度は適宜に変えてもよく、これにより種類を2種類以上に分けて使用することも可能である。   Thus, at the first time, the tip 32 held in all the holes in the first row is gripped by the tip gripping portion of the dispenser 4 and taken out from the tip holder 8. The taken-out tip 32 is moved to a position directly above the tube rack 33 by the dispenser 4 and then moved downward so that the tip end portion of the tip 32 enters the tube 34 to apply air pressure to the inside of the tip 32. The washing water is injected into the tube 34 (injection step). In FIG. 4, the tube into which the cleaning water has been injected is displayed in black. The washing water is preferably saline, but may be other than this. In addition, the saline concentration may be changed as appropriate, so that the types can be divided into two or more types.

淘汰2回目も、上記と同様にして第2行の孔部に立てて保持されているチップ32だけが分注機で持ち上げられて搬送され、図4(b)のように対応するチューブ34に洗浄水が注入される。同(c)では第3行の、(d)では第4行のチップ32がそれぞれ取り上げられ、注入工程を経て最終的に同(e)に示すように、それぞれ淘汰の目標回数に到達した8本のチューブ34が得られる。こうして、チップホルダ4に立てて保持されるチップ32のうち、第1行の孔部には、淘汰1回目の洗浄を行うチューブ34に対応させてチップ32が配置され、第2行には、淘汰2回目の洗浄を行うチューブ34に対応する孔部にチップ32が配置される。すなわち、淘汰2回目の洗浄を行わない孔部にはチップ32はセットしない。第3行には淘汰3回目の洗浄を行うチューブ34に対応する孔部にチップ32が配置され、第4行には淘汰4回目の洗浄を行うチューブ34に対応する孔部にチップ32が配置される。換言すると、チップホルダ8上のチップ32の配列を各列についてみると、各チューブ34の淘汰回数に応じた本数のチップ32を予め先頭行からセットしていくことで、同一の淘汰工程内で、チップ32の供給回数をチューブ34毎に個別に変化させながら、淘汰が実行されていくこととなる。   At the second time, in the same manner as described above, only the tips 32 held upright in the holes of the second row are lifted and conveyed by the dispenser, and are transferred to the corresponding tubes 34 as shown in FIG. Wash water is injected. In (c), the chips 32 in the third row and (d) in the fourth row are picked up, respectively, and finally reached the target number of soots through the implantation step, as shown in (e). A tube 34 is obtained. In this way, among the chips 32 held upright on the chip holder 4, the chips 32 are arranged in the holes of the first row corresponding to the tubes 34 that perform the first cleaning, and the second row has The tip 32 is disposed in the hole corresponding to the tube 34 that performs the second cleaning. That is, the tip 32 is not set in the hole where the second cleaning is not performed. In the third row, the tip 32 is disposed in the hole corresponding to the tube 34 that performs the third cleaning, and in the fourth row, the tip 32 is disposed in the hole corresponding to the tube 34 that performs the fourth cleaning. Is done. In other words, when the arrangement of the chips 32 on the chip holder 8 is seen for each column, the number of chips 32 corresponding to the number of times of dripping of each tube 34 is set in advance from the top row, so that within the same dredge process The scissors are executed while changing the number of times of supplying the chip 32 for each tube 34 individually.

こうして、チップ32の存在しないチューブ34には、洗浄液の注入が停止され、チップが存在する位置のチューブ34にだけ淘汰が実施される。これにより、分注機4が、8連の全てのチップ32に注入用エアを同時に吹き込ませる構造であっても、チップ32の有無によって、各チューブ34に洗浄液が独立して注入することができ、淘汰圧を可変にしてアプタマーを生成できるようになっている。   In this way, the injection of the cleaning liquid is stopped in the tube 34 where the chip 32 is not present, and only the tube 34 in the position where the chip is present is subjected to scissors. Thereby, even if the dispenser 4 has a structure in which injection air is simultaneously blown into all eight chips 32, the cleaning liquid can be independently injected into each tube 34 depending on the presence or absence of the chips 32. The aptamer can be generated by changing the selection pressure.

図5では、後処理洗浄に使用される8本のチューブ34と、これらチューブを保持するチューブラック33と、各チューブ34の蓋をするチューブ蓋35と、これらチューブ蓋を保持するチューブ蓋ラック36とが示されている。チューブラック33に配置される8連のチューブ34の間隔およびチューブ蓋ラック36に配置される8個のチューブ蓋35の間隔は、上記のチップホルダ8に形成した孔部の間隔とほぼ同じになるように設定される。図5(b)のように、チューブ蓋ラック36をチューブラック33に重ねることで、チューブ34がチューブ蓋35により蓋をされ、外部から不純物が混入したり、内部の液が飛び出したりしないようになっている。なお、37,38は位置決めピンであり、重ねたときに位置決めピン38がチューブラック33に形成した孔に係合することで、2つのラック33,36が位置ズレしないようになっている。これらのラック33、36は、ロボットハンド5で把持され、例えば、図2,図6に示すように、磁気昇降ステージ11の近傍に設けた一対の支持台38に搬送され、図7に示す状態でセットされる。なお、チューブラック33の位置決めピン37は、支持台38に設けた位置決め孔39に係合し、チューブラック33およびチューブ蓋ラック36が支持台38に位置決めされる。   In FIG. 5, eight tubes 34 used for post-processing cleaning, a tube rack 33 that holds these tubes, a tube lid 35 that covers each tube 34, and a tube lid rack 36 that holds these tube lids. Is shown. The interval between the eight tubes 34 arranged in the tube rack 33 and the interval between the eight tube lids 35 arranged in the tube lid rack 36 are substantially the same as the interval between the holes formed in the tip holder 8. Is set as follows. As shown in FIG. 5B, the tube lid rack 36 is overlapped with the tube rack 33, so that the tube 34 is covered with the tube lid 35 so that impurities are not mixed in from the outside and the liquid inside does not jump out. It has become. Reference numerals 37 and 38 denote positioning pins, and the two racks 33 and 36 are prevented from being displaced when the positioning pins 38 are engaged with holes formed in the tube rack 33 when they are stacked. These racks 33 and 36 are gripped by the robot hand 5 and, for example, as shown in FIGS. 2 and 6, are transported to a pair of support bases 38 provided in the vicinity of the magnetic lifting stage 11, and are in the state shown in FIG. Set by. The positioning pins 37 of the tube rack 33 are engaged with positioning holes 39 provided in the support base 38, so that the tube rack 33 and the tube lid rack 36 are positioned on the support base 38.

上記の磁気昇降ステージ11は、図示されない昇降機構により作業台7に対して上下に移動可能に形成されるとともに、磁石40を有する孔41がチューブ34の保持間隔と同じ間隔で設けられる。また、作業台7には、磁気昇降ステージ11を跨ぐ位置まで進行し、進行位置から後退する作用部材42が設けられる。作用部材42には、チューブラック33が上方へ浮き上がらないように押えつける第1押え部43と、第2押え部44が設けられる。第1押え部43はチューブ蓋35を取り外す場合に使用され、第2押え部44はチューブ蓋35を取り外した後のチューブラック33を真上から押える場合に使用されるように形成される。第2押え部44は、図6(b)に示すように、長孔部45の下方に伸びるスカート部で形成され、チューブラック33に着座したときに、チューブラック33から首を出すチューブ34に干渉することがなく、かつ、長孔部45の存在によりチップ把持部に保持されたチップ32の下降が許容されるようになっている。また、第1、第2両押え部43,44および長孔部45には、チューブ34に干渉しない円弧状の逃げ用凹部46,47が形成される。   The magnetic elevating stage 11 is formed so as to be movable up and down with respect to the work table 7 by an elevating mechanism (not shown), and holes 41 having magnets 40 are provided at the same interval as the holding interval of the tube 34. The work table 7 is provided with an action member 42 that travels to a position straddling the magnetic lifting stage 11 and retracts from the travel position. The action member 42 is provided with a first presser portion 43 and a second presser portion 44 that press the tube rack 33 so that the tube rack 33 does not float upward. The first pressing portion 43 is used when the tube lid 35 is removed, and the second pressing portion 44 is formed when used to press the tube rack 33 from above after the tube lid 35 is removed. As shown in FIG. 6 (b), the second presser portion 44 is formed by a skirt portion extending below the long hole portion 45, and is attached to the tube 34 that protrudes from the tube rack 33 when seated on the tube rack 33. There is no interference, and the presence of the long hole portion 45 allows the tip 32 held by the tip gripping portion to be lowered. The first and second presser portions 43 and 44 and the long hole portion 45 are formed with arc-shaped escape recesses 46 and 47 that do not interfere with the tube 34.

したがって、図7の状態にあるチューブ蓋ラック36を引き上げる場合には、作用部材42の第1押え部43をチューブラック33とチューブ蓋ラック36との間に側部から進入させてチューブラック33を押える。この状態において、ロボットハンド5でチューブ蓋ラック36を両側から挟持し、上方に引き上げることでチューブ蓋35が図5(a)のように取り外すことができる。この蓋取り外し処理は、磁気昇降ステージ11の支持台38で行ったが、磁気昇降ステージ近傍の作業台7に別の支持台を設け、この支持台でチューブ蓋を取り外すようにすることも勿論可能である。   Therefore, when pulling up the tube lid rack 36 in the state of FIG. 7, the first presser portion 43 of the action member 42 is caused to enter from the side between the tube rack 33 and the tube lid rack 36 so that the tube rack 33 is moved. suppress. In this state, the tube lid rack 36 is clamped from both sides by the robot hand 5 and pulled up to remove the tube lid 35 as shown in FIG. Although this lid removal processing was performed on the support base 38 of the magnetic lifting stage 11, it is of course possible to provide another support base on the work table 7 in the vicinity of the magnetic lifting stage and remove the tube lid with this support base. It is.

淘汰を行う場合には、その事前準備として作用部材42は磁気昇降ステージ11を跨ぐ位置まで移動させる。作用部材42を下降させ、第2押え部44でチューブラック33を上から押しつけ、この状態で淘汰が行われる。支持ステージ11近傍の上記別の支持台でチューブ蓋を取り外す形態の場合には、一旦、ロボットハンド5でチューブラック33を両側から把持し、それを磁気昇降ステージ11の支持台38へ移動させてから第2押え部44で押えるようにするとよい。   When performing scissors, the action member 42 is moved to a position straddling the magnetic elevating stage 11 as a preliminary preparation. The action member 42 is lowered, and the tube rack 33 is pressed from above by the second pressing portion 44. In this state, wrinkling is performed. In the case of removing the tube lid with the other support stand in the vicinity of the support stage 11, the robot rack 5 once holds the tube rack 33 from both sides and moves it to the support stand 38 of the magnetic lifting stage 11. The second presser portion 44 may be used for pressing.

かかる押しつけ状態や上記のチューブ蓋35の取り外しは、磁気昇降ステージ11の支持台38で行ったが、磁気昇降ステージ11に隣接した作業台7に別の支持台を設け、ここで行う前処理洗浄の処理でも行われるようにしてもよい。   The pressing state and the removal of the tube lid 35 are performed on the support base 38 of the magnetic elevating stage 11. However, a separate support base is provided on the work table 7 adjacent to the magnetic elevating stage 11, and pretreatment cleaning is performed here. This process may also be performed.

上記の磁気昇降ステージ11は、該ステージが上昇することでチューブ34が孔41に包み込まれる。これにより、孔41に取付けた磁石40の磁場がチューブ外部から印加され、磁性を有する磁気ビーズが磁石40に引き寄せられる。かかる機能を利用して淘汰を効率的に実行できるように構成している。磁気ビーズの吸着が終わると磁気昇降ステージ11は、下降して作業台7の面とほぼ同じ高さの状態に復帰する。上記した種々の動作(手順)はシーケンサ23により実行される。   In the magnetic lifting / lowering stage 11, the tube 34 is wrapped in the hole 41 when the stage is raised. Thereby, the magnetic field of the magnet 40 attached to the hole 41 is applied from the outside of the tube, and magnetic beads having magnetism are attracted to the magnet 40. It is comprised so that a soot can be performed efficiently using this function. When the adsorption of the magnetic beads is finished, the magnetic elevating stage 11 is lowered and returned to a state of almost the same height as the surface of the work table 7. The various operations (procedures) described above are executed by the sequencer 23.

次に、アプタマー生成方法の処理手順を図2,図8〜図13を参照して説明する。図8は、SELEX法でタンパク結合DNA(アプタマー)が回収されるサイクルを示し、図9〜図13はアプタマー生成のプロトコル図である。なお、図9〜図13中における□枠内の数字は生成過程のステップを示すものとする。ステップ1からステップ5までは前処理洗浄工程であり、ステップ6以降のステップは後処理洗浄工程を示す。また、本実施形態における各処理工程における処理時間、分注容量、処理温度などの各条件の一例については、各図に記載した通りである。   Next, the processing procedure of the aptamer generation method will be described with reference to FIGS. 2 and 8 to 13. FIG. 8 shows a cycle in which protein-bound DNA (aptamer) is collected by the SELEX method, and FIGS. 9 to 13 are protocol diagrams of aptamer production. Note that the numbers in the squares in FIGS. 9 to 13 indicate the steps of the generation process. Steps 1 to 5 are pre-processing cleaning steps, and steps after step 6 are post-processing cleaning steps. In addition, examples of conditions such as processing time, dispensing volume, processing temperature, and the like in each processing step in the present embodiment are as described in each drawing.

図9はライブラリ混合、ビーズ非特異排除工程を示し、スタート時において、事前に色々な配列構造を有する一本鎖のDNA(ssDNA)と、磁気ビーズを好むDNAを固定するための磁気ビーズを用意する。ssDNAをチューブ内でPCR装置20により増幅し(ステップ0−1〜ステップ0−3)、ステップ1でこれに固定化用の磁気ビーズを分注した後、ミキサユニット10によりチューブを加振して内部を攪拌し(ステップ2)て磁気ビーズを好むDNAを磁気ビーズを磁石40に固定する。ステップ3において、磁気昇降ステージ11の磁石40(図7参照)を用いて、磁気ビーズを好むDNAと共にを磁気ビーズをチューブ34の内壁に固定した状態で、ステップ4において、チューブ34から溶液だけを吸引し、その溶液を別の容器(チューブ)に分注してPCR装置20で増幅させることで前処理洗浄(プレ洗浄)が行われる。これにより、非特異吸着による洗浄(すすぎ)が終わる(ステップ5)。これは図8のS1に相当する。   Fig. 9 shows the library mixing and non-specific bead exclusion steps. At the start, single-stranded DNA (ssDNA) having various arrangement structures and magnetic beads for immobilizing DNA that prefers magnetic beads are prepared. To do. The ssDNA is amplified in the tube by the PCR device 20 (Step 0-1 to Step 0-3), and after immobilizing magnetic beads for immobilization in Step 1, the tube is vibrated by the mixer unit 10. The inside is agitated (step 2), and DNA that prefers magnetic beads is fixed to the magnet 40. In Step 3, using the magnet 40 (see FIG. 7) of the magnetic lifting / lowering stage 11, together with DNA that prefers magnetic beads, the magnetic beads are fixed to the inner wall of the tube 34, and in Step 4, only the solution is removed from the tube 34. A pretreatment washing (pre-washing) is performed by aspirating and dispensing the solution into another container (tube) and amplifying the solution by the PCR device 20. Thereby, the washing (rinsing) by non-specific adsorption is completed (step 5). This corresponds to S1 in FIG.

後処理洗浄工程の最初のステップとなるステップ6において、癌細胞等のターゲット(タンパク)付きの固定化磁気ビーズを分注し(図8のS2に相当)、PCR装置により増幅させた後、ミキサーにて攪拌し(ステップ7)、磁気昇降ステージ11で磁気ビーズをチューブ34の内壁に固定した状態で(ステップ8)、内部の溶液を吸引して(ステップ8)、それを廃液槽19へ廃棄する(ステップ10)。これにより、淘汰一回目の洗浄が終わり(図8のS3に相当)、磁気ビーズ側に、目的のタンパク結合DNAを残留させることができる。   In Step 6, which is the first step of the post-treatment washing step, immobilized magnetic beads with a target (protein) such as cancer cells are dispensed (corresponding to S2 in FIG. 8), amplified by a PCR device, and then mixed with a mixer (Step 7), the magnetic beads are fixed to the inner wall of the tube 34 by the magnetic lifting stage 11 (Step 8), the solution inside is sucked (Step 8), and is discarded to the waste liquid tank 19. (Step 10). Thereby, the first washing is completed (corresponding to S3 in FIG. 8), and the target protein-bound DNA can be left on the magnetic bead side.

図10はターゲット(タンパク)と混合、淘汰、PCR工程を示し、同図において、上記で得られたタンパク結合DNAにBinding bufferA(生理食塩水等)を分注してから(ステップ11)、攪拌し(ステップ12)、磁気昇降ステージ11にて磁気ビーズを吸着させ(ステップ13)、内部の溶液を廃液する(ステップ14〜15)。こうして、淘汰2回目の洗浄によるタンパク結合DNAを回収できることとなる(ステップ15)。   FIG. 10 shows mixing with a target (protein), sputum, and PCR process. In FIG. 10, binding buffer A (such as physiological saline) is dispensed into the protein-binding DNA obtained above (step 11), and then stirred. (Step 12), magnetic beads are adsorbed on the magnetic lifting stage 11 (Step 13), and the internal solution is drained (Steps 14 to 15). Thus, protein-bound DNA can be recovered by the second washing (step 15).

以下同様にして、例えば、淘汰8回目の洗浄を実施する場合には、再びステップ11に戻って行う。ステップ12〜15は淘汰圧が可変であるので、これらステップを繰り返して実行することで淘汰8回目の洗浄によるタンパク結合DNAを得ることができる。本実施形態ではすすぎ回数(淘汰回数)を8回の場合で説明したが、勿論これに限定されるものでないことは言うまでもない。なお、この淘汰圧を可変にするのは、既に図4等で説明した手法による。   In the same manner, for example, when the eighth cleaning is performed, the process returns to step 11 again. Since the selection pressure is variable in steps 12 to 15, protein-binding DNA can be obtained by the eighth washing by repeatedly executing these steps. In the present embodiment, the case where the number of times of rinsing (the number of times of rinsing) is 8 has been described, but it is needless to say that the number of times is not limited to this. Note that the variable pressure is made variable by the method already described with reference to FIG.

ステップ16−1においてPCR試薬調整ステージ15でPCR溶液を分注した後、攪拌し(ステップ17−1)、PCR工程で増幅させる(ステップ18−1)。   In step 16-1, after the PCR solution is dispensed in the PCR reagent adjustment stage 15, it is stirred (step 17-1) and amplified in the PCR process (step 18-1).

図11はPCR産物回収、保存、ビチオン固定工程を示し、同図においてステップ19で攪拌してPCR産物を得て、磁気昇降ステージ11にて磁気ビーズを吸着させてから(ステップ20)、内部の溶液を吸引し(ステップ21)、その溶液を別の容器に分注し(ステップ22)、新規チップを投入して吸引し(ステップ23)、できたPCR産物を保管槽14に分注して回収保存する。PCR産物に新規チップを投入してBinding BufferBを分注し(ステップ26)、攪拌(ステップ27)、磁気ビーズ吸着(ステップ28)、溶液の吸引(ステップ29)を経て溶液を廃液する(ステップ30)。こうして、ビチオンを固定できる。   FIG. 11 shows the PCR product collection, storage, and bition fixing steps. In FIG. 11, the PCR product is obtained by stirring in step 19 and the magnetic beads are adsorbed by the magnetic lifting stage 11 (step 20). The solution is aspirated (step 21), the solution is dispensed into another container (step 22), a new chip is introduced and aspirated (step 23), and the resulting PCR product is dispensed into the storage tank 14. Collect and store. A new chip is put into the PCR product, and Binding Buffer B is dispensed (step 26), and the solution is drained through stirring (step 27), magnetic bead adsorption (step 28), and suction of the solution (step 29) (step 30). ). In this way, the bithion can be fixed.

図12はビチオン固定、一本鎖DNA(single strand DNA)化工程を示し、ステップ31で新規チップを投入し、Binding BufferCを分注し、攪拌(ステップ32)、磁気ビーズ吸着(ステップ33)、溶液吸引(ステップ34)、溶液廃液(ステップ35)を経た後、ステップ36で新規チップを投入してBinding BufferCを分注する。その後、蓋取ステージ12にて攪拌し(ステップ37)、磁気昇降ステージ11にてビーズの吸着(ステップ38)、溶液の吸引(ステップ39)を経て溶液を廃液する(ステップ40)。DNAの一本鎖化が可能となる。   FIG. 12 shows a process for immobilization of bithione and conversion to single strand DNA. In Step 31, a new chip is introduced, Binding Buffer C is dispensed, stirring (Step 32), magnetic bead adsorption (Step 33), After passing through the solution aspiration (step 34) and the solution waste liquid (step 35), in step 36, a new chip is introduced and the Binding Buffer C is dispensed. Thereafter, stirring is performed on the lid removal stage 12 (step 37), and the solution is drained through adsorption of beads (step 38) and suction of the solution (step 39) on the magnetic lifting stage 11 (step 40). It becomes possible to make a single strand of DNA.

図13はssDNA化、ライブラリ再調整工程を示し、蓋取ステージ12で新規チップを投入してからアンモニアを分注し(ステップ41)、攪拌処理を経て(ステップ42)、ステップ43で磁気ビーズを吸着させ、内部溶液を吸引して(ステップ44)、それを別の容器に分注して増幅し(ステップ45)、乾燥させる(ステップ46)。これにBinding BufferAを分注してPCR装置20で増幅させ(ステップ47)、攪拌し(ステップ48)てからステップ6に復帰し、ライブラリ再調整工程に戻される。このように一本鎖化したDNAを一本鎖DNAライブラリに戻すことができる。   FIG. 13 shows the ssDNA conversion and library readjustment process. After introducing a new chip at the lid removal stage 12, ammonia is dispensed (step 41), and after stirring (step 42), the magnetic beads are added at step 43. Adsorb and suck the internal solution (step 44), dispense it into another container, amplify (step 45), and dry (step 46). Binding Buffer A is dispensed into this and amplified by the PCR device 20 (step 47), stirred (step 48), then returned to step 6 and returned to the library readjustment step. Such single-stranded DNA can be returned to the single-stranded DNA library.

本実施形態によれば、8連分注機におけるチップ有無を変えることにより、淘汰圧(条件)を変えることができる。チップホルダに装填されるチップを淘汰回数に見合うように有無を調整して装填することで、淘汰圧にばらつきある淘汰を複雑で煩雑な操作を要することなくシーケンス制御により短時間で自動化して実施できる。また、より多くのターゲットに対応したアプタマーを容易に創成することができる利点もある。   According to the present embodiment, it is possible to change the soot pressure (condition) by changing the presence / absence of the tip in the 8-series dispenser. By adjusting the presence / absence of the chip to be loaded in the chip holder according to the number of times of loading, the wrinkles with varying pressures can be automated in a short time by sequence control without the need for complicated and complicated operations. it can. There is also an advantage that aptamers corresponding to more targets can be easily created.

以上、本発明を実施形態により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等があっても本発明の範囲に含まれるものである。   Although the present invention has been described in detail with the embodiment, the specific configuration is not limited to this embodiment, and even if there is a design change or the like without departing from the gist of the present invention, it is within the scope of the present invention. It is included.

例えば、チップの間違いを発見した場合には、エラー表示をタッチパネル2の表示画面に表示させ、あるいはアプタマー生成装置そのものの稼働を自動停止するようにしてもよい。   For example, when a mistake in the chip is found, an error display may be displayed on the display screen of the touch panel 2 or the operation of the aptamer generation device itself may be automatically stopped.

また、淘汰圧(条件)設定は、アプタマー生成装置が稼働する前に設定することで、洗浄回数を設定するようにしてもよく、また稼動中も設定できるようにすることが望ましい。   In addition, the soot pressure (condition) setting may be set before the aptamer generating device is operated, so that the number of times of washing may be set, and it is desirable that it can be set during the operation.

更に上記実施形態では、DNAによるアプタマーを生成する場合に限って例示したが、本発明はそれに限定されず、RNAやペプチドのアプタマーを生成する場合にも用いることが可能である。   Furthermore, in the said embodiment, although illustrated only when producing | generating the aptamer by DNA, this invention is not limited to it, It can be used also when producing | generating the aptamer of RNA and a peptide.

また、上記では8連タイプのチューブの場合について説明したが、これに限定されないのは勿論である。   In the above description, the case of the eight-tube type has been described, but it is needless to say that the present invention is not limited to this.

本発明は、各種素材によるアプタマーを製造する装置に適用することが可能である。   The present invention can be applied to an apparatus for producing aptamers made of various materials.

本発明の実施形態におけるアプタマー生成方法に適用されるアプタマー生成装置1の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the aptamer production | generation apparatus 1 applied to the aptamer production | generation method in embodiment of this invention. 該アプタマー生成装置の内部における平面図である。It is a top view in the inside of this aptamer production | generation apparatus. 該アプタマー生成装置1のブロック図である。1 is a block diagram of the aptamer generation device 1. FIG. アプタマー生成過程のおける淘汰圧可変の方法を示す作用説明図である。It is action | operation explanatory drawing which shows the method of variable soot pressure in an aptamer production | generation process. チューブラックとチップラックの相関関係を示す正面拡大図である。It is a front enlarged view which shows the correlation of a tube rack and a chip rack. 磁気昇降ステージと作用部材との相関関係を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows the correlation of a magnetic raising / lowering stage and an action member. チューブラックと、チップラックと、作用部材と、磁気昇降ステージとの相関関係を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows the correlation with a tube rack, a chip rack, an action member, and a magnetic raising / lowering stage. SELEXサイクルにおける洗浄淘汰工程を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the washing | cleaning soot process in a SELEX cycle. ライブラリ、磁気ビーズ非特異排除工程を説明するプロトコル図である。It is a protocol figure explaining a library and a magnetic bead non-specific exclusion process. 淘汰及びPCR工程を説明するプロトコル図である。It is a protocol figure explaining a wrinkle and a PCR process. PCR産物回収、保存、ビチオン固定工程を説明するプロトコル図である。It is a protocol figure explaining PCR product collection | recovery, preservation | save, and a bithione fixing process. ビチオン固定、一本鎖DNA化工程を説明するプロトコル図である。It is a protocol figure explaining a bithione fixed and single stranded DNA conversion process. 一本鎖DNA化、ライブラリ再調整工程を説明するプロトコル図である It is a protocol figure explaining single strand DNA conversion and a library readjustment process . 従来技術における説明図である。It is explanatory drawing in a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 アプタマー生成装置
2 タッチパネル
3 クリーンユニット
4 分注機
5 ロボットハンド
6 案内レール
7 作業台
8 チップホルダ
11 磁気昇降ステージ
20 PCR本体
32 チップ
33 チューブラック
34 チューブ
40 磁石
42 作用部材
43 第1押え部
44 第2押え部
50 ピペット
51 タンク
53 電磁弁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aptamer production | generation apparatus 2 Touch panel 3 Clean unit 4 Dispensing machine 5 Robot hand 6 Guide rail 7 Work table 8 Tip holder 11 Magnetic lifting stage 20 PCR main body 32 Tip 33 Tube rack 34 Tube 40 Magnet 42 Acting member 43 First presser 44 Second presser part 50 Pipette 51 Tank 53 Solenoid valve

Claims (2)

反応容器としての複数連のチューブにおいて、処理洗浄で淘汰を行うアプタマー生成装置であって、
汰回数を、分注機に把持されるチップによる洗浄液供給回数によって前記複数連のチューブ毎に変えられるようにすると共に、前記複数連のチューブが個別に必要とする淘汰回数に対応させて、洗浄液入りの複数のチップをチップホルダの複数の孔部空孔を含む状態で予め装填しておき、
前記分注機が、前記チップホルダにおける前記チップの有無の状態を許容しながら、複数の前記チップをまとめて把持することを特徴とするアプタマー生成装置。
In multiple communicating tubes as reaction vessel, it met aptamer generation apparatus performs selection processing washing,
The淘汰回 number, along with the supply frequency of the cleaning liquid by the chip to be held in the dispenser so as be changed for each tube of said plurality communication,汰回 number of said plurality communication tubes require individually in correspondence, a plurality of chips of the cleaning solution containing, previously loaded in a state containing voids to a plurality of holes of the tip holder,
The dispensing machine, while allowing the state of the existence of the chips in the chip holder, aptamers generated and wherein the benzalkonium be gripped together a plurality of the chips.
反応容器としての複数連のチューブにおいて、処理洗浄で淘汰を行うアプタマー生成方法であって、  In a plurality of tubes as a reaction vessel, an aptamer generation method for performing soot by treatment washing,
淘汰回数を、分注機に把持されるチップによる洗浄液の供給回数によって前記複数連のチューブ毎に変えられるようにすると共に、前記複数連のチューブが個別に必要とする淘汰回数に対応させて、洗浄液入りの複数のチップを、チップホルダの複数の孔部に空孔を含む状態で予め装填しておき、  The number of sputums can be changed for each of the plurality of tubes according to the number of times the cleaning liquid is supplied by the tip held by the dispenser, and the plurality of tubes correspond to the number of sputums individually required, A plurality of chips containing cleaning liquid are preloaded in a state including holes in a plurality of holes of the chip holder,
前記分注機が、前記チップホルダにおける前記チップの有無の状態を許容しながら、複数の前記チップをまとめて把持することを特徴とするアプタマー生成方法。  The aptamer generation method characterized in that the dispenser grips a plurality of the chips together while allowing the presence or absence of the chips in the chip holder.
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