JP5146841B2 - Plating equipment - Google Patents

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Description

本願発明は、アルミニウムの長尺材からなる大容量配電線バスダクトに用いられるアルミニウム母材(ブスバー)に良好な通電性を付与すると共に防錆を施すブスバーのメッキ装置に関する。   The present invention relates to a bus bar plating apparatus that imparts good electrical conductivity to an aluminum base material (bus bar) used in a large-capacity distribution line bus duct made of a long aluminum material, and also provides rust prevention.

特許文献1において、アルミニウムが、導電性と、機械的強度と、質量とコストとのバランスが良好な金属であるが、アルミニウム自体が電気化学的に負の電位特性が非常に強いことから、アルミニウム表面上において金属に化学的置換が生じ易いこと、アルミニウム表面に酸化物の膜が自然形成され易いことが大きな問題となっていることが開示される。このため、コーティングされた電導体は、一般的に使用される錫/鉛はんだ合金に対するぬれ性が不十分であり、特に直径が非常に小さなアルミニウム基材(0.1mmのオーダ)の場合には、金属コーティングに対する付着状態がさらに悪く、この基材のぬれ性が特に低いレベルとなるという不具合があった。このため、この引用文献1で開示される電導体の製造方、表面前処理を施し、連続電気メッキによって少なくとも1つの金属層で被覆された少なくとも部分的にアルミニウムを基材とする中心コアからなる電導体を連続的に製造する方法であって、前記コアを、20℃〜60℃の温度において、KCN、CuCN、KCO及びKNaCを含む水性電解槽中にて電流の強さ1〜10A/dmで電気化学的に銅メッキする工程と、室温ですすぐ工程と、前記コアを、20℃〜60℃の温度において、実質的にメタンスルホン酸に溶解した錫と、任意添加物質とを含む水性電解槽中にて電流の強さ1〜100A/dmで電気化学的に錫メッキする工程と、60℃の水温ですすぐ工程とからなることを特徴とするものである。 In Patent Document 1, aluminum is a metal having a good balance of electrical conductivity, mechanical strength, mass and cost, but aluminum itself has a very strong electrochemical negative potential characteristic. It is disclosed that the chemical substitution of the metal on the surface is likely to occur, and that an oxide film is easily formed on the aluminum surface is a serious problem. For this reason, coated conductors have insufficient wettability with commonly used tin / lead solder alloys, especially in the case of aluminum substrates with a very small diameter (on the order of 0.1 mm). There was a problem that the adhesion state to the metal coating was worse, and the wettability of the base material was at a particularly low level. For this reason, the manufacturing method of the conductor disclosed in the cited document 1, a surface pretreatment, and a central core based on at least a part of aluminum covered with at least one metal layer by continuous electroplating. A method for continuously producing an electrical conductor, wherein the core is subjected to an electric current in an aqueous electrolytic cell containing KCN, CuCN, K 2 CO 3 and KNaC 4 H 4 O 6 at a temperature of 20 ° C. to 60 ° C. A step of electrochemically copper plating at a strength of 1-10 A / dm 2 , a step of rinsing at room temperature, and a tin substantially dissolved in methanesulfonic acid at a temperature of 20 ° C. to 60 ° C. Characterized in that it consists of a step of electrochemically tin-plating in an aqueous electrolytic cell containing an optional additive with an electric current strength of 1 to 100 A / dm 2 and a step of rinsing at a water temperature of 60 ° C. Is .

特許文献2は、エア撹拌を利用してシリンダをメッキ処理する電気メッキ装置を開示する。この特許文献2に開示される発明は、前記シリンダが、V型に配設した円筒形のシリンダ孔を設け、シリンダ孔の軸方向に対して平行に、一対の陽極棒を挿入しており、治具下台上には、断面が三角形の陽極支持台を凸設させ、陽極棒がシリンダ孔の中心軸に対して偏心して配置されることを特徴とするものであるが、メッキ槽内には、メッキ液にエアを供給するための配管が治具下台の下部まで延出され、配管にはエアを噴出する孔が複数個形成されていることが開示されている。   Patent Document 2 discloses an electroplating apparatus for plating a cylinder using air agitation. In the invention disclosed in Patent Document 2, the cylinder is provided with a cylindrical cylinder hole arranged in a V shape, and a pair of anode rods are inserted in parallel to the axial direction of the cylinder hole. An anode support base having a triangular cross section is projected on the jig base, and the anode rod is arranged eccentrically with respect to the center axis of the cylinder hole. Further, it is disclosed that a pipe for supplying air to the plating solution extends to the lower part of the jig lower base, and a plurality of holes for ejecting air are formed in the pipe.

特許文献3は、メッキ液の浄化処理と温度管理とが同一系統で行われ、便利で空間効率の良いメッキ液処理ユニットを提供するもので、このメッキ液処理ユニットが、メッキ槽のメッキ液を取り出し且つメッキ槽に戻すポンプと、メッキ槽から取り出されたメッキ液の温度を調節する温度調節手段と、前記メッキ液を浄化処理する浄化処理手段とを備えることを開示する。   Patent Document 3 provides a plating solution processing unit that is convenient and space-efficient in that the plating solution purification process and temperature management are performed in the same system. This plating solution processing unit uses the plating solution in the plating tank. Disclosed is a pump that takes out and returns to the plating tank, a temperature adjusting means that adjusts the temperature of the plating solution taken out from the plating tank, and a purification processing means that purifies the plating solution.

特許文献4は、ハンダ濡れ性及び電気伝導性が高く、酸化や変色、ウィスカの発生が抑制される表面処理アルミニウム板を開示する。この表面処理アルミニウム板は、アルミニウムからなる部材の少なくとも一方の面に、亜鉛、ニッケル、錫を順次メッキすることによってメッキ層を形成し、さらにメッキ層の表面を第三リン酸ソーダ溶液に浸漬又は散浴させることによって、メッキ層の表面全面に第三リン酸ソーダ溶液を付着させ、乾燥後にメッキ層の表面に、水系アクリル樹脂等からなる有機皮膜を形成させたものである。これによって、錫層の表面の不純物を除去し、ハンダ濡れ性や電気伝導率を向上させ、表面の酸化や変色を抑制すると共に、その表面にさらに有機皮膜を設けることによって、表面の酸化や変色を防止することができるものである。また、亜鉛層は、アルミニウム板に対して亜鉛置換メッキを行うことによって形成されることを開示する。   Patent Document 4 discloses a surface-treated aluminum plate that has high solder wettability and electrical conductivity and suppresses oxidation, discoloration, and whisker generation. In this surface-treated aluminum plate, a plating layer is formed by sequentially plating zinc, nickel, and tin on at least one surface of a member made of aluminum, and the surface of the plating layer is further immersed in a sodium phosphate solution. By spraying, a sodium phosphate solution is adhered to the entire surface of the plating layer, and after drying, an organic film made of an aqueous acrylic resin or the like is formed on the surface of the plating layer. This removes impurities on the surface of the tin layer, improves solder wettability and electrical conductivity, suppresses surface oxidation and discoloration, and further provides an organic film on the surface, thereby oxidizing and discoloring the surface. Can be prevented. Moreover, it discloses that a zinc layer is formed by performing zinc substitution plating with respect to an aluminum plate.

特許文献5は、アルミニウムの電気メッキ方法を開示する。この方法は、特許文献5の図2に示されるように、取り付け、アルカリ性洗浄化溶液、濯ぎ、酸性洗浄化溶液、濯ぎ、非硝酸性ストリップ、濯ぎ、ジンケート処理、濯ぎ、アルカリ性Cuメッキ、濯ぎ、濯ぎ、ドライヤー、取り外しの各工程からなる。   Patent Document 5 discloses an aluminum electroplating method. In this method, as shown in FIG. 2 of Patent Document 5, mounting, alkaline cleaning solution, rinsing, acidic cleaning solution, rinsing, non-nitric acid strip, rinsing, zincate treatment, rinsing, alkaline Cu plating, rinsing, It consists of the steps of rinsing, dryer and removal.

特表平8−511059号公報Japanese translation of Japanese translation of PCT publication No. 8-511059 特開平9−87897号公報JP-A-9-87897 特開2005−126780号公報JP 2005-126780 A 特開2006−291340号公報JP 2006-291340 A 特表2007−523263号公報Special table 2007-523263

近年、テナントビルや工場などのように、場所による負荷の偏りがあったとしても余剰場所と不足場所のバランスを取ることができるという利点、さらに耐火性、耐震性に優れているという利点、電磁波の発生がほとんど無いという利点、リサイクルが容易であるという利点、電力の取り出し口を自由に選択できるという利点から、バスダクト電力幹線システムが導入される。このバスダクトには、内部にプレート若しくはブロック状のアルミニウム母材からなるブスバーが導電体として設けられ、このブスバーには導電性の向上及び防錆を保つためにメッキ処理を施す必要がある。   In recent years, such as tenant buildings and factories, even if there is a bias in load depending on the location, the advantage of being able to balance the surplus location and the shortage location, the advantage of being excellent in fire resistance and earthquake resistance, electromagnetic waves The bus duct power main system is introduced because of the advantage that there is almost no generation, the advantage that it is easy to recycle, and the advantage that a power outlet can be freely selected. The bus duct is provided with a bus bar made of a plate or block-shaped aluminum base material as a conductor, and the bus bar needs to be plated in order to improve conductivity and keep rust.

このブスバーへのメッキ処理について、例えば上述した特許文献に開示される方法において実施することも可能であるが、作業性を向上させるために、メッキ作業を自動化することが要望される。しかしながら、ブスバーのような大型の被処理体をメッキする場合、従来の方法のままでシステムの大型化を図ったとしても、ブスバーのような大面積の材料に均一な密着性を付与することは不可能である。   This bus bar plating process can be performed, for example, by the method disclosed in the above-mentioned patent document, but it is desired to automate the plating operation in order to improve workability. However, when plating a large object to be processed such as a bus bar, even if the system is increased in size using the conventional method, it is possible to impart uniform adhesion to a large area material such as a bus bar. Impossible.

このため、この発明は、バスダクトに用いられる母線(ブスバー)に良好な導電性と防錆性を付与するためのブスバーの自動化されたメッキ装置を提供することにある。   For this reason, this invention is providing the automated plating apparatus of the bus bar for providing favorable electroconductivity and rust prevention property to the bus-bar (bus bar) used for a bus duct.

本願発明に係るメッキ装置は、複数のアルミブスバーである被処理体の表面から油分を除去するための脱脂用溶液が収容された脱脂処理槽と、脱脂処理後の前記被処理体から脱脂溶剤を除去するための第1の洗浄槽と、被処理体表面の酸化物を除去するための強アルカリ溶液が収容されるエッチング槽と、エッチング後の前記被処理体から強アルカリ溶液を除去するための第2の洗浄槽と、前記被処理体の表面を活性化するための硝酸溶液が収容される硝酸活性化槽と、活性化後の前記被処理体から硝酸溶液を除去するための第3の洗浄槽と、酸化物が除去されたアルミブスバーの表面に亜鉛の無電解メッキを施す亜鉛置換液が収容される亜鉛メッキ槽と、亜鉛メッキされた表面を洗浄する第4の洗浄槽と、亜鉛メッキが施された表面に、青化銅メッキを施すための銅メッキ溶液が収容された青化銅メッキ槽と、銅メッキされた表面を洗浄する第5の洗浄槽と、銅メッキが施された前記被処理体の表面に、錫メッキを施すための錫メッキ溶液が収容された錫メッキ槽と、錫メッキが施された前記被処理体の表面後処理を行う後処理槽群と、前記複数のアルミブスバーが設置されたメッキ治具を、それぞれの槽に順次浸漬させて移動させる移動手段とによって構成されたメッキ装置において、さらに段落[0012],[0013]に示す下記要件を備えている。 The plating apparatus according to the present invention comprises a degreasing tank containing a degreasing solution for removing oil from the surface of the object to be processed, which is a plurality of aluminum bus bars, and a degreasing solvent from the object to be processed after the degreasing process. A first cleaning tank for removing, an etching tank for storing a strong alkali solution for removing oxides on the surface of the object to be processed, and a strong alkali solution for removing the object to be processed after etching A second cleaning tank; a nitric acid activation tank in which a nitric acid solution for activating the surface of the object to be treated is stored; and a third for removing the nitric acid solution from the activated object to be treated. A cleaning tank, a zinc plating tank containing a zinc replacement solution for electroless plating of zinc on the surface of the aluminum bus bar from which oxide has been removed, a fourth cleaning tank for cleaning the galvanized surface, and zinc Blue on the plated surface A bronze copper plating tank containing a copper plating solution for performing copper plating, a fifth cleaning tank for cleaning the copper-plated surface, and a surface of the object to be treated with copper plating, tin A tin plating tank containing a tin plating solution for plating, a post-treatment tank group for performing a post-treatment of the surface of the object to be plated, and a plating treatment in which the plurality of aluminum bus bars are installed. A plating apparatus constituted by moving means for sequentially immersing and moving the tool in each tank further includes the following requirements shown in paragraphs [ 0012 ] and [0013].

前記第3の洗浄槽、前記亜鉛メッキ槽及び第4の洗浄槽には、撹拌機構が設けられ、前記撹拌機構としての空気撹拌機構は、槽の下方に槽に沿って配置され、前記槽の鉛直方向に対して所定の角度で傾斜して下方に空気を噴出する空気噴出口が形成された少なくとも1本のパイプである。空気を所定の角度で下方に噴出することによって、槽内の液体にまんべんなく立ち上がる気泡を形成できるため、槽内の液体を均一に撹拌できるものである(請求項1)。 The third cleaning tank, the galvanizing tank, and the fourth cleaning tank are provided with a stirring mechanism, and an air stirring mechanism as the stirring mechanism is disposed along the tank below the tank. It is at least one pipe formed with an air outlet that inclines at a predetermined angle with respect to the vertical direction and jets air downward. By ejecting air downward at a predetermined angle, it is possible to form bubbles that rise evenly in the liquid in the tank, so that the liquid in the tank can be uniformly stirred (claim 1).

また、前記撹拌機構としての液流撹拌機構は、槽内の溶液を槽の長手方向に向かって開口する複数の噴出口と、該複数の噴出口と対峙する位置に形成される複数の吸引口と、前記複数の噴出口と前記複数の吸引口とを接続するパイプ配管と、該配管上に設けられるポンプ手段とによって構成され、前記噴出口のそれぞれは、所定の角度で下方に延出するノズルを具備するものである。これによって、槽内に被処理体に沿った流れを形成できるので、槽内の液体を効率的に撹拌することができるものである(請求項1) The liquid flow agitation mechanism as the agitation mechanism includes a plurality of jets that open the solution in the tank in the longitudinal direction of the tank, and a plurality of suction ports that are formed at positions facing the plurality of jets. And pipe pipes connecting the plurality of jet ports and the plurality of suction ports, and pump means provided on the pipes, each of the jet ports extending downward at a predetermined angle. A nozzle is provided. As a result, a flow along the object to be processed can be formed in the tank, so that the liquid in the tank can be efficiently stirred (claim 1) .

前記第3の洗浄槽、前記亜鉛メッキ槽、前記第4の洗浄槽、及び錫メッキ槽には、温度制御手段が設けられるものである。例えば液温が12℃〜17℃となるように制御されるものである(請求項2)The third cleaning tank, the galvanizing tank, the fourth cleaning tank, and the tin plating tank are provided with temperature control means. For example, the liquid temperature is controlled to be 12 ° C. to 17 ° C. (Claim 2) .

前記第2、第3及び第4の洗浄槽のそれぞれは、お互いに連通して洗浄水が移動する上流側槽と下流側槽とによって構成されると共に、前記複数の被処理体が設置されたメッキ治具が、最初に下流側槽に浸漬された後上流側槽に浸漬され、さらも上流側槽から引き上げられる時に、洗浄水が噴霧されるものである(請求項3)Each of the second, third and fourth cleaning tanks is composed of an upstream tank and a downstream tank in which cleaning water moves in communication with each other, and the plurality of objects to be processed are installed. plating jig, is first immersed in the upstream side tank after being immersed in the downstream side tank, further when also pulled up from the upstream side tank, the wash water is intended to be sprayed (claim 3).

本願発明のメッキ装置によれば、アルミニウムからなるバスダクトの母線(ブスバー)の表面に亜鉛メッキ、銅メッキ、錫メッキを施したことによって、亜鉛メッキを施すことによって銅メッキをアルミ表面に良好の付着させることができるため、銅メッキによる良好な通電性を確保でき、さらに錫メッキによる防錆効果及び良好な通電性を確保することができるものである。   According to the plating apparatus of the present invention, zinc plating, copper plating, and tin plating are applied to the surface of the bus duct bus bar made of aluminum, so that the copper plating adheres well to the aluminum surface. Therefore, good electrical conductivity by copper plating can be ensured, and further, a rust prevention effect and good electrical conductivity by tin plating can be secured.

また、亜鉛メッキ、銅メッキ及び錫メッキの前に、洗浄水への二度の浸漬と洗浄水の噴霧による洗浄を行うことから、それぞれのメッキ槽への前溶液の持ち込みを防止することができるので、自動化によって、複数のブスバーに、順次亜鉛メッキ、銅メッキ及び錫メッキを施ことが可能となるものである。特に第3の洗浄槽、前記亜鉛メッキ槽及び錫メッキ槽には、空気撹拌機構、液流撹拌機構が設けられ、前記空気撹拌機構では、空気を所定の角度で下方に噴出することによって、槽内の液体にまんべんなく立ち上がる気泡を形成できるため、槽内の液体を均一に撹拌できるものである。また、液流撹拌機構では、槽内に非処理体に沿った流れを形成できるので、槽内の液体を効率的に撹拌する事ができるものである。 In addition, before galvanizing, copper plating, and tin plating, cleaning is performed by immersing twice in cleaning water and spraying cleaning water, so that it is possible to prevent the pre-solution from being brought into each plating tank. since, by automated, a plurality of bus bars, in which it is possible to facilities sequentially galvanized, copper plating and tin plating. In particular, the third washing tank, the galvanizing tank, and the tin plating tank are provided with an air stirring mechanism and a liquid flow stirring mechanism. In the air stirring mechanism, the tank is formed by jetting air downward at a predetermined angle. Since bubbles can rise up evenly in the liquid inside, the liquid in the tank can be uniformly stirred. Further, in the liquid flow stirring mechanism, a flow along the non-processed body can be formed in the tank, so that the liquid in the tank can be efficiently stirred.

本願発明に係るメッキ装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the plating apparatus which concerns on this invention. 本願発明に係るメッキ方法のフローチャート図である。It is a flowchart figure of the plating method which concerns on this invention. 水洗スプレー洗浄槽を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the water washing spray washing tank. 二段式向流水洗槽を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the two-stage type countercurrent water washing tank. 撹拌手段の一つである空気撹拌機構を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the air stirring mechanism which is one of the stirring means. (a),(b)は撹拌手段の一つである液流撹拌機構を示した説明図である。(A), (b) is explanatory drawing which showed the liquid flow stirring mechanism which is one of the stirring means.

本願発明は、アルミニウムの長尺材からなる大容量配電線バスダクトに用いられるアルミニウム母材(ブスバー)に良好な通電性を付与すると共に防錆を施すブスバーのメッキ方法及びその装置に関するものである。このため、アルミニウムの板材に強アルカリ(苛性ソーダ)と濃硝酸で表面の酸化物を取り除き活性化させる処理を行い、その表面に化学メッキである無電解亜鉛メッキを施す。さらに、亜鉛メッキした表面に電気メッキにより青化銅メッキを施す。この銅メッキを行う工程により、後工程の電気メッキの前処理としてだけでなく、良好な通電性を保つことができるものである。さらに、銅メッキの後、電気メッキにより酸性錫メッキを施す。これによって、防錆の効果だけでなく良好な通電特性を保持できるものである。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a bus bar plating method and apparatus for imparting good electrical conductivity to an aluminum base material (bus bar) used for a large capacity distribution line bus duct made of a long aluminum material and for preventing rust. For this reason, the aluminum plate material is subjected to a treatment to remove and activate the surface oxide with strong alkali (caustic soda) and concentrated nitric acid, and the surface is subjected to electroless zinc plating which is chemical plating. Further, the copper plating is applied to the galvanized surface by electroplating. By this copper plating step, not only as a pre-treatment for electroplating in the subsequent step, but also good electrical conductivity can be maintained. Further, after copper plating, acid tin plating is performed by electroplating. As a result, not only the effect of rust prevention but also good current-carrying characteristics can be maintained.

上述したアルミブスバー(以下、被処理体)への亜鉛メッキ、銅メッキ及び錫メッキを自動化するにあたって、液温と濃度管理、さらに前処理を含む亜鉛メッキ工程の時間及び撹拌により均一化がポイントとなる。   When automating galvanization, copper plating and tin plating on the above aluminum bus bar (hereinafter referred to as the object to be treated), it is important to make it uniform by controlling the liquid temperature and concentration, and the time and stirring of the galvanization process including pretreatment. Become.

このため、本発明では、亜鉛メッキ工程の前後の液温と水洗を含む撹拌を行う。液温については、液温を12℃〜17℃の範囲内となるように、温度調整を行う。また、被処理体が板帯状であるため、各部位における洗浄やメッキ処理が均一となるように撹拌する。   For this reason, in this invention, stirring including the liquid temperature before and behind a galvanization process and water washing is performed. About liquid temperature, temperature adjustment is performed so that liquid temperature may be in the range of 12 degreeC-17 degreeC. In addition, since the object to be processed has a plate-like shape, stirring is performed so that the cleaning and the plating process in each part are uniform.

さらに、亜鉛置換液中へのアルミニウムの溶解量は経時的に増加していくが、基準値、例えば5g/リットル以下に抑制するように濃度コントロールを行う。これは、基準値を超えた場合若しくは近づいた場合に、槽内の亜鉛置換液を所定量排出し、新しい亜鉛置換液を所定量追加することによって達成できる。   Further, the amount of aluminum dissolved in the zinc-substituting solution increases with time, but the concentration is controlled so as to be suppressed to a reference value, for example, 5 g / liter or less. This can be achieved by discharging a predetermined amount of zinc replacement liquid in the tank and adding a predetermined amount of new zinc replacement liquid when the reference value is exceeded or approached.

また、前処理工程中の活性化液に含まれる硝酸イオンを亜鉛置換液にいかに持ち込まないかが重要であり、このため亜鉛メッキ工程前において被処理体を十分に洗浄することが必要である。このため、本発明においては、水洗の撹拌と水洗液の管理において硝酸イオン濃度が80ppm以下に抑制することで達成している。   In addition, it is important how nitrate ions contained in the activation liquid during the pretreatment process are not brought into the zinc replacement liquid. For this reason, it is necessary to sufficiently wash the object to be treated before the galvanizing process. For this reason, in this invention, it achieves by suppressing a nitrate ion density | concentration to 80 ppm or less in the stirring of water washing, and management of a water washing liquid.

さらに、被処理体を活性化した後は、被処理体の表面が酸化しやすい状態となっていることから、空中移動の時間を最小限(例えば15秒以下)に抑えるように被処理体の移動速度を制御し、被処理体の表面の酸化を抑制する。   Further, after the object to be processed is activated, the surface of the object to be processed is in a state of being easily oxidized, so that the time for air movement is minimized (for example, 15 seconds or less). The moving speed is controlled to suppress oxidation of the surface of the object to be processed.

また、苛性ソーダと硝酸液は、定期的に更新される。更新の目安は、処理されたアルミニウムの量若しくは作業時間によって決定されることが望ましい。   Caustic soda and nitric acid are regularly updated. The renewal indication is preferably determined by the amount of aluminum processed or the working time.

銅メッキに使用される銅ストライク液は、pH管理とフリーシアン濃度によって管理される。基本的に、pHは9.8〜10.5の範囲内、フリーシアン濃度は、1〜3g/リットルの範囲内となるように管理される。また、銅ストライク液において、先のメッキ工程から持ち込まれる亜鉛濃度が常に1g/リットル以下となるように管理される。尚、銅メッキに使用される電流密度も、所定範囲内(例えば0.5A/dm〜1.0A/dm)となるように管理される。 The copper strike solution used for copper plating is controlled by pH control and free cyan concentration. Basically, the pH is controlled to be in the range of 9.8 to 10.5, and the free cyan density is controlled to be in the range of 1 to 3 g / liter. Further, in the copper strike solution, the zinc concentration brought from the previous plating step is always controlled to be 1 g / liter or less. In addition, the current density used for copper plating is also managed to be within a predetermined range (for example, 0.5 A / dm 2 to 1.0 A / dm 2 ).

以上の諸条件を管理することによって、自動的に被処理体に亜鉛メッキ、銅メッキ及び錫メッキを施し、良好にメッキされたブスバーを自動化により大量に得ることができるものである。   By managing the above various conditions, the object to be treated can be automatically plated with zinc, copper and tin, and a well-plated bus bar can be obtained in large quantities by automation.

本願発明に係るメッキ装置100は、例えば図1に示すもので、直線的に配置された複数の槽(2〜12,14〜22)と、この槽の両側に槽に沿って配置されるガイドレール41と、このガイドレール41に沿って移動するメッキ用治具40と、メッキ用治具40をガイドレール41に沿って移動させると共に、メッキ用治具40に装着された被処理体(図5に示されるA)を前記槽内の液体(洗浄水、メッキ溶液等)に浸漬するように上下に移動させる駆動機構33と、前記槽内に収容される液体の温度調節を行う温調機構31と、槽内に収容される液体の撹拌を行う撹拌機構32と、前記駆動機構33,温調機構31及び撹拌機構32、さらに電気メッキに使用される電力等の制御を行うコントロールユニット(C/U)30とによって構成される。 The plating apparatus 100 according to the present invention is, for example, as shown in FIG. 1, and a plurality of tanks (2-12, 14-22) arranged linearly, and guides arranged along the tank on both sides of the tank. A rail 41, a plating jig 40 that moves along the guide rail 41, and a workpiece to be processed mounted on the plating jig 40 while moving the plating jig 40 along the guide rail 41 (see FIG. A driving mechanism 33 for moving A) shown in FIG. 5 up and down so as to be immersed in the liquid (washing water, plating solution, etc.) in the tank, and a temperature control mechanism for adjusting the temperature of the liquid stored in the tank 31, a stirring mechanism 32 for stirring the liquid contained in the tank, the drive mechanism 33, the temperature control mechanism 31, the stirring mechanism 32, and a control unit (C for controlling electric power used for electroplating) / U) With 30 Constructed.

図1に示される本願発明のメッキ装置100において、装着スペース1において複数のアルミブスバー長尺体(被処理体)Aを、メッキ用治具40に装着し、駆動機構33によって中間架台13を介して浸漬脱脂槽2に移動し、ここで図2のフローチャートで示す浸漬脱脂工程110が実行される。   In the plating apparatus 100 of the present invention shown in FIG. 1, a plurality of long aluminum bus bars (objects to be processed) A are mounted on the plating jig 40 in the mounting space 1 and the intermediate mechanism 13 is interposed by the drive mechanism 33. Then, it moves to the immersion degreasing tank 2, where the immersion degreasing step 110 shown in the flowchart of FIG. 2 is executed.

この浸漬脱脂槽2には、アルカリ系の溶液が収容されており、その中に前記被処理体Aを浸漬することによって被処理体Aの表面に付着した油汚れを除去する。そして、浸漬脱脂槽2から引き上げられた被処理体Aは、水洗スプレー槽3に移動する。   The immersion degreasing tank 2 contains an alkaline solution, and the object to be processed A is immersed therein to remove oil stains attached to the surface of the object to be processed A. And the to-be-processed object A pulled up from the immersion degreasing tank 2 moves to the washing spray tank 3. FIG.

この水洗スプレー槽3では第1の洗浄工程120が実行される。水洗スプレー槽3は、図3に示すように、槽70内に洗浄水80が収容されているもので、その長手方向の縁部76に沿って配置されたパイプ部77と、そのパイプ部77に沿って所定の間隔で設けられた噴射ノズル75とを具備する。これによって、第1の洗浄工程120では、被処理体Aを槽内の洗浄水80に浸漬して前記アルカリ系の溶液を排除すると共に、前記被処理体Aを引き上げる時に洗浄水を前記噴射ノズル75から噴射して前記被処理体Aを洗浄するものである。   In the water washing spray tank 3, the first washing step 120 is executed. As shown in FIG. 3, the washing spray tank 3 is configured such that washing water 80 is accommodated in the tank 70, and includes a pipe portion 77 disposed along an edge 76 in the longitudinal direction, and the pipe portion 77. , And spray nozzles 75 provided at predetermined intervals. Accordingly, in the first cleaning step 120, the object to be processed A is immersed in the cleaning water 80 in the tank to eliminate the alkaline solution, and the cleaning water is supplied to the spray nozzle when the object to be processed A is pulled up. The object to be processed A is washed by spraying from 75.

水洗スプレー槽3において洗浄された被処理体Aは、アルカリエッチング槽4に移動し、アルカリエッチング槽4に収容された強アルカリ溶液(例えば、苛性ソーダ溶液)に浸漬され、前記被処理体Aの表面のアルミニウム酸化物が除去される(アルカリエッチング工程130)。   The object to be processed A cleaned in the water washing spray tank 3 moves to the alkali etching tank 4 and is immersed in a strong alkali solution (for example, caustic soda solution) accommodated in the alkali etching tank 4, and the surface of the object to be processed A The aluminum oxide is removed (alkali etching step 130).

そして、表面処理された被処理体Aは、第2の洗浄工程140として、連続する水洗槽5及び水洗スプレー槽6に移動する。この水洗槽5及び水洗スプレー槽6は、2段式向流水洗方式である。この2段向流水洗方式は、例えば図4に示すように、槽70内に仕切壁73によって2つの槽、上流側槽82と下流側槽81とに区切られるが、上流側槽82と下流側槽81とは仕切壁73の下方の連通口84によってお互いに連通しており、上流側槽82の壁部71の上方に配される流入パイプ74から流入する洗浄水83は、上流側槽82から連通口84を介して下流側槽81に至り、下流側槽81の壁部72の上部からオーバーフローして汚水として処理される。また、仕切壁73の上部及び前記上流側槽82の壁部71の上部には、上述した水洗スプレー槽と同様に噴射ノズル75が設けられ、引き上げられる被処理体Aに洗浄水を噴射するようになっているものである。尚、50は、撹拌機構32の一部を構成するエア撹拌部である。   And the to-be-processed object A surface-treated moves to the continuous water-washing tank 5 and the water-washing spray tank 6 as the 2nd washing | cleaning process 140. FIG. The washing tank 5 and the washing spray tank 6 are a two-stage countercurrent washing method. For example, as shown in FIG. 4, this two-stage counter-flow flushing system is divided into two tanks, an upstream tank 82 and a downstream tank 81, by a partition wall 73 in the tank 70. The side tank 81 communicates with each other through a communication port 84 below the partition wall 73, and the wash water 83 flowing from the inflow pipe 74 disposed above the wall portion 71 of the upstream tank 82 is supplied to the upstream tank. 82 reaches the downstream tank 81 through the communication port 84, overflows from the upper part of the wall portion 72 of the downstream tank 81, and is treated as sewage. In addition, an injection nozzle 75 is provided on the upper portion of the partition wall 73 and the upper portion of the wall portion 71 of the upstream side tank 82 in the same manner as the above-described washing spray tank so as to inject cleaning water onto the object A to be pulled up. It is what has become. Reference numeral 50 denotes an air agitation unit that constitutes a part of the agitation mechanism 32.

以上の構成の水洗槽5及び水洗スプレー槽6に、表面が前記アルカリエッチング処理された被処理体Aは、水洗槽5に浸漬された後、水洗スプレー槽6に浸漬された後、スプレー洗浄される(第2の洗浄工程140)。これにより、次の硝酸浸漬槽7に持ち込まれる強アルカリ根を極限まで減少させることができるものである。   In the water washing tank 5 and the water washing spray tank 6 having the above-described configuration, the workpiece A whose surface has been subjected to the alkali etching treatment is immersed in the water washing tank 5, and then dipped in the water washing spray tank 6 and then spray-washed. (Second cleaning step 140). Thereby, the strong alkali root brought into the next nitric acid immersion tank 7 can be reduced to the limit.

第2の洗浄工程140において洗浄された被処理体Aは、硝酸浸漬槽7に浸漬され、表面が硝酸活性化される(硝酸浸漬工程150)。この硝酸活性化後、被処理体Aは、前述した2段式向流水洗方式である水洗槽8及び水洗スプレー槽9において同様の洗浄処理がなされる(第3の洗浄工程160)。この水洗槽8及び水洗スプレー槽9では、次の亜鉛置換(無電解亜鉛メッキ)槽への硝酸根の持ち込みを最小限にするために、温調機構31及び撹拌機構32によって洗浄水の水温を管理すると共に洗浄水の撹拌を行う。   The to-be-processed object A cleaned in the second cleaning step 140 is immersed in the nitric acid immersion tank 7, and the surface is activated by nitric acid (nitric acid immersion step 150). After the activation of nitric acid, the object A is subjected to the same cleaning process in the water-washing tank 8 and the water-washing spray tank 9, which are the above-described two-stage countercurrent water washing system (third washing step 160). In the water washing tank 8 and the water washing spray tank 9, the temperature of the washing water is controlled by the temperature adjustment mechanism 31 and the stirring mechanism 32 in order to minimize the introduction of nitrate radicals into the next zinc replacement (electroless galvanizing) tank. Control and stir the wash water.

前記撹拌機構32は、例えば図5で示す空気撹拌機構及び図6(a),(b)でしめす液流撹拌機構からなる。空気撹拌機構50は、槽60の下方に、空気が供給される複数の空気パイプ51が槽60の長手方向に沿って平行に配されると共に、空気パイプ51の設けられた空気噴射口52から斜め下方且つ外方に向けて空気Bを噴射することによって、洗浄水又はメッキ溶液である液体61を撹拌すると共に例えばCで示す方向に流れを形成することによって、被処理体Aの表面に液体が均一に接触するようにするものである。 The stirring mechanism 32 includes, for example, an air stirring mechanism shown in FIG. 5 and a liquid flow stirring mechanism shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). In the air agitating mechanism 50, a plurality of air pipes 51 to which air is supplied are arranged below the tank 60 in parallel along the longitudinal direction of the tank 60, and from an air injection port 52 provided with the air pipe 51. By injecting the air B obliquely downward and outward, the liquid 61 that is cleaning water or a plating solution is agitated and a flow is formed in the direction indicated by C, for example. Is to contact uniformly.

また、図6(a),(b)で示す液体撹拌機構は、槽60内の液体61を複数の吸引口65から配管66を介して接続されたポンプ63の稼働によって吸引して複数の吹出口64から槽60内に吹き出すことによって液体を撹拌するものである。この撹拌装置32は、前記被処理体Aに沿って液体を流すように、吸引口65と吹出口64を長手方向に対向して設けるようにしたものであり、さらに吹出口64を所定の角度下方に傾斜したノズル67の先端に設けるようにしたことを特徴とするものである。槽9,10,11においては、前記空気撹拌機構50及び液流撹拌機構が実施される。 6 (a) and 6 (b), the liquid agitating mechanism shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b) sucks the liquid 61 in the tank 60 from the plurality of suction ports 65 through the operation of the pumps 63 and operates a plurality of blowers. The liquid is stirred by blowing out from the outlet 64 into the tank 60. The stirring device 32 is provided with a suction port 65 and a blower port 64 facing each other in the longitudinal direction so that a liquid flows along the workpiece A, and the blower port 64 is further provided at a predetermined angle. The nozzle 67 is provided at the tip of the nozzle 67 inclined downward. In the tanks 9, 10, and 11, the air stirring mechanism 50 and the liquid flow stirring mechanism are implemented.

これによって十分に洗浄された被処理体Aは、亜鉛メッキ槽10に収容された亜鉛置換液中に浸漬され、亜鉛メッキが施される(亜鉛置換工程170)。また、前記硝酸浸漬槽7から亜鉛置換槽10に至る間の空気曝露時間を、最小限にするように駆動機構33が制御される。その時間は15秒以下にすることで被処理体Aの酸化を抑制している。 The to-be-processed object A sufficiently cleaned in this manner is immersed in a zinc replacement solution accommodated in the galvanizing tank 10 to be galvanized (zinc replacement step 170). Further, the drive mechanism 33 is controlled so as to minimize the air exposure time from the nitric acid immersion tank 7 to the zinc replacement tank 10. Oxidation of the workpiece A is suppressed by setting the time to 15 seconds or less.

そして、亜鉛メッキが施された後の被処理体Aは、上述したのと同様に2段式向流水洗方式である水洗槽11及び水洗スプレー槽12において綿密に洗浄される。   And the to-be-processed object A after galvanizing is wash | cleaned closely in the water-washing tank 11 and the water-washing spray tank 12 which are a two-stage countercurrent water washing system similarly to having mentioned above.

これら亜鉛置換工程170と、その前後の第3の洗浄工程160及び第4の洗浄工程180では液温管理と水洗を含む撹拌が実施される。このため、水洗槽8又は水洗スプレー槽9、亜鉛メッキ槽10、水洗槽11又は水洗スプレー槽12には温調機構31及び撹拌機構32が設けられるものである。 In these zinc replacement step 170 and the third and fourth cleaning steps 160 and 180 before and after that, stirring including liquid temperature control and water washing is performed. For this reason, the water washing tank 8 or the water washing spray tank 9, the galvanizing tank 10, the water washing tank 11 or the water washing spray tank 12 is provided with a temperature control mechanism 31 and a stirring mechanism 32.

前記第4の洗浄工程180の後、中間架台13を介して銅メッキ(青化銅メッキ)槽14に収容される銅ストライク液に浸漬され、所定量の電力が加えられて銅の電気メッキが施される(銅メッキ工程190)。この銅ストライク液については、pH管理とフリーシアン濃度管理、さらには亜鉛濃度管理、電流密度管理が実施される。pH管理では、銅ストライク液のpHが9.8〜10.5の範囲内、フリーシアン濃度管理では、フリーシアン濃度が1〜3g/リットルの範囲内、亜鉛濃度管理では亜鉛濃度が1g/リットル以下となるように、また電流密度管理では電流密度が0.5A/dm〜1.0A/dmの範囲内となるように管理される。 After the fourth cleaning step 180, the electrode is immersed in a copper strike solution accommodated in a copper plating (copper bronze plating) tank 14 through the intermediate mount 13, and a predetermined amount of electric power is applied to perform copper electroplating. (Copper plating step 190). For this copper strike solution, pH management and free cyan density management, as well as zinc density management and current density management are performed. In the pH control, the pH of the copper strike solution is in the range of 9.8 to 10.5. In the free cyan concentration management, the free cyan concentration is in the range of 1 to 3 g / liter. In the zinc concentration management, the zinc concentration is 1 g / liter. In the current density management, the current density is managed so as to be within the range of 0.5 A / dm 2 to 1.0 A / dm 2 .

銅メッキ工程190の後、被処理体Aは、上述した2段式向流水洗方式の水洗槽15及び水洗スプレー槽16に送られ洗浄される(第5の洗浄工程200)。そして十分に洗浄された後、錫メッキ槽17に送られ、錫メッキ槽17に収容された錫メッキ溶液に浸漬され、所定の電力が付与されて錫の電気メッキが施される(錫メッキ工程210)。この錫メッキ槽17には、温調機構31が設けられ、錫メッキ溶液の温度管理を行うものである。具体的には、アルカリ性錫メッキ溶液(例えば、錫酸ナトリウム、水酸化ナトリウム及び酢酸ナトリウムを含む、又は錫酸カリウム、水酸化カリウム及び酢酸カリウムを含む)である場合には60℃〜80℃の高温となるように制御され、酸性錫メッキ溶液(例えば、硫酸第一錫及び硫酸を含む)である場合には、25℃前後となるように制御されるものである。   After the copper plating step 190, the object to be processed A is sent to the two-stage countercurrent water-washing water washing tank 15 and the water washing spray tank 16 to be washed (fifth washing step 200). And after washing | cleaning enough, it sends to the tin plating tank 17, is immersed in the tin plating solution accommodated in the tin plating tank 17, a predetermined electric power is given, and the electroplating of tin is given (tin plating process) 210). The tin plating tank 17 is provided with a temperature control mechanism 31 for controlling the temperature of the tin plating solution. Specifically, in the case of an alkaline tin plating solution (for example, containing sodium stannate, sodium hydroxide and sodium acetate, or containing potassium stannate, potassium hydroxide and potassium acetate), a temperature of 60 ° C. to 80 ° C. In the case of an acidic tin plating solution (for example, containing stannous sulfate and sulfuric acid), the temperature is controlled to be about 25 ° C.

そして、錫メッキされた被処理体Aは、回収槽18に送られ、回収槽18に収容された溶液(錫メッキ溶液の種類によって異なる)に浸漬されて付着した錫メッキ溶液を回収する(回収工程220)。その後、図3に示すような水洗スプレー槽19に移動し洗浄水に浸漬されると共に引き上げ時に洗浄水が噴霧されて十分に洗浄される(第6の洗浄工程230)。そして、中和槽20に送られ、中和槽20に収容される溶液で被処理体Aの表面を中和する(中和工程240)。この溶液は前記錫メッキ工程210において使用された溶液の種類に対応して決定される。そして、水洗スプレー槽21において最後の洗浄を行い(第7の洗浄工程250)、最後に湯洗槽22において被処理体Aを湯洗し、作業スペース1に戻って作業が完了するものである。   And the to-be-processed object A tin-plated is sent to the collection tank 18, and is immersed in the solution (it changes with the kind of tin plating solution) accommodated in the collection tank 18, and collect | recovers the tin plating solution which adhered (collection). Step 220). Then, it moves to the washing spray tank 19 as shown in FIG. 3 and is immersed in washing water, and at the time of pulling up, washing water is sprayed and sufficiently washed (sixth washing step 230). And the surface of the to-be-processed object A is neutralized with the solution accommodated in the neutralization tank 20 and accommodated in the neutralization tank 20 (neutralization process 240). This solution is determined according to the type of solution used in the tin plating step 210. And the last washing | cleaning is performed in the water-washing spray tank 21 (7th washing | cleaning process 250), the to-be-processed object A is finally hot-washed in the hot-water washing tank 22, and it returns to the work space 1 and completes an operation | work. .

以上の工程により、前記メッキ治具40に複数の被処理体Aを取り付けることができると共に、自動により順次それぞれの工程を行うことができるので、従来に比べて大量にメッキ処理が可能となるものである。   Through the above steps, a plurality of objects to be processed A can be attached to the plating jig 40, and each step can be performed automatically and sequentially, so that a larger amount of plating can be performed than in the prior art. It is.

1 作業スペース
2 浸漬脱脂槽
3,6,9,12,16,19,21 水洗スプレー槽
4 アルカリエッチング槽
5,8,11,15 水洗槽
7 硝酸浸漬槽
10 亜鉛メッキ
13 中継架台
14 銅メッキ槽
17 錫メッキ槽
18 回収槽
20 中和槽
22 湯洗槽
30 コントロールユニット
31 温調機構
32 撹拌機構
33 駆動機構
40 メッキ用治具
50 空気撹拌機構
51 空気パイプ
52 空気噴射口
60 槽
61 液体
63 ポンプ
64 吹出口
65 吸引口
66 配管
67 ノズル
70 槽
71,72 壁部
73 仕切壁
74 流入パイプ
75 噴射ノズル
76 縁部
77 パイプ部
80 洗浄水
81 下流側槽
82 上流側槽
83 洗浄水
84 連通口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Work space 2 Immersion degreasing tank 3, 6, 9, 12, 16, 19, 21 Flushing spray tank 4 Alkali etching tank 5, 8, 11, 15 Flushing tank 7 Nitric acid immersion tank 10 Zinc plating tank 13 Relay stand 14 Copper plating Tank 17 Tin plating tank 18 Recovery tank 20 Neutralization tank 22 Hot water washing tank 30 Control unit 31 Temperature control mechanism 32 Stirring mechanism 33 Drive mechanism 40 Plating jig 50 Air stirring mechanism 51 Air pipe 52 Air injection port 60 Tank 61 Liquid 63 Pump 64 Outlet 65 Suction port 66 Pipe 67 Nozzle 70 Tank 71, 72 Wall 73 Partition wall 74 Inflow pipe 75 Injection nozzle 76 Edge 77 Pipe 80 Washing water 81 Downstream tank 82 Upstream tank 83 Washing water 84 Communication port

Claims (3)

複数のアルミブスバーである被処理体の表面から油分を除去するための脱脂用溶液が収容された脱脂処理槽と、
脱脂処理後の前記被処理体から脱脂溶剤を除去するための第1の洗浄槽と、
被処理体表面の酸化物を除去するための強アルカリ溶液が収容されるエッチング槽と、
エッチング後の前記被処理体から強アルカリ溶液を除去するための第2の洗浄槽と、
前記被処理体の表面を活性化するための硝酸溶液が収容される硝酸活性化槽と、
活性化後の前記被処理体から硝酸溶液を除去するための第3の洗浄槽と、
酸化物が除去されたアルミブスバーの表面に亜鉛の無電解メッキを施す亜鉛置換液が収容される亜鉛メッキ槽と、
亜鉛メッキされた表面を洗浄する第4の洗浄槽と、
亜鉛メッキが施された表面に、青化銅メッキを施すための銅メッキ溶液が収容された青化銅メッキ槽と、
銅メッキされた表面を洗浄する第5の洗浄槽と、
銅メッキが施された前記被処理体の表面に、錫メッキを施すための錫メッキ溶液が収容された錫メッキ槽と、
錫メッキが施された前記被処理体の表面後処理を行う後処理槽群と、
前記複数のアルミブスバーが設置されたメッキ治具を、それぞれの槽に順次浸漬させて移動させる移動手段とによって構成されたメッキ装置において、
前記第3の洗浄槽、前記亜鉛メッキ槽及び第4の洗浄槽には、撹拌機構が設けられ、
前記撹拌機構は、槽の下方に槽に沿って配置され、前記槽の鉛直方向に対して所定の角度で傾斜して下方に空気を噴出する空気噴出口が形成された少なくとも1本のパイプからなる空気撹拌機構と、槽内の溶液を槽の長手方向に向かって開口する複数の噴出口と、該複数の噴出口と対峙する位置に形成される複数の吸引口と、前記複数の噴出口と前記複数の吸引口とを接続するパイプ配管と、該配管上に設けられるポンプ手段とによって構成され、前記噴出口のそれぞれは、所定の角度で下方に延出するノズルを具備する液流撹拌機構とからなることを特徴とするメッキ装置。
A degreasing tank containing a degreasing solution for removing oil from the surface of the object to be treated, which is a plurality of aluminum bus bars;
A first cleaning tank for removing a degreasing solvent from the object to be treated after degreasing;
An etching tank in which a strong alkaline solution for removing oxide on the surface of the object to be processed is stored;
A second cleaning tank for removing a strong alkaline solution from the object to be processed after etching;
A nitric acid activation tank containing a nitric acid solution for activating the surface of the object to be treated;
A third washing tank for removing the nitric acid solution from the object to be treated after activation;
A galvanizing tank in which a zinc replacement solution for performing electroless plating of zinc on the surface of the aluminum bus bar from which the oxide has been removed;
A fourth cleaning tank for cleaning the galvanized surface;
A copper-plating bath containing a copper-plating solution for performing copper-plating on the galvanized surface;
A fifth cleaning tank for cleaning the copper-plated surface;
A tin plating tank containing a tin plating solution for performing tin plating on the surface of the object to be copper plated;
A post-treatment tank group for performing a surface post-treatment of the object to be treated with tin plating;
In a plating apparatus constituted by moving means for moving the plating jig in which the plurality of aluminum bus bars are installed by sequentially immersing them in each tank ,
The third cleaning tank, the galvanizing tank and the fourth cleaning tank are provided with a stirring mechanism,
The stirring mechanism is arranged along the tank below the tank, and includes at least one pipe formed with an air outlet that inclines at a predetermined angle with respect to the vertical direction of the tank and jets air downward. An air agitating mechanism, a plurality of jets opening the solution in the tank in the longitudinal direction of the tank, a plurality of suction ports formed at positions facing the plurality of jets, and the plurality of jets And a plurality of suction ports, and a pump means provided on the pipe, each of the jet outlets having a nozzle extending downward at a predetermined angle. A plating apparatus characterized by comprising a mechanism.
前記第3の洗浄槽、前記亜鉛メッキ槽、前記第4の洗浄槽、及び錫メッキ槽には、温度制御手段が設けられることを特徴とする請求項記載のメッキ装置。 The third cleaning tank, the galvanizing bath, the fourth cleaning tank, and the tin plating bath, the plating apparatus according to claim 1, wherein the temperature control means is provided. 前記第2、第3及び第4の洗浄槽のそれぞれは、お互いに連通して洗浄水が移動する上流側槽と下流側槽とによって構成されると共に、前記複数の被処理体が設置されたメッキ治具が、最初に下流側槽に浸漬された後上流側槽に浸漬され、さらに上流側槽から引き上げられる時に、洗浄水が噴霧されることを特徴とすることを特徴とする請求項記載のメッキ装置。 Each of the second, third and fourth cleaning tanks is composed of an upstream tank and a downstream tank in which cleaning water moves in communication with each other, and the plurality of objects to be processed are installed. plating jig, is first immersed in the upstream side tank after being immersed in the downstream vessel, according to claim 1, further when being pulled from the upstream side tank, cleaning water, characterized in that it characterized in that it is sprayed The plating apparatus as described.
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