JP5115436B2 - マイクロ化学デバイス及びその製造方法 - Google Patents
マイクロ化学デバイス及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5115436B2 JP5115436B2 JP2008254116A JP2008254116A JP5115436B2 JP 5115436 B2 JP5115436 B2 JP 5115436B2 JP 2008254116 A JP2008254116 A JP 2008254116A JP 2008254116 A JP2008254116 A JP 2008254116A JP 5115436 B2 JP5115436 B2 JP 5115436B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- polymer
- pdms
- oxygen
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Micromachines (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
(a)両接合面の何れか一方又は双方に微細流路が形成されたPDMSプレートと高分子プレートを用意するステップと、
(b)前記PDMSプレートと高分子プレートの両接合面のうち少なくとも前記高分子プレートの接合面に酸素含有基を導入するステップと、
(c)酸素含有基を導入した高分子プレート又は高分子プレートとPDMSプレートの接合面に、水系による加水分解でシラノール基となった有機官能基成分を導入するステップと、
(d)両プレートを常温〜200℃以下の温度で加圧接合するステップと、
を有することを特徴とするマイクロ化学デバイスの製造方法を構成した(請求項3)。
Claims (6)
- ポリジメチルシロキサン(以下「PDMS」と称する)プレートと、ポリスチレン(PS)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、環状オレフィン系ポリマー(COP)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルイミド(PEI)の少なくとも一つからなる高分子プレートの何れか一方又は双方の接合面に微細流路が形成され、前記PDMSプレートと高分子プレートの両接合面のうち少なくとも前記高分子プレートの接合面に酸素含有基を導入し、この酸素含有基中の水酸基にシラノール基を有する有機官能基成分を反応させる処理を施した後、前記PDMSプレートと高分子プレートの両接合面を加圧接合することで、接合面境界に閉じた微細流路を形成したことを特徴とするマイクロ化学デバイス。
- 前記PDMSプレートと高分子プレートのそれぞれの接合面に、接合直前に酸素含有基を導入する請求項1記載のマイクロ化学デバイス。
- ポリジメチルシロキサン(以下「PDMS」と称する)プレートと、ポリスチレン(PS)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、環状オレフィン系ポリマー(COP)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルイミド(PEI)の少なくとも一つからなる高分子プレートの何れか一方又は双方の接合面に微細流路が形成され、両プレートを接合することで接合面境界に閉じた微細流路が形成されるマイクロ化学デバイスの製造方法であって、
(a)両接合面の何れか一方又は双方に微細流路が形成されたPDMSプレートと高分子プレートを用意するステップと、
(b)前記PDMSプレートと高分子プレートの両接合面のうち少なくとも前記高分子プレートの接合面に酸素含有基を導入するステップと、
(c)酸素含有基を導入した高分子プレート又は高分子プレートとPDMSプレートの接合面に、水系による加水分解でシラノール基となった有機官能基成分を導入するステップと、
(d)両プレートを常温〜200℃以下の温度で加圧接合するステップと、
を有することを特徴とするマイクロ化学デバイスの製造方法。 - 前記ステップ(c)の後で両プレートを接合するステップ(d)の直前に、有機官能基成分を導入した高分子プレート又は高分子プレートとPDMSプレートの接合面に、酸素含有基を導入するステップ(c2)を有してなる請求項3記載のマイクロ化学デバイスの製造方法。
- 前記酸素含有基を導入するステップは、酸素含有基を導入する前記プレートの接合面を、酸素存在下でプラズマ処理するものである請求項3又は4記載のマイクロ化学デバイスの製造方法。
- 有機官能基成分を導入するステップ(c)は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤又はアルミネート系カップリング剤を添加した溶液中に、前記高分子プレート又はPDMSプレートを浸漬して酸素含有基中の水酸基にシラノール基を有する有機官能基成分を反応させるものである請求項3又は4記載のマイクロ化学デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008254116A JP5115436B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | マイクロ化学デバイス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008254116A JP5115436B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | マイクロ化学デバイス及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010082540A JP2010082540A (ja) | 2010-04-15 |
JP5115436B2 true JP5115436B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=42247029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008254116A Active JP5115436B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | マイクロ化学デバイス及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5115436B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5870813B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-03-01 | スターライト工業株式会社 | マイクロ化学デバイスの製造方法 |
US20160184789A1 (en) * | 2013-08-23 | 2016-06-30 | Asahi Fr R&D Co., Ltd. | Microchemical chip and reaction device |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002048752A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フローセルおよびポリマー膜の形成方法 |
JP2004325153A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Aida Eng Ltd | マイクロチップ及びその製造方法 |
FR2861609B1 (fr) * | 2003-10-31 | 2006-02-03 | Commissariat Energie Atomique | Procede de repartition de gouttes d'un liquide d'interet sur une surface |
FR2861608B1 (fr) * | 2003-10-31 | 2005-12-23 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de travail comportant des zones de travail bordees, laboratoire sur puce et microsysteme |
US20070207055A1 (en) * | 2003-10-31 | 2007-09-06 | Commissariat A L'energie Atomique | Operating Device Comprising A Localized Zone For The Capture Of A Drop A Liquid Of Interest |
WO2006014460A2 (en) * | 2004-07-06 | 2006-02-09 | University Of Utah Research Foundation | Spotting device and method for high concentration spot deposition on microarrays and other microscale devices |
EP1897426A2 (en) * | 2005-05-18 | 2008-03-12 | President And Fellows Of Harvard College | Fabrication of conductive pathways, microcircuits and microstructures in microfluidic networks |
-
2008
- 2008-09-30 JP JP2008254116A patent/JP5115436B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010082540A (ja) | 2010-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Hosseini et al. | Recent advances in surface functionalization techniques on polymethacrylate materials for optical biosensor applications | |
Borók et al. | PDMS bonding technologies for microfluidic applications: A review | |
Gokaltun et al. | Recent advances in nonbiofouling PDMS surface modification strategies applicable to microfluidic technology | |
Wei et al. | Photochemically patterned poly (methyl methacrylate) surfaces used in the fabrication of microanalytical devices | |
CN105474018B (zh) | 微量化学芯片和反应装置 | |
WO2011089892A1 (ja) | 硬質シリコーン樹脂の接着方法、微細構造を有する基板の接合方法および当該接合方法を利用したマイクロ流体デバイスの製造方法 | |
US8784973B2 (en) | Resin bonding method by photoirradiation, method for producing resin article, resin article produced by the same method, method for producing microchip, and microchip produced by the same method | |
WO2009084622A1 (ja) | 真空紫外光照射による樹脂の接着方法、該方法を用いる樹脂物品又はマイクロチップの製造方法、該方法で製造される樹脂物品又はマイクロチップ | |
JPWO2008087800A1 (ja) | マイクロチップの製造方法、及びマイクロチップ | |
JPWO2008065868A1 (ja) | マイクロチップ基板の接合方法、及びマイクロチップ | |
Ansari et al. | Increasing silicone mold longevity: A review of surface modification techniques for PDMS-PDMS double casting | |
JP5115436B2 (ja) | マイクロ化学デバイス及びその製造方法 | |
Baraket et al. | Development of a flexible microfluidic system based on a simple and reproducible sealing process between polymers and poly (dimethylsiloxane) | |
Orhan et al. | Internal modification of poly (dimethylsiloxane) microchannels with a borosilicate glass coating | |
Huyen et al. | Flexible capillary microfluidic devices based on surface-energy modified polydimethylsiloxane and polymethylmethacrylate with room-temperature chemical bonding | |
Millare et al. | Dependence of the quality of adhesion between poly (dimethylsiloxane) and glass surfaces on the conditions of treatment with oxygen plasma | |
JP2005199394A (ja) | Pdms基板と他の合成樹脂基板との接着方法及びマイクロチップの製造方法 | |
Tony et al. | A preliminary experimental study of polydimethylsiloxane (PDMS)-To-PDMS bonding using oxygen plasma treatment incorporating isopropyl alcohol | |
US9758631B2 (en) | Method of modifying substrate surface | |
WO2020137065A1 (ja) | シリコーンゴム製親水性強化成形体、及びそれを用いた親水性強化接合体 | |
Rein et al. | Rapid prototyping for high-pressure microfluidics | |
Yamamoto | Solid‐state bonding of silicone elastomer to glass by vacuum oxygen plasma, atmospheric plasma, and vacuum ultraviolet light treatment | |
JP5239871B2 (ja) | マイクロチップ、及びマイクロチップの製造方法 | |
JP2006136990A (ja) | バルブを有するマイクロ流体デバイス | |
JP4009683B2 (ja) | 分析用具の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120827 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120918 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121001 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5115436 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |