JP5110613B2 - Release material for resin base substrate and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂ベース基板を製造する際に使用する樹脂ベース基板用離型材およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a release material for a resin base substrate used for manufacturing a resin base substrate and a method for manufacturing the same.

樹脂ベース基板の1つとして樹脂ベースプリント基板があり、その製造は、以下のようにして行われている。まず、ガラスクロス、紙等に樹脂を含浸させてから、乾燥して半硬化させたシート(以下、プリプレグと称す)を作製する。このプリプレグと、銅箔と、ステンレス製の鏡面板とを積層したものを複数個積み重ねてから、その上下に熱板を設置して加圧する。次に、熱板、鏡面板を取り除き、積層物を解体することにより、樹脂が硬化したプリプレグと、その表面に接着された銅箔とからなる樹脂ベースプリント基板が製造される。なお、このとき、樹脂ベースプリント基板の平坦度も整えられる。また、銅箔を積層せずに製造されたプリプレグのみのものも樹脂ベースプリント基板として使用されている。   As one of the resin base substrates, there is a resin base printed substrate, and its manufacture is performed as follows. First, a glass cloth, paper or the like is impregnated with a resin, and then dried and semi-cured sheet (hereinafter referred to as prepreg) is produced. After stacking a plurality of laminates of this prepreg, copper foil, and stainless steel specular plate, a hot plate is placed on the top and bottom of the laminate and pressed. Next, by removing the hot plate and the mirror plate and disassembling the laminate, a resin-based printed board composed of a prepreg in which the resin is cured and a copper foil bonded to the surface thereof is manufactured. At this time, the flatness of the resin-based printed board is also adjusted. Moreover, the thing only of the prepreg manufactured without laminating | stacking copper foil is also used as a resin base printed circuit board.

前記の製造においては、鏡面板とプリプレグ(樹脂ベースプリント基板)とが加熱加圧によって接着し、積層物を解体した際に、製造された樹脂ベースプリント基板から鏡面板が剥がれ難くなるという問題がある。この問題を解決するために、鏡面板とプリプレグとの間に離型材を配置して積層物を構成することが行われている。そして、特許文献1では、離型材として、エポキシ系樹脂に剥離剤としてシリコーンを混合したコート剤、または、必要に応じて表面粗化剤をさらに混合したコート剤がアルミニウム箔の片面または両面に設けられたものが提案されている。   In the production described above, when the mirror plate and the prepreg (resin base printed board) are bonded by heating and pressing, and the laminate is disassembled, there is a problem that the mirror board is difficult to peel off from the produced resin base printed board. is there. In order to solve this problem, a laminate is formed by disposing a release material between the mirror plate and the prepreg. And in patent document 1, as a mold release material, the coating agent which mixed the silicone as a release agent with an epoxy resin, or the coating agent which further mixed the surface roughening agent as needed is provided in the single side | surface or both surfaces of aluminum foil. What has been proposed.

特公平4−9号公報Japanese Patent Publication No. 4-9

しかしながら、特許文献1の離型材を用いた場合には、鏡面板とプリプレグとの接着は防止できるが、製造された樹脂ベースプリント基板と離型材とが強く接着して、離型材が樹脂ベースプリント基板から剥がれ難くなるという問題がある。
また、樹脂ベース基板の1つである樹脂フィルムの溶液流延法を用いた製造においても、同様に、樹脂フィルムの支持体として用いた離型材が樹脂フィルムから剥がれ難くなるという問題がある。
However, when the release material of Patent Document 1 is used, adhesion between the mirror plate and the prepreg can be prevented, but the produced resin base printed circuit board and the release material are strongly bonded, and the release material becomes the resin base print. There is a problem that it is difficult to peel off from the substrate.
Similarly, in the production using a solution casting method of a resin film, which is one of the resin base substrates, there is a problem that a release material used as a support for the resin film is hardly peeled off from the resin film.

そこで、本発明は、このような問題を解決すべく創案されたもので、その課題は樹脂ベース基板の製造に使用された際に、樹脂ベース基板から容易に剥がすことが可能な剥離性に優れた樹脂ベース基板用離型材およびその製造方法を提供することにある。   Therefore, the present invention was devised to solve such a problem, and the problem is that it is excellent in releasability that can be easily peeled off from the resin base substrate when used in the manufacture of the resin base substrate. Another object of the present invention is to provide a release material for a resin base substrate and a method for manufacturing the same.

前記課題を解決するために、本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、樹脂ベース基板の製造に用いられ、アルミニウム箔と、前記アルミニウム箔の片面または両面に形成され、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびシリコーンとからなる樹脂塗膜とを備え、前記樹脂塗膜の前記樹脂ベース基板に対する接着強度が1〜200g/cmであることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a release material for a resin base substrate according to the present invention is used for manufacturing a resin base substrate, and is formed on one or both surfaces of an aluminum foil and the aluminum foil. And a resin coating film made of resin and silicone, wherein the resin coating film has an adhesive strength of 1 to 200 g / cm with respect to the resin base substrate.

前記構成によれば、樹脂塗膜が、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンとからなり、樹脂ベース基板に対する接着強度が所定範囲であることによって、樹脂ベース基板用離型材の剥離性が向上し、樹脂ベース基板用離型材が樹脂ベース基板から容易に剥離する。
また、熱が効率よく伝達されるため、樹脂ベース基板の生産性が向上する。さらに、樹脂ベースプリント基板用として用いた場合には、静電気の発生が少ないため、離型材への異物付着が少なく、樹脂ベース基板の清浄度が向上する。さらに、アルミニウム箔を備えることによって、樹脂ベース基板の製造の際に発生するガスによる汚れ等を防止できる。
According to the above configuration, the resin coating film is composed of the epoxy resin as the main agent, the melamine resin as the curing agent, and the silicone as the release agent, and the adhesive strength to the resin base substrate is within a predetermined range. The releasability of the release material for the resin base substrate is improved, and the release material for the resin base substrate is easily peeled from the resin base substrate.
Moreover, since heat is efficiently transferred, the productivity of the resin base substrate is improved. Further, when used for a resin-based printed circuit board, since the generation of static electricity is small, the adhesion of foreign matter to the release material is small, and the cleanliness of the resin-based circuit board is improved. Furthermore, by providing the aluminum foil, it is possible to prevent contamination due to gas generated when the resin base substrate is manufactured.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、前記樹脂塗膜の膜厚が、0.5〜5μmであることが好ましい。
前記構成によれば、樹脂塗膜の膜厚が所定範囲であることによって、樹脂塗膜の接着強度を所定範囲に調整しやすくなり、樹脂ベース基板用離型材の剥離性がさらに向上する。
In the release material for a resin base substrate according to the present invention, the resin coating film preferably has a film thickness of 0.5 to 5 μm.
According to the said structure, when the film thickness of a resin coating film is a predetermined range, it becomes easy to adjust the adhesive strength of a resin coating film to a predetermined range, and the peelability of the mold release material for resin base substrates further improves.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、前記樹脂塗膜が、エポキシ系樹脂100質量部に対して、シリコーンが0.07〜3質量部であることが好ましい。
前記構成によれば、樹脂塗膜の組成が所定範囲であることによって、樹脂塗膜の接着強度を所定範囲に調整しやすくなり、樹脂ベース基板用離型材の剥離性がさらに向上する。
In the release material for a resin base substrate according to the present invention, the resin coating film is preferably 0.07 to 3 parts by mass of silicone with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin.
According to the said structure, when the composition of a resin coating film is a predetermined range, it becomes easy to adjust the adhesive strength of a resin coating film to a predetermined range, and the peelability of the mold release material for resin base substrates further improves.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、前記樹脂塗膜中に、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子をさらに含有することが好ましい。
前記構成によれば、前記樹脂塗膜中に表面粗化粒子をさらに含有することによって、樹脂皮膜の表面が凹凸になり、その凹凸によって樹脂ベース基板の表面が凹凸になり、艶消し表面となる。
The mold release material for a resin base substrate according to the present invention contains at least one surface roughening particle selected from SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 in the resin coating film. Furthermore, it is preferable to contain.
According to the said structure, the surface of a resin film becomes uneven | corrugated by further containing the surface roughening particle | grains in the said resin coating film, The surface of a resin base substrate becomes uneven | corrugated by the unevenness | corrugation, and becomes a matte surface. .

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、前記表面粗化粒子の粒子径が、15nm〜4μmであることが好ましい。
前記構成によれば、表面粗化粒子の粒子径が所定範囲であることによって、樹脂ベース基板の表面の凹凸量が調整される。
In the release material for a resin base substrate according to the present invention, the surface roughened particles preferably have a particle diameter of 15 nm to 4 μm.
According to the said structure, the unevenness | corrugation amount of the surface of a resin base substrate is adjusted because the particle diameter of the surface roughening particle | grains is a predetermined range.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、前記樹脂ベース基板が樹脂ベースプリント基板であることが好ましい。
本発明の樹脂ベース基板用離型材は、樹脂ベースプリント基板の製造に用いられた際に、剥離性等の顕著な向上が見られる。
In the release material for a resin base substrate according to the present invention, the resin base substrate is preferably a resin base printed substrate.
When the release material for a resin base substrate of the present invention is used for the production of a resin base printed substrate, a remarkable improvement in peelability and the like is observed.

本発明に係る製造方法は、前記樹脂ベース基板用離型材の製造方法であって、アルミニウム箔の片面または両面に、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンとからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜を形成する塗布工程と、前記樹脂塗膜に125〜240℃で0.5〜60秒間の焼付け処理を施す焼付け工程とを含むことを特徴とする。   The production method according to the present invention is a method for producing the release material for a resin base substrate, wherein an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, and a release agent on one or both sides of an aluminum foil A coating step of forming a resin coating film by applying a resin coating composed of silicone, and a baking step of baking the resin coating film at 125 to 240 ° C. for 0.5 to 60 seconds. And

前記手順によれば、所定組成を有する樹脂塗膜に所定条件の焼付け処理を施す焼付け工程を行うことによって、所定範囲の接着強度を有する樹脂塗膜がアルミニウム箔の片面または両面に形成される。   According to the said procedure, the resin coating film which has the adhesive strength of a predetermined range is formed in the single side | surface or both surfaces of aluminum foil by performing the baking process which performs the baking process of predetermined conditions to the resin coating film which has a predetermined composition.

本発明に係る製造方法は、前記樹脂ベース基板用離型材の製造方法であって、アルミニウム箔の片面または両面に、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンと、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子とからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜を形成する塗布工程と、前記樹脂塗膜に125〜240℃で0.5〜60秒間の焼付け処理を施す焼付け工程とを含むことを特徴とする。 The production method according to the present invention is a method for producing the release material for a resin base substrate, wherein an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, and a release agent on one or both sides of an aluminum foil Application that forms a resin coating film by applying a resin paint composed of the above silicone and one or more kinds of surface roughening particles selected from SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 And a baking step of baking the resin coating film at 125 to 240 ° C. for 0.5 to 60 seconds.

前記手順によれば、表面粗化粒子をさらに含有する所定組成を有する樹脂塗膜に所定条件の焼付け処理を施す焼付け工程を行うことによって、所定範囲の接着強度を有し、かつ、樹脂ベース基板の表面を凹凸にする樹脂塗膜がアルミニウム箔の片面または両面に形成される。   According to the above procedure, the resin base substrate has a predetermined range of adhesive strength by performing a baking process in which a resin coating film having a predetermined composition further containing surface roughening particles is subjected to a baking process under predetermined conditions. The resin coating which makes the surface uneven | corrugated is formed in the single side | surface or both surfaces of aluminum foil.

本発明に係る製造方法は、前記塗布工程において、アルミニウム箔の片面または両面に、前記樹脂塗料をグラビアコート法で塗布することが好ましい。
前記手順によれば、グラビアコート法で塗布することによって、樹脂塗膜の膜厚が均一となる。
In the production method according to the present invention, in the application step, the resin paint is preferably applied to one or both surfaces of the aluminum foil by a gravure coating method.
According to the said procedure, the film thickness of a resin coating film becomes uniform by apply | coating by the gravure coating method.

本発明に係る製造方法は、前記樹脂ベース基板が樹脂ベースプリント基板であることが好ましい。本発明に係る製造方法は、樹脂ベースプリント基板の製造に用いられた際に、好適となる接着強度等を有する樹脂塗膜がアルミニウム箔の片面または両面に形成される。   In the manufacturing method according to the present invention, the resin base substrate is preferably a resin base printed substrate. When the manufacturing method according to the present invention is used for manufacturing a resin-based printed circuit board, a resin coating film having suitable adhesive strength and the like is formed on one side or both sides of an aluminum foil.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材によれば、樹脂ベース基板の製造に使用された際に、樹脂ベース基板から容易に剥がすことが可能な優れた剥離性を有すると共に、耐熱性に優れ、樹脂ベース基板の清浄度、生産性が向上する。また、本発明に係る樹脂ベース基板用離型材によれば、樹脂ベース基板を製造する際の作業性に優れ、樹脂ベース基板の表面形状を調整することができる。特に、本発明に係る樹脂ベース基板用離型材は、樹脂ベース基板の1つである樹脂ベースプリント基板の製造に使用された際に好適な剥離性等を有する。   According to the release material for a resin base substrate according to the present invention, when used for the production of a resin base substrate, it has excellent releasability that can be easily peeled off from the resin base substrate, and has excellent heat resistance. The cleanliness and productivity of the resin base substrate are improved. Moreover, according to the mold release material for resin base substrates which concerns on this invention, it is excellent in workability | operativity at the time of manufacturing a resin base substrate, and can adjust the surface shape of a resin base substrate. In particular, the release material for a resin base substrate according to the present invention has releasability and the like suitable for use in the manufacture of a resin base printed substrate that is one of the resin base substrates.

本発明に係る製造方法によれば、剥離性、耐熱性に優れ、樹脂ベース基板の清浄度、生産性を向上させることが可能な樹脂ベース基板用離型材を製造できる。また、本発明に係る製造方法によれば、樹脂ベース基板の表面形状を調整できる樹脂ベース基板用離型材を製造できる。特に、本発明に係る製造方法は、樹脂ベース基板の1つである樹脂ベースプリント基板の製造に使用される樹脂ベース基板用離型材を好適に製造できる。   According to the production method of the present invention, it is possible to produce a release material for a resin base substrate that is excellent in peelability and heat resistance and can improve the cleanliness and productivity of the resin base substrate. Moreover, according to the manufacturing method which concerns on this invention, the mold release material for resin base substrates which can adjust the surface shape of a resin base substrate can be manufactured. In particular, the manufacturing method according to the present invention can suitably manufacture a release material for a resin base substrate used for manufacturing a resin base printed circuit board which is one of the resin base substrates.

本発明に係る樹脂ベース基板用離型材の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mold release material for resin base substrates which concerns on this invention. 本発明に係る樹脂ベース基板用離型材の他の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other structure of the mold release material for resin base substrates which concerns on this invention. 本発明に係る樹脂ベース基板用離型材の製造方法を示す工程フローである。It is a process flow which shows the manufacturing method of the mold release material for resin base substrates which concerns on this invention. 塗布方法の1つであるグラビアコート法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the gravure coat method which is one of the coating methods. 樹脂ベース基板の製造方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing method of a resin base substrate. 図1の離型材の使用方法を示す熱板での加熱加圧後の模式図である。It is the schematic diagram after the heating pressurization with the hot plate which shows the usage method of the mold release material of FIG. 図2の離型材の使用方法を示す熱板での加熱加圧後の模式図である。It is the schematic diagram after the heating pressurization with the hot plate which shows the usage method of the mold release material of FIG. 図1の離型材の他の使用方法を示す熱板での加熱加圧後の模式図である。It is the schematic diagram after the heating pressurization with the hot plate which shows the other usage method of the mold release material of FIG. 図2の離型材の他の使用方法を示す熱板での加熱加圧後の模式図である。It is the schematic diagram after the heating-pressing by the hot plate which shows the other usage method of the mold release material of FIG. 図1の離型材の他の使用方法を示し、(a)は熱板での加熱加圧前、(b)は加熱加圧後の模式図である。The other usage method of the mold release material of FIG. 1 is shown, (a) is before heating and pressing with a hot plate, (b) is a schematic diagram after heating and pressing. 溶液流延法を用いた樹脂フィルムの製造方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing method of the resin film using a solution casting method.

<樹脂ベース基板用離型材>
本発明に係る樹脂ベース基板用離型材(以下、離型材と称す)の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
離型材は、樹脂ベース基板の製造の際に用いられるものである。本発明において、樹脂ベース基板とは、電子部品を固定して配線するために用いられる樹脂ベースプリント基板(以下、プリント基板と称す)、または、溶液流延法で製造される樹脂フィルム等である。また、離型材の形状は、コイル状またはシート状であって、使用の際には所定長さに切断される。なお、離型材の使用方法の詳細については後記する。
<Release material for resin base substrate>
An embodiment of a release material for a resin base substrate (hereinafter referred to as a release material) according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The release material is used when the resin base substrate is manufactured. In the present invention, the resin base substrate is a resin base printed substrate (hereinafter referred to as a printed substrate) used for fixing and wiring an electronic component, or a resin film manufactured by a solution casting method, or the like. . The shape of the release material is a coil shape or a sheet shape, and is cut into a predetermined length when used. Details of how to use the release material will be described later.

図1、図2に示すように、離型材1A、1Bは、アルミニウム箔2と、アルミニウム箔2の片面または両面に形成された樹脂塗膜3とを備え、樹脂塗膜3の樹脂ベース基板に対する接着強度が所定範囲であることを特徴とする。
以下、各構成について説明する。なお、樹脂ベース基板の1つであるプリント基板11A、11B(図5〜図9参照)の製造に用いられる離型材1A、1Bを例に挙げて説明するが、樹脂ベース基板の1つである樹脂フィルム11D(図11参照)の製造に用いられる離型材1A、1Bにおいても同様である。
As shown in FIGS. 1 and 2, the release materials 1 </ b> A and 1 </ b> B include an aluminum foil 2 and a resin coating 3 formed on one or both sides of the aluminum foil 2, and the resin coating 3 is applied to the resin base substrate. The adhesive strength is within a predetermined range.
Each configuration will be described below. In addition, although it demonstrates taking the case of the mold release materials 1A and 1B used for manufacture of printed circuit boards 11A and 11B (refer FIGS. 5-9) which are one of the resin base boards, it is one of the resin base boards. The same applies to the release materials 1A and 1B used for manufacturing the resin film 11D (see FIG. 11).

(アルミニウム箔)
アルミニウム箔2を構成するアルミニウム(アルミニウム合金を含む)の合金種は、特に限定されるものではないが、アルミニウム箔2の耐力が140〜270MPaとなるような合金種を選択することが好ましい。このような合金種としては、JIS規定の1000系、3000系合金等が挙げられる。また、アルミニウム箔2の耐力が140MPa未満であると、プリント基板を製造する際の作業性が低下し易く、耐力が270MPaを超えると、離型材1A、1Bの製造コストが高くなり易い。また、アルミニウム箔2の箔厚は、作業性および製造コストを考慮して、200μm未満が好ましく、20〜50μmがさらに好ましい。なお、アルミニウム箔2は、アルミニウムと銅の線膨張係数の違いから、プリント基板の銅箔の引張りシワを防止する作用もある。
(Aluminum foil)
The alloy type of aluminum (including the aluminum alloy) constituting the aluminum foil 2 is not particularly limited, but it is preferable to select an alloy type such that the proof stress of the aluminum foil 2 is 140 to 270 MPa. Examples of such alloy types include JIS-regulated 1000 series and 3000 series alloys. Moreover, if the proof stress of the aluminum foil 2 is less than 140 MPa, the workability at the time of manufacturing a printed circuit board tends to be lowered, and if the proof stress exceeds 270 MPa, the manufacturing cost of the release materials 1A and 1B tends to be high. Moreover, the foil thickness of the aluminum foil 2 is preferably less than 200 μm, more preferably 20 to 50 μm in consideration of workability and manufacturing cost. In addition, the aluminum foil 2 also has an effect | action which prevents the tensile wrinkle of the copper foil of a printed circuit board from the difference in the linear expansion coefficient of aluminum and copper.

(樹脂塗膜)
樹脂塗膜3は、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびシリコーンとからなる。そして、樹脂塗膜3は、1〜200g/cmの接着強度を有する。接着強度は、後記する離型材1A、1Bの製造方法において、所定組成を有する樹脂塗膜3に所定条件の焼付け処理を行うことによって達成される。
(Resin coating film)
The resin coating 3 is made of an epoxy resin, a melamine resin, and silicone. The resin coating film 3 has an adhesive strength of 1 to 200 g / cm. The adhesive strength is achieved by performing a baking process under a predetermined condition on the resin coating film 3 having a predetermined composition in the method for manufacturing the release materials 1A and 1B described later.

エポキシ系樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、臭素化フェノキシ樹脂等が挙げられる。   Epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, brominated epoxy resin, amine type epoxy resin, flexible epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, phenoxy resin, Examples thereof include brominated phenoxy resin.

メラミン系樹脂としては、メチルエーテル化メラミン樹脂、ブチル化尿素メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、メチル化メラミン樹脂、ブチルアルコール変性メラミン樹脂等が挙げられる。また、メラミン系樹脂は、前記樹脂とブチル化尿素樹脂、ブチル化ベンゾグアナミン樹脂等との混合樹脂であってもよい。   Examples of the melamine-based resin include methyl etherified melamine resin, butylated urea melamine resin, butylated melamine resin, methylated melamine resin, and butyl alcohol-modified melamine resin. The melamine resin may be a mixed resin of the resin and a butylated urea resin, a butylated benzoguanamine resin, or the like.

なお、エポキシ系樹脂の数平均分子量は2000〜3000、メラミン系樹脂の数平均分子量は500〜1000であることが好ましい。このような数平均分子量を有することによって、樹脂の塗料化が可能になると共に、樹脂塗膜の接着強度を所定範囲に調整し易くなる。   The number average molecular weight of the epoxy resin is preferably 2000 to 3000, and the number average molecular weight of the melamine resin is preferably 500 to 1000. By having such a number average molecular weight, the resin can be made into a paint and the adhesive strength of the resin coating film can be easily adjusted to a predetermined range.

シリコーンとしては、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン、変性ジメチルポリシロキサン、これらの混合物等が挙げられる。ここで、変性とは、例えば、エポキシ変性、アルキル変性、アミノ変性、カルボキシル変性、アルコール変性、フッ素変性、アルキルアラルキルポリエーテル変性、エポキシポリエーテル変性、ポリエーテル変性、アルキル高級アルコールエステル変性、ポリエステル変性、アシロキシアルキル変性、ハロゲン化アルキルアシロキシアルキル変性、ハロゲン化アルキル変性、アミノグリコール変性、メルカプト変性、水酸基含有ポリエステル変性等が挙げられる。   Examples of silicone include methylphenylpolysiloxane, methylhydropolysiloxane, dimethylpolysiloxane, modified dimethylpolysiloxane, and mixtures thereof. Here, the modification is, for example, epoxy modification, alkyl modification, amino modification, carboxyl modification, alcohol modification, fluorine modification, alkylaralkyl polyether modification, epoxy polyether modification, polyether modification, alkyl higher alcohol ester modification, polyester modification. And acyloxyalkyl modification, halogenated alkylacyloxyalkyl modification, halogenated alkyl modification, aminoglycol modification, mercapto modification, hydroxyl group-containing polyester modification, and the like.

樹脂塗膜3の接着強度は、離型材1A、1B(樹脂塗膜3)をプリント基板11A、11B(プリプレグ12)の表面から引き剥がすのに要する力(最大強さ)を単位長さ(1cm)あたりで表したものである。そして、その試験方法は、JISC6481−1996の図6に記載された引き剥がし方法に準じて行い、具体的には離型材1A、1B(樹脂塗膜3)を、プリント基板11A、11B(プリプレグ12)の表面に対して、90度の角度で上方に引き剥がした。なお、引き剥がし速度は50mm/minとし、引き剥がしは室温で行った。   The adhesive strength of the resin coating 3 is the unit length (1 cm) of the force (maximum strength) required to peel the release materials 1A, 1B (resin coating 3) from the surfaces of the printed boards 11A, 11B (prepreg 12). ) And the test method is performed according to the peeling method described in FIG. 6 of JISC6481-1996. Specifically, the release materials 1A and 1B (resin coating film 3) are printed boards 11A and 11B (prepreg 12). The surface was peeled upward at an angle of 90 degrees. The peeling rate was 50 mm / min, and peeling was performed at room temperature.

接着強度が1g/cm未満である場合には、積層体を解体する際に、既に離型材1A、1Bが剥がれた状態になり、作業性が悪化する。接着強度が200g/cmを超える場合には、樹脂塗膜3(離型材1A、1B)の剥離性が低下し、離型材1A、1Bをプリプレグ12(プリント基板11A、11B)から剥離することが困難となる。   When the adhesive strength is less than 1 g / cm, when the laminate is disassembled, the release materials 1A and 1B are already peeled off, and workability is deteriorated. When the adhesive strength exceeds 200 g / cm, the peelability of the resin coating film 3 (release materials 1A, 1B) is reduced, and the release materials 1A, 1B can be peeled from the prepreg 12 (printed boards 11A, 11B). It becomes difficult.

樹脂塗膜3は、その膜厚が0.5〜5μmであることが好ましい。膜厚が0.5μm未満である場合には、樹脂塗膜3が薄膜すぎて形成が困難であるため、生産性が低下し易い。また、膜厚が5μmを超える場合には、樹脂塗膜3の剥離性のさらなる向上は見られず、樹脂塗膜3(離型材1A、1B)の製造コストが高くなり易い。また、樹脂塗膜3の膜厚は、後記する離型材1A、1Bの製造方法において、樹脂塗料を所定塗布量で塗布することによって達成される。   The resin coating film 3 preferably has a film thickness of 0.5 to 5 μm. When the film thickness is less than 0.5 μm, the resin coating film 3 is too thin and difficult to form, so that the productivity is likely to decrease. Moreover, when a film thickness exceeds 5 micrometers, the further improvement of the peelability of the resin coating film 3 is not seen, but the manufacturing cost of the resin coating film 3 (release material 1A, 1B) tends to become high. Moreover, the film thickness of the resin coating film 3 is achieved by applying a resin coating in a predetermined application amount in a method for manufacturing the release materials 1A and 1B described later.

樹脂塗膜3は、エポキシ系樹脂100質量部に対して、シリコーンが0.07〜3質量部であることが好ましい。シリコーンは樹脂塗膜3の剥離剤として機能する。シリコーンが0.07質量部未満である場合には、樹脂塗膜3の接着強度が大きくなるため、樹脂塗膜3の剥離性が低下し易い。シリコーンが3質量部を超える場合には、樹脂塗膜3の接着強度が小さくなるため、剥離時の作業性が悪化する。   It is preferable that the resin coating 3 is 0.07-3 mass parts of silicone with respect to 100 mass parts of epoxy resins. Silicone functions as a release agent for the resin coating film 3. When the amount of silicone is less than 0.07 parts by mass, the adhesive strength of the resin coating film 3 is increased, so that the peelability of the resin coating film 3 is likely to be lowered. When silicone exceeds 3 mass parts, since the adhesive strength of the resin coating film 3 becomes small, workability at the time of peeling deteriorates.

樹脂塗膜3は、エポキシ系樹脂100質量部に対して、メラミン系樹脂が40〜55質量部であることがさらに好ましい。メラミン系樹脂は硬化剤として機能する。メラミン系樹脂が40質量部未満である場合には、樹脂塗膜3の硬度が低くなり、接着強度が大きくなるため、樹脂塗膜3の剥離性が低下し易い。メラミン系樹脂が55質量部を超える場合には、樹脂塗膜3の硬化不足により、接着強度が大きくなるため、剥離時の作業性が悪化する。   As for the resin coating film 3, it is more preferable that a melamine resin is 40-55 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins. The melamine resin functions as a curing agent. When the melamine-based resin is less than 40 parts by mass, the hardness of the resin coating film 3 is lowered and the adhesive strength is increased, so that the peelability of the resin coating film 3 is likely to be lowered. When the melamine-based resin exceeds 55 parts by mass, the adhesive strength increases due to insufficient curing of the resin coating film 3, so that workability at the time of peeling deteriorates.

樹脂塗膜3は、前記エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびシリコーンに加えて、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子をさらに含有することが好ましい。樹脂塗膜3が表面粗化粒子を含有することによって、樹脂塗膜3の表面が凹凸となる。その凹凸によって、プリプレグ12(プリント基板11A、11B)の表面が凹凸となり、艶消し表面となる。表面粗化粒子の含有量は、樹脂塗膜3が凹凸化されれば特に限定されないが、エポキシ系樹脂100質量部に対して、1〜10質量部が好ましい。 In addition to the epoxy resin, melamine resin and silicone, the resin coating 3 is one or more kinds of surface roughened particles selected from SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2. It is preferable to further contain. When the resin coating film 3 contains surface roughening particles, the surface of the resin coating film 3 becomes uneven. Due to the unevenness, the surface of the prepreg 12 (printed substrates 11A and 11B) becomes uneven and becomes a matte surface. Although content of the surface roughening particle | grains will not be specifically limited if the resin coating film 3 is uneven | corrugated, 1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

表面粗化粒子の粒子径は、15nm〜4μmであることが好ましい。ここで、粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)写真等から測定した平均粒子径(最大粒子径と最小粒子径の平均値)を意味する。表面粗化粒子の粒子径が前記範囲であることによって、樹脂塗膜3の表面の凹凸量が調整し易くなり、結果的にプリプレグ12の表面の凹凸量が調整し易くなる。具体的には、プリプレグ12の表面の凹凸量は、JIS規定の最大高さ粗さRyで4.0μm程度となる。   The particle diameter of the surface roughened particles is preferably 15 nm to 4 μm. Here, the particle diameter means an average particle diameter (average value of the maximum particle diameter and the minimum particle diameter) measured from a scanning electron microscope (SEM) photograph or the like. When the particle diameter of the surface roughened particles is in the above range, the unevenness on the surface of the resin coating film 3 can be easily adjusted, and as a result, the unevenness on the surface of the prepreg 12 can be easily adjusted. Specifically, the amount of unevenness on the surface of the prepreg 12 is about 4.0 μm in terms of the maximum height roughness Ry defined by JIS.

<離型材の製造方法>
次に、離型材の製造方法について、説明する。
図3に示すように、離型材の製造方法は、塗布工程S1と、焼付け工程S2とを含むものである。以下、各工程について説明する。なお、樹脂ベース基板の1つであるプリント基板11A、11B(図5〜図9参照)の製造に用いられる離型材を例に挙げて説明するが、樹脂ベース基板の1つである樹脂フィルム11D(図11参照)の製造に用いられる離型材においても同様である。また、離型材の構成は、図1、図2を参照する。
<Manufacturing method of release material>
Next, the manufacturing method of a mold release material is demonstrated.
As shown in FIG. 3, the mold release material manufacturing method includes an application step S <b> 1 and a baking step S <b> 2. Hereinafter, each step will be described. In addition, although it demonstrates taking the case of the mold release material used for manufacture of printed circuit board 11A, 11B (refer FIGS. 5-9) which is one of the resin base boards, resin film 11D which is one of the resin base boards The same applies to the release material used for manufacturing (see FIG. 11). Moreover, the structure of a mold release material refers to FIG. 1, FIG.

(塗布工程:S1)
塗布工程S1は、アルミニウム箔2の片面または両面に、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンとからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜3を形成する工程である。樹脂塗料は、アルコール等の有機溶媒にエポキシ系樹脂およびメラミン系樹脂を溶解した樹脂溶液にシリコーンを添加したものである。また、樹脂塗料における配合量(添加量)は、エポキシ系樹脂100質量部に対して、メラミン系樹脂が40〜55質量部、シリコーンが0.07〜3質量部であることが好ましい。
(Coating process: S1)
In the coating step S1, a resin coating made of an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, and silicone as a release agent is applied to one surface or both surfaces of the aluminum foil 2 to form a resin coating film 3. It is a process of forming. The resin paint is obtained by adding silicone to a resin solution obtained by dissolving an epoxy resin and a melamine resin in an organic solvent such as alcohol. Moreover, it is preferable that the compounding quantity (addition quantity) in a resin coating is 40-55 mass parts of melamine type resins, and 0.07-3 mass parts of silicone with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

塗布工程S1における塗布方法としては、樹脂塗膜3が形成できれば特に限定されるものではないが、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、カーテンフローコート法、静電塗装機を用いる方法等が用いられ、樹脂塗膜3の均一性、および、作業の簡便性からグラビアコート法が好ましい。また、塗布量としては、樹脂塗膜3が好ましい膜厚:0.5〜5μmとなるように、樹脂量として1.0〜2.0g/mが好ましい。 The coating method in the coating step S1 is not particularly limited as long as the resin coating film 3 can be formed, but a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a curtain flow coating method, a method using an electrostatic coating machine, or the like. The gravure coating method is preferable in view of the uniformity of the resin coating film 3 and the simplicity of work. Moreover, as an application quantity, 1.0-2.0 g / m < 2 > is preferable as a resin amount so that it may become the resin film 3 preferable film thickness: 0.5-5 micrometers.

グラビアコート法は、ロール表面に設けられた凹部(セル)に満たされた樹脂塗料をアルミニウム箔に転写させることによって、アルミニウム箔2の表面に樹脂塗膜3を形成させる方法である。具体的には、図4に示すように、表面にセル23が設けられた下側ロール22の下部を樹脂塗料中に浸漬し、下側ロール22の回転によってセル23内に樹脂塗料を汲み上げる。そして、下側ロール22と、下側ロール22の上側に配置された上側ロール21との間にアルミニウム箔2を配置し、上側ロール21でアルミニウム箔2を下側ロール22に押し付けながら、下側ロール22および上側ロール21を回転させることによって、アルミニウム箔2が搬送されると共に、セル23内に汲み上げられた樹脂塗料がアルミニウム箔2の片面に転写(塗布)される。   The gravure coating method is a method in which the resin coating film 3 is formed on the surface of the aluminum foil 2 by transferring the resin coating filled in the recesses (cells) provided on the roll surface onto the aluminum foil. Specifically, as shown in FIG. 4, the lower part of the lower roll 22 provided with the cells 23 on the surface is immersed in the resin paint, and the resin paint is pumped into the cells 23 by the rotation of the lower roll 22. And while arrange | positioning the aluminum foil 2 between the lower roll 22 and the upper roll 21 arrange | positioned above the lower roll 22, pressing the aluminum foil 2 against the lower roll 22 with the upper roll 21, By rotating the roll 22 and the upper roll 21, the aluminum foil 2 is conveyed, and the resin paint pumped into the cell 23 is transferred (applied) to one surface of the aluminum foil 2.

また、アルミニウム箔2の搬入側に、下側ロール22の表面に接触するようにドクターブレード24を配置することによって、セル23以外のロール表面に汲み上げられた過剰な樹脂塗料が取り除かれ、アルミニウム箔2の表面に所定量の樹脂塗料が塗布される。なお、セル23の番手(大きさおよび深さ)が大きい場合、または、樹脂塗料の粘度が高い場合には、アルミニウム箔2の片面に形成される樹脂塗膜3が平滑になり難くなる。したがって、アルミニウム箔2の搬出側にスムージングロール25を配置して、樹脂塗膜3の平滑度を維持してもよい。   Further, by disposing the doctor blade 24 on the carry-in side of the aluminum foil 2 so as to contact the surface of the lower roll 22, excess resin paint pumped up on the roll surface other than the cell 23 is removed, and the aluminum foil is removed. A predetermined amount of resin paint is applied to the surface of 2. In addition, when the count (size and depth) of the cell 23 is large, or when the viscosity of the resin paint is high, the resin coating film 3 formed on one surface of the aluminum foil 2 is difficult to be smooth. Therefore, the smoothing roll 25 may be disposed on the carry-out side of the aluminum foil 2 to maintain the smoothness of the resin coating film 3.

なお、アルミニウム箔2の両面に樹脂塗膜を3形成させる場合には、アルミニウム箔2の片面に樹脂塗膜3を形成させた後に、アルミニウム箔2を裏返して、再度、下側ロール22と上側ロール21との間に配置する。そして、前記と同様に、下側ロール22のセル23内の樹脂塗料をアルミニウム箔2の裏面に転写(塗布)する。   In addition, when forming the resin coating film 3 on both surfaces of the aluminum foil 2, after forming the resin coating film 3 on one surface of the aluminum foil 2, the aluminum foil 2 is turned over, and the lower roll 22 and the upper side again. It arrange | positions between the rolls 21. In the same manner as described above, the resin paint in the cell 23 of the lower roll 22 is transferred (applied) to the back surface of the aluminum foil 2.

(焼付け工程:S2)
焼付け工程S2は、前記工程S1で形成された樹脂塗膜3に125〜240℃(焼付け温度)で0.5〜60秒間(焼付け時間)の焼付け処理を施す工程である。このように、所定配合量の樹脂塗料で形成された樹脂塗膜に所定条件の焼付け処理を施すことによって、樹脂塗膜3のプリント基板11A、11B(プリプレグ12)に対する接着強度が所定範囲に制御される。本発明において、焼付け温度はアルミニウム箔2の到達温度である。また、焼付け処理に使用される加熱手段としては、従来公知の装置を使用する。
(Baking process: S2)
The baking step S2 is a step of subjecting the resin coating film 3 formed in the step S1 to a baking treatment at 125 to 240 ° C. (baking temperature) for 0.5 to 60 seconds (baking time). In this way, the adhesive strength of the resin coating film 3 to the printed boards 11A and 11B (prepreg 12) is controlled within a predetermined range by subjecting the resin coating film formed of the resin coating of a predetermined blending amount to a baking process under predetermined conditions. Is done. In the present invention, the baking temperature is the ultimate temperature of the aluminum foil 2. Moreover, a conventionally well-known apparatus is used as a heating means used for a baking process.

焼付け温度が125℃未満、または、焼付け時間が0.5秒未満である場合には、樹脂塗膜3が硬化不足となり、樹脂塗膜3の接着強度が200g/cmを超え、剥離性が低下する。また、焼付け温度が240℃を超える場合には、樹脂塗膜3が劣化して、接着強度が200g/cmを超え、剥離時の作業性が悪化する。また、焼付け時間が60秒を超える場合には、生産性が悪化する。   When the baking temperature is less than 125 ° C. or the baking time is less than 0.5 seconds, the resin coating film 3 becomes insufficiently cured, the adhesive strength of the resin coating film 3 exceeds 200 g / cm, and the peelability is lowered. To do. Moreover, when baking temperature exceeds 240 degreeC, the resin coating film 3 deteriorates, adhesive strength exceeds 200 g / cm, and the workability | operativity at the time of peeling deteriorates. Further, when the baking time exceeds 60 seconds, the productivity is deteriorated.

本発明に係る製造方法においては、前記塗布工程の樹脂塗料が、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンと、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子とからなるものであってもよい。 In the production method according to the present invention, the resin coating in the coating step includes an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, silicone as a release agent, SiO 2 , MgO, Al 2 O 3. Or one or more types of surface roughened particles selected from BaSO 4 and Mg (OH) 2 .

具体的には、樹脂塗料は、前記したシリコーン添加樹脂溶液に表面粗化粒子をさらに添加したものである。このような表面粗化粒子を樹脂塗料にさらに添加することによって、樹脂塗膜3の表面が凹凸となり、この凹凸によってプリント基板11A、11B(プリプレグ12)が凹凸となり、艶消し表面となる。そして、このような艶消し表面を有するプリント基板11A、11Bを得るためには、樹脂塗料における表面粗化粒子の配合量(添加量)が、エポキシ系樹脂100質量部に対して、1〜10質量部であることが好ましい。また、表面粗化粒子の粒子径が15nm〜4μmであることがさらに好ましい。   Specifically, the resin coating is obtained by further adding surface roughening particles to the above-described silicone-added resin solution. By further adding such surface roughening particles to the resin coating, the surface of the resin coating 3 becomes uneven, and the unevenness causes the printed boards 11A and 11B (prepreg 12) to become a matte surface. And in order to obtain printed circuit board 11A, 11B which has such a matt surface, the compounding quantity (addition quantity) of the surface roughening particle | grains in resin coating is 1-10 with respect to 100 mass parts of epoxy resin. It is preferable that it is a mass part. Moreover, it is more preferable that the particle diameter of the surface roughened particles is 15 nm to 4 μm.

本発明に係る製造方法は、以上説明したとおりであるが、本発明を行うにあたり、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、塗布工程S1の前にアルミニウム箔2の表面を洗浄する洗浄工程を行ってもよい。   The production method according to the present invention is as described above. However, in carrying out the present invention, other steps may be included between or before and after each step within a range that does not adversely affect each step. . For example, a cleaning process for cleaning the surface of the aluminum foil 2 may be performed before the coating process S1.

<離型材の使用方法>
次に、離型材の使用方法について、樹脂ベース基板の1つであるプリント基板の製造の一例を挙げて説明する。
銅箔付きプリント基板は、以下の手順で製造される。
<How to use release material>
Next, a method for using the release material will be described with an example of manufacturing a printed circuit board which is one of the resin base boards.
The printed circuit board with copper foil is manufactured by the following procedure.

図5に示すように、ガラスクロスまたは紙等に、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂等を含浸させ、乾燥させた半硬化したプリプレグ12を準備する。この半硬化したプリプレグ12の一面に対面するように銅箔13を配置する。そして、プリプレグ12の他面に本発明に係る離型材1Aの樹脂塗膜3が対面するように配置する。また、銅箔13、および、離型材1Aのアルミニウム箔2に対面するように鏡面板4(例えば、ステンレス板)をそれぞれ配置して、積層物を構成する。この積層物を複数個積み重ねてから、その上下に熱板5を配置する。   As shown in FIG. 5, a glass cloth or paper is impregnated with an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, and the like, and a dried semi-cured prepreg 12 is prepared. The copper foil 13 is disposed so as to face one surface of the semi-cured prepreg 12. And it arrange | positions so that the resin coating film 3 of the mold release material 1A which concerns on this invention may face the other surface of the prepreg 12. FIG. Moreover, the mirror surface board 4 (for example, stainless steel board) is each arrange | positioned so that the copper foil 13 and the aluminum foil 2 of the mold release material 1A may be faced, and a laminated body is comprised. After stacking a plurality of the laminates, the hot plates 5 are arranged above and below.

次いで、この熱板5に150〜300℃で30kg/cm以上の圧力を1時間以上加える。その結果、プリプレグ12の樹脂が硬化すると共に、一面に銅箔13が接着し、他面に樹脂塗膜3を介して離型材1Aが接着される(図6参照)。なお、一般的には、銅箔13の大きさが半硬化したプリプレグ12より大きく設定されているため、加熱加圧によるプリプレグ12の樹脂の外側への染み出しが防止される。 Next, a pressure of 30 kg / cm 2 or more is applied to the hot plate 5 at 150 to 300 ° C. for 1 hour or more. As a result, the resin of the prepreg 12 is cured, the copper foil 13 is bonded to one surface, and the release material 1A is bonded to the other surface through the resin coating 3 (see FIG. 6). In general, since the size of the copper foil 13 is set to be larger than that of the semi-cured prepreg 12, the prepreg 12 is prevented from exuding to the outside due to heat and pressure.

加熱加圧終了後、熱板5および鏡面板4を取り除いて積層物を解体し、硬化したプリプレグ12に接着している離型材1A(樹脂塗膜3)を剥離することによって、銅箔付きのプリント基板11Aが複数製造される。なお、離型材1Aの剥離は、作業者が手作業で行ってもよいし、ロボット等を用いて行ってもよい。   After the heating and pressurization, the hot plate 5 and the mirror plate 4 are removed, the laminate is disassembled, and the release material 1A (resin coating film 3) adhered to the cured prepreg 12 is peeled off, thereby attaching the copper foil. A plurality of printed circuit boards 11A are manufactured. The release material 1A may be peeled off manually by an operator or using a robot or the like.

前記では、アルミニウム箔2の片面に樹脂塗膜3が形成された離型材1A(図1参照)を用いた例について説明したが、アルミニウム箔2の両面に樹脂塗膜3が形成された離型材1B(図2参照)を用いる場合について、一例として以下に説明する。   Although the example using the release material 1A (see FIG. 1) in which the resin coating 3 is formed on one side of the aluminum foil 2 has been described above, the release material in which the resin coating 3 is formed on both sides of the aluminum foil 2 The case where 1B (refer FIG. 2) is used is demonstrated below as an example.

図7に示すように、離型材1Bの両側に、半硬化したプリプレグ12、銅箔13、鏡面板4をこの順にそれぞれ配置して積層物を構成する。その積層物を複数個積み重ね、前記と同様に加熱加圧することによって、離型材1B(樹脂塗膜3)の両側に、樹脂が硬化すると共に銅箔13が接着したプリプレグ12が接着されたものが製造される。前記と同様にして積層物を解体し、プリプレグ12から離型材1B(樹脂塗膜3)を剥離することによって、銅箔付きのプリント基板11Aが複数製造される。   As shown in FIG. 7, a semi-cured prepreg 12, copper foil 13, and mirror plate 4 are arranged in this order on both sides of the release material 1B to constitute a laminate. By stacking a plurality of the laminates and heating and pressing in the same manner as described above, the prepreg 12 to which the resin is cured and the copper foil 13 is adhered is bonded to both sides of the release material 1B (resin coating film 3). Manufactured. The laminate is disassembled in the same manner as described above, and the release material 1B (resin coating film 3) is peeled from the prepreg 12 to produce a plurality of printed boards 11A with copper foil.

次に、銅箔を有しないプリント基板の製造について説明する。
図8に示すように、半硬化したプリプレグ12の両側に、樹脂塗膜3がプリプレグ12に対面するように離型材1A、鏡面板4をこの順にそれぞれ配置して積層物を構成する。その積層物を複数個積み重ね、前記と同様に加熱加圧することによって、硬化したプリプレグ12の両側に離型材1A(樹脂塗膜3)が接着されたものが製造される。前記と同様にして積層物を解体し、プリプレグ12から離型材1A(樹脂塗膜3)を剥離することによって、プリプレグ12のみで構成されたプリント基板11Bが複数製造される。
Next, manufacture of the printed circuit board which does not have copper foil is demonstrated.
As shown in FIG. 8, the release material 1 </ b> A and the mirror plate 4 are arranged in this order on both sides of the semi-cured prepreg 12 so that the resin coating 3 faces the prepreg 12, thereby forming a laminate. A plurality of the laminates are stacked and heated and pressed in the same manner as described above to produce a product in which the release material 1A (resin coating film 3) is bonded to both sides of the cured prepreg 12. The laminate is disassembled in the same manner as described above, and the release material 1A (resin coating film 3) is peeled from the prepreg 12 to produce a plurality of printed circuit boards 11B composed of only the prepreg 12.

また、離型材1Bを用いる場合には、図9に示すように、離型材1Bの両側に、半硬化したプリプレグ12、樹脂塗膜3がプリプレグ12に対面するように離型材1A、鏡面板4をこの順にそれぞれ配置して積層物を構成する。その積層物を複数個積み重ね、前記と同様に加熱加圧することによって、硬化したプリプレグ12の一面に離型材1A(樹脂塗膜3)、他面に離型材1B(樹脂塗膜3)が接着されたものが製造される。前記と同様にして積層物を解体し、プリプレグ12から離型材1A(樹脂塗膜3)および離型材1B(樹脂塗膜3)を剥離することによって、プリプレグ12のみで構成されたプリント基板11Bが複数製造される。   When the release material 1B is used, as shown in FIG. 9, the release material 1A and the mirror plate 4 are disposed so that the semi-cured prepreg 12 and the resin coating 3 face the prepreg 12 on both sides of the release material 1B. Are arranged in this order to constitute a laminate. By stacking a plurality of the laminates and applying heat and pressure in the same manner as described above, the release material 1A (resin coating film 3) is bonded to one surface of the cured prepreg 12, and the release material 1B (resin coating film 3) is bonded to the other surface. Is produced. The laminate is disassembled in the same manner as described above, and the release material 1A (resin coating film 3) and the release material 1B (resin coating film 3) are peeled off from the prepreg 12 to obtain a printed circuit board 11B composed only of the prepreg 12. Several are manufactured.

図10(a)、(b)に示すように、本発明に係る離型材1Aまたは離型材1B(図示せず)は、接着樹脂14を銅箔13に塗布した樹脂付き銅箔15をコア材16に接着して積層した多層プリント基板11Cの製造にも使用される。コア材16の両側に樹脂付き銅箔15、離型材1Aまたは離型材1B、鏡面板4をこの順にそれぞれ配置して積層物を構成する。その積層物を複数個積み重ね、前記と同様に加熱加圧し、その後、積層物を解体することによって、複数の多層プリント基板11Cが製造される。ここでは、離型材1Aまたは離型材1Bは、加熱加圧による樹脂付き銅箔15の接着樹脂14の外側への染み出しを受けるカバーとしての機能に加えて、離型材としての機能および銅箔13のシワを防止する作用も有する。   As shown in FIGS. 10A and 10B, a release material 1A or a release material 1B (not shown) according to the present invention includes a resin-coated copper foil 15 in which an adhesive resin 14 is applied to a copper foil 13 as a core material. It is also used for manufacturing a multilayer printed circuit board 11C that is bonded to 16 and laminated. On both sides of the core material 16, the resin-coated copper foil 15, the release material 1 </ b> A or the release material 1 </ b> B, and the mirror plate 4 are arranged in this order to constitute a laminate. A plurality of multilayer printed boards 11C are manufactured by stacking a plurality of the laminates, heating and pressing in the same manner as described above, and then disassembling the laminates. Here, the mold release material 1A or the mold release material 1B has a function as a mold release material and a copper foil 13 in addition to a function as a cover that receives the exudation of the adhesive resin 14 of the copper foil 15 with resin by heating and pressing. It also has the effect of preventing wrinkles.

以上、説明したように、離型材1Aまたは離型材1A、1Bを使用することで、平坦度が整えられたプリント基板11A、11B、11Cが、離型材1A、1Bがプリント基板11A、11B、11Cから剥がれ難くなるという問題を発生することなく、製造される。   As described above, by using the release material 1A or the release materials 1A and 1B, the printed boards 11A, 11B, and 11C that have been adjusted to have flatness are used as the release materials 1A and 1B as the printed boards 11A, 11B, and 11C. It is manufactured without causing the problem that it is difficult to peel off from.

また、離型材の使用方法について、樹脂ベース基板の1つである樹脂フィルムの溶液流延法を用いた製造の一例を挙げて説明する。
溶液流延法は、樹脂フィルムの製法で一般的である溶融押出法では製造し難い、溶融分解が起こり易い樹脂、融点の高い樹脂、例えば、ポリエステル、ポリイミド、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネイト等で樹脂フィルムを製造する際に用いられる。そして、溶液流延法で製造された樹脂フィルムは、高分子の配向が起こらず強度や光学特性に方向性が生じないこと、厚み精度が高いこと、平滑性、透明性および光沢性に優れることから、偏光膜、偏光膜保護フィルム、位相フィルム等に使用される。
In addition, a method of using the release material will be described with an example of production using a solution casting method of a resin film that is one of the resin base substrates.
The solution casting method is difficult to produce by the melt extrusion method, which is a general method for producing resin films, and is easily melt-decomposable, a resin having a high melting point, such as polyester, polyimide, triacetylcellulose, diacetylcellulose, polychlorinated It is used when producing a resin film with vinyl, polyvinyl alcohol, polycarbonate or the like. And the resin film manufactured by the solution casting method has no orientation of the polymer and no directionality in strength and optical properties, high thickness accuracy, excellent smoothness, transparency and gloss. To polarizing films, polarizing film protective films, phase films and the like.

溶液流延法では、図11に示すように、まず、複数の送入ローラ32によって送入された離型材1A(1B)の上に、樹脂を溶媒に溶かした樹脂溶液をホッパー31から流し込んで付着させる。すなわち、離型材1A(1B)を樹脂溶液の支持体として用いる。樹脂溶液が付着した離型材1A(1B)を、送入ローラ32によってオーブン等の加熱手段33の内部に送り入れる。加熱手段33の内部では、離型材1A(1B)上に流延した樹脂溶液の溶媒が蒸発し、離型材1A(1B)上で樹脂フィルム11Dが成形した積層体が製造される。次に、この離型材1A(1B)と樹脂フィルム11Dとからなる積層体を、複数の送出ローラ34で加熱手段33から送り出し、冷却する。冷却された積層体を巻取ドラム35で巻き取る。そして、巻き取られた積層体から離型材1A(1B)を剥離することによって、樹脂フィルム11Dが製造される。   In the solution casting method, as shown in FIG. 11, first, a resin solution in which a resin is dissolved in a solvent is poured from a hopper 31 onto a release material 1A (1B) fed by a plurality of feeding rollers 32. Adhere. That is, the release material 1A (1B) is used as a support for the resin solution. The release material 1A (1B) to which the resin solution is attached is fed into the heating means 33 such as an oven by the feeding roller 32. Inside the heating means 33, the solvent of the resin solution cast on the release material 1A (1B) evaporates, and a laminate in which the resin film 11D is formed on the release material 1A (1B) is manufactured. Next, the laminate composed of the release material 1A (1B) and the resin film 11D is sent out from the heating means 33 by a plurality of delivery rollers 34 and cooled. The cooled laminate is wound up by the winding drum 35. And resin film 11D is manufactured by peeling release material 1A (1B) from the wound laminated body.

以上、説明したように、離型材1A(1B)を使用することによって、樹脂フィルム11Dが、離型材1A(1B)が樹脂フィルム11Dから剥がれ難くなるという問題を発生することなく、製造される。   As described above, by using the release material 1A (1B), the resin film 11D is manufactured without causing a problem that the release material 1A (1B) is difficult to peel from the resin film 11D.

厚み:20μmのアルミニウム箔(1000系合金、耐力:140MPa)の片面に、
表1に示す樹脂塗料をバーコーターで塗布し、樹脂塗膜を形成した。その後、同表に示す条件で焼付け処理し離型材を作製した。
Thickness: 20 μm aluminum foil (1000 series alloy, yield strength: 140 MPa) on one side,
The resin paint shown in Table 1 was applied with a bar coater to form a resin coating film. Thereafter, a release material was produced by baking treatment under the conditions shown in the table.

作製した離型材(No.1〜16)について、下記の手順で剥離性試験を行い、プリント基板に対する樹脂塗膜(離型材)の接着強度を測定し、離型材の剥離性を評価した。その結果を表1に示す。   About the produced release material (No. 1-16), the peelability test was done in the following procedure, the adhesive strength of the resin coating film (release material) with respect to a printed circuit board was measured, and the peelability of the release material was evaluated. The results are shown in Table 1.

(剥離性試験)
プリプレグの一面に対面するように銅箔(厚み:18μm)を配置し、プリプレグの他面に離型材の樹脂塗膜が対面するように配置する。また、銅箔および離型材のアルミニウム箔に対面するようにステンレス板(厚み:300μm)をそれぞれ配置し、積層物とする。そして、この積層物の上下に熱板を配置し、熱板に180℃で30kg/cmの圧力を1時間加え、銅箔が接着したプリプレグからなるプリント基板を作製する。なお、プリプレグとしては、ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸させたプリプレグ(日立化成工業製、商品名:GEA−67N)を用いた。
(Peelability test)
A copper foil (thickness: 18 μm) is disposed so as to face one surface of the prepreg, and is disposed so that the resin coating film of the release material faces the other surface of the prepreg. In addition, a stainless steel plate (thickness: 300 μm) is disposed so as to face the copper foil and the aluminum foil of the release material, and a laminate is obtained. And a hot plate is arrange | positioned at the upper and lower sides of this laminated body, the pressure of 30 kg / cm < 2 > is applied to a hot plate at 180 degreeC for 1 hour, and the printed circuit board which consists of a prepreg which copper foil adhered is produced. As the prepreg, a prepreg (product name: GEA-67N, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin was used.

次に、室温中で積層物を解体して、プリント基板のプリプレグ側に接着している離型材を、プリプレグの表面に対して90度の角度で上方に50mm/minで引き剥がし(JISC6481の図6参照)、その時の引き剥がし強度を測定し、その最大値を離型材の接着強度とした。
なお、剥離性の評価基準としては、接着強度が1〜200g/cmのときに剥離性が良好(○)、接着強度が1g/cm未満または200g/cmを超えるときに剥離性が不良(×)とした。
Next, the laminate is disassembled at room temperature, and the release material adhered to the prepreg side of the printed circuit board is peeled off at an angle of 90 degrees with respect to the surface of the prepreg at a rate of 50 mm / min (see JIS C6481). 6), the peel strength at that time was measured, and the maximum value was defined as the adhesive strength of the release material.
As evaluation criteria for peelability, peelability is good when the adhesive strength is 1 to 200 g / cm (◯), and peelability is poor when the adhesive strength is less than 1 g / cm or exceeds 200 g / cm (× ).

Figure 0005110613
Figure 0005110613

表1の結果から、実施例(No.1〜10)は、剥離性において、比較例(No.11〜16)に比べて優れていることが確認された。
また、前記実施例では樹脂塗料をバーコーターで塗布したが、グラビアコート法で塗布した場合でも剥離性において優れていた。
From the results of Table 1, it was confirmed that Examples (No. 1 to 10) were superior to Comparative Examples (No. 11 to 16) in peelability.
Moreover, in the said Example, although resin coating was apply | coated with the bar coater, even when apply | coated by the gravure coating method, it was excellent in peelability.

1A、1B 離型材
2 アルミニウム箔
3 樹脂塗膜
4 鏡面板
5 熱板
11A、11B プリント基板
11C 多層プリント基板
11D 樹脂フィルム
12 プリプレグ
13 銅箔
14 接着樹脂
15 樹脂付き銅箔
16 コア材
S1 塗布工程
S2 焼付け工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A, 1B Release material 2 Aluminum foil 3 Resin coating film 4 Mirror surface plate 5 Hot plate 11A, 11B Printed circuit board 11C Multilayer printed circuit board 11D Resin film 12 Prepreg 13 Copper foil 14 Adhesive resin 15 Copper foil with resin 16 Core material S1 Application process S2 Baking process

Claims (10)

樹脂ベース基板の製造に用いられる樹脂ベース基板用離型材であって、
アルミニウム箔と、
前記アルミニウム箔の片面または両面に形成され、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびシリコーンとからなる樹脂塗膜とを備え、
前記樹脂塗膜の前記樹脂ベース基板に対する接着強度が1〜200g/cmであることを特徴とする樹脂ベース基板用離型材。
A release material for a resin base substrate used for manufacturing a resin base substrate,
Aluminum foil,
Formed on one or both sides of the aluminum foil, and comprising a resin coating film comprising an epoxy resin, a melamine resin and silicone,
A release agent for a resin base substrate, wherein an adhesive strength of the resin coating film to the resin base substrate is 1 to 200 g / cm.
前記樹脂塗膜の膜厚は、0.5〜5μmであることを特徴とする請求項1に記載の樹脂ベース基板用離型材。   The release material for a resin base substrate according to claim 1, wherein the resin coating film has a thickness of 0.5 to 5 μm. 前記樹脂塗膜は、エポキシ系樹脂100質量部に対して、シリコーンが0.07〜3質量部であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の樹脂ベース基板用離型材。   3. The release material for a resin base substrate according to claim 1, wherein the resin coating film is 0.07 to 3 parts by mass of silicone with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. 前記樹脂塗膜中に、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の樹脂ベース基板用離型材。 The one or more surface roughening particles selected from SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 are further contained in the resin coating film. The mold release material for resin base substrates as described in any one of Claims 3. 前記表面粗化粒子の粒子径は、15nm〜4μmであることを特徴とする請求項4に記載の樹脂ベース基板用離型材。   5. The release material for a resin base substrate according to claim 4, wherein a particle diameter of the roughened particles is 15 nm to 4 μm. 前記樹脂ベース基板は、樹脂ベースプリント基板であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の樹脂ベース基板用離型材。   The mold release material for a resin base substrate according to claim 1, wherein the resin base substrate is a resin base printed substrate. 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の樹脂ベース基板用離型材の製造方法であって、
アルミニウム箔の片面または両面に、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンとからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜を形成する塗布工程と、
前記樹脂塗膜に125〜240℃で0.5〜60秒間の焼付け処理を施す焼付け工程とを含むことを特徴とする樹脂ベース基板用離型材の製造方法。
It is a manufacturing method of the mold release material for resin base boards according to any one of claims 1 to 3,
An application step of forming a resin coating film on one or both sides of an aluminum foil by applying a resin coating composed of an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, and silicone as a release agent;
And a baking step of baking the resin coating film at 125 to 240 ° C. for 0.5 to 60 seconds. A method for producing a mold release material for a resin base substrate.
請求項4または請求項5に記載の樹脂ベース基板用離型材の製造方法であって、
アルミニウム箔の片面または両面に、主剤としてのエポキシ系樹脂と、硬化剤としてのメラミン系樹脂と、剥離剤としてのシリコーンと、SiO、MgO、Al、BaSOおよびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子とからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜を形成する塗布工程と、
前記樹脂塗膜に125〜240℃で0.5〜60秒間の焼付け処理を施す焼付け工程とを含むことを特徴とする樹脂ベース基板用離型材の製造方法。
It is a manufacturing method of the mold release material for resin base boards according to claim 4 or 5,
On one or both sides of the aluminum foil, an epoxy resin as a main agent, a melamine resin as a curing agent, silicone as a release agent, SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 An application step of applying a resin paint comprising one or more types of surface roughening particles selected from the above to form a resin coating film;
And a baking step of baking the resin coating film at 125 to 240 ° C. for 0.5 to 60 seconds. A method for producing a mold release material for a resin base substrate.
前記塗布工程において、アルミニウム箔の片面または両面に、前記樹脂塗料をグラビアコート法で塗布することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の樹脂ベース基板用離型材の製造方法。   9. The method for producing a release material for a resin base substrate according to claim 7, wherein in the applying step, the resin paint is applied to one side or both sides of an aluminum foil by a gravure coating method. 前記樹脂ベース基板は、樹脂ベースプリント基板であることを特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれか一項に記載の樹脂ベース基板用離型材の製造方法。   The method for producing a release material for a resin base substrate according to claim 7, wherein the resin base substrate is a resin base printed substrate.
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