JP5104227B2 - Gas barrier film, packaging material, and package - Google Patents

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Description

本発明は、ガスバリア性フィルム、包装材料、及び包装体に係り、特には、透明ガスバリア性フィルム、透明包装材料、及びこの透明包装材料を用いた包装体に関する。   The present invention relates to a gas barrier film, a packaging material, and a packaging body, and particularly relates to a transparent gas barrier film, a transparent packaging material, and a packaging body using the transparent packaging material.

食品、医薬品及び精密電子部品の包装には、ガスバリア性に優れた包装材料を使用することがある。例えば、高ガスバリア性包装材料で食品を包装した場合には、食品が含む蛋白質及び油脂の変質などを抑制し、風味や鮮度を長期に亘って維持することができる。また、高ガスバリア性包装材料で医薬品を包装した場合には、有効成分の変質及び散逸などを防止でき、高ガスバリア性包装材料で電子部品を包装した場合には、金属の腐食及び絶縁不良等を防止できる。   For packaging foods, pharmaceuticals and precision electronic parts, a packaging material having excellent gas barrier properties may be used. For example, when a food is packaged with a high gas barrier packaging material, it is possible to suppress deterioration of proteins and oils and the like contained in the food, and maintain flavor and freshness over a long period of time. In addition, when a pharmaceutical product is packaged with a high gas barrier packaging material, the active ingredient can be prevented from being altered or dissipated. When an electronic component is packaged with a high gas barrier packaging material, corrosion of the metal, poor insulation, etc. Can be prevented.

高ガスバリア性包装材料は、ガスバリア層を含んだ多層構造を有している。このガスバリア層としては、例えば、アルミニウム箔などの金属箔、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)層、エチレン−ビニルアルコール共重合体けん化物(EVOH)層、及びメタキシレンジアミンとアジピン酸との重縮合反応により得られるポリアミドであるナイロンMXD6からなる層が使用されている。これら高ガスバリア性包装材料は、比較的高いガスバリア性を示すものの、何らかの欠点を有している。   The high gas barrier packaging material has a multilayer structure including a gas barrier layer. Examples of the gas barrier layer include a metal foil such as an aluminum foil, a polyvinylidene chloride (PVDC) layer, a saponified ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) layer, and a polycondensation reaction of metaxylenediamine and adipic acid. A layer made of nylon MXD6, the resulting polyamide, is used. These high gas barrier packaging materials show some relatively high gas barrier properties but have some drawbacks.

例えば、金属箔を含んだ高ガスバリア性包装材料は、温度及び湿度などの環境の如何に拘らず、優れたガスバリア性を示す。しかしながら、この包装材料を用いて形成した包装体には、内容物を視認できない、廃棄の際に不燃物として扱わなければならない、内容物を入れた後の異物検査に金属探知機を使用できないなどの欠点がある。また、この包装体で内容物を包装してなる包装品は、マイクロ波加熱には不向きである。   For example, a high gas barrier packaging material containing a metal foil exhibits excellent gas barrier properties regardless of the environment such as temperature and humidity. However, the package formed using this packaging material cannot visually recognize the contents, must be treated as non-combustible material at the time of disposal, cannot use a metal detector for inspection of foreign matter after the contents are put in, etc. There are disadvantages. Moreover, the packaged product in which the contents are packaged by this package is not suitable for microwave heating.

PVDC層を含んだ高ガスバリア性包装材料は、安価であり、比較的高いガスバリア性を有している。しかしながら、この包装材料は、焼却した際に有害ガスを発生する可能性がある。   The high gas barrier packaging material including the PVDC layer is inexpensive and has a relatively high gas barrier property. However, this packaging material may generate harmful gases when incinerated.

EVOH層又はナイロンMXD6層を含んだ高ガスバリア性包装材料は、そのガスバリア性の環境依存度が大きい。特に、高温高湿度環境では、ガスバリア性が著しく劣化する。   The high gas barrier packaging material including the EVOH layer or the nylon MXD6 layer has a large environmental dependency of the gas barrier property. In particular, in a high temperature and high humidity environment, the gas barrier property is remarkably deteriorated.

特許文献1及び2には、真空蒸着やスパッタリングなどの気相堆積法により、プラスチック基材フィルム上に、酸化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化マグネシウムからなる無機酸化物層を形成してなるガスバリア性フィルムが記載されている。このガスバリア性フィルムは、透明に形成することができると共に、ガスバリア性に優れている。したがって、このガスバリア性フィルムは、高ガスバリア性包装材料として適している。   In Patent Documents 1 and 2, a gas barrier film formed by forming an inorganic oxide layer made of silicon oxide, aluminum oxide, or magnesium oxide on a plastic substrate film by a vapor deposition method such as vacuum evaporation or sputtering. Is described. This gas barrier film can be formed transparent and has excellent gas barrier properties. Therefore, this gas barrier film is suitable as a high gas barrier packaging material.

ところで、このガスバリア性フィルムは、単独で使用されることは殆どない。通常、このガスバリア性フィルムには、他のフィルムをラミネートするか、又は、印刷層を形成する。例えば、ガスバリア性フィルムとヒートシール性樹脂層とを、プラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との間に無機酸化物層が介在するようにラミネートすることがある。本発明者は、本発明を為すに際し、例えば、このような構造を採用した包装材料は、ポリアミド樹脂からなるプラスチック基材フィルムを使用した場合に、以下の問題を生じ得ることを見出している。   By the way, this gas barrier film is rarely used alone. Usually, this gas barrier film is laminated with another film or formed with a printing layer. For example, the gas barrier film and the heat-sealable resin layer may be laminated so that the inorganic oxide layer is interposed between the plastic substrate film and the heat-sealable resin layer. The present inventor has found that, for example, a packaging material employing such a structure can cause the following problems when a plastic base film made of a polyamide resin is used.

ポリアミド樹脂フィルムは、靭性、耐衝撃性、耐突刺性、耐屈曲疲労性、耐摩耗性などに優れている。そのため、先のガスバリア性フィルムを含んだ包装材料では、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムを使用することが有利である。   The polyamide resin film is excellent in toughness, impact resistance, puncture resistance, bending fatigue resistance, wear resistance, and the like. Therefore, it is advantageous to use a base film made of a polyamide resin in the packaging material including the gas barrier film.

但し、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムと無機酸化物層とは、密着性,特には湿潤時の密着性,が低い。そのため、例えば、先のガスバリア性フィルムにおいてポリアミド樹脂からなる基材フィルムを使用し、このガスバリア性フィルムを含んだ包装材料で液体含有内容物を包装した場合、フィルム間の密着力が低下して、デラミネーションを生じることがある。   However, the base film made of polyamide resin and the inorganic oxide layer have low adhesion, particularly when wet. Therefore, for example, when using a base film made of a polyamide resin in the previous gas barrier film and packaging the liquid-containing contents with a packaging material containing this gas barrier film, the adhesion between the films decreases, May cause delamination.

特許文献3には、この問題を解決するべく、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムと無機酸化物層との間にアンカーコート層を介在させることが記載されている。この構成を採用した場合、基材フィルム上に直に無機酸化物層を形成した場合と比較すれば、より高い密着性を達成できる。しかしながら、この構成を採用して得られる密着性は、必ずしも十分ではない。
米国特許第3442686号明細書 特開昭49−041469号公報 特開2001−81217号公報
Patent Document 3 describes that an anchor coat layer is interposed between a base film made of a polyamide resin and an inorganic oxide layer in order to solve this problem. When this configuration is adopted, higher adhesion can be achieved as compared with the case where the inorganic oxide layer is formed directly on the base film. However, the adhesion obtained by adopting this configuration is not always sufficient.
U.S. Pat. No. 3,442,686 JP 49-041469 A JP 2001-81217 A

本発明の目的は、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムに対する無機酸化物層の密着性を高めることにある。   An object of the present invention is to improve the adhesion of an inorganic oxide layer to a base film made of a polyamide resin.

本発明の第1側面によると、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含んだ易接着層と、前記易接着層上に形成され、ポリオールとイソシアネート化合物とを含んだ組成物の反応生成物を含んだアンカーコート層と、前記アンカーコート層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層とを具備し、前記易接着層の飛行時間型2次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行なったときに、窒素原子含有成分由来のピークとしてCNO - のピークと、アジピン酸成分由来のピーク群としてC 6 7 2 - 及びC 6 9 3 - のピークと、ビスフェノールグリシジルエーテル成分由来のピーク群としてC 9 11 + 、C 14 13 2 + 及びC 14 11 2 - のピークとが検出されることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムが提供される。 According to the first aspect of the present invention, a base film made of a polyamide resin, an easy-adhesion layer formed on one main surface of the base film and containing nitrogen atoms, adipic acid and bisphenol glycidyl ether, An anchor coat layer formed on the easy-adhesion layer and containing a reaction product of a composition containing a polyol and an isocyanate compound; an inorganic oxide layer formed on the anchor coat layer by a vapor deposition method; When the positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the easy-adhesion layer with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer was performed, a peak of CNO as a peak derived from a nitrogen atom-containing component , and adipine C 6 H 7 O 2 as peaks derived from acid components - and C 6 H 9 O 3 - and the peak of, C 9 as a peak group derived from bisphenol glycidyl ether component A transparent gas barrier film characterized in that peaks of H 11 O + , C 14 H 13 O 2 + and C 14 H 11 O 2 are detected is provided.

本発明の第2側面によると、第1側面に係るガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに貼り合わされると共に前記無機酸化物層を間に挟んで前記基材フィルムと向き合ったヒートシール性樹脂層とを具備したことを特徴とする透明包装材料が提供される。   According to the second aspect of the present invention, the gas barrier film according to the first aspect and the heat-sealable resin layer bonded to the gas barrier film and facing the base film with the inorganic oxide layer interposed therebetween A transparent packaging material characterized by comprising:

本発明の第3側面によると、第2側面に係る包装材料を具備したことを特徴とする包装体が提供される。   According to the 3rd side surface of this invention, the packaging body characterized by having comprised the packaging material which concerns on a 2nd side surface is provided.

本発明によると、ポリアミド樹脂からなる基材フィルムに対する無機酸化物層の密着性を高めることができる。   According to this invention, the adhesiveness of the inorganic oxide layer with respect to the base film which consists of a polyamide resin can be improved.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same referential mark is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明の一態様に係る透明包装材料を概略的に示す断面図である。
この透明包装材料10は、透明ガスバリア性フィルム11と、接着剤層12と、ヒートシール性樹脂層13とを含んでいる。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a transparent packaging material according to one embodiment of the present invention.
The transparent packaging material 10 includes a transparent gas barrier film 11, an adhesive layer 12, and a heat sealable resin layer 13.

透明ガスバリア性フィルム11は、基材フィルム111と、易接着層112と、アンカーコート層113と、無機酸化物層114と、ガスバリア性被膜115とを含んでいる。なお、用語「フィルム」と用語「シート」とは厚さに応じて使い分けることがあるが、ここでは、厚さの大小とは無関係に用語「フィルム」を使用している。   The transparent gas barrier film 11 includes a base film 111, an easy adhesion layer 112, an anchor coat layer 113, an inorganic oxide layer 114, and a gas barrier film 115. Note that the term “film” and the term “sheet” may be properly used depending on the thickness, but the term “film” is used here regardless of the thickness.

基材フィルム111は、ポリアミド樹脂からなる透明フィルムである。ポリアミドとしては、ホモポリアミド、コポリアミド、又はそれらの混合物を使用することができる。   The base film 111 is a transparent film made of a polyamide resin. As the polyamide, homopolyamide, copolyamide, or a mixture thereof can be used.

ホモポリアミドとしては、例えば、ポリカプロラクタム(ナイロン6)、ポリ−ω―アミノヘプタン酸(ナイロン7)、ポリ−ω−アミノノナン酸(ナイロン9)、ポリウンデカンアミド(ナイロン11)、ポリラウリンラクタム(ナイロン12)、ポリエチレンジアミンアジパミド(ナイロン2,6)、ポリテトラメチレンアジパミド(ナイロン4,6)、ポリヘキサメチレンジアジパミド(ナイロン6,6)、ポリヘキサミエチレンセバカミド(ナイロン6,10)、ポリへキサメチレンデカミド(ナイロン6,12)、ポリオクタメチレンアジパミド(ナイロン8,6)、ポリデカメチレンアジパミド(ナイロン10,6)、ポリデカメチレンセバカミド(ナイロン10,10)、ポリデカメチレンドデカミド(ナイロン12,12)、又はメタキシレンジアミン−6ナイロン(MXD6)を使用することができる。   Examples of the homopolyamide include polycaprolactam (nylon 6), poly-ω-aminoheptanoic acid (nylon 7), poly-ω-aminononanoic acid (nylon 9), polyundecanamide (nylon 11), polylaurin lactam (nylon). 12), polyethylenediamine adipamide (nylon 2,6), polytetramethylene adipamide (nylon 4,6), polyhexamethylenediadipamide (nylon 6,6), polyhexamiethylene sebacamide (nylon) 6,10), polyhexamethylene decanamide (nylon 6,12), polyoctamethylene adipamide (nylon 8,6), polydecamethylene adipamide (nylon 10,6), polydecamethylene sebacamide (Nylon 10, 10), polydecamethylene dodecamide (nylon 12, 12), Alternatively, metaxylenediamine-6 nylon (MXD6) can be used.

コポリアミドとしては、例えば、カプロラクタム/ラウリンラクタム共重合体、カプロラクタム/ヘキサメチレンジアンモニウムアジペート共重合体、ラウリンラクタム/ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート共重合体、ヘキサメチレンジアンモニウムアジペート/へキサメチレンジアンモニウムセバケート共重合体、又はカプロラクタム/ヘキサメチレンジアンモニウムアジペート/ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート共重合体を使用することができる。   Examples of the copolyamide include caprolactam / laurin lactam copolymer, caprolactam / hexamethylene diammonium adipate copolymer, laurin lactam / hexamethylene diammonium sebacate copolymer, hexamethylene diammonium adipate / hexamethylene diammonium Sebacate copolymers or caprolactam / hexamethylene diammonium adipate / hexamethylene diammonium sebacate copolymers can be used.

基材フィルム111は、ポリアミド以外の材料をさらに含んでいてもよい。例えば、基材フィルム111は、可塑剤、低弾性率のエラストマー、ラクタム類、又はそれらの混合物をさらに含んでいてもよい。   The base film 111 may further include a material other than polyamide. For example, the base film 111 may further include a plasticizer, a low elastic modulus elastomer, a lactam, or a mixture thereof.

可塑剤としては、例えば、芳香族スルホンアミド類、p−ヒドロキシ安息香酸、又はエステル類の可塑剤を使用することができる。低弾性率のエラストマーとしては、例えば、アイオノマー樹脂、変性ポリオレフィン系樹脂、熱可塑性ポリウレタン、ポリエーテルブロックアミド、ポリエステルブロックアミド、ポリエーテルエステルアミド系エラストマー、変性アクリルゴム、又は変性エチレンプロピレンゴムを使用することができる。   As the plasticizer, for example, aromatic sulfonamides, p-hydroxybenzoic acid, or esters can be used. As an elastomer having a low elastic modulus, for example, an ionomer resin, a modified polyolefin resin, a thermoplastic polyurethane, a polyether block amide, a polyester block amide, a polyether ester amide elastomer, a modified acrylic rubber, or a modified ethylene propylene rubber is used. be able to.

基材フィルム111の厚さに制限はないが、基材フィルム111は、基材として十分な強度を達成し得る厚さを有している必要がある。また、基材フィルム111が厚い場合、透明包装材料10又は透明ガスバリア性フィルム11の柔軟性が不十分となることがある。基材フィルム111の厚さは、例えば10μm乃至100μmの範囲内とする。   Although there is no restriction | limiting in the thickness of the base film 111, the base film 111 needs to have the thickness which can achieve sufficient intensity | strength as a base material. Moreover, when the base film 111 is thick, the flexibility of the transparent packaging material 10 or the transparent gas barrier film 11 may be insufficient. The thickness of the base film 111 is, for example, in the range of 10 μm to 100 μm.

易接着層112は、基材フィルム111の一方の主面上に形成された透明層である。易接着層112は、アンカーコート層113と共に、無機酸化物層114と基材フィルム111との密着性を向上させる。そして、易接着層112は、アンカーコート層113と共に、透明包装材料10を用いて液体を含有した内容物を長期保存した場合に、基材フィルム111に対する無機酸化物層114の密着性が低下するのを抑制する。   The easy adhesion layer 112 is a transparent layer formed on one main surface of the base film 111. The easy adhesion layer 112 improves the adhesion between the inorganic oxide layer 114 and the base film 111 together with the anchor coat layer 113. And the easy-adhesion layer 112 will reduce the adhesiveness of the inorganic oxide layer 114 with respect to the base film 111, when the content containing the liquid is stored for a long time using the transparent packaging material 10 with the anchor coat layer 113. To suppress.

易接着層112の飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行ったときに、その分析結果は、窒素原子含有成分とアジピン酸成分とビスフェノールグリシジルエーテル成分との存在を示す。例えば、この易接着層112のTOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトルを行なったときに、窒素原子含有成分由来のピークとしてCNO-のピークと、アジピン酸成分由来のピーク群としてC672 -及びC693 -のピークと、ビスフェノールグリシジルエーテル成分由来のピーク群としてC911+、C14132 +及びC14112 -のピークとが検出される。 When positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the easy-adhesion layer 112 using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) was performed, the analysis results were as follows: nitrogen atom-containing component, adipic acid component, The presence of a bisphenol glycidyl ether component is indicated. For example, when a positive and negative secondary ion mass spectrum of the easy-adhesion layer 112 by TOF-SIMS is performed, a peak of CNO as a peak derived from a nitrogen atom-containing component and a peak group derived from an adipic acid component as C and peak, C 9 H 11 O + as peaks derived from bisphenol glycidyl ether component, C 14 H 13 O 2 + and C 14 H 11 O 2 - - 6 H 7 O 2 - and C 6 H 9 O 3 of A peak is detected.

さらに詳しくは、易接着層112は、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含んでいる。窒素原子は、例えば、ウレタン基及び/又はアミド基に由来している。   More specifically, the easy-adhesion layer 112 contains nitrogen atoms, adipic acid, and bisphenol glycidyl ether. The nitrogen atom is derived from, for example, a urethane group and / or an amide group.

易接着層112の材料は、例えば、アジピン酸をポリエステルの二塩基酸として含んだ水分散性ポリエステルポリウレタン、そのプレポリマー、アジピン酸をポリエステルの二塩基酸として含んだ水分散性ポリエステルポリウレタンポリ尿素樹脂、そのプレポリマー、又は、それらの2以上を含んだ混合物を主成分として含有している。密着性を向上させるために、これらポリマーの主鎖又は末端に、水酸基、カルボキシ基、又はアミノ基を導入してもよい。   The material of the easy adhesion layer 112 is, for example, a water-dispersible polyester polyurethane containing adipic acid as a polyester dibasic acid, a prepolymer thereof, and a water-dispersible polyester polyurethane polyurea resin containing adipic acid as a polyester dibasic acid. , The prepolymer, or a mixture containing two or more thereof as a main component. In order to improve adhesion, a hydroxyl group, a carboxy group, or an amino group may be introduced into the main chain or terminal of these polymers.

易接着層112の材料は、ビスフェノールグリシジルエーテルをさらに含有している。ビスフェノールグリシジルエーテルは、先の主成分の硬化を促進する硬化剤である。ビスフェノールグリシジルエーテルを使用することにより架橋を生じさせ、これにより、耐水性、耐熱性、接着性及び被膜凝集性に優れた易接着層112が得られる。   The material of the easy adhesion layer 112 further contains bisphenol glycidyl ether. Bisphenol glycidyl ether is a curing agent that accelerates the curing of the main component. By using bisphenol glycidyl ether, cross-linking is caused, whereby the easy-adhesion layer 112 excellent in water resistance, heat resistance, adhesiveness and film cohesiveness is obtained.

ビスフェノールグリシジルエーテルとしては、例えば、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させ、その反応性生物の分子末端をエポキシ化させたものを使用することができる。ビスフェノール類としては、例えば、4,4’−ジヒドロキシ−フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−ジフェニル)−エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−ジフェニル)−エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ブタン、又はビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキシル−メタンを使用することができる。これらの中でも、一般に「ビスフェノールA」と呼ばれている2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン又は一般に「ビスフェノールF」と呼ばれている4,4’−ジヒドロキシ−フェニルメタンが好適である。   As the bisphenol glycidyl ether, for example, a product obtained by reacting a bisphenol with epichlorohydrin and epoxidizing the molecular end of the reactive organism can be used. Examples of bisphenols include 4,4′-dihydroxy-phenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy-diphenyl) -ethane, 2,2-bis (4-hydroxy-diphenyl) -ethane, 2,2 -Bis (4-hydroxyphenyl) -propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -n-butane, or bis (4-hydroxyphenyl) -cyclohexyl-methane can be used. Among these, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -propane generally called “bisphenol A” or 4,4′-dihydroxy-phenylmethane generally called “bisphenol F” is preferable. is there.

易接着層112は、例えば、基材フィルム111上に、上述した成分を含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を乾燥させることにより得られる。なお、このコーティング液は、上述した成分に加え、添加剤をさらに含有していてもよい。この添加剤としては、例えば、帯電防止剤、滑剤、消泡剤、界面活性剤を使用することができる。また、コーティング液の塗布には、例えば、グラビアロール法、リバースグラビアコート法、ロールコート法、エアーナイフ法、マイヤーバーコート法、又はインバースロール法を利用することができる。   The easy-adhesion layer 112 is obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-described components on the base film 111 and drying the coating film. In addition to this component, this coating solution may further contain an additive. As this additive, for example, an antistatic agent, a lubricant, an antifoaming agent, and a surfactant can be used. In addition, for example, a gravure roll method, a reverse gravure coat method, a roll coat method, an air knife method, a Meyer bar coat method, or an inverse roll method can be used for applying the coating liquid.

コーティング液の塗布に先立ち、例えば濡れ性及び/又は密着性を改善するために、基材フィルム111の被塗布面に前処理を施しておいてもよい。この前処理としては、例えば、コロナ放電処理又はプラズマ処理を挙げることができる。   Prior to application of the coating liquid, for example, in order to improve wettability and / or adhesion, a surface to be coated of the base film 111 may be pretreated. Examples of the pretreatment include corona discharge treatment and plasma treatment.

基材フィルム111を延伸する場合、易接着層112を形成するためのコーティング液は、延伸した基材フィルム111に塗布してもよく、基材フィルム111の延伸中にこれに塗布してもよい。後者の方法は、前者の方法と比較して、生産性が高く、効率的である。また、後者の方法は、この延伸成膜工程において易接着層112が高温で熱処理されるため、前者の方法と比較して、基材フィルム111と易接着層112との密着力を強くすることができる。   When the base film 111 is stretched, the coating liquid for forming the easy-adhesion layer 112 may be applied to the stretched base film 111 or may be applied to the base film 111 during stretching. . The latter method is more productive and efficient than the former method. In the latter method, since the easy-adhesion layer 112 is heat-treated at a high temperature in this stretch film formation step, the adhesion between the base film 111 and the easy-adhesion layer 112 is strengthened as compared with the former method. Can do.

延伸成膜工程中に易接着層112を形成する方法としては、例えば、以下の方法を挙げることができる。まず、ポリアミド系樹脂を押出機で加熱溶融してフィルム状に押出し、未延伸のポリアミド系樹脂フィルムを基材フィルム111として形成する。次いで、易接着層112を形成するためのコーティング液を基材フィルム111に塗布し、これを予熱後、塗膜と共に基材フィルム111を同時二軸延伸処理に供する。さらに、ヒートセット処理を行うことにより、基材フィルム111上に形成された易接着層112を得る。   Examples of the method for forming the easy-adhesion layer 112 during the stretch film formation step include the following methods. First, the polyamide-based resin is heated and melted with an extruder and extruded into a film shape, and an unstretched polyamide-based resin film is formed as the base film 111. Subsequently, the coating liquid for forming the easily bonding layer 112 is apply | coated to the base film 111, and after preheating this, the base film 111 is used for a simultaneous biaxial stretching process with a coating film. Furthermore, the easily bonding layer 112 formed on the base film 111 is obtained by performing a heat setting process.

延伸成膜工程中に易接着層112を形成する他の方法としては、例えば、逐次二軸延伸法を挙げることができる。この方法では、まず、ポリアミド系樹脂を押出機で加熱溶融してフィルム状に押出し、未延伸のポリアミド系樹脂フィルムを基材フィルム111として形成する。次いで、基材フィルム111を周速度が異なる加熱ローラ間に通して縦延伸を行う。続いて、易接着層112を形成するためのコーティング液を縦延伸した基材フィルム111上に塗布し、塗膜を乾燥及び予熱し、その後、塗膜と共に基材フィルム111を横延伸処理に供する。さらに、ヒートセット処理を行うことにより、基材フィルム111上に形成された易接着層112を得る。   As another method for forming the easy-adhesion layer 112 during the stretching film forming step, for example, a sequential biaxial stretching method can be exemplified. In this method, first, a polyamide-based resin is heated and melted with an extruder and extruded into a film shape, and an unstretched polyamide-based resin film is formed as a base film 111. Next, the base film 111 is passed through heating rollers having different peripheral speeds to perform longitudinal stretching. Subsequently, a coating liquid for forming the easy-adhesion layer 112 is applied onto the longitudinally stretched substrate film 111, the coating film is dried and preheated, and then the substrate film 111 is subjected to a transverse stretching process together with the coating film. . Furthermore, the easily bonding layer 112 formed on the base film 111 is obtained by performing a heat setting process.

易接着層112の厚さは、例えば、0.01μm乃至0.2μmの範囲内とする。薄い易接着層112を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、十分な密着性を得難い。また、易接着層112を或る程度厚くすると、その膜厚の増加に伴う密着性向上の効果が小さくなる。それゆえ、過剰に厚い易接着層112は、経済的ではない。   The thickness of the easy adhesion layer 112 is, for example, in the range of 0.01 μm to 0.2 μm. It is difficult to form the thin easy-adhesion layer 112 as a continuous film having a uniform thickness, and it is difficult to obtain sufficient adhesion. Moreover, when the easy-adhesion layer 112 is made thick to some extent, the effect of improving the adhesion due to the increase in the film thickness is reduced. Therefore, the excessively thick easily adhesive layer 112 is not economical.

アンカーコート層113は、易接着層112上に形成された透明層である。アンカーコート層113は、ポリオールとイソシアネート化合物とを含んだ組成物の反応生成物を含んでいる。この組成物は、例えば、アクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤又はその加水分解生成物とを含んでいる。   The anchor coat layer 113 is a transparent layer formed on the easy adhesion layer 112. Anchor coat layer 113 contains a reaction product of a composition containing a polyol and an isocyanate compound. This composition contains, for example, an acrylic polyol, an isocyanate compound, and a silane coupling agent or a hydrolysis product thereof.

シランカップリング剤又はその加水分解生成物は、典型的には、ポリオールの水酸基及び/又はイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応する有機官能基を有している。そのようなシランカップリング剤としては、例えば、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン及びγ−イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート基を有している化合物、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプト基を有している化合物、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、及びγ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基を有している化合物、γ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン及びβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基を有している化合物、或いは、ビニルトリメトキシシラン又はビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シランなどのビニル基を有しているシランカップリング剤にアルコール等を作用させて水酸基等を付加してなる化合物を使用することができる。これら化合物は、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。   The silane coupling agent or the hydrolysis product thereof typically has an organic functional group that reacts with a hydroxyl group of a polyol and / or an isocyanate group of an isocyanate compound. Examples of such silane coupling agents include compounds having an isocyanate group such as γ-isocyanatopropyltriethoxysilane and γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, and mercapto groups such as γ-mercaptopropyltriethoxysilane. Compounds having, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and γ-phenylaminopropyltrimethoxysilane, etc. A compound having an amino group, a compound having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, or vinyltrimethoxysilane Or vinylt It can be used scan (beta-methoxyethoxy) by the action of alcohol to a silane coupling agent having a vinyl group such as hydroxyl and made by adding compounds such as silane. These compounds may be used alone or in combination.

このシランカップリング剤が含む官能基のうち珪素と結合したアルコキシ基以外の有機官能基は、ポリオールの水酸基及び/又はイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応し、これにより、アンカーコート層113の凝集力を高める。また、このシランカップリング剤のアルコキシ基又はその加水分解によって生じたシラノール基は、無機酸化物層114が含んでいる金属や無機酸化物表面に存在している水酸基などの極性基と強い相互作用を形成し、これにより、アンカーコート層113と無機酸化物層114との密着性を高める。   Among the functional groups contained in the silane coupling agent, organic functional groups other than the alkoxy group bonded to silicon react with the hydroxyl group of the polyol and / or the isocyanate group of the isocyanate compound, and thereby the cohesive force of the anchor coat layer 113 is increased. Increase. In addition, the alkoxy group of the silane coupling agent or the silanol group generated by hydrolysis thereof strongly interacts with polar groups such as a metal contained in the inorganic oxide layer 114 and a hydroxyl group existing on the surface of the inorganic oxide. Thus, the adhesion between the anchor coat layer 113 and the inorganic oxide layer 114 is improved.

シランカップリング剤は、典型的には、アルコキシ基とそれ以外の有機官能基とが珪素原子に結合してなる化合物であるが、アルコキシ基がハロゲン基やアセトキシ基などで置換されたものを使用してもよい。すなわち、加水分解によりシラノール基を生じるものであればよい。なお、シランカップリング剤は、金属アルコキシドと共に、加水分解して使用してもよい。   The silane coupling agent is typically a compound in which an alkoxy group and other organic functional group are bonded to a silicon atom, but a compound in which the alkoxy group is substituted with a halogen group or an acetoxy group is used. May be. That is, what is necessary is just to produce a silanol group by hydrolysis. In addition, you may use a silane coupling agent hydrolyzed with a metal alkoxide.

アクリルポリオールは、アクリル酸誘導体モノマーを重合させて得られるポリオール、又は、アクリル酸誘導体モノマーとその他のモノマーとを共重合させて得られるものである。アクリルポリオールとしては、例えば、エチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、及びヒドロキシブチルメタクリレートなどのアクリル酸誘導体モノマーを重合させてなるアクリルポリオールや、このアクリル酸誘導体モノマーとスチレンなどのその他のモノマーとを共重合させてなるアクリルポリオールを使用することができる。   The acrylic polyol is obtained by polymerizing an acrylic acid derivative monomer, or obtained by copolymerizing an acrylic acid derivative monomer and another monomer. As the acrylic polyol, for example, an acrylic polyol obtained by polymerizing an acrylic acid derivative monomer such as ethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, and hydroxybutyl methacrylate; and this acrylic acid derivative monomer and other monomers such as styrene; Acrylic polyol obtained by copolymerizing can be used.

アクリルポリオールは、イソシアネート化合物のイソシアネート基と反応させる。イソシアネート基との反応性及びシランカップリング剤との相溶性を考慮すると、アクリルポリオールとして、水酸基価が例えば20mgKOH/g乃至350mgKOH/gの範囲内にあるものを使用してもよい。   The acrylic polyol is reacted with the isocyanate group of the isocyanate compound. In view of the reactivity with the isocyanate group and the compatibility with the silane coupling agent, an acrylic polyol having a hydroxyl value in the range of 20 mgKOH / g to 350 mgKOH / g may be used.

アクリルポリオールとシランカップリング剤との配合比は、質量比で、例えば、2/1乃至100/1の範囲内とする。   The mixing ratio of the acrylic polyol and the silane coupling agent is a mass ratio, for example, in the range of 2/1 to 100/1.

イソシアネート化合物は、アクリルポリオールと反応してウレタン結合を形成して、アンカーコート層113と易接着層112及び無機酸化物層114との密着性に寄与すると共に、主に架橋剤又は硬化剤として作用する。このようなイソシアネート化合物は、芳香族又は脂肪族ジイソシアネート或いは3価以上のポリイソシアネートである。このイソシアネート化合物は、低分子化合物及び高分子化合物の何れであってもよい。   The isocyanate compound reacts with the acrylic polyol to form a urethane bond, contributes to the adhesion between the anchor coat layer 113, the easy-adhesion layer 112 and the inorganic oxide layer 114, and acts mainly as a crosslinking agent or a curing agent. To do. Such an isocyanate compound is an aromatic or aliphatic diisocyanate or a tri- or higher polyisocyanate. This isocyanate compound may be either a low molecular compound or a high molecular compound.

イソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジイソシアネート、又はこれらの三量体を使用することができる。或いは、これらイソシアネート化合物の過剰量と、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ソルビトール、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンなどの低分子活性水素化合物、又は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びポリアミドなどの活性水素高分子化合物とを反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物を使用してもよい。   As the isocyanate compound, for example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, dicyclohexyl diisocyanate, or a trimer thereof. The body can be used. Alternatively, an excess amount of these isocyanate compounds and, for example, ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, sorbitol, ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine and other low molecular active hydrogen compounds, or polyester polyols, You may use the terminal isocyanate group containing compound obtained by making it react with active hydrogen polymer compounds, such as polyether polyol and polyamide.

アクリルポリオールに対するイソシアネート化合物の配合比が小さいと、硬化不良を生じることがある。また、この配合比が大きいと、ブロッキング等を生じることがある。この配合比は、例えば、アクリルポリオールに由来する水酸基に対してイソシアネート化合物に由来するイソシアネート基のモル比が50倍以下となるように、典型的には、それらイソシアネート基と水酸基とが当量となるように設定する。   When the compounding ratio of the isocyanate compound with respect to the acrylic polyol is small, poor curing may occur. Moreover, when this compounding ratio is large, blocking etc. may be produced. This blending ratio is typically such that the isocyanate group and the hydroxyl group are equivalent so that the molar ratio of the isocyanate group derived from the isocyanate compound to the hydroxyl group derived from the acrylic polyol is 50 times or less. Set as follows.

アンカーコート層113は、例えば、上述したアクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤とを含有したコーティング液を易接着層112上に塗布し、塗膜を乾燥硬化させることにより得られる。このコーティング液は、例えば、シランカップリング剤とアクリルポリオールとを混合し、この混合物に溶媒を加え、さらに、イソシアネート化合物と混合することにより得られる。或いは、シランカップリング剤とアクリルポリオールと溶媒とを混合してシランカップリング剤とアクリルポリオールとを反応させ、この混合液に溶媒を加え、さらに、この混合液とイソシアネート化合物とを混合することにより得られる。   The anchor coat layer 113 is obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-described acrylic polyol, isocyanate compound, and silane coupling agent on the easy-adhesion layer 112 and drying and curing the coating film. This coating liquid can be obtained, for example, by mixing a silane coupling agent and an acrylic polyol, adding a solvent to the mixture, and further mixing with an isocyanate compound. Alternatively, by mixing a silane coupling agent, an acrylic polyol and a solvent, reacting the silane coupling agent and the acrylic polyol, adding a solvent to the mixture, and further mixing the mixture with an isocyanate compound. can get.

このコーティング液の溶媒としては、例えば、酢酸エチル及び酢酸ブチルなどのエステル、メタノール、エタノール及びイソプロピルアルコールなどのアルコール、メチルエチルケトンなどのケトン、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、又はそれらの混合物を使用することができる。シランカップリング剤を加水分解するために塩酸水溶液などの水溶液を使用する場合、共溶媒としてイソプロピルアルコールなどのアルコールと極性溶媒である酢酸エチルとの混合液を使用してもよい。   As a solvent for this coating solution, for example, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, ketones such as methyl ethyl ketone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, or mixtures thereof are used. can do. When an aqueous solution such as an aqueous hydrochloric acid solution is used to hydrolyze the silane coupling agent, a mixed solution of an alcohol such as isopropyl alcohol and ethyl acetate that is a polar solvent may be used as a cosolvent.

このコーティング液は、添加剤をさらに含有することができる。この添加剤としては、例えば、3級アミン、イミダゾール誘導体、カルボン酸の金属塩化合物、4級アンモニウム塩及び4級ホスホニウム塩などの硬化促進剤、フェノール系、硫黄系及びホスファイト系の酸化防止剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、触媒、架橋反応促進剤、充填剤、又はそれらの混合物を使用することができる。   The coating liquid can further contain an additive. Examples of the additive include tertiary amine, imidazole derivative, metal salt compound of carboxylic acid, curing accelerator such as quaternary ammonium salt and quaternary phosphonium salt, phenol-based, sulfur-based and phosphite-based antioxidants. , Leveling agents, rheology modifiers, catalysts, cross-linking accelerators, fillers, or mixtures thereof can be used.

このコーティング液の易接着層112への塗布には、一般的な方法を利用することができる。例えば、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、又はグラビアオフセット法を利用することができる。   A general method can be used for applying the coating liquid to the easy-adhesion layer 112. For example, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, an air knife coating method, a comma coating method, a die coating method, a screen printing method, a spray coating method, or a gravure offset method can be used.

コーティング液の塗布に先立ち、例えば濡れ性及び/又は密着性を改善するために、易接着層112の表面に前処理を施しておいてもよい。この前処理としては、例えば、コロナ放電処理又はプラズマ処理を挙げることができる。   Prior to application of the coating liquid, for example, in order to improve wettability and / or adhesion, the surface of the easy-adhesion layer 112 may be pretreated. Examples of the pretreatment include corona discharge treatment and plasma treatment.

アンカーコート層113が薄い場合、アンカーコート層113を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、十分な密着性が得られないことがある。厚いアンカーコート層113は柔軟性が低く、透明ガスバリア性フィルム11を撓ませた場合や引っ張った場合に亀裂を生じる可能性がある。アンカーコート層113の厚さは、例えば0.01μm乃至1μmの範囲内とし、典型的には0.05μm乃至0.5μmの範囲内とする。   When the anchor coat layer 113 is thin, it is difficult to form the anchor coat layer 113 as a continuous film having a uniform thickness, and sufficient adhesion may not be obtained. The thick anchor coat layer 113 has low flexibility, and may crack when the transparent gas barrier film 11 is bent or pulled. The thickness of the anchor coat layer 113 is, for example, in the range of 0.01 μm to 1 μm, and typically in the range of 0.05 μm to 0.5 μm.

このようにして形成したアンカーコート層113のTOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行ったときに、その分析結果は、芳香族系炭化水素成分と窒素原子含有成分とメタクリレート成分とシラン化合物成分との存在を示す。例えば、このアンカーコート層113のTOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトルを行なったときに、芳香族炭化水素系成分由来のピーク群としてC77 +、C89 +、C97 +及びC109 +のピークと、窒素原子含有成分由来のピーク群としてCN-及びCNO-のピークと、メタクリレート成分由来のピーク群としてC45+及びC452 -のピークと、シラン化合物成分由来のピーク群としてC272Si+及びC393Si+のピークとが検出される。 When the anchor coat layer 113 thus formed was subjected to positive and negative secondary ion mass spectral analysis by TOF-SIMS, the analysis results were as follows: aromatic hydrocarbon component, nitrogen atom-containing component, and methacrylate component. And the presence of a silane compound component. For example, when positive and negative secondary ion mass spectra of the anchor coat layer 113 by TOF-SIMS are performed, C 7 H 7 + , C 8 H 9 + , as peak groups derived from aromatic hydrocarbon components, Peaks of C 9 H 7 + and C 10 H 9 + , peaks of CN and CNO as a peak group derived from a nitrogen atom-containing component, and C 4 H 5 O + and C 4 H as a peak group of a methacrylate component A peak of 5 O 2 and peaks of C 2 H 7 O 2 Si + and C 3 H 9 O 3 Si + are detected as a peak group derived from the silane compound component.

無機酸化物層114は、アンカーコート層113上に気相堆積法によって形成されたガスバリア性透明層である。無機酸化物層114の材料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化マグネシウム、又はこれらの混合物を使用することができる。   The inorganic oxide layer 114 is a gas barrier transparent layer formed on the anchor coat layer 113 by a vapor deposition method. As a material of the inorganic oxide layer 114, for example, silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof can be used.

無機酸化物層114の形成には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はプラズマ化学気相堆積法を利用することができる。真空蒸着法を利用する場合、蒸発材料の加熱には、例えば、電子線加熱、抵抗加熱、又は誘導加熱を利用することができる。電子線加熱を利用した場合、蒸発材料の選択の自由度が大きい。蒸着にプラズマアシスト法又はイオンビームアシスト法を利用すると、より緻密な無機酸化物層114を形成することができる。また、蒸着の際に酸素などのガスを吹き込む反応蒸着を利用すると、透明性に優れた無機酸化物層114を形成することができる。   For the formation of the inorganic oxide layer 114, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method can be used. When the vacuum deposition method is used, for example, electron beam heating, resistance heating, or induction heating can be used for heating the evaporation material. When electron beam heating is used, the degree of freedom in selecting the evaporation material is great. When a plasma assist method or an ion beam assist method is used for vapor deposition, a denser inorganic oxide layer 114 can be formed. In addition, when reactive vapor deposition in which a gas such as oxygen is blown during vapor deposition is used, the inorganic oxide layer 114 having excellent transparency can be formed.

無機酸化物層114が薄い場合、無機酸化物層114を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、また、十分なガスバリア性が得られない。厚い無機酸化物層114は柔軟性が低く、透明ガスバリア性フィルム11を撓ませた場合や引っ張った場合に亀裂を生じる可能性がある。また、気相堆積法は、経済的観点で厚膜の形成には適していない。無機酸化物層114の厚さは、例えば5nm乃至500nmの範囲内とする。   When the inorganic oxide layer 114 is thin, it is difficult to form the inorganic oxide layer 114 as a continuous film having a uniform thickness, and sufficient gas barrier properties cannot be obtained. The thick inorganic oxide layer 114 has low flexibility, and may crack when the transparent gas barrier film 11 is bent or pulled. Further, the vapor deposition method is not suitable for forming a thick film from an economical viewpoint. The thickness of the inorganic oxide layer 114 is, for example, in the range of 5 nm to 500 nm.

ガスバリア性被膜115は、無機酸化物層114上に形成された透明層である。ガスバリア性被膜115は、透明樹脂と無機酸化物などの無機物とを含んだ混合物からなる。ガスバリア性被膜115は、省略することも可能であるが、ガスバリア性被膜115を設けると、より高いガスバリア性を有する透明包装材料10を得ることができる。   The gas barrier coating 115 is a transparent layer formed on the inorganic oxide layer 114. The gas barrier coating 115 is made of a mixture containing a transparent resin and an inorganic material such as an inorganic oxide. The gas barrier coating 115 can be omitted, but when the gas barrier coating 115 is provided, the transparent packaging material 10 having higher gas barrier properties can be obtained.

ガスバリア性被膜115は、例えば、無機酸化物層114上に、水溶性高分子と金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。或いは、ガスバリア性被膜115は、例えば、無機酸化物層114上に、水溶性高分子と塩化錫とを水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。或いは、ガスバリア性被膜115は、例えば、無機酸化物層114上に、水溶性高分子と金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と塩化錫とを水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。なお、このコーティング液の溶媒としては、例えば、水又は水とアルコールとの混合液を使用することができる。   For example, the gas barrier coating 115 is formed by applying a coating liquid containing a water-soluble polymer and a metal alkoxide and / or a hydrolysis product thereof and water on the inorganic oxide layer 114 and heating the coating. Obtained by drying. Alternatively, the gas barrier coating 115 is obtained, for example, by applying a coating solution containing water and a water-soluble polymer and tin chloride on the inorganic oxide layer 114, and heating and drying the coating. It is done. Alternatively, for example, the gas barrier coating 115 is formed by applying a coating solution containing water and a water-soluble polymer, a metal alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, and tin chloride on the inorganic oxide layer 114. It is obtained by heating and drying the coating film. In addition, as a solvent of this coating liquid, water or the liquid mixture of water and alcohol can be used, for example.

水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム、又はそれらの混合物を使用することができる。特に、PVAを使用した場合、最もガスバリア性に優れたガスバリア性被膜115を形成することができる。なお、ここでいうPVAは、典型的には、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られるものである。このPVAとしては、アセチル基が数10%残存している部分けん化PVAからアセチル基が数%しか残存していない完全けん化PVAまで様々なけん化PVAを使用することができる。PVAの分子量に制限はなく、例えば、重合度が300乃至数千の範囲内にあるものを使用することができる。なお、一般に、けん化度が高く且つ重合度が高い高分子量のPVAは、優れた耐水性を達成する。   As the water-soluble polymer, for example, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate, or a mixture thereof can be used. In particular, when PVA is used, the gas barrier coating 115 having the most excellent gas barrier properties can be formed. In addition, PVA here is typically obtained by saponifying polyvinyl acetate. As this PVA, various saponified PVA can be used from partially saponified PVA in which several tens% of acetyl groups remain to fully saponified PVA in which only several% of acetyl groups remain. There is no restriction | limiting in the molecular weight of PVA, For example, what has a polymerization degree in the range of 300 thru | or several thousand can be used. In general, a high molecular weight PVA having a high degree of saponification and a high degree of polymerization achieves excellent water resistance.

金属アルコキシドは、一般式M(OR)nで表される化合物である。ここで、Mは、チタン、アルミニウム、及びジルコニウムなどの金属又は珪素を示し、Rは、CH3基及びC25基などのアルキル基を示している。また、nは、元素Mの価数を示している。 A metal alkoxide is a compound represented by the general formula M (OR) n . Here, M represents a metal such as titanium, aluminum, and zirconium or silicon, and R represents an alkyl group such as a CH 3 group and a C 2 H 5 group. N represents the valence of the element M.

金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン[Si(OC254]又はトリイソプロポキシアルミニウム[Al(OCH(CH323]を使用することができる。テトラエトキシシラン及びトリイソプロポキシアルミニウムの加水分解生成物は、水を含んだ溶液中で比較的安定に存在することができる。 As the metal alkoxide, for example, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] or triisopropoxyaluminum [Al (OCH (CH 3 ) 2 ) 3 ] can be used. The hydrolysis products of tetraethoxysilane and triisopropoxyaluminum can exist relatively stably in water-containing solutions.

金属アルコキシドとしてアルコキシシランを使用する場合、このアルコキシシランとしては、例えば、一般式Si(OR1)4又はR2Si(OR3)3で表される化合物或いはそれらの混合物を使用することができる。ここで、R1及びR3は、CH3基、C35基、及びC24OCH3基などの加水分解性基を示し、R2は、有機官能基を示している。 When alkoxysilane is used as the metal alkoxide, for example, a compound represented by the general formula Si (OR1) 4 or R2Si (OR3) 3 or a mixture thereof can be used as the alkoxysilane. Here, R1 and R3 are CH 3 group, C 3 H 5 group, and C 2 H 4 represents a hydrolyzable group such as OCH 3 group, R2 represents an organic functional group.

なお、金属アルコキシドを加水分解及び縮合させることにより得られる金属酸化物膜は、硬いため、外力や縮合時の体積縮小によるひずみに起因してクラックが生じ易い。それゆえ、クラックなどを生じることなく、この金属酸化物膜を均一な厚さに形成することは、非常に困難である。   In addition, since the metal oxide film obtained by hydrolyzing and condensing a metal alkoxide is hard, a crack is easily generated due to external force or strain due to volume reduction during condensation. Therefore, it is very difficult to form the metal oxide film with a uniform thickness without causing cracks.

これに対し、高分子と金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水とを含有したコーティング液を用いて形成した膜は、金属酸化物膜と比較して柔軟性が高いため、クラックを発生し難い。但し、この膜は、微視的には金属酸化物が均一に分散しておらず、高いガスバリア性が得られないことがある。   In contrast, a film formed using a coating solution containing a polymer, a metal alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, and water is more flexible than a metal oxide film, and thus cracks are generated. It is hard to do. However, in this film, the metal oxide is not uniformly dispersed microscopically, and a high gas barrier property may not be obtained.

この高分子として水溶性高分子を使用した場合には、高分子の水酸基と金属アルコキシドの加水分解物の水酸基との強い水素結合を利用して、縮合の際に金属酸化物を高分子中に均一に分散させることができる。それゆえ、金属酸化物膜に近いガスバリア性を達成できる。したがって、このようなガスバリア性被膜115を無機酸化物層114上に形成すると、それらを単独で使用した場合と比較して、遥かに高いガスバリア性を達成できる。   When a water-soluble polymer is used as this polymer, the metal oxide is brought into the polymer during condensation by utilizing the strong hydrogen bond between the polymer hydroxyl group and the hydroxyl group of the hydrolyzate of the metal alkoxide. It can be uniformly dispersed. Therefore, a gas barrier property close to that of a metal oxide film can be achieved. Therefore, when such a gas barrier coating 115 is formed on the inorganic oxide layer 114, a much higher gas barrier property can be achieved as compared with the case where they are used alone.

上述した金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水酸基を有する水溶性樹脂と水とを含有したコーティング液を用いて得られるガスバリア性被膜115は、水素結合を形成しているため、苛酷な環境で使用した場合に、水の浸入により膨潤して、最終的には溶解を生じることがある。そのため、このガスバリア性被膜115は、無機酸化物層114とガスバリア性被膜115とを積層することにより高いガスバリア性を達成できたとしても、多湿環境などの苛酷な条件下では、密着性やガスバリア性が容易に劣化する可能性がある。   Since the gas barrier coating 115 obtained by using the coating liquid containing the above-described metal alkoxide and / or its hydrolysis product, a water-soluble resin having a hydroxyl group, and water forms hydrogen bonds, it is a harsh environment. May swell due to water intrusion and eventually dissolve. Therefore, even if the gas barrier coating 115 can achieve high gas barrier properties by laminating the inorganic oxide layer 114 and the gas barrier coating 115, the gas barrier coating 115 can adhere to and adhere to gas barrier properties under severe conditions such as a humid environment. Can easily deteriorate.

金属アルコキシドとして、例えば、一般式R2Si(OR3)3で示されるアルコキシシランを使用すると、水が浸入した場合でも膨潤し難い,すなわち、耐水性に優れた,ガスバリア性被膜115を得ることができる。特に、有機官能基R2が、ビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、ウレイド基、及びイソシアネート基などの非水溶性官能基である場合、より高い耐水性を達成できる。 For example, when an alkoxysilane represented by the general formula R 2 Si (OR 3 ) 3 is used as the metal alkoxide, it is possible to obtain a gas barrier coating 115 that hardly swells even when water enters, that is, has excellent water resistance. In particular, when the organic functional group R2 is a water-insoluble functional group such as a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, a ureido group, and an isocyanate group, higher water resistance can be achieved.

有機官能基R2は、イソシアネート基が重合してなるイソシアヌレート基であってもよい。一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランであって有機官能基R2としてイソシアヌレート基を有する化合物は、3−イソシアネートアルキルアルコキシシランが重合してヌレート体になったものであり、1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートである。1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、イソシアヌレート部に化学的反応性を有していないが、ヌレート部の極性に起因してあたかも化学的反応性を有しているかの如く振舞うことが知られている。1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、一般的には、イソシアネートアルキルアルコキシシランと同様に接着剤などに添加され、接着性向上剤として利用されている。それゆえ、1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートと一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと水酸基を有する水溶性高分子と水とを含有したコーティング液を使用することにより、水素結合に起因した膨潤を生じ難く、耐水性に優れたガスバリア性被膜115が得られる。 The organic functional group R2 may be an isocyanurate group formed by polymerizing an isocyanate group. The alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 and having an isocyanurate group as the organic functional group R2 is obtained by polymerizing 3-isocyanatoalkylalkoxysilane to form a nurate, 3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate. 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate does not have chemical reactivity in the isocyanurate part, but has chemical reactivity as if due to the polarity of the nurate part. It is known to behave as if In general, 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate is added to an adhesive or the like in the same manner as an isocyanate alkylalkoxysilane and is used as an adhesion improver. Therefore, a coating solution containing 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate, an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 , a water-soluble polymer having a hydroxyl group, and water. By using this, it is difficult to cause swelling due to hydrogen bonding, and a gas barrier coating 115 having excellent water resistance can be obtained.

また、3−イソシアネートアルキルアルコキシシランは、反応性が高く、水溶液中での安定性が低い。他方、1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、ヌレート部は水溶性ではないが、その極性に起因して水系液中に分散し易く、液の粘度を安定に保つことができる。そして、1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、3−イソシアネートアルキルアルコキシシランと同等の耐水性を実現する。加えて、ヌレート部は耐水性に寄与するだけでなく、その極性に起因して、ガスバリア性被膜115にガスバリアの孔が生じるのを抑制する。   Moreover, 3-isocyanate alkylalkoxysilane has high reactivity and low stability in an aqueous solution. On the other hand, 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate has a nurate part that is not water-soluble, but is easily dispersed in an aqueous liquid due to its polarity, and the liquid viscosity is stabilized Can keep. And 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate realizes water resistance equivalent to 3-isocyanate alkylalkoxysilane. In addition, the nurate part not only contributes to water resistance, but also suppresses the formation of gas barrier holes in the gas barrier coating 115 due to its polarity.

1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、3−イソシアネートアルキルアルコキシシランの熱縮合により製造することができる。1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートは、未反応の3−イソシアネートアルキルアルコキシシランを含有していてもよい。   1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate can be produced by thermal condensation of 3-isocyanatoalkylalkoxysilane. 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate may contain unreacted 3-isocyanatoalkylalkoxysilane.

1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートとして、例えば、1,3,5−トリス(3−トリメトキシシシリルプロピル)イソシアヌレートなどの1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルプロピル)イソシアヌレートを使用してもよい。1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルプロピル)イソシアヌレートは、比較的安価に入手可能である。1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルプロピル)イソシアヌレートは、比較的安価に入手可能であるのに加え、加水分解速度が速い。   Examples of 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate include 1,3,5-tris (3) such as 1,3,5-tris (3-trimethoxysilylsilylpropyl) isocyanurate. -Trialkoxysilylpropyl) isocyanurate may be used. 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylpropyl) isocyanurate is available at a relatively low cost. 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylpropyl) isocyanurate is available at a relatively low cost and has a high hydrolysis rate.

金属アルコキシドが一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランであって有機官能基R2がビニル基又はメタクリロキシ基である場合、その製造過程で紫外線及び電子線などの電離放射線の照射が必要であるため、設備及び製造コストが高くなる傾向にある。有機官能基R2がウレイド基であるアルコキシシランは、特有の臭気がある。有機官能基R2がイソシアネート基であるアルコキシシランは、ポットライフが短く、他のアルコキシシランと比較してハンドリング性の観点で劣る。以上のような見地から、有機官能基R2がイソシアヌレート基であるアルコキシシランは、他のアルコキシシランと比較して優れている。 When the metal alkoxide is an alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 and the organic functional group R2 is a vinyl group or a methacryloxy group, irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams is necessary in the production process. Therefore, facilities and manufacturing costs tend to be high. The alkoxysilane whose organic functional group R2 is a ureido group has a characteristic odor. The alkoxysilane in which the organic functional group R2 is an isocyanate group has a short pot life and is inferior in terms of handling properties as compared with other alkoxysilanes. From the above viewpoint, the alkoxysilane in which the organic functional group R2 is an isocyanurate group is superior to other alkoxysilanes.

金属アルコキシドとして一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランとの混合物を使用する場合、これらアルコキシシランの比は、例えば、R2Si(OR3)3のR2Si(OH)3換算質量とSi(OR1)4のSiO2換算質量との和に対するR2Si(OR3)3のR2Si(OH)3換算質量の割合が1%乃至50%の範囲内となるように設定してもよい。この割合を小さくすると、耐水性が低くなる。また、この割合を大きくすると、有機官能基R2がガスバリアの孔となり、ガスバリア性が低下する。 When a mixture of an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and an alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 is used as the metal alkoxide, the ratio of these alkoxysilanes is, for example, R2Si (OR3 ) and in the range 3 ratio of R2Si (OH) 3 in terms of mass and Si (OR1) 4 of R2Si to the sum of the terms of SiO 2 by weight (oR @ 3) 3 R2Si (OH) 3 reduced mass of 1% to 50% You may set so that. When this ratio is reduced, the water resistance is lowered. Further, when this ratio is increased, the organic functional group R2 becomes a pore of the gas barrier, and the gas barrier property is lowered.

一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランとの混合比は、先の割合が5質乃至30%の範囲内となるように設定してもよい。この場合、液体内容物又は水分含有内容物を多湿環境中で長期保存するのに十分な耐水性及びハイバリア性を達成できる。 The mixing ratio of the alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and the alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 is set so that the above ratio is in the range of 5 to 30%. May be. In this case, sufficient water resistance and high barrier properties can be achieved for long-term storage of liquid contents or moisture-containing contents in a humid environment.

Si(OR1)4のSiO2換算質量をM1とし、R2Si(OR3)3のR2Si(OH)3換算質量をM2とし、水溶性高分子の質量をM3とした場合、比M1/(M2/M3)は、例えば、100/100乃至100/30の範囲内に設定してもよい。この場合、長期保存や煮沸処理に十分なバリア性が得られるのに加え、柔軟性に優れたガスバリア性被膜115が得られる。それゆえ、柔軟性に優れた包装材料10を得るうえで有利である。 When the SiO 2 equivalent mass of Si (OR1) 4 is M 1 , the R2Si (OH) 3 equivalent mass of R2Si (OR3) 3 is M 2, and the mass of the water-soluble polymer is M 3 , the ratio M 1 / (M 2 / M 3 ) may be set within a range of 100/100 to 100/30, for example. In this case, in addition to obtaining a barrier property sufficient for long-term storage and boiling treatment, a gas barrier coating 115 having excellent flexibility can be obtained. Therefore, it is advantageous in obtaining the packaging material 10 having excellent flexibility.

一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランのうち、テトラエトキシシランは、加水分解生成物が水系溶媒中で比較的安定に存在し得る。したがって、これを使用した場合、製造条件の制御が比較的容易である。 Of the alkoxysilanes represented by the general formula Si (OR1) 4 , tetraethoxysilane has a hydrolyzate that can exist relatively stably in an aqueous solvent. Therefore, when this is used, control of manufacturing conditions is relatively easy.

金属アルコキシドとしてテトラエトキシシシランを使用し、水溶性高分子としてPVAを使用する場合、テトラエトキシシランのSiO2換算質量と水溶性高分子の質量との比は、例えば、100/10乃至100/100の範囲内とする。この比を大きくすると、ガスバリア性被膜115が硬くなり、ひび割れを生じ易くなる。また、この比を小さくすると、耐水性が低下する。 When tetraethoxysilane is used as the metal alkoxide and PVA is used as the water-soluble polymer, the ratio of the tetraethoxysilane SiO 2 equivalent mass to the mass of the water-soluble polymer is, for example, 100/10 to 100 / Within the range of 100. When this ratio is increased, the gas barrier coating 115 is hardened and is likely to be cracked. Further, when this ratio is reduced, the water resistance is lowered.

金属アルコキシドとして一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランとの混合物を使用する場合、これらアルコキシドと水溶性高分子とは、どのような順番で混合してもよい。例えば、一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランとを別々に加水分解し、その後、水溶性高分子を含んだ溶液中にこれらを添加してもよい。この方法は、シリコン酸化物の分散性や加水分解の効率の点で優れている。 When a mixture of an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and an alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 is used as the metal alkoxide, how are these alkoxides and water-soluble polymers? They may be mixed in any order. For example, an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and an alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 are separately hydrolyzed, and then these are contained in a solution containing a water-soluble polymer. May be added. This method is excellent in terms of dispersibility of silicon oxide and efficiency of hydrolysis.

ガスバリア性被膜115を形成するためのコーティング液には、ガスバリア性被膜115のインキ又は接着剤に対する濡れ性向上、ガスバリア性被膜115とインキ層又は接着剤層との密着性向上、ガスバリア性被膜115の収縮によるクラック発生の防止などを考慮して、添加剤を添加してもよい。この添加剤としては、例えば、イソシアネート化合物、コロイダルシリカ、スメクタイトなどの粘土鉱物、安定化剤、着色剤、レオロジー調整剤、及びそれらの混合物を使用することができる。   The coating liquid for forming the gas barrier film 115 includes an improvement in wettability of the gas barrier film 115 with respect to the ink or the adhesive, an improvement in adhesion between the gas barrier film 115 and the ink layer or the adhesive layer, An additive may be added in consideration of prevention of cracking due to shrinkage. As this additive, for example, clay minerals such as isocyanate compounds, colloidal silica, smectite, stabilizers, colorants, rheology modifiers, and mixtures thereof can be used.

ガスバリア性被膜115が薄い場合、ガスバリア性被膜115を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、また、十分なガスバリア性が得られない。厚いガスバリア性被膜115は、亀裂を生じ易い。ガスバリア性被膜115の厚さは、例えば0.01μm乃至50μmの範囲内とする。   When the gas barrier film 115 is thin, it is difficult to form the gas barrier film 115 as a continuous film having a uniform thickness, and sufficient gas barrier properties cannot be obtained. The thick gas barrier coating 115 is liable to crack. The thickness of the gas barrier coating 115 is, for example, in the range of 0.01 μm to 50 μm.

ガスバリア性被膜115を形成するためのコーティング液は、例えば、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、又はグラビアオフセット法により塗布することができる。このコーティング液を塗布してなる塗膜は、例えば、熱風乾燥法、熱ロール乾燥法、高周波照射法、赤外線照射法、紫外線照射法、又はそれらの組み合わせにより乾燥させることができる。   The coating liquid for forming the gas barrier coating 115 is, for example, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, an air knife coating method, a comma coating method, a die coating method, a screen printing method, a spray coating method, or It can apply | coat by the gravure offset method. The coating film formed by applying this coating liquid can be dried by, for example, a hot air drying method, a hot roll drying method, a high frequency irradiation method, an infrared irradiation method, an ultraviolet irradiation method, or a combination thereof.

接着剤層12は、ガスバリア性被膜115を被覆した透明層である。接着剤層12の材料としては、例えば、ポリウレタン、ポリエステルウレタン、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリエチレンイミン、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリブタジエン、ワックス、カゼイン、又はそれらの混合物を主成分として含有した、無溶剤型、溶剤型、水性型、又は熱溶融型接着剤を使用することができる。   The adhesive layer 12 is a transparent layer coated with a gas barrier coating 115. Examples of the material of the adhesive layer 12 include polyurethane, polyester urethane, polyester, polyamide, epoxy resin, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyethyleneimine, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, Solvent-free, solvent-type, aqueous-type, or hot-melt-type adhesives containing polyvinyl acetate, polyolefin, modified polyolefin, polybutadiene, wax, casein, or a mixture thereof as a main component can be used.

この接着剤のガスバリア性被膜115上への塗布には、例えば、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、キスコート法、ダイコート法、ロールコート法、ディップコート法、ナイフコート法、スプレーコート法、又はフォンテンコート法を利用することができる。接着剤は、例えば、乾燥状態で塗布量が0.1g/m2乃至8g/m2の範囲内となるように塗布する。 For applying the adhesive onto the gas barrier coating 115, for example, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a kiss coating method, a die coating method, a roll coating method, a dip coating method, a knife coating method, a spray coating method, or The Fontencourt method can be used. For example, the adhesive is applied in a dry state so that the application amount is within a range of 0.1 g / m 2 to 8 g / m 2 .

ヒートシール性樹脂層13は、接着剤層12を介して透明ガスバリア性フィルム11に貼り合わされた透明層である。ヒートシール性樹脂層13は、易接着層112と無機酸化物層114とガスバリア性被膜115と接着剤層12とを間に挟んで基材フィルム111と向き合っている。   The heat-sealable resin layer 13 is a transparent layer bonded to the transparent gas barrier film 11 via the adhesive layer 12. The heat-sealable resin layer 13 faces the substrate film 111 with the easy-adhesion layer 112, the inorganic oxide layer 114, the gas barrier film 115, and the adhesive layer 12 interposed therebetween.

ヒートシール性樹脂層13は、ヒートシール性を有している透明樹脂層である。ヒートシール性樹脂層13の材料としては、例えば、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、及び直鎖状低密度ポリエチレンなどのポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体けん化物、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、これらの金属架橋物、又はポリ乳酸樹脂などの生分解性樹脂を使用することができる。   The heat sealable resin layer 13 is a transparent resin layer having heat sealability. Examples of the material of the heat-sealable resin layer 13 include polyethylene such as high-density polyethylene, medium-density polyethylene, low-density polyethylene, and linear low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polyester, polyamide, and ethylene. -Vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer saponified product, polycarbonate, polyacrylonitrile, nitrocellulose, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, Biodegradable resins such as ethylene-methacrylic acid ester copolymers, cross-linked products of these, or polylactic acid resins can be used.

ヒートシール性樹脂層13の厚さは、例えば、透明包装材料10の用途に応じて設定する。通常、ヒートシール性樹脂層13の厚さは、10μm乃至200μmの範囲内とする。   The thickness of the heat-sealable resin layer 13 is set according to the application of the transparent packaging material 10, for example. Usually, the thickness of the heat-sealable resin layer 13 is in the range of 10 μm to 200 μm.

ヒートシール性樹脂層13と透明ガスバリア性フィルム11との貼り合わせには、例えば、ドライラミネート法、ノンソルベントラミネート法、又は押出しラミネート法を利用することができる。例えば、押出しラミネート法を利用した場合には、接着剤層12は省略することができる。   For bonding the heat-sealable resin layer 13 and the transparent gas barrier film 11, for example, a dry lamination method, a non-solvent lamination method, or an extrusion lamination method can be used. For example, when the extrusion laminating method is used, the adhesive layer 12 can be omitted.

透明ガスバリア性フィルム11とヒートシール性樹脂層13との間には、接着剤層12以外の層を介在させてもよい。例えば、それらの間に、印刷層及び/又は基材フィルムなどを介在させてもよい。   A layer other than the adhesive layer 12 may be interposed between the transparent gas barrier film 11 and the heat sealable resin layer 13. For example, a printing layer and / or a base film may be interposed between them.

この透明包装材料10は、包装体の少なくとも一部として使用することができる。例えば、この透明包装材料10を用いて袋を形成することができる。或いは、この透明包装材料10を用いて、成型容器の蓋を形成することができる。なお、ヒートシール性樹脂層13は、包装体の内部空間と透明ガスバリア性フィルム11との間に位置させる。   This transparent packaging material 10 can be used as at least a part of a package. For example, a bag can be formed using this transparent packaging material 10. Alternatively, the transparent packaging material 10 can be used to form a lid of a molded container. The heat-sealable resin layer 13 is positioned between the internal space of the package and the transparent gas barrier film 11.

この透明包装材料10は、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性に優れている。そのため、例えば、この透明包装材料10で液体含有内容物を包装した場合であっても、フィルム間の密着力の低下は生じ難く、それゆえ、デラミネーションは発生し難い。また、この透明包装材料10で食品などを包装してなる包装品は、煮沸滅菌処理に供したとしても、デラミネーションを生じ難い。さらに、この透明包装材料10で香味成分を含有した内容物を包装してなる包装品は、長期に保存した場合であっても、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性が大幅に低下することはない。加えて、この透明包装材料10で精密電子部品等を包装してなる包装品は、高温多湿環境中に長時間放置した場合であっても、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性が大幅に低下することはない。それゆえ、内容物の劣化を長期にわたって防止することができる。   This transparent packaging material 10 is excellent in adhesion between the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13. Therefore, for example, even when the liquid-containing contents are packaged with the transparent packaging material 10, the adhesion between the films hardly decreases, and therefore delamination hardly occurs. In addition, a packaged product obtained by packaging food or the like with this transparent packaging material 10 is less likely to cause delamination even when subjected to boiling sterilization treatment. Further, the packaged product obtained by wrapping the content containing the flavor component with the transparent packaging material 10 is an adhesive property between the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13 even when stored for a long period of time. Will not drop significantly. In addition, the packaged product in which precision electronic components and the like are packaged with the transparent packaging material 10 has a plastic substrate film 111 and a heat-sealable resin layer 13 even when left in a high temperature and high humidity environment for a long time. There is no significant decrease in adhesion. Therefore, deterioration of the contents can be prevented over a long period of time.

この透明包装材料10は湿潤ラミネート強度に優れている。したがって、この透明包装材料10は、透明ガスバリア性フィルム11とヒートシール性樹脂層13との界面に水を浸したときの湿潤ラミネート強度が例えば2.0N/15mm以上である。   This transparent packaging material 10 is excellent in wet laminate strength. Therefore, the transparent packaging material 10 has a wet laminate strength of, for example, 2.0 N / 15 mm or more when water is immersed in the interface between the transparent gas barrier film 11 and the heat sealable resin layer 13.

また、この透明包装材料10は常態ラミネート強度に優れている。したがって、この透明包装材料を用いて形成した四方シール袋に内容物として水を充填してなる包装品は、95℃で30分間の煮沸処理に供した後でも、透明ガスバリア性フィルム11とヒートシール性樹脂層13との常態ラミネート強度を例えば3.0N/15mm以上に維持し、その透明包装材料10は酸素透過度を例えば50cm3/m2・day・MPa以下に維持する。 そして、この透明包装材料10を用いて形成した四方シール袋に内容物として水を充填してなる包装品は、温度が40℃で相対湿度が90%の環境中に3ヶ月間に亘って放置した後でも、透明ガスバリア性フィルム11とヒートシール性樹脂層13との常態ラミネート強度を例えば3.0N/15mm以上に維持し、その透明包装材料10は酸素透過度を例えば20cm3/m2・day・MPa以下に維持する。 Moreover, this transparent packaging material 10 is excellent in normal laminate strength. Therefore, the package product formed by filling the four-sided seal bag formed using this transparent packaging material with water as the contents is subjected to the boiling treatment at 95 ° C. for 30 minutes, and the transparent gas barrier film 11 and the heat seal. The normal laminate strength with the conductive resin layer 13 is maintained at, for example, 3.0 N / 15 mm or more, and the transparent packaging material 10 maintains the oxygen permeability at, for example, 50 cm 3 / m 2 · day · MPa or less. The packaged product formed by filling the four-side sealed bag formed using the transparent packaging material 10 with water as the contents is left for 3 months in an environment where the temperature is 40 ° C. and the relative humidity is 90%. After that, the normal laminate strength of the transparent gas barrier film 11 and the heat sealable resin layer 13 is maintained at, for example, 3.0 N / 15 mm or more, and the transparent packaging material 10 has an oxygen permeability of, for example, 20 cm 3 / m 2. The pressure is kept below day · MPa.

以下、本発明の実施例を説明する。
<コーティング液A1の調製>
アジピン酸をポリエステルの二塩基酸成分とした水分散性ポリエステルポリウレタンとビスフェノールAグリシジルエーテルとを100:6の固形分質量比で含有した水溶液を調製した。以下、この水溶液を、「コーティング液A1」と呼ぶ。
Examples of the present invention will be described below.
<Preparation of coating liquid A1>
An aqueous solution containing a water-dispersible polyester polyurethane having adipic acid as a dibasic acid component of polyester and bisphenol A glycidyl ether in a solid mass ratio of 100: 6 was prepared. Hereinafter, this aqueous solution is referred to as “coating liquid A1”.

<コーティング液A2の調製>
アジピン酸をポリエステルの二塩基酸成分とした水分散性ポリエステルポリウレタンポリ尿素樹脂とビスフェノールAグリシジルエーテルとを100:5の固形分質量比で含有した水溶液を調製した。以下、この水溶液を、「コーティング液A2」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid A2>
An aqueous solution containing a water-dispersible polyester polyurethane polyurea resin containing adipic acid as a dibasic acid component of polyester and bisphenol A glycidyl ether in a mass ratio of 100: 5 was prepared. Hereinafter, this aqueous solution is referred to as “coating liquid A2.”

<コーティング液A3の調製>
アジピン酸をポリエステルの二塩基酸成分とした水分散性ポリエステルポリウレタンを含有した水溶液を調製した。すなわち、ビスフェノールAグリシジルエーテルを省略したこと以外はコーティング液A1と同様の組成を有する水溶液を調製した。以下、この水溶液を、「コーティング液A3」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid A3>
An aqueous solution containing a water-dispersible polyester polyurethane having adipic acid as a dibasic acid component of polyester was prepared. That is, an aqueous solution having the same composition as the coating liquid A1 was prepared except that bisphenol A glycidyl ether was omitted. Hereinafter, this aqueous solution is referred to as “coating liquid A3”.

<コーティング液A4の調製>
フタル酸をポリエステルの二塩基酸成分とした水分散性ポリエステルとビスフェノールAグリシジルエーテルとを100:6の固形分質量比で含有した水溶液を調製した。すなわち、ポリエステルの二塩基酸成分がアジピン酸の代わりにフタル酸であること以外はコーティング液A1と同様の組成を有する水溶液を調製した。以下、この水溶液を、「コーティング液A4」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid A4>
An aqueous solution containing a water-dispersible polyester containing phthalic acid as a dibasic acid component of polyester and bisphenol A glycidyl ether in a solid content mass ratio of 100: 6 was prepared. That is, an aqueous solution having the same composition as the coating liquid A1 was prepared except that the dibasic acid component of the polyester was phthalic acid instead of adipic acid. Hereinafter, this aqueous solution is referred to as “coating liquid A4”.

<コーティング液B1の調製>
水酸基価が140mgKOH/gのアクリルポリオールを50質量%の濃度で含有した6gのアクリルポリオール溶液を準備した。このアクリルポリオール溶液と0.5gのγ−イソシアネートプロピルトリメトキシシランとを混合し、この混合液に酢酸エチルを添加して固形分濃度を20質量%とした。この溶液を7g計量し、これに、キシリレンジイソシアネートとイソホロンジイソシアネートとを60:40の質量比で含有した1.5gの混合物を混合した。次いで、この溶液を、固形分濃度が2質量%となるように酢酸エチルで希釈し、さらに、10分間攪拌した。以下、このようにして得られた溶液を、「コーティング液B1」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B1>
A 6 g acrylic polyol solution containing an acrylic polyol having a hydroxyl value of 140 mgKOH / g at a concentration of 50% by mass was prepared. This acrylic polyol solution and 0.5 g of γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane were mixed, and ethyl acetate was added to the mixture to make the solid content concentration 20% by mass. 7 g of this solution was weighed and mixed with 1.5 g of a mixture containing xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate in a mass ratio of 60:40. Next, this solution was diluted with ethyl acetate so that the solid content concentration was 2% by mass and further stirred for 10 minutes. Hereinafter, the solution thus obtained is referred to as “coating liquid B1”.

<コーティング液B2の調製>
水酸基価が30mgKOH/gのアクリルポリオールを50質量%の濃度で含有した6gのアクリルポリオール溶液を準備した。このアクリルポリオール溶液と0.6gのγ−イソシアネートプロピルトリメトキシシランとを混合し、この混合液に酢酸エチルを添加して固形分濃度を20質量%とした。この溶液を7g計量し、これに、キシリレンジイソシアネートとイソホロンジイソシアネートとを60:40の質量比で含有した1.5gの混合物を混合した。次いで、この溶液を、固形分濃度が2質量%となるように酢酸エチルで希釈し、さらに、10分間攪拌した。以下、このようにして得られた溶液を、「コーティング液B2」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B2>
A 6 g acrylic polyol solution containing an acrylic polyol having a hydroxyl value of 30 mg KOH / g at a concentration of 50% by mass was prepared. This acrylic polyol solution and 0.6 g of γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane were mixed, and ethyl acetate was added to the mixture to make the solid content concentration 20% by mass. 7 g of this solution was weighed and mixed with 1.5 g of a mixture containing xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate in a mass ratio of 60:40. Next, this solution was diluted with ethyl acetate so that the solid content concentration was 2% by mass and further stirred for 10 minutes. Hereinafter, the solution thus obtained is referred to as “coating liquid B2”.

<コーティング液B3の調製>
水酸基価が340mgKOH/gのアクリルポリオールを50質量%の濃度で含有した6gのアクリルポリオール溶液を準備した。このアクリルポリオール溶液と0.6gのγ−イソシアネートプロピルトリメトキシシランとを混合し、この混合液に酢酸エチルを添加して固形分濃度を20質量%とした。この溶液を7g計量し、これに、キシリレンジイソシアネートとイソホロンジイソシアネートとを60:40の質量比で含有した1.5gの混合物を混合した。次いで、この溶液を、固形分濃度が2質量%となるように酢酸エチルで希釈し、さらに、10分間攪拌した。以下、このようにして得られた溶液を、「コーティング液B3」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B3>
A 6 g acrylic polyol solution containing an acrylic polyol having a hydroxyl value of 340 mg KOH / g at a concentration of 50% by mass was prepared. This acrylic polyol solution and 0.6 g of γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane were mixed, and ethyl acetate was added to the mixture to make the solid content concentration 20% by mass. 7 g of this solution was weighed and mixed with 1.5 g of a mixture containing xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate in a mass ratio of 60:40. Next, this solution was diluted with ethyl acetate so that the solid content concentration was 2% by mass and further stirred for 10 minutes. Hereinafter, the solution thus obtained is referred to as “coating liquid B3”.

<コーティング液B4の調製>
水酸基価が140mgKOH/gのアクリルポリオールを50質量%の濃度で含有した6gのアクリルポリオール溶液を準備した。このアクリルポリオール溶液と0.6gのγ−アミノプロピルトリエトキシシランとを混合し、この混合液に酢酸エチルを添加して固形分濃度を20質量%とした。この溶液を7g計量し、これに、0.75gのキシリレンジイソシアネートを混合した。次いで、この溶液を、固形分濃度が2質量%となるように酢酸エチルで希釈し、さらに、10分間攪拌した。以下、このようにして得られた溶液を、「コーティング液B4」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B4>
A 6 g acrylic polyol solution containing an acrylic polyol having a hydroxyl value of 140 mgKOH / g at a concentration of 50% by mass was prepared. This acrylic polyol solution and 0.6 g of γ-aminopropyltriethoxysilane were mixed, and ethyl acetate was added to the mixture to make the solid content concentration 20% by mass. 7 g of this solution was weighed and mixed with 0.75 g of xylylene diisocyanate. Next, this solution was diluted with ethyl acetate so that the solid content concentration was 2% by mass and further stirred for 10 minutes. Hereinafter, the solution thus obtained is referred to as “coating liquid B4”.

<コーティング液B5の調製>
水酸基価が7mgKOH/gのポリエステル樹脂を20質量%の濃度で含有した7gの酢酸エチル溶液を準備した。この溶液に、キシリレンジイソシアネートとイソホロンジイソシアネートとを60:40の質量比で含有した1.5gの混合物を混合した。次いで、この溶液を、固形分濃度が2質量%となるように酢酸エチルで希釈し、さらに、10分間攪拌した。以下、このようにして得られた溶液を、「コーティング液B5」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B5>
A 7 g ethyl acetate solution containing a polyester resin having a hydroxyl value of 7 mg KOH / g at a concentration of 20% by mass was prepared. To this solution, 1.5 g of a mixture containing xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate in a mass ratio of 60:40 was mixed. Next, this solution was diluted with ethyl acetate so that the solid content concentration was 2% by mass and further stirred for 10 minutes. Hereinafter, the solution thus obtained is referred to as “coating liquid B5”.

<コーティング液C1の調製>
10gのテトラエトキシシランに、90gの0.1N塩酸水溶液を添加した。次いで、この混合液を30分間攪拌して、テトラエトキシシランの加水分解を生じさせた。これにより、SiO2換算で固形分を3質量%の濃度で含有した加水分解溶液を得た。
<Preparation of coating liquid C1>
To 10 g of tetraethoxysilane, 90 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution was added. Next, this mixed solution was stirred for 30 minutes to cause hydrolysis of tetraethoxysilane. Thus, to obtain a hydrolysis solution containing a concentration of 3 wt% solids in terms of SiO 2.

PVAと水とイソプロピルアルコールとを混合して、65gのPVA溶液を調製した。水とイソプロピルアルコールとの質量比は90:10とした。また、このPVA溶液のPVA濃度は、4質量%とした。   PVA, water and isopropyl alcohol were mixed to prepare a 65 g PVA solution. The mass ratio of water to isopropyl alcohol was 90:10. The PVA concentration of this PVA solution was 4% by mass.

これら加水分解溶液とPVA溶液とを混合して、コーティング液を調製した。以下、このコーティング液を、「コーティング液C1」と呼ぶ。   These hydrolysis solution and PVA solution were mixed to prepare a coating solution. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution C1”.

<コーティング液C2の調製>
17.9gのテトラエトキシシランと10gのメタノールと72.1gの0.1N塩酸水溶液とを混合した。次いで、この混合液を30分間攪拌して、テトラエトキシシランの加水分解を生じさせた。これにより、SiO2換算で固形分を5質量%の濃度で含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液S1」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid C2>
17.9 g of tetraethoxysilane, 10 g of methanol, and 72.1 g of 0.1N aqueous hydrochloric acid were mixed. Next, this mixed solution was stirred for 30 minutes to cause hydrolysis of tetraethoxysilane. As a result, a hydrolysis solution containing a solid content of 5% by mass in terms of SiO 2 was obtained. Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution S1”.

PVAと水とイソプロピルアルコールとを混合して、PVA溶液を調製した。水とイソプロピルアルコールとの質量比は95:5とした。また、このPVA溶液の固形分濃度,すなわち、PVA濃度,は、5質量%とした。以下、このPVA溶液を、「溶液S2」と呼ぶ。   PVA, water, and isopropyl alcohol were mixed to prepare a PVA solution. The mass ratio of water to isopropyl alcohol was 95: 5. The solid content concentration of the PVA solution, that is, the PVA concentration was set to 5% by mass. Hereinafter, this PVA solution is referred to as “solution S2”.

1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートと水とイソプロピルアルコールとを混合した。水とイソプロピルアルコールとの質量比は50:50とした。また、この混合液における1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートの濃度は、R2Si(OH)3換算濃度で5質量%とした。次いで、この混合液を30分間攪拌して、1,3,5−トリス(3−トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレートの加水分解を生じさせた。これにより、R2Si(OH)3換算で固形分を5質量%の濃度で含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液S3」と呼ぶ。 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate, water and isopropyl alcohol were mixed. The mass ratio of water to isopropyl alcohol was 50:50. The concentration of 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate in this mixed solution was 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 . The mixture was then stirred for 30 minutes to cause hydrolysis of 1,3,5-tris (3-trialkoxysilylalkyl) isocyanurate. As a result, a hydrolyzed solution containing a solid content of 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 was obtained. Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution S3”.

その後、溶液S1と溶液S2と溶液S3とを、それらの固形分の質量比が70:20:10となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液C2」と呼ぶ。   Thereafter, the solution S1, the solution S2, and the solution S3 were mixed so that the mass ratio of the solid contents was 70:20:10. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid C2”.

<コーティング液C3の調製>
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのイソプロピルアルコール溶液に、1N塩酸水溶液を徐々に加えた。水とイソプロピルアルコールとの質量比は50:50とした。また、この混合液におけるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの濃度は、R2Si(OH)3換算濃度で5質量%とした。次いで、この混合液を30分間攪拌して、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解を生じさせた。これにより、R2Si(OH)3換算で固形分を5質量%の濃度で含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液S4」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid C3>
A 1N hydrochloric acid aqueous solution was gradually added to an isopropyl alcohol solution of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. The mass ratio of water to isopropyl alcohol was 50:50. The concentration of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane in this mixed solution was 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 . The mixture was then stirred for 30 minutes to cause hydrolysis of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. As a result, a hydrolyzed solution containing a solid content of 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 was obtained. Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution S4”.

その後、溶液S1と溶液S2と溶液S4とを、それらの固形分の質量比が70:20:10となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液C3」と呼ぶ。   Thereafter, the solution S1, the solution S2, and the solution S4 were mixed so that the mass ratio of the solid content was 70:20:10. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid C3”.

<コーティング液C4の調製>
溶液S1と溶液S2と溶液S3とを、それらの固形分の質量比が30:20:60となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液C4」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid C4>
The solution S1, the solution S2, and the solution S3 were mixed so that the mass ratio of their solid contents was 30:20:60. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid C4”.

<コーティング液C5の調製>
溶液S1と溶液S2と溶液S4とを、それらの固形分の質量比が80:10:10となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液C5」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid C5>
The solution S1, the solution S2, and the solution S4 were mixed so that the mass ratio of their solid contents was 80:10:10. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid C5”.

<透明ガスバリア性フィルムBF1及び透明包装材料PM1の製造>
まず、Tダイ法により、ナイロン6からなる厚さが150μmの未延伸基材フィルムを成膜した。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF1 and transparent packaging material PM1>
First, an unstretched substrate film made of nylon 6 and having a thickness of 150 μm was formed by a T-die method.

次に、この基材フィルムの一方の主面上に、マイヤーバーコート法によりコーティング液A1を塗布した。この塗膜を乾燥させた後、基材フィルムを、基材フィルムを縦方向に3.0倍に及び横方向に3.3倍に同時二軸延伸した。さらに、210℃の温度でヒートセット処理を行った。このようにして、基材フィルムの厚さを15μmとすると共に、その上に厚さが0.05μmの易接着層を形成した。   Next, the coating liquid A1 was applied on one main surface of the base film by the Meyer bar coating method. After the coating film was dried, the base film was simultaneously biaxially stretched 3.0 times in the longitudinal direction and 3.3 times in the transverse direction. Furthermore, the heat setting process was performed at the temperature of 210 degreeC. Thus, while making the thickness of a base film into 15 micrometers, the easily bonding layer whose thickness is 0.05 micrometer was formed on it.

その後、易接着層上に、グラビアコート法によりコーティング液B1を塗布した。この塗膜を乾燥させることにより、厚さが0.05μmのアンカーコート層を得た。
続いて、電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により、易接着層上に、酸化アルミニウムからなる厚さが15nmの無機酸化物層を形成した。
Then, coating liquid B1 was apply | coated by the gravure coating method on the easily bonding layer. By drying this coating film, an anchor coat layer having a thickness of 0.05 μm was obtained.
Then, the 15-nm-thick inorganic oxide layer which consists of aluminum oxide was formed on the easily bonding layer with the vacuum evaporation system using an electron beam heating system.

次に、グラビアコート法により、無機酸化物層上に、コーティング液C1を塗布した。この塗膜を加熱乾燥させることにより、厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を得た。   Next, the coating liquid C1 was apply | coated on the inorganic oxide layer by the gravure coating method. This coating film was dried by heating to obtain a gas barrier coating film having a thickness of 0.3 μm.

以上のようにして、透明ガスバリア性フィルムを完成した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF1」と呼ぶ。   As described above, a transparent gas barrier film was completed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF1”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1とヒートシール性樹脂層とを、ヒートシール性樹脂層がガスバリア性被膜と向き合うように、ドライラミネーション法により貼り合わせた。ヒートシール性樹脂層としては、厚さが50μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東セロ社製、TUX−FCS)を使用し、接着剤としては、二液硬化型ポリウレタン系ラミネート用接着剤(三井化学ポリウレタン社製、A515/A50)を使用した。接着剤は、グラビアコート法により、乾燥後の塗布量が4.0g/m2となるようにガスバリア性被膜上に塗布した。 Next, the transparent gas barrier film BF1 and the heat sealable resin layer were bonded together by a dry lamination method so that the heat sealable resin layer faced the gas barrier film. As the heat-sealable resin layer, a 50 μm-thick linear low-density polyethylene film (manufactured by Tosero Co., Ltd., TUX-FCS) is used, and the adhesive is a two-component curable polyurethane-based laminate adhesive (Mitsui Chemical polyurethane, A515 / A50) was used. The adhesive was applied on the gas barrier coating by gravure coating so that the coating amount after drying was 4.0 g / m 2 .

その後、この積層体を、40℃の恒温室で7日間養生した。以上のようにして、透明包装材料を完成した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM1」と呼ぶ。   Thereafter, this laminate was cured in a constant temperature room at 40 ° C. for 7 days. The transparent packaging material was completed as mentioned above. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM1”.

<透明ガスバリア性フィルムBF2及び透明包装材料PM2の製造>
まず、Tダイ法により、ナイロン6からなる厚さが150μmの未延伸基材フィルムを成膜した。次いで、この基材フィルムを、周速度が異なる加熱ローラ間に通して3.0倍に縦延伸した。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF2 and transparent packaging material PM2>
First, an unstretched substrate film made of nylon 6 and having a thickness of 150 μm was formed by a T-die method. Next, this base film was passed through heating rollers having different peripheral speeds and longitudinally stretched 3.0 times.

次に、この基材フィルムの一方の主面上に、マイヤーバーコート法によりコーティング液A1を塗布した。その後、予熱部で塗膜を乾燥させ、続いて、基材フィルムを、基材フィルムを横方向に3.3倍に延伸した。さらに、215℃の温度でヒートセット処理を行った。このようにして、基材フィルムの厚さを15μmとすると共に、その上に厚さが0.05μmの易接着層を形成した。   Next, the coating liquid A1 was applied on one main surface of the base film by the Meyer bar coating method. Then, the coating film was dried in the preheating part, and the base film was then stretched 3.3 times in the transverse direction. Furthermore, the heat setting process was performed at the temperature of 215 degreeC. Thus, while making the thickness of a base film into 15 micrometers, the easily bonding layer whose thickness is 0.05 micrometer was formed on it.

その後、易接着層上に、グラビアコート法によりコーティング液B1を塗布した。この塗膜を乾燥させることにより、厚さが0.08μmのアンカーコート層を得た。
さらに、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、無機酸化物層及びガスバリア性被膜の形成を順次行った。
Then, coating liquid B1 was apply | coated by the gravure coating method on the easily bonding layer. By drying this coating film, an anchor coat layer having a thickness of 0.08 μm was obtained.
Further, an inorganic oxide layer and a gas barrier film were sequentially formed by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1.

以上のようにして、透明ガスバリア性フィルムを完成した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF2」と呼ぶ。   As described above, a transparent gas barrier film was completed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF2”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF2を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM2」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF2 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM2”.

<透明ガスバリア性フィルムBF3及び透明包装材料PM3の製造>
コーティング液A1の代わりにコーティング液A2を使用し且つ易接着層の厚さを0.10μmとしたこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF3」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF3 and transparent packaging material PM3>
A transparent gas barrier film is produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the coating liquid A2 is used instead of the coating liquid A1 and the thickness of the easy adhesion layer is 0.10 μm. did. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF3”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF3を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM3」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF3 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM3”.

<透明ガスバリア性フィルムBF4及び透明包装材料PM4の製造>
易接着層の厚さを0.20μmとしたこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF4」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF4 and transparent packaging material PM4>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1, except that the thickness of the easy adhesion layer was 0.20 μm. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF4”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF4を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM4」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF4 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM4”.

<透明ガスバリア性フィルムBF5及び透明包装材料PM5の製造>
易接着層の厚さを0.30μmとしたこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF5」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF5 and transparent packaging material PM5>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the thickness of the easy adhesion layer was 0.30 μm. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF5”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF5を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM5」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF5 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM5”.

<透明ガスバリア性フィルムBF6及び透明包装材料PM6の製造>
コーティング液B1を用いて厚さが0.05μmのアンカーコート層を形成する代わりに、コーティング液B2を用いて厚さが0.1μmのアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF6」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF6 and transparent packaging material PM6>
Transparent gas barrier film BF1 except that an anchor coat layer having a thickness of 0.1 μm was formed by using coating liquid B2 instead of forming an anchor coat layer having a thickness of 0.05 μm by using coating liquid B1. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF6”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF6を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM6」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF6 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM6”.

<透明ガスバリア性フィルムBF7及び透明包装材料PM7の製造>
コーティング液B1を用いて厚さが0.05μmのアンカーコート層を形成する代わりに、コーティング液B3を用いて厚さが0.1μmのアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF7」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF7 and transparent packaging material PM7>
Transparent gas barrier film BF1 except that an anchor coat layer having a thickness of 0.1 μm was formed by using coating liquid B3 instead of forming an anchor coat layer having a thickness of 0.05 μm by using coating liquid B1. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF7”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF7を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM7」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF7 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM7”.

<透明ガスバリア性フィルムBF8及び透明包装材料PM8の製造>
コーティング液B1を用いて厚さが0.05μmのアンカーコート層を形成する代わりに、コーティング液B4を用いて厚さが0.1μmのアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF8」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF8 and transparent packaging material PM8>
Transparent gas barrier film BF1 except that an anchor coat layer having a thickness of 0.1 μm was formed by using coating liquid B4 instead of forming an anchor coat layer having a thickness of 0.05 μm by using coating liquid B1. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF8”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF8を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM8」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF8 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM8”.

<透明ガスバリア性フィルムBF9及び透明包装材料PM9の製造>
コーティング液B1を用いて厚さが0.05μmのアンカーコート層を形成する代わりに、コーティング液B4を用いて厚さが1.0μmのアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、アンカーコート層の厚さを1.0μmとしたこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF8について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF9」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF9 and transparent packaging material PM9>
Transparent gas barrier film BF1 except that instead of forming an anchor coat layer having a thickness of 0.05 μm using coating liquid B1, an anchor coat layer having a thickness of 1.0 μm was formed using coating liquid B4. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. That is, a transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF8 except that the thickness of the anchor coat layer was 1.0 μm. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF9”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF9を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM9」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF9 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM9”.

<透明ガスバリア性フィルムBF10及び透明包装材料PM10の製造>
コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF10」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF10 and transparent packaging material PM10>
The transparent gas barrier film BF1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using the coating liquid C1, a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm was formed using the coating liquid C2. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF10”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF10を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM10」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF10 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM10”.

<透明ガスバリア性フィルムBF11及び透明包装材料PM11の製造>
コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液C3を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF11」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF11 and transparent packaging material PM11>
The transparent gas barrier film BF1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using the coating liquid C1, a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm was formed using the coating liquid C3. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF11”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF11を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM11」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF11 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM11”.

<透明ガスバリア性フィルムBF12及び透明包装材料PM12の製造>
コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液C4を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF12」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF12 and transparent packaging material PM12>
The transparent gas barrier film BF1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using the coating liquid C1, a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm was formed using the coating liquid C4. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF12”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF12を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM12」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF12 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM12”.

<透明ガスバリア性フィルムBF13及び透明包装材料PM13の製造>
コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液C5を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF13」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF13 and transparent packaging material PM13>
The transparent gas barrier film BF1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using the coating liquid C1, a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm was formed using the coating liquid C5. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF13”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF13を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM13」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF13 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM13”.

<透明ガスバリア性フィルムBF14及び透明包装材料PM14の製造>
コーティング液B1の代わりにコーティング液B2を使用してアンカーコート層を形成し、コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりにコーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、コーティング液B1の代わりにコーティング液B2を使用してアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF10について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF14」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF14 and transparent packaging material PM14>
The coating liquid B2 is used instead of the coating liquid B1 to form an anchor coat layer, and the coating liquid C1 is used to form a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1, except that a 0.5 μm gas barrier film was formed. That is, a transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF10 except that the coating liquid B2 was used instead of the coating liquid B1 to form the anchor coat layer. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF14”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF14を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM14」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF14 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM14”.

<透明ガスバリア性フィルムBF15及び透明包装材料PM15の製造>
コーティング液B1の代わりにコーティング液B3を使用してアンカーコート層を形成し、コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりにコーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、コーティング液B1の代わりにコーティング液B3を使用してアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF10について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF15」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF15 and transparent packaging material PM15>
The coating liquid B3 is used instead of the coating liquid B1 to form an anchor coat layer, and the coating liquid C1 is used to form a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1, except that a 0.5 μm gas barrier film was formed. That is, a transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF10 except that the coating liquid B3 was used instead of the coating liquid B1 to form the anchor coat layer. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF15”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF15を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM15」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF15 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM15”.

<透明ガスバリア性フィルムBF16及び透明包装材料PM16の製造>
コーティング液B1の代わりにコーティング液B4を使用してアンカーコート層を形成し、コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりにコーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、コーティング液B1の代わりにコーティング液B4を使用してアンカーコート層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF10について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF16」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF16 and transparent packaging material PM16>
The coating liquid B4 is used instead of the coating liquid B1 to form an anchor coat layer, and the coating liquid C1 is used to form a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1, except that a 0.5 μm gas barrier film was formed. That is, a transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF10 except that the coating liquid B4 was used instead of the coating liquid B1 to form the anchor coat layer. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF16”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF16を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM16」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF16 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM16”.

<透明ガスバリア性フィルムBF17及び透明包装材料PM17の製造>
電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により酸化アルミニウムからなる厚さが15nmの無機酸化物層を形成する代わりに、抵抗加熱方式を用いて真空蒸着装置により酸化珪素からなる厚さが50nmの無機酸化物層を形成し、コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりにコーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により酸化アルミニウムからなる厚さが15nmの無機酸化物層を形成する代わりに、抵抗加熱方式を用いて真空蒸着装置により酸化珪素からなる厚さが50nmの無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF10について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF17」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF17 and transparent packaging material PM17>
Instead of forming an inorganic oxide layer made of aluminum oxide having a thickness of 15 nm by a vacuum vapor deposition apparatus using an electron beam heating method, an inorganic film having a thickness of 50 nm made of silicon oxide by a vacuum vapor deposition apparatus using a resistance heating method. Except for forming an oxide layer and forming a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm using the coating liquid C2 instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using the coating liquid C1. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1. That is, instead of forming an inorganic oxide layer made of aluminum oxide having a thickness of 15 nm by a vacuum vapor deposition apparatus using an electron beam heating method, the thickness made of silicon oxide by a vacuum vapor deposition apparatus using a resistance heating method is 50 nm. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF10 except that the inorganic oxide layer was formed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF17”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF17を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM17」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF17 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM17”.

<透明ガスバリア性フィルムBF18及び透明包装材料PM18の製造>
電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により酸化アルミニウムからなる無機酸化物層を形成する代わりに、電子線加熱方式を用いて真空蒸着装置により酸化マグネシウムからなる無機酸化物層を形成し、コーティング液C1を用いて厚さが0.3μmのガスバリア性被膜を形成する代わりにコーティング液C2を用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。すなわち、電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により酸化アルミニウムからなる無機酸化物層を形成する代わりに、電子線加熱方式を用いた真空蒸着装置により酸化マグネシウムからなる無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF10について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF18」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF18 and transparent packaging material PM18>
Instead of forming an inorganic oxide layer made of aluminum oxide by a vacuum vapor deposition device using an electron beam heating method, an inorganic oxide layer made of magnesium oxide is formed by a vacuum vapor deposition device using an electron beam heating method, and a coating solution The transparent gas barrier film BF1 was described except that a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm was formed using the coating liquid C2 instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.3 μm using C1. A transparent gas barrier film was produced by the same method as described above. That is, instead of forming an inorganic oxide layer made of aluminum oxide by a vacuum vapor deposition device using an electron beam heating method, an inorganic oxide layer made of magnesium oxide was formed by a vacuum vapor deposition device using an electron beam heating method. Except for the above, a transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF10. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF18”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF18を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM18」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF18 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM18”.

<透明ガスバリア性フィルムBF19及び透明包装材料PM19の製造>
コーティング液A1の代わりにコーティング液A3を使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF19」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF19 and transparent packaging material PM19>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF1, except that the coating liquid A3 was used instead of the coating liquid A1. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF19”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF19を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM19」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF19 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM19”.

<透明ガスバリア性フィルムBF20及び透明包装材料PM20の製造>
コーティング液A1の代わりにコーティング液A4を使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF20」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF20 and transparent packaging material PM20>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the coating liquid A4 was used instead of the coating liquid A1. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF20”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF20を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM20」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF20 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM20”.

<透明ガスバリア性フィルムBF21及び透明包装材料PM21の製造>
易接着層を省略したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF21」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF21 and transparent packaging material PM21>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the easy adhesion layer was omitted. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF21”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF21を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM21」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF21 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM21”.

<透明ガスバリア性フィルムBF22及び透明包装材料PM22の製造>
アンカーコート層を省略したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF22」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF22 and transparent packaging material PM22>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the anchor coat layer was omitted. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF22”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF22を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM22」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF22 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM22”.

<透明ガスバリア性フィルムBF23及び透明包装材料PM23の製造>
コーティング液B1の代わりにコーティング液B5を使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムBF1について説明したのと同様の方法により、透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムBF23」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film BF23 and transparent packaging material PM23>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film BF1 except that the coating liquid B5 was used instead of the coating liquid B1. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film BF23”.

次に、透明ガスバリア性フィルムBF1の代わりに透明ガスバリア性フィルムBF23を使用したこと以外は、透明包装材料PM1について説明したのと同様の方法により、透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料PM23」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material PM1 except that the transparent gas barrier film BF23 was used instead of the transparent gas barrier film BF1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material PM23”.

<易接着層のTOF−SIMS分析>
透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF23の各々の易接着層について、TOF−SIMSによる分析を行なった。なお、透明ガスバリア性フィルムBF21については、易接着層を設けなかったので、ここでは、TOF−SIMSによる分析は行わなかった。
<TOF-SIMS analysis of easy adhesion layer>
Each easy adhesion layer of the transparent gas barrier films BF1 to BF23 was analyzed by TOF-SIMS. In addition, about the transparent gas barrier film BF21, since the easily bonding layer was not provided, the analysis by TOF-SIMS was not performed here.

TOF−SIMS分析装置としては、アルバック−ファイ社製TRIFT2を用いた。一次イオンとしては69Ga+を用い、1次イオン加速電圧は15kVとした。測定面積は150μm角とし、測定時間は3分とした。測定は帯電補正用電子銃を用いて実施し、正負2次イオン質量スペクトルにより、易接着層からのイオン種を分析した。 As the TOF-SIMS analyzer, TRIFT2 manufactured by ULVAC-PHI was used. 69 Ga + was used as the primary ion, and the primary ion acceleration voltage was 15 kV. The measurement area was 150 μm square, and the measurement time was 3 minutes. The measurement was carried out using a charge correcting electron gun, and the ion species from the easy-adhesion layer were analyzed by positive and negative secondary ion mass spectra.

その結果、透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF18及びBF22乃至BF23の各々の易接着層には、窒素原子含有成分とアジピン酸成分とビスフェノールグリシジルエーテル成分とが存在していると判断された。これに対し、透明ガスバリア性フィルムBF19の易接着層については、窒素原子含有成分とアジピン酸成分とが存在していることは判断されたが、ビスフェノールグリシジルエーテル成分は検出されなかった。さらに、透明ガスバリア性フィルムBF20の易接着層については、窒素原子含有成分とビスフェノールグリシジルエーテル成分とが存在していると判断されたが、アジピン酸成分は検出されなかった。   As a result, it was determined that a nitrogen atom-containing component, an adipic acid component, and a bisphenol glycidyl ether component were present in each easy-adhesion layer of the transparent gas barrier films BF1 to BF18 and BF22 to BF23. On the other hand, regarding the easy adhesion layer of the transparent gas barrier film BF19, it was determined that a nitrogen atom-containing component and an adipic acid component were present, but a bisphenol glycidyl ether component was not detected. Furthermore, although it was judged that the nitrogen atom-containing component and the bisphenol glycidyl ether component were present in the easy adhesion layer of the transparent gas barrier film BF20, the adipic acid component was not detected.

透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF18及びBF22乃至BF23の各々の易接着層について、TOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析によって確認された主なピークは、以下の通りであった。   For each of the easy-adhesion layers of the transparent gas barrier films BF1 to BF18 and BF22 to BF23, main peaks confirmed by positive and negative secondary ion mass spectrum analysis by TOF-SIMS were as follows.

(1)窒素原子含有成分由来のピーク: CNO-
(2)アジピン酸成分由来のピーク群: C672 -、C693 -
(3)ビスフェノールグリシジルエーテル成分由来のピーク群: C911+、C14132 +、C14112 -
<アンカーコート層のTOF−SIMS分析>
透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF23の各々のアンカーコート層について、TOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行なった。なお、透明ガスバリア性フィルムBF22については、アンカーコート層を設けなかったので、TOF−SIMSによる分析は行わなかった。易接着層について行ったのと同様の方法により測定を行い、これにより得られた正及び負の2次イオン質量スペクトルを用いて、アンカーコート層からのイオン種を分析した。
(1) Peak derived from nitrogen atom-containing component: CNO
(2) Peak groups derived from the adipic acid component: C 6 H 7 O 2 , C 6 H 9 O 3
(3) Peak group derived from bisphenol glycidyl ether component: C 9 H 11 O + , C 14 H 13 O 2 + , C 14 H 11 O 2
<TOF-SIMS analysis of anchor coat layer>
Positive and negative secondary ion mass spectrum analysis by TOF-SIMS was performed on each anchor coat layer of the transparent gas barrier films BF1 to BF23. In addition, about transparent gas barrier film BF22, since the anchor coat layer was not provided, the analysis by TOF-SIMS was not performed. Measurement was performed in the same manner as that performed for the easy-adhesion layer, and the positive and negative secondary ion mass spectra obtained thereby were used to analyze the ion species from the anchor coat layer.

透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF21の各々のアンカーコート層には、芳香族系炭化水素成分と窒素原子含有成分とメタクリレート成分とシラン化合物成分とが存在していると判断された。これに対し、透明ガスバリア性フィルムBF23のアンカーコート層については、芳香族系炭化水素成分と窒素原子含有成分とシラン化合物成分とが存在していると判断されたが、メタクリレート成分は検出されなかった。   It was determined that an aromatic hydrocarbon component, a nitrogen atom-containing component, a methacrylate component, and a silane compound component were present in each anchor coat layer of the transparent gas barrier films BF1 to BF21. On the other hand, regarding the anchor coat layer of the transparent gas barrier film BF23, it was determined that the aromatic hydrocarbon component, the nitrogen atom-containing component, and the silane compound component were present, but the methacrylate component was not detected. .

透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF21の各々のアンカーコート層について、TOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析によって確認された主なピークは、以下の通りであった。   For each anchor coat layer of the transparent gas barrier films BF1 to BF21, main peaks confirmed by positive and negative secondary ion mass spectral analysis by TOF-SIMS were as follows.

(1)芳香族炭化水素系成分由来のピーク群: C77 +、C89 +、C97 +、C109 +
(2)窒素原子含有成分由来のピーク群: CN-、CNO-
(3)メタクリレート成分由来のピーク群: C45+、C452 -
(4)シラン化合物成分由来のピーク群: C272Si+、C393Si+
<酸素透過度の測定>
透明ガスバリア性フィルムBF1乃至BF23の各々について、日本工業規格 JIS K7126−1987「プラスチックフィルム及びシートの気体透過度試験方法」で規定されているB法(等圧法)に従って酸素透過度を測定した。この測定は、温度が30℃であり相対湿度が70%の環境中で、Modern Control社製のOxtran2/21を使用して行った。以下の表1に、測定結果を纏める。
(1) Peak groups derived from aromatic hydrocarbon components: C 7 H 7 + , C 8 H 9 + , C 9 H 7 + , C 10 H 9 +
(2) Peak groups derived from nitrogen atom-containing components: CN , CNO
(3) methacrylate component derived peaks: C 4 H 5 O +, C 4 H 5 O 2 -
(4) Peak groups derived from silane compound components: C 2 H 7 O 2 Si + , C 3 H 9 O 3 Si +
<Measurement of oxygen permeability>
About each of transparent gas barrier film BF1 thru | or BF23, the oxygen permeability was measured according to the B method (isobaric method) prescribed | regulated by Japanese Industrial Standards JISK7126-1987 "The gas permeability test method of a plastic film and a sheet | seat." This measurement was performed using an Oxford 2/21 manufactured by Modern Control in an environment where the temperature was 30 ° C. and the relative humidity was 70%. Table 1 below summarizes the measurement results.

<湿潤ラミネート強度の測定>
透明包装材料PM1乃至PM23の各々について、日本工業規格 JIS K6854−3:1999「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第3部:T形はく離」で規定されている試験方法に従って湿潤ラミネート強度を測定した。
<Measurement of wet laminate strength>
For each of the transparent packaging materials PM1 to PM23, according to the test method specified in Japanese Industrial Standards JIS K6854-3: 1999 "Adhesive-Peeling adhesive strength test method-Part 3: T-peeling" It was measured.

すなわち、まず、透明包装材料PM1乃至PM23の各々から幅が15mmの短冊状の試験片を準備した。次いで、各試験片の一端でヒートシール性樹脂層と透明ガスバリア性フィルムとを互いから剥離し、これらをそれぞれ引張試験機のつかみ具に取り付けた。その後、それらの剥離界面を水で湿潤させながら、引張応力を加えて、ヒートシール性樹脂層と透明ガスバリア性フィルムとを互いから剥離させ、剥離長さ(つかみ移動距離)と引張応力との関係を記録した。ここでは、剥離速度は300mm/minとした。そして、最初及び最後の25mmを除いた100mm以上の剥離長さに亘って、力−つかみ移動距離曲線から平均剥離力(N)を求めた。この平均剥離力(N)を湿潤ラミネート強度とした。以下の表1に、測定結果を纏める。   That is, first, a strip-shaped test piece having a width of 15 mm was prepared from each of the transparent packaging materials PM1 to PM23. Next, the heat-sealable resin layer and the transparent gas barrier film were peeled from each other at one end of each test piece, and each was attached to a gripping tool of a tensile tester. Then, applying a tensile stress while moistening the peeling interface with water, the heat-sealable resin layer and the transparent gas barrier film are peeled from each other, and the relationship between the peeling length (gripping distance) and the tensile stress. Was recorded. Here, the peeling speed was 300 mm / min. And average peeling force (N) was calculated | required from the force-grasping movement distance curve over the peeling length of 100 mm or more except the first and the last 25 mm. This average peel force (N) was defined as the wet laminate strength. Table 1 below summarizes the measurement results.

<煮沸処理後における酸素透過度の測定>
透明包装材料PM1乃至PM23の各々を用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。次に、これら包装品を95℃で30分間の煮沸処理に供した。一昼夜放置した後、上述したのと同様の方法により、酸素透過度を測定した。以下の表2及び表3に、測定結果を纏める。
<Measurement of oxygen permeability after boiling treatment>
Using each of the transparent packaging materials PM1 to PM23, a four-side sealed bag having a size of 100 mm × 150 mm was prepared. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. Next, these packages were subjected to a boiling treatment at 95 ° C. for 30 minutes. After being left overnight, the oxygen permeability was measured by the same method as described above. Tables 2 and 3 below summarize the measurement results.

<煮沸処理後における常態ラミネート強度の測定>
透明包装材料PM1乃至PM23の各々を用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。次に、これら包装品を95℃で30分間の煮沸処理に供し、その後、常態ラミネート強度を測定した。
<Measurement of normal laminate strength after boiling>
Using each of the transparent packaging materials PM1 to PM23, a four-side sealed bag having a size of 100 mm × 150 mm was prepared. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. Next, these packaged products were subjected to boiling treatment at 95 ° C. for 30 minutes, and then the normal laminate strength was measured.

具体的には、剥離界面を水で湿潤させなかったこと以外は、湿潤ラミネート強度について説明したのと同様の方法により平均剥離力(N)を求め、この平均剥離力(N)を常態ラミネート強度とした。なお、常態ラミネート強度の測定は、煮沸処理を終了してから1時間以内に行った。以下の表2及び表3に、測定結果を纏める。   Specifically, the average peel force (N) was determined by the same method as described for the wet laminate strength except that the peel interface was not wetted with water, and this average peel force (N) was determined as the normal laminate strength. It was. The normal laminate strength was measured within 1 hour after the boiling treatment was completed. Tables 2 and 3 below summarize the measurement results.

<内容物保存後における常態ラミネート強度の測定>
透明包装材料PM1乃至PM23の各々を用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。これら包装品は、温度が40℃であり、相対湿度が90%の環境中に3ヶ月間放置した。
<Measurement of normal laminate strength after storage of contents>
Using each of the transparent packaging materials PM1 to PM23, a four-side sealed bag having a size of 100 mm × 150 mm was prepared. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. These packages were left for 3 months in an environment having a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%.

その後、これら包装品に使用した透明包装材料PM1乃至PM23について、日本工業規格 JIS K6854−3:1999「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第3部:T形はく離」で規定されている試験方法に従って常態ラミネート強度を測定した。具体的には、剥離界面を水で湿潤させなかったこと以外は、湿潤ラミネート強度について説明したのと同様の方法により平均剥離力(N)を求め、この平均剥離力(N)を常態ラミネート強度とした。以下の表2及び表3に、測定結果を纏める。   Thereafter, for the transparent packaging materials PM1 to PM23 used in these packaging products, the test specified in Japanese Industrial Standards JIS K6854-3: 1999 “Adhesive-Peeling adhesive strength test method-Part 3: T-type peeling”. The normal laminate strength was measured according to the method. Specifically, the average peel force (N) was determined by the same method as described for the wet laminate strength except that the peel interface was not wetted with water, and this average peel force (N) was determined as the normal laminate strength. It was. Tables 2 and 3 below summarize the measurement results.

<落下試験>
透明包装材料PM1乃至PM23の各々を用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を10個ずつ作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。これら包装品は、温度が40℃であり、相対湿度が90%の環境中に3ヶ月間放置した。
<Drop test>
Ten transparent packaging materials having a size of 100 mm × 150 mm were prepared for each of the transparent packaging materials PM1 to PM23. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. These packages were left for 3 months in an environment having a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%.

次いで、これら包装品の各々を、温度が5℃の環境中に3日間放置し、その後、1.5mの高さから50回落下させた。そして、透明包装材料PM1乃至PM23の各々について、この落下試験によって破れた袋の数を求めた。以下の表2及び表3に、試験結果を纏める。

Figure 0005104227
Next, each of these packaged products was left in an environment having a temperature of 5 ° C. for 3 days, and then dropped 50 times from a height of 1.5 m. Then, for each of the transparent packaging materials PM1 to PM23, the number of bags torn by this drop test was determined. Tables 2 and 3 below summarize the test results.
Figure 0005104227

Figure 0005104227
Figure 0005104227

Figure 0005104227
Figure 0005104227

表1乃至表3に示すように、透明包装材料PM19乃至PM23は、湿潤ラミネート強度並びに煮沸処理後及び内容物保存後における常態ラミネート強度が低かった。そして、透明包装材料PM19乃至PM23は、煮沸処理後及び内容物保存後におけるガスバリア性が著しく低く、また、これらを用いて製造した包装体は、内容物保存後の落下試験で一部又は全てが破損した。   As shown in Tables 1 to 3, the transparent packaging materials PM19 to PM23 had low wet laminate strength and normal laminate strength after boiling and storage of contents. And transparent packaging materials PM19 thru | or PM23 have remarkably low gas-barrier property after a boiling process and the content preservation | save, and the packaging body manufactured using these is partly or all in the drop test after the content preservation | save. Damaged.

これに対し、透明包装材料PM1乃至18は、透明包装材料PM19乃至PM23と比較して、湿潤ラミネート強度並びに煮沸処理後及び内容物保存後における常態ラミネート強度が高かった。そして、透明包装材料PM1乃至18は、煮沸処理後及び内容物保存後におけるガスバリア性が十分に高く、また、これらを用いて製造した包装体は、内容物保存後の落下試験で破損を生じることはなかった。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
[1]ポリアミド樹脂からなる基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含んだ易接着層と、
前記易接着層上に形成され、ポリオールとイソシアネート化合物とを含んだ組成物の反応生成物を含んだアンカーコート層と、
前記易接着層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層とを具備したことを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。
[2]前記易接着層の飛行時間型2次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行ったときに、その結果は、窒素原子含有成分とアジピン酸成分とビスフェノールグリシジルエーテル成分との存在を示すことを特徴とする項1に記載の透明ガスバリア性フィルム。
[3]前記易接着層の飛行時間型2次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行なったときに、窒素原子含有成分由来のピークとしてCNO - のピークと、アジピン酸成分由来のピーク群としてC 6 7 2 - 及びC 6 9 3 - のピークと、ビスフェノールグリシジルエーテル成分由来のピーク群としてC 9 11 + 、C 14 13 2 + 及びC 14 11 2 - のピークとが検出されることを特徴とする項1に記載の透明ガスバリア性フィルム。
[4]前記易接着層は、水分散性ポリエステルポリウレタン又は水分散性ポリエステルポリウレタンポリ尿素樹脂を含有していることを特徴とする項1乃至3の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[5]無延伸の前記基材フィルム上に前記易接着層の材料を塗布し、その後、前記基材フィルムを同時二軸延伸していることを特徴とする項1乃至4の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[6]縦方向に一軸延伸した前記基材フィルム上に前記易接着層の材料を塗布し、その後、前記基材フィルムを横方向に延伸していることを特徴とする項1乃至4の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[7]前記アンカーコート層は、アクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤又はその加水分解生成物との反応生成物を含んだことを特徴とする項1乃至6の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[8]前記無機酸化物層は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、及びそれらの2以上を含んだ混合物からなる群より選択される材料からなることを特徴とする項1乃至7の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[9]前記無機酸化物層上に形成され、透明樹脂と無機物とを含んだ混合物からなるガスバリア性被膜をさらに具備したことを特徴とする項1乃至8の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
[10]前記ガスバリア性被膜は、水溶性高分子とテトラアルコキシシラン又はその加水分解生成物とトリアルコキシシラン又はその加水分解生成物とを含有した溶液を前記無機酸化物層上に塗布し、これにより得られた塗膜を乾燥させることにより形成されたことを特徴とする項9に記載のガスバリア性フィルム。
[11]前記トリアルコキシシランの珪素と結合したアルコキシ基以外の有機官能基は疎水性有機官能基であることを特徴とする項10に記載のガスバリア性フィルム。
[12]前記ガスバリア性被膜は、水と、水溶性高分子と、金属アルコキシド、その加水分解生成物、及び塩化錫からなる群より選択される少なくとも1つの化合物とを含有した溶液を前記無機酸化物層上に塗布し、これにより得られた塗膜を乾燥させることにより形成されたことを特徴とする項9に記載のガスバリア性フィルム。
[13]項1乃至12の何れか1項に記載のガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに貼り合わされると共に前記無機酸化物層を間に挟んで前記基材フィルムと向き合ったヒートシール性樹脂層とを具備したことを特徴とする透明包装材料。
[14]項13に記載の包装材料を具備したことを特徴とする包装体。
On the other hand, the transparent packaging materials PM1 to 18 had higher wet laminate strength and normal laminate strength after boiling treatment and storage of the contents than the transparent packaging materials PM19 to PM23. And transparent packaging material PM1 thru | or 18 has the gas barrier property after boiling processing and the preservation | save of a content high enough, and the package manufactured using these produces a failure | damage by the drop test after a preservation | save of contents. There was no.
The invention described in the original claims is appended below.
[1] a base film made of polyamide resin;
Formed on one main surface of the base film, an easy adhesion layer containing nitrogen atoms, adipic acid and bisphenol glycidyl ether;
An anchor coat layer formed on the easy-adhesion layer and containing a reaction product of a composition containing a polyol and an isocyanate compound;
A transparent gas barrier film comprising an inorganic oxide layer formed on the easy adhesion layer by a vapor deposition method.
[2] When the positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the easy-adhesion layer with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer was performed, the results were as follows: nitrogen atom-containing component, adipic acid component, bisphenol glycidyl ether Item 2. The transparent gas barrier film according to Item 1, which exhibits the presence of a component.
[3] When positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the easy-adhesion layer using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer is performed, a peak of CNO as a peak derived from a nitrogen atom-containing component , and adipic acid C 6 H 7 O 2 as peaks derived from the component - and C 6 H 9 O 3 - and the peak of, C 9 as a peak group derived from bisphenol glycidyl ether component H 11 O +, C 14 H 13 O 2 + and C 14 H 11 O 2 - of the transparent gas barrier film according to claim 1, characterized in that the peak is detected.
[4] The gas barrier film according to any one of [1] to [3], wherein the easy-adhesion layer contains a water-dispersible polyester polyurethane or a water-dispersible polyester polyurethane polyurea resin.
[5] Any one of Items 1 to 4, wherein the easy-adhesion layer material is applied onto the non-stretched base film, and then the base film is simultaneously biaxially stretched. The gas barrier film according to 1.
[6] The material according to any one of Items 1 to 4, wherein the easy-adhesion layer material is applied on the base film uniaxially stretched in the longitudinal direction, and then the base film is stretched in the lateral direction. 2. The gas barrier film according to claim 1.
[7] The anchor coat layer according to any one of items 1 to 6, wherein the anchor coat layer includes a reaction product of an acrylic polyol, an isocyanate compound, a silane coupling agent, or a hydrolysis product thereof. Gas barrier film.
[8] The inorganic oxide layer is made of a material selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, and a mixture containing two or more thereof. The gas barrier film according to any one of the above.
[9] The gas barrier property according to any one of items 1 to 8, further comprising a gas barrier film formed on the inorganic oxide layer and made of a mixture containing a transparent resin and an inorganic substance. the film.
[10] The gas barrier coating is formed by applying a solution containing a water-soluble polymer, a tetraalkoxysilane or a hydrolysis product thereof, and a trialkoxysilane or a hydrolysis product thereof on the inorganic oxide layer. Item 10. The gas barrier film according to Item 9, wherein the gas barrier film is formed by drying a coating film obtained by the method.
[11] The gas barrier film according to [10], wherein the organic functional group other than the alkoxy group bonded to silicon of the trialkoxysilane is a hydrophobic organic functional group.
[12] The gas barrier coating comprises a solution containing water, a water-soluble polymer, at least one compound selected from the group consisting of a metal alkoxide, a hydrolysis product thereof, and tin chloride. Item 10. The gas barrier film according to Item 9, wherein the gas barrier film is formed by applying on a physical layer and drying a coating film obtained thereby.
[13] The heat-sealing resin bonded to the gas barrier film according to any one of items 1 to 12 and the base film with the inorganic oxide layer sandwiched between the gas barrier film and the gas barrier film. A transparent packaging material comprising a layer.
[14] A package comprising the packaging material according to item 13.

本発明の一態様に係る透明包装材料を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the transparent packaging material which concerns on 1 aspect of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…透明包装材料、11…透明ガスバリア性フィルム、12…接着剤層、13…ヒートシール性樹脂層、111…基材フィルム、112…易接着層、113…アンカーコート層、114…無機酸化物層、115…ガスバリア性被膜。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Transparent packaging material, 11 ... Transparent gas barrier film, 12 ... Adhesive layer, 13 ... Heat-sealable resin layer, 111 ... Base film, 112 ... Easy-adhesion layer, 113 ... Anchor coat layer, 114 ... Inorganic oxide Layer, 115 ... gas barrier coating.

Claims (12)

ポリアミド樹脂からなる基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含んだ易接着層と、
前記易接着層上に形成され、ポリオールとイソシアネート化合物とを含んだ組成物の反応生成物を含んだアンカーコート層と、
前記アンカーコート層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層と
を具備し、前記易接着層の飛行時間型2次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行なったときに、窒素原子含有成分由来のピークとしてCNO - のピークと、アジピン酸成分由来のピーク群としてC 6 7 2 - 及びC 6 9 3 - のピークと、ビスフェノールグリシジルエーテル成分由来のピーク群としてC 9 11 + 、C 14 13 2 + 及びC 14 11 2 - のピークとが検出されることを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。
A base film made of polyamide resin;
Formed on one main surface of the base film, an easy adhesion layer containing nitrogen atoms, adipic acid and bisphenol glycidyl ether;
An anchor coat layer formed on the easy-adhesion layer and containing a reaction product of a composition containing a polyol and an isocyanate compound;
An inorganic oxide layer formed on the anchor coat layer by a vapor deposition method, and performing positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the easy-adhesion layer using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer. CNO peak as a peak derived from a nitrogen atom-containing component , C 6 H 7 O 2 and C 6 H 9 O 3 peaks as a peak group derived from an adipic acid component, and a bisphenol glycidyl ether component transparent gas barrier film that of the peak, characterized in that is detected - C 9 H 11 O + as a peak group, C 14 H 13 O 2 + and C 14 H 11 O 2.
前記易接着層は、水分散性ポリエステルポリウレタン又は水分散性ポリエステルポリウレタンポリ尿素樹脂を含有していることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1, wherein the easy adhesion layer contains a water-dispersible polyester polyurethane or a water-dispersible polyester polyurethane polyurea resin. 無延伸の前記基材フィルム上に前記易接着層の材料を塗布し、その後、前記基材フィルムを同時二軸延伸していることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1 or 2 , wherein the material for the easy-adhesion layer is applied onto the non-stretched base film, and then the base film is simultaneously biaxially stretched. 縦方向に一軸延伸した前記基材フィルム上に前記易接着層の材料を塗布し、その後、前記基材フィルムを横方向に延伸していることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier according to claim 1 or 2 , wherein the easy-adhesion layer material is applied onto the base film that has been uniaxially stretched in the longitudinal direction, and then the base film is stretched in the transverse direction. Sex film. 前記アンカーコート層は、アクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤又はその加水分解生成物との反応生成物を含んだことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier property according to any one of claims 1 to 4 , wherein the anchor coat layer includes a reaction product of an acrylic polyol, an isocyanate compound, a silane coupling agent, or a hydrolysis product thereof. the film. 前記無機酸化物層は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、及びそれらの2以上を含んだ混合物からなる群より選択される材料からなることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。 The inorganic oxide layer include aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, and any of claims 1 to 5, characterized in that it consists of a material selected from the group consisting of a mixture containing two or more of them 2. The gas barrier film according to claim 1. 前記無機酸化物層上に形成され、透明樹脂と無機物とを含んだ混合物からなるガスバリア性被膜をさらに具備したことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to any one of claims 1 to 6 , further comprising a gas barrier film formed on the inorganic oxide layer and made of a mixture containing a transparent resin and an inorganic substance. 前記ガスバリア性被膜は、水溶性高分子とテトラアルコキシシラン又はその加水分解生成物とトリアルコキシシラン又はその加水分解生成物とを含有した溶液を前記無機酸化物層上に塗布し、これにより得られた塗膜を乾燥させることにより形成されたことを特徴とする請求項7に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier coating is obtained by applying a solution containing a water-soluble polymer, a tetraalkoxysilane or a hydrolysis product thereof, and a trialkoxysilane or a hydrolysis product thereof on the inorganic oxide layer. The gas barrier film according to claim 7 , wherein the gas barrier film is formed by drying the coated film. 前記トリアルコキシシランの珪素と結合したアルコキシ基以外の有機官能基は疎水性有機官能基であることを特徴とする請求項8に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 8 , wherein the organic functional group other than the alkoxy group bonded to silicon of the trialkoxysilane is a hydrophobic organic functional group. 前記ガスバリア性被膜は、水と、水溶性高分子と、金属アルコキシド、その加水分解生成物、及び塩化錫からなる群より選択される少なくとも1つの化合物とを含有した溶液を前記無機酸化物層上に塗布し、これにより得られた塗膜を乾燥させることにより形成されたことを特徴とする請求項7に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier coating comprises a solution containing water, a water-soluble polymer, a metal alkoxide, a hydrolysis product thereof, and at least one compound selected from the group consisting of tin chloride on the inorganic oxide layer. The gas barrier film according to claim 7 , wherein the gas barrier film is formed by applying to a substrate and drying the coating film obtained thereby. 請求項1乃至10の何れか1項に記載のガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに貼り合わされると共に前記無機酸化物層を間に挟んで前記基材フィルムと向き合ったヒートシール性樹脂層とを具備したことを特徴とする透明包装材料。 A gas barrier film according to any one of claims 1 to 10 , and a heat-sealable resin layer bonded to the gas barrier film and facing the base film with the inorganic oxide layer interposed therebetween A transparent packaging material characterized by comprising: 請求項11に記載の包装材料を具備したことを特徴とする包装体。 A package comprising the packaging material according to claim 11 .
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