JP5056099B2 - Curable resin composition, resin-impregnated base material, prepreg, substrate, metal foil with adhesive layer and printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、樹脂含浸基材、プリプレグ、基板、接着層付金属箔及びプリント配線板に関する。   The present invention relates to a curable resin composition, a resin-impregnated base material, a prepreg, a substrate, a metal foil with an adhesive layer, and a printed wiring board.

近年、電子機器の小型化、高性能化が急速に進むのに伴って電子部品の搭載密度が高くなっている。そのため、プリント配線板の多層化、スルーホールの小径化及び穴間隔の減少等の要求が益々高まり、プリント配線板には電気絶縁特性が厳しく要求されている。電気絶縁性の樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂(特許文献1参照)、ビスマレイミドートリアジン樹脂などのような熱硬化性樹脂が汎用され、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等のような熱可塑性樹脂が用いられることもある。   In recent years, the mounting density of electronic components has increased as electronic devices have been rapidly reduced in size and performance. For this reason, demands for multilayered printed wiring boards, reduced through-hole diameters, and reduced hole spacing are increasing, and printed wiring boards are strictly required to have electrical insulation characteristics. As the electrically insulating resin, thermosetting resins such as phenol resin, epoxy resin, polyimide resin, polyamideimide resin (see Patent Document 1), bismaleimide-triazine resin, etc. are widely used. Fluorine resin, polyphenylene ether resin A thermoplastic resin such as the above may be used.

一方、プリント配線板の小型化、高密度化が進むことにより、その実装形態はピン挿入型から表面実装型へ、更にはプラステック基板を使用したBGA(ボールグリッドアレイ)に代表されるエリアアレイ型へと進んでいる。BGAのようなベアチップを直接実装する基板においては、基板とチップとの接続は熱超音波圧着によるワイヤボンディングで行うのが一般的である。このため、ベアチップを実装する基板は150℃以上の高温にさらされることになり、基板中の電気絶縁性の樹脂にはある程度の高い耐熱性が必要とされる。また、基板には一度実装したチップを外す、いわゆるリペアが可能であることも要求される場合がある。リペアにおいては、実装したチップを外す際、及び再度チップを実装する際に、基板に対して最初のチップ実装時と同程度の熱が加えられる。従って、リペア性の必要とされる基板はサイクル的に加えられる熱履歴に耐える耐熱衝撃性も高めることが要求されが、一般に電気絶縁性の樹脂は、この耐熱衝撃性の不足により、繊維基材と樹脂の間で剥離を起こす等の不具合を生じる場合があった。この点でも基板中の電気絶縁性の樹脂には高い耐熱性が要求される。   On the other hand, with the progress of miniaturization and high density of printed wiring boards, the mounting form is changed from a pin insertion type to a surface mounting type, and further an area array represented by BGA (ball grid array) using a plastic substrate. Progressing to mold. In a substrate on which a bare chip such as a BGA is directly mounted, the connection between the substrate and the chip is generally performed by wire bonding by thermosonic bonding. For this reason, the substrate on which the bare chip is mounted is exposed to a high temperature of 150 ° C. or higher, and a certain degree of high heat resistance is required for the electrically insulating resin in the substrate. In addition, it may be required that a so-called repair is possible, in which a chip once mounted is removed from the substrate. In repair, when the mounted chip is removed and the chip is mounted again, the same amount of heat is applied to the substrate as in the first chip mounting. Therefore, a substrate that requires repairability is required to have a high thermal shock resistance that can withstand a heat history that is cyclically applied. Generally, an electrically insulating resin is a fiber base material due to the lack of thermal shock resistance. In some cases, such as peeling between the resin and the resin. Also in this respect, high heat resistance is required for the electrically insulating resin in the substrate.

また、環境問題の観点から半田の鉛フリー化が進んでいるが、これに伴って半田の溶融温度が高温化するため、基板にはより高い半田耐熱性が要求される。なお、環境問題の点からは、基板におけるハロゲンフリーの要求も高まっており、臭素系難燃剤の使用も難しくなってきている。
特開2005−325162号公報
In addition, lead-free solder is being promoted from the viewpoint of environmental problems. However, since the melting temperature of the solder is increased accordingly, the substrate is required to have higher solder heat resistance. From the viewpoint of environmental problems, the requirement for halogen-free substrates is also increasing, and the use of brominated flame retardants has become difficult.
JP 2005-325162 A

しかしながら、従来の樹脂組成物は、ハロゲンフリーの難燃性、耐熱性、可とう性及び接着性の全てにおいて、十分に満足できるレベルを達成することは困難であった。   However, it has been difficult for conventional resin compositions to achieve a sufficiently satisfactory level in all of the halogen-free flame retardancy, heat resistance, flexibility and adhesiveness.

そこで、本発明は、ハロゲンフリーでありながら十分な難燃性を有すると共に、優れた可とう性、耐熱性及び接着性を有することが可能な硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明はこの硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリプレグ、樹脂含浸基材、基板、接着層付金属箔及びプリント配線板を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition that has sufficient flame retardancy while being halogen-free, and can have excellent flexibility, heat resistance, and adhesiveness. . Moreover, an object of this invention is to provide the prepreg obtained using this curable resin composition, the resin impregnation base material, a board | substrate, metal foil with an adhesive layer, and a printed wiring board.

本発明の硬化性樹脂組成物は、アクリルゴムと、熱硬化性樹脂と、リン化合物と、尿素及び/又は尿素誘導体と、を含有するものである。   The curable resin composition of the present invention contains an acrylic rubber, a thermosetting resin, a phosphorus compound, and urea and / or a urea derivative.

本発明の硬化性樹脂組成物は上記成分を組み合わせて用いることにより、ハロゲンフリーでありながら十分な難燃性を有すると共に、優れた可とう性、耐熱性及び接着性を有することが可能である。また、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリント配線板は金属マイグレーションによる絶縁不良や導通破壊等をより良好に防ぐことが可能である。   The curable resin composition of the present invention can be used in combination with the above components, and has sufficient flame retardancy and excellent flexibility, heat resistance and adhesiveness while being halogen-free. . Moreover, the printed wiring board obtained using the curable resin composition of this invention can prevent the insulation defect, conduction | electrical_connection breakdown, etc. by metal migration more favorably.

硬化性樹脂組成物は、尿素誘導体として尿素シランを含有することが好ましい。これにより、金属と樹脂間の接着性がさらに向上することが可能となる。   The curable resin composition preferably contains urea silane as a urea derivative. Thereby, the adhesiveness between the metal and the resin can be further improved.

アクリルゴムはグリシジル基を有し、アクリルゴムのエポキシ価は2〜18であることが好ましい。このようなアクリルゴムを含有することにより、耐熱性や絶縁特性に優れると共に、可とう性が向上するという効果がより顕著なものとなる。   The acrylic rubber has a glycidyl group, and the epoxy value of the acrylic rubber is preferably 2-18. By including such an acrylic rubber, the effect of improving the flexibility as well as being excellent in heat resistance and insulation properties becomes more remarkable.

アクリルゴムの重量平均分子量は1万〜200万であることが好ましい。重量平均分子量をこのような範囲内に調整することにより、硬化性樹脂組成物の可とう性は更に向上することが可能である。   The weight average molecular weight of the acrylic rubber is preferably 10,000 to 2,000,000. By adjusting the weight average molecular weight within such a range, the flexibility of the curable resin composition can be further improved.

アクリルゴムの配合量は、硬化性樹脂組成物全体量に対して、10〜70質量%であることが好ましい。   The blending amount of the acrylic rubber is preferably 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the curable resin composition.

熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂又はフェノール樹脂であることが好ましく、フェノール樹脂はフェノール性水酸基を2個以上含有することが好ましい。これにより硬化性樹脂組成物の耐熱性や接着性が更に改善される。   The thermosetting resin is preferably an epoxy resin or a phenol resin, and the phenol resin preferably contains two or more phenolic hydroxyl groups. Thereby, the heat resistance and adhesiveness of the curable resin composition are further improved.

リン化合物の一部はフィラーとして含有されることが好ましい。   Part of the phosphorus compound is preferably contained as a filler.

本発明の樹脂含浸基材は、繊維基材と、これに含浸している上記硬化性樹脂組成物と、を有する。そのとき、繊維基材の厚さが100μm以下であることが好ましい。また、樹脂含浸基材はプリプレグである場合もある。ここで、本明細書において、硬化性樹脂組成物がA−ステージ、B−ステージ又はC−ステージであるものを「樹脂含浸基材」といい、樹脂含浸基材のうち、硬化性樹脂組成物がB−ステージであるものを「プリプレグ」という。   The resin-impregnated base material of the present invention has a fiber base material and the curable resin composition impregnated therein. At that time, the thickness of the fiber base material is preferably 100 μm or less. The resin-impregnated base material may be a prepreg. Here, in the present specification, the curable resin composition that is A-stage, B-stage or C-stage is referred to as a “resin-impregnated substrate”, and among the resin-impregnated substrates, the curable resin composition. What is B-stage is called "prepreg".

基板は樹脂含浸基材を加熱及び加圧して得られる。   The substrate is obtained by heating and pressing a resin-impregnated base material.

接着層付金属箔は、金属箔と、金属箔上に設けられた硬化性樹脂組成物からなる接着層とを備える。   The metal foil with an adhesive layer includes a metal foil and an adhesive layer made of a curable resin composition provided on the metal foil.

基板及び接着層付金属箔は本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成されることにより、可とう性、耐熱性、寸法安定性が優れると共に、接着層と繊維基材又は金属箔との接着性が優れている。   The substrate and the metal foil with an adhesive layer are formed using the curable resin composition of the present invention, so that the flexibility, heat resistance, and dimensional stability are excellent, and the adhesive layer and the fiber base material or the metal foil Excellent adhesion.

また、プリント配線板は、基板と、上記基板の少なくとも一方面上に設けられた金属からなる配線パターンとを備える。プリント配線板は本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成されることにより、折り曲げ可能であり、電子機器の筐体内に高密度な回路を収納することが可能である。   The printed wiring board includes a substrate and a wiring pattern made of metal provided on at least one surface of the substrate. By forming the printed wiring board using the curable resin composition of the present invention, the printed wiring board can be bent, and a high-density circuit can be accommodated in the casing of the electronic device.

本発明によれば、ハロゲンフリーでありながら十分な難燃性を有すると共に、優れた可とう性、耐熱性及び接着性を有することが可能な硬化性樹脂組成物が提供される。また、本発明によればこの硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリプレグ、樹脂含浸基材、基板、接着層付金属箔及びプリント配線板が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being halogen-free, while having sufficient flame retardance, the curable resin composition which can have the outstanding flexibility, heat resistance, and adhesiveness is provided. Moreover, according to this invention, the prepreg obtained using this curable resin composition, the resin impregnation base material, a board | substrate, metal foil with an adhesive layer, and a printed wiring board are provided.

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios. Further, “(meth) acrylate” in the present specification means “acrylate” and “methacrylate” corresponding thereto.

図1は、本発明によるプリプレグの一実施形態を示す部分斜視図である。図1に示すプリプレグ100は、繊維基材と、これに含浸している硬化性樹脂組成物と、で構成されるシート状のものである。以下、硬化性樹脂組成物、繊維基材、プリプレグの形成方法の順で説明する。   FIG. 1 is a partial perspective view showing an embodiment of a prepreg according to the present invention. A prepreg 100 shown in FIG. 1 is a sheet-like material composed of a fiber base material and a curable resin composition impregnated therein. Hereinafter, it demonstrates in order of the formation method of curable resin composition, a fiber base material, and a prepreg.

プリプレグ100中の硬化性樹脂組成物は、アクリルゴムと、熱硬化性樹脂と、リン化合物と、尿素及び/又は尿素誘導体とを含有している。プリプレグ100中の硬化性樹脂組成物は、B−ステージ状態のものである。   The curable resin composition in the prepreg 100 contains acrylic rubber, a thermosetting resin, a phosphorus compound, and urea and / or a urea derivative. The curable resin composition in the prepreg 100 is in the B-stage state.

アクリルゴムは、主として(メタ)アクリル酸アルキルエステルをモノマーとする共重合体からなるゴムである。共重合体は一般に、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと2重結合を有する化合物とを共重合することにより生成される。(メタ)アクリル酸アルキルエステルにおいて、アルキル基が置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましい。アルキル基の置換基としては、脂環式基、グリシジル基、水酸基を有する炭素数1〜6のアルキル基、含窒素環状基等が挙げられる。2重結合を有する化合物は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合できる化合物であれば特に制限されない。   Acrylic rubber is a rubber mainly composed of a copolymer containing (meth) acrylic acid alkyl ester as a monomer. The copolymer is generally produced by copolymerizing a (meth) acrylic acid alkyl ester and a compound having a double bond. In the (meth) acrylic acid alkyl ester, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent of the alkyl group include an alicyclic group, a glycidyl group, a C1-C6 alkyl group having a hydroxyl group, and a nitrogen-containing cyclic group. The compound having a double bond is not particularly limited as long as it is a compound that can be copolymerized with a (meth) acrylic acid alkyl ester.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸エチレングリコールメチルエーテル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸アミド、アクリル酸イソデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸アリル、アクリル酸N−ビニルピロリドン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸エチレングリコールメチルエーテル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸アミド、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸N−ビニルピロリドン、メタクリル酸ジメチルアミノエチルが挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol methyl ether acrylate, Cyclohexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, acrylate amide, isodecyl acrylate, octadecyl acrylate, lauryl acrylate, allyl acrylate, N-vinylpyrrolidone acrylate, methacryl Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methacrylate Lenglycol methyl ether, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, isobornyl methacrylate, methacrylic acid amide, isodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, lauryl methacrylate, allyl methacrylate, N methacrylate -Vinylpyrrolidone and dimethylaminoethyl methacrylate are mentioned.

アクリルゴムはグリシジル基を有することが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルとして(メタ)アクリル酸グリシジルを用いることが好ましい。アクリルゴムのエポキシ価は、(メタ)アクリル酸グリシジルとこれと共重合可能な他のモノマーとを共重合する際、共重合比を適宜調整することで調節可能である。   The acrylic rubber preferably has a glycidyl group, and glycidyl (meth) acrylate is preferably used as the (meth) acrylic ester. The epoxy value of the acrylic rubber can be adjusted by appropriately adjusting the copolymerization ratio when copolymerizing glycidyl (meth) acrylate and another monomer copolymerizable therewith.

アクリルゴムのエポキシ価は2〜18当量/kgであることが好ましく、2〜8当量/kgであることがより好ましい。エポキシ価が2当量/kg未満であると、硬化物のガラス転移温度の低下によって基板の耐熱性が低下する傾向があり、18当量/kgを越えると、貯蔵弾性率の上昇によって基板の寸法安定性が低下する傾向がある。通常、(メタ)アクリル酸グリシジル100重量部に対して、これ以外のモノマーの比率を5〜15重量部とすることで、2〜18当量/kgのエポキシ価を有するアクリルゴムが得られる。   The epoxy value of the acrylic rubber is preferably 2 to 18 equivalent / kg, and more preferably 2 to 8 equivalent / kg. When the epoxy value is less than 2 equivalents / kg, the heat resistance of the substrate tends to decrease due to a decrease in the glass transition temperature of the cured product. When the epoxy value exceeds 18 equivalents / kg, the dimensional stability of the substrate increases due to an increase in storage elastic modulus. Tend to decrease. Usually, the acrylic rubber which has an epoxy value of 2-18 equivalent / kg is obtained by making the ratio of a monomer other than this into 5-15 weight part with respect to 100 weight part of glycidyl (meth) acrylates.

エポキシ基を有するアクリルゴムの市販品として、例えば、「HTR860P3」(ナガセケムテックス株式会社製、商品名、エポキシ価3.05)が入手可能である。   As a commercially available product of acrylic rubber having an epoxy group, for example, “HTR860P3” (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name, epoxy value 3.05) is available.

アクリルゴムの重量平均分子量は、1万〜200万であることが好ましく、耐熱性を向上させる観点から5万〜150万であることがより好ましく、プリプレグのタックを低減させる観点から、30万〜150万であることが更に好ましい。上記の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)分析によって測定される値であって、標準ポリスチレン換算値のことを意味する。GPC分析は、テトラヒドロフラン(THF)を溶離液として用いて行うことができる。   The weight average molecular weight of the acrylic rubber is preferably from 10,000 to 2,000,000, more preferably from 50,000 to 1,500,000 from the viewpoint of improving heat resistance, and from the viewpoint of reducing tackiness of the prepreg, from 300,000 to More preferably, it is 1.5 million. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) analysis and means a standard polystyrene equivalent value. GPC analysis can be performed using tetrahydrofuran (THF) as the eluent.

アクリルゴムは、例えば、ラジカルを発生させるラジカル重合開始剤を用いたラジカル重合により得られる。ラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、過安息香酸tert−ブチル、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩、クメンヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジt―ブチルペルオキシド、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、t―ブチルペルイソブチレート、t―ブチルペルピバレート、過酸化水素/第一鉄塩、過硫酸塩/酸性亜硫酸ナトリウム、クメンヒドロペルオキシド/第一鉄塩、過酸化ベンゾイル/ジメチルアニリン等が挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせてもよい。   The acrylic rubber is obtained, for example, by radical polymerization using a radical polymerization initiator that generates radicals. Radical polymerization initiators include persulfates such as azobisisobutyronitrile (AIBN), tert-butyl perbenzoate, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, potassium persulfate, cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide Dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, t-butyl perisobutyrate, t-butyl perpivalate, hydrogen peroxide / ferrous salt, Examples thereof include persulfate / sodium acid sulfite, cumene hydroperoxide / ferrous salt, benzoyl peroxide / dimethylaniline, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

硬化性樹脂組成物において、アクリルゴムの配合量は、硬化性樹脂組成物全体量に対して10〜70質量%であることが好ましい。アクリルゴムの配合量が10質量%未満であるとガラス転移温度が急激に低下して、耐熱性が低下する傾向にあり、70質量%を超えるとガラス布等の繊維基材中に空隙が残り易くなる傾向にある。   In the curable resin composition, the blending amount of the acrylic rubber is preferably 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the curable resin composition. When the blending amount of the acrylic rubber is less than 10% by mass, the glass transition temperature is drastically lowered and the heat resistance tends to be lowered, and when it exceeds 70% by mass, voids remain in the fiber base material such as glass cloth. It tends to be easier.

アクリルゴムには、必要に応じて、イソシアネート、メラミン等の架橋剤、エポキシ樹脂等の高分子化合物、ゴム系エラストマ、リン系化合物等の難燃剤、シリカ等の無機充填剤、導電性粒子、カップリング剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、イオントラップ剤等を配合して用いてもよい。   As needed, acrylic rubber includes crosslinkers such as isocyanate and melamine, polymer compounds such as epoxy resins, flame retardants such as rubber elastomers and phosphorus compounds, inorganic fillers such as silica, conductive particles, cups You may mix | blend and use a ring agent, a pigment, a leveling agent, an antifoamer, an ion trap agent, etc.

熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂やフェノール樹脂が挙げられる。   Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin and a phenol resin.

エポキシ樹脂は、架橋性官能基としてのエポキシ基を1分子当たりに2個以上有するポリエポキシ化合物である。そのエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、アラルキレン骨格含有エポキシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールサリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、低級アルキル基置換フェノールサリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、多官能グリシジルアミン型エポキシ樹脂及び多官能脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The epoxy resin is a polyepoxy compound having two or more epoxy groups as a crosslinkable functional group per molecule. The epoxy resin includes bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, naphthalene skeleton. -Containing epoxy resin, aralkylene skeleton-containing epoxy resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin, phenol salicylaldehyde novolak type epoxy resin, lower alkyl group-substituted phenol salicylaldehyde novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene skeleton containing epoxy resin, polyfunctional glycidyl amine type An epoxy resin, a polyfunctional alicyclic epoxy resin, etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂としてNC−3000H(日本化薬株式会社製、商品名)、リン含有エポキシ樹脂としてZX−1548(東都化成株式会社製、商品名)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としてEPICLON N−660(大日本インキ株式会社製、商品名)が挙げられる。   NC-3000H (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a biphenyl aralkyl type epoxy resin, ZX-1548 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) as a phosphorus-containing epoxy resin, EPICLON N-660 as a cresol novolac type epoxy resin (Trade name, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.).

フェノール樹脂は、架橋性官能基としてのフェノール性水酸基を1分子当たり2個以上有する多官能のフェノール樹脂であることが好ましい。そのフェノール樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、クレゾール樹脂等の分子内にフェノール環又はクレゾール環を複数個含有する化合物が挙げられる。これらは必要に応じて2種以上を組み合わせて用いてもよい。フェノール樹脂の市販品として、例えば、アミノトリアジン変性ノボラック樹脂のフェノライトLA−1356(大日本インキ(株)社製、商品名)、及びビフェニルノボラックのMEH−7851(明和化成(株)社製、商品名)が挙げられる。   The phenol resin is preferably a polyfunctional phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups per molecule as a crosslinkable functional group. Examples of the phenol resin include compounds containing a plurality of phenol rings or cresol rings in the molecule such as phenol resin and cresol resin. You may use these in combination of 2 or more type as needed. Examples of commercially available phenolic resins include aminotriazine-modified novolak resin Phenolite LA-1356 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., trade name), and biphenyl novolac MEH-7851 (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.). Product name).

リン化合物は難燃剤として硬化性樹脂組成物に含有される。リン化合物として、例えば、モノマー型リン酸エステル、縮合型リン酸エステル、赤燐、ポリリン酸及びホスフェゼン化合物が挙げられる。これらは単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。リン化合物の一部はフィラーとして硬化性樹脂組成物中に存在することが好ましい。特に、硬化後において、不溶性のフィラーとしてリン化合物が存在することが好ましい。   The phosphorus compound is contained in the curable resin composition as a flame retardant. Examples of phosphorus compounds include monomeric phosphate esters, condensed phosphate esters, red phosphorus, polyphosphoric acid, and phosphazene compounds. You may use these individually or in combination of 2 or more types. Part of the phosphorus compound is preferably present as a filler in the curable resin composition. In particular, it is preferable that a phosphorus compound is present as an insoluble filler after curing.

リン化合物の市販品として、例えば、モノマー型リン酸エステルである「レオフォスTPPP」(味の素ファインテクノ(株)社製、商品名)、縮合型リン酸エステルである「レオフォスRDP」、「レオフォスBAPP」(味の素ファインテクノ(株)社製、商品名)、赤燐である「ノーバクエル」(燐化学工業(株)社製、商品名)、「ヒシガード」(日本化学工業(株)社製、商品名)、ポリリン酸である「PMP100」(日産化学(株)社製、商品名)、「エクソリットOP1311」(クラリアントジャパン(株)社製、商品名)、フォスファゼンである「SBP100」(大塚化学(株)社製、商品名)が入手可能である。また、リン化合物を含むフィラーとして、「OP930」(クラリアントジャパン(株)社製、商品名)、「HCA−HQ」(三光(株)社製、商品名)が市販品として入手可能である。   Commercially available phosphorus compounds include, for example, “Reophos TPPP” (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) which is a monomeric phosphate ester, “Leophos RDP” and “Leophos BAPP” which are condensed phosphate esters. (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name), red phosphorus “Nobaquel” (Rin Chemical Industry Co., Ltd., trade name), “Hishiguard” (Nippon Chemical Industry Co., Ltd., trade name) ), “PMP100” (trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), “Exorit OP1311” (trade name, manufactured by Clariant Japan Ltd.), “SBP100” (Otsuka Chemical Co., Ltd.) ) And product name) are available. Moreover, as a filler containing a phosphorus compound, “OP930” (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd., trade name) and “HCA-HQ” (manufactured by Sanko Co., Ltd., trade name) are commercially available.

硬化性樹脂組成物中のリン化合物の配合量は0.1〜10質量%であることが好ましい。この含有量が0.1質量%未満であると難燃性が低下する傾向があり、10質量%を超えると可とう性が低下する傾向がある。   It is preferable that the compounding quantity of the phosphorus compound in curable resin composition is 0.1-10 mass%. If the content is less than 0.1% by mass, the flame retardancy tends to decrease, and if it exceeds 10% by mass, the flexibility tends to decrease.

フィラーの平均粒径は、0.1〜30μmであることが望ましい。平均粒径が30μmを超えると屈曲性が低下するおそれがある。また平均粒径が0.1μm未満であると、基材タックが増加するおそれがある。平均粒径は動的光散乱法やレーザー回折法によって測定できる。   The average particle size of the filler is desirably 0.1 to 30 μm. If the average particle size exceeds 30 μm, the flexibility may be reduced. Moreover, there exists a possibility that a base material tack may increase that an average particle diameter is less than 0.1 micrometer. The average particle diameter can be measured by a dynamic light scattering method or a laser diffraction method.

尿素及び尿素誘導体は、例えば、下記一般式(1)で表される。

Figure 0005056099
Urea and urea derivatives are represented by the following general formula (1), for example.
Figure 0005056099

一般式(1)中のR、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルカン基を有する有機基、アルケン基を有する有機基、アルコキシシリル基を有する有機基、シアノ基、ニトロソ基、ニトロ基、アシル基、フェニル基等の芳香環を含む有機基、イミダゾール等の複素環を有する有機基を表す。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) are each independently an organic group having a hydrogen atom, an alkyl group, an alkane group, an organic group having an alkene group, or an organic having an alkoxysilyl group. An organic group having an aromatic ring such as a group, a cyano group, a nitroso group, a nitro group, an acyl group or a phenyl group, or an organic group having a heterocyclic ring such as imidazole.

上記一般式(1)で表される尿素誘導体としては、N−モノアルキル尿素、N,N−ジアルキル尿素、N,N’−ジアルキル尿素、N−アリル尿素、N−p−エトキシフェニル−N’−ビフェニル尿素、ニトロソ尿素、ビウレア、ビウレット、グアニル尿素、ヒダントダイン、尿素シラン、ウレイド化合物、イソ尿素、イソ尿素誘導体、セミカルバジド化合物等の鎖状、環状化合物が挙げられる。中でも、尿素シランが好ましい。尿素シランは、R〜Rのうち少なくとも1つがアルコキシシリル基を有する有機基である化合物である。尿素シランの具体例としては、γ−カルバミルプロピルトリエトキシシラン、γ−カルバミルトリエトキシシラン等のγ−カルバミルアルキルトリアルコキシシランがある。中でも、γ−カルバミルプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。 Examples of the urea derivative represented by the general formula (1) include N-monoalkyl urea, N, N-dialkyl urea, N, N′-dialkyl urea, N-allyl urea, and Np-ethoxyphenyl-N ′. -Chain and cyclic compounds such as biphenylurea, nitrosourea, biurea, biuret, guanylurea, hydantodyne, urea silane, ureido compound, isourea, isourea derivative, and semicarbazide compound. Of these, urea silane is preferred. Urea silane is a compound in which at least one of R 1 to R 4 is an organic group having an alkoxysilyl group. Specific examples of urea silane include γ-carbamylalkyltrialkoxysilanes such as γ-carbamylpropyltriethoxysilane and γ-carbamyltriethoxysilane. Among these, γ-carbamylpropyltriethoxysilane is particularly preferable. These compounds are used alone or in combination of two or more.

尿素及び/又は尿素誘導体の配合量は、エポキシ樹脂100質量部に対して0.1〜10質量部であることが好ましい。0.1質量部未満では金属箔との接着力が低下する傾向があり、10質量部を超えると耐熱性などが低下する傾向がある。   It is preferable that the compounding quantity of urea and / or a urea derivative is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins. If it is less than 0.1 parts by mass, the adhesive strength with the metal foil tends to be reduced, and if it exceeds 10 parts by mass, the heat resistance tends to be reduced.

その他、熱硬化促進剤として、アミン類やイミダゾール類を用いることができる。アミン類として、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルエタン、グアニル尿素等が挙げられる。イミダゾール類は、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト等のイミダゾール化合物、ベンゾイミダゾール等が挙げられる。   In addition, amines and imidazoles can be used as thermosetting accelerators. Examples of amines include dicyandiamide, diaminodiphenylethane, and guanylurea. Imidazoles include 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, etc. Imidazole compounds, benzimidazoles, and the like.

熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合、硬化促進剤の配合量は、硬化性樹脂組成物におけるエポキシ基の総量に応じて決定することができるが、一般的に硬化性樹脂組成物の樹脂固形分100質量部中、0.01〜10質量部とすることが好ましい。   When an epoxy resin is used as the thermosetting resin, the blending amount of the curing accelerator can be determined according to the total amount of epoxy groups in the curable resin composition, but generally the resin solids of the curable resin composition It is preferable to set it as 0.01-10 mass parts in 100 mass parts per minute.

プリプレグ100中の繊維基材として、金属箔張積層板や多層プリント配線板を製造する際に用いられるものであれば特に制限されなく、通常、織布や不織布等の繊維基材が用いられる。   The fiber substrate in the prepreg 100 is not particularly limited as long as it is used when producing a metal foil-clad laminate or a multilayer printed wiring board, and a fiber substrate such as a woven fabric or a nonwoven fabric is usually used.

繊維基材の材質としては、ガラス、アルミナ、アスベスト、ボロン、シリカアルミナガラス、シリカガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維や、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース等の有機繊維、或いはこれらの混抄系が好ましく、100μm以下のガラスクロスが特に好ましい。また、厚さが50μm以下のガラスクロスを用いることにより、任意に折り曲げ可能なプリント配線板の製造がより容易になると共に、製造プロセス上での温度、湿度等に伴う寸法変化をより少なくすることが可能となる。   Examples of the fiber base material include glass, alumina, asbestos, boron, silica alumina glass, silica glass, tyrano, silicon carbide, silicon nitride, zirconia, and other inorganic fibers, aramid, polyether ether ketone, polyether imide, poly Organic fibers such as ether sulfone, carbon and cellulose, or mixed papers thereof are preferred, and glass cloths of 100 μm or less are particularly preferred. In addition, by using a glass cloth with a thickness of 50 μm or less, it becomes easier to manufacture a printed wiring board that can be bent arbitrarily, and to reduce dimensional changes due to temperature, humidity, etc. in the manufacturing process. Is possible.

プリプレグ100は、硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸し、80〜180℃の加熱によりワニスから溶剤を除去して、製造することができる。プリプレグ100においては、ワニスに使用した溶媒が残存していてもよいが、ワニスに含まれていた溶媒のうち80質量%以上が除去されていることが好ましい。上述の乾燥において、乾燥時間に対しては特に制限されない。   The prepreg 100 can be manufactured by impregnating a curable resin composition into a fiber base material and removing the solvent from the varnish by heating at 80 to 180 ° C. In the prepreg 100, the solvent used in the varnish may remain, but 80% by mass or more of the solvent contained in the varnish is preferably removed. In the above-described drying, the drying time is not particularly limited.

硬化性樹脂組成物の含浸量は、硬化性樹脂組成物及び繊維基材の総量100質量%に対して、30〜90質量%であることが好ましい。   The impregnation amount of the curable resin composition is preferably 30 to 90% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the curable resin composition and the fiber base material.

図2は、本発明による接着層付金属箔の一実施形態を示す部分断面図である。図2に示す接着層付金属箔200は、金属箔10と金属箔10上に形成された接着層20とから構成される。接着層20は、上記硬化性樹脂組成物からなる。接着層付金属箔200は金属箔10上に硬化性樹脂組成物を塗布することにより製造することができる。塗布は、公知の方法により実施することができる。具体的には、コンマコータ、ディップコータ、キスコータや自然流延塗布等による方法が挙げられる。   FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a metal foil with an adhesive layer according to the present invention. The metal foil 200 with an adhesive layer shown in FIG. 2 includes a metal foil 10 and an adhesive layer 20 formed on the metal foil 10. The adhesive layer 20 is made of the curable resin composition. The metal foil with adhesive layer 200 can be manufactured by applying a curable resin composition on the metal foil 10. Application | coating can be implemented by a well-known method. Specific examples include a method using a comma coater, a dip coater, a kiss coater, and natural casting.

金属箔10としては、銅箔やアルミニウム箔が一般的に用いられる。通常積層板に用いられる金属箔の厚さは1〜200μmである。或いは、金属箔10として、ニッケル、ニッケル−リン、ニッケル−スズ合金、ニッケル−鉄合金、鉛、鉛−スズ合金等を中間層とし、この両面に0.5〜15μmの銅層と10〜300μmの銅層を設けた3層構造の複合箔あるいはアルミニウムと銅箔を複合した2層構造複合箔を用いることが出来る。   As the metal foil 10, a copper foil or an aluminum foil is generally used. The thickness of the metal foil usually used for the laminate is 1 to 200 μm. Alternatively, as the metal foil 10, nickel, nickel-phosphorus, nickel-tin alloy, nickel-iron alloy, lead, lead-tin alloy or the like is used as an intermediate layer, and a copper layer of 0.5 to 15 μm and 10 to 300 μm on both sides. A three-layer composite foil provided with a copper layer or a two-layer composite foil in which aluminum and copper foil are combined can be used.

図3は、本発明による金属箔張積層板の一実施形態を示す部分断面図である。図3に示す金属箔張積層板300は、1枚のプリプレグ100を加熱及び加圧して得られる基板30と、基板30の両面に密着して設けられた2枚の金属箔10とで構成される。基板30はプリプレグ100の1枚から形成されてもよく、複数枚重ねて形成されてもよい。また、金属箔10は基板30の両面に設けられてもよく、片面に設けられてもよい。   FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a metal foil-clad laminate according to the present invention. A metal foil-clad laminate 300 shown in FIG. 3 includes a substrate 30 obtained by heating and pressing one prepreg 100 and two metal foils 10 provided in close contact with both surfaces of the substrate 30. The The substrate 30 may be formed from one prepreg 100 or may be formed by overlapping a plurality of substrates. Further, the metal foil 10 may be provided on both sides of the substrate 30 or may be provided on one side.

金属箔張積層板300は、例えば、プリプレグ100の両面に金属箔10を重ね、これを加熱及び加圧して、プリプレグ100中の硬化性樹脂組成物を硬化することによって得られる。このときの加熱温度は130〜250℃であることが好ましく、150〜210℃であることがより好ましい。また圧力は0.5〜20MPaであることが好ましく、1〜8MPaであることがより好ましい。   The metal foil-clad laminate 300 is obtained, for example, by stacking the metal foil 10 on both sides of the prepreg 100 and heating and pressing it to cure the curable resin composition in the prepreg 100. The heating temperature at this time is preferably 130 to 250 ° C, and more preferably 150 to 210 ° C. Further, the pressure is preferably 0.5 to 20 MPa, more preferably 1 to 8 MPa.

金属箔10は、上述した接着層付金属箔200の金属箔10と同様のものである。   The metal foil 10 is the same as the metal foil 10 of the metal foil 200 with an adhesive layer described above.

図4は、本発明によるプリント配線板の一実施形態を示す部分断面図である。図4に示すプリント配線板400は、上記の基板30と、基板30の両面に設けられたパターン化された金属箔で形成される金属パターン11とで主として構成されている。また、基板30をその主面に略直行する方向に貫通する複数の貫通孔70が形成されており、この貫通孔70の孔壁には所定の厚さの金属めっき層60が形成されている。プリント配線板300は上記の金属箔張積層板200に配線パターンを形成して得られる。配線パターンの形成は、サブトラクティブ法等の従来公知の方法によって行うことができる。プリント配線板300は、いわゆるフレキシブルプリント配線板として特に好適に用いられる。   FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a printed wiring board according to the present invention. A printed wiring board 400 shown in FIG. 4 is mainly composed of the substrate 30 and the metal pattern 11 formed of patterned metal foil provided on both surfaces of the substrate 30. A plurality of through holes 70 are formed through the substrate 30 in a direction substantially perpendicular to the main surface, and a metal plating layer 60 having a predetermined thickness is formed on the hole wall of the through hole 70. . The printed wiring board 300 is obtained by forming a wiring pattern on the metal foil-clad laminate 200 described above. The wiring pattern can be formed by a conventionally known method such as a subtractive method. The printed wiring board 300 is particularly preferably used as a so-called flexible printed wiring board.

以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明した。しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   The present invention has been described in detail based on the embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

以下に、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
アクリルゴムとしてHTR860−P3(ナガセケムテックス(株)社製、商品名)10g(固形分の重量、以下同様)、エポキシ樹脂としてEPICLON N−660(大日本インキ(株)社製、商品名)40g、フェノール樹脂としてMEH−7851(明和化成(株)社製、商品名)10g、硬化促進剤として2−フェニルイミダゾール0.2g、リン化合物としてPMP100(日産化学株式会社製、商品名)12g、尿素シランとしてγ−カルバミルトリエトキシシラン2gを混合撹拌した。そこにメチルエチルケトンを加えて、25℃における粘度が700cPとなるように調整して、硬化性樹脂組成物のワニスを作製した。
Example 1
HTR860-P3 (trade name, manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) as an acrylic rubber, 10 g (weight of solid content, the same applies hereinafter), EPICLON N-660 (trade name, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) as an epoxy resin 40 g, MEH-7851 (product name) manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd. as a phenol resin, 10 g, 0.2 g 2-phenylimidazole as a curing accelerator, 12 g PMP100 (product name) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. 2 g of γ-carbamyltriethoxysilane was mixed and stirred as urea silane. Methyl ethyl ketone was added thereto, and the viscosity at 25 ° C. was adjusted to 700 cP to prepare a varnish for the curable resin composition.

(実施例2)
アクリルゴムの配合量を120gに変更した以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Example 2)
A curable resin composition varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the acrylic rubber was changed to 120 g.

(実施例3)
アクリルゴムとしてHTR860−P3(ナガセケムテックス(株)社製、商品名)30g、エポキシ樹脂としてエピコート828(ジャパンエポキシレジン(株)社製、商品名)40g、フェノール樹脂としてLA−1356(大日本インキ(株)社製、商品名)50g、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール0.2g、リン化合物としてPMP100(日産化学(株)社製、商品名)12g、尿素シランとしてγ−カルバミルトリエトキシシラン2gを混合撹拌した。そこにメチルエチルケトンを加え、25℃における粘度が700cPとなるように調整して、硬化性樹脂組成物のワニスを作製した。
(Example 3)
HTR860-P3 (trade name, manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) 30 g as acrylic rubber, Epicoat 828 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 40 g as epoxy resin, LA-1356 (Dainippon, Japan) as phenol resin 50 g of Ink Co., Ltd., trade name), 0.2 g of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, 12 g of PMP100 (trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), and γ as urea silane -2 g of carbamyltriethoxysilane was mixed and stirred. Methyl ethyl ketone was added thereto, and the viscosity at 25 ° C. was adjusted to 700 cP to prepare a varnish for the curable resin composition.

(実施例4)
アクリルゴムの配合量を200gに変更した以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
Example 4
A curable resin composition varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the acrylic rubber was changed to 200 g.

(実施例5)
γ−カルバミルトリエトキシシランに代えて尿素を2g配合した以外は、実施例2と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Example 5)
A curable resin composition varnish was prepared in the same manner as in Example 2 except that 2 g of urea was mixed instead of γ-carbamyltriethoxysilane.

(実施例6)
γ−カルバミルトリエトキシシラン2gに代えてγ−カルバミルトリエトキシシランを1gと尿素1gを配合した以外は、実施例2と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Example 6)
A curable resin composition varnish was prepared in the same manner as in Example 2 except that 1 g of γ-carbamyltriethoxysilane and 1 g of urea were blended in place of 2 g of γ-carbamyltriethoxysilane.

(比較例1)
アクリルゴムと尿素誘導体を配合しなかった以外は、実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Comparative Example 1)
A curable resin composition varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that the acrylic rubber and the urea derivative were not blended.

(比較例2)
アクリルゴムを配合しなかった以外は、実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Comparative Example 2)
A curable resin composition varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that no acrylic rubber was blended.

(比較例3)
実施例1の尿素誘導体を配合しなかった以外は、実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物ワニスを作製した。
(Comparative Example 3)
A curable resin composition varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that the urea derivative of Example 1 was not blended.

(プリプレグ及び銅張り積層板の作製)
実施例1〜6及び比較例1〜3で作製したワニスを厚さ0.028mmのガラス布1037(旭シュエーベル(株)社製、商品名)に含浸した後、120℃で20分間加熱乾燥してプリプレグを得た。このプリプレグ8枚を重ねその両面に厚さ18μmの電解銅箔F2−WS−18(古河サーキットフォイル(株)社製、商品名)をその接着面がプリプレグと合わさるように重ね、積層体を得た。そして、積層体の両面から200℃で30分間、圧力4MPaの真空プレス条件で加熱及び加圧して、可とう性、耐熱性及び銅箔接着性の評価試験用両面銅張積層板を作製した。
(Preparation of prepreg and copper-clad laminate)
After impregnating the varnishes produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 with a glass cloth 1037 having a thickness of 0.028 mm (trade name, manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd.), the varnish was heated and dried at 120 ° C. for 20 minutes. To obtain a prepreg. 8 sheets of this prepreg are stacked, and 18 μm thick electrolytic copper foil F2-WS-18 (product name, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) is stacked on both sides of the prepreg so that the adhesive surface is combined with the prepreg to obtain a laminate. It was. And it heated and pressurized on 200 degreeC from the both surfaces of the laminated body for 30 minutes on the vacuum press conditions of a pressure of 4 Mpa, and produced the double-sided copper clad laminated board for an evaluation test of a flexibility, heat resistance, and copper foil adhesiveness.

(測定方法)
可とう性は以下のようにして評価した。まず、プリプレグと、銅箔張積層板を全面エッチングした積層板から、幅10mm×長さ100mmのサイズの試験片を切り出した。これらの試験片の上に5mm厚のアルミ板を試験片の長さ方向と直交するように配置した。そして、アルミ板の終端部を支点として、そこから試験片を上方に90度に曲げた際、クラック発生の有無を観察した。クラックの有無の観察の結果、○印は異常なし、△印は一部クラックにより白化、×印は全面クラックにより白化、としたものを示す。その結果は表1に示す。
(Measuring method)
The flexibility was evaluated as follows. First, a test piece having a size of 10 mm in width and 100 mm in length was cut out from a prepreg and a laminate obtained by etching a copper foil-clad laminate. An aluminum plate having a thickness of 5 mm was placed on these test pieces so as to be orthogonal to the length direction of the test pieces. Then, when the end portion of the aluminum plate was used as a fulcrum and the test piece was bent upward at 90 degrees therefrom, the presence or absence of cracks was observed. As a result of observing the presence or absence of cracks, ◯ marks indicate no abnormality, Δ marks indicate whitening due to partial cracks, and X marks indicate whitening due to entire cracks. The results are shown in Table 1.

難燃性の評価は、UL−94規格に基づき、薄手材料垂直燃焼試験の結果で評価した。その結果は表1に示す。   The flame retardancy was evaluated based on the results of a thin material vertical combustion test based on the UL-94 standard. The results are shown in Table 1.

半田耐熱性は以下のようにして評価した。まず、両面銅張積層板を50mm四方の正方形に切り出して試験片を得た。この試験片を288℃のはんだ浴中浸漬して、その時点から試験片の膨れが目視で認められる時点までに経過した時間を測定した。その結果を表1に示す。   The solder heat resistance was evaluated as follows. First, a double-sided copper-clad laminate was cut into a 50 mm square to obtain a test piece. The test piece was immersed in a solder bath at 288 ° C., and the time elapsed from that point until the point at which the swelling of the test piece was visually observed was measured. The results are shown in Table 1.

銅箔接着性は以下のようにして評価した。まず、両面銅張積層板の銅箔を部分的にエッチングして、1mm幅の銅箔ラインを形成した。次に、銅箔ライン形成後の両面銅箔積層板を30℃で18質量%塩酸水溶液に1時間浸漬(塩酸処理)した。そして、塩酸水溶液に浸漬していない常態の両面銅箔積層板、及び塩酸に浸漬した後の両面銅箔積層板のそれぞれの銅箔ラインを、接着面に対して90°方向に50mm/分の速度で引き剥がした。そのときの荷重を測定し、最大荷重を引き剥がし強さとした。その結果を表1に示す。   Copper foil adhesiveness was evaluated as follows. First, the copper foil of the double-sided copper-clad laminate was partially etched to form a 1 mm wide copper foil line. Next, the double-sided copper foil laminate after forming the copper foil line was immersed (hydrochloric acid treatment) in an 18% by mass hydrochloric acid aqueous solution at 30 ° C. for 1 hour. And each copper foil line of the normal double-sided copper foil laminated board which is not immersed in hydrochloric acid aqueous solution, and the double-sided copper foil laminated board after being immersed in hydrochloric acid is 50 mm / min in a 90 degree direction with respect to an adhesive surface. It peeled off at speed. The load at that time was measured, and the maximum load was peeled off. The results are shown in Table 1.

Figure 0005056099
Figure 0005056099

本発明によるプリプレグの一実施形態を示す部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view which shows one Embodiment of the prepreg by this invention. 本発明による接着層付金属箔の一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of metal foil with an adhesion layer by the present invention. 本発明による金属箔張積層板の一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of a metal foil tension laminate sheet by the present invention. 本発明によるプリント配線板の一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of a printed wiring board by the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…金属箔、11…配線パターン、20…接着層、30…基板、60…金属めっき層、70…貫通孔、100…プリプレグ、200…接着層付金属箔、300…金属箔張積層板、400…プリント配線板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Metal foil, 11 ... Wiring pattern, 20 ... Adhesion layer, 30 ... Board | substrate, 60 ... Metal plating layer, 70 ... Through-hole, 100 ... Prepreg, 200 ... Metal foil with an adhesion layer, 300 ... Metal foil tension laminated board, 400: Printed wiring board.

Claims (12)

繊維基材と、これに含浸している硬化性樹脂組成物と、を有する樹脂含浸基材であって、
前記硬化性樹脂組成物が、
アクリルゴムと、
熱硬化性樹脂と、
リン化合物と、
尿素及び/又は尿素誘導体と、
を含有し、
前記繊維基材の厚さが100μm以下である、樹脂含浸基材。
A resin-impregnated substrate having a fiber substrate and a curable resin composition impregnated therein,
The curable resin composition is
Acrylic rubber,
A thermosetting resin;
A phosphorus compound;
Urea and / or urea derivatives;
Contain,
A resin-impregnated base material, wherein the fiber base material has a thickness of 100 μm or less.
前記尿素誘導体は尿素シランである、請求項1に記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated base material according to claim 1, wherein the urea derivative is urea silane. 前記アクリルゴムはグリシジル基を有し、前記アクリルゴムのエポキシ価は2〜18である、請求項1又は2に記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated substrate according to claim 1 or 2, wherein the acrylic rubber has a glycidyl group, and the epoxy value of the acrylic rubber is 2-18. 前記アクリルゴムの重量平均分子量は1万〜200万である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂含浸基材The resin impregnated base material according to any one of claims 1 to 3, wherein the acrylic rubber has a weight average molecular weight of 10,000 to 2,000,000. 前記アクリルゴムの配合量は、硬化性樹脂組成物全体量に対して、10〜70質量%である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated base material according to any one of claims 1 to 4, wherein a blending amount of the acrylic rubber is 10 to 70 mass% with respect to a total amount of the curable resin composition. 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂又はフェノール樹脂である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin or a phenol resin. 前記フェノール樹脂はフェノール性水酸基を2個以上有する、請求項6に記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated base material according to claim 6, wherein the phenol resin has two or more phenolic hydroxyl groups . 前記リン化合物の一部はフィラーとして含有される、請求項1〜7のいずれか一項記載の樹脂含浸基材The resin-impregnated base material according to claim 1, wherein a part of the phosphorus compound is contained as a filler. プリプレグである、請求項1〜8のいずれか一項に記載の樹脂含浸基材。 The resin-impregnated base material according to any one of claims 1 to 8 , which is a prepreg. 請求項のいずれか一項に記載の樹脂含浸基材を加熱及び加圧して得られる基板。 Substrate obtained by applying heat and pressure to the resin-impregnated substrate according to any one of claims 1-9. 請求項10に記載の基板と、前記基板の少なくとも一方面上に設けられた金属からなる配線パターンと、を備えるプリント配線板。 A printed wiring board comprising: the substrate according to claim 10; and a wiring pattern made of a metal provided on at least one surface of the substrate. 金属箔と、前記金属箔上に設けられた硬化性樹脂組成物からなる接着層と、を備える接着層付金属箔であって、
前記硬化性樹脂組成物が、
アクリルゴムと、
熱硬化性樹脂と、
リン化合物と、
尿素及び/又は尿素誘導体と、
を含有する、
接着層付金属箔。
A metal foil, a metal foil with the adhesive layer comprising an adhesive layer, a made of hardening resin composition provided on the metal foil,
The curable resin composition is
Acrylic rubber,
A thermosetting resin;
A phosphorus compound;
Urea and / or urea derivatives;
Containing
Metal foil with adhesive layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20110272185A1 (en) * 2009-01-28 2011-11-10 Akiko Kawaguchi Pregreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and printed wiring board
JP5699742B2 (en) * 2010-03-29 2015-04-15 日立化成株式会社 Phosphorus-containing acrylic resin and method for producing the same, acrylic resin composition, resin film, prepreg, metal foil with resin, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08151462A (en) * 1994-09-27 1996-06-11 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Production of laminate
JPH08157569A (en) * 1994-10-06 1996-06-18 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for printed circuit board
JPH11298152A (en) * 1998-04-10 1999-10-29 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Multilayered printed circuit board
JP4160234B2 (en) * 2000-05-29 2008-10-01 株式会社有沢製作所 Metal-clad laminate for flexible printed wiring board, flexible printed wiring board, resin composition used for coverlay, and flexible printed wiring board
JP4124949B2 (en) * 2000-09-12 2008-07-23 住友ベークライト株式会社 Flame retardant resin composition, prepreg and laminate using the same
JP2002146320A (en) * 2000-11-16 2002-05-22 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition and adhesive member using the same and substrate for loading semiconductor and semiconductor device
EP1731553B1 (en) * 2004-02-27 2019-02-20 Toray Industries, Inc. Epoxy resin composition for carbon-fiber-reinforced composite material, prepreg, integrated molding, sheet of fiber-reinforced composite material and cabinet for electrical/electronic equipment
JP4517749B2 (en) * 2004-04-12 2010-08-04 日立化成工業株式会社 Prepreg and metal-clad laminate and printed circuit board using the same

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