JP5051507B2 - 積層型超伝導接合及びその製造方法 - Google Patents
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Description
2 下部電極(MgB2層)
3 絶縁層(AlN層)
4 導体層(Al層)
5 上部電極(MgB2層)
Claims (4)
- 基板上に形成された二硼化マグネシウム層からなる下部電極と、
前記下部電極上に形成された窒化アルミニウム層からなる絶縁層と、
前記絶縁層上に形成されたアルミニウム層からなる導体層と、
前記導体層上に形成された二硼化マグネシウム層からなる上部電極とを備え、
当該積層型超伝導接合がその電流電圧特性としてRSJ特性を備える
ことを特徴とする積層型超伝導接合。 - 前記絶縁層の膜厚が0.64nmであり、前記導体層の膜厚が50nmである
ことを特徴とする請求項1記載の積層型超伝導接合。 - 基板上に二硼化マグネシウム層からなる下部電極を形成し、
前記下部電極上に窒化アルミニウム層からなる絶縁層を形成し、
前記絶縁層上にアルミニウム層からなる導体層を形成し、
前記導体層上に二硼化マグネシウム層からなる上部電極を形成する積層型超伝導接合の製造方法であって、
少なくとも前記窒化アルミニウム層からなる絶縁層と前記アルミニウム層からなる導体層とを同一真空中で形成する
ことを特徴とする積層型超伝導接合の製造方法。 - 前記絶縁層を、雰囲気ガスとして窒素を用い、基板温度を室温としたアルミニウムのスパッタリングにより形成し、
前記導体層を、雰囲気ガスとしてアルゴンを用い、基板温度を室温としたアルミニウムのスパッタリングにより形成する
ことを特徴とする請求項3記載の積層型超伝導接合の製造方法。
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