JP5025478B2 - 改良された化学機械平坦化の方法およびシステム - Google Patents
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Description
本出願は、それぞれ参照によって本明細書に組み込まれている、2004年10月6日出願の米国仮出願第60/616944号と、2004年12月27日に出願された米国仮出願第60/639257号に関し、かつその優先権の利益を主張する仮出願でない出願である。
Claims (32)
- 多孔性スラリ分配層を一方の側に、圧縮可能な下層を反対側に付着させたガイド・プレートと、
互いに平行に、および前記ガイド・プレートに対して垂直に維持されるように、前記スラリ分配層と前記ガイド・プレートを通して互いにインターデジティテッドされた複数の研磨要素であって、各研磨要素が、前記圧縮可能な下層に付着され、前記スラリ分配層が隣接する前記ガイド・プレートの表面より上に突出する、複数の研磨要素と
を備える、研磨パッド。 - 前記ガイド・プレートと前記スラリ分配層の間に配置された膜をさらに備える請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記膜が、導電性膜を備える請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記膜が、非導電性膜を備える請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記膜が、接着剤によって前記ガイド・プレートに固定される請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記膜が、イオン交換膜を備える請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記ガイド・プレートが、非導電性材料で作成される請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の少なくともいくつかが、円形の断面を有する請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の少なくともいくつかが、三角形の断面を有する請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素が、伝熱性材料、導電性材料、または非導電性材料のいずれか1つまたは組合せから作成される請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素が、導電性ポリマー、ポリアニリン、炭素、グラファイト、または金属充填ポリマーの1つで作成される請求項10に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の1つまたは複数が、ウェハ表面とスライド接触するようにされる請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の1つまたは複数が、ウェハ表面と回転接触するようにされる請求項1に記載の研磨パッド。
- ウェハ表面と回転接触するようにされた前記研磨要素の前記1つまたは複数が、円筒本体と回転チップを有する請求項13に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の前記1つまたは複数の前記回転チップが、以下の材料:ポリマー、金属酸化物、または導電性材料の1つで作成される請求項14に記載の研磨パッド。
- 前記スラリ分配材料が、いくつかのスラリ流れ抵抗要素を含む請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記スラリ分配材料が、10パーセントと90パーセントの間の多孔度を有する請求項16に記載の研磨パッド。
- 前記スラリ分配材料が、接着剤によって前記ガイド・プレートに固定される請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記スラリ分配材料が、異なる材料の複数の層を含む請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記スラリ分配材料が、比較的大きな孔を有する表面層、および比較的小さい孔を有する下の層を備える請求項19に記載の研磨パッド。
- 前記ガイド・プレート、前記研磨要素、前記スラリ分配材料を内部において少なくとも部分的に周囲に含むように構成されたハウジングをさらに備える請求項1に記載の研磨パッド。
- 研磨パッドが、3ミリメートルと10ミリメートルの間の厚さを有する請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記圧縮可能な下層が、圧縮されたときに研磨パッドの研磨表面に向けられる正の圧力を提供するように構成されたフォームまたは弾性ポリマーで形成される請求項1に記載の研磨パッド。
- 集団的に前記研磨要素が、全研磨パッド表面積の30パーセントから80パーセントの密度を有するように、前記研磨要素が、研磨パッドの面全体にわたって分布する請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨要素の1つまたは複数の作業端部から測定して、パッドの上面からある深さに埋め込まれたパッド磨耗センサをさらに備える請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、反射コーティングで覆われた上面を有する光透過性プラグを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、パッド内において異なる深さに埋め込まれたいくつかの光透過性プラグを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、前記パッド表面の前記上面と同一平面上にあるように取り付けられた光透過性円錐プラグを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、前記パッドが磨耗する際に様々な程度に露出されるように構成された複数段付き表面を有する光透過性プラグを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、反射率の順に構成された様々な透過率を有するスクリーンを含む光透過性プラグを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、パッドに埋め込まれた2つ以上のプローブを含む電気化学センサを備える請求項25に記載の研磨パッド。
- 前記パッド磨耗センサが、パッドの前記表面より下のある深さに埋め込まれた導電性プレートを備える請求項25に記載の研磨パッド。
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