JP5021412B2 - BGA solder ball height measuring device - Google Patents
BGA solder ball height measuring device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5021412B2 JP5021412B2 JP2007255222A JP2007255222A JP5021412B2 JP 5021412 B2 JP5021412 B2 JP 5021412B2 JP 2007255222 A JP2007255222 A JP 2007255222A JP 2007255222 A JP2007255222 A JP 2007255222A JP 5021412 B2 JP5021412 B2 JP 5021412B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bga solder
- solder ball
- light
- height
- bga
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
本発明は、BGA半田ボールの高さ測定装置に関し、詳しくは、レーザ光を用いてBGA半田ボールの高さを測定する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for measuring the height of a BGA solder ball, and more particularly to an apparatus for measuring the height of a BGA solder ball using a laser beam.
従来より、測定対象物に向けてレーザ光を照射すると共に、測定対象物からの反射光をイメージセンサにて受光し、そのイメージセンサから出力される検出信号(受光信号)に基づいて測定対象物に係る変位を測定する変位センサが提供されている。例えば下記特許文献1には、光源からの光を測定対象物に照射し、その反射光をイメージセンサで受光して、当該反射光のイメージセンサにおける受光位置に基づき光源及びイメージセンサから測定対象物までの距離を測定する変位センサが開示されている。
Conventionally, a laser beam is irradiated toward a measurement object, and reflected light from the measurement object is received by an image sensor, and the measurement object is based on a detection signal (light reception signal) output from the image sensor. There is provided a displacement sensor for measuring the displacement according to the above. For example, in
そのような変位センサは、図5に示すような、BGA(Ball Grid Array)基板W上の測定対象物であるBGA半田ボール31の高さの変位あるいは高さを測定して、BGA半田ボール31の高さ不良を検出するために、使用される。ここで、BGA半田ボール31は、列方向にピッチP1、行方向にピッチP2を有して、マトリクス状に配置されている。その際、図5に示されるように、通常、小円形の照射スポットSが、BGA半田ボール31の頂点付近に形成されるように、従来の半田ボールの高さ測定装置のレーザ光が該頂点に照射される(R1行L1列を参照)。次いで、例えば、BGA基板Wあるいは同測定装を列方向Mに相対的に移動(スキャン)して、R2行L1列に位置するBGA半田ボール31の測定が行われ、続いてL2列からL4列までの測定が順次行われる。
ところで、BGA基板W上に形成されたBGA半田ボール31が、図5の一点鎖線で囲まれたL4列のBGA半田ボール31Aのように、正規の位置から測定の移動方向(列方向)Mと直交する方向に位置ずれを有する場合がある。このような位置ずれを有するBGA半田ボール(以下「位置ずれBGA半田ボール」と言う)31Aを含んでマトリクス状に配置されたBGA半田ボール31の高さの変位を、上記のような従来の半田ボールの高さ測定装置を用いて測定しようとする場合、以下のような不具合が生じる。
By the way, the
すなわち、位置ずれBGA半田ボール31Aの測定の際に、その位置ずれに起因して、レーザ光の照射スポットSが位置ずれBGA半田ボール31Aの頂点に適正に照射されず、BGA半田ボール31Aの高さの変位測定が好適に行われない場合がある。そのため、そのような位置ずれBGA半田ボール31Aの測定を確実に行うために、BGA基板Wあるいは測定装置の位置調整を行った後に再度位置ずれBGA半田ボール31Aの測定を行う必要があった。そのため、測定作業に余分な時間を要し、作業効率が低下するという不具合があった。
That is, when measuring the misaligned
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、基板上に列を成して配置されたBGA半田ボールの高さに係る測定の作業効率を向上するBGA半田ボールの高さ測定装置を提供することを目的とする。 The present invention has been completed based on the above situation, and the height of the BGA solder ball for improving the working efficiency of the measurement related to the height of the BGA solder balls arranged in a row on the substrate. An object of the present invention is to provide a measuring device.
上記の目的を達成するための手段として、本発明によるBGA半田ボールの高さ測定装置は、基板上に列を成して配置される複数のBGA半田ボールの各々の高さを測定する装置であって、前記複数のBGA半田ボールに対して光を照射する投光手段と、複数の画素からなる受光面を有し、前記光照射されたBGA半田ボールからの反射光を該BGA半田ボールからの距離に応じた受光面上の位置で受光し、その受光位置に応じた受光信号を生成するリニアイメージセンサと、前記リニアイメージセンサの受光信号に基づいて前記BGA半田ボールの高さの変位を測定する測定手段とを備えた装置において、前記投光手段から照射される光は、前記列の方向と直交する方向であるとともに前記リニアイメージセンサの幅方向において、幅広なスポットを有するように形成されてなり、前記投光手段は、前記列方向に沿った、前記複数のBGA半田ボールとの相対的な移動によって、前記複数のBGA半田ボールの各々に対して前記幅広なスポットを有する光を順次照射し、前記幅広なスポットの長手方向の長さは、前記列の方向と直交する方向において許容されるBGA半田ボールの位置ずれ寸法の少なくとも2倍以上であることを特徴とする。 As a means for achieving the above object, a BGA solder ball height measuring device according to the present invention is a device for measuring the height of each of a plurality of BGA solder balls arranged in a row on a substrate. And a light projecting means for irradiating the plurality of BGA solder balls with light and a light receiving surface comprising a plurality of pixels, and the reflected light from the light irradiated BGA solder balls is transmitted from the BGA solder balls. A linear image sensor that receives light at a position on the light receiving surface according to the distance of the light and generates a light reception signal according to the light receiving position, and a displacement of the height of the BGA solder ball based on the light reception signal of the linear image sensor. In the apparatus comprising the measuring means for measuring, the light emitted from the light projecting means is wide in the width direction of the linear image sensor and in a direction orthogonal to the direction of the row. The light projecting means is formed to have a pot, and the light projecting means moves relative to each of the plurality of BGA solder balls along the row direction with respect to each of the plurality of BGA solder balls. The length of the wide spot in the longitudinal direction is sequentially irradiated with light having various spots, and the length in the longitudinal direction of the wide spot is at least twice as large as the positional deviation dimension of the BGA solder ball allowed in the direction orthogonal to the direction of the row. Features.
この構成によれば、投光手段から照射される光は、基板上に列を成して配置される複数のBGA半田ボールの列の方向と直交する方向であるとともにリニアイメージセンサの幅方向において幅広なスポットを有するように形成されている。そのため、BGA基板上に例えばマトリクス状に配置されたBGA半田ボールの高さの変位を測定する場合において、たとえ一部のBGA半田ボールが、測定する列の方向から直交する方向にずれて配置されていても、スポットの長手方向の寸法をその位置ずれに関連して適宜設定することにより、位置ずれしたBGA半田ボールの高さの変位測定を一回の測定で行うことができる。すなわち、そのような位置ずれBGA半田ボールの測定を確実に行うために、BGA基板あるいは測定装置の位置調整を行い、再度位置ずれBGA半田ボールに係る測定を行う必要はない。その結果、基板上に列を成して配置されたBGA半田ボールの高さに係る測定の作業効率を向上させることができる。 According to this configuration, the light emitted from the light projecting means is in a direction orthogonal to the direction of the plurality of BGA solder balls arranged in a row on the substrate and in the width direction of the linear image sensor. It is formed so as to have a wide spot. Therefore, when measuring the displacement of the height of BGA solder balls arranged in a matrix on the BGA substrate, for example, some of the BGA solder balls are arranged so as to be shifted in a direction orthogonal to the direction of the column to be measured. Even so, by appropriately setting the dimension in the longitudinal direction of the spot in relation to the positional deviation, the displacement measurement of the height of the BGA solder ball which has been displaced can be performed in a single measurement. That is, in order to reliably measure such a misaligned BGA solder ball, it is not necessary to adjust the position of the BGA substrate or the measuring apparatus and perform measurement related to the misaligned BGA solder ball again. As a result, it is possible to improve the working efficiency of the measurement related to the height of the BGA solder balls arranged in rows on the substrate.
ここで、「幅広なスポット」の意味は、BGA半田ボールの列方向の寸法に比べて、それと直交する方向の寸法が長い形状の光の断面を意味し、その形状は、例えば、長方形、楕円形、扁平な円形、扁平な楕円形等を含む。また「高さ測定」の意味には、基準となる高さからの変位を測定し、その変位を用いて高さを決定することも含まれる。 Here, the meaning of “wide spot” means a cross section of light having a shape whose dimension in the direction perpendicular to the row direction of the BGA solder balls is longer than that in the row direction. Shapes, flat circles, flat ellipses, etc. Further, the meaning of “height measurement” includes measuring a displacement from a reference height and determining the height using the displacement.
なお、本発明の特異性は、本来、幅広照射スポット(あるいは線状照射スポット)は、もっぱら、測定対象物が板状であって、その平面の平坦度の検出等に使用されるものであるが、球面形状を有するBGA半田ボールの高さに係る測定(変位測定を含む)にその適用性を見出した点にある。 The peculiarity of the present invention is that a wide irradiation spot (or a linear irradiation spot) is originally used for detecting the flatness of a flat surface when the object to be measured has a plate shape. However, it is the point of finding the applicability to the measurement (including displacement measurement) related to the height of the BGA solder ball having a spherical shape.
また、上記構成において、前記幅広なスポットの長手方向の長さは、前記列の方向と直交する方向におけるBGA半田ボールの配置ピッチ以下であることが好ましい。 In the above configuration, the length of the wide spot in the longitudinal direction is preferably equal to or less than the arrangement pitch of the BGA solder balls in the direction orthogonal to the direction of the row.
本発明によれば、基板上に列を成して配置されたBGA半田ボールの高さに係る測定の作業効率を向上することができる。 According to the present invention, it is possible to improve the working efficiency of measurement related to the height of BGA solder balls arranged in rows on a substrate.
<実施形態>
本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。図1は、本実施形態のBGA半田ボールの高さ測定装置1の全体概要図である。この半田ボールの高さ測定装置1は、センサヘッド部11と、コントローラ部12とが信号ケーブルを介して接続された構成をなしている。なお、センサヘッド部11とコントローラ部12とは、一体として構成されてもよい。
<Embodiment>
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an overall schematic diagram of a BGA solder ball
センサヘッド部11は、投光素子としてのレーザダイオード(LD)15と、そのレーザダイオード15を駆動するためのLD駆動回路14と、レーザダイオード15から発せられたレーザ光L1をBGA半田ボール31の表面上に照射させる投光レンズ16と、レーザ光L1の照射スポットを幅広に形成するスポット整形手段17とを備えている。スポット整形手段17は、例えば光学スリットである。これらのLD駆動回路14、レーザダイオード15、投光レンズ16およびスポット整形手段17が本発明の「投光手段」に相当する。なお、本実施形態において、レーザ光L1は幅広の照射スポット(以下「幅広照射スポット」)LSとしてBGA半田ボール31の表面に照射される。
The
更に、センサヘッド部11は、受光レンズ18と、その受光レンズ18を透過したレーザ光L2を受光するCCDリニアセンサ19と、そのCCDリニアセンサ19を駆動するためのCCD駆動回路20とを備えている。受光レンズ18、CCDリニアセンサ19及びCCD駆動回路20は、位置検出手段として機能する。CCDリニアセンサ19は、受光面19aを形成する複数の細長い画素19bを備える。
The
レーザダイオード15から発せられたレーザ光L1は、投光レンズ16及びスポット整形手段17を透過してBGA基板W上のBGA半田ボール31に照射される。そして、このBGA半田ボール31の表面上の拡散反射光L2は、受光レンズ18を透過してCCDリニアセンサ19に入射する。このCCDリニアセンサ19において、受光量とBGA半田ボール31との相対位置に応じて蓄積された電荷は、受光信号としてCCD駆動回路20によって読み出され、受光信号は時系列の電圧信号S1に変換される。
The
CCD駆動回路20が所定の転送用クロックをCCDリニアセンサ19に与えることにより、CCDリニアセンサ19は、各画素19bに蓄積された電荷を1画素ずつ順番に転送する。そして、CCD駆動回路20は、全画素の蓄積電荷に対応する時系列の電圧信号S1を生成し、電圧信号S1をコントローラ部12に供給する。
When the
コントローラ部12は、CPU41、メモリ42、操作キー43及び表示部44等を備えている。CPU41は、LD駆動回路14に駆動信号を与えてレーザダイオード15に投光動作をさせる。さらに、CPU41は、制御信号S2によって、所定周期でCCD駆動回路20を駆動させてCCDリニアセンサ19の各画素19bの蓄積電荷を転送させる受光動作を実行させて、CCD駆動回路20からの電圧信号S1を受け取る。
The
以上の構成により、センサヘッド部11では、CCDリニアセンサ19の受光面19a上における拡散反射光L2の受光位置Pが、CCDリニアセンサ19からBGA半田ボール31の頂点までの距離によって移動する。そして、CPU41は、CCDリニアセンサ19の受光面19a上における拡散反射光L2の受光位置Pを、電圧信号S1を解析して検出することによりBGA半田ボール31の高さの変位を測定することができる。
With the above configuration, in the
より詳細には、CPU41は、CCD駆動回路20からの電圧信号S1を受け取って、CCDリニアセンサ19の受光面19a上の全画素19bから最大受光量の画素を検出し、メモリ42の測定データ記憶領域に時系列で格納する。このとき、CPU41は本発明の「測定手段」として機能する。
More specifically, the
次に図2から図4を参照して、BGA半田ボールの高さ測定装置1によるBGA半田ボール31の高さhに係る測定機能を説明する。なお、図5に示された従来と同一の構成の説明は省略する。図2は、BGA半田ボール31に照射される幅広の照射スポットLSとCCDリニアセンサ19との位置関係を示す。図3は、本実施形態による測定の際の、BGA基板Wの平面図であり、図4は、図3の4−4線に沿った拡大断面の一部を示す。
Next, with reference to FIG. 2 to FIG. 4, a measurement function related to the height h of the
図2〜図4において、矢印Aで示される方向(以下「方向A」)は、幅広照射スポットLSの幅広に形成される方向を示すとともに、CCDリニアセンサ19の幅方向(画素19bの長手方向)を示す。すなわち、BGA半田ボール31の高さhに係る測定の際に、幅広照射スポットLSの幅広に形成される方向Aと、CCDリニアセンサ19の幅方向(画素19bの長手方向)Bとは同一方向となる。ここで、幅広照射スポットLSは、例えば図2に示されるような陸上トラック形状を有する。また、図3に示されるように、方向Aは、BGA半田ボール31の配置の列方向であって、測定方向である矢印Mで示される方向(以下「方向M」)に対して直交する方向である。なお、測定の際に、BGA基板が固定される場合には、センサヘッド部11が方向Mに移動され、一方、センサヘッド部11が固定される場合には、BGA基板Wが方向Mと反対方向に移動される。
2 to 4, a direction indicated by an arrow A (hereinafter, “direction A”) indicates a direction in which the wide irradiation spot LS is formed wide, and the width direction of the CCD linear sensor 19 (longitudinal direction of the
さて、測定の際には、図2に示されるように、センサヘッド部11は、上記したように、照射スポットLSの幅広方向AがCCDリニアセンサ19の幅方向(画素19bの長手方向)Bと同一方向となるように、BGA基板Wに対して配置される。ここで、CCDリニアセンサ19の幅(画素19bの長手方向の長さ)d2は、少なくとも照射スポットLSの幅広方向の長さd1を有する。
In the measurement, as shown in FIG. 2, the
このように照射スポットLSとCCDリニアセンサ19とが配置及び構成されることで、幅広照射スポットLSを有するレーザ光L1によるBGA半田ボール表面での拡散反射光L2が、好適に画素19bによって受光される。すなわち、幅広照射スポットLS内に存在するBGA半田ボール31の頂点からの拡散反射光L2が対応する画素19bによって受光される。その際、関連する拡散反射光L2の画素19b内での受光位置は、位置ずれBGA半田ボール31AのA方向(図3参照)への位置ずれに応じて、図2に示す画素19bの長手方向(CCDリニアセンサ19の幅方向)Bに移動する。
By arranging and configuring the irradiation spot LS and the CCD
また、BGA半田ボール31の高さの変位に応じて、BGA半田ボール31の頂点からの拡散反射光L2の受光位置Pが、図2に示すCCDリニアセンサ19の長手方向(画素19bの配列方向)Cにずれる。そのため、BGA半田ボール31の高さの変位の測定は、具体的には、所定の基準高さに対応する受光位置Pstからの受光位置Pのずれを検出し、その受光位置Pのずれを利用して行われる。すなわち、CPU41は、CCDリニアセンサ19の受光面19a上の全画素から最大受光量の画素19bの受光位置Pと、基準受光位置Pstとのずれに応じてBGA半田ボール31の高さの変位を測定する。CPU41は、全ての半田ボール31に対し順次、測定する。また、CPU41は、その変位と所定の基準とを比較して、BGA半田ボール31の高さhの良否を判定する。さらにCPU41は、基準となる高さと測定された変位から、BGA半田ボール31の高さhを決定することもできる。
Further, according to the displacement of the height of the
その際、図3の点線で囲まれた位置ずれBGA半田ボール31Aの高さの変位を測定する場合であっても、本実施形態においては、図4に示されるように、幅広照射スポットLSのレーザ光L1が位置ずれBGA半田ボール31Aの頂点Tpを含むように照射され、その高さの変位測定が可能となる。そのため、マトリクス状に配置された複数のBGA半田ボールの高さの変位測定が、一回のスキャン測定によって可能となる。
At that time, even when measuring the displacement of the height of the misaligned
なお、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1は、BGA半田ボール31Aの最大径寸法、BGA半田ボール31Aの配置ピッチP2、及びBGA半田ボール31Aの位置ずれ許容度等に応じて、適宜設定される。ここでは、長さd1は、例えば、図4の2点鎖線で示されるBGA半田ボール31の正常の位置(L4)からのBGA半田ボール31Aの許容される位置ずれ寸法Dの2倍を超える長さを有している。すなわち、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1は、少なくとも2D以上の長さを有する(図4参照)。そのため、この場合、図4に示されるように、レーザ光L1は、位置ずれBGA半田ボール31Aの頂点Tpを確実に含んで照射される。なお、許容される位置ずれ寸法Dは、通常、BGA基板に要求される条件に応じて異なる。
The length d1 of the wide irradiation spot LS in the longitudinal direction A is appropriately determined according to the maximum diameter size of the
以上説明したように、本実施形態の構成によれば、球面形状であるBGA半田ボール31の高さの変位測定が、BGA半田ボール31の列方向Mと直交する方向Aにおいて幅広な照射スポットLSを用いて行われる。そのため、BGA半田ボール31が列方向Mと直交する方向Aに位置ずれして配置された場合においても、その位置ずれしたBGA半田ボール31Aの高さの変位測定が、BGA基板Wまたはセンサヘッド部11の一回の移動(スキャン)によって可能となる。その結果、位置ずれBGA半田ボール31Aを測定するために、BGA基板Wまたはセンサヘッド部11を再度移動する必要がなくなり、作業効率が向上される。
As described above, according to the configuration of the present embodiment, the measurement of the displacement of the height of the
また、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1は、位置ずれBGA半田ボール31Aの許容される位置ずれ寸法Dの少なくとも2倍を超える長さを有している。そのため、許容される位置ずれ寸法D範囲内にある位置ずれBGA半田ボール31Aの高さの変位測定が、確実に実行される。さらに、幅広照射スポットLSの長さd1を適宜設定することにより、本発明によるBGA半田ボールの高さ測定装置1を、BGA半田ボール31の長手方向Aの位置ずれが許容範囲であるがどうかの検出にも使用できる。
Further, the length d1 in the longitudinal direction A of the wide irradiation spot LS has a length that exceeds at least twice the allowable displacement D of the displacement
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
<Other embodiments>
The present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings. For example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
(1)上記実施形態では、BGA基板W上にマトリクス状に配置されたBGA半田ボール31の高さに係る測定をする例を示したが、これに限定されない。例えば、BGA半田ボール31の配置はマトリクス状でなくてもよく、単に一列に配置されたものであってもよい。本発明による装置は、特にBGA半田ボールに限られず、例えば、球状の金属、チョコレート、薬剤等の高さに係る測定にも適用可能である。
(1) In the above-described embodiment, an example of measuring the height of the
(2)上記実施形態では、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1は、少なくとも2D(許容される位置ずれ寸法Dの2倍)以上の長さを有する例を示したが、特にこれに限定されない。例えば、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1は、列の方向Mと直交する方向AにおけるBGA半田ボールの配置ピッチP2以下の長さを有してもよいし、あるいは、少なくとも2D以上であって配置ピッチP2以下の長さを有しもよい。要は、幅広照射スポットLSの長手方向Aの長さd1が、幅広照射スポットLSの、列方向Mの寸法に比べて、大きければよい。 (2) In the above embodiment, an example in which the length d1 in the longitudinal direction A of the wide irradiation spot LS has a length of at least 2D (twice the allowable misalignment dimension D) is shown. It is not limited to. For example, the length d1 in the longitudinal direction A of the wide irradiation spot LS may have a length equal to or less than the arrangement pitch P2 of the BGA solder balls in the direction A orthogonal to the row direction M, or at least 2D or more. Further, it may have a length equal to or less than the arrangement pitch P2. In short, the length d1 in the longitudinal direction A of the wide irradiation spot LS only needs to be larger than the dimension in the column direction M of the wide irradiation spot LS.
(3)上記実施形態では、センサヘッド部11は、BGA半田ボール31から拡散反射光を受光する、いわゆる拡散反射型のものであったが、これに限られない。本発明は、レーザダイオード15からのレーザ光L1をBGA半田ボール31に対して斜め上方から照射し、その正反射光を受光する、いわゆる正反射型のセンサヘッド部にも、適用できる。
(3) In the above embodiment, the
(4)上記実施形態では、CCDリニアセンサ19とCCD駆動回路20とを個別とする構成を示したが、CCDリニアセンサ19とCCD駆動回路20とを一体とする構成してもよい。また、リニアイメージセンサとしてCMOSリニアセンサを用いてもよい。さらに、リニアメージセンサに代えて、位置検出素子(PSD)を用いてもよい。
(4) In the above embodiment, the configuration in which the CCD
1…BGA半田ボールの高さ測定装置
11…センサヘッド部
12…コントローラ部
14…LD駆動回路(投光手段)
15…レーザダイオード(投光手段)
16…投光レンズ(投光手段)
17…スポット整形手段(投光手段)
18…受光レンズ
19…CCDリニアセンサ
20…CCD駆動回路
31…BGA半田ボール
31A…位置ずれBGA半田ボール
41…CPU(測定手段)
42…メモリ
LS…幅広照射スポット
S1…電圧信号(受光信号)
W…BGA基板
DESCRIPTION OF
15 ... Laser diode (light projection means)
16 ... Projection lens (projection means)
17 ... Spot shaping means (light projection means)
DESCRIPTION OF
42 ... Memory LS ... Wide irradiation spot S1 ... Voltage signal (light reception signal)
W ... BGA substrate
Claims (2)
前記投光手段から照射される光は、前記列の方向と直交する方向であるとともに前記リニアイメージセンサの幅方向において、幅広なスポットを有するように形成されてなり、
前記投光手段は、前記列方向に沿った、前記複数のBGA半田ボールとの相対的な移動によって、前記複数のBGA半田ボールの各々に対して前記幅広なスポットを有する光を順次照射し、
前記幅広なスポットの長手方向の長さは、前記列の方向と直交する方向において許容されるBGA半田ボールの位置ずれ寸法の少なくとも2倍以上であることを特徴とするBGA半田ボールの高さ測定装置。 An apparatus for measuring the height of each of a plurality of BGA solder balls arranged in a row on a substrate, the light projecting means for irradiating the plurality of BGA solder balls with light, and a plurality of pixels The light receiving surface is made of, and the reflected light from the irradiated BGA solder ball is received at a position on the light receiving surface corresponding to the distance from the BGA solder ball, and a light receiving signal corresponding to the light receiving position is generated. An apparatus comprising: a linear image sensor that measures the height of the BGA solder ball based on a light reception signal of the linear image sensor;
The light emitted from the light projecting means is formed so as to have a wide spot in the width direction of the linear image sensor in a direction orthogonal to the direction of the row.
The light projecting means sequentially irradiates each of the plurality of BGA solder balls with light having the wide spot by relative movement with the plurality of BGA solder balls along the column direction ,
BGA solder ball height measurement characterized in that the length of the wide spot in the longitudinal direction is at least twice as large as the misalignment dimension of the BGA solder ball allowed in the direction orthogonal to the direction of the row apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255222A JP5021412B2 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | BGA solder ball height measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255222A JP5021412B2 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | BGA solder ball height measuring device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009085745A JP2009085745A (en) | 2009-04-23 |
JP5021412B2 true JP5021412B2 (en) | 2012-09-05 |
Family
ID=40659360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007255222A Expired - Fee Related JP5021412B2 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | BGA solder ball height measuring device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5021412B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022138590A (en) * | 2021-03-10 | 2022-09-26 | オムロン株式会社 | Triangular ranging displacement sensor |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2717250B2 (en) * | 1988-01-20 | 1998-02-18 | トヨタ自動車株式会社 | Optical measuring method |
JP3144661B2 (en) * | 1992-09-29 | 2001-03-12 | 富士通株式会社 | Three-dimensional electrode appearance inspection device |
JP2002333308A (en) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Ibiden Co Ltd | Bump height inspection method and inspection apparatus |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007255222A patent/JP5021412B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009085745A (en) | 2009-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7643159B2 (en) | Three-dimensional shape measuring system, and three-dimensional shape measuring method | |
US7641099B2 (en) | Solder joint determination method, solder inspection method, and solder inspection device | |
JP3967518B2 (en) | Offset measurement method, tool position detection method, and bonding apparatus | |
EP2086213A1 (en) | Image reading apparatus, and image forming apparatus | |
JP2015059825A (en) | Three-dimensional measuring apparatus | |
JP4533785B2 (en) | Alignment sensor position calibration method, reference pattern calibration method, exposure position correction method, calibration pattern, and alignment apparatus | |
CN111432144B (en) | Imaging system and related electronic device and operating method of imaging system | |
JP2009540287A (en) | Method and apparatus for position detection of optical elements in an imaging system | |
JP2009085775A (en) | Measuring apparatus | |
US20110025823A1 (en) | Three-dimensional measuring apparatus | |
JP5021412B2 (en) | BGA solder ball height measuring device | |
US20120098963A1 (en) | Image measuring apparatus | |
JP2017032297A (en) | Measurement board and profilometer | |
JP2010190812A (en) | Three-dimensional shape measuring device and three-dimensional shape measuring method | |
JP2009085739A (en) | Shape measuring instrument and shape measuring method | |
JP6215822B2 (en) | Digital mobile measuring device | |
JP6774929B2 (en) | Three-dimensional measuring device | |
JP5200774B2 (en) | Inspection apparatus and method | |
JPH08304040A (en) | Three-dimensional shape measuring apparatus | |
KR102413894B1 (en) | Exposure device | |
JP2000097635A (en) | Optical sensor | |
JP4294229B2 (en) | Scanning optical system beam measuring apparatus and scanning optical system beam measuring method | |
JPH08327337A (en) | Three dimensional shape measuring apparatus | |
JPH08327336A (en) | Three dimensional shape-measuring apparatus | |
JP2003333248A (en) | Method and apparatus for inspecting image reader and member for inspection |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090928 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100812 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120607 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |