JP5010127B2 - High refractive index polysilane - Google Patents
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Description
本発明は、非常に高い屈折率を有するとともに、溶媒溶解性及び成膜性に優れるポリシラン及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a polysilane having a very high refractive index and excellent solvent solubility and film-forming properties, and a method for producing the same.
ポリシランは、セラミックス前駆体、光電子材料(例えば、フォトレジスト、有機感光体などの光電子写真材料、光導波路などの光伝送材料、光メモリなどの光記録材料、エレクトロルミネッセンス素子用材料など)などとして注目されている。このような用途では、ポリシランは、通常、薄膜の形態で使用される。しかし、最も一般的なポリシランであるメチルフェニルポリシラン、ジフェニルポリシランは、溶媒への溶解性が低く、しかもこれらのポリシランの薄膜は硬くて脆く、機械的強度が低いため、クラックなどの欠陥を生じやすい。また、ポリシランの屈折率は、有機化合物としては高いものの、ほとんどが1.75以下であり、また、屈折率の高いポリシランほど溶媒への溶解性や耐クラック性が低いという傾向がある。 Polysilanes are attracting attention as ceramic precursors, optoelectronic materials (for example, photoelectrophotographic materials such as photoresists and organic photoreceptors, optical transmission materials such as optical waveguides, optical recording materials such as optical memories, and materials for electroluminescent elements). ing. In such applications, polysilane is usually used in the form of a thin film. However, methylphenyl polysilane and diphenyl polysilane, which are the most common polysilanes, have low solubility in solvents, and the thin films of these polysilanes are hard and brittle, and have low mechanical strength. . Moreover, although the refractive index of polysilane is high as an organic compound, most is 1.75 or less, and polysilane with a higher refractive index tends to have lower solubility in solvents and crack resistance.
なお、ポリシランを製造する方法として、WO98/29476号パンフレット(特許文献1)には、非プロトン性溶媒中、リチウム塩(LiCl、LiNO3、Li2CO3、LiClO4など)及び金属ハロゲン化物(FeCl2、FeCl3など)の共存下、ジハロシランにマグネシウム又はマグネシウム合金を作用させることにより、ポリシランを形成する方法が開示されている。しかし、この方法では、リチウム塩、金属ハロゲン化物及びマグネシウム成分の3成分が必須であるとともに、得られるポリシランは、溶媒への溶解性や樹脂などに対する親和性、成膜性が不十分である。 As a method for producing polysilane, WO 98/29476 pamphlet (Patent Document 1) includes lithium salts (LiCl, LiNO 3 , Li 2 CO 3 , LiClO 4, etc.) and metal halides (aprotic solvent) (Patent Document 1). A method of forming polysilane by allowing magnesium or a magnesium alloy to act on dihalosilane in the presence of FeCl 2 , FeCl 3, etc. is disclosed. However, in this method, three components of a lithium salt, a metal halide, and a magnesium component are essential, and the resulting polysilane has insufficient solubility in a solvent, affinity for a resin, and film formability.
また、特開2005−36139号公報(特許文献2)には、ジアリールシラン単位と他のハロシラン単位(モノ乃至テトラハロシラン単位など)とで構成されたコポリシランが開示されている。そして、前記特許文献2の実施例では、ジフェニルジクロロシランとフェニルトリクロロシランとを400/100(モル比)で用いて得られたコポリシランが開示されている。しかし、このようなコポリシランでは、溶媒溶解性及び成膜性に加え、屈折率も1.70〜1.73とある程度改善できるものの、さらに高い屈折率(例えば、1.75以上の屈折率)が要求される用途には適用できない。
従って、本発明の目的は、屈折率が非常に高く、溶媒への溶解性や成膜性に優れ、薄膜として使用可能なポリシラン及びその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a polysilane having a very high refractive index, excellent solubility in a solvent and film formability, and usable as a thin film, and a method for producing the same.
また、本発明の他の目的は、簡便な方法により、ポリシランの物性を制御可能なポリシランの製造方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a method for producing polysilane capable of controlling the physical properties of polysilane by a simple method.
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、アリールトリハロシラン化合物とモノハロシラン化合物及び/又はジハロシラン化合物とを反応させると、屈折率が高く、溶媒への溶解性や成膜性に優れるポリシランが容易に得られることを見いだし、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention reacted with an aryltrihalosilane compound, a monohalosilane compound, and / or a dihalosilane compound, resulting in a high refractive index and improved solubility in a solvent and film formability. The inventors have found that excellent polysilane can be easily obtained, and completed the present invention.
すなわち、本発明のポリシランは、アリールトリハロシラン単位と、モノハロシラン単位及びジハロシラン単位から選択された少なくとも一種の他のハロシラン単位とで構成されたポリシランである。前記ポリシランは、(i)金属マグネシウム成分単独で構成された触媒、あるいは(ii)金属マグネシウム成分とハロゲン化リチウム又は多価金属のハロゲン化物とを組合せた触媒系の存在下、非プロトン性溶媒中、アリールトリハロシラン化合物と、モノハロシラン化合物及びジハロシラン化合物から選択された少なくとも一種の他のハロシラン化合物との反応により得られる。 That is, the polysilane of the present invention is a polysilane composed of an aryltrihalosilane unit and at least one other halosilane unit selected from a monohalosilane unit and a dihalosilane unit. The polysilane is prepared in an aprotic solvent in the presence of (i) a catalyst composed of a metal magnesium component alone, or (ii) a catalyst system combining a metal magnesium component and lithium halide or a halide of a polyvalent metal. And an aryl trihalosilane compound and at least one other halosilane compound selected from a monohalosilane compound and a dihalosilane compound.
前記ポリシランにおいて、アリールトリハロシラン単位と他のハロシラン単位との割合(モル比)は、前者/後者=60/40〜99/1程度であってもよい。 In the polysilane, the ratio (molar ratio) between the aryltrihalosilane unit and the other halosilane unit may be about the former / the latter = 60/40 to 99/1.
前記アリールトリハロシラン単位は、下記式(1) The aryltrihalosilane unit has the following formula (1)
(式中、X1〜X3は同一又は異なってハロゲン原子を示し、R1は有機基又はシリル基を示し、R1はnによって異なっていてもよい。nは0〜5の整数である)
で表されるアリールトリハロシラン化合物に対応するハロシラン単位であってもよく、前記モノハロシラン単位は、下記式(2)
(In the formula, X 1 to X 3 are the same or different and each represents a halogen atom, R 1 represents an organic group or a silyl group, R 1 may be different depending on n, and n is an integer of 0 to 5. )
The monohalosilane unit may be a halosilane unit corresponding to the aryltrihalosilane compound represented by the following formula (2):
(式中、X4はハロゲン原子を示し、R2〜R4は同一又は異なって、水素原子、有機基又はシリル基を示す)
で表されるモノハロシラン化合物に対応するハロシラン単位であってもよく、前記ジハロシラン単位は、下記式(3)
(Wherein X 4 represents a halogen atom, and R 2 to R 4 are the same or different and represent a hydrogen atom, an organic group or a silyl group)
The dihalosilane unit may be a halosilane unit corresponding to the monohalosilane compound represented by the following formula (3):
(式中、X5及びX6は同一又は異なって、ハロゲン原子を示し、R5及びR6は同一又は異なって、水素原子、有機基又はシリル基を示す)
で表されるジハロシラン化合物に対応するハロシラン単位であってもよい。前記式(1)〜(3)において、R1〜R6で表される有機基は、炭化水素基、アルコキシ基、アミノ基、又はN−置換アミノ基であってもよい。前記ポリシランは、C6-10アリールトリハロシラン化合物に対応する単位と、トリアルキルハロシラン、アルキルアリールジハロシラン、及びジアリールジハロシランから選択された少なくとも一種の他のハロシラン化合物に対応するシラン単位とを有していてもよい。
(In the formula, X 5 and X 6 are the same or different and represent a halogen atom, and R 5 and R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom, an organic group or a silyl group)
The halosilane unit corresponding to the dihalosilane compound represented by these may be sufficient. In the formulas (1) to (3), the organic group represented by R 1 to R 6 may be a hydrocarbon group, an alkoxy group, an amino group, or an N-substituted amino group. The polysilane includes a unit corresponding to a C 6-10 aryltrihalosilane compound and a silane unit corresponding to at least one other halosilane compound selected from trialkylhalosilane, alkylaryldihalosilane, and diaryldihalosilane. You may have.
本発明では、(i)金属マグネシウム成分単独で構成された触媒、あるいは(ii)金属マグネシウム成分とハロゲン化リチウム又は多価金属のハロゲン化物とを組合せた触媒系の存在下、非プロトン性溶媒中で、アリールトリハロシラン化合物と、モノハロシラン化合物及びジハロシラン化合物から選択された少なくとも一種の他のハロシラン化合物とを反応させてポリシランを製造する。 In the present invention, (i) a catalyst composed of a metal magnesium component alone, or (ii) a catalyst system in which a metal magnesium component and a lithium halide or a halide of a polyvalent metal are combined, in an aprotic solvent. A polysilane is produced by reacting an aryltrihalosilane compound with at least one other halosilane compound selected from a monohalosilane compound and a dihalosilane compound.
本発明には、前記ポリシランを用いて、製膜性及び/又は溶媒への溶解性と、屈折率とを改善する方法も含まれる。 The present invention also includes a method for improving the film forming property and / or the solubility in a solvent and the refractive index using the polysilane.
本発明では、アリールトリハロシラン単位と特定のシラン単位(モノハロシラン単位及び/又はジハロシラン単位)とでポリシランを構成するので、屈折率が非常に高いポリシランを簡便に製造できる。また、溶媒への溶解性、樹脂に対する相溶性及び成膜性にも優れ、薄膜として使用可能なポリシランを簡便に製造できる。また、アリールトリハロシラン単位と、特定のシラン単位とを組み合わせるので、特に特殊な装置や方法を用いなくても、簡便な方法により、ポリシランを高収率で製造できるとともに、ポリシランの物性を容易に制御することができる。 In the present invention, since the polysilane is composed of the aryltrihalosilane unit and the specific silane unit (monohalosilane unit and / or dihalosilane unit), a polysilane having a very high refractive index can be easily produced. Further, it is excellent in solubility in a solvent, compatibility with a resin, and film formability, and a polysilane usable as a thin film can be easily produced. Moreover, since the aryltrihalosilane unit and the specific silane unit are combined, polysilane can be produced in a high yield by a simple method without using any special apparatus or method, and the physical properties of the polysilane can be easily obtained. Can be controlled.
[ポリシラン]
本発明のポリシランは、アリールトリハロシラン単位と、モノハロシラン単位及びジハロシラン単位から選択された少なくとも一種の他のハロシラン単位とで構成されたコポリシランである。前記ポリシランは、前記アリールトリハロシラン単位に対応するアリールトリハロシラン化合物と、前記モノハロシラン単位及びジハロシラン単位にそれぞれ対応するモノハロシラン化合物及びジハロシラン化合物から選択された少なくとも一種の他のハロシラン化合物との反応により得られる。
[Polysilane]
The polysilane of the present invention is a copolysilane composed of an aryltrihalosilane unit and at least one other halosilane unit selected from a monohalosilane unit and a dihalosilane unit. The polysilane is obtained by reacting an aryltrihalosilane compound corresponding to the aryltrihalosilane unit with at least one other halosilane compound selected from a monohalosilane compound and a dihalosilane compound corresponding to the monohalosilane unit and the dihalosilane unit, respectively. .
前記アリールトリハロシラン化合物、モノハロシラン化合物及びジハロシラン化合物は、それぞれ、前記式(1)、(2)及び(3)で表されるアリールトリハロシラン化合物、モノハロシラン化合物、及びジハロシラン化合物であってもよい。 The aryltrihalosilane compound, monohalosilane compound, and dihalosilane compound may be an aryltrihalosilane compound, a monohalosilane compound, and a dihalosilane compound represented by the formulas (1), (2), and (3), respectively.
前記式(1)、(2)及び(3)において、R1〜R6で表される有機基としては、アルキル基[メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及びt−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルキル基(好ましくはC1-6アルキル基、特にC1-4アルキル基など)など]、シクロアルキル基(シクロヘキシル基などのC5-8シクロアルキル基、特にC5-6シクロアルキル基など)、アリール基(フェニル、ナフチル基などのC6-10アリール基など)、アラルキル基[ベンジル、フェネチル基などのC6-10アリール−C1-6アルキル基(C6-10アリール−C1-4アルキル基など)など]などの炭化水素基の他、アルコキシ基[メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ及びt−ブトキシ基などのC1-10アルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、特にC1-4アルコキシ基)など]、アミノ基、及びN−置換アミノ基(前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基などで置換されたN−モノ又はジ置換アミノ基など)などが挙げられる。 In the above formulas (1), (2) and (3), the organic group represented by R 1 to R 6 is an alkyl group [straight chain such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and t-butyl groups. Or a branched C 1-10 alkyl group (preferably a C 1-6 alkyl group, particularly a C 1-4 alkyl group, etc.), a cycloalkyl group (C 5-8 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, in particular C 5-6 cycloalkyl group and the like), aryl groups (C 6-10 aryl groups such as phenyl and naphthyl groups), aralkyl groups [C 6-10 aryl-C 1-6 alkyl groups such as benzyl and phenethyl groups ( C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl group etc.), etc.], as well as alkoxy groups [C 1-10 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy and t-butoxy groups] (Preferably C 1-6 alkoxy groups, especially C 1-4 alkoxy group), etc.], an amino group, and N- substituted amino group (said alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, N substituted with an acyl group -Mono- or di-substituted amino group, etc.).
前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を構成するアリール基などは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、前記例示のアルキル基(特にC1-6アルキル基など)、前記例示のアルコキシ基などが挙げられる。置換基の個数は、特に制限されず、1つであってもよく、複数(例えば、2〜4個)であってもよい。このような置換基を有する有機基としては、例えば、トリル、キシレニル、エチルフェニル、メチルナフチル基などのC1-6アルキルC6-10アリール基(好ましくはモノ乃至トリC1-4アルキルC6-10アリール基、特にモノ又はジC1-4アルキルフェニル基など);メトキシフェニル、エトキシフェニル、メトキシナフチル基などのC1-10アルコキシC6-10アリール基(好ましくはC1-6アルコキシC6-10アリール基、特にC1-4アルコキシフェニル基など)などが挙げられる。 The aryl group constituting the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or aralkyl group may have a substituent. Examples of such a substituent include the above-exemplified alkyl groups (particularly, C 1-6 alkyl groups and the like), the above-exemplified alkoxy groups and the like. The number of substituents is not particularly limited, and may be one or plural (for example, 2 to 4). Examples of the organic group having such a substituent include C 1-6 alkyl C 6-10 aryl groups such as tolyl, xylenyl, ethylphenyl, and methylnaphthyl groups (preferably mono to tri C 1-4 alkyl C 6 -10 aryl groups, especially mono or di C 1-4 alkylphenyl groups); C 1-10 alkoxy C 6-10 aryl groups such as methoxyphenyl, ethoxyphenyl, methoxynaphthyl groups (preferably C 1-6 alkoxy C) 6-10 aryl group, especially C 1-4 alkoxyphenyl group, etc.).
R1〜R6で表されるシリル基は、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基及びアルコキシ基などで置換された置換シリル基であってもよい。 The silyl group represented by R 1 to R 6 may be a substituted silyl group substituted with the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or the like.
これらの基のうち、水素原子又は炭化水素基、特に、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アラルキル基など)が好ましい。 Of these groups, hydrogen atoms or hydrocarbon groups, particularly hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, etc.) are preferred.
前記式(1)〜(3)において、X1〜X6で表されるハロゲン原子には、F、Cl、Br、I原子が含まれる。これらのハロゲン原子のうち、特に、Cl及びBr(特にCl)原子が好ましい。 In the above formulas (1) to (3), the halogen atoms represented by X 1 to X 6 include F, Cl, Br, and I atoms. Of these halogen atoms, Cl and Br (especially Cl) atoms are particularly preferred.
(1)アリールトリハロシラン化合物
前記式(1)で表されるアリールトリハロシラン化合物において、nは0〜5の整数、好ましくは0〜3の整数、さらに好ましくは0〜2の整数であってもよい。また、基R1はnによって異なっていてもよい。
(1) Aryltrihalosilane compound In the aryltrihalosilane compound represented by the formula (1), n may be an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2. Good. The group R 1 may be different depending on n.
アリールトリハロシラン化合物としては、前記式(1)において、基R1を有しない、すなわちn=0であるフェニルトリハロシラン化合物、又は基R1が前記アルキル基(例えば、メチル基、エチル基などのC1-6アルキル基など)及び/又は前記アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基などのC1-6アルコキシ基など)などである置換フェニルトリハロシラン化合物(例えば、nが1〜3の整数である化合物)が好ましい。 As the aryl trihalosilane compound, in the formula (1), a phenyl trihalosilane compound that does not have the group R 1 , that is, n = 0, or the group R 1 is an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, or the like). A substituted phenyltrihalosilane compound (for example, n is an integer of 1 to 3) such as a C 1-6 alkyl group) and / or the above alkoxy group (C 1-6 alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, etc.). Compound) is preferred.
アリールトリハロシラン化合物の具体例としては、例えば、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリブロモシラン、フェニルブロモジクロロシランなどのフェニルトリハロシラン;前記フェニルトリハロシランに対応する置換フェニルトリハロシラン(トリルトリクロロシラン、キシリルトリクロロシラン、メトキシトリルトリクロロシランなどのモノ乃至トリC1-4アルキル−フェニルトリハロシラン;メトキシフェニルトリクロロシランなどのモノ乃至トリC1-4アルコキシ−フェニルトリハロシランなど)などのC6-10アリールトリハロシランなどが挙げられる。 Specific examples of the aryltrihalosilane compound include phenyltrihalosilanes such as phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, and phenylbromodichlorosilane; substituted phenyltrihalosilanes corresponding to the phenyltrihalosilane (tolyltrichlorosilane and xylyltrichlorosilane). C 6-10 aryl trihalosilanes such as mono to tri C 1-4 alkyl-phenyl trihalosilanes such as methoxytolyltrichlorosilane; mono to tri C 1-4 alkoxy-phenyl trihalosilanes such as methoxyphenyl trichlorosilane Is mentioned.
アリールトリハロシラン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Aryl trihalosilane compounds can be used alone or in combination of two or more.
(2)モノハロシラン化合物
前記式(2)のモノハロシラン化合物において、基R2〜R4としては、アルキル基、アリール基などの炭化水素基が好ましい。
(2) Monohalosilane Compound In the monohalosilane compound of the above formula (2), the groups R 2 to R 4 are preferably hydrocarbon groups such as alkyl groups and aryl groups.
モノハロシラン化合物の具体例としては、例えば、トリアルキルハロシラン(トリメチルクロロシランなどのトリC1-6アルキルハロシランなど)、ジアルキルアリールハロシラン(ジメチルフェニルクロロシランなどのジC1-6アルキルC6-10アリールハロシランなど)、アルキルジアリールハロシラン(メチルジフェニルクロロシランなどのC1-6アルキルジC6-10アリールハロシランなど)、トリアリールハロシラン(トリフェニルクロロシランなどのトリC6-10アリールハロシランなど)などが例示できる。 Specific examples of the monohalosilane compound include, for example, trialkylhalosilanes (such as tri-C 1-6 alkylhalosilanes such as trimethylchlorosilane) and dialkylarylhalosilanes (di-C 1-6 alkyl C 6-10 such as dimethylphenylchlorosilane). arylhalosilanes etc.), a C 1-6 alkyl di C 6-10 aryl halosilanes, such as an alkyl diaryl halo silane (methyl diphenyl chlorosilane), triaryl halo silane (tri C 6-10 aryl halosilane such as triphenyl chlorosilane, etc. And the like.
これらのモノハロシラン化合物は、単独で又は二種以上組合せて使用できる。 These monohalosilane compounds can be used alone or in combination of two or more.
(3)ジハロシラン化合物
前記式(3)のジハロシラン化合物において、基R5及びR6としては、アルキル基、アリール基などの炭化水素基が好ましい。
(3) Dihalosilane Compound In the dihalosilane compound of the above formula (3), the groups R 5 and R 6 are preferably hydrocarbon groups such as alkyl groups and aryl groups.
ジハロシラン化合物の具体例としては、例えば、ジアルキルジハロシラン(ジメチルジクロロシランなどのジC1-4アルキルジハロシランなど)、アルキルアリールジハロシラン(メチルフェニルジクロロシランなどのC1-4アルキルC6-10アリールジハロシランなど)、ジアリールジハロシラン(ジフェニルジクロロシランなどのジC6-10アリールジハロシランなど)などが挙げられる。 Specific examples of the dihalosilane compound include, for example, dialkyldihalosilane (diC 1-4 alkyldihalosilane such as dimethyldichlorosilane) and alkylaryldihalosilane (C 1-4 alkylC such as methylphenyldichlorosilane). 6-10 an aryl dihalo silane), and di-C 6-10 aryl dihalo silane such as diaryl dihalo silane (diphenyl dichlorosilane) and the like.
これらのジハロシラン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 These dihalosilane compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記他のハロシラン化合物のうち、特に、トリアルキルハロシラン、アルキルアリールジハロシラン、ジアリールジハロシランなどが好ましい。すなわち、ポリシランのうち、これらの他のハロシラン化合物に対応するシラン単位と、アリールトリハロシラン単位(C6-10アリールトリハロシランなど)とを有するポリシランが好ましい。 Of the other halosilane compounds, trialkylhalosilane, alkylaryldihalosilane, diaryldihalosilane and the like are particularly preferable. That is, among polysilanes, polysilanes having silane units corresponding to these other halosilane compounds and aryltrihalosilane units (such as C 6-10 aryltrihalosilane) are preferred.
ポリシランの重合形態は、特に限定されず、ランダム又はブロックコポリマーであってもよい。ブロックコポリマーは、例えば、ジハロシラン化合物(3)のオリゴマー又は重合体(特に、ジハロシラン単位の繰り返し数が多いオリゴマー又は重合体)を用いることにより得ることができる。また、ハロシラン化合物(2)や(3)をモノマーとして、またハロシラン単位の繰り返し数が小さなオリゴマーなどを用いると、ランダムコポリマーを得ることができる。 The polymerization form of polysilane is not particularly limited, and may be a random or block copolymer. The block copolymer can be obtained, for example, by using an oligomer or polymer of the dihalosilane compound (3) (particularly an oligomer or polymer having a large number of repeating dihalosilane units). A random copolymer can be obtained by using the halosilane compound (2) or (3) as a monomer or an oligomer having a small number of repeating halosilane units.
ポリシランにおいて、アリールトリハロシラン化合物(アリールトリハロシラン単位)と他のトリハロシラン化合物(他のトリハロシラン単位)との割合(モル比)は、特に制限されず、前者/後者=10/90〜99/1の広い範囲から選択でき、例えば、10/90〜95/5、好ましくは20/80〜90/10、さらに好ましくは30/70〜80/20程度であってもよい。なお、他のハロシラン単位が、ジアリールジハロシラン単位を含む場合、前記ジアリールジハロシラン単位1モルに対する前記アリールトリハロシラン単位の割合は、0.25モルを越えるのが好ましい。本発明のポリシランは、通常、アリールトリハロシラン単位を主たる構成単位として含んでおり、前記アリールトリハロシラン化合物と他のトリハロシラン化合物との割合は、例えば、55/45〜99/1、好ましくは60/40〜95/5、さらに好ましくは65/35〜90/10程度であってもよい。 In the polysilane, the ratio (molar ratio) of the aryl trihalosilane compound (aryltrihalosilane unit) and the other trihalosilane compound (other trihalosilane unit) is not particularly limited, and the former / the latter = 10/90 to 99 / 1 can be selected from a wide range, for example, 10/90 to 95/5, preferably 20/80 to 90/10, and more preferably about 30/70 to 80/20. In addition, when another halosilane unit contains a diaryldihalosilane unit, the ratio of the aryltrihalosilane unit to 1 mol of the diaryldihalosilane unit is preferably more than 0.25 mol. The polysilane of the present invention usually contains an aryl trihalosilane unit as a main constituent unit, and the ratio of the aryl trihalosilane compound to the other trihalosilane compound is, for example, 55/45 to 99/1, preferably 60. / 40 to 95/5, more preferably about 65/35 to 90/10.
ハロシラン単位全体に対するアリールトリハロシラン単位の割合(すなわち、ハロシラン化合物全体に対するアリールトリハロシラン化合物の割合)は、例えば、50モル%以上(例えば、50〜98モル%程度)、好ましくは55〜97モル%(例えば、60〜97モル%)、さらに好ましくは65〜95モル%(例えば、70〜95モル%)程度であってもよい。 The ratio of the aryltrihalosilane unit to the entire halosilane unit (that is, the ratio of the aryltrihalosilane compound to the entire halosilane compound) is, for example, 50 mol% or more (for example, about 50 to 98 mol%), preferably 55 to 97 mol%. (For example, 60 to 97 mol%), more preferably about 65 to 95 mol% (for example, 70 to 95 mol%).
なお、ポリシランにおいて、トリハロシラン化合物の割合が大きくなると、屈折率は向上するものの、溶媒に対する溶解性は低下する傾向にある。また、トリハロシラン化合物の割合が小さくなると、溶媒に対する溶解性及び成膜性は向上するものの、屈折率は徐々に低下する傾向にある。 In polysilane, when the proportion of the trihalosilane compound is increased, the refractive index is improved, but the solubility in a solvent tends to be reduced. Further, when the proportion of the trihalosilane compound is reduced, the solubility in a solvent and the film formability are improved, but the refractive index tends to gradually decrease.
ポリシランの重量平均分子量は、例えば、500〜5,000、好ましくは800〜4,000、さらに好ましくは1,000〜3,000(例えば、1,200〜2,500)程度である。 The weight average molecular weight of polysilane is, for example, about 500 to 5,000, preferably about 800 to 4,000, and more preferably about 1,000 to 3,000 (for example, 1,200 to 2,500).
また、ポリシランの薄膜屈折率(ポリシランで形成した薄膜の屈折率(波長589.4nmの光に対する屈折率))は、薄膜の厚みが1μmのとき、1.75以上(例えば、1.75〜1.85)、好ましくは1.755〜1.85、さらに好ましくは1.76〜1.85程度である。 The thin film refractive index of polysilane (the refractive index of the thin film formed of polysilane (refractive index for light having a wavelength of 589.4 nm)) is 1.75 or more (for example, 1.75 to 1) when the thickness of the thin film is 1 μm. .85), preferably 1.755 to 1.85, more preferably about 1.76 to 1.85.
ポリシランの溶液透過率(波長600nmの可視光に対する透過率)は、ポリシランを50重量%の濃度で含むトルエン溶液について、60%以上(例えば、65〜100%程度)、好ましくは70〜100%、さらに好ましくは80〜100%(例えば、90〜100%)程度である。また、前記溶液透過率は、ポリシランを10重量%の濃度で含むプロピレングリコール−1−モノエチルエーテル−2−アセタート(PGMEA)溶液について、70%以上(例えば、70〜100%)、好ましくは80〜100%(例えば、90〜100%)、さらに好ましくは90〜100%程度である。ポリシランは、前記トルエン溶液及びPGMEA溶液の少なくとも一方が、このような範囲の溶液透過率を有していてもよいが、通常、双方の溶液について、上記範囲の溶液透過率を有している場合が多い。 The solution transmittance of polysilane (transmittance for visible light having a wavelength of 600 nm) is 60% or more (for example, about 65 to 100%), preferably 70 to 100%, with respect to a toluene solution containing polysilane at a concentration of 50% by weight. More preferably, it is about 80 to 100% (for example, 90 to 100%). The solution permeability is 70% or more (for example, 70 to 100%), preferably 80 for a propylene glycol-1-monoethyl ether-2-acetate (PGMEA) solution containing polysilane at a concentration of 10% by weight. It is about -100% (for example, 90-100%), More preferably, it is about 90-100%. In the polysilane, at least one of the toluene solution and the PGMEA solution may have a solution permeability in such a range. Usually, both solutions have a solution permeability in the above range. There are many.
[ポリシランの製造方法]
前記ポリシランは、アリールトリハロシラン化合物と、モノハロシラン化合物及びジハロシラン化合物から選択された少なくとも一種の他のハロシラン化合物とを反応させることにより製造できる。前記アリールトリハロシラン化合物と、他のハロシラン化合物との反応は、通常、(i)マグネシウム金属成分又は(ii)マグネシウム金属成分及び金属ハロゲン化物の存在下、非プロトン性溶媒中で行ってもよい。
[Production method of polysilane]
The polysilane can be produced by reacting an aryltrihalosilane compound with at least one other halosilane compound selected from a monohalosilane compound and a dihalosilane compound. The reaction between the aryltrihalosilane compound and another halosilane compound may be usually carried out in an aprotic solvent in the presence of (i) a magnesium metal component or (ii) a magnesium metal component and a metal halide.
(触媒又は触媒系)
前記反応において、(i)マグネシウム金属成分、及び(ii)マグネシウム金属成分及び金属ハロゲン化物は、それぞれ触媒又は触媒系を構成する。本発明の製造方法では、金属ハロゲン化物は、必須ではなく、マグネシウム金属成分単独でも、屈折率及び溶媒に対する溶解性の高いポリシランを製造することが可能である。特に、従来使用されていた触媒系、例えば、マグネシウム金属成分と、ハロゲン化リチウム又はリチウム塩と、他の金属ハロゲン化物(リチウムを除く金属のハロゲン化物)との3成分を組合せて用いる必要がなく、かつ屈折率を大きく改善(1.75以上に改善)することができる。
(Catalyst or catalyst system)
In the reaction, (i) magnesium metal component, and (ii) magnesium metal component and metal halide constitute a catalyst or a catalyst system, respectively. In the production method of the present invention, the metal halide is not essential, and it is possible to produce a polysilane having a high refractive index and a high solubility in a solvent even with a magnesium metal component alone. In particular, conventionally used catalyst systems, for example, there is no need to use a combination of three components of a magnesium metal component, a lithium halide or lithium salt, and another metal halide (metal halide other than lithium). In addition, the refractive index can be greatly improved (improved to 1.75 or more).
(a)マグネシウム金属成分
マグネシウム金属成分は、少なくともマグネシウムを含有していればよく、マグネシウム金属単体又はマグネシウム系合金、あるいは前記マグネシウム金属又は合金を含む混合物などであってもよい。マグネシウム合金としては、特に制限されず、慣用のマグネシウム合金、例えば、アルミニウム、亜鉛、希土類元素(スカンジウム、イットリウムなど)などの成分を含むマグネシウム合金などが例示できる。これらのマグネシウム金属成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
(a) Magnesium metal component The magnesium metal component only needs to contain at least magnesium, and may be a magnesium metal alone or a magnesium-based alloy, or a mixture containing the magnesium metal or alloy. The magnesium alloy is not particularly limited, and examples thereof include conventional magnesium alloys such as magnesium alloys containing components such as aluminum, zinc, rare earth elements (scandium, yttrium, etc.). These magnesium metal components can be used alone or in combination of two or more.
マグネシウム金属成分の形状は、ハロシラン化合物の反応性を損なわない限り特に限定されないが、粉粒状体(粉体、粒状体など)、リボン状体、切削片状体、塊状体、棒状体、平板などが例示され、特に表面積の大きい形状(粉体、粒状体、リボン状体、切削片状体など)であるのが好ましい。マグネシウム金属成分が粉粒状の場合、平均粒径は、例えば、1〜10,000μm、好ましくは10〜5,000μm、さらに好ましくは20〜1,000μm程度である。 The shape of the magnesium metal component is not particularly limited as long as it does not impair the reactivity of the halosilane compound, but it is a powdered granule (powder, granule, etc.), ribbon, cut piece, lump, rod, flat plate, etc. In particular, a shape having a large surface area (powder, granule, ribbon, cut piece, etc.) is preferable. When the magnesium metal component is granular, the average particle size is, for example, 1 to 10,000 μm, preferably 10 to 5,000 μm, and more preferably about 20 to 1,000 μm.
なお、マグネシウム金属成分の保存状況などによっては、金属表面に被膜(酸化被膜など)が形成されることがある。この被膜は反応に悪影響を及ぼすことがあるので、必要に応じて、切削などによって除去してもよい。 Depending on the storage status of the magnesium metal component, a film (such as an oxide film) may be formed on the metal surface. Since this coating may adversely affect the reaction, it may be removed by cutting or the like, if necessary.
マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン化合物のハロゲンに対して、マグネシウム換算で、1〜10当量であり、好ましくは1〜5当量、さらに好ましくは1〜3当量程度である。また、マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン化合物に対してモル数でマグネシウムとして1〜10倍であり、より好ましくは1.2〜5倍であり、最も好ましくは1.5〜3倍程度である。 The usage-amount of a magnesium metal component is 1-10 equivalent normally in conversion of magnesium with respect to the halogen of a halosilane compound, Preferably it is 1-5 equivalent, More preferably, it is about 1-3 equivalent. Moreover, the usage-amount of a magnesium metal component is 1-10 times as a magnesium normally with respect to a halosilane compound as magnesium, More preferably, it is 1.2-5 times, Most preferably, it is 1.5-3 times Degree.
マグネシウム金属成分は、前記式(1)〜(3)のハロシラン化合物を還元して、ポリシランコポリマーを形成させるとともに、マグネシウム自身は酸化されてハロゲン化物を形成する。 The magnesium metal component reduces the halosilane compounds of the above formulas (1) to (3) to form a polysilane copolymer, and magnesium itself is oxidized to form a halide.
(b)金属ハロゲン化物
金属ハロゲン化物を、マグネシウム金属成分と組み合わせて用いると、ハロシラン化合物の反応性を高めたり、生成物の溶媒への溶解性や成膜性を改善することもできる。また、生成物ポリシランの物性(屈折率、分子量など)を制御することもできる。但し、前記触媒系は、マグネシウム金属成分と、ハロゲン化リチウム又はリチウム塩と、リチウムを除く金属のハロゲン化物との組合せを含まない。
(b) Metal halide When a metal halide is used in combination with a magnesium metal component, the reactivity of the halosilane compound can be increased, and the solubility of the product in a solvent and the film formability can also be improved. Also, the physical properties (refractive index, molecular weight, etc.) of the product polysilane can be controlled. However, the catalyst system does not include a combination of a magnesium metal component, a lithium halide or lithium salt, and a metal halide other than lithium.
このような金属ハロゲン化物としては、ハロゲン化リチウム(塩化リチウムLiCl、臭化リチウムLiBr、ヨウ化リチウムLiIなど)及び多価金属のハロゲン化物などが例示できる。多価金属のハロゲン化物としては、例えば、遷移金属(例えば、サマリウムなどの周期表3A族元素;チタンなどの周期表4A族元素;バナジウムなどの周期表5A族元素;鉄、コバルト、パラジウムなどの周期表8族元素;亜鉛などの周期表2B族元素など)、周期表3B族金属(アルミニウムなど)、周期表4B族金属(スズなど)などのハロゲン化物(塩化物、臭化物又はヨウ化物など)などが挙げられる。 Examples of such metal halides include lithium halides (such as lithium chloride LiCl, lithium bromide LiBr, and lithium iodide LiI), and halides of polyvalent metals. Examples of the multivalent metal halide include transition metals (for example, periodic table group 3A elements such as samarium; periodic table group 4A elements such as titanium; periodic table group 5A elements such as vanadium; iron, cobalt, palladium, etc. Periodic table group 8 element; periodic table 2B group element such as zinc), periodic table group 3B metal (such as aluminum), periodic table group 4B metal (such as tin) halides (chloride, bromide, iodide, etc.) Etc.
金属ハロゲン化物の具体例としては、例えば、塩化物[LiCl;SmCl2、TiCl4、VCl2、塩化鉄(FeCl2、FeCl3など)、CoCl2、PdCl2、ZnCl2、AlCl3、SnCl2など]、臭化物(LiBr;FeBr2、FeBr3などの臭化鉄など)、ヨウ化物(SmI2など)などが例示できる。これらの金属ハロゲン化物のうち、塩化物(塩化リチウム、塩化鉄、塩化亜鉛など)及び臭化物が好ましい。金属ハロゲン化物は、単独で又は二種以上組合せて使用できる。 Specific examples of the metal halide include, for example, chloride [LiCl; SmCl 2 , TiCl 4 , VCl 2 , iron chloride (FeCl 2 , FeCl 3 etc.), CoCl 2 , PdCl 2 , ZnCl 2 , AlCl 3 , SnCl 2. And the like], bromides (LiBr; iron bromides such as FeBr 2 and FeBr 3 ), iodides (SmI 2 and the like), and the like. Of these metal halides, chlorides (lithium chloride, iron chloride, zinc chloride, etc.) and bromides are preferred. A metal halide can be used individually or in combination of 2 or more types.
また、前記触媒は、(i)金属マグネシウム成分単独、あるいは(ii)金属マグネシウム成分とハロゲン化リチウム又は多価金属のハロゲン化物との組合せ(すなわち、マグネシウム金属成分と、ハロゲン化リチウムと、多価金属のハロゲン化物との組合せは含まない)であってもよい。 The catalyst may be (i) a metal magnesium component alone or (ii) a combination of a metal magnesium component and a lithium halide or a halide of a polyvalent metal (that is, a magnesium metal component, a lithium halide, a polyvalent The combination with a metal halide is not included.
溶媒(又は反応液)中の金属ハロゲン化物の濃度は、例えば、0.001〜3mol/l、好ましくは0.005〜1mol/l、さらに好ましくは0.01〜0.5mol/l程度である。なお、反応液中の金属ハロゲン化物の濃度が高すぎると、生成するポリシランの溶解性は高くなる傾向にあるが、高い屈折率(例えば、屈折率1.75以上)を有するポリシランは得られ難くなる虞がある。 The concentration of the metal halide in the solvent (or reaction solution) is, for example, about 0.001 to 3 mol / l, preferably about 0.005 to 1 mol / l, more preferably about 0.01 to 0.5 mol / l. . If the concentration of the metal halide in the reaction solution is too high, the solubility of the resulting polysilane tends to be high, but it is difficult to obtain a polysilane having a high refractive index (for example, a refractive index of 1.75 or more). There is a risk of becoming.
(非プロトン性溶媒)
反応溶媒としては、非プロトン性溶媒が広く使用でき、例えば、エーテル類(1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテルなどの環状又は鎖状C4-6エーテル)、カーボネート類(プロピレンカーボネートなど)、ニトリル類(アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシドなど)、ハロゲン含有化合物(塩化メチレン、クロロホルム、ブロモホルム、クロロベンゼン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素など)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、脂肪族炭化水素類(例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、シクロオクタンなどの鎖状又は環状炭化水素類)などが挙げられる。これらの非プロトン性溶媒は、単独で又は二種以上組合わせて混合溶媒として使用できる。これらの溶媒のうち、極性溶媒単独(テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなど)、2種以上の極性溶媒の混合物、極性溶媒と非極性溶媒との混合物などが好ましい。極性溶媒と非極性溶媒との混合物を使用する場合、両者の割合は、前者/後者(重量比)=1/0.01〜1/20程度であってもよい。
(Aprotic solvent)
As the reaction solvent, aprotic solvents can be widely used. For example, ethers (1,4-dioxane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) Cyclic or linear C 4-6 ether such as ether), carbonates (such as propylene carbonate), nitriles (such as acetonitrile and benzonitrile), amides (such as dimethylformamide and dimethylacetamide), sulfoxides (such as dimethyl sulfoxide) , Halogen-containing compounds (halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, bromoform, chlorobenzene and bromobenzene), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg For example, chain or cyclic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, octane, and cyclooctane). These aprotic solvents can be used alone or in combination of two or more as a mixed solvent. Of these solvents, polar solvents alone (tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, etc.), a mixture of two or more polar solvents, a mixture of polar solvents and nonpolar solvents, and the like are preferable. When a mixture of a polar solvent and a nonpolar solvent is used, the ratio between the two may be the former / the latter (weight ratio) = 1 / 0.01 to 1/20.
なお、溶媒(又は反応液)中のハロシラン化合物の濃度が低すぎると、重合が効率よく行われない虞があり、高すぎると反応に使用する金属ハロゲン化物が溶解しない虞がある。そのため、溶媒(又は反応液)中のハロシラン化合物の濃度は、通常、0.05〜20mol/l、好ましくは0.2〜15mol/l、特に0.3〜13mol/l程度となるよう、溶媒の割合を適宜調整するのが好ましい。 In addition, when the density | concentration of the halosilane compound in a solvent (or reaction liquid) is too low, there exists a possibility that superposition | polymerization may not be performed efficiently, and when too high, there exists a possibility that the metal halide used for reaction may not melt | dissolve. Therefore, the concentration of the halosilane compound in the solvent (or reaction solution) is usually 0.05 to 20 mol / l, preferably 0.2 to 15 mol / l, particularly about 0.3 to 13 mol / l. It is preferable to appropriately adjust the ratio.
本発明の製造方法では、例えば、密閉可能な反応容器に、アリールトリハロシラン化合物(1)、他のハロシラン化合物(モノハロシラン化合物(2)及び/又はジハロシラン化合物(3))、及び前記触媒又は触媒系を反応溶媒とともに収容し、必要により機械的又は磁気的に攪拌しつつ、反応を行ってもよい。出発原料のハロシラン化合物は、予め、アリールトリハロシラン化合物と他のハロシラン化合物との混合物として用いてもよく、それぞれのハロシラン化合物を別途反応系に添加してもよい。例えば、アリールトリハロシラン化合物と他のハロシラン化合物とを併行して反応系に添加してもよく、一方のハロシラン化合物を添加して、ある程度反応を進行させた後、他方のハロシラン化合物を添加してもよい。なお、アリールトリハロシラン化合物と他のハロシラン化合物を予め混合して用いる方法は、ランダムコポリマーを得るのに有用であり、一方のハロシラン化合物の反応の途中で、他方のハロシラン化合物を添加する方法は、ブロックコポリマーを得るのに有用である。 In the production method of the present invention, for example, an aryltrihalosilane compound (1), another halosilane compound (monohalosilane compound (2) and / or dihalosilane compound (3)), and the catalyst or catalyst system are sealed in a sealable reaction vessel. May be accommodated together with the reaction solvent, and the reaction may be carried out with mechanical or magnetic stirring as necessary. The starting halosilane compound may be used in advance as a mixture of an aryltrihalosilane compound and another halosilane compound, or each halosilane compound may be added to the reaction system separately. For example, an aryl trihalosilane compound and another halosilane compound may be added to the reaction system in parallel. After one halosilane compound is added and the reaction proceeds to some extent, the other halosilane compound is added. Also good. In addition, a method in which an aryltrihalosilane compound and another halosilane compound are mixed in advance is useful for obtaining a random copolymer, and a method of adding the other halosilane compound during the reaction of one halosilane compound is as follows. Useful for obtaining block copolymers.
なお、反応において、基質のハロシラン化合物は、できる限り高純度であるのが好ましい。例えば、液体のハロシラン化合物では、水素化カルシウムなどの乾燥剤を用いて乾燥し、蒸留して使用するのが好ましく、固体のハロシラン化合物については、再結晶法などにより、精製して使用するのが好ましい。 In the reaction, the halosilane compound as the substrate is preferably as highly pure as possible. For example, liquid halosilane compounds are preferably dried using a desiccant such as calcium hydride and distilled, and solid halosilane compounds are preferably purified and used by recrystallization. preferable.
反応容器は、密閉できる限り、形状や構造についての制限は特にない。反応容器内は、乾燥雰囲気であればよいが、乾燥した不活性ガス(例えば、ヘリウム、窒素、アルゴンガス)雰囲気、特に、脱酸素し、乾燥したアルゴンガス雰囲気が好ましい。 As long as the reaction vessel can be sealed, there is no particular limitation on the shape and structure. The reaction vessel may have a dry atmosphere, but a dry inert gas (for example, helium, nitrogen, argon gas) atmosphere, particularly a deoxygenated and dried argon gas atmosphere is preferable.
反応時間は、ハロシラン化合物の種類や量、マグネシウム金属成分の量、金属ハロゲン化物の有無などによって異なるが、通常、5分以上であり、好ましくは30分〜100時間程度である。反応時間を調整することにより、ポリシランの分子量を制御してもよい。 The reaction time varies depending on the type and amount of the halosilane compound, the amount of the magnesium metal component, the presence or absence of a metal halide, etc., but is usually 5 minutes or longer, preferably about 30 minutes to 100 hours. The molecular weight of the polysilane may be controlled by adjusting the reaction time.
反応温度は、通常、−20℃から使用する溶媒の沸点までの温度範囲内にあり、好ましくは0〜70℃、さらに好ましくは15〜70℃程度の範囲内であってもよい。また反応温度を高くするほど高屈折率のポリシランが得られるが、溶媒への溶解性が低下する場合がある。 The reaction temperature is usually in the temperature range from −20 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably 0 to 70 ° C., more preferably about 15 to 70 ° C. Further, the higher the reaction temperature is, the higher the refractive index polysilane can be obtained, but the solubility in the solvent may decrease.
なお、フェニルトリクロロシランを原料とするホモポリマーは、製造条件によっては1.75以上の高屈折率を有するものの、殆どの有機溶媒に対して溶解性が低い。また、メチルフェニルジクロロシランやジフェニルジクロロシランなどを原料とするホモポリマーは、屈折率が1.75以下であり、成膜時にクラックが生じやすく、機械的強度も低い。 In addition, although the homopolymer which uses phenyltrichlorosilane as a raw material has a high refractive index of 1.75 or more depending on manufacturing conditions, its solubility with respect to most organic solvents is low. In addition, a homopolymer using methylphenyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, or the like as a raw material has a refractive index of 1.75 or less, is liable to crack during film formation, and has low mechanical strength.
これに対し、本発明では、高屈折率ポリシランの原料であるアリールトリハロシラン化合物と、他のハロシラン化合物(モノクロロハロシラン化合物及び/又はジハロシラン化合物)とを組み合わせてポリシランを製造するため、ポリシランの屈折率を(例えば、屈折率1.75以上に)向上できるだけでなく、溶媒(有機溶媒など)に対する溶解性、成膜性、及び樹脂(有機ポリマーなど)との相溶性も改善できる。そのため、本発明には、アリールトリハロシラン化合物に前記他のハロシラン化合物を反応させることにより、ポリシランの溶媒の対する溶解性、樹脂に対する相溶性(又は親和性)、及び/又は屈折率を改善する方法も含まれる。 In contrast, in the present invention, polysilane is produced by combining an aryltrihalosilane compound, which is a raw material of a high refractive index polysilane, with another halosilane compound (monochlorohalosilane compound and / or dihalosilane compound). In addition to improving the refractive index (for example, to a refractive index of 1.75 or more), solubility in a solvent (such as an organic solvent), film formability, and compatibility with a resin (such as an organic polymer) can be improved. Therefore, the present invention provides a method for improving the solubility of polysilane in a solvent, compatibility (or affinity) with a resin, and / or refractive index by reacting the aryltrihalosilane compound with the other halosilane compound. Is also included.
また、本発明では、特に特殊な装置や煩雑な手段を用いなくても、汎用の装置を用いて、簡便な方法により前記ポリシランを高収率で製造できる。また、ハロシラン化合物の組合せ、反応温度、反応時間、触媒又は触媒系の割合などを適宜調整することにより、ポリシランの構造や屈折率、分子量、溶解性などの諸物性を制御することもできる。 In the present invention, the polysilane can be produced in a high yield by a simple method using a general-purpose apparatus without using any special apparatus or complicated means. In addition, various physical properties such as the structure, refractive index, molecular weight, and solubility of polysilane can be controlled by appropriately adjusting the combination of halosilane compounds, reaction temperature, reaction time, ratio of catalyst or catalyst system, and the like.
なお、本発明のポリシランは、樹脂と組み合わせて樹脂組成物として用いてもよい。このような樹脂組成物において、前記ポリシラン(コポリシラン、又はポリシラン混合物)は、通常、添加剤として添加される。樹脂の種類は、特に限定されず、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれであってもよい。 In addition, you may use the polysilane of this invention as a resin composition in combination with resin. In such a resin composition, the polysilane (copolysilane or polysilane mixture) is usually added as an additive. The kind of resin is not specifically limited, Any of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be sufficient.
熱可塑性樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂[ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、非晶質ポリオレフィンなど]、ハロゲン含有樹脂[ポリ塩化ビニル、フッ化樹脂など]、スチレン系樹脂[ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂など]、アクリル系樹脂[ポリメタクリル酸メチルなど]、ポリカーボネート系樹脂[ビスフェノールA型ポリカーボネート樹脂など]、ポリエステル系樹脂[ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、液晶ポリエステルなど]、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂[ナイロン6、ナイロン66、ナイロン46、ナイロン6T、ナイロンMXDなど]、ポリフェニレンエーテル系樹脂[変性ポリフェニレンエーテルなど]、ポリスルホン系樹脂[ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど]、ポリイミド系樹脂[ポリエーテルイミド、ポリアミドイミドなど]、マレイミド系樹脂[ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミドトリアジン樹脂など]、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。 Examples of the thermoplastic resin include olefin resins [polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, amorphous polyolefin, etc.], halogen-containing resins [polyvinyl chloride, fluororesins, etc.], styrene resins [polystyrene, acrylonitrile-styrene. Resin], acrylic resin [polymethyl methacrylate, etc.], polycarbonate resin [bisphenol A type polycarbonate resin, etc.], polyester resin [polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyarylate , Liquid crystal polyester, etc.], polyacetal resin, polyamide resin [nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 6T, nylon MXD, etc.], poly Nylene ether resin [modified polyphenylene ether, etc.], polysulfone resin [polysulfone, polyethersulfone, etc.], polyimide resin [polyetherimide, polyamideimide, etc.], maleimide resin [polyamino bismaleimide, bismaleimide triazine resin, etc.] Examples thereof include thermoplastic elastomers.
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、アミノ樹脂[尿素樹脂、メラミン樹脂など]、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などが例示できる。熱硬化性樹脂は初期縮合物であってもよい。 Thermosetting resins include phenolic resin, furan resin, amino resin [urea resin, melamine resin, etc.], unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, vinyl ester resin, polyurethane resin, silicone resin, polyimide resin, etc. It can be illustrated. The thermosetting resin may be an initial condensate.
これらの樹脂は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。複数の樹脂を用いる場合、ポリマーアロイを形成していてもよい。 These resins can be used alone or in combination of two or more. When using a plurality of resins, a polymer alloy may be formed.
ポリシランの添加量は、樹脂及びポリシランの種類、並びに用途などによって異なるが、概ね樹脂100重量部に対し、0.01〜50重量部(例えば、0.5〜50重量部)、好ましくは0.1〜30重量部程度であってもよい。添加量が少ないと、樹脂に難燃性や撥水性などの特性を付与できず、多すぎると樹脂の特性を損なう場合がある。 The amount of polysilane added varies depending on the type of resin and polysilane, the application, and the like, but is generally 0.01 to 50 parts by weight (for example, 0.5 to 50 parts by weight), preferably 0. It may be about 1 to 30 parts by weight. If the addition amount is small, the resin cannot be imparted with characteristics such as flame retardancy and water repellency, and if it is too much, the resin characteristics may be impaired.
なお、前記樹脂組成物は、用途に応じて種々の添加剤、例えば、溶剤、充填剤、強化剤、可塑剤、硬化剤、重合開始剤、触媒、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、離型剤、帯電防止剤、着色剤、加硫剤、消泡剤、レベリング剤、分散剤、流動調整剤などを含んでいてもよい。 In addition, the resin composition has various additives, for example, a solvent, a filler, a reinforcing agent, a plasticizer, a curing agent, a polymerization initiator, a catalyst, a stabilizer (an antioxidant, an ultraviolet absorber, etc.). ), Release agents, antistatic agents, colorants, vulcanizing agents, antifoaming agents, leveling agents, dispersing agents, flow control agents, and the like.
樹脂へのポリシランの添加混合方法は、特に制限されず、通常、樹脂ペレットと、ポリシランと、必要により添加剤とを溶融混合する場合が多い。例えば、樹脂ペレットと安定剤などの成分とを予備混合したのち、ポリシランを、必要により強化剤や充填剤などの添加剤とともに混練装置で溶融混合してもよい。溶融混合された樹脂組成物は、通常、ペレット化され、成形に供される。混練装置はバッチ式と連続式がある。バッチ式混練装置としては、ミキシングロール、ニーダー、インテンシブミキサーなどが例示できる。連続式混練装置としては、単軸スクリュー押出機、噛合型2軸スクリュー押出機、非噛合型2軸押出機などが例示できる。 The method of adding and mixing polysilane to the resin is not particularly limited, and usually, resin pellets, polysilane, and if necessary, additives are often melt-mixed. For example, after premixing resin pellets and components such as a stabilizer, polysilane may be melt-mixed in a kneading apparatus together with additives such as reinforcing agents and fillers as necessary. The melt-mixed resin composition is usually pelletized and subjected to molding. There are two types of kneaders: a batch type and a continuous type. Examples of the batch-type kneader include a mixing roll, a kneader, and an intensive mixer. Examples of the continuous kneader include a single screw extruder, a meshing twin screw extruder, and a non-meshing twin screw extruder.
熱硬化性樹脂においては、一般的に、硬化剤などの各種樹脂添加剤とともに、ポリシランと樹脂初期縮合物とを混合することにより硬化性組成物が調製される。なお、ポリシランと樹脂初期縮合物とを混合又は溶解槽にて混合するとともに、必要により強化剤などの添加剤と混練して硬化性組成物を調製し、この硬化性組成物を基材などに含浸又は塗布して乾燥し、硬化させてもよい。 In a thermosetting resin, generally, a curable composition is prepared by mixing polysilane and a resin initial condensate together with various resin additives such as a curing agent. The polysilane and the resin initial condensate are mixed or mixed in a dissolution tank, and if necessary, kneaded with an additive such as a reinforcing agent to prepare a curable composition, and this curable composition is used as a base material. It may be impregnated or coated, dried and cured.
樹脂組成物の成形方法としては、樹脂の種類、用途によって異なるが、熱可塑性樹脂の場合は、押出成形、射出成形、ブロー成形、延伸フィルム成形、圧縮成形、カレンダー成形、RIM成形(反応射出成形)などの方法が例示できる。熱硬化性樹脂の場合は、圧縮成形、トランスファー成形、積層成形、注型成形、RIM成形などの方法が例示できる。 The molding method of the resin composition varies depending on the type and use of the resin, but in the case of a thermoplastic resin, extrusion molding, injection molding, blow molding, stretched film molding, compression molding, calendar molding, RIM molding (reaction injection molding) ) And the like. In the case of a thermosetting resin, methods such as compression molding, transfer molding, laminate molding, cast molding, and RIM molding can be exemplified.
本発明は、アリールポリシランの特性を維持しつつ、溶媒溶解性や樹脂などに対する親和性を向上できる。そのため、アリールポリシランの特性、例えば、難燃性、撥水性、離型性、滑り性などの特性を樹脂や基材などに有効に付与できる。そのため、種々の用途、例えば、セラミックス前駆体、光電子材料(例えば、フォトレジスト、有機感光体などの光電子写真材料、光導波路などの光伝送材料、光メモリなどの光記録材料、エレクトロルミネッセンス素子用材料など)、難燃剤、撥水剤、離型剤などとして利用できる。 The present invention can improve solvent solubility and affinity for resins while maintaining the characteristics of arylpolysilane. Therefore, the characteristics of the aryl polysilane, such as characteristics such as flame retardancy, water repellency, releasability, and slipperiness, can be effectively imparted to the resin and the substrate. Therefore, various uses, for example, ceramic precursors, optoelectronic materials (for example, photoelectrophotographic materials such as photoresists and organic photoreceptors, optical transmission materials such as optical waveguides, optical recording materials such as optical memories, electroluminescent element materials, etc. ), Flame retardants, water repellents, release agents and the like.
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例1
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム25gを仕込み、1mmHg(=133kPa)の減圧下、50℃で加熱して、反応器内部を乾燥した。次いで、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン(THF)500mlを加え、50℃で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン(PhSiCl3)105.8g(0.5mol)及びトリメチルクロロシラン(Me3SiCl)10.9g(0.1mol)をシリンジを用いて添加し、55℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン500mlで抽出した。トルエン相を純水200mlで5回洗浄し、トルエン相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、フェニルトリクロロシラン−トリメチルクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1900、収率95%)。
Example 1
A round flask with an internal volume of 1000 ml equipped with a three-way cock was charged with 25 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium and heated at 50 ° C. under reduced pressure of 1 mmHg (= 133 kPa) to dry the inside of the reactor. . Next, dry argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran (THF) previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for about 30 minutes. To this reaction mixture, 105.8 g (0.5 mol) of phenyltrichlorosilane (PhSiCl 3 ) purified in advance by distillation and 10.9 g (0.1 mol) of trimethylchlorosilane (Me 3 SiCl) were added using a syringe. Stir at about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 500 ml of toluene. The toluene phase was washed 5 times with 200 ml of pure water, the toluene phase was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a phenyltrichlorosilane-trimethylchlorosilane copolymer (weight average molecular weight 1900, yield). Rate 95%).
実施例2
トリメチルクロロシランの量を21.7g(0.2mol)とする以外は実施例1と同様にして反応を行い、フェニルトリクロロシラン−トリメチルクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1600、収率95%)。
Example 2
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that the amount of trimethylchlorosilane was changed to 21.7 g (0.2 mol) to obtain a phenyltrichlorosilane-trimethylchlorosilane copolymer (weight average molecular weight 1600, yield 95%). ).
参考例1
トリメチルクロロシラン10.9g(0.1mol)に変えて、メチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl2)19.1g(0.1mol)を用いる以外は、実施例1と同様にして反応を行い、フェニルトリクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1700、収率94%)。
Reference example 1
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 19.1 g (0.1 mol) of methylphenyldichlorosilane (MePhSiCl 2 ) was used instead of 10.9 g (0.1 mol) of trimethylchlorosilane, and phenyltrichlorosilane- A methylphenyldichlorosilane copolymer was obtained (weight average molecular weight 1700, yield 94%).
参考例2
トリメチルクロロシラン10.9g(0.1mol)に代えて、ジフェニルジクロロシラン(Ph2SiCl2)25.3g(0.1mol)を用いる以外は、実施例1と同様にして反応を行い、フェニルトリクロロシラン−ジフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1500、収率90%)。
Reference example 2
Instead of 10.9 g (0.1 mol) of trimethylchlorosilane, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 25.3 g (0.1 mol) of diphenyldichlorosilane (Ph 2 SiCl 2 ) was used. A diphenyldichlorosilane copolymer was obtained (weight average molecular weight 1500, yield 90%).
比較例1
トリメチルクロロシランを用いることなく、フェニルトリクロロシランを単独で用いる以外は実施例1と同様にして反応を行い、ポリフェニルシリンを得た(重量平均分子量2500、収率89%)。
Comparative Example 1
A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that phenyltrichlorosilane was used alone without using trimethylchlorosilane to obtain polyphenylsilin (weight average molecular weight 2500, yield 89%).
比較例2
WO98/29476号パンフレットに記載の方法に準じて、メチルフェニルジクロロシランを原料にポリメチルフェニルシランを得た。
Comparative Example 2
In accordance with the method described in the pamphlet of WO 98/29476, polymethylphenylsilane was obtained using methylphenyldichlorosilane as a raw material.
比較例3
WO98/29476号パンフレットに記載の方法に準じて、ジフェニルジクロロシランを原料にポリジフェニルシランを得た。
Comparative Example 3
In accordance with the method described in the pamphlet of WO98 / 29476, polydiphenylsilane was obtained using diphenyldichlorosilane as a raw material.
[特性の評価]
(1)溶液透過率
実施例及び比較例で得られたポリシランを、トルエン又はプロピレングリコール−1−モノエチルエーテル−2−アセタート(PGMEA)と混合し、50重量%トルエン混合液又は10重量%PGMEA混合液を調製し、可視光(600nm)の透過率を測定した。
[Evaluation of characteristics]
(1) Solution permeability The polysilane obtained in Examples and Comparative Examples is mixed with toluene or propylene glycol-1-monoethyl ether-2-acetate (PGMEA), and mixed with 50 wt% toluene or 10 wt% PGMEA. A mixed solution was prepared, and the transmittance of visible light (600 nm) was measured.
(2)薄膜屈折率
実施例及び比較例で得られたポリシランを、PGMEAと混合し、10重量%PGMEA混合液を調製した。この混合液を用いてスピンコート法により基材上に乾燥後の厚み1μmとなるように塗膜を形成し、得られた薄膜につき、波長589.4nmの光に対する屈折率を測定した。
(2) Thin film refractive index The polysilane obtained by the Example and the comparative example was mixed with PGMEA, and the 10 weight% PGMEA liquid mixture was prepared. Using this mixed solution, a coating film was formed on the substrate so as to have a thickness after drying of 1 μm by spin coating, and the refractive index of the obtained thin film with respect to light having a wavelength of 589.4 nm was measured.
表1から明らかなように、PhSiCl3を主原料としてMe3SiCl、MePhSiCl2、Ph2SiCl2を共重合させると、屈折率1.75以上であり、溶媒への溶解性も有するポリシランが得られた。 As is apparent from Table 1, when Me 3 SiCl, MePhSiCl 2 and Ph 2 SiCl 2 are copolymerized using PhSiCl 3 as the main raw material, a polysilane having a refractive index of 1.75 or more and having solubility in a solvent is obtained. It was.
Claims (2)
In the presence of a catalyst system composed of (i) a magnesium metal component alone or (ii) a combination of a metal magnesium component and a lithium halide or a halide of a polyvalent metal in an aprotic solvent, phenyltrihalo A method of producing polysilane having a weight average molecular weight of 500 to 5000 by reacting silane and trimethylmonohalosilane using the former / the latter = 65/35 to 5/1 in a molar ratio .
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