JP4542758B2 - Copolysilane and its production method - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 50
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 50
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 45
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 8
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical group C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 4
- UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N benzylsilane Chemical group [SiH3]CC1=CC=CC=C1 UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 111
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 109
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 86
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 59
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 36
- -1 alkyl lithium Chemical compound 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 31
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 27
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 24
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 24
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 17
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 15
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 14
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- AASUFOVSZUIILF-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanone;sodium Chemical compound [Na].C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 AASUFOVSZUIILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 6
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 5
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical class Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 5
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 5
- APRDARTZFVUGQN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decakis-phenylpentasilolane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Si]1(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 APRDARTZFVUGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000434 field desorption mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 4
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 3
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical group [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006720 (C1-C6) alkyl (C6-C10) aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006713 (C5-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006719 (C6-C10) aryl (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005119 alkyl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000012700 ceramic precursor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L iron(ii) bromide Chemical compound [Fe+2].[Br-].[Br-] GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004454 (C1-C6) alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004916 (C1-C6) alkylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006704 (C5-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETYCRUSXXBVDW-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethyl-2,2,3,3,4,4,5,5-octakis-phenylpentasilolane Chemical compound C[Si]1([Si]([Si]([Si]([Si]1(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C GETYCRUSXXBVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSFXTZLXVIEQMU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1,2,2,3,3,4,4,5,5-nonakis-phenylpentasilolane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]1(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)[Si]1(C)C1=CC=CC=C1 MSFXTZLXVIEQMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920003189 Nylon 4,6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004171 alkoxy aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical class C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000004759 cyclic silanes Chemical class 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000003411 electrode reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021472 group 8 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000032 lithium hydrogen carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001386 lithium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PZLXYMQOCNYUIO-UHFFFAOYSA-N lithium;hydrochloride Chemical compound [Li].Cl PZLXYMQOCNYUIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M lithium;hydrogen carbonate Chemical compound [Li+].OC([O-])=O HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002680 magnesium Chemical class 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- CVLHDNLPWKYNNR-UHFFFAOYSA-N pentasilolane Chemical compound [SiH2]1[SiH2][SiH2][SiH2][SiH2]1 CVLHDNLPWKYNNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006111 poly(hexamethylene terephthalamide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOOUPSHQAMJMSL-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(trichloro)silane Chemical compound CC(C)(C)[Si](Cl)(Cl)Cl MOOUPSHQAMJMSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K trilithium;phosphate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])([O-])=O TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical group C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は、ジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)の優れた特性がさらに改善された環状コポリシラン(ポリシラン系コポリマー)およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a cyclic copolysilane (polysilane copolymer) in which the excellent properties of diarylpolysilane (such as diphenylpolysilane) are further improved, and a method for producing the same.
ポリシランは、その多様で特殊な物性を活かした用途、例えば、セラミックス前駆体、光電子材料(例えば、フォトレジスト、有機感光体などの光電子写真材料、光導波路などの光伝送材料、光メモリなどの光記録材料、エレクトロルミネッセンス素子用材料など)などの用途で注目されている。ポリシランのうちジフェニルポリシランは、高屈折率、高撥水性であるとともに、難燃性が高い。そのため、ジフェニルポリシランは、上記用途に加えて、高屈折率、高撥水性、高い難燃性を活かした様々な用途の原料および添加剤として検討されている。このような用途において、ポリシランは、通常、薄膜や樹脂への添加の形態で使用される。 Polysilane is used in various applications that take advantage of its special physical properties, such as ceramic precursors, optoelectronic materials (eg, photoelectrophotographic materials such as photoresists and organic photoreceptors, optical transmission materials such as optical waveguides, optical recording such as optical memories, etc.) It is attracting attention in applications such as materials and materials for electroluminescent elements. Of the polysilanes, diphenylpolysilane has a high refractive index, high water repellency, and high flame retardancy. Therefore, in addition to the above uses, diphenylpolysilane has been studied as a raw material and an additive for various uses utilizing high refractive index, high water repellency, and high flame retardancy. In such applications, polysilane is usually used in the form of addition to a thin film or resin.
しかし、主鎖がケイ素で構成されたポリシランの薄膜は、硬くて脆く、機械的強度が低いので、クラックなどの欠陥を生じやすい。特に、ジフェニルポリシランはポリシランの中でも屈指の高屈折率を有している。そのため、ジフェニルポリシランの優れた特性を利用した用途が考えられるが、ジフェニルポリシランが構造の対称性が大きく結晶性が高いため、溶解する溶媒が限定されるとともに、薄膜もクラックが生じやすい。 However, a polysilane thin film having a main chain made of silicon is hard and brittle, and has low mechanical strength, and thus easily causes defects such as cracks. In particular, diphenylpolysilane has one of the highest refractive indices among polysilanes. Therefore, an application utilizing the excellent characteristics of diphenylpolysilane is conceivable. However, since diphenylpolysilane has a large structure symmetry and high crystallinity, the solvent to be dissolved is limited, and the thin film is likely to be cracked.
樹脂への添加に関しても、ジフェニルポリシランは、結晶性が高いため、樹脂との親和性や相溶性が低く、樹脂に対して多く添加できない。そのため、ジフェニルポリシランの優れた物性を被添加物に対して十分に付与できない。 Regarding addition to the resin, diphenylpolysilane has high crystallinity, and therefore has low affinity and compatibility with the resin, and cannot be added in a large amount to the resin. Therefore, the excellent physical properties of diphenylpolysilane cannot be sufficiently imparted to the additive.
従来、ポリシラン類の製造方法としては、金属ナトリウムなどのアルカリ金属を用いて、トルエン溶媒中のジアルキルジハロシランあるいはジハロテトラアルキルジシランを100℃以上の温度で強力に撹拌し、還元的にカップリングさせる方法が知られている(非特許文献1)。
しかし、この方法は、空気中で発火するアルカリ金属を加熱し、強力に攪拌・分散させる必要があるため、工業的規模での生産に際しては安全性に大きな問題がある。また、分子量分布が多峰性になるなど品質に関しても問題がある。特に、ジフェニル系ポリシランに関しては、不溶不融であり、光電子材料等として利用し難い物性のものが生成する。 However, this method has a large safety problem in production on an industrial scale because it is necessary to heat and strongly stir and disperse the alkali metal that ignites in the air. There are also problems with quality, such as the molecular weight distribution being multimodal. In particular, diphenyl-based polysilanes are insoluble and infusible and have physical properties that are difficult to use as optoelectronic materials.
これらの諸欠点を克服すべく、例えば、下記の様な幾つかの新しいポリシラン類の製造方法が提案されている(特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4)。
特許文献1には、ビフェニルなどでマスクしたジシレンをアニオン重合させる方法が開示され、特許文献2には、環状シラン類を開環重合させる方法が開示され、特許文献3には、ヒドロシラン類を遷移金属錯体触媒により脱水素縮重合させる方法が開示され、特許文献4には、ジハロシラン類を室温以下の温度で電極還元してポリシランを製造する方法が開示されている。 Patent Document 1 discloses a method of anionic polymerization of disilene masked with biphenyl and the like, Patent Document 2 discloses a method of ring-opening polymerization of cyclic silanes, and Patent Document 3 discloses transition of hydrosilanes. A method of dehydrogenating polycondensation with a metal complex catalyst is disclosed, and Patent Document 4 discloses a method of producing polysilane by electrode reduction of dihalosilanes at a temperature below room temperature.
しかし、特許文献1および特許文献2の方法は、複雑なモノマーを合成する必要があるなど煩雑な操作を伴うとともに、モノマー合成からのトータルの収率が低いだけでなく、重合にアルキルリチウム試薬を必要とするため安全性に難点がある。特許文献3の縮重合法は、その反応機構上、分子量および得られたポリシランの構造(例えば、架橋構造が形成されるなど)に関して、未だ多くの改良すべき点がある。 一方、特許文献4の電解還元法は、高分子量で高品質のポリシランが安全に且つ高収率で得られる優れた技術であるが、特殊な反応装置である電解槽を必要とする。従って、高付加価値の用途向けのポリシランの製造には適しているが、付加価値のあまり高くない用途向けのポリシラン製造には適した方法であるとはいい難い。 However, the methods of Patent Document 1 and Patent Document 2 involve complicated operations such as the need to synthesize complex monomers, and the total yield from monomer synthesis is not only low, but also an alkyl lithium reagent is used for polymerization. Because it is necessary, there is a difficulty in safety. The polycondensation method of Patent Document 3 still has many points to be improved regarding the molecular weight and the structure of the obtained polysilane (for example, a crosslinked structure is formed) due to its reaction mechanism. On the other hand, the electrolytic reduction method of Patent Document 4 is an excellent technique for obtaining high-molecular-weight and high-quality polysilanes safely and in a high yield, but requires an electrolytic cell which is a special reaction apparatus. Therefore, although it is suitable for the production of polysilane for high value-added applications, it is difficult to say that the method is suitable for the production of polysilane for low value-added applications.
なお、ポリシランの製造方法として、非プロトン性溶媒中、リチウム塩及び金属ハロゲン化物の存在下で、ジハロシランにマグネシウム又はマグネシウム合金を作用させることにより、ポリシランを形成させる方法が知られている(特許文献5)。
この特許文献5には、メチルフェニルジクロロシランと、ジメチルジクロロシランやn−ヘキシルメチルジクロロシランとを反応させた例も記載されている。この方法では、煩雑な操作を必要とすることなく、ポリシランを安全性かつ安価に製造できる。 Patent Document 5 also describes an example in which methylphenyldichlorosilane is reacted with dimethyldichlorosilane or n-hexylmethyldichlorosilane. In this method, polysilane can be produced safely and inexpensively without requiring complicated operations.
さらに、特許文献6には、ポリシランが鎖状又は環状ポリシランであってもよく、これらのポリシランが、ジアルキルポリシラン、アルキル−アリールポリシラン、ジアリールポリシランであってもよいことが記載されている。
従って、本発明の目的は、ジフェニルシラン単位を有していても、溶媒や樹脂に対する溶解性や相溶性の高いポリシラン(又はオリゴシラン)およびその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a polysilane (or oligosilane) having a high solubility or compatibility with a solvent or a resin even if it has a diphenylsilane unit, and a method for producing the same.
本発明の他の目的は、ジフェニルポリシランの優れた特性(高屈折率、高撥水性、高い難燃性など)を維持しつつ、溶媒に対する溶解性、樹脂に対する相溶性や透明性にも優れたポリシラン(又はオリゴシラン)およびその製造方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to maintain the excellent properties (high refractive index, high water repellency, high flame retardancy, etc.) of diphenylpolysilane, and also have excellent solubility in solvents, compatibility with resins and transparency. The object is to provide polysilane (or oligosilane) and a method for producing the same.
本発明のさらに他の目的は、ポリシランの構造や分子量を簡便に制御でき、ジフェニルポリシランに対して種々の特性を付与できる方法を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a method capable of easily controlling the structure and molecular weight of polysilane and imparting various characteristics to diphenylpolysilane.
本発明の別の目的は、上記ポリシラン(又はオリゴシラン)を煩雑な操作を必要とすることなく、安全かつ安価に製造できる新たな方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a new method capable of producing the polysilane (or oligosilane) safely and inexpensively without requiring complicated operations.
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ジフェニルハロシランと他のハロシランとを、非プロトン性溶媒中、必要によりリチウム化合物及び金属ハロゲン化物を共存させ、マグネシウム金属成分を作用させると、反応を容易かつ精度よく制御できるとともに、高屈折率、高撥水性等の物性を有するジフェニルポリシランの構造単位の一部を他の置換基で置換した構造を有するポリシラン(環状コポリシランなど)が迅速かつ効率よく生成し、ジフェニルポリシランの優れた物性と、溶解性及び相溶性とを両立できることを見いだし、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors made diphenylhalosilane and other halosilane coexist in a non-protic solvent with a lithium compound and a metal halide as required, When the components are allowed to act, the reaction can be controlled easily and accurately, and a polysilane having a structure in which a part of the structural unit of diphenylpolysilane having physical properties such as high refractive index and high water repellency is substituted with other substituents (cyclic) Copolysilane etc.) were rapidly and efficiently produced, and it was found that the excellent physical properties of diphenylpolysilane, solubility and compatibility were compatible, and the present invention was completed.
すなわち、本発明のコポリシラン(シラン系コポリマー)は、下記式(i)で表されるジフェニルシラン単位と、下記式(ii)で表されるフェニルメチルシラン単位とで構成された5量体環状コポリシランである。
また、前記コポリシランの形態は、特に限定されず、ランダム共重合体、ブロック共重合体又はグラフト共重合体であってもよい。 The form of the copolysilane is not particularly limited, and may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.
前記ポリシランは、単一化合物であってもよく、前記環状コポリシランを含む限り、ジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)や他のポリシランとの混合物であってもよい。すなわち、用途によっては、ジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)の構造単位の一部を置換する成分が、ポリシランとして含まれていても、ジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)に対する融点降下剤や相溶化剤として機能する。そのため、本発明は、前記環状コポリシランを含む限り、ポリシラン混合物であってもよい。このポリシラン混合物において、ポリシラン全体に対する5量体環状コポリシランの割合は、20重量%以上であってもよい。 The polysilane may be a single compound, or may be a mixture with a diarylpolysilane (such as diphenylpolysilane) or another polysilane as long as it contains the cyclic copolysilane . That is, depending on the application, even if a component that replaces a part of the structural unit of diarylpolysilane (diphenylpolysilane, etc.) is contained as polysilane, it functions as a melting point depressant or compatibilizer for diarylpolysilane (diphenylpolysilane, etc.). To do. Therefore, the present invention may be a polysilane mixture as long as it contains the cyclic copolysilane . In this polysilane mixture, the ratio of the pentameric cyclic copolysilane to the whole polysilane may be 20% by weight or more.
前記環状コポリシランやポリシラン混合物は、下記式(1b)で表される化合物、および下記式(2b)で表される化合物を、マグネシウム金属成分、リチウム化合物及び金属ハロゲン化物の存在下、非プロトン性溶媒中、下記条件(i)〜(ii)のうち少なくとも1つの条件で反応させることにより製造できる。
(i)前記金属ハロゲン化物が塩化鉄及び/又は臭化鉄である。
(ii)前記(1b)、(2b)で表される化合物を滴下する。
The cyclic copolysilane or polysilane mixture includes a compound represented by the following formula (1b) and a compound represented by the following formula (2b) in an aprotic solvent in the presence of a magnesium metal component, a lithium compound, and a metal halide. Among them, it can be produced by reacting at least one of the following conditions (i) to (ii) .
(I) The metal halide is iron chloride and / or iron bromide.
(Ii) The compounds represented by (1b) and (2b) are added dropwise.
(式中、R1 がメチル基、R2 がフェニル基であり、X1〜X2は、同一又は異なって、ハロゲン原子である。) (In the formula, R 1 is a methyl group, R 2 is a phenyl group, and X 1 to X 2 are the same or different and are halogen atoms . )
このような方法では、環状コポリシランを効率よく生成できる。前記反応は、非プロトン性溶媒中で行うことができる。さらに、前記反応は、マグネシウム金属成分の存在下で行えばよいが、リチウム化合物及び/又は金属ハロゲン化物の共存下で行ってもよい。リチウム化合物としては、リチウムハロゲン化物(塩化リチウムなど)が利用でき、金属ハロゲン化物としては、鉄の塩化物及び/又は臭化物が利用できる。具体的には、金属ハロゲン化物としては、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)などが利用できる。これらの成分は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 In such a method, cyclic copolysilane can be produced efficiently. The reaction can be performed in an aprotic solvent. Furthermore, the reaction may be performed in the presence of a magnesium metal component, but may be performed in the presence of a lithium compound and / or a metal halide. Lithium halides (such as lithium chloride) can be used as the lithium compound, and iron chlorides and / or bromides can be used as the metal halide. Specifically, as the metal halide, iron chloride (II), etc. of iron (III) chloride can be used. These components can be used alone or in combination of two or more.
本発明は、前記式(1b)で表される化合物、および前記式(2b)で表される化合物のうち、一方の成分を反応させて、ポリシラン又はオリゴシランを形成した後、他方の成分を添加して反応させ、コポリシランを製造する方法も含む。この方法では、ブロック共重合体を得ることができる。 In the present invention, one of the compound represented by the formula ( 1b ) and the compound represented by the formula ( 2b) is reacted to form polysilane or oligosilane, and then the other component is added. And reacting to produce copolysilane. In this method, a block copolymer can be obtained.
本発明には、前記ポリシラン(環状コポリシラン、ポリシラン混合物)を含む樹脂組成物も包含される。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂であってもよく、ポリシランの使用量は、例えば、樹脂100重量部に対して0.01〜50重量部程度であってもよい。 The present invention also includes a resin composition containing the polysilane ( cyclic copolysilane, polysilane mixture). The type of resin may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin, and the amount of polysilane used may be, for example, about 0.01 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin.
本発明では、ジアリールポリシランが他のシランと共重合しているため、ジアリールシラン(例えば、ジフェニルシラン)単位を有していても、溶媒に対する溶解性や樹脂に対する相溶性を改善できる。また、ジアリールシラン(例えば、ジフェニルシラン)の優れた特性(高屈折率、高撥水性、高い難燃性など)を保持しつつ、溶媒に対する溶解性、樹脂に対する相溶性や透明性、成膜性を大きく改善できる。さらに、ポリシランの構造や分子量を簡便に制御でき、ジアリールシラン(例えば、ジフェニルシラン)に対して種々の特性を付与できる。また、上記ポリシラン(又はオリゴシラン)を煩雑な操作を必要とすることなく、安全性かつ安価に製造できる。 In the present invention, since diarylpolysilane is copolymerized with other silane, solubility in a solvent and compatibility with a resin can be improved even if it has a diarylsilane (for example, diphenylsilane) unit. In addition, while maintaining the excellent properties of diarylsilanes (eg, diphenylsilane) (high refractive index, high water repellency, high flame retardancy, etc.), solubility in solvents, compatibility and transparency in resins, film formability Can be greatly improved. Furthermore, the structure and molecular weight of polysilane can be easily controlled, and various characteristics can be imparted to diarylsilane (for example, diphenylsilane). Further, the polysilane (or oligosilane) can be produced safely and inexpensively without requiring complicated operations.
本発明では、前記式(1)で表されるジアリールジハロシランと、他のハロシランとを反応させることにより、ポリシラン(コポリシラン)を製造する。 In the present invention, polysilane (copolysilane) is produced by reacting the diaryldihalosilane represented by the formula (1) with another halosilane.
[ハロシラン化合物]
前記式(1)において、Ar1及びAr2で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などのC6-12アリール基が例示できる。アリール基は置換基を有していてもよい。アリール基の置換基としては、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルキル基)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルコキシ基)、カルボキシ基、直鎖状又は分岐鎖状C1-6アルコキシ−カルボニル基、直鎖状又は分岐鎖状C1-6アルキル−カルボニル基などが例示できる。好ましいアリール基の置換基は、式(1a)においてR10およびR11で表される直鎖状又は分岐鎖アルキル基(好ましくはC1-6アルキル基、特にC1-4アルキル基)又は直鎖状又は分岐鎖アルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、特にC1-4アルコキシ基)である。アリール基に対する置換基の数は特に制限されないが、通常、1〜3程度の範囲から選択できる。
[Halosilane compounds]
In the formula (1), examples of the aryl group represented by Ar 1 and Ar 2 include C 6-12 aryl groups such as a phenyl group and a naphthyl group. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent of the aryl group include an alkyl group (a linear or branched C 1-10 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, and t-butyl group), a hydroxyl group, and an alkoxy group ( Linear or branched C 1-10 alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, t-butoxy group), carboxy group, linear or branched C 1-6 alkoxy-carbonyl group, linear And a branched C 1-6 alkyl-carbonyl group. Preferred substituents of the aryl group are linear or branched alkyl groups (preferably C 1-6 alkyl groups, particularly C 1-4 alkyl groups) represented by R 10 and R 11 in formula (1a) or straight A chain or branched alkoxy group (preferably a C 1-6 alkoxy group, particularly a C 1-4 alkoxy group). The number of substituents for the aryl group is not particularly limited, but can usually be selected from a range of about 1 to 3.
X1〜X2で表されるハロゲン原子には、F、Cl、Br、Iが含まれ、Cl及びBr(特にCl)が好ましい。 The halogen atom represented by X 1 to X 2 includes F, Cl, Br, and I, and Cl and Br (particularly Cl) are preferable.
前記式(1)で表される化合物としては、例えば、ジアリールジハロシラン(ジフェニルジハロシラン、ジナフチルジハロシランなどのC6-10アリールジハロシランなど)、ジ(アルキルアリール)ジハロシラン(ジトリルジハロシラン、ジキシリルジハロシランなどのジ(C1-6アルキルC6-10アリール)ジハロシラン、特にジ(C1-4アルキルC6-10アリール)ジハロシランなど)、アリール−アルキルアリールジハロシラン(フェニルトリルジハロシラン、フェニルキシリルジハロシランなどのC6-10アリール−C1-6アルキルC6-10アリールジハロシランなど)、ジ(アルコキシアリール)ジハロシラン(ジメトキシフェニルジハロシラン、ジメトキシフェニルジハロシランなどのジ(C1-6アルコキシC6-10アリール)ジハロシラン、特にジ(C1-4アルコキシC6-10アリール)ジハロシランなど)などが例示できる。これらの化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the compound represented by the formula (1) include diaryldihalosilanes (C 6-10 aryldihalosilanes such as diphenyldihalosilane and dinaphthyldihalosilane), di (alkylaryl) dihalosilanes ( Di (C 1-6 alkyl C 6-10 aryl) dihalosilanes such as ditolyl dihalosilane, dixylyl dihalosilane, especially di (C 1-4 alkyl C 6-10 aryl) dihalosilane), aryl-alkylaryl di Halosilane (C 6-10 aryl-C 1-6 alkyl C 6-10 aryl dihalosilane such as phenyltolyldihalosilane, phenylxylyldihalosilane), di (alkoxyaryl) dihalosilane (dimethoxyphenyl dihalosilane) Di (C 1-6 alkoxy C 6-10 aryl) dihalosilanes such as dimethoxyphenyldihalosilane, especially di (C 1-4 alkoxy C 6-10 aryl) dihalosilane etc.) can be exemplified. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
好ましい化合物(1)は、式(1a)で表される化合物(ジフェニルジハロシラン、ジトリルジクロロシランなどのジトリルジハロシラン、ジキシリルジクロロシランなどのジキシリルジハロシランなど)、特に式(1b)で表される化合物(ジフェニルジクロロシランなどのジフェニルジハロシラン)である。 Preferred compounds (1) are compounds represented by the formula (1a) (diphenyldihalosilane, ditolyldihalosilane such as ditolyldichlorosilane, dicylyldihalosilane such as dixylyldichlorosilane), particularly the formula (1b). ) (Diphenyldihalosilane such as diphenyldichlorosilane).
共重合成分としての他のハロシランは、前記式(2)〜(5)で表される化合物(すなわち、ジハロシラン(2)、トリハロシラン(3)、テトラハロシラン(4)、モノハロシラン(5))から選択でき、これらのハロシランは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。なお、前記式(2)〜(5)において、R1及びR2が同時に置換基を有していてもよいアリール基であることはない。 The other halosilane as a copolymerization component is a compound represented by the above formulas (2) to (5) (that is, dihalosilane (2), trihalosilane (3), tetrahalosilane (4), monohalosilane (5)). These halosilanes can be used alone or in combination of two or more. In the above formulas (2) to (5), R 1 and R 2 are not simultaneously an aryl group which may have a substituent.
R1〜R6で表される有機基としては、アルキル基[メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及びt−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルキル基(好ましくはC1-6アルキル基、特にC1-4アルキル基など)]、シクロアルキル基(シクロヘキシル基などのC5-8シクロアルキル基、特にC5-6シクロアルキル基)、アリール基(フェニル、ナフチル基などのC6-10アリール基)、アラルキル基[ベンジル、フェネチル基などのC6-10アリール−C1-6アルキル基(C6-10アリール−C1-4アルキル基など)]、アルコキシ基[メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ及びt−ブトキシ基などのC1-10アルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、特にC1-4アルコキシ基)など]、アミノ基、N−置換アミノ基(前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基などで置換されたN−モノ又はジ置換アミノ基など)などが挙げられる。 Examples of the organic group represented by R 1 to R 6 include alkyl groups [linear or branched C 1-10 alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and t-butyl groups (preferably C 1-6 alkyl group, especially C 1-4 alkyl group)], cycloalkyl group (C 5-8 cycloalkyl group such as cyclohexyl group, especially C 5-6 cycloalkyl group), aryl group (phenyl, naphthyl group) C 6-10 aryl groups such as aralkyl groups [C 6-10 aryl-C 1-6 alkyl groups such as benzyl and phenethyl groups (C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl groups)]], alkoxy groups [C 1-10 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy and t-butoxy groups (preferably C 1-6 alkoxy groups, especially C 1-4 alkoxy groups)], amino groups, N- Substituted amino (The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, such as substituted N- mono- or di-substituted amino group with an acyl group).
前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を構成するアリール基などは、1又は複数の置換基を有していてもよい。このような置換基としては、前記例示のアルキル基(特にC1-6アルキル基など)、前記例示のアルコキシ基などが挙げられる。このような置換基を有する有機基としては、例えば、トリル、キシレニル、エチルフェニル、メチルナフチル基などのC1-6アルキルC6-10アリール基(好ましくはモノ乃至トリC1-4アルキルC6-10アリール基、特にモノ又はジC1-4アルキルフェニル基など);メトキシフェニル、エトキシフェニル、メトキシナフチル基などのC1-10アルコキシC6-10アリール基(好ましくはC1-6アルコキシC6-10アリール基、特にC1-4アルコキシフェニル基など)などが挙げられる。 The aryl group constituting the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or aralkyl group may have one or more substituents. Examples of such a substituent include the above-exemplified alkyl groups (particularly, C 1-6 alkyl groups and the like), the above-exemplified alkoxy groups and the like. Examples of the organic group having such a substituent include C 1-6 alkyl C 6-10 aryl groups such as tolyl, xylenyl, ethylphenyl, and methylnaphthyl groups (preferably mono to tri C 1-4 alkyl C 6 -10 aryl groups, especially mono or di C 1-4 alkylphenyl groups); C 1-10 alkoxy C 6-10 aryl groups such as methoxyphenyl, ethoxyphenyl, methoxynaphthyl groups (preferably C 1-6 alkoxy C) 6-10 aryl group, especially C 1-4 alkoxyphenyl group, etc.).
シリル基は、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基及びアルコキシ基などで置換された置換シリル基であってもよい。 The silyl group may be a substituted silyl group substituted with the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or the like.
X1〜X4で表されるハロゲン原子には、F、Cl、Br、Iが含まれ、Cl及びBr(特にCl)が好ましい。 The halogen atom represented by X 1 to X 4 includes F, Cl, Br, and I, and Cl and Br (particularly Cl) are preferable.
なお、式(2)で表されるジハロシラン化合物としては、単量体(p=1)を用いてもよく、オリゴマー又は重合体(p=2〜1000程度)を用いてもよい。好ましい係数pは1〜100(例えば、1〜50)、好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜5(例えば、1〜3)程度である。pの値が大きなオリゴマーを用いると、ブロックコポリマーが得られ、pの値が小さいモノマーを用いると、ランダムコポリマーが得られる。コポリマーの生成効率の点から、pが1〜2程度のジハロシラン(2)を使用するのが好ましい。また、式(3)で表されるトリハロシラン化合物、式(4)で表されるテトラハロシラン化合物又は式(5)で表されるモノハロシラン化合物は、通常、単量体として使用される。 In addition, as a dihalosilane compound represented by Formula (2), a monomer (p = 1) may be used and an oligomer or a polymer (p = 2 to about 1000) may be used. A preferable coefficient p is about 1 to 100 (for example, 1 to 50), preferably 1 to 10, and more preferably about 1 to 5 (for example, 1 to 3). When an oligomer having a large p value is used, a block copolymer is obtained, and when a monomer having a small p value is used, a random copolymer is obtained. From the viewpoint of the production efficiency of the copolymer, it is preferable to use dihalosilane (2) having p of about 1-2. Moreover, the trihalosilane compound represented by Formula (3), the tetrahalosilane compound represented by Formula (4), or the monohalosilane compound represented by Formula (5) is usually used as a monomer.
式(2)及び式(2a)で表されるジハロシラン化合物において、R1とR2との組合せは特に制限されず、アルキル基(好ましくは、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルキル基)とアルキル基(好ましくは、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-10アルキル基)との組合せ、前記アルキル基とシクロアルキル基(シクロへキシル基などのC5-10シクロアルキル基など)との組合せ、前記アルキル基とアリール基(フェニル基、トリル基などの置換基を有していてもよいC6-12アリール基など)との組合せ、前記アルキル基とアラルキル基との組合せ、前記シクロアルキル基と前記アリール基との組合せなどが例示できる。好ましい組合せは、アルキル基とアルキル基との組合せ、アルキル基とシクロアルキル基との組合せ、アルキル基とアリール基との組合せである。 In the dihalosilane compound represented by the formula (2) and the formula (2a), the combination of R 1 and R 2 is not particularly limited, and is an alkyl group (preferably a linear or branched C 1 such as a methyl group). -10 alkyl group) and an alkyl group (preferably a linear or branched C 1-10 alkyl group such as a methyl group), the alkyl group and a cycloalkyl group (C 5 such as a cyclohexyl group). A -10 cycloalkyl group), a combination of the alkyl group and an aryl group (such as a C 6-12 aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a tolyl group), and the alkyl group Examples thereof include a combination with an aralkyl group and a combination of the cycloalkyl group and the aryl group. Preferred combinations are an alkyl group and an alkyl group, an alkyl group and a cycloalkyl group, and an alkyl group and an aryl group.
このような化合物としては、例えば、ジC1-6アルキルジハロシラン(ジメチルジハロシラン、エチルメチルジハロシラン、ジエチルジハロシラン、ジブチルジハロシラン、ジt−ブチルジハロシランなどのジC1-4アルキルジハロシランなど)、C1-6アルキル−C5-10シクロアルキルジハロシラン(メチルシクロヘキシルジハロシラン、エチルシクロヘキシルジハロシラン、ブチルシクロヘキシルジハロシランなどのC1-4アルキル−C5-8シクロアルキルジハロシランなど)、C1-6アルキル−C6-12アリールジハロシラン(メチルフェニルジハロシラン、エチルフェニルジハロシラン、ブチルフェニルジハロシラン、t−ブチルフェニルジハロシラン、メチルトリルジハロシラン、エチルトリルジハロシラン、ブチルトリルジハロシラン、メチルキシリルジハロシランなどのC1-4アルキル−C6-10アリールジハロシランなど)などが例示できる。これらの化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいジハロシラン化合物(2)としては、アルキル−アリールジハロシラン(例えば、メチルフェニルジハロシラン、メチルトリルジハロシランなど)、アルキル−シクロアルキルジハロシラン(例えば、メチルシクロヘキシルジハロシランなど)が例示できる。 Examples of such compounds include diC 1-6 alkyldihalosilanes (dimethyldihalosilane, ethylmethyldihalosilane, diethyldihalosilane, dibutyldihalosilane, di-t-butyldihalosilane, and the like). C 1-4 alkyldihalosilane, etc.), C 1-6 alkyl-C 5-10 cycloalkyldihalosilane (methyl cyclohexyl dihalosilane, ethylcyclohexyl dihalosilane, butylcyclohexyl dihalosilane, etc. C 1-4 Alkyl-C 5-8 cycloalkyldihalosilane, etc.), C 1-6 alkyl-C 6-12 aryl dihalosilane (methylphenyldihalosilane, ethylphenyldihalosilane, butylphenyldihalosilane, t-butyl) Phenyldihalosilane, methyltolyldihalosilane, ethyltolyldihalosilane, butyltolyldihalosilane, methyl C 1-4 alkyl-C 6-10 aryl dihalosilane such as ruxyldihalosilane). These compounds can be used alone or in combination of two or more. Preferred dihalosilane compounds (2) include alkyl-aryl dihalosilanes (eg, methylphenyl dihalosilane, methyltolyl dihalosilane, etc.) and alkyl-cycloalkyl dihalosilanes (eg, methylcyclohexyl dihalosilane). It can be illustrated.
式(3)で表されるトリハロシラン化合物において、R3は、通常、アルキル基(好ましくは、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-6アルキル基)、シクロアルキル基(シクロへキシル基などのC5-8シクロアルキル基など)、アリール基(フェニル基、トリル基などの置換基を有していてもよいC6-12アリール基など)、アラルキル基(ベンジル基などのC6-12アリールC1-4アルキル基など)である。R3は、通常、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-4アルキル基、シクロへキシル基などのC5-8シクロアルキル基など)、フェニル基、トリル基などの置換基を有していてもよいC6-10アリール基である場合が多い。トリハロシラン化合物としては、C1-6アルキルトリハロシラン(メチルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、t−ブチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシランなど)、C6-10シクロアルキルトリハロシラン(シクロヘキシルトリハロシランなど)、C6-10アリールトリハロシラン(フェニルトリクロロシラン、トリルジクロロシラン、キシリルトリクロロシランなど)などが例示できる。 In the trihalosilane compound represented by the formula (3), R 3 is usually an alkyl group (preferably a linear or branched C 1-6 alkyl group such as a methyl group), a cycloalkyl group (cycloto C 5-8 cycloalkyl group such as xyl group), aryl group (C 6-12 aryl group optionally having substituent such as phenyl group, tolyl group), aralkyl group (C such as benzyl group) 6-12 aryl C 1-4 alkyl groups, etc.). R 3 is usually a linear or branched C 1-4 alkyl group such as a methyl group, a C 5-8 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group), a substituent such as a phenyl group or a tolyl group. In many cases, it may be a C 6-10 aryl group. Examples of trihalosilane compounds include C 1-6 alkyltrihalosilanes (such as methyltrichlorosilane, butyltrichlorosilane, t-butyltrichlorosilane, and hexyltrichlorosilane), C 6-10 cycloalkyltrihalosilanes (such as cyclohexyltrihalosilane), and C. Examples thereof include 6-10 aryltrihalosilane (phenyltrichlorosilane, tolyldichlorosilane, xylyltrichlorosilane, etc.).
式(5)において、R4、R5及びR6の組合せは特に制限されない。式(5)で表されるモノハロシラン化合物としては、例えば、アルキル基がメチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-6アルキル基であるトリアルキルハロシラン、シクロアルキル基がシクロへキシル基などのC5-10シクロアルキル基であるトリシクロアルキルハロシラン、アリール基がフェニル基、トリル基などの置換基を有していてもよいC6-12アリール基であるトリアリールハロシラン、モノC1-6アルキルジC5-10シクロアルキルハロシラン、モノC1-6アルキルジC6-12アリールハロシラン、ジC1-6アルキルモノC5-10シクロアルキルハロシラン、ジC1-6アルキルモノC6-12アリールハロシランなどが例示できる。より具体的には、化合物(5)としては、例えば、トリC1-6アルキルハロシラン(トリメチルハロシラン、トリブチルハロシランなど)、ジC1-6アルキルC6-10アリールハロシラン(ジメチルフェニルハロシランなど)、モノC1-6アルキルジC6-10アリールハロシラン(メチルジフェニルハロシランなど)、トリC6-10アリールハロシラン(トリフェニルクロロシラン、トリトリルクロロシラン、トリキシリルクロロシランなど)などが例示できる。 In the formula (5), the combination of R 4 , R 5 and R 6 is not particularly limited. Examples of the monohalosilane compound represented by the formula (5) include a trialkylhalosilane in which an alkyl group is a linear or branched C 1-6 alkyl group such as a methyl group, and a cycloalkyl group is a cyclohexyl group. A tricycloalkylhalosilane which is a C 5-10 cycloalkyl group such as a triarylhalosilane whose aryl group is a C 6-12 aryl group which may have a substituent such as a phenyl group or a tolyl group, mono C 1-6 alkyl di C 5-10 cycloalkyl halosilanes, mono- C 1-6 alkyl di C 6-12 aryl halosilane, di-C 1-6 alkyl mono- C 5-10 cycloalkyl halo silane, di-C 1-6 alkyl Examples thereof include mono C 6-12 arylhalosilane . More specifically, examples of the compound (5) include tri-C 1-6 alkylhalosilane (trimethylhalosilane, tributylhalosilane, etc.), di-C 1-6 alkylC 6-10 arylhalosilane (dimethylphenyl). Halosilanes, etc.), mono C 1-6 alkyldiC 6-10 arylhalosilanes (methyldiphenylhalosilanes, etc.), tri C 6-10 arylhalosilanes (triphenylchlorosilanes, tolylchlorosilanes, trixylylchlorosilanes, etc.) It can be illustrated.
これらのハロシラン化合物(2)〜(5)はそれぞれ単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのハロシラン化合物の使用割合は、ポリシランの所望の構造、分子量、物性などに応じて適当に選択できる。これらのハロシラン化合物(2)〜(5)のうち、ジハロシラン化合物(2)及びトリハロシラン化合物(3)から選択された少なくとも一種又は双方(特に少なくともジハロシラン化合物(2))を用いる場合が多い。ジハロシラン化合物(2)及び/又はトリハロシラン(3)の使用量は、ハロシラン化合物(2)〜(5)の全体に対して、例えば、30〜100モル%、好ましくは50〜100モル%、さらに70〜100モル%(例えば、80〜100モル%)程度であってもよい。ジハロシラン化合物(2)とトリハロシラン化合物(3)との割合は、通常、前者/後者=100/0〜0/100(モル比)程度の範囲から選択でき、例えば、95/5〜5/95(モル比)、好ましくは90/10〜10/90(モル比)程度の範囲から選択してもよい。 These halosilane compounds (2) to (5) can be used alone or in combination of two or more. The proportion of these halosilane compounds used can be appropriately selected according to the desired structure, molecular weight, physical properties, etc. of the polysilane. Of these halosilane compounds (2) to (5), at least one or both selected from dihalosilane compound (2) and trihalosilane compound (3) (particularly at least dihalosilane compound (2)) are often used. The usage-amount of the dihalosilane compound (2) and / or trihalosilane (3) is 30-100 mol% with respect to the whole halosilane compounds (2)-(5), Preferably it is 50-100 mol%, Furthermore, About 70-100 mol% (for example, 80-100 mol%) may be sufficient. The ratio of the dihalosilane compound (2) and the trihalosilane compound (3) can usually be selected from the range of the former / the latter = 100/0 to 0/100 (molar ratio), for example, 95/5 to 5/95. (Molar ratio), preferably 90/10 to 10/90 (molar ratio).
前記ジアリールジハロシラン化合物(1)と、ハロシラン化合物(2)〜(5)から選択された少なくとも一種のハロシランとは、自由に組み合わせて使用することができる。通常、ハロシラン化合物(2)〜(5)から選択された少なくとも一種のハロシラン(特に式(2)で表されるジハロシラン化合物や式(3)で表されるトリハロシラン化合物)の使用量は、ハロシラン化合物(1)〜(5)全体に対して1モル%以上(例えば、2〜70モル%)、好ましくは3モル%以上(例えば、3〜65モル%)、さらに好ましくは5モル%以上(例えば、5〜60モル%)である。 The diaryldihalosilane compound (1) and at least one halosilane selected from halosilane compounds (2) to (5) can be used in any combination. Usually, the amount of at least one halosilane selected from halosilane compounds (2) to (5) (particularly a dihalosilane compound represented by formula (2) or a trihalosilane compound represented by formula (3)) is halosilane. 1 mol% or more (for example, 2 to 70 mol%), preferably 3 mol% or more (for example, 3 to 65 mol%), more preferably 5 mol% or more with respect to the total of compounds (1) to (5) ( For example, 5 to 60 mol%).
ジアリールジハロシラン化合物(1)と、ハロシラン化合物(2)〜(5)から選択された少なくとも一種のハロシランとの割合は、例えば、前者/後者=99/1〜10/90(モル比)、好ましくは97/3〜20/80(モル比)、さらに好ましくは95/5〜30/70(モル比)程度であり、90/10〜50/50(モル比)程度であってもよい。 The ratio of the diaryldihalosilane compound (1) and at least one halosilane selected from the halosilane compounds (2) to (5) is, for example, the former / the latter = 99/1 to 10/90 (molar ratio), The ratio is preferably 97/3 to 20/80 (molar ratio), more preferably about 95/5 to 30/70 (molar ratio), and may be about 90/10 to 50/50 (molar ratio).
なお、ハロシラン化合物は、できるだけ高純度である化合物が好ましい。例えば、液体のハロシラン化合物については、水素化カルシウムなどの乾燥剤を用いて乾燥し、蒸留して使用するのが好ましく、固体のハロシラン化合物については、再結晶法などにより、精製して使用するのが好ましい。 The halosilane compound is preferably a compound having as high purity as possible. For example, a liquid halosilane compound is preferably dried using a desiccant such as calcium hydride and distilled, and a solid halosilane compound is purified and used by a recrystallization method or the like. Is preferred.
ジアリールジハロシラン化合物(1)と、ハロシラン化合物(2)〜(5)から選択された少なくとも一種のハロシランとを組み合わせることにより、単独では反応性が低いハロシランであっても出発物質として選択でき、単独で重合するよりも容易にハロシランの構造をジアリール系共重合ポリシランの構造中に取りこむことができる。そのため、ジアリールポリシランに種々の特性を付与できる。さらに、反応成分を選択することにより、種々の構造を有するポリシラン(鎖状又は環状コポリシラン)を製造できる。特に、ジアリールジハロシラン化合物(1)と、ハロシラン化合物(2)〜(5)との組合せにより、環状構造を有するコポリシラン(共重合ポリシラン)を容易に得ることができる。 By combining the diaryldihalosilane compound (1) and at least one halosilane selected from halosilane compounds (2) to (5), even a halosilane having low reactivity alone can be selected as a starting material, The structure of the halosilane can be easily incorporated into the structure of the diaryl copolymer polysilane rather than polymerizing alone. Therefore, various characteristics can be imparted to the diarylpolysilane. Furthermore, polysilane (chain or cyclic copolysilane) having various structures can be produced by selecting reaction components. In particular, a copolysilane having a cyclic structure (copolymerized polysilane) can be easily obtained by a combination of the diaryldihalosilane compound (1) and the halosilane compounds (2) to (5).
[非プロトン性溶媒]
反応は、通常、反応に不活性な溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、非プロトン性溶媒(不活性溶媒)が広く使用でき、例えば、エーテル類(1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどの環状C4-6エーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテルなどの鎖状C4-6エーテル)、カーボネート類(エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなど)、ニトリル類(アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシドなど)、ハロゲン含有化合物(塩化メチレン、クロロホルム、ブロモホルム、クロロベンゼン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素など)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン,シクロヘキサン,オクタン,シクロオクタンなど鎖状又は環状炭化水素類)などが挙げられ、これらの溶媒は混合溶媒として使用してもよい。溶媒としては、極性溶媒単独(テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなど)、2種以上の極性溶媒の混合物、極性溶媒と非極性溶媒との混合物などが好ましい。極性溶媒と非極性溶媒との混合物を使用する場合、両者の割合は、前者/後者(重量比)=1/0.01〜1/20程度である。
[Aprotic solvent]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent inert to the reaction. As the solvent, aprotic solvents (inert solvents) can be widely used. For example, ethers (cyclic C 4-6 ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and tetrahydropyran, diethyl ether, diisopropyl ether, 1, Chain C 4-6 ethers such as 2-dimethoxyethane and bis (2-methoxyethyl) ether), carbonates (ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), nitriles (acetonitrile, benzonitrile, etc.), amides (dimethylformamide) , Dimethylacetamide, etc.), sulfoxides (dimethylsulfoxide, etc.), halogen-containing compounds (halogenated hydrocarbons, such as methylene chloride, chloroform, bromoform, chlorobenzene, bromobenzene), aromatic hydrocarbons (benzene, Toluene, xylene), aliphatic hydrocarbons (hexane, cyclohexane, octane, linear or cyclic hydrocarbons such as cyclooctane), and the like, these solvents may be used as a mixed solvent. As the solvent, a polar solvent alone (tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, etc.), a mixture of two or more polar solvents, a mixture of a polar solvent and a nonpolar solvent, and the like are preferable. When a mixture of a polar solvent and a nonpolar solvent is used, the ratio between the two is the former / the latter (weight ratio) = 1 / 0.01 to 1/20.
溶媒(反応液)中のハロシラン化合物の濃度は高すぎると、金属ハロゲン化物の溶解性が低下したり、分子量が分布の狭いポリシランが生成しない虞がある。従って、溶媒(反応液)中のハロシラン化合物の濃度は、通常、20モル/L以下(例えば、0.05〜20モル/L)、好ましくは10モル/L以下(例えば、0.2〜10モル/L)、特に5モル/L以下(例えば、0.3〜5モル/L)程度である。 If the concentration of the halosilane compound in the solvent (reaction solution) is too high, the solubility of the metal halide may decrease or polysilane having a narrow molecular weight distribution may not be generated. Accordingly, the concentration of the halosilane compound in the solvent (reaction solution) is usually 20 mol / L or less (for example, 0.05 to 20 mol / L), preferably 10 mol / L or less (for example, 0.2 to 10). Mol / L), particularly about 5 mol / L or less (for example, 0.3 to 5 mol / L).
[マグネシウム金属成分]
ジアリールジハロシラン化合物(1)と、ハロシラン化合物(2)〜(5)から選択された少なくとも一種のハロシランとの反応は、マグネシウム金属成分の存在下で行うことができ、マグネシウム金属成分を作用させることにより、コポリシランを効率よく生成できる。
[Magnesium metal component]
The reaction between the diaryldihalosilane compound (1) and at least one halosilane selected from the halosilane compounds (2) to (5) can be carried out in the presence of a magnesium metal component, and the magnesium metal component is allowed to act. As a result, copolysilane can be produced efficiently.
マグネシウム金属成分は、少なくともマグネシウムが含まれていればよく、マグネシウム金属単体又はマグネシウム系合金、あるいは前記マグネシウム金属又は合金を含む混合物などであってもよい。マグネシウム合金の種類は特に制限されず、慣用のマグネシウム合金、例えば、アルミニウム、亜鉛、希土類元素(スカンジウム、イットリウムなど)などの成分を含むマグネシウム合金が例示できる。これらのマグネシウム金属成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 The magnesium metal component only needs to contain at least magnesium, and may be a magnesium metal alone or a magnesium alloy, or a mixture containing the magnesium metal or alloy. The kind of magnesium alloy is not particularly limited, and examples thereof include conventional magnesium alloys such as magnesium alloys containing components such as aluminum, zinc, rare earth elements (scandium, yttrium, etc.). These magnesium metal components can be used alone or in combination of two or more.
マグネシウム金属成分の形状は、ハロシラン化合物の反応を損なわない限り特に限定されないが、粉粒状(粉体、粒状体など)、リボン状体、切削片状体、塊状体、棒状体、平板などが例示され、特に表面積の大きい形状(粉体、粒状体、リボン状体、切削片状体など)であるのが好ましい。マグネシウム金属成分が粉粒状の場合、平均粒径は、1〜10000μm、好ましくは10〜5000μm、さらに好ましくは20〜1000μm程度である。 The shape of the magnesium metal component is not particularly limited as long as it does not impair the reaction of the halosilane compound, but examples thereof include powder particles (powder, granules, etc.), ribbons, cut pieces, lumps, rods, flat plates, etc. In particular, a shape having a large surface area (powder, granule, ribbon, cut piece, etc.) is preferable. When the magnesium metal component is granular, the average particle size is about 1 to 10,000 μm, preferably about 10 to 5000 μm, and more preferably about 20 to 1000 μm.
なお、マグネシウム金属成分の保存状況などによっては、金属表面に被膜(酸化被膜など)が形成されることがある。この被膜は反応に悪影響を及ぼすことがあるので、必要に応じて、切削や溶出(塩酸洗浄などの酸洗)などの適当な方法によって除去してもよい。 Depending on the storage status of the magnesium metal component, a film (such as an oxide film) may be formed on the metal surface. Since this coating may adversely affect the reaction, it may be removed by an appropriate method such as cutting or elution (pickling such as hydrochloric acid cleaning) as necessary.
マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン化合物のハロゲンに対して、マグネシウム換算で、1〜20当量であり、好ましくは1.1〜14当量、さらに好ましくは1.2〜10当量(例えば、1.2〜5当量)程度である。また、マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン化合物に対してモル数でマグネシウムとして1〜20倍であり、好ましくは1.1〜14倍であり、より好ましくは1.2〜10倍(例えば、1.2〜5倍)程度である。 The amount of magnesium metal component used is usually 1 to 20 equivalents, preferably 1.1 to 14 equivalents, more preferably 1.2 to 10 equivalents (for example, in terms of magnesium) with respect to the halogen of the halosilane compound. 1.2 to 5 equivalents). Moreover, the usage-amount of a magnesium metal component is 1-20 times as magnesium normally with respect to a halosilane compound as a magnesium number, Preferably it is 1.1-14 times, More preferably, it is 1.2-10 times ( For example, about 1.2 to 5 times.
マグネシウム金属成分は、前記式(1)〜(5)で表される化合物を還元して、ポリシランを形成させるとともに、マグネシウム自身は酸化されてハロゲン化物を形成する。 The magnesium metal component reduces the compounds represented by the above formulas (1) to (5) to form polysilane, and magnesium itself is oxidized to form a halide.
反応は、少なくとも前記マグネシウム金属成分の存在下で行えばよいが、ハロシランの重合を促進するため、リチウム化合物及び金属ハロゲン化物から選択された少なくとも一種(促進剤又は触媒)の共存下、特にリチウム化合物及び金属ハロゲン化物の双方の共存下で行うのが有利である。 The reaction may be performed at least in the presence of the magnesium metal component. In order to promote polymerization of the halosilane, the reaction may be performed in the presence of at least one selected from a lithium compound and a metal halide (promoter or catalyst), particularly a lithium compound. And in the presence of both metal halides.
[リチウム化合物]
リチウム化合物はハロシランの重合を促進する触媒として機能する。リチウム化合物としては、ハロゲン化リチウム(塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなど)、無機酸塩(硝酸リチウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、塩酸リチウム、硫酸リチウム、過塩素酸リチウム、リン酸リチウムなど)などが使用できる。これらのリチウム化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。好ましいリチウム化合物は、ハロゲン化リチウム(特に塩化リチウム)である。
[Lithium compounds]
The lithium compound functions as a catalyst for promoting the polymerization of halosilane. Lithium compounds include lithium halides (lithium chloride, lithium bromide, lithium iodide, etc.), inorganic acid salts (lithium nitrate, lithium carbonate, lithium hydrogen carbonate, lithium hydrochloride, lithium sulfate, lithium perchlorate, lithium phosphate Etc.) can be used. These lithium compounds can be used alone or in combination of two or more. A preferred lithium compound is lithium halide (especially lithium chloride).
溶媒(又は反応混合液)中のリチウム化合物の濃度が低すぎると、反応速度が低下する場合があるとともに、高すぎると、反応溶液の極性が変化して反応速度が低下したり、所望の生成物であるポリシランのSi−Si主鎖結合が開裂して、生成物の分子量が低下する虞がある。従って、溶媒(反応液)中のリチウム化合物の濃度は、通常、0.05〜5モル/L、好ましくは0.1〜4モル/L、特に0.15〜3モル/L程度である。 If the concentration of the lithium compound in the solvent (or reaction mixture) is too low, the reaction rate may decrease. If it is too high, the polarity of the reaction solution will change, resulting in a decrease in the reaction rate or the desired formation. The Si—Si main chain bond of polysilane, which is a product, is cleaved, and the molecular weight of the product may decrease. Therefore, the concentration of the lithium compound in the solvent (reaction solution) is usually 0.05 to 5 mol / L, preferably 0.1 to 4 mol / L, particularly about 0.15 to 3 mol / L.
リチウム化合物の割合は、ハロシラン化合物の総量100重量部に対して、0.1〜200重量部、好ましくは1〜150重量部、さらに好ましくは5〜100重量部(例えば、5〜75重量部)程度であり、通常、10〜80重量部程度である。 The proportion of the lithium compound is 0.1 to 200 parts by weight, preferably 1 to 150 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight (for example, 5 to 75 parts by weight) based on 100 parts by weight of the total amount of the halosilane compound. Usually, it is about 10 to 80 parts by weight.
[金属ハロゲン化合物]
リチウム化合物と同じく金属ハロゲン化物もハロシランの重合を促進する触媒として機能する。金属ハロゲン化物としては、多価金属ハロゲン化物、例えば、遷移金属(例えば、サマリウムなどの周期表3A族元素、チタンなどの周期表4A族元素、バナジウムなどの周期表5A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、パラジウムなどの周期表8族元素、銅などの周期表1B族元素、亜鉛などの周期表2B族元素など)、周期表3B族金属(アルミニウムなど)、周期表4B族金属(スズなど)などの金属のハロゲン化物(塩化物、臭化物又はヨウ化物など)が挙げられる。金属ハロゲン化物を構成する前記金属の価数は、特に制限されないが、好ましくは2〜4価、特に2又は3価である。これらの金属ハロゲン化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
[Metal halogen compounds]
Like lithium compounds, metal halides also function as catalysts that promote the polymerization of halosilanes. Examples of the metal halide include polyvalent metal halides such as transition metals (for example, periodic table group 3A elements such as samarium, periodic table group 4A elements such as titanium, periodic table group 5A elements such as vanadium, iron, nickel, Periodic table group 8 elements such as cobalt and palladium, periodic table group 1B elements such as copper, periodic table group 2B elements such as zinc), periodic table group 3B metals (such as aluminum), periodic table group 4B metals (such as tin) Metal halides such as chloride, bromide or iodide. Although the valence of the metal constituting the metal halide is not particularly limited, it is preferably 2 to 4 valence, particularly 2 or 3 valence. These metal halides can be used alone or in combination of two or more.
金属ハロゲン化物としては、鉄、アルミニウム、亜鉛、銅、スズ、ニッケル、コバルト、バナジウム、チタン、パラジウム、サマリウムなどから選択された少なくとも一種の金属の塩化物又は臭化物が好ましい。 The metal halide is preferably a chloride or bromide of at least one metal selected from iron, aluminum, zinc, copper, tin, nickel, cobalt, vanadium, titanium, palladium, samarium and the like.
このような金属ハロゲン化物としては、例えば、塩化物(FeCl2、FeCl3などの塩化鉄;AlCl3、ZnCl2、SnCl2、CoCl2、VCl2、TiCl4、PdCl2、SmCl2など)、臭化物(FeBr2、FeBr3などの臭化鉄など)、ヨウ化物(SmI2など)などが例示できる。これらの金属ハロゲン化物のうち、塩化物(例えば、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)などの塩化鉄、塩化亜鉛など)及び臭化物が好ましい。通常、塩化鉄及び/又は塩化亜鉛などが使用される。 Examples of such metal halides include chlorides (iron chlorides such as FeCl 2 and FeCl 3 ; AlCl 3 , ZnCl 2 , SnCl 2 , CoCl 2 , VCl 2 , TiCl 4 , PdCl 2 , SmCl 2, etc.), Examples thereof include bromides (such as iron bromide such as FeBr 2 and FeBr 3 ) and iodides (such as SmI 2 ). Of these metal halides, chlorides (for example, iron chlorides such as iron (II) chloride and iron (III), zinc chloride) and bromides are preferred. Usually, iron chloride and / or zinc chloride is used.
溶媒(反応液)中の金属ハロゲン化物の濃度が低すぎると、反応速度が低下する場合があるとともに、高すぎると反応溶液の極性が変化し反応速度で低下したり、活性化したマグネシウムをハロゲン化物として酸化する虞がある。従って、溶媒中の金属ハロゲン化物の濃度は、通常、0.001〜6モル/L程度であり、好ましくは0.005〜4モル/L程度であり、より好ましくは0.01〜3モル/L程度である。 If the concentration of the metal halide in the solvent (reaction solution) is too low, the reaction rate may decrease. If it is too high, the polarity of the reaction solution will change and decrease at the reaction rate, or activated magnesium may be halogenated. There is a risk of oxidation as a chemical. Therefore, the concentration of the metal halide in the solvent is usually about 0.001 to 6 mol / L, preferably about 0.005 to 4 mol / L, more preferably 0.01 to 3 mol / L. About L.
金属ハロゲン化物の割合は、前記ハロシラン化合物の総量100重量部に対して、0.1〜50重量部、好ましくは1〜30重量部、さらに好ましくは2〜20重量部程度である。 The ratio of the metal halide is about 0.1 to 50 parts by weight, preferably about 1 to 30 parts by weight, and more preferably about 2 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the halosilane compound.
[反応方法又は製造方法]
本発明の製造方法では、例えば、密閉可能な反応容器に、反応成分[ジアリールジハロシラン化合物(1)、および化合物(2)〜(5)から選択されたハロシラン化合物]、マグネシウム金属成分、及び必要に応じてリチウム化合物及び/又は金属ハロゲン化物を溶媒とともに収容し、好ましくは機械的又は磁気的に攪拌しつつ、反応を行ってもよい。原料のハロシラン化合物は、予め、複数のハロシラン化合物の混合物として用いてもよいし、複数のハロシラン化合物を並行又は間欠的に添加してもよく、時系列的に添加してもよい(例えば、第一のハロシラン成分を反応系に添加して、反応を進行させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、第二のハロシラン成分を添加して反応させてもよい)。複数のハロシラン化合物の混合物として用いる前者の方法は、ランダムコポリマー(ランダムコポリシラン)を得るのに好適である。第一のハロシラン成分の反応途中で第二のハロシラン成分を添加する後者の方法は、ブロックコポリマーが得るのに好適である。後者の方法において、第一のハロシラン成分及び第二のハロシラン成分のうち少なくとも一方の成分に、前記式(1)で表されるジアリールジハロシランが含まれていればよい。すなわち、前記式(1)で表される化合物、および前記式(2)〜(5)で表される化合物から選択された少なくとも一種の化合物のうち、一方の成分を反応させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、他方の成分を反応系に添加して反応させてポリシランを生成させてもよい。例えば、前記式(1)で表される化合物を反応させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、前記式(2)〜(5)で表される化合物のうち少なくとも1種のハロシラン化合物を反応系に添加して反応させてもよく、前記式(2)〜(5)で表される化合物のうち少なくとも1種のハロシラン化合物を反応させてポリシラン又はオリゴシランを生成した後、少なくとも前記式(1)で表される化合物を反応系に添加して反応させ、ポリシランを生成させてもよい。
[Reaction method or production method]
In the production method of the present invention, for example, in a sealable reaction vessel, reaction components [diaryldihalosilane compound (1) and halosilane compound selected from compounds (2) to (5)], magnesium metal component, and If necessary, the lithium compound and / or metal halide may be accommodated together with a solvent, and the reaction may be carried out preferably with mechanical or magnetic stirring. The raw material halosilane compound may be used in advance as a mixture of a plurality of halosilane compounds, or a plurality of halosilane compounds may be added in parallel or intermittently, or may be added in time series (for example, the first One halosilane component may be added to the reaction system to allow the reaction to proceed to produce polysilane or oligosilane, and then the second halosilane component may be added to react. The former method used as a mixture of a plurality of halosilane compounds is suitable for obtaining a random copolymer (random copolysilane). The latter method, in which the second halosilane component is added during the reaction of the first halosilane component, is suitable for obtaining a block copolymer. In the latter method, it is sufficient that at least one of the first halosilane component and the second halosilane component contains the diaryldihalosilane represented by the formula (1). That is, one of the compounds represented by the above formula (1) and at least one compound selected from the compounds represented by the above formulas (2) to (5) is reacted to produce polysilane or oligosilane. After the production, the other component may be added to the reaction system and reacted to produce polysilane. For example, after reacting the compound represented by the formula (1) to produce polysilane or oligosilane, at least one halosilane compound among the compounds represented by the formulas (2) to (5) is used as a reaction system. After adding at least one halosilane compound among the compounds represented by the formulas (2) to (5) to produce polysilane or oligosilane, at least the formula (1) A compound represented may be added to the reaction system and reacted to form polysilane.
反応容器は、密閉できる限り、形状や構造についての制限は特にない。反応容器内は、乾燥雰囲気であればよいが、乾燥した不活性ガス(例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス)雰囲気、特に、脱酸素し、乾燥したアルゴンガス雰囲気が好ましい。 As long as the reaction vessel can be sealed, there is no particular limitation on the shape and structure. The reaction vessel may have a dry atmosphere, but a dry inert gas (eg, nitrogen gas, helium gas, argon gas) atmosphere, particularly a deoxygenated and dried argon gas atmosphere is preferable.
反応時間は、ハロシラン化合物、マグネシウム金属成分や触媒成分(リチウム化合物、金属ハロゲン化物)の量などに異なるが、5分以上であり、通常、30分〜100時間程度である。反応時間やマグネシウム金属成分量、触媒の種類と量を調整することにより、ポリシランの分子量制御、構造制御が可能となる。 The reaction time varies depending on the amount of the halosilane compound, the magnesium metal component and the catalyst component (lithium compound, metal halide), etc., but is 5 minutes or longer, and is usually about 30 minutes to 100 hours. By adjusting the reaction time, the amount of magnesium metal component, and the type and amount of catalyst, the molecular weight and structure of polysilane can be controlled.
反応温度は、通常、−20℃から使用する溶媒の沸点までの温度範囲内であり、好ましくは0〜80℃、さらに好ましくは20〜70℃程度である。生成したコポリマーは慣用の方法、例えば、良溶媒と貧溶媒を用いる再沈法、抽出法などの方法で精製してもよい。 The reaction temperature is usually in the temperature range from −20 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably 0 to 80 ° C., more preferably about 20 to 70 ° C. The produced copolymer may be purified by a conventional method such as a reprecipitation method using a good solvent and a poor solvent, or an extraction method.
このような方法では、室温近傍の温度で撹拌操作を行うという簡便な方法で、分子量の揃ったポリシランを高収率で製造できる。また、高価な試薬などを使用せずに市販の原料を用い、光照射器、超音波照射装置、電極反応装置等の特殊な装置を使用しないので、上記ポリシランを安価に製造できる。さらに、モノマー濃度、触媒の種類、量、反応時間を調整するだけで、所望の構造を有する上記ポリシランを製造できる。 In such a method, polysilane having a uniform molecular weight can be produced in a high yield by a simple method in which a stirring operation is performed at a temperature near room temperature. In addition, since a commercially available raw material is used without using an expensive reagent and a special apparatus such as a light irradiator, an ultrasonic irradiation apparatus, or an electrode reaction apparatus is not used, the polysilane can be produced at a low cost. Furthermore, the said polysilane which has a desired structure can be manufactured only by adjusting a monomer concentration, the kind of catalyst, quantity, and reaction time.
[ポリシランの構造]
前記方法により得られたコポリシラン(ポリシラン系コポリマー)は、式(1)で表されるジアリールジハロシラン化合物に対応するジアリールシラン単位と、他のハロシラン化合物[式(2)〜(5)で表されるハロシラン化合物]に対応するシラン単位とで構成されている。コポリシランの構造は、直鎖状、分岐鎖状であってもよく、環状であってもよい。すなわち、本発明のコポリシラン(ポリシラン系コポリマー)は、下記式(6)で表される構成単位と下記式(7)〜(10)で表される構成単位から選択された少なくとも1種の構成単位とで構成される。
[Structure of polysilane]
The copolysilane (polysilane copolymer) obtained by the above-described method is a diarylsilane unit corresponding to the diaryldihalosilane compound represented by the formula (1) and other halosilane compounds [represented by the formulas (2) to (5). And a silane unit corresponding to the halosilane compound]. The structure of the copolysilane may be linear, branched, or cyclic. That is, the copolysilane (polysilane copolymer) of the present invention has at least one structural unit selected from structural units represented by the following formula (6) and structural units represented by the following formulas (7) to (10). It consists of.
(式中、Ar1、Ar2、R1〜R6は前記に同じ。r、s、t及びuは各構成単位数を示し、r、s、t、uの合計は2〜1000の整数である)。 (In the formula, Ar 1 , Ar 2 , R 1 to R 6 are the same as described above. R, s, t and u represent the number of each structural unit, and the total of r, s, t and u is an integer of 2 to 1000. Is).
具体的には、前記式(1)で表されるジアリールジハロシランと前記式(2)で表されるジハロシラン化合物とを用いて、下記式で表される構成単位(6)及び構成単位(7)で構成されるコポリマーが得られる。 Specifically, using the diaryldihalosilane represented by the formula (1) and the dihalosilane compound represented by the formula (2), the structural unit (6) and the structural unit ( A copolymer composed of 7) is obtained.
(式中、Ar1、Ar2、R1及びR2は前記に同じ。r及びsは各構成単位数を示し、rは1〜1000の整数、sは1〜1000の整数である)。 (In the formula, Ar 1 , Ar 2 , R 1 and R 2 are the same as described above. R and s represent the number of each structural unit, r is an integer of 1 to 1000, and s is an integer of 1 to 1000).
また、前記式(1)で表されるジアリールジハロシランと前記式(3)で表されるジハロシラン化合物とを用いて、下記式で表される構成単位(6)と構成単位(8)とで構成されるコポリマーも得られる。 In addition, by using the diaryldihalosilane represented by the formula (1) and the dihalosilane compound represented by the formula (3), the structural unit (6) and the structural unit (8) represented by the following formula: A copolymer composed of
(式中、Ar1、Ar2、R3は前記に同じ。r及びtは各構成単位数を示し、rは1〜1000の整数、tは1〜1000の整数である)。 (In the formula, Ar 1 , Ar 2 , and R 3 are the same as described above. R and t represent the number of each structural unit, r is an integer of 1 to 1000, and t is an integer of 1 to 1000).
また、前記式(1)で表されるジアリールジハロシランと前記式(4)で表されるモノハロシラン化合物とを用いて、下記式で表される構成単位(6)と構成単位(10)とで構成されるコポリマーも得ることができる。この場合、構成単位(10)は必然的にコポリマーの末端となる。 In addition, using the diaryldihalosilane represented by the formula (1) and the monohalosilane compound represented by the formula (4), the structural unit (6) and the structural unit (10) represented by the following formula: A copolymer composed of can also be obtained. In this case, the structural unit (10) is necessarily the end of the copolymer.
(式中、Ar1、Ar2、R4〜R6は前記に同じ。rは各構成単位数を示し、rは2〜100程度の整数である)。 (In the formula, Ar 1 , Ar 2 and R 4 to R 6 are the same as described above. R represents the number of each structural unit, and r is an integer of about 2 to 100).
ポリシランの重量平均分子量は、300〜100000、好ましくは400〜10000、さらに好ましくは500〜5000程度である。平均重合度は、3〜1000、好ましくは4〜100、さらに好ましくは5〜50程度である。重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比は、Mw/Mn=1〜2、好ましくは1.1〜1.5程度である。本発明では、シラン化合物の組合せにより、様々な分子量と構造を有するポリシラン系コポリマーが任意に得られる。 The weight average molecular weight of polysilane is about 300 to 100,000, preferably about 400 to 10,000, and more preferably about 500 to 5,000. The average degree of polymerization is about 3 to 1000, preferably about 4 to 100, and more preferably about 5 to 50. The ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is Mw / Mn = 1 to 2, preferably about 1.1 to 1.5. In the present invention, polysilane copolymers having various molecular weights and structures can be arbitrarily obtained by combining silane compounds.
ポリシランに関し、ジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)は、特に屈折率及び撥水性も高いものの、溶媒への溶解性、樹脂への相溶性が不十分である。これに対して本発明のコポリシランは、デカフェニルシクロペンタシラン(ジフェニルポリシランの環状5量体)と比較して、溶媒への溶解性が大きく、低融点であり、樹脂への相溶性も向上できる。 Regarding polysilanes, diaryl polysilanes (such as diphenyl polysilane) are particularly high in refractive index and water repellency, but have insufficient solubility in solvents and compatibility with resins. On the other hand, the copolysilane of the present invention has a higher solubility in a solvent, a lower melting point, and improved compatibility with a resin as compared with decaphenylcyclopentasilane (a cyclic pentamer of diphenylpolysilane). .
ポリジアリールシランの特性を有効に発現させるためには、ジアリールジハロシラン化合物(1)が反応において環化し易いため、環状構造を有するのが有利である。 In order to effectively exhibit the characteristics of the polydiarylsilane, it is advantageous that the diaryldihalosilane compound (1) has a cyclic structure since it is easily cyclized in the reaction.
好ましい環状コポリシランは、例えば、下記式で表すことができる。 A preferable cyclic copolysilane can be represented by the following formula, for example.
(式中、Ar1及びAr2は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、シリル基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、シリル基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよい。ただし、R1及びR2が同時にアリール基であることはない。m及びnはそれぞれ1以上の整数であり、m+nは4以上の整数である。pは前記に同じ) (In the formula, Ar 1 and Ar 2 represent an aryl group which may have a substituent, and R 1 and R 2 are the same or different, and represent a hydrogen atom, a silyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. A silyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group may have a substituent, provided that R 1 and R 2 are not an aryl group at the same time, and m and n are each 1 And m + n is an integer greater than or equal to 4. p is the same as above)
Ar1、Ar2、R1及びR2は前記の通りである。好ましいAr1及びAr2は、C6-10アリール基[フェニル基、C1-4アルキルフェニル基(トリル基、キシリル基など)など]であり、通常、フェニル基である。好ましいR1及びR2は、C1-4アルキル基(メチル基など)、C5-8シクロアルキル基(シクロヘキシル基など)、C6-10アリール基(フェニル基など)又はC1-4アルキルC6-10アリール基(トリル基、キシリル基など)であり、通常、R1とR2との組合せは、C1-4アルキル基とC1-4アルキル基との組合せ、C1-4アルキル基とC5-8シクロアルキル基との組合せ、C1-4アルキル基とC6-10アリール基との組合せである。 Ar 1 , Ar 2 , R 1 and R 2 are as described above. Preferable Ar 1 and Ar 2 are C 6-10 aryl groups [phenyl group, C 1-4 alkylphenyl group (tolyl group, xylyl group, etc.)], and are usually phenyl groups. Preferred R 1 and R 2 are C 1-4 alkyl groups (such as methyl groups), C 5-8 cycloalkyl groups (such as cyclohexyl groups), C 6-10 aryl groups (such as phenyl groups), or C 1-4 alkyl groups. A C 6-10 aryl group (tolyl group, xylyl group, etc.), and the combination of R 1 and R 2 is usually a combination of a C 1-4 alkyl group and a C 1-4 alkyl group, C 1-4 A combination of an alkyl group and a C 5-8 cycloalkyl group, or a combination of a C 1-4 alkyl group and a C 6-10 aryl group.
m及びnは、それぞれ、1〜100、好ましくは1〜50、さらに好ましくは1〜10(例えば、1〜5)程度である場合が多く、m+nは4〜200、好ましくは4〜100、さらに好ましくは4〜50程度であってもよい。前記反応により生成する主たるポリシランにおいて、m+nは、通常、4〜25(例えば、4〜20)、好ましくは4〜10(例えば、4〜8、特に4〜6)程度であってもよい。 m and n are each about 1 to 100, preferably 1 to 50, more preferably about 1 to 10 (for example, 1 to 5), and m + n is 4 to 200, preferably 4 to 100, Preferably, it may be about 4-50. In the main polysilane produced by the reaction, m + n is usually 4 to 25 (for example, 4 to 20), preferably about 4 to 10 (for example, 4 to 8, particularly 4 to 6).
例えば、ジフェニルジハロシランと他のジハロシランとを用いてポリシランを調製する場合、触媒の種類、量、反応温度を適切に選択することにより、ジハロシランの仕込み比に応じた環状5量体を主成分として生成できる。この環状ポリシランは、その構造から明らかなように、デカフェニルシクロペンタシランと同様に構造中に酸素原子を含有していないという特徴がある。さらに、上記反応に伴って生成する副生物に関しても、環状ポリシラン又は末端が水素原子である直鎖状ポリシランが大部分であり、生成物全体に対する酸素含有量も僅かである。そのため、Si-O-Si構造又はSi-OH基に起因する可視光領域(特に短波長領域)の吸収が少なく、生成物のみならず、生成物を各種溶媒に溶解した溶液の透明性が非常に高いという特徴を有する。 For example, when preparing polysilane using diphenyldihalosilane and another dihalosilane, the main component is a cyclic pentamer corresponding to the charged ratio of dihalosilane by appropriately selecting the type, amount and reaction temperature of the catalyst. Can be generated as As apparent from the structure, this cyclic polysilane has a feature that it does not contain an oxygen atom in the structure, like decaphenylcyclopentasilane. Furthermore, with respect to the by-product generated by the above reaction, most of the cyclic polysilane or the linear polysilane having a terminal hydrogen atom is present, and the oxygen content relative to the entire product is also small. Therefore, there is little absorption in the visible light region (especially in the short wavelength region) due to the Si-O-Si structure or Si-OH group, and not only the product but also the transparency of the solution in which the product is dissolved in various solvents is very high. It is characterized by being high.
より具体的には、ジフェニルジクロロシランとメチルフェニルジクロロシランを4:1のモル比率で反応させると、下記式(11)で表されるメチルノナフェニルシクロペンタシランを合成することができる。また、ジフェニルジクロロシランとメチルフェニルジクロロシランを1:1のモル比率で反応させると、下記式(12)で表されるジメチルオクタフェニルシクロペンタシランと下記式(13)で表されるトリメチルヘプタフェニルシクロペンタシランとの混合物を1:1で生成することができる。 More specifically, methylnonaphenylcyclopentasilane represented by the following formula (11) can be synthesized by reacting diphenyldichlorosilane and methylphenyldichlorosilane at a molar ratio of 4: 1. When diphenyldichlorosilane and methylphenyldichlorosilane are reacted at a molar ratio of 1: 1, dimethyloctaphenylcyclopentasilane represented by the following formula (12) and trimethylheptaphenyl represented by the following formula (13) Mixtures with cyclopentasilane can be made 1: 1.
上記式(11)〜(13)で表される環状コポリシランに関しては、デカフェニルシクロペンタシランと比較して、種々の溶媒に高い溶解性を示し、製膜も容易である。また、副生物も含めて酸素をほとんど含有していないため、有機溶媒に溶解しても着色も少なく、高い透明性を示す。さらに、デカフェニルシクロペンタシランの融点が192℃と高いのに対して式(11)〜(13)で表される環状コポリシランの融点は100℃以下(例えば、60〜100℃程度)と低い。一方、式(11)〜(13)で表される環状コポリシランは、常温では固体であり、流動性が高く、非粘着性であるため、取扱い性、例えば、樹脂への添加などにおいて非常に取り扱いが容易である。 Regarding the cyclic copolysilanes represented by the above formulas (11) to (13), compared with decaphenylcyclopentasilane, it exhibits higher solubility in various solvents and film formation is also easy. In addition, since it contains almost no oxygen, including by-products, it is less colored even when dissolved in an organic solvent, and exhibits high transparency. Furthermore, the melting point of decaphenylcyclopentasilane is as high as 192 ° C., whereas the cyclic copolysilane represented by the formulas (11) to (13) has a low melting point of 100 ° C. or less (for example, about 60 to 100 ° C.). On the other hand, the cyclic copolysilanes represented by the formulas (11) to (13) are solid at room temperature, have high fluidity, and are non-adhesive, so that they are very easy to handle in handling, for example, addition to a resin. Is easy.
なお、本発明の前記方法では、環状構造を有するポリシラン(環状ポリシラン)を含むポリシラン混合物も生成する。そのため、本発明は、環状ポリシラン(環状コ又はホモポリシラン)を含むポリシラン混合物も包含する。 In addition, in the said method of this invention, the polysilane mixture containing the polysilane (cyclic polysilane) which has a cyclic structure is also produced | generated. Therefore, the present invention also includes a polysilane mixture containing cyclic polysilane (cyclic co or homopolysilane).
環状ホモポリシランとしては、式(1)で表される化合物に対応するジアリールポリシラン(ジフェニルポリシランなど)、アルキル−アリールポリシラン、アルキル−シクロアルキルポリシラン、ジアルキルポリシラン、ジシクロアルキルポリシランなどが例示できる。環状ポリシラン(環状コ又はホモポリシラン)の含有量は、ポリシラン混合物全体に対して、例えば、40重量%以上(例えば、40〜100重量%)、好ましくは50重量%以上(例えば、50〜100重量%)、さらに好ましくは60重量%以上(例えば、60〜100重量%)である。 Examples of the cyclic homopolysilane include diaryl polysilane (such as diphenyl polysilane), alkyl-aryl polysilane, alkyl-cycloalkyl polysilane, dialkyl polysilane, and dicycloalkyl polysilane corresponding to the compound represented by the formula (1). The content of the cyclic polysilane (cyclic co or homopolysilane) is, for example, 40% by weight or more (for example, 40 to 100% by weight), preferably 50% by weight or more (for example, 50 to 100% by weight) with respect to the entire polysilane mixture. %), More preferably 60% by weight or more (for example, 60 to 100% by weight).
さらに、ポリシラン混合物全体に対して5量体の環状ポリシラン(ホモ又はコポリシラン)の割合は、例えば、20重量%以上(例えば、2〜100重量%)、好ましくは30重量%以上(例えば、30〜90重量%)、さらに好ましくは40重量%以上(例えば、40〜90重量%)である。 Furthermore, the ratio of the pentameric cyclic polysilane (homo or copolysilane) to the whole polysilane mixture is, for example, 20% by weight or more (for example, 2 to 100% by weight), preferably 30% by weight or more (for example, 30 to 30%). 90% by weight), more preferably 40% by weight or more (for example, 40 to 90% by weight).
[樹脂組成物]
本発明の樹脂組成物は、前記ポリシランと樹脂とで構成されており、ポリシラン(コポリシラン、又はポリシラン混合物)は、通常、添加剤として添加される。樹脂の種類は、特に限定されず、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれであってもよい。
[Resin composition]
The resin composition of the present invention is composed of the polysilane and the resin, and polysilane (copolysilane or a polysilane mixture) is usually added as an additive. The kind of resin is not specifically limited, Any of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be sufficient.
熱可塑性樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂[ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、非晶質ポリオレフィンなど]、ハロゲン含有樹脂[ポリ塩化ビニル、フッ化樹脂など]、スチレン系樹脂[ポリスチレン、アクリロニトリル-スチレン樹脂など]、アクリル系樹脂[ポリメタクリル酸メチルなど]、ポリカーボネート系樹脂[ビスフェノールA型ポリカーボネート樹脂など]、ポリエステル系樹脂[ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、液晶ポリエステルなど]、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂[ナイロン6、ナイロン66、ナイロン46、ナイロン6T、ナイロンMXDなど]、ポリフェニレンエーテル系樹脂[変性ポリフェニレンエーテルなど]、ポリスルホン系樹脂[ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど]、ポリイミド系樹脂[ポリエーテルイミド、ポリアミドイミドなど]、マレイミド系樹脂[ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミドトリアジン樹脂など]、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。 Examples of thermoplastic resins include olefin resins [polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, amorphous polyolefin, etc.], halogen-containing resins [polyvinyl chloride, fluororesins, etc.], styrene resins [polystyrene, acrylonitrile-styrene. Resin], acrylic resin [polymethyl methacrylate, etc.], polycarbonate resin [bisphenol A type polycarbonate resin, etc.], polyester resin [polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyarylate , Liquid crystal polyester, etc.], polyacetal resin, polyamide resin [nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 6T, nylon MXD, etc.], poly Ren ether resins [modified polyphenylene ether, etc.], polysulfone resins [polysulfone, polyethersulfone, etc.], polyimide resins [polyetherimide, polyamideimide, etc.], maleimide resins [polyamino bismaleimide, bismaleimide triazine resins, etc.] Examples thereof include thermoplastic elastomers.
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、アミノ樹脂[尿素樹脂、メラミン樹脂など]、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などが例示できる。熱硬化性樹脂は初期縮合物であってもよい。 Thermosetting resins include phenolic resin, furan resin, amino resin [urea resin, melamine resin, etc.], unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, vinyl ester resin, polyurethane resin, silicone resin, polyimide resin, etc. It can be illustrated. The thermosetting resin may be an initial condensate.
これらの樹脂は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。複数の樹脂を用いる場合、ポリマーアロイを形成していてもよい。 These resins can be used alone or in combination of two or more. When using a plurality of resins, a polymer alloy may be formed.
ポリシランの添加量は、樹脂とポリシランの種類と用途によって異なるが、概ね樹脂100重量部に対し、0.01〜50重量部(例えば、0.5〜50重量部)、好ましくは0.1〜30重量部程度であってもよい。添加量が少ないと、難燃性や撥水性などの特性を付与できず、多すぎると樹脂の特性を損なう場合がある。 The amount of polysilane added varies depending on the type and application of the resin and polysilane, but is generally 0.01 to 50 parts by weight (for example, 0.5 to 50 parts by weight), preferably 0.1 to 100 parts by weight of the resin. It may be about 30 parts by weight. If the addition amount is small, properties such as flame retardancy and water repellency cannot be imparted, and if it is too large, the properties of the resin may be impaired.
本発明の樹脂組成物は、用途に応じて種々の添加剤、例えば、溶剤、充填剤、強化剤、可塑剤、硬化剤、重合開始剤、触媒、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、離型剤、帯電防止剤、着色剤、加硫剤、消泡剤、レベリング剤、分散剤、流動調整剤などを含んでいてもよい。 The resin composition of the present invention has various additives such as a solvent, a filler, a reinforcing agent, a plasticizer, a curing agent, a polymerization initiator, a catalyst, a stabilizer (an antioxidant, an ultraviolet absorber, etc.) depending on the application. ), Release agents, antistatic agents, colorants, vulcanizing agents, antifoaming agents, leveling agents, dispersing agents, flow control agents, and the like.
樹脂へのポリシランの添加混合方法は、特に制限されず、通常、樹脂ペレットと、ポリシランと、必要により添加剤とを溶融混合する場合が多い。例えば、樹脂ペレットと安定剤などの成分とを予備混合したのち、ポリシランを、必要により強化剤や充填剤などの添加剤とともに混練装置で溶融混合してもよい。溶融混合された樹脂組成物は、通常、ペレット化され、成形に供される。混練装置はバッチ式と連続式がある。バッチ式混練装置としては、ミキシングロール、ニーダー、インテンシブミキサーなどが例示できる。連続式混練装置としては、単軸スクリュー押出機、噛合型2軸スクリュー押出機、非噛合型2軸押出機などが例示できる。 The method of adding and mixing polysilane to the resin is not particularly limited, and usually, resin pellets, polysilane, and if necessary, additives are often melt-mixed. For example, after premixing resin pellets and components such as a stabilizer, polysilane may be melt-mixed in a kneading apparatus together with additives such as reinforcing agents and fillers as necessary. The melt-mixed resin composition is usually pelletized and subjected to molding. There are two types of kneaders: a batch type and a continuous type. Examples of the batch-type kneader include a mixing roll, a kneader, and an intensive mixer. Examples of the continuous kneader include a single screw extruder, a meshing twin screw extruder, and a non-meshing twin screw extruder.
熱硬化性樹脂においては、一般的に、硬化剤などの各種樹脂添加剤とともに、ポリシランと樹脂初期縮合物とを混合することにより硬化性組成物が調製される。なお、ポリシランと樹脂初期縮合物とを混合又は溶解槽にて混合するとともに、必要により強化剤などの添加剤と混練して硬化性組成物を調製し、この硬化性組成物を基布などに含浸して乾燥し硬化させてもよい。 In a thermosetting resin, generally, a curable composition is prepared by mixing polysilane and a resin initial condensate together with various resin additives such as a curing agent. In addition, the polysilane and the resin initial condensate are mixed or mixed in a dissolution tank, and if necessary, kneaded with an additive such as a reinforcing agent to prepare a curable composition, and this curable composition is used as a base cloth or the like. It may be impregnated, dried and cured.
樹脂組成物の成形方法としては、樹脂の種類、用途によって異なるが、熱可塑性樹脂の場合は、押出成形、射出成形、ブロー成形、延伸フィルム成形、圧縮成形、カレンダー成形、RIM成形などの方法が例示できる。熱硬化性樹脂の場合は、圧縮成形、トランスファー成形、積層成形、注型成形、RIM成形などの方法が例示できる。 The molding method of the resin composition varies depending on the type and use of the resin. In the case of a thermoplastic resin, methods such as extrusion molding, injection molding, blow molding, stretched film molding, compression molding, calendar molding, RIM molding, etc. It can be illustrated. In the case of a thermosetting resin, methods such as compression molding, transfer molding, laminate molding, cast molding, and RIM molding can be exemplified.
本発明は、ジアリールポリシランの特性を維持しつつ、溶媒や樹脂などに対する親和性を向上できる。そのため、ジアリールポリシランの特性、例えば、難燃性、撥水性、離型性、滑り性などの特性を樹脂や基材などに有効に付与できる。そのため、種々の用途、例えば、セラミックス前駆体、光電子材料(例えば、フォトレジスト、有機感光体などの光電子写真材料、光導波路などの光伝送材料、光メモリなどの光記録材料、エレクトロルミネッセンス素子用材料など)、難燃剤、撥水剤、離型剤などとして利用できる。 The present invention can improve the affinity for solvents and resins while maintaining the characteristics of diarylpolysilane. Therefore, the characteristics of diarylpolysilane, such as flame retardancy, water repellency, releasability, and slipperiness, can be effectively imparted to resins and substrates. Therefore, various uses, for example, ceramic precursors, optoelectronic materials (for example, photoelectrophotographic materials such as photoresists and organic photoreceptors, optical transmission materials such as optical waveguides, optical recording materials such as optical memories, electroluminescent element materials, etc. ), Flame retardants, water repellents, release agents and the like.
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
なお、ポリシランの分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した。また、FD−MS(Field Desorption-Mass Spectrometry)は、日本電子(株)製「JMS−700」を用い、イオン化法:FD(電解脱離Field Desorption)、エミッタ:カーボン、エミッタ電流:0−40mA(2mA/分)、加速電圧:8kV、対向電圧:2kVで測定した。 The molecular weight of polysilane was measured by gel permeation chromatography. Further, FD-MS (Field Desorption-Mass Spectrometry) uses “JMS-700” manufactured by JEOL Ltd., ionization method: FD (Electrolytic Desorption Field Desorption), emitter: carbon, emitter current: 0-40 mA. (2 mA / min), acceleration voltage: 8 kV, counter voltage: 2 kV.
実施例1
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化鉄(II)(FeCl2)20.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン60.8g(0.24mol)と、予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン11.5g(0.06mol)の混合物を滴下漏斗で加え、50℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体の白色固体を得た(重量平均分子量1200、収率85%)。
Example 1
In a 1000 mL round flask equipped with a three-way cock, 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), and anhydrous iron (II) chloride (FeCl 2 ) 20. 0 g was charged, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), dried argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and about 30 minutes at room temperature. Stir. To this reaction mixture, a mixture of 60.8 g (0.24 mol) of diphenyldichlorosilane previously purified by distillation and 11.5 g (0.06 mol) of methylphenyldichlorosilane previously purified by distillation was added with a dropping funnel, and the mixture was added at 50 ° C. For about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the toluene was distilled off to obtain a white solid of cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer. (Weight average molecular weight 1200, yield 85%).
FD−MS:724,786,848,910,1151,1212,1395
この分析結果から、上記生成物は分子量分布において、分子量848を頂点とする分布と分子量1212を頂点とする分布との2つの分布を有している。
FD-MS: 724,786,848,910,1151,1212,1395
From this analysis result, the product has two distributions in the molecular weight distribution: a distribution having a molecular weight of 848 as a vertex and a distribution having a molecular weight of 1212 as a vertex.
参考例1
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化亜鉛(ZnCl2)15.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン60.8g(0.24mol)と、予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン11.5g(0.06mol)の混合物を滴下漏斗で加え、50℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体の白色固体を得た(重量平均分子量3500、収率80%)。
Reference example 1
A round flask with an internal volume of 1000 ml equipped with a three-way cock is charged with 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), and 15.0 g of anhydrous zinc chloride (ZnCl 2 ). After drying at 50 ° C. by heating to 1 mmHg (= 133 kPa) under reduced pressure, dry argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and the mixture was stirred at room temperature for about 30 minutes. To this reaction mixture, a mixture of 60.8 g (0.24 mol) of diphenyldichlorosilane previously purified by distillation and 11.5 g (0.06 mol) of methylphenyldichlorosilane previously purified by distillation was added with a dropping funnel, and the mixture was added at 50 ° C. For about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the toluene was distilled off to obtain a white solid of cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer. (Weight average molecular weight 3500, yield 80%).
ジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を良溶媒テトラヒドロフラン200ml、貧溶媒メタノール1000mlを用いて再沈殿させ、重量平均分子量3200の環状ジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た。 The diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer was reprecipitated using 200 ml of good solvent tetrahydrofuran and 1000 ml of poor solvent methanol to obtain a cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer having a weight average molecular weight of 3200.
実施例3
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム65.9g、無水塩化リチウム(LiCl)30.0g、無水塩化鉄(III)(FeCl3)15.0gを収容し、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して、反応混合物を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン50.6g(0.20mol)と、予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン38.2g(0.20mol)の混合物をシリンジで加え、50℃で約24時間撹拌した。反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体の白色固体を得た(重量平均分子量1000、収率90%)。
Example 3
In a 1000 ml round flask equipped with a three-way cock, 65.9 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 30.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), anhydrous iron (III) chloride (FeCl 3 ) 15. 0 g was accommodated and heated to 50 ° C. under reduced pressure to 1 mmHg (= 133 kPa) to dry the reaction mixture. Then, dry argon gas was introduced into the reactor, and 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added. Stir at room temperature for about 30 minutes. To this reaction mixture, a mixture of 50.6 g (0.20 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation and 38.2 g (0.20 mol) of methylphenyldichlorosilane purified in advance by distillation was added with a syringe, and the mixture was mixed at 50 ° C. Stir for about 24 hours. To the reaction mixture, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the toluene was distilled off to obtain a white solid of cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer. (Weight average molecular weight 1000, yield 90%).
ジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を良溶媒トルエン200ml、貧溶媒2−プロパノール800mlを用いて再沈殿させ、重量平均分子量1100の環状ジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た。 The diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer was reprecipitated using 200 ml of good solvent toluene and 800 ml of poor solvent 2-propanol to obtain a cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer having a weight average molecular weight of 1100. .
FD−MS:662,724,786,848,906 FD-MS: 662, 724, 786, 848, 906
参考例2
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化鉄(III)(FeCl3)20.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン21.2g(0.10mol)の混合物を滴下漏斗で加え、60℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、ジフェニルジクロロシラン−フェニルトリクロロシラン共重合体の淡黄色固体を得た(重量平均分子量1300、収率90%)。
Reference example 2
In a 1000 mL round flask equipped with a three-way cock, 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), anhydrous iron (III) chloride (FeCl 3 ) 20. 0 g was charged, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), dried argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and about 30 minutes at room temperature. Stir. To this reaction mixture, a mixture of 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation and 21.2 g (0.10 mol) of phenyltrichlorosilane purified in advance by distillation was added with a dropping funnel at 60 ° C. Stir for about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a light yellow solid of diphenyldichlorosilane-phenyltrichlorosilane copolymer (weight) Average molecular weight 1300, yield 90%).
参考例3
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化鉄(III)(FeCl3)20.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したジメチルジクロロシラン12.9g(0.10mol)の混合物を滴下漏斗で加え、60℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、ジフェニルジクロロシラン−ジメチルトリクロロシラン共重合体の淡黄色固体を得た(重量平均分子量1000、収率90%)。
Reference example 3
In a 1000 mL round flask equipped with a three-way cock, 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), anhydrous iron (III) chloride (FeCl 3 ) 20. 0 g was charged, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), dried argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and about 30 minutes at room temperature. Stir. To this reaction mixture, a mixture of 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation and 12.9 g (0.10 mol) of dimethyldichlorosilane purified in advance by distillation was added with a dropping funnel at 60 ° C. Stir for about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a light yellow solid of diphenyldichlorosilane-dimethyltrichlorosilane copolymer (weight) Average molecular weight 1000, yield 90%).
参考例4
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化鉄(III)(FeCl3)20.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したシクロヘキシルメチルジクロロシラン19.7g(0.10mol)の混合物を滴下漏斗で加え、60℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−シクロヘキシルメチルジクロロシラン共重合体の白色固体を得た(重量平均分子量1100、収率85%)。
Reference example 4
In a 1000 mL round flask equipped with a three-way cock, 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), anhydrous iron (III) chloride (FeCl 3 ) 20. 0 g was charged, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), dried argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and about 30 minutes at room temperature. Stir. To this reaction mixture, a mixture of 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane purified beforehand by distillation and 19.7 g (0.10 mol) of cyclohexylmethyldichlorosilane purified beforehand by distillation was added with a dropping funnel, and the mixture was added at 60 ° C. For about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the toluene was distilled off to obtain a white solid of a cyclic diphenyldichlorosilane-cyclohexylmethyldichlorosilane copolymer. (Weight average molecular weight 1100, yield 85%).
参考例5
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン21.2g(0.10mol)の混合物を滴下漏斗で加え、60℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、ジフェニルジクロロシラン−メチルトリクロロシラン共重合体の淡黄色固体を得た(重量平均分子量900、収率70%)。
Reference Example 5
A round flask with an internal volume of 1000 ml equipped with a three-way cock is charged with 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), and then dried argon gas Was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and the mixture was stirred at room temperature for about 30 minutes. To this reaction mixture, a mixture of 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation and 21.2 g (0.10 mol) of phenyltrichlorosilane purified in advance by distillation was added with a dropping funnel at 60 ° C. Stir for about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a light yellow solid of diphenyldichlorosilane-methyltrichlorosilane copolymer (weight) (Average molecular weight 900, yield 70%).
参考例6
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20〜1000μm)のマグネシウム30.0gと無水塩化リチウム(LiCl)40.0g、無水塩化鉄(III)(FeCl3)20.0gを仕込み、50℃で1mmHg(=133kPa)に加熱減圧して乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したメチルトリクロロシラン15.0g(0.10mol)の混合物を滴下漏斗で加え、60℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸250mlを投入し、さらにトルエン1000mlで抽出した。トルエン層を純水200mlで3回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去することにより、ジフェニルジクロロシラン−フェニルトリクロロシラン共重合体の淡黄色固体を得た(重量平均分子量1600、収率70%)。
Reference Example 6
In a 1000 mL round flask equipped with a three-way cock, 30.0 g of granular (particle size 20 to 1000 μm) magnesium, 40.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), anhydrous iron (III) chloride (FeCl 3 ) 20. 0 g was charged, dried at 50 ° C. under reduced pressure by heating to 1 mmHg (= 133 kPa), dried argon gas was introduced into the reactor, 500 ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added, and about 30 minutes at room temperature. Stir. To this reaction mixture, a mixture of 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane previously purified by distillation and 15.0 g (0.10 mol) of methyltrichlorosilane previously purified by distillation was added with a dropping funnel at 60 ° C. Stir for about 24 hours. After completion of the reaction, 250 ml of 1N (= 1 mol / L) hydrochloric acid was added to the reaction mixture, followed by extraction with 1000 ml of toluene. The toluene layer was washed with 200 ml of pure water three times, the toluene layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and then toluene was distilled off to obtain a light yellow solid of diphenyldichlorosilane-phenyltrichlorosilane copolymer (weight) Average molecular weight 1600, yield 70%).
参考例7
ハロシランとして予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン50.6g(0.2mol)とメチルフェニルジクロロシラン4.8g(0.025mmol)とジメチルジクロロシラン3.2g(0.025mmol)の混合物を用いる以外は、実施例1と同様にして反応を行い、重量平均分子量1000のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン−ジメチルジクロロシラン共重合体を得た(収率80%)。
Reference Example 7
Except for using a mixture of 50.6 g (0.2 mol) of diphenyldichlorosilane, 4.8 g (0.025 mmol) of methylphenyldichlorosilane and 3.2 g (0.025 mmol) of dimethyldichlorosilane, which has been purified by distillation as halosilane, Reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane-dimethyldichlorosilane copolymer having a weight average molecular weight of 1000 (yield 80%).
参考例8
反応時間を6時間とする以外は、実施例1と同様にして反応を行い主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量800、収率60%)。
Reference Example 8
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction time was 6 hours to obtain a diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer having a cyclic main component (weight average molecular weight 800, yield 60%). .
参考例9
反応温度を30℃とする以外は、実施例1と同様にして反応を行い、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1700、収率50%)。
Reference Example 9
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was 30 ° C., and a diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer having a cyclic main component was obtained (weight average molecular weight 1700, yield 50%). ).
参考例10
メチルフェニルジクロロシラン22.9g(0.12mol)を加え、室温で2時間撹拌することにより低分子量のポリシランを生成させた後、予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン121.5g(0.48mol)を加える以外は実施例3と同様にして反応を行い、重量平均分子量1100のポリメチルフェニルシラン−ポリフェニルシリンコポリマー(ブロックコポリマー)を得た(収率60%)。
Reference Example 10
After adding 22.9 g (0.12 mol) of methylphenyldichlorosilane and stirring at room temperature for 2 hours to produce low molecular weight polysilane, 121.5 g (0.48 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation was added. A reaction was carried out in the same manner as in Example 3 except for adding to obtain a polymethylphenylsilane-polyphenylsilin copolymer (block copolymer) having a weight average molecular weight of 1100 (yield 60%).
参考例11
無水塩化亜鉛(ZnCl2)15.0gの代わりに無水塩化ニッケル(NiCl2)10.0gを用いる以外は実施例2と同様にして反応を行い、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1900、収率80%)。
Reference Example 11
The reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 10.0 g of anhydrous nickel chloride (NiCl 2 ) was used instead of 15.0 g of anhydrous zinc chloride (ZnCl 2 ), and the main component was diphenyldichlorosilane-methylphenyldicyclic. A chlorosilane copolymer was obtained (weight average molecular weight 1900, yield 80%).
参考例12
無水塩化亜鉛(ZnCl2)15.0gの代わりに無水塩化アルミニウム(AlCl3)7.5gを用いる以外は実施例2と同様にして反応を行い、重量平均分子量2100のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(収率75%)。
Reference Example 12
A reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 7.5 g of anhydrous aluminum chloride (AlCl 3 ) was used instead of 15.0 g of anhydrous zinc chloride (ZnCl 2 ), and diphenyldichlorosilane-methylphenyldi having a weight average molecular weight of 2100. A chlorosilane copolymer was obtained (yield 75%).
参考例13
無水塩化リチウム(LiCl)30.0gの代わりに無水過塩素酸リチウム(LiClO4)15.0gを用いる以外は実施例3と同様にして反応を行い、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1600、収率65%)。
Reference Example 13
The reaction is carried out in the same manner as in Example 3 except that 15.0 g of anhydrous lithium perchlorate (LiClO 4 ) is used instead of 30.0 g of anhydrous lithium chloride (LiCl), and the main component is cyclic diphenyldichlorosilane-methylphenyl. A dichlorosilane copolymer was obtained (weight average molecular weight 1600, yield 65%).
参考例14
使用モノマーを予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン101.3g(0.40mol)と、予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン38.2g(0.20mol)にした以外は、実施例3と同様にして反応を行い、主成分が環状のジフェニルジクロロシラン−メチルフェニルジクロロシラン共重合体を得た(重量平均分子量1500、収率55%)。
Reference Example 14
The same procedure as in Example 3 was conducted except that 101.3 g (0.40 mol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation and 38.2 g (0.20 mol) of methylphenyldichlorosilane purified in advance by distillation were used. The reaction was carried out to obtain a diphenyldichlorosilane-methylphenyldichlorosilane copolymer having a cyclic main component (weight average molecular weight 1500, yield 55%).
比較例1
ハロシランとして予め蒸留により精製したメチルフェニルジクロロシラン114.7g(600mmol)を用いる以外は、実施例2と同様にして反応を行い、ポリメチルフェニルシランを得た(収率80%)。
Comparative Example 1
A reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 114.7 g (600 mmol) of methylphenyldichlorosilane purified in advance by distillation as halosilane to obtain polymethylphenylsilane (yield 80%).
比較例2
ハロシランとして予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン126.9g(600mmol)を用いる以外は、実施例2と同様にして反応を行い、ポリフェニルシリンを得た(収率82%)。
Comparative Example 2
A reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 126.9 g (600 mmol) of phenyltrichlorosilane purified by distillation in advance was used as halosilane to obtain polyphenylsilin (yield 82%).
比較例3
ハロシランとして予め蒸留により精製したジフェニルジクロロシラン151.9g(600mmol)を用いる以外は実施例1と同様にして反応を行い、ポリジフェニルシランを得た(収率85%)。
Comparative Example 3
A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 151.9 g (600 mmol) of diphenyldichlorosilane purified in advance by distillation as halosilane to obtain polydiphenylsilane (yield 85%).
実施例1,3,参考例2で得られたポリシラン系コポリマーと、比較例1,2,3で得られたポリシランをそれぞれ等量の各種溶媒と混合し、濃度50重量%の混合液を調製した。そして、混合液を目視し、ポリシラン系コポリマーの溶解性を下記の基準で評価したところ、表1に示す結果を得た。なお、表中、THFはテトラヒドロフラン、PGMEAはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを示す。 The polysilane copolymer obtained in Examples 1 and 3 and Reference Example 2 and the polysilane obtained in Comparative Examples 1, 2 and 3 were mixed with equal amounts of various solvents to prepare a mixed solution having a concentration of 50% by weight. did. Then, the liquid mixture was visually observed, and the solubility of the polysilane copolymer was evaluated according to the following criteria. The results shown in Table 1 were obtained. In the table, THF represents tetrahydrofuran, and PGMEA represents propylene glycol monomethyl ether acetate.
○…完全に溶解し透明である
△…溶解するが濁りがある
×…不溶物がある。
○: Completely dissolved and transparent Δ: Dissolved but turbid ×: Some insoluble.
実施例1,3,参考例2で得られたポリシラン系コポリマーと、比較例1,2,3で得られたポリシランをそれぞれ等量のトルエンと混合し、50重量%トルエン混合液を調製し、可視光(600nm)の透過率を測定した。結果を表2に示す。 The polysilane copolymer obtained in Examples 1 and 3 and Reference Example 2 and the polysilane obtained in Comparative Examples 1 and 2 and 3 were mixed with an equal amount of toluene, respectively, to prepare a 50 wt% toluene mixed solution, The transmittance of visible light (600 nm) was measured. The results are shown in Table 2.
ポリシラン系コポリマーはポリシランホモポリマーと比較して、種々の溶媒に溶解可能であり、しかも溶液の透明性が高い。そのため、種々の用途、例えば、光電子材料用途に展開可能であると考えられる。 The polysilane copolymer can be dissolved in various solvents and has high transparency of the solution as compared with the polysilane homopolymer. Therefore, it is considered that it can be developed for various uses, for example, for optoelectronic materials.
実施例1,3,参考例2で得られたポリシラン系コポリマーと、比較例1,2,3で得られたポリシランとを、それぞれ、添加量を変えて、ポリカーボネート樹脂に添加し、押出成形し、成形品(厚み3mm)の透明性を目視にて観察したところ、表3に示す結果を得た。 The polysilane copolymers obtained in Examples 1 and 3 and Reference Example 2 and the polysilanes obtained in Comparative Examples 1, 2 and 3 were added to polycarbonate resins with different addition amounts, and extruded. When the transparency of the molded product (thickness 3 mm) was visually observed, the results shown in Table 3 were obtained.
ポリシラン系コポリマーはポリシランホモポリマーと比較して樹脂との相溶性が高いため、樹脂に対してより多く添加可能である。さらに、透明な樹脂に関しては透明性を損なうことなく添加可能である。そのため、ポリシランの撥水性、難燃性などの優れた物性を樹脂に付与可能である。 Since the polysilane copolymer has higher compatibility with the resin than the polysilane homopolymer, it can be added more to the resin. Furthermore, a transparent resin can be added without impairing transparency. Therefore, excellent physical properties such as water repellency and flame retardancy of polysilane can be imparted to the resin.
Claims (1)
前記環状コポリシランが、下記式(i)で表されるジフェニルシラン単位と、下記式(ii)で表されるフェニルメチルシラン単位とで構成された5量体環状コポリシランであり、
前記熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート系樹脂で構成され、
前記環状コポリシランの添加量が、前記樹脂100重量部に対し、0.01〜50重量部である樹脂組成物。 A resin composition comprising a cyclic copolysilane and a thermoplastic resin,
The cyclic copolysilane is a pentameric cyclic copolysilane composed of a diphenylsilane unit represented by the following formula (i) and a phenylmethylsilane unit represented by the following formula (ii) :
The thermoplastic resin is composed of a polycarbonate resin,
The resin composition whose addition amount of the said cyclic copolysilane is 0.01-50 weight part with respect to 100 weight part of said resin .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003276086A JP4542758B2 (en) | 2003-07-17 | 2003-07-17 | Copolysilane and its production method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003276086A JP4542758B2 (en) | 2003-07-17 | 2003-07-17 | Copolysilane and its production method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005036139A JP2005036139A (en) | 2005-02-10 |
JP4542758B2 true JP4542758B2 (en) | 2010-09-15 |
Family
ID=34212516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003276086A Expired - Fee Related JP4542758B2 (en) | 2003-07-17 | 2003-07-17 | Copolysilane and its production method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4542758B2 (en) |
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JP5475211B2 (en) * | 2005-08-19 | 2014-04-16 | 大阪瓦斯株式会社 | Resin modifier and resin composition containing the modifier |
JP5010127B2 (en) * | 2005-09-12 | 2012-08-29 | 大阪瓦斯株式会社 | High refractive index polysilane |
JP4908891B2 (en) * | 2006-03-28 | 2012-04-04 | 大阪瓦斯株式会社 | Curing agent for thermosetting resin and composition thereof |
JP4702464B2 (en) | 2009-03-05 | 2011-06-15 | 富士ゼロックス株式会社 | White particles for electrophoretic display, electrophoretic display medium, and electrophoretic display device |
JP5603963B2 (en) * | 2013-03-11 | 2014-10-08 | 大阪瓦斯株式会社 | Resin modifier and resin composition containing the modifier |
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- 2003-07-17 JP JP2003276086A patent/JP4542758B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005036139A (en) | 2005-02-10 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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