JP5000486B2 - 直接還元方法および装置 - Google Patents

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Description

詳細な説明
本発明は、金属を含む供給材料の直接還元方法および装置に関するものであり、とくに、限定するわけではないが、鉄鉱石などの鉄含有供給材料の直接還元方法および装置に関する。
また本発明は、金属含有供給材料を還元する方法に関する。この方法は、固体の状態の金属含有供給材料を部分的に還元する直接還元処理と、部分的に還元した金属含有供給材料を溶かし、さらに還元して溶融金属にする溶解処理とを含む。
公知の直接還元技術は、いわゆる「CIRCOFER技術」であり、これは固体状の鉄鉱石の50%以上を金属に還元できる。
CIRCOFER技術は、流動床の使用を基本とする。流動床への主要な供給材料は、流動化ガス、金属酸化物(一般に鉄鉱石微粉)、固体炭素質材料(一般に石炭)、および酸素含有ガス(一般に酸素ガス)である。流動床で生成される主な生成物は、金属化した金属酸化物、すなわち少なくとも部分的に還元されている金属酸化物である。
出願人は、固体状の酸化鉄を2段階処理で効果的かつ効率的に還元することが可能であることに気付いた。この処理では、第1流動床内で固体炭素質材料と酸素含有ガスとの反応を利用して熱を発生させ、この熱を高温の排ガスと同伴固体との流れによって第1流動床から第2流動床に供給することによって第2流動床内で金属含有供給材料を還元する。
本発明は、金属含有材料を直接還元する方法を提供し、本方法は以下の工程を含む。
固体炭素質材料および酸素含有ガスを第1容器の流動床に供給し、流動床における酸素含有ガスと固体炭素質材料との反応、およびその他の酸化可能な固体とガスとの反応によって熱を発生させ、同伴固体を含有する高温排ガス流れを排出する工程、および
金属含有材料を第2容器の流動床に供給し、第1容器から送られてきた同伴固体を含有する高温排ガス流れを第2容器の流動床に供給し、流動床内の固体状の金属含有供給材料の少なくとも一部を還元し、少なくとも一部が還元された金属含有材料の生成物流れと同伴固体を含有する排ガス流れとを排出する工程。
上述の方法では、発熱機能と還元機能とを2つの独立した容器で分離し、各機能を最大限に活用できるようにしている。
とくに、発熱機能と還元機能とを分離すると、第1容器を高い温度で運転して熱を発生させることが可能になり、また発熱と還元とを1つの容器で行う場合よりも、タールおよびその他の揮発分を的確に除去することが可能になる。とくに、発熱と還元とが1つの容器で起こる場合、金属含有材料に関連する付着の問題が、使用可能な最大運転温度を制限してしまうおそれがある。
本方法は、好ましくは第2容器での運転温度よりも高い温度を、第1容器で発生させる工程を含む。
本方法は、好ましくは第1容器を1000oCより高い温度で運転する工程を含む。
本方法は、好ましくは第2容器を1000oCより低い温度で運転する工程を含む。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスを第1容器に供給して、第1容器内にガスの下降流を発生させる工程を含む。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスを第2容器に供給する工程を含む。
より好ましくは、酸素含有ガスの第2容器への供給を、細かい還元鉱石粒が他の供給材料の粒子と共に所望の塊状にされてより大きな還元鉱石粒が形成されるような制御状況の下で行う。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスを第2容器に供給して、第2容器内にガスの下降流を発生させる工程を含む。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスを、第1容器および/または第2容器に、少なくとも1つのランスから注入する工程を含み、このランスは、容器側壁の内側で容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を備える。
ランス先端部は、好ましくは下向きである。
より好ましくは、ランス先端部は鉛直に下を向いている。
ランスの位置、より具体的には、ランス先端部の放出口の高さは、酸素含有ガスの注入速度、容器の圧力、容器に供給されるために選択された他の供給材料とその量、および流動床の密度といった要因を参照して決定される。
本方法は、好ましくはランス先端部を水冷却する工程を含み、酸素含有ガスの注入の妨げとなり得る付着物がランス先端部に形成される可能性を最小限に抑える。
本方法は、好ましくはランス先端部の外面を水冷却する工程を含む。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスをランスの中央管を介して注入する工程を含む。
本方法は、好ましくは酸素含有ガスを十分な速度で注入して、ランス先端部領域に実質的に固体のない区域を形成する工程を含み、酸素含有ガスの妨げとなり得る付着物がランス先端部に形成される可能性を低くする。
本方法は、好ましくは窒素および/または蒸気および/または他の適切な保護ガスを注入して、中央管の下端を覆う工程を含み、酸素含有ガスの妨げとなり得る付着物のランス先端部への形成を招く金属の酸化を最小限に抑える。
本方法は、好ましくは金属含有材料と、同伴固体を含有する高温排ガス流れとを、第1容器から第2容器の流動床へ別々に供給する工程を含む。
本方法は、好ましくは、第2容器内の流動床のバルク温度と第2容器の側壁内面の平均温度との差が、100oC以下になるように制御する工程を含む。
「バルク温度」とは、本明細書において、流動床全体にわたる平均温度のことを言う。
この温度差は、より好ましくは50oC以下である。
金属含有供給材料を鉄鉱石微粉に還元する場合、第2容器の流動床のバルク温度は、850oC〜1000oCの範囲内であるのが望ましい。
第2容器の流動床のバルク温度は、好ましくは少なくとも900oC、さらに好ましくは少なくとも950oCである。
本方法は、好ましくは第2容器の流動床内の温度変化量が50oC未満になるように制御する工程を含む。
温度差は、いくつかの要因を調整することで制御でき、その要因として、例えば、第2容器に供給される固体とガスの量、および固体とガスそのものの選択などが挙げられる。
また本方法は、好ましくは少なくとも第2容器内の圧力を絶対圧力1〜10バールの範囲に、より好ましくは絶対圧力4〜8バールとなるように制御する工程を含む。
鉄鉱石微粉状の金属含有材料を還元する場合、微粉の大きさは6mm以下であるのが望ましい。
好ましくは、鉄鉱石微粉の平均粒径は0.1〜0.8mmである。
本方法の利点の1つは、本方法では、粒径が100マイクロメートル以下の相当な量の金属含有供給材料を、この供給材料のほとんどが排ガスに同伴されて処理から外れることなく、受容できることである。これは塊状化のメカニズムが流動床内に作用して、流動床での処理を妨害する無制御の凝塊形成を促すことなく、供給材料の粒子間、とくに100マイクロメートル未満の粒子間における望ましい量の凝塊形成を促進させるためであると考えられる。同様に、処理中に破砕しやすく、その結果、流動床において100マイクロメートル以下の大きさの粒子の比率を増加させる脆い鉱石は、供給材料を大幅に損失することなく排ガス処理で処理される。
固体炭素質材料は石炭が望ましい。その場合、本方法では石炭の揮発分が除去されて炭化物となり、この炭化物が少なくとも部分的に酸素と反応して、第1容器の流動床内でCOが生成される。
適切な石炭を用いてよい。例えば、石炭は6mm以下に破砕した中−高揮発分炭でもよい。
流動化ガスは、好ましくは非酸化ガスを含む。
第2容器の流動化ガスは、好ましくはCOおよびH2などの還元ガスを含む。
本方法は、好ましくは第2容器の流動化ガス中のH2の量を選択して、ガス中のCOおよびH2の総容量の少なくとも10%にする工程を含む。
本方法は、好ましくは少なくとも一部が還元された金属含有供給材料と、他の固体(例えば、炭化物)の少なくとも一部とを、第2容器から来る生成物流れから分離する工程を含む。
本方法は、好ましくは生成物流れから分離した他の固体の少なくとも一部を、第1容器および/または第2容器に戻す工程を含む。
本方法は、好ましくは少なくとも一部の固体を第2容器から来る排ガス流れから分離する工程を含む。
本方法は、好ましくは出力排ガス流れから分離した固体を第1容器に供給する工程を含む。
本方法は、好ましくは第2容器から来る排ガスで金属含有供給材料を予熱する工程を含む。
本方法は、好ましくは予熱工程後に排ガスを処理して、処理した排ガスの少なくとも一部を第1容器および/または第2容器に流動化ガスとして戻す工程を含む。
排ガス処理は、好ましくは、(a)固体除去、(b)冷却、(c)H2O除去、(d)CO2除去、(e)圧縮、および(f)再加熱のうちの1つ以上を含む。
この排ガス処理は、好ましくは分離した固体の少なくとも一部を第1容器および/または第2容器に戻す工程を含む。
酸素含有ガスには、適切なガスを用いてよい。
酸素含有ガスは、好ましくは容積の少なくとも90%の酸素を含む。
また本発明では、金属含有材料を直接還元する装置を提供する。この装置は、
(a)同伴固体を含有する高温の排ガス流れを発生させる第1容器を含み、第1の容器は供給手段を含み、供給手段は、固体炭素質材料と、流動化ガスと、酸素含有ガスとを第1容器に供給し、容器内の流動床を維持し、同伴固体を含有する高温排ガス流れを生成し、第1の容器はさらに排出手段を含み、排出手段は、同伴固体を含有する高温排ガス流れを容器から排出し、
(b)装置はさらに、流動床内で固体状の金属含有材料の少なくとも一部を還元する第2容器を含み、第2の容器は供給手段を含み、供給手段は、金属含有材料と、第1容器から来る同伴固体を含有する高温の排ガス流れと、流動化ガスとを第2容器に供給し、容器内の流動床を維持し、第2容器はさらに、少なくとも一部が還元された金属含有材料からなる固体を主とした流れを第2容器から排出する排出手段、および排ガスと同伴固体の流れを第2容器から排出する排出手段を備える。
第1容器は、好ましくは固体炭素質材料、流動化ガス、および酸素含有ガスを、第1容器にそれぞれ供給する個々の供給手段を含む。
第1容器に酸素含有ガスを供給する供給手段は、好ましくはランスを含み、このランスは、容器側壁の内側で容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を備える。
ランス先端部は、好ましくは酸素含有ガスを下方に注入するために、容器の中央部に下向きに配される。
ランス先端部は、好ましくは鉛直に下を向いている。
第2容器は、好ましくは金属含有供給材料、第1容器から来る同伴固体を含有する高温排ガス流れ、および流動化ガスを、第2容器にそれぞれ供給するための個々の供給手段を含む。
第2容器は、好ましくは酸素含有ガスを第2容器に供給するための供給手段を含む。
酸素含有ガスを第2容器に供給する供給手段は、好ましくはランスを含み、このランスは、容器側壁の内側で容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を備える。
ランス先端部は、好ましくは酸素含有ガスを下方に注入するために、第2容器の中央部に下向きに配される。
ランス先端部は、好ましくは鉛直に下を向いている。
本装置は、好ましくは第2容器から来る排ガス流れから同伴固体を分離する手段を含む。
好ましくは、第1容器はさらに、排ガス分離手段から来る分離された固体を第1容器に供給する供給手段を含む。
本装置は、好ましくは、第2容器から来る排ガス流れを処理して、第1容器および/または第2容器用の流動化ガスの少なくとも一部を生成する手段を含む。
また本発明は、金属含有材料を還元する方法を提供する。この方法は、(a)上述した固体状の金属含有材料を部分的に還元する工程と、(b)一部が還元された金属含有材料を溶解し、さらに還元して溶融金属にする溶解工程とを含む。
本発明を、添付の図面を参照してさらに説明する。
以下に、固体状の鉄鉱石形態の金属含有材料の直接還元について説明する。本発明はこれに限定されるものではなく、他の鉄含有材料(例えば、チタン鉄鉱)およびより一般的な他の金属含有材料の直接還元にも適用される。
また以下の説明は、固体炭素質材料として石炭を有する鉄鉱石、酸素含有ガスとして酸素、および流動化ガスとしてCOとH2の混合物を含む再循環排ガスの直接還元に関連している。本発明はこれに限定されるものではなく、本発明に適した他のあらゆる固体炭素質材料、酸素含有ガス、および流動化ガスにも適用される。
図1において、本装置は、ガスと同伴固体との流動床を含む第1容器3、およびガスと同伴固体とからなる流動床を含む第2容器5とを備える。
第1容器3は発熱器として機能し、大部分が炭化物である同伴固体を含有する高温排ガス流れを発生する。排ガス流れは配管7を通って第2容器5に移送される。高温排ガス流れによって、第2容器での反応に必要な熱の少なくとも一部が供給される。
第2容器5は直接還元反応炉として機能し、少なくとも固形の鉄鉱石微粉の一部を還元する。
第2容器は2つの出力流れを形成する。
一方の出力流れは、第2容器5の底部の排出口9を介して第2容器5から排出され、その流れは、少なくとも一部が還元された鉄鉱石微粉および一般的には炭化物であるその他の固体を含んだ固体流れが大部分である。
固体流れを、少なくとも一部が還元された鉄鉱石微粉と他の固体の少なくとも一部とを分離することによって処理してもよい。主に炭化物である生成物蒸気から分離した他の固体は、容器への供給用固体の一部として第1容器および/または第2容器に戻してもよい。少なくとも一部が還元された鉄鉱石は、必要に応じてさらに処理される。一例をあげると、少なくとも一部が還元された鉄鉱石を溶解浴の溶解容器に供給し、例えばいわゆる「HIsmelt法」などを用いて溶解して溶融鉄にしてもよい。
第2容器5からの他方の出力流れは、第2容器5の上部に設けられた排出口61から排出され、高温の排ガスおよび同伴固体を含んでいる。
排ガス流れは、配管11を通ってサイクロン13に移送される。サイクロン13は、同伴固体の少なくとも一部を排ガス流れから分離する。分離された固体は、サイクロン13から配管15を通って第1容器3へと流下する。排ガス流れは、サイクロン13から上方に流れて混合室17へ向かう。
サイクロン13からきた排ガスは、別のサイクロン21から配管23を通って混合室17に移動してきた固体と混ざり合い、固体を加熱する。混合室17にある固体の大部分は、排ガスに同伴され、配管25を通ってサイクロン27に送られる。
サイクロン27では、固体/ガス分離が行われる。分離された固体は、サイクロン27から配管29を通って第2容器5へと流下する。サイクロン27から排出された排ガスは残留固体とともに、サイクロン27から上方に流れて別の混合室31へ向かう。
サイクロン27からの排ガス流れは、混合室31にある鉄鉱石と混ざり合い、鉄鉱石を加熱する。鉄鉱石は、ロックホッパー組立体33から混合室31に供給される。混合室31内の材料の大半は、配管35を通ってサイクロン21へと運び込まれる。上述したように、サイクロン21に送られた材料の大部分は混合室17に送られ、そこからサイクロン27、そしてさらに配管29を通って第2容器5へと送られる。
サイクロン21からの排ガスは、配管37を介して排ガス処理装置39に移送され、この装置で以下に述べるように処理される。具体的には排ガスは、(a)固体除去、(b)排ガスの冷却、(c)H2O除去、(d)CO2除去、(e)圧縮、および(f)再加熱を含む一連の工程で処理される。
排ガス処理装置39で処理された排ガスは、容器3および5用の流動化ガスとなり、移送配管41を通って各容器に移送される。流動化ガスは、各容器3および5の底に注入される。
粒径が6mm以下の中−高揮発分炭を、第1容器3の側壁に貫入しているスクリューフィードやランス43などの固体給鉱器から第1容器3の下部に供給する。
また、酸素をランス45から第1容器3に供給する。このランスは下向きに伸びるランス先端部47を有し、この先端部は酸素を第1容器3の中央部で下方に送り出す放出口を有している。
上述したように、あらかじめ加熱した鉄鉱石が、配管29から第2容器5に供給され、第1容器3から来る同伴固体を含有する高温排ガス流れが、配管7から第2容器に供給される。
また、酸素がランス49から第2容器5に注入される。このランスは下向きに伸びるランス先端部51を備え、この先端部は酸素を第2容器5の中央部で下方に送り出す放出口を有する。
上記の、石炭、戻り固体、および流動化ガスの第1容器3への供給は、流動化ガス、同伴石炭、および他の戻り固体の上昇流を第1容器3の中央部に形成する。石炭粒および他の残留固体が上昇するにつれ、次第に石炭粒が流動化ガスの上昇流から遊離して、その大部分が第1容器3の中央部と側壁との間の環状部に流下する。これらの残留固体は最終的には流動化ガスの上昇流に再び同伴される。
第1容器3の中央部での流動化ガスおよび同伴固体の上昇流は、酸素ガスの下降流に対して対向流である。酸素含有ガスの流れに近接する固体の一部がこの酸素含有ガスに同伴されて、その結果粘着性を有するようになる場合がある。流動化ガスと酸素含有ガスとの対向流による相互作用は、ガスに同伴される固体、または酸素流れを通り抜けた固体が、容器の表面に接触して付着してしまう範囲を制限すると考えられる。付着物の形成は、酸素ガス流れが容器内の中心位置で起こるため、さらに制限されると思われる。
第1容器では、粉炭の揮発分は除去されて炭化物が生成され、石炭揮発分は気体(例えばCOおよびH2)に分解される。炭化物および石炭揮発分の少なくとも一部が酸素と反応し、COと石炭揮発分の反応生成物とを生成する。これらの反応はかなりの熱を発生し、上述したようにその熱は、配管7を通って第2容器に流入する同伴固体を含有している高温の出力排ガス流れによって、第2容器5に移送される。
前述の、予熱した鉄鉱石微粉、第1容器3から送られてくる同伴固体を含有する高温排ガス流れ、酸素含有ガス、および流動化ガスを第2容器に供給することで、ガスとその同伴固体との上昇流が第2容器5の中央部に発生する。固体粒子は上昇するにつれてガスの上昇流から次第に遊離し、その大部分が第2容器5の中央部と側壁との間の環状部に流下する。このような再循環固体は、流動化ガスの上昇流に再び同伴されるか、あるいは容器から排出される。
流動化ガスおよび第2容器5における流動化ガスによって流動化された固体の上昇流は、酸素含有ガスの下降流に対して対向流である。第1容器に関して述べたように、この流動化ガスと酸素含有ガスとの対向流は、ガスに同伴された固体、または酸素流れを通り抜けた固体が、容器の表面に接触して付着する範囲を縮小させると考えられる。
前述の、予熱した鉄鉱石微粉、第1容器3から送られてくる同伴固体を含有する高温排ガス流れ、酸素含有ガス、および流動化ガスを第2容器5に供給することで、次のような反応が第2容器で発生する。
(鉄鉱石の還元中に生成される)CO2の少なくとも一部が炭素と反応してCOが生成される(Boudouard反応)。
COとH2による、少なくとも部分的に還元された鉄への鉄鉱石微粉の直接還元によってCO2およびH2Oが生成される。
炭化物、部分的に還元された金属含有供給材料の粒子、第1容器3から移送された石炭揮発分、H2、およびCOなどの固体および気体の第2容器5の上部での酸化は、熱を発生させ、また流動床における細かい部分還元鉱粒と他の粒子との制御された凝塊を促進してより大きな還元鉱粒を形成する。
現段階では、上述の金属含有材料の制御された凝塊を実現可能にするメカニズムがすべて明確にされているわけではない。しかし、以下の説明に限定するわけではないが、調査研究において、形成された凝塊が細かい粒子、とくに互いに付着し合いかつ大きな粒子に付着する微粉を含んでいることが確認されている。容器上部の状態は、次のようになると考えられる。(a)部分的におよび完全に還元された、すなわち金属化されたミクロンサイズの鉄鉱石粒が、酸素と反応して熱を発生し、そこで得られた酸化粒子が粘着性を有する。(b)微粉炭が酸素と反応して酸化し、それによって得られた灰が粘着性を有する。(c)鉄鉱石微粉が加熱されて粘着性を有する。また、これらの細かい粘着性粒子が高い放熱能力を有する大きな粒子に付着するため、総合的に有益な結果として、容器内の器具表面に付着したり排ガス流れに乗って容器から運び出される可能性のある細かい粒子の割合が減少すると考えられる。
図2に示す装置は、図1の装置と概ね同様である。同様の構成要素には同じ参照符号が用いられている。
この2つの装置の主な違いとして、図2に示す装置は第2容器5に酸素注入用ランスを有していない。
第2容器5から酸素用ランスを省けるのは、(a)第1容器3にのみ酸素を注入することで凝塊の制御を十分に行える、または(b)供給する鉄鉱石に含まれる超微粒子の量が少ない場合が挙げられる。
本発明の概念および範囲から離れずに、図1および図2に示した本発明の実施例を広く変更することが可能である。
例えば、各実施例の第1容器3はランス45を備え、このランスは下向きに伸びるランス先端部47を有し、この先端部によって固体と流動化ガスの上昇流と対向する酸素を第1容器3の中央部の下方に送り込むが、本発明はこれに限定するわけなく、他の配置を採用することも可能である。とくに本発明は、下向きに伸びるランス先端部47を有する1つまたは2つ以上のランス45から酸素を下方に注入することに限定するわけではない。
また、本発明は、酸素および固体と流動化ガスとの対向流に限定するわけではない。
本発明による金属含有供給材料を直接還元する装置の実施例を示す図である。 本発明による金属含有供給材料を直接還元する装置の別の実施例を示す図である。

Claims (49)

  1. 金属含有材料を直接還元する方法において、
    固体炭素質材料および酸素含有ガスを第1容器の流動床に供給し、該酸素含有ガスと該固体炭素質材料との反応ならびに、炭化物および石炭発揮分の少なくとも一部と該流動床におけるガスとの反応を利用して熱を発生させ、同伴固体を含有する高温の排ガス流れを排出する工程と、
    前記金属含有材料を第2容器の流動床に供給し、第1容器から来る前記同伴固体を含有する高温排ガス流れを第2容器の流動床に供給し、該流動床にある固体状の前記金属含有供給材料の少なくとも一部を還元し、少なくとも一部が還元された金属含有材料の生成物流れ、および同伴固体を含有する排ガス流れを排出する工程とを含む直接還元方法。
  2. 請求項1に記載の方法において、第1容器で発生する温度は、第2容器の運転温度よりも高いことを特徴とする直接還元方法。
  3. 請求項1または2に記載の方法において、第1容器は、1000を超える温度で運転されることを特徴とする直接還元方法。
  4. 請求項1ないし3のいずれかに記載の方法において、第2容器は、1000より低い温度で運転されることを特徴とする直接還元方法。
  5. 請求項1ないし4のいずれかに記載の方法において、第1容器への前記酸素含有ガスの供給は、第1容器に該酸素含有ガスの下降流を起こすことを特徴とする直接還元方法。
  6. 請求項1ないし5のいずれかに記載の方法において、第2容器への前記酸素含有ガスの供給は、細かい還元鉱粒と第2容器の流動床にある粒子との凝塊形成が行われて大きな還元鉱石粒が形成されるよう第2容器の温度が制御された状況下で行われることを特徴とする直接還元方法。
  7. 請求項1ないし6のいずれかに記載の方法において、第2容器への前記酸素含有ガスの供給は、第2容器に該酸素含有ガスの下降流を起こすことを特徴とする直接還元方法。
  8. 請求項1ないし7のいずれかに記載の方法において、前記酸素含有ガスは、第1容器および/または第2容器に少なくとも1つのランスを介して注入され、該ランスは該容器側壁の内側で該容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を含むことを特徴とする直接還元方法。
  9. 請求項8に記載の方法において、前記ランス先端部は下向き、または鉛直に下を向いていることを特徴とする直接還元方法。
  10. 請求項8または9に記載の方法において、前記ランスの位置、または前記ランス先端部の放出口の高さは、前記酸素含有ガスの注入速度、前記容器の圧力、該容器に供給される材料とその量、および第1容器および/または第2容器における前記流動床の密度という要因を参照して決められることを特徴とする直接還元方法。
  11. 請求項8ないし10のいずれかに記載の方法において、前記ランス先端部は水冷却されることを特徴とする直接還元方法。
  12. 請求項8ないし11のいずれかに記載の方法において、前記ランス先端部の外表面は水冷却されることを特徴とする直接還元方法。
  13. 請求項8ないし12のいずれかに記載の方法において、前記酸素含有ガスは前記ランスの中央管を通って注入されることを特徴とする直接還元方法。
  14. 請求項8ないし13のいずれかに記載の方法において、前記酸素含有ガスは通常よりも早い速度で注入されて前記ランス先端部領域に固体のない区域を形成し、該酸素含有ガス注入の妨げとなり得る付着物が該ランス先端部に形成されないようにすることを特徴とする直接還元方法。
  15. 請求項ないし14のいずれかに記載の方法において、前記ランスの中央管の下端を覆う保護ガスが注入されて中央管の下端部を覆うことを特徴とする直接還元方法。
  16. 請求項15に記載の方法において、前記保護ガスは、窒素および/または蒸気であることを特徴とする直接還元方法。
  17. 請求項1ないし16のいずれかに記載の方法において、前記金属含有材料、および第1容器から来る前記同伴固体を含有する高温排ガス流れは、第2容器の流動床に供給されることを特徴とする直接還元方法。
  18. 請求項1ないし17のいずれかに記載の方法において、第2容器の流動床におけるバルク温度と第2容器側壁の内側面の平均温度との差は100以下、または50以下に制御されることを特徴とする直接還元方法。
  19. 請求項1ないし18のいずれかに記載の方法において、前記金属含有材料は鉄鉱石微粉であり、第2容器の流動床における前記バルク温度は850〜1000の範囲、または少なくとも900もしくは少なくとも950であることを特徴とする直接還元方法。
  20. 請求項1ないし19のいずれかに記載の方法において、第2容器の流動床内の温度変化量を50以下に制御することを特徴とする直接還元方法。
  21. 請求項1ないし20のいずれかに記載の方法において、少なくとも第2容器内の圧力は絶対圧1〜10バールの範囲、または絶対圧4〜8バールの範囲に制御されることを特徴とする直接還元方法。
  22. 請求項1ないし21のいずれかに記載の方法において、前記金属含有材料は鉄鉱石微粉であり、該微粉の粒度は6mm以下であることを特徴とする直接還元方法。
  23. 請求項22に記載の方法において、前記微粉の平均粒径は0.1〜0.8mmの範囲であることを特徴とする直接還元方法。
  24. 請求項1ないし23のいずれかに記載の方法において、前記固体炭素質材料は石炭、または6mm以下に破砕された中または高揮発分炭であることを特徴とする直接還元方法。
  25. 請求項1ないし24のいずれかに記載の方法において、前記流動化ガスは非酸化ガスを含むことを特徴とする直接還元方法。
  26. 請求項1ないし25のいずれかに記載の方法において、第2容器における流動化ガスは前記金属含有供給材料を還元する還元ガスを含むことを特徴とする直接還元方法。
  27. 請求項26に記載の方法において、前記還元ガスは、COおよびH 2 であることを特徴とする直接還元方法。
  28. 請求項27に記載の方法において、第2容器における流動化ガス中のH2の量は、該ガス中のCOおよびH2の総量の少なくとも10%を占めるように選択されることを特徴とする直接還元方法。
  29. 請求項1ないし28のいずれかに記載の方法において、前記少なくとも一部が還元された金属含有供給材料と炭化物の少なくとも一部とは、第2容器から来る前記生成物流れから分離されることを特徴とする直接還元方法。
  30. 請求項29に記載の方法において、前記生成物流れから分離された炭化物の少なくとも一部は、第1容器および/または第2容器に戻されることを特徴とする直接還元方法。
  31. 請求項1ないし30のいずれかに記載の方法において、前記固体の少なくとも一部は第2容器から来る排ガス流れから分離されることを特徴とする直接還元方法。
  32. 請求項31に記載の方法において、前記出力排ガス流れから分離された固体は第1容器に供給されることを特徴とする直接還元方法。
  33. 請求項1ないし32のいずれかに記載の方法において、金属含有供給材料を第2容器から来る排ガスで予熱することを特徴とする直接還元方法。
  34. 請求項33に記載の方法において、前記予熱工程後に前記排ガスは処理され、該処理された排ガスの少なくとも一部は第1容器および/または第2容器に流動化ガスとして戻されることを特徴とする直接還元方法。
  35. 請求項34に記載の方法において、前記排ガス処理は、(a)固体除去、(b)冷却、(c)H2O除去、(d)CO2除去、(e)圧縮、および(f)再加熱のうち、1つ以上の工程を含むことを特徴とする直接還元方法。
  36. 請求項34または35に記載の方法において、前記排ガス処理は前記分離した固体の少なくとも一部を、第1容器および/または第2容器に戻す工程を含むことを特徴とする直接還元方法。
  37. 請求項1ないし36のいずれかに記載の方法において、前記酸素含有ガスは少なくとも90容量%の酸素を含むことを特徴とする直接還元方法。
  38. 請求項1ないし37のいずれかに記載の方法において、該方法はさらに、前記一部が還元された金属含有材料を溶かし、さらに還元して溶融金属にする溶解工程を含むことを特徴とする直接還元方法。
  39. 金属含有材料を直接還元する装置において、該装置は、
    (a)同伴固体を含有する高温の排ガス流れを発生させる第1容器を含み、第1の容器は供給手段を含み、該供給手段は、固体炭素質材料、流動化ガス、および酸素含有ガスを第1容器に供給し、該容器内の流動床を維持し、前記同伴固体を含有する高温排ガス流れを生成し、第1容器はさらに排出手段を含み、該排出手段は、該同伴固体を含有する高温排ガス流れを該容器から排出し、
    前記装置はさらに、(b)第2容器を含み、第2容器は該容器の流動床にある固体状の金属含有材料を少なくとも部分的に還元し、第2容器はさらに供給手段を含み、該供給手段は、該金属含有材料、第1容器から来る前記同伴固体を含有する高温排ガス流れ、および流動化ガスを第2容器に供給し、該容器内の流動床を維持し、第2容器はさらに、少なくとも一部が還元された前記金属含有材料を有する固体流れを第2容器から排出する排出手段と、排ガスおよび同伴固体の流れを第2容器から排出する排出手段とを含むことを特徴とする直接還元装置。
  40. 請求項39に記載の装置において、第1容器は、前記固体炭素質材料、前記流動化ガス、および前記酸素含有ガスをそれぞれ第1容器に供給する個々の供給手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
  41. 請求項40に記載の装置において、前記酸素含有ガスを第1容器に供給する供給手段はランスを含み、該ランスは該容器側壁の内側で該容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を含むことを特徴とする直接還元装置。
  42. 請求項41に記載の装置において、前記ランス先端部は、第2容器の中央部に下向きに配されて前記酸素含有ガスを下方に注入することを特徴とする直接還元装置。
  43. 請求項39ないし42のいずれかに記載の装置において、第2容器は前記金属含有供給材料、第1容器から来る同伴固体を含有する高温排ガス流れおよび前記流動化ガスを第2容器にそれぞれ供給する個々の供給手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
  44. 請求項39ないし43のいずれかに記載の装置において、第2容器はさらに、酸素含有ガスを第2容器に供給する供給手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
  45. 請求項44に記載の装置において、第2容器に酸素含有ガスを供給する供給手段はランスを含み、該ランスは該容器側壁の内側で該容器中央部に位置する放出口を有するランス先端部を含むことを特徴とする直接還元装置。
  46. 請求項45に記載の装置において、前記ランス先端部は第2容器の中央部に下向きに配されて前記酸素含有ガスを下方に注入することを特徴とする直接還元装置。
  47. 請求項39ないし46のいずれかに記載の装置において、該装置はさらに、第2容器から来る前記排ガス流れから同伴固体を分離する手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
  48. 請求項47に記載の装置において、第1容器はさらに、前記排ガス分離手段から来る分離された固体を第1容器に供給する供給手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
  49. 請求項47または48に記載の装置において、該装置はさらに、第2容器から来る前記排ガス流れを処理して、第1容器および/または第2容器用の流動化ガスの少なくとも一部を生成する手段を含むことを特徴とする直接還元装置。
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