JP5000246B2 - Waste liquid treatment method and treatment apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置の製造装置に代表される製造装置から発生する排液を処理する方法及び処理装置に関するものである。   The present invention relates to a method and a processing apparatus for treating drainage generated from a manufacturing apparatus represented by a semiconductor device manufacturing apparatus.

例えば、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、TFT)などの半導体装置を製造する工程においては、その製造装置から発生した排液を処理する必要がある。製造工場では日常的に多量の排液が発生しており、その処理方法は工場のランニングコストに大きく影響する。特許文献1では現像装置の基板処理システムが提案されており、装置から発生した現像液、水洗水などの排液を各々別系統の配管で処理している。また、装置から発生した排液を切り換え弁により各々別系統の配管へ流し、排液を処理している場合もある(例えば特許文献2)。   For example, in a process for manufacturing a semiconductor device such as a thin film transistor (TFT), it is necessary to treat the drainage generated from the manufacturing apparatus. A large amount of drainage is generated on a daily basis at the manufacturing plant, and the treatment method greatly affects the running cost of the plant. Patent Document 1 proposes a substrate processing system for a developing device, in which waste liquids such as a developing solution and washing water generated from the device are processed by separate pipes. In some cases, the drainage generated from the apparatus is caused to flow through separate piping by a switching valve to treat the drainage (for example, Patent Document 2).

また、安全性の面から配管を二重にして排液を処理することがある(例えば特許文献3)。特許文献3では、本配管の周囲に外殻管が配管された二重配管システムが提案されている。この場合、排液は内側の本配管のみを通り、外側の外殻管は空洞である。外殻管は本配管からの漏洩による危険性を回避するためのものである。   In addition, from the viewpoint of safety, the drainage may be treated with a double pipe (for example, Patent Document 3). Patent Document 3 proposes a double piping system in which an outer shell pipe is piped around the main pipe. In this case, the drainage passes only through the inner main pipe, and the outer shell pipe is hollow. The outer shell pipe is for avoiding the risk of leakage from this pipe.

また、製造工程によっては排液が高温になり、排液回収タンクが許容できる温度まで排液を冷却しなければ処理できない場合がある。このとき、排液を自然に冷却させるために配管を必要以上に長くする、あるいは排液を冷却するために別途冷却機構を製造装置に付加するなどの対策が必要であった。特許文献4では、排液を冷却するために冷却コイルを有する予冷槽が別途装置に設けられている。
特開2003−229356号公報 特開平7−78799号公報 特開2000−88148号公報 特開平6−132272号公報
Also, depending on the manufacturing process, the waste liquid becomes hot, and there are cases where the waste liquid cannot be treated unless the waste liquid is cooled to a temperature acceptable by the waste liquid recovery tank. At this time, it is necessary to take measures such as making the pipe longer than necessary in order to naturally cool the drainage, or adding a separate cooling mechanism to the manufacturing apparatus in order to cool the drainage. In Patent Document 4, a precooling tank having a cooling coil is separately provided in the apparatus in order to cool the drainage.
JP 2003-229356 A Japanese Patent Laid-Open No. 7-78799 JP 2000-88148 A JP-A-6-132272

上述したように、高温の排液を処理する場合、配管を必要以上に長くしたり、別途冷却機構を設けたりする必要があり、余分な設備投資が必要であった。さらに、設備が大型化してしまうという問題点もあった。また、有害な排液を処理する場合は、安全性の確保のために二重配管を用いる方法が提案されているが、外側の配管は空洞であるため、無駄な部分が多くコストがかかり、設備の小型化を妨げていた。このように、別途冷却機構を設けたり、二重配管を用いたりすることはコストの増加と設備の大型化につながる。   As described above, when processing the high-temperature drainage, it is necessary to lengthen the pipe more than necessary or to provide a separate cooling mechanism, which requires extra capital investment. In addition, there is a problem that the equipment is enlarged. Also, when processing harmful drainage, a method using double piping has been proposed to ensure safety, but since the outer piping is hollow, there are many wasted parts and costly, Preventing downsizing of equipment. Thus, providing a separate cooling mechanism or using double piping leads to an increase in cost and an increase in the size of the equipment.

そこで本発明では、排液を処理するにあたり、コストを増加させず、大規模な設備を設けることなく、安全に排液を処理することを課題とする。   Therefore, in the present invention, it is an object of the present invention to safely treat waste liquid without increasing costs and providing a large-scale facility when treating the waste liquid.

本発明の排液処理方法は、外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第1の排液より低温の第2の排液を流すことを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, when the first drainage is passed through the inner pipe of the double pipe in which the inner pipe is arranged in the outer pipe, the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe During this period, the second drainage liquid having a temperature lower than that of the first drainage liquid is caused to flow.

本発明の排液処理方法は、第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流すことを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, the first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit. The first processing unit supplies and discharges the first drained liquid discharged from the first processing unit through the first draining unit to the inner pipe disposed in the double pipe, and the second processing unit. The second drainage discharged from the pipe is caused to flow between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe through the second drainage section.

本発明の排液処理方法は、第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、前記第2の排液は前記第2の処理部から排出開始時は前記第1の排液より低温であり、前記第2の排液は前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれていることを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, the first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit. The first processing unit supplies and discharges the first drained liquid discharged from the first processing unit through the first draining unit to the inner pipe disposed in the double pipe, and the second processing unit. The second drainage discharged from the second pipe is caused to flow between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe through the second drainage section, and the second drainage is the second drainage. At the start of discharging from the processing section, the temperature is lower than that of the first drainage liquid, and the second drainage liquid contains the first processing liquid diluted with the solvent contained in the second processing liquid. It is characterized by being.

本発明の排液処理方法は、切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, the first drainage is caused to flow to the inner pipe by the switching valve, and the second drainage is caused to flow between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve. And the second drainage is once stored by a valve provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe.

本発明の排液処理方法は、切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, the first drainage is caused to flow to the inner pipe by the switching valve, and the second drainage is caused to flow between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve. And the second drainage is once stored by a valve provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe.

本発明の排液処理方法は、切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、前記内側配管に設けられた第1の弁で前記第1の排液を一度貯めて、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた第2の弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする。   In the drainage processing method of the present invention, the first drainage is caused to flow to the inner pipe by the switching valve, and the second drainage is caused to flow between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve. The first drainage is once stored by the first valve provided on the inner pipe, and the second valve provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe is used to store the first drainage liquid. The second drainage is once stored.

本発明の排液処理方法は、前記第1の処理液供給部において前記第1の処理液の温度調節を行うことを特徴とする。   The drainage treatment method of the present invention is characterized in that the temperature of the first treatment liquid is adjusted in the first treatment liquid supply unit.

本発明の排液処理方法は、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる前記第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする。   In the drainage treatment method of the present invention, the concentration of the first treatment liquid contained in the second drainage is inspected by a concentration sensor provided on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe. Features.

本発明の処理装置は、第1の処理部と、第2の処理部と、前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、前記第1の排液部に接続し前記第1の排液が流れる内側配管と前記第2の排液部に接続し前記第2の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。   The processing apparatus of the present invention includes a first processing unit, a second processing unit, a first processing liquid supply unit that supplies a first processing liquid to the first processing unit, and the second processing. A second processing liquid supply section for supplying a second processing liquid to the section, a first drainage section for processing the first drainage discharged from the first processing section, and the second processing. A second drainage section for treating the second drainage discharged from the section, an inner pipe connected to the first drainage section and through which the first drainage flows, and the second drainage section It has a double pipe provided with an outer pipe arranged outside the inner pipe connected and through which the second drainage flows.

本発明の処理装置は、第1の処理部と、第2の処理部と、前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、前記第1の排液部に接続し前記第1の排液が流れる内側配管と前記第2の排液部に接続し前記第2の排液部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記第2の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする処理装置。   The processing apparatus of the present invention includes a first processing unit, a second processing unit, a first processing liquid supply unit that supplies a first processing liquid to the first processing unit, and the second processing. A second processing liquid supply section for supplying a second processing liquid to the section, a first drainage section for processing the first drainage discharged from the first processing section, and the second processing. A second drainage section for treating the second drainage discharged from the section, an inner pipe connected to the first drainage section and through which the first drainage flows, and the second drainage section The first treatment liquid that is connected and is at a lower temperature than the first drainage liquid when starting to drain from the second drainage part and diluted with the solvent contained in the second treatment liquid is included. A processing apparatus comprising: a double pipe including an outer pipe disposed outside the inner pipe through which the second drainage flows.

本発明の処理装置は、前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、前記処理部に接続し前記処理部から排出された第1の排液が流れる内側配管と前記処理部に接続し前記処理部から排出された第2の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。   The processing apparatus of the present invention includes a first processing liquid supply unit that supplies a first processing liquid to the processing unit, a second processing liquid supply unit that supplies a second processing liquid to the processing unit, Connected to the processing unit and disposed outside the inner pipe through which the first drainage discharged from the processing unit flows and the inner pipe connected to the processing unit and from which the second drainage discharged from the processing unit flows. And having a double pipe with an outer pipe.

本発明の処理装置は、処理部と、前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、前記処理部に接続し前記処理部から排出された第1の排液が流れる内側配管と前記処理部に接続し前記処理部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記処理部から排出された第2の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。   The processing apparatus of the present invention includes a processing section, a first processing liquid supply section that supplies a first processing liquid to the processing section, and a second processing liquid supply that supplies a second processing liquid to the processing section. And the inner pipe connected to the processing unit and through which the first drainage discharged from the processing unit flows, and connected to the processing unit and at the start of draining from the processing unit, the temperature is lower than that of the first drainage. And an outer side disposed outside the inner pipe through which the second drained liquid discharged from the processing unit including the first processing liquid diluted with the solvent included in the second processing liquid flows. It has a double pipe provided with a pipe.

本発明の処理装置は、前記処理部と前記二重配管との間に切り換え弁とを有し、前記二重配管の前記外側配管と前記内側配管の少なくとも一方に弁を有することを特徴とする。   The processing apparatus of the present invention has a switching valve between the processing unit and the double pipe, and has a valve in at least one of the outer pipe and the inner pipe of the double pipe. .

本発明の処理装置は、前記第1の処理液供給部に温度調節部を有することを特徴とする。   The processing apparatus of the present invention is characterized in that the first processing liquid supply unit has a temperature adjusting unit.

本発明の処理装置は、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサを有することを特徴とする。   The processing apparatus of this invention has a density | concentration sensor in the inner wall of the said outer side piping, or the outer wall of the said inner side piping, It is characterized by the above-mentioned.

本発明において、外側配管に内側配管を流れる排液より低温の排液を流すことで、内側配管を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。   In the present invention, it is possible to cool the drainage flowing through the inner pipe by allowing the drainage having a temperature lower than the drainage flowing through the inner pipe to flow through the outer pipe. Moreover, since it becomes a double piping structure, danger, such as leakage of a dangerous chemical | medical solution, can be reduced.

また、本発明において、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。 Further, in the present invention, the water drainage that has been conventionally treated without being reused is reused as a refrigerant, which leads to cost reduction for cooling. Furthermore, since it is not necessary to provide a new cooling mechanism for reusing water drainage, high temperature chemical drainage can be efficiently and safely recovered and processed without increasing costs. Moreover, it is not necessary to lengthen the pipe for cooling by flowing water drainage through the pipe outside the double pipe and cooling the drainage flowing through the inner pipe.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、各図面において共通の部分は同じ符号を付して詳しい説明を省略する。また、実施の形態1〜4は自由に組み合わせて用いることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiment modes. In the drawings, common portions are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Further, Embodiments 1 to 4 can be used in any combination.

(実施の形態1)
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置について、図1〜図4を用いて説明する。
(Embodiment 1)
In the present embodiment, a drainage processing method and a processing apparatus for flowing a drainage liquid having a temperature lower than a drainage flowing through an inner pipe to an outer pipe will be described with reference to FIGS.

図1に処理装置101を示す。処理装置101は、薬液で処理する薬液処理部102に薬液を供給する薬液供給部104と、薬液処理部102から排出された排液を処理する薬液排液部106と、水で処理する水処理部103に水を供給する水供給部105と、水処理部103から排出された排液を処理する水排液部107を備えている。さらに、薬液処理部102から排出された排液と水処理部103から排出された排液が流れこむ二重配管(図示しない)を備えている。なお、処理装置101の構成は図1に示すものに限られず、複数の薬液処理部を有していてもよいし、複数の水処理部を有していてもよい。   FIG. 1 shows a processing apparatus 101. The processing apparatus 101 includes a chemical solution supply unit 104 that supplies a chemical solution to the chemical solution processing unit 102 that processes with the chemical solution, a chemical solution drain unit 106 that processes drainage discharged from the chemical solution processing unit 102, and a water treatment that uses water. The water supply part 105 which supplies water to the part 103, and the water drainage part 107 which processes the drainage discharged | emitted from the water treatment part 103 are provided. Further, a double pipe (not shown) through which the drained liquid discharged from the chemical liquid processing unit 102 and the drained liquid discharged from the water processing unit 103 flow is provided. In addition, the structure of the processing apparatus 101 is not restricted to what is shown in FIG. 1, You may have a some chemical | medical solution process part, and may have a some water treatment part.

本実施の形態において、薬液処理部102では、例えば、ウェットエッチング、現像、剥離などの処理が行われる。従って、薬液処理部102から排出される排液は薬液が含まれている。   In the present embodiment, the chemical solution processing unit 102 performs processes such as wet etching, development, and peeling. Therefore, the drainage discharged from the chemical solution processing unit 102 contains a chemical solution.

本実施の形態において、水処理部103では、例えば、薬液処理部102で処理された基板の洗浄などの処理が行われる。この場合、水処理部103から排出される排液には、薬液処理部102から排出される排液に比べて低濃度に薬液が含まれている。また、水処理部103では、薬液処理部102で処理される前の基板の洗浄などを行ってもよく、その場合、水処理部103からは薬液が含まれない汚水が排液として排出される。   In the present embodiment, in the water treatment unit 103, for example, processing such as cleaning of the substrate processed in the chemical solution processing unit 102 is performed. In this case, the drainage discharged from the water treatment unit 103 contains a chemical solution at a lower concentration than the drainage discharged from the chemical treatment unit 102. Further, the water treatment unit 103 may perform cleaning of the substrate before being processed by the chemical treatment unit 102, and in that case, sewage containing no chemical solution is discharged from the water treatment unit 103 as drainage. .

また、本実施の形態において、水処理部103から排出される排液の温度は、薬液処理部102から排出される排液の温度より低温でなければならない。水供給部105から水処理部103に供給される水としては、水道水、又は浮遊物や不純物を取り除いた蒸留水(いわゆる純水)を使用することができる。例えば半導体装置製造装置の場合、純水を用いることが好ましい。   In the present embodiment, the temperature of the drainage discharged from the water treatment unit 103 must be lower than the temperature of the drainage discharged from the chemical treatment unit 102. As the water supplied from the water supply unit 105 to the water treatment unit 103, tap water or distilled water from which suspended matters and impurities are removed (so-called pure water) can be used. For example, in the case of a semiconductor device manufacturing apparatus, it is preferable to use pure water.

また、薬液供給部104には薬液の温度を調節するための温度調節部108が設けられている(図1参照)。本実施の形態では、温度調節部108によりあらかじめ高温に温調された薬液を薬液処理部102に供給し、薬液処理部102から排出された排液を処理する場合について説明するが、温度調節部108は必ずしも設ける必要はない。薬液処理部102において熱の発生を伴う反応を起こし、結果的に高温となる排液を処理する場合においても、本発明を実施することが可能である。つまり、薬液処理部102から排出される排液の温度が、水処理部103から排出される排液の温度よりも高温であれば本発明を実施することができる。   Further, the chemical solution supply unit 104 is provided with a temperature adjusting unit 108 for adjusting the temperature of the chemical solution (see FIG. 1). In the present embodiment, a case will be described in which a chemical liquid that has been temperature-controlled in advance by the temperature adjustment unit 108 is supplied to the chemical liquid processing unit 102 and waste liquid discharged from the chemical liquid processing unit 102 is processed. 108 is not necessarily provided. The present invention can be carried out even when the chemical liquid processing unit 102 causes a reaction accompanied by heat generation and processes waste liquid that results in a high temperature. That is, the present invention can be implemented as long as the temperature of the drainage discharged from the chemical treatment unit 102 is higher than the temperature of the drainage discharged from the water treatment unit 103.

このような処理装置101として図2(A)に示すものが挙げられる。図2(B)は、図2(A)のABを結ぶ点線で示す部分の断面の模式図を示したものである。本実施の形態において、薬液排液部106は水排液部107の内側に配置されている。それによって、薬液排液部106のドレインと接続して延びる内側配管112が水排液部107のドレインと接続して延びる外側配管113で覆われた二重配管111が形成される(図2(A)、(B)参照)。つまり、内側配管112は、外側配管113の内側に配置されている。   An example of such a processing apparatus 101 is shown in FIG. FIG. 2B is a schematic diagram of a cross section of a portion indicated by a dotted line connecting AB in FIG. In the present embodiment, the chemical drainage unit 106 is disposed inside the water drainage unit 107. As a result, a double pipe 111 is formed in which the inner pipe 112 extending to connect with the drain of the chemical drainage section 106 is covered with the outer pipe 113 extending to connect with the drain of the water drainage section 107 (FIG. 2 ( A) and (B)). That is, the inner pipe 112 is arranged inside the outer pipe 113.

本実施の形態では、温度調節部108において高温に温調された薬液が薬液供給部104から薬液処理部102へ供給され、薬液処理部102において工程処理が行われる。続いて、水供給部105から供給される水を使用し、水処理部103において工程処理を行う。あるいは、水処理部103で処理を行い、続いて薬液処理部102において処理を行ってもよい。工程処理の順番はその目的に応じて、適宜変更することができる。   In the present embodiment, the chemical liquid adjusted to a high temperature by the temperature adjustment unit 108 is supplied from the chemical liquid supply unit 104 to the chemical liquid processing unit 102, and process processing is performed in the chemical liquid processing unit 102. Subsequently, using the water supplied from the water supply unit 105, the water treatment unit 103 performs process processing. Alternatively, the treatment may be performed by the water treatment unit 103 and then the treatment may be performed by the chemical treatment unit 102. The order of the process steps can be appropriately changed according to the purpose.

次に、薬液処理部102から排出される排液、水処理部103から排出される排液は各々薬液排液部106、水排液部107を介して、同時に二重配管111へ流れ込む。つまり、薬液処理部102から排出される排液が内側配管112へ流れ込むと共に、水処理部103から排出される排液が外側配管113へ、すなわち外側配管113の内壁と内側配管112の外壁との間の隙間へ流れ込む。本実施の形態において、水処理部から排液が排出を開始する時は、内側配管112を流れる排液の温度より外側配管113を流れる排液の温度が低温であるため、外側配管113を流れる排液により内側配管112を流れる排液が冷却される。   Next, the drainage discharged from the chemical treatment unit 102 and the drainage discharged from the water treatment unit 103 flow into the double pipe 111 simultaneously via the chemical drainage unit 106 and the water drainage unit 107, respectively. That is, the drainage discharged from the chemical treatment unit 102 flows into the inner pipe 112 and the drainage discharged from the water treatment unit 103 flows to the outer pipe 113, that is, between the inner wall of the outer pipe 113 and the outer wall of the inner pipe 112. It flows into the gap between them. In the present embodiment, when the drainage starts to be discharged from the water treatment unit, the temperature of the drainage flowing through the outer pipe 113 is lower than the temperature of the drainage flowing through the inner pipe 112, and therefore flows through the outer pipe 113. The drainage flowing through the inner pipe 112 is cooled by the drainage.

図3に、図2(A)に示す薬液排液部106、水排液部107、内側配管112、及び外側配管113の断面の模式図を示す。図3に示すように、薬液排液部106、水排液部107は傾斜をもった薬液排液ドレインパン109、水排液ドレインパン110を備えている。ここで、ドレインパンとは、各処理部から排出される排液を内側配管、外側配管へと誘導する傾斜のついた板のことであり、排液の配管へのスムーズな流れをつくることを目的とする。又は、ドレインパンは設けず、処理部を直接二重配管111へ繋げても良い。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the chemical liquid drainage section 106, the water drainage section 107, the inner pipe 112, and the outer pipe 113 shown in FIG. As shown in FIG. 3, the chemical drainage unit 106 and the water drainage unit 107 include a chemical drainage drain pan 109 and a water drainage drain pan 110 having an inclination. Here, the drain pan is an inclined plate that guides the drained liquid discharged from each processing section to the inner pipe and the outer pipe, and creates a smooth flow of the drained liquid to the pipe. Objective. Alternatively, the processing unit may be directly connected to the double pipe 111 without providing a drain pan.

また、二重配管111の内側配管112及び外側配管113の形状としては、図4(A)に示すような配管の断面が円状であってもよいし、図4(B)に示すような配管の断面が多角形状であってもよい。なお、図4(A)では、配管の断面が円状の配管を示したが、配管の断面は楕円状であってもよい。また、図4(B)では、配管の断面が四角形状の配管を示したが、配管の断面は四角形に限らず三角形や五角形など多角形であってもよい。   Further, as the shapes of the inner pipe 112 and the outer pipe 113 of the double pipe 111, the cross section of the pipe as shown in FIG. 4A may be circular, or as shown in FIG. The cross section of the piping may be polygonal. In FIG. 4A, the pipe has a circular cross section, but the cross section of the pipe may be elliptical. In FIG. 4B, the pipe has a quadrangular cross section, but the cross section of the pipe is not limited to a quadrilateral and may be a polygon such as a triangle or a pentagon.

以上のように、外側配管113に内側配管112を流れる排液より低温の排液を流すことで、内側配管112を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。   As described above, it is possible to cool the drainage flowing through the inner pipe 112 by allowing the drainage having a temperature lower than the drainage flowing through the inner pipe 112 to flow through the outer pipe 113. Moreover, since it becomes a double piping structure, danger, such as leakage of a dangerous chemical | medical solution, can be reduced.

また、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。 In addition, since water drainage that has been treated as it is without being reused is reused as a refrigerant, it leads to cost reduction for cooling. Furthermore, since it is not necessary to provide a new cooling mechanism for reusing water drainage, high temperature chemical drainage can be efficiently and safely recovered and processed without increasing costs. Moreover, it is not necessary to lengthen the pipe for cooling by flowing water drainage through the pipe outside the double pipe and cooling the drainage flowing through the inner pipe.

(実施の形態2)
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置において、外側の配管に濃度センサを付加させる場合について説明する。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, a case where a concentration sensor is added to the outer pipe in the drainage processing method and the processing apparatus in which the drainage at a temperature lower than the drainage flowing through the inner pipe is supplied to the outer pipe will be described.

二重配管構造の外側配管113の内壁に少なくとも1つの濃度センサ114を設ける(図5(A)、(B)参照)。図5(B)は、図5(A)の断面図である。処理装置は、外側配管113内を通る排液を濃度センサ114で検査することによって、外側配管113内を通る排液中に内側配管112内を通る排液が混入していないかどうかを監視する。濃度センサ114は内側配管112内を通る薬液排液の成分に反応して警報などの警告を発する装置である。なお、濃度センサ114は、外側配管113を流れる排液の濃度を確認できる位置にあればよく、例えば、内側配管112の外壁に設けてもよいし、外側配管113の内壁に設けてもよい。但し、濃度センサ114は排液によって流れないように固定する必要がある。   At least one concentration sensor 114 is provided on the inner wall of the outer pipe 113 having a double pipe structure (see FIGS. 5A and 5B). FIG. 5B is a cross-sectional view of FIG. The processing apparatus monitors whether or not the drainage fluid passing through the inner pipe 112 is mixed into the drainage fluid passing through the outer pipe 113 by inspecting the drainage fluid passing through the outer pipe 113 with the concentration sensor 114. . The concentration sensor 114 is a device that issues a warning such as an alarm in response to a component of the chemical liquid drainage passing through the inner pipe 112. The concentration sensor 114 may be provided at a position where the concentration of the drainage flowing through the outer pipe 113 can be confirmed. For example, the concentration sensor 114 may be provided on the outer wall of the inner pipe 112 or may be provided on the inner wall of the outer pipe 113. However, it is necessary to fix the concentration sensor 114 so that it does not flow due to drainage.

濃度センサ114に反応する濃度値については、工程処理の際に混入の可能性がある分を考慮して基準となる基準濃度値を決定する。外側配管113内の排液中に該基準濃度値以上の内側配管112を流れる排液中に含まれる薬液濃度を検知したときは、内側配管112より薬液排液が漏洩していると判断し、警報などの警告を発するようにする。 For the density value that reacts to the density sensor 114, a reference density value serving as a reference is determined in consideration of the possibility of contamination during process processing. When the concentration of the chemical solution contained in the drainage flowing through the inner pipe 112 that is equal to or higher than the reference concentration value is detected in the drainage in the outer pipe 113, it is determined that the chemical drainage is leaking from the inner pipe 112; Issue warnings such as alarms.

二重配管構造の場合、外観からのみでは内側配管からの漏洩を判断できないため、対処が遅れ気味になってしまう。しかし、本実施の形態のように濃度センサを設けると、漏洩の早期発見が可能となる。また、本発明の二重配管構造においては、外側配管内にも液が流れているため、外側配管の下流に液相用濃度センサを一つ設けるのみで、配管全体の漏洩について監視することができる。   In the case of the double piping structure, since leakage from the inner piping cannot be determined only from the appearance, the countermeasure is delayed. However, if a concentration sensor is provided as in the present embodiment, early detection of leakage becomes possible. Further, in the double pipe structure of the present invention, since the liquid flows also in the outer pipe, it is possible to monitor the leakage of the entire pipe by providing only one liquid phase concentration sensor downstream of the outer pipe. it can.

なお、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせて行うことができる。   Note that this embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

(実施の形態3)
本実施の形態では、バッチ式の処理装置について、図面を用いて説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, a batch processing apparatus will be described with reference to the drawings.

図6(A)、(B)に、本発明の排液処理方法を利用したバッチ式処理装置の構成を示す。図6(B)は、図6(A)の上面の模式図である。   6A and 6B show the configuration of a batch type processing apparatus using the drainage processing method of the present invention. FIG. 6B is a schematic view of the top surface of FIG.

バッチ式処理装置はワークステーション201、薬液処理槽205、水処理槽206、アームチャック204を有するロボット203、排液処理部207を備えている。アームチャック204はロボット203によって制御されている。 The batch processing apparatus includes a workstation 201, a chemical treatment tank 205, a water treatment tank 206, a robot 203 having an arm chuck 204, and a drainage treatment unit 207. The arm chuck 204 is controlled by the robot 203.

まず、ワークステーション201に搬送された被処理物202を、アームチャック204を用いて薬液処理槽205に搬送する。次に、薬液処理槽205において、被処理物202に対して薬液を用いた処理を行う。例えば、ウェットエッチング装置の場合、薬液処理槽205において、フッ酸やシュウ酸などを用いて被処理物202に対してエッチング処理が行われる。また、剥離装置においては、薬液処理槽205は例えば剥離液槽とイソプロピルアルコール(IPA)槽の2つの薬液処理槽を有し、それぞれの薬液処理槽において、被処理物202に対して剥離処理が行われる。 First, the workpiece 202 transferred to the workstation 201 is transferred to the chemical processing tank 205 using the arm chuck 204. Next, in the chemical solution treatment tank 205, a treatment using the chemical solution is performed on the workpiece 202. For example, in the case of a wet etching apparatus, the processing object 202 is etched using hydrofluoric acid, oxalic acid, or the like in the chemical treatment tank 205. In the peeling apparatus, the chemical treatment tank 205 has two chemical treatment tanks, for example, a peel liquid tank and an isopropyl alcohol (IPA) tank. In each chemical treatment tank, the peeling treatment is performed on the workpiece 202. Done.

続いて、被処理物202をアームチャック204によって水処理槽206に搬送する。そして、水処理槽206において、薬液処理槽205において処理された被処理物202に対して洗浄等の処理を行う。 Subsequently, the workpiece 202 is transferred to the water treatment tank 206 by the arm chuck 204. Then, in the water treatment tank 206, a process such as cleaning is performed on the workpiece 202 treated in the chemical treatment tank 205.

薬液処理槽205には温度調節された薬液が一定量常時供給されており、薬液は常時オーバーフローしている。また、被処理物202が搬送されると、さらに被処理物202の体積分の薬液がオーバーフローする。また、水処理槽206には水が一定量常時供給されており、水は常時オーバーフローしており、被処理物202が搬送されると、さらに被処理物202の体積分の水がオーバーフローする。 A constant amount of temperature-adjusted chemical solution is constantly supplied to the chemical solution treatment tank 205, and the chemical solution always overflows. Moreover, when the workpiece 202 is conveyed, the chemical solution for the volume of the workpiece 202 further overflows. In addition, a constant amount of water is constantly supplied to the water treatment tank 206, and the water always overflows. When the workpiece 202 is transported, the volume of water of the workpiece 202 overflows further.

薬液処理槽205においてオーバーフローした薬液排液、及び水処理槽206においてオーバーフローした水排液は排液処理部207内へ流れこむ。排液処理部207は図2(A)と同様に、薬液排液部と水排液部を有している。実施の形態1と同様に、薬液処理槽205においてオーバーフローした薬液排液が薬液排液部を通って二重配管の内側配管へ流れこむと共に、水処理槽206においてオーバーフローした水排液が水排液部を通って二重配管の外側配管へ流れこむ。   The chemical waste liquid overflowed in the chemical liquid treatment tank 205 and the water waste liquid overflowed in the water treatment tank 206 flow into the waste liquid treatment unit 207. The drainage processing unit 207 includes a chemical drainage unit and a water drainage unit as in FIG. Similarly to the first embodiment, the chemical drainage that overflows in the chemical treatment tank 205 flows into the inner pipe of the double pipe through the chemical drainage section, and the water drainage that overflows in the water treatment tank 206 is drained. Flow through the liquid part to the outer pipe of the double pipe.

本実施の形態において、外側配管には内側配管を流れる排液より低温の排液が流れている。よって、外側配管を流れる排液により内側配管を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。   In the present embodiment, drainage at a temperature lower than the drainage flowing through the inner pipe flows through the outer pipe. Therefore, the drainage flowing through the inner pipe can be cooled by the drainage flowing through the outer pipe. Moreover, since it becomes a double piping structure, danger, such as leakage of a dangerous chemical | medical solution, can be reduced.

また、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。   In addition, since water drainage that has been treated as it is without being reused is reused as a refrigerant, it leads to cost reduction for cooling. Furthermore, since it is not necessary to provide a new cooling mechanism for reusing water drainage, high temperature chemical drainage can be efficiently and safely recovered and processed without increasing costs. Moreover, it is not necessary to lengthen the pipe for cooling by flowing water drainage through the pipe outside the double pipe and cooling the drainage flowing through the inner pipe.

(実施の形態4)
本実施の形態では、枚葉式装置について、図面を用いて説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment mode, a single wafer apparatus will be described with reference to the drawings.

図7に、本発明の排液処理方法を利用した枚葉式装置の一例として、スピンコーター装置の構成を示す。   FIG. 7 shows a configuration of a spin coater device as an example of a single-wafer device using the drainage processing method of the present invention.

本実施の形態のスピンコーター装置は、水供給部301と薬液供給部302を備え、それぞれ水と薬液を吐出するための水吐出ノズル303と薬液吐出ノズル304が設けられている。また、薬液供給部302は薬液の温度を調節するための温調機能を有していてもよい。   The spin coater device of the present embodiment includes a water supply unit 301 and a chemical solution supply unit 302, and is provided with a water discharge nozzle 303 and a chemical solution discharge nozzle 304 for discharging water and a chemical solution, respectively. Moreover, the chemical solution supply unit 302 may have a temperature adjustment function for adjusting the temperature of the chemical solution.

まず、被処理物305をカップ307(なお、カップは処理部ともいう)内に設けられた回転ステージ306に設置する。本実施の形態において、カップ307は薬液処理部と水処理部に対応する。次に、回転ステージ306に設置された被処理物305を最適な回転数で回転させながら、薬液吐出ノズル304から吐出された薬液を被処理物305上に塗布する。そして、被処理物上に塗布された後、本工程により発生した薬液排液が内側配管312へ流れ込む。   First, an object to be processed 305 is set on a rotary stage 306 provided in a cup 307 (a cup is also referred to as a processing unit). In the present embodiment, the cup 307 corresponds to a chemical treatment unit and a water treatment unit. Next, the chemical solution discharged from the chemical solution discharge nozzle 304 is applied onto the workpiece 305 while rotating the workpiece 305 installed on the rotation stage 306 at an optimum rotation speed. And after apply | coating on a to-be-processed object, the chemical | medical solution drainage generate | occur | produced by this process flows into the inner side piping 312. FIG.

次に、水吐出ノズル303から吐出された水を用いて被処理物305を洗浄する。そして、洗浄処理により発生した水排液が外側配管311へ流れ込む。   Next, the object to be processed 305 is cleaned using water discharged from the water discharge nozzle 303. Then, the water drainage generated by the cleaning process flows into the outer pipe 311.

本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、薬液と水の処理は両方ともカップ307において行っているため、薬液の排液と水の排液をそれぞれ二重配管の内側配管312と外側配管311とに分けて流れ込ませるために切り換え弁308が設けられている。   In the present embodiment, unlike the above embodiment, both the chemical solution and the water treatment are performed in the cup 307. Therefore, the chemical solution drainage and the water drainage are respectively performed on the double pipe inner pipe 312 and the outer pipe. A switching valve 308 is provided to flow separately from the pipe 311.

図8に、図7の切り換え弁308の上面の模式図を示す。切り換え弁308において、薬液吐出ノズル304から薬液を吐出し、その薬液排液を内側配管312へ流す場合は、図8(A)に示すように、切り換え弁308を外側へ移動させ、外側配管311への入り口を閉じて内側配管312への入り口を開ける。また、水吐出ノズル303から水を吐出し、その水排液を外側配管311へ流す場合は、図8(B)に示すように、切り換え弁308を内側へ移動させ、内側配管312への入り口を閉じて外側配管311への入り口を開ける。これにより、薬液排液は内側配管312へ流れ、水排液は外側配管311へ流れることになる。   FIG. 8 is a schematic view of the upper surface of the switching valve 308 of FIG. In the switching valve 308, when the chemical liquid is discharged from the chemical liquid discharge nozzle 304 and the chemical liquid drainage flows to the inner pipe 312, the switching valve 308 is moved outward as shown in FIG. The entrance to is closed and the entrance to the inner pipe 312 is opened. Further, when water is discharged from the water discharge nozzle 303 and the water drainage is caused to flow to the outer pipe 311, the switching valve 308 is moved inward to enter the inner pipe 312 as shown in FIG. 8B. Is closed and the entrance to the outer pipe 311 is opened. Thereby, the chemical liquid drainage flows to the inner pipe 312 and the water drainage flows to the outer pipe 311.

本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、薬液排液と水排液と二重配管へ流れ込むタイミングがそれぞれ異なる。従って、薬液排液が内側配管を通過したときに、外側配管に水排液が流れていない、あるいはその逆の場合が起こり、薬液排液を冷却することができない可能性がある。この問題を解決するために、本実施の形態のスピンコーター装置は図7に示すように外側配管311の内側に外側配管タンク弁309と内側配管312の内側に内側配管タンク弁310が設けられている。 In the present embodiment, unlike the above embodiment, the timing of flowing into the chemical liquid drainage, the water drainage, and the double pipe is different. Therefore, when the chemical liquid drainage passes through the inner pipe, there is a possibility that water drainage does not flow in the outer pipe, or vice versa, and the chemical liquid drainage cannot be cooled. In order to solve this problem, the spin coater of the present embodiment is provided with an outer piping tank valve 309 inside the outer piping 311 and an inner piping tank valve 310 inside the inner piping 312 as shown in FIG. Yes.

本実施の形態において、薬液吐出ノズル304から薬液を吐出すると、切り換え弁308が外側へ移動し、薬液排液が内側配管312へ流れる。そして、内側配管タンク弁310が閉じ、一時的に薬液排液が貯められる。次に、水吐出ノズル303から水を吐出すると、切り換え弁308が内側へ移動し、水排液が外側配管311へ流れる。そして、外側配管タンク弁309が閉じ、一時的に水排液が貯められる。そして、同時に外側配管タンク弁309と内側配管タンク弁310を開け、排液を処理する。外側配管タンク弁309と内側配管タンク弁310により、薬液排液を水排液により効率よく冷却することができる。 In the present embodiment, when the chemical liquid is discharged from the chemical liquid discharge nozzle 304, the switching valve 308 moves outward, and the chemical liquid drainage flows to the inner pipe 312. Then, the inner piping tank valve 310 is closed, and the chemical liquid drainage is temporarily stored. Next, when water is discharged from the water discharge nozzle 303, the switching valve 308 moves inward, and water drainage flows to the outer pipe 311. Then, the outer piping tank valve 309 is closed and water drainage is temporarily stored. At the same time, the outer piping tank valve 309 and the inner piping tank valve 310 are opened, and the drainage is processed. The outer piping tank valve 309 and the inner piping tank valve 310 allow the chemical liquid drainage to be efficiently cooled by the water drainage.

また、外側配管タンク弁309と内側配管タンク弁310とを必ずしも両方設ける必要はなく、どちらか一方にだけ設けてもよい。この場合、タンク弁が設けられた配管の先に排液がたまるようにする。例えば、外側配管タンク弁309だけ設ける場合、まず、水吐出ノズル303から発生した水排液を外側配管311へ貯めておき、次に薬液吐出ノズル304から排出された薬液排液が内側配管312へ流れ込むタイミングで外側配管タンク弁309を開けばよい。また、内側配管タンク弁310だけ設ける場合、まず、薬液吐出ノズル304から排出された薬液排液を内側配管312へ貯めておき、次に水吐出ノズル303から発生した水排液が外側配管311へ流れ込むタイミングで内側配管タンク弁310を開けばよい。また、外側配管タンク弁309と内側配管タンク弁310とを両方設け、片方のタンク弁だけ開けて使用してもよい。 Further, both the outer piping tank valve 309 and the inner piping tank valve 310 are not necessarily provided, and may be provided only in one of them. In this case, drainage is collected at the end of the pipe provided with the tank valve. For example, when only the outer pipe tank valve 309 is provided, first, the water drainage generated from the water discharge nozzle 303 is stored in the outer pipe 311, and then the chemical liquid drainage discharged from the chemical liquid discharge nozzle 304 is supplied to the inner pipe 312. The outer piping tank valve 309 may be opened at the flow-in timing. When only the inner pipe tank valve 310 is provided, first, the chemical liquid drainage discharged from the chemical liquid discharge nozzle 304 is stored in the inner pipe 312, and then the water drainage generated from the water discharge nozzle 303 is sent to the outer pipe 311. The inner piping tank valve 310 may be opened at the flow-in timing. Further, both the outer piping tank valve 309 and the inner piping tank valve 310 may be provided, and only one tank valve may be opened and used.

本実施の形態において、外側配管には内側配管を流れる排液より低温の排液が流れている。よって、外側配管を流れる排液により内側配管を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。   In the present embodiment, drainage at a temperature lower than the drainage flowing through the inner pipe flows through the outer pipe. Therefore, the drainage flowing through the inner pipe can be cooled by the drainage flowing through the outer pipe. Moreover, since it becomes a double piping structure, danger, such as leakage of a dangerous chemical | medical solution, can be reduced.

また、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。   In addition, since water drainage that has been treated as it is without being reused is reused as a refrigerant, it leads to cost reduction for cooling. Furthermore, since it is not necessary to provide a new cooling mechanism for reusing water drainage, high temperature chemical drainage can be efficiently and safely recovered and processed without increasing costs. Moreover, it is not necessary to lengthen the pipe for cooling by flowing water drainage through the pipe outside the double pipe and cooling the drainage flowing through the inner pipe.

本発明の排液処理方法を説明する図である。It is a figure explaining the drainage processing method of the present invention. 本発明の排液処理方法を説明する図である。It is a figure explaining the drainage processing method of the present invention. 本発明の排液処理方法を説明する図である。It is a figure explaining the drainage processing method of the present invention. 本発明の二重配管構造を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the double piping structure of this invention. 本発明の排液処理方法を説明する図である。It is a figure explaining the drainage processing method of the present invention. 本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。It is a figure explaining the processing apparatus using the drainage processing method of this invention. 本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。It is a figure explaining the processing apparatus using the drainage processing method of this invention. 本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。It is a figure explaining the processing apparatus using the drainage processing method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

101 処理装置
102 薬液処理部
103 水処理部
104 薬液供給部
105 水供給部
106 薬液排液部
107 水排液部
108 温度調節部
109 薬液排液ドレインパン
110 水排液ドレインパン
111 二重配管
112 内側配管
113 外側配管
114 濃度センサ
201 ワークステーション
202 被処理物
203 ロボット
204 アームチャック
205 薬液処理槽
206 水処理槽
207 排液処理部
301 水供給部
302 薬液供給部
303 水吐出ノズル
304 薬液吐出ノズル
305 被処理物
306 回転ステージ
307 カップ
308 切り換え弁
309 外側配管タンク弁
310 内側配管タンク弁
311 外側配管
312 内側配管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Processing apparatus 102 Chemical treatment part 103 Water treatment part 104 Chemical solution supply part 105 Water supply part 106 Chemical liquid drainage part 107 Water drainage part 108 Temperature control part 109 Chemical drainage drain pan 110 Water drainage drain pan 111 Double piping 112 Inner piping 113 Outer piping 114 Concentration sensor 201 Work station 202 Workpiece 203 Robot 204 Arm chuck 205 Chemical solution treatment tank 206 Water treatment tank 207 Drainage treatment unit 301 Water supply unit 302 Chemical solution supply unit 303 Water discharge nozzle 304 Chemical solution discharge nozzle 305 Workpiece 306 Rotating stage 307 Cup 308 Switching valve 309 Outside piping tank valve 310 Inside piping tank valve 311 Outside piping 312 Inside piping

Claims (21)

外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第1の排液より低温の第2の排液を流すことを特徴とする排液処理方法。   When the first drainage liquid is caused to flow through the inner pipe of the double pipe in which the inner pipe is arranged in the outer pipe, the first drainage liquid is provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe. A drainage treatment method characterized by flowing a second drainage liquid at a lower temperature. 第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流すことを特徴とする排液処理方法。
The first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit.
While flowing the first drainage discharged from the first processing unit through the first drainage unit to the inner pipe disposed in the double pipe,
The second drainage discharged from the second processing section and having a temperature lower than that of the first drainage is passed through the second drainage section and the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe of the double pipe. A drainage treatment method characterized by flowing between the two.
第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記第2の排液は前記第2の処理部から排出開始時は前記第1の排液より低温であり、前記第2の排液は前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液を含むことを特徴とする排液処理方法。
The first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit.
While flowing the first drainage discharged from the first processing unit through the first drainage unit to the inner pipe disposed in the double pipe,
Flowing the second drainage discharged from the second processing section between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe of the double pipe through the second drainage section;
The second drainage liquid is lower in temperature than the first drainage liquid when starting to drain from the second processing unit, and the second drainage liquid is diluted with a solvent contained in the second processing liquid. A drainage treatment method comprising the first treatment liquid.
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に第2の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
When flowing the first drainage through the inner pipe of the double pipe in which the inner pipe is arranged in the outer pipe, the second drainage is passed between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe. sink,
Drainage processing method characterized in that said by the concentration sensor provided in the inner wall or outer wall of the inner pipe of the outer pipe, to check the concentration of the first processing solution that is part of the second drain.
第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる前記第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
The first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit.
While flowing the first drainage discharged from the first processing unit through the first drainage unit to the inner pipe disposed in the double pipe,
Flowing the second drainage discharged from the second processing section between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe of the double pipe through the second drainage section;
A drainage treatment method, wherein the concentration of the first treatment liquid contained in the second drainage is inspected by a concentration sensor provided on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe.
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第1の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第1の排液より低温の第2の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
When the first drainage liquid is caused to flow through the inner pipe of the double pipe in which the inner pipe is arranged in the outer pipe, the first drainage liquid is provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe. Let the cooler second drainage flow,
Drainage processing method characterized in that said by the concentration sensor provided in the inner wall or outer wall of the inner pipe of the outer pipe, to check the concentration of the first processing solution that is part of the second drain.
第1の処理液供給部から第1の処理部に第1の処理液を、第2の処理液供給部から第2の処理部に第2の処理液をそれぞれ供給し、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を第1の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第2の処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液を第2の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第2の排液に含まれる前記第1の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
The first processing liquid is supplied from the first processing liquid supply unit to the first processing unit, and the second processing liquid is supplied from the second processing liquid supply unit to the second processing unit.
While flowing the first drainage discharged from the first processing unit through the first drainage unit to the inner pipe disposed in the double pipe,
The second drainage discharged from the second processing section and having a temperature lower than that of the first drainage is passed through the second drainage section and the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe of the double pipe. Shed between
A drainage treatment method, wherein the concentration of the first treatment liquid contained in the second drainage is inspected by a concentration sensor provided on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe.
請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた弁で前記第1の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
In claim 2, claim 3, claim 5 or claim 7,
The first drainage is caused to flow to the inner pipe by a switching valve,
Flowing the second drainage fluid between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve;
A drainage processing method, wherein the first drainage is once stored by a valve provided in the inner pipe.
請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
In claim 2, claim 3, claim 5 or claim 7,
The first drainage is caused to flow to the inner pipe by a switching valve,
Flowing the second drainage fluid between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve;
A drainage processing method, wherein the second drainage is once stored by a valve provided between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
請求項2、請求項3、請求項5又は請求項7において、
切り換え弁で前記第1の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第2の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた第1の弁で前記第1の排液を一度貯めて、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた第2の弁で前記第2の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
In claim 2, claim 3, claim 5 or claim 7,
The first drainage is caused to flow to the inner pipe by a switching valve,
Flowing the second drainage fluid between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe by the switching valve;
The first drainage is once stored by the first valve provided in the inner pipe, and the second valve is provided by the second valve provided between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe. A drainage treatment method characterized by storing drainage once.
請求項2、請求項3、請求項5、及び請求項7乃至請求項10のいずれか1項において、
前記第1の処理液供給部において前記第1の処理液の温度調節を行うことを特徴とする排液処理方法。
In any one of claims 2, 3, 5, and 7 to 10,
A drainage treatment method, wherein the temperature of the first treatment liquid is adjusted in the first treatment liquid supply unit.
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管を有し、
前記内側配管には、第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
It has a double pipe with the inner pipe arranged inside the outer pipe,
The first drainage flows through the inner pipe,
A processing apparatus, wherein a second drainage liquid having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A first processing unit;
A second processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the first processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the second processing unit;
A first drainage unit for treating the first drainage discharged from the first processing unit;
A second drainage unit for treating the second drainage discharged from the second processing unit;
A double pipe having an inner pipe connected to the first drainage section and an outer pipe connected to the second drainage section and arranged outside the inner pipe;
The first drainage flows through the inner pipe,
The processing apparatus, wherein the second drainage liquid having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第2の排液部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、且つ前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A first processing unit;
A second processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the first processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the second processing unit;
A first drainage unit for treating the first drainage discharged from the first processing unit;
A second drainage unit for treating the second drainage discharged from the second processing unit;
A double pipe having an inner pipe connected to the first drainage section and an outer pipe connected to the second drainage section and arranged outside the inner pipe;
The first drainage flows through the inner pipe,
Between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe, the temperature at the start of discharge from the second drainage part is lower than that of the first drainage, and the second treatment liquid The processing apparatus, wherein the second drainage liquid containing the first processing liquid diluted with an included solvent flows.
処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the processing unit;
A double pipe comprising an inner pipe connected to the processing section and an outer pipe connected to the processing section and arranged outside the inner pipe;
The first drainage discharged from the processing unit flows through the inner pipe,
A processing apparatus, wherein a second drainage discharged from the processing section and having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出開始時は前記第1の排液よりも低い温度であり、且つ前記第2の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第1の処理液が含まれる前記処理部から排出された第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the processing unit;
A double pipe comprising an inner pipe connected to the processing section and an outer pipe connected to the processing section and arranged outside the inner pipe;
The first drainage discharged from the processing unit flows through the inner pipe,
Between the outer wall of the inner pipe and the inner wall of the outer pipe, a solvent that is at a lower temperature than the first drainage liquid and is contained in the second treatment liquid at the start of discharge from the processing unit. A processing apparatus, wherein the second drained liquid discharged from the processing unit containing the diluted first processing liquid flows.
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管と、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A double pipe in which an inner pipe is arranged in the outer pipe, and a concentration sensor on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe,
The first drainage flows through the inner pipe,
A processing apparatus, wherein a second drainage liquid having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
第1の処理部と、
第2の処理部と、
前記第1の処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記第2の処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記第1の処理部から排出された第1の排液を処理する第1の排液部と、
前記第2の処理部から排出された第2の排液を処理する第2の排液部と、
前記第1の排液部に接続された内側配管と前記第2の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第1の排液より低温の前記第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A first processing unit;
A second processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the first processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the second processing unit;
A first drainage unit for treating the first drainage discharged from the first processing unit;
A second drainage unit for treating the second drainage discharged from the second processing unit;
A double pipe comprising an inner pipe connected to the first drainage section and an outer pipe connected to the second drainage section and arranged outside the inner pipe;
A concentration sensor on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe;
The first drainage flows through the inner pipe,
The processing apparatus, wherein the second drainage liquid having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
処理部と、
前記処理部に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、
前記処理部に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第1の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第1の排液より低温の第2の排液が流れることを特徴とする処理装置。
A processing unit;
A first processing liquid supply section for supplying a first processing liquid to the processing section;
A second processing liquid supply unit for supplying a second processing liquid to the processing unit;
A double pipe comprising an inner pipe connected to the processing section and an outer pipe connected to the processing section and arranged outside the inner pipe;
A concentration sensor on the inner wall of the outer pipe or the outer wall of the inner pipe;
The first drainage discharged from the processing unit flows through the inner pipe,
A processing apparatus, wherein a second drainage discharged from the processing section and having a temperature lower than that of the first drainage flows between an outer wall of the inner pipe and an inner wall of the outer pipe.
請求項15、請求項16、又は請求項19において、
前記処理部と前記二重配管との間に切り換え弁とを有し、前記二重配管の前記外側配管と前記内側配管の少なくとも一方に弁を有することを特徴とする処理装置。
In claim 15, claim 16 or claim 19 ,
A processing apparatus comprising a switching valve between the processing unit and the double pipe, and having a valve on at least one of the outer pipe and the inner pipe of the double pipe.
請求項15、請求項16、請求項19、又は請求項20において、
前記第1の処理液供給部に温度調節部を有することを特徴とする処理装置。
Claim 15, claim 16, claim 19 or claim 20 ,
A processing apparatus comprising a temperature adjusting unit in the first processing liquid supply unit.
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