JP4992787B2 - Printed wiring board and inspection method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、プリント配線板及びその検査方法に関し、特に配線間の絶縁不良個所や絶縁欠陥箇所を特定できるプリント配線板及びその検査方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and an inspection method thereof, and more particularly, to a printed wiring board and an inspection method thereof that can identify an insulation failure portion and an insulation defect portion between wirings.

近年の技術の発展に伴い、携帯型電子機器に見られる装置の小型化が進んできた。装置の小型化のため、半導体装置やプリント配線板の小型化・高密度化が進み、特にプリント配線板では高密度化のために狭い配線幅と配線間隙が求められてきている。さらに、携帯されて使用される携帯型電子機器にとっては、様々な使用環境が想定されるため、プリント配線板の絶縁信頼性に対して厳しい条件が要求される。一方、据え置き型の装置についても、コスト削減と高機能化の影響から、多ピンBGAを少ない層数の安価な貫通基板に実装するために、プリント配線は狭い配線幅と配線間隙で引き回すことを求められてきており、絶縁信頼性に対しては厳しい条件となっている。   With the development of technology in recent years, miniaturization of devices found in portable electronic devices has progressed. In order to reduce the size of the device, the semiconductor device and the printed wiring board have been reduced in size and increased in density. Particularly, in the printed wiring board, a narrow wiring width and a wiring gap have been required for increasing the density. Furthermore, since various use environments are assumed for portable electronic devices that are carried and used, severe conditions are required for the insulation reliability of the printed wiring board. On the other hand, in the case of stationary devices, due to the effects of cost reduction and higher functionality, printed wiring must be routed with a narrow wiring width and wiring gap in order to mount a multi-pin BGA on an inexpensive through board with a small number of layers. It has been demanded and is a severe condition for insulation reliability.

しかし、プリント配線板に形成された回路に絶縁不良がある場合、その絶縁不良箇所の特定は、絶縁不良が進んで基板表面が焼損したり、またエレクトロケミカルマイグレーションの進行により目視可能な量の金属析出等の現象が発生したりする等、顕著に進行した不良箇所でない限り困難である。   However, if there is an insulation failure in the circuit formed on the printed wiring board, the location of the insulation failure is identified by the amount of metal that can be visually observed due to the failure of insulation and the substrate surface being burned out or by the progress of electrochemical migration. This is difficult unless it is a defective part that has progressed remarkably, such as occurrence of a phenomenon such as precipitation.

上記のような回路の絶縁性を維持するための保守管理に対して、例えば特許文献1では、電気ケーブルアセンブリに関し、電気ケーブルの最外周にサーモクロミック材料を被覆した構造が提案されている。この構造では、絶縁体に異常が発生して温度が上昇するとサーモクロミック材料が変色し、異常発生箇所が肉眼で観察できるとされている。   For maintenance management for maintaining the insulation of the circuit as described above, for example, Patent Document 1 proposes a structure in which a thermochromic material is coated on the outermost periphery of an electric cable with respect to the electric cable assembly. In this structure, when an abnormality occurs in the insulator and the temperature rises, the thermochromic material is discolored, and the location where the abnormality has occurred can be observed with the naked eye.

また、特許文献2では、プリント配線板と台との間にエレクトロクロミック素子シートを挿入して導通検査を行い、エレクトロクロミック素子シートの変色箇所からプリント配線板の構成回路の導通不良箇所を検出することが提案されている。
特表平10−509550号公報(図1) 特開昭61−221680号公報(第1図)
Moreover, in patent document 2, an electrochromic element sheet | seat is inserted between a printed wiring board and a base, a continuity test is performed, and the conduction | electrical_connection defect location of the component circuit of a printed wiring board is detected from the discoloration location of an electrochromic element sheet | seat. It has been proposed.
Japanese National Patent Publication No. 10-509550 (FIG. 1) Japanese Patent Laid-Open No. 61-221680 (FIG. 1)

しかしながら、上記特許文献1で提案された構造をプリント配線板にそのまま応用した場合、いくつかの問題がある。例えば、故障欠陥を表示するサーモクロミック材料層がプリント配線板の導体配線を覆う絶縁材料の更にその上に形成されることになるため、導体配線近傍の絶縁材料に絶縁不良が発生しても、その上の絶縁材料で影響が緩和されるため、更にその上にあるサーモクロミック材料は反応しにくい。また、故障欠陥を表示するサーモクロミック材料を最外周に配置しており、組立時の環境の影響、また外部要因による影響のどちらによる影響によっても故障欠陥を表示するサーモクロミック材料は発現しうるため、電気ケーブル内部の発熱による劣化と外部要因による劣化との区別が付かないという問題がある。   However, when the structure proposed in Patent Document 1 is directly applied to a printed wiring board, there are some problems. For example, since a thermochromic material layer displaying a fault defect is formed on the insulating material covering the conductor wiring of the printed wiring board, even if insulation failure occurs in the insulating material near the conductor wiring, Since the influence is mitigated by the insulating material on it, the thermochromic material on it further hardly reacts. In addition, thermochromic materials that display fault defects are arranged on the outermost periphery, and thermochromic materials that display fault defects can appear due to the influence of the environment during assembly or the influence of external factors. There is a problem that it is impossible to distinguish between deterioration due to heat generation inside the electric cable and deterioration due to external factors.

また、上記特許文献2で提案された構造は、回路欠陥による導通不良を検出するには適すると考えられるが、将来起こりうる絶縁不良を無くすための絶縁層の僅かな欠陥を検出することは難しい。   The structure proposed in Patent Document 2 is considered to be suitable for detecting a conduction failure due to a circuit defect, but it is difficult to detect a slight defect in the insulating layer for eliminating a possible insulation failure in the future. .

本発明の目的は、絶縁不良が発生したプリント配線板、又は、将来絶縁不良を引き起こすであろう僅かな絶縁欠陥を有するプリント配線板において、その絶縁不良個所や絶縁欠陥箇所を、特別な観察用補助機器を用いずとも目視により容易に特定できるプリント配線板及びその検査方法を提供することにある。   It is an object of the present invention to provide a special observation of an insulation defect location or an insulation defect location in a printed wiring board in which insulation failure has occurred or a printed wiring board having slight insulation defects that will cause insulation failure in the future. An object of the present invention is to provide a printed wiring board that can be easily identified by visual inspection without using an auxiliary device, and an inspection method thereof.

上記課題を解決するための本発明の第1の観点に係るプリント配線板は、基材上に導体配線と絶縁層とが形成されてなるプリント配線板において、前記絶縁層がエレクトロクロミック材料を含んでいることを特徴とする。   A printed wiring board according to a first aspect of the present invention for solving the above problems is a printed wiring board in which a conductor wiring and an insulating layer are formed on a base material, wherein the insulating layer contains an electrochromic material. It is characterized by being.

この本発明の好ましい態様は、前記エレクトロクロミック材料がマイクロカプセルで封入されているように構成し、前記エレクトロクロミック材料がマイクロカプセルで封入されているように構成し、乃至は、前記プリント配線板の周囲及び前記絶縁層内に、前記エレクトロクロミック材料が存在するように構成する。   In a preferred aspect of the present invention, the electrochromic material is configured to be encapsulated in microcapsules, the electrochromic material is configured to be encapsulated in microcapsules, or the printed wiring board The electrochromic material is configured to exist around and in the insulating layer.

また、本発明の第2の観点に係るプリント配線板は、基材上に導体配線と絶縁層とが形成されてなるプリント配線板において、該プリント配線板の周囲及び前記絶縁層内に、エレクトロクロミック材料が存在することを特徴とする。   Further, the printed wiring board according to the second aspect of the present invention is a printed wiring board in which a conductor wiring and an insulating layer are formed on a base material. It is characterized by the presence of chromic material.

上記第1,2の観点に係る本発明のプリント配線板の好ましい態様として、(1)前記絶縁層がソルダーレジストであるように構成し、(2)前記エレクトロクロミック材料がスピロオキサジンラジカル誘導体であるように構成し、乃至は、(3)前記プリント配線板が、電子部品を搭載する前又は後の、フレキシブル基板、リジッド基板又はリジッドフレキシブル基板であるように構成する。   As a preferable aspect of the printed wiring board of the present invention according to the first and second aspects, (1) the insulating layer is a solder resist, and (2) the electrochromic material is a spirooxazine radical derivative. (3) The printed wiring board is configured to be a flexible substrate, a rigid substrate, or a rigid flexible substrate before or after mounting the electronic component.

上記課題を解決するため本発明の第1の観点に係るプリント配線板の検査方法は、基材上に導体配線と絶縁層とが形成され、エレクトロクロミック材料が前記絶縁層に含まれてなるプリント配線板を準備する工程と、前記導体配線に電圧を印加して前記絶縁層の色の変化を検査する工程と、を有することを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problem, a printed wiring board inspection method according to a first aspect of the present invention is a printed wiring board in which a conductor wiring and an insulating layer are formed, and an electrochromic material is included in the insulating layer. A step of preparing a wiring board; and a step of inspecting a change in color of the insulating layer by applying a voltage to the conductor wiring.

また、本発明の第2の観点に係るプリント配線板の検査方法は、基材上に導体配線と絶縁層とが形成されたプリント配線板であって該プリント配線板の周囲及び前記絶縁層内にエレクトロクロミック材料が存在するプリント配線板を準備する工程と、前記導体配線に電圧を印加して前記絶縁層の色の変化を検査する工程と、を有することを特徴とする。   Further, the printed wiring board inspection method according to the second aspect of the present invention is a printed wiring board in which a conductor wiring and an insulating layer are formed on a substrate, and the periphery of the printed wiring board and in the insulating layer. And a step of preparing a printed wiring board in which an electrochromic material is present, and a step of inspecting a change in color of the insulating layer by applying a voltage to the conductor wiring.

本発明の第1,2の観点に係るプリント配線板によれば、導体配線を覆う絶縁層がエレクトロクロミック材料を含むように構成し、また、エレクトロクロミック材料がプリント配線板の周囲及び前記絶縁層内に存在するように構成したので、導体間に電圧印加したとき、導体配線間の絶縁層に絶縁劣化した箇所が存在したり、絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所が存在した場合、その箇所のエレクトロクロミック材料が変色し、不良個所や不良進展箇所を直接確認することができる。   According to the printed wiring board according to the first and second aspects of the present invention, the insulating layer covering the conductor wiring is configured to contain an electrochromic material, and the electrochromic material is disposed around the printed wiring board and the insulating layer. When there is a part where the insulation has deteriorated in the insulating layer between the conductor wiring, or when there is a minute defect that may cause insulation deterioration, when voltage is applied between the conductors, The electrochromic material at that location is discolored, and a defective portion or a defective progress portion can be directly confirmed.

本発明の第1,2の観点に係るプリント配線板の検査方法によれば、前記本発明に係るプリント配線板を準備する工程と、その導体配線に電圧を印加して前記絶縁層の色の変化を検査する工程とを有するので、プリント配線板を構成する導体配線間の絶縁層に絶縁劣化した箇所が存在したり、絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所が存在したりする場合、その箇所のエレクトロクロミック材料が変色し、不良個所や不良進展箇所を直接確認することができる。その結果、絶縁不良がなく、また絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所もないプリント配線板を、特別な観察用補助機器を用いずとも目視により容易に特定できる。   According to the printed wiring board inspection method according to the first and second aspects of the present invention, a step of preparing the printed wiring board according to the present invention, and applying a voltage to the conductor wiring, the color of the insulating layer And there is a step of inspecting the change, so that there is a place where the insulation is deteriorated in the insulating layer between the conductor wirings constituting the printed wiring board, or there is a minute defect where there is a possibility of insulation deterioration, The electrochromic material at that location is discolored, and a defective portion or a defective progress portion can be directly confirmed. As a result, it is possible to easily identify visually a printed wiring board that is free from insulation defects and has no fine defects that may cause insulation deterioration without using a special observation auxiliary device.

次に、本発明のプリント配線板、その製造方法及びその検査方法に係る実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。   Next, embodiments of a printed wiring board, a manufacturing method thereof, and an inspection method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[プリント配線板]
図1は、本発明の第1実施形態であるプリント配線板を示す説明図であり、(A)は斜視図であり、(B)は「S1」の拡大断面図である。このプリント配線板1は、基材10上に導体配線11,12と絶縁層13とが形成されてなるものであり、その絶縁層13がエレクトロクロミック材料を含んでいる。
[Printed wiring board]
FIG. 1 is an explanatory view showing a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention, (A) is a perspective view, and (B) is an enlarged sectional view of “S1”. The printed wiring board 1 is formed by forming conductor wirings 11 and 12 and an insulating layer 13 on a base material 10, and the insulating layer 13 contains an electrochromic material.

基材1と、その基材1上に設けられる導体配線11,12は、プリント配線板の構成材料として従来から一般的に用いられているものを適用でき、特に限定されない。例えば、基材としては、FR4材、FR5材、BTレジン材、テフロン(登録商標)材等からなるリジッド基板でも、それらを複合させた複合リジッド基板でもよいし、また、ポリイミドフィルム上に銅パターンが形成された片面フレキシブル基板でも両面フレキシブル基板でも多層フレキシブル基板でもよいし、また、それらを組み合わせたフレックスリジッド基板であってもよい。なお、導体配線11,12としては、通常、銅パターンが形成されるが、本発明のプリント配線板は、近年の狭ピッチ対応で形成された導体配線11,12に対してより好ましいものである。   As the base material 1 and the conductor wirings 11 and 12 provided on the base material 1, those conventionally used as a constituent material of the printed wiring board can be applied and are not particularly limited. For example, the base material may be a rigid substrate made of FR4 material, FR5 material, BT resin material, Teflon (registered trademark) material, or a composite rigid substrate obtained by combining them, or a copper pattern on a polyimide film. May be a single-sided flexible substrate, a double-sided flexible substrate, a multilayer flexible substrate, or a flex-rigid substrate combining them. In general, a copper pattern is formed as the conductor wirings 11 and 12, but the printed wiring board of the present invention is more preferable than the conductor wirings 11 and 12 formed in correspondence with the recent narrow pitch. .

絶縁層13は、基材1上の導体配線11,12を覆うように設けられている。絶縁層13は、その全面を覆うものであってもよいし、任意の領域を覆うものであってもよく、通常、ソルダーレジストとして機能するものとして好ましく設けられる。この絶縁層13には、エレクトロクロミック材料が含まれる。エレクトロクロミック材料は、通常、マイクロカプセル内に封入されており、そのマイクロカプセルが絶縁層13内に均一に分散した態様となっている。なお、エレクトロクロミック材料は、電気的に引き起こされる可逆的な酸化還元反応によって着色したり消えたりする材料のことである。   The insulating layer 13 is provided so as to cover the conductor wirings 11 and 12 on the substrate 1. The insulating layer 13 may cover the entire surface thereof, or may cover an arbitrary region, and is usually preferably provided as one that functions as a solder resist. The insulating layer 13 includes an electrochromic material. The electrochromic material is usually encapsulated in microcapsules, and the microcapsules are uniformly dispersed in the insulating layer 13. The electrochromic material is a material that is colored or disappears by a reversible oxidation-reduction reaction that is electrically induced.

エレクトロクロミック材料をマイクロカプセルに封入させる理由は、エレクトロクロミック材料を絶縁層形成用の樹脂材料に混ぜる必要があり、エレクトロクロミック材料を樹脂材料中に安定して存在させるためである。また、マイクロカプセルで封入することで、紫外光など他の外部環境による影響でエレクトロクロミック材料が異性化し、発色することを防止することもできる。エレクトロクロミック材料としては、各種のものを挙げることができるが、この第1実施形態のようにエレクトロクロミック材料をマイクロカプセルに封入することを考慮すると、酸化タングステン等の無機エレクトロクロミック材料が適当である。   The reason why the electrochromic material is encapsulated in the microcapsule is that the electrochromic material needs to be mixed with the resin material for forming the insulating layer, and the electrochromic material is stably present in the resin material. Further, by encapsulating with a microcapsule, it is possible to prevent the electrochromic material from isomerizing and coloring due to the influence of other external environment such as ultraviolet light. As the electrochromic material, various materials can be exemplified. In consideration of encapsulating the electrochromic material in the microcapsule as in the first embodiment, an inorganic electrochromic material such as tungsten oxide is suitable. .

マイクロカプセルは、エレクトロクロミック材料を封入でき、さらに例えばソルダーレジストとして機能する絶縁層形成材料であるエポキシ材料と結合し安定している必要があることから、MMA(メチルメタアクリレート)又はポリ乳酸等を好ましく用いることができる。さらに、UV光に対して遮光性を持つ材料であれば更に望ましい。こうしたマイクロカプセルは、芯物質上に重合反応で形成、成長させる等、従来公知の一般的な方法で作製することができる。   A microcapsule can encapsulate an electrochromic material, and further needs to be bonded and stable with an epoxy material that is an insulating layer forming material that functions as a solder resist, for example. Therefore, MMA (methyl methacrylate) or polylactic acid is used. It can be preferably used. Furthermore, it is more desirable if it is a material having a light shielding property against UV light. Such microcapsules can be produced by a conventionally known general method such as formation and growth on a core material by a polymerization reaction.

エレクトロクロミック材料を封入したマイクロカプセルは、絶縁層形成用の液状の樹脂材料中に混合され、一般的な絶縁層形成プロセスによって形成された絶縁層13中に均一に分散される。   The microcapsules encapsulating the electrochromic material are mixed in a liquid resin material for forming an insulating layer and uniformly dispersed in the insulating layer 13 formed by a general insulating layer forming process.

図2は、形成された絶縁層の絶縁劣化部が発色する態様を示す説明図であり、(A)は絶縁層の発色態様を示す断面図であり、(B)は「S2」の拡大断面図である。図2では、導体配線11,12を保護し且つ絶縁している絶縁層13が劣化し、その絶縁層13が含有しているマイクロカプセル22と、微小な亀裂17の様子を示している。   FIGS. 2A and 2B are explanatory views showing an aspect in which the insulation degradation portion of the formed insulating layer develops color, FIG. 2A is a cross-sectional view showing the color development aspect of the insulating layer, and FIG. 2B is an enlarged cross section of “S2”. FIG. In FIG. 2, the insulating layer 13 that protects and insulates the conductor wirings 11 and 12 is deteriorated, and the microcapsules 22 contained in the insulating layer 13 and the state of the minute cracks 17 are shown.

図2(B)に示すように、配線12の縁部から亀裂17が発生し、その亀裂17が絶縁層13中を伝播し、成長し、その亀裂17が他の配線11に連絡したところへ外部環境による吸湿等の影響が加わると、電圧印加環境下において、絶縁層13中の不純物イオン等を伴って絶縁不良が発生し、微小な電気が流れる。導体配線11,12間に絶縁不良による電気導通が生じると、電気導通した箇所のマイクロカプセル(エレクトロクロミック材料を含む)16はエレクトロクロミック材料が異性化して発色し、発色部分14を特定できる。異性化したエレクトロクロミック材料は逆電位をかけ放電させる等により異性化を元に戻さない限り発色した状態で安定しているため、電圧印加を停止した後も発色した状態が維持され、発色部分14によって示された不良個所を直接特定できる。なお、図2(B)中の符号15は、亀裂17に関わらない部位の非発色のマイクロカプセルである。   As shown in FIG. 2B, a crack 17 is generated from the edge of the wiring 12, the crack 17 propagates and grows in the insulating layer 13, and the crack 17 communicates with another wiring 11. When the influence of moisture absorption or the like by the external environment is applied, an insulation failure occurs with impurity ions in the insulating layer 13 in a voltage application environment, and minute electricity flows. When electrical conduction due to insulation failure occurs between the conductor wirings 11 and 12, the microcapsules (including the electrochromic material) 16 at the location where the electrical conduction has occurred are colored by electroisomerization of the electrochromic material, and the colored portion 14 can be specified. Since the isomerized electrochromic material is stable in a colored state unless the isomerization is restored by reversing the electric potential by applying a reverse potential, the colored state is maintained even after the voltage application is stopped. The defective part indicated by can be directly identified. Note that reference numeral 15 in FIG. 2B denotes a non-colored microcapsule at a part not related to the crack 17.

図3は、本発明の第2実施形態であるプリント配線板の製造プロセスを示す説明図であり、(A)はプロセスの斜視図であり、(B)は得られたプリント配線板の「S3」の拡大断面図である。このプリント配線板2は、基材10上に導体配線11,12と絶縁層18とが形成されてなるものであり、プリント配線板2の周囲に及び絶縁層18内に、エレクトロクロミック材料が存在する態様をなすものである。なお、基板10、絶縁層形成材料、エレクトロクロミック材料は、上記第1実施形態において説明したものと同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略する。   3A and 3B are explanatory views showing a manufacturing process of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention, in which FIG. 3A is a perspective view of the process, and FIG. 3B is “S3” of the obtained printed wiring board. FIG. The printed wiring board 2 is formed by forming conductor wirings 11 and 12 and an insulating layer 18 on a substrate 10, and an electrochromic material exists around the printed wiring board 2 and in the insulating layer 18. It makes the aspect which does. In addition, since the thing similar to what was demonstrated in the said 1st Embodiment can be used for the board | substrate 10, an insulating layer formation material, and an electrochromic material, description is abbreviate | omitted here.

この第2実施形態のプリント配線板2は、図3(A)に示すように、導体配線11,12が形成された基材10上に、その導体配線11,12を覆うように絶縁層18が形成され、また、電子部品23,24も実装されたプリント配線板2を準備し、そのプリント配線板2を、エレクトロクロミック材料を含む有機溶媒中に浸漬して得られる。こうして得られたプリント配線板2の周囲にはエレクトロクロミック材料が存在し、さらに絶縁層18内にも、エレクトロクロミック材料が存在する。   As shown in FIG. 3A, the printed wiring board 2 of the second embodiment has an insulating layer 18 on the base material 10 on which the conductor wirings 11 and 12 are formed so as to cover the conductor wirings 11 and 12. The printed wiring board 2 on which the electronic components 23 and 24 are mounted is prepared, and the printed wiring board 2 is immersed in an organic solvent containing an electrochromic material. An electrochromic material is present around the printed wiring board 2 thus obtained, and an electrochromic material is also present in the insulating layer 18.

エレクトロクロミック材料としては、上記第1実施形態の欄で説明したものと同様のものを用いることができるが、有機溶媒に溶解する性質を有するさらに他のエレクトロクロミック材料を用いてもよい。有機溶媒としては、トルエン、キシレン等のように、既に実装された電子部品23,24に影響を及ぼさない有機溶媒を好ましく用いることができる。有機溶媒中へのエレクトロクロミック材料の配合量も特に限定されないが、一例として挙げれば有機溶媒に対して例えば0.2mmol/L程度であればよい。   As the electrochromic material, the same materials as those described in the first embodiment can be used, but still other electrochromic materials having the property of being dissolved in an organic solvent may be used. As the organic solvent, an organic solvent that does not affect the already mounted electronic components 23 and 24, such as toluene and xylene, can be preferably used. The blending amount of the electrochromic material in the organic solvent is not particularly limited, but may be, for example, about 0.2 mmol / L with respect to the organic solvent.

有機溶媒中にエレクトロクロミック材料を配合した混合溶液中に、部品実装を含む製造を完了した後のプリント配線板2を浸すことで、プリント配線板2の表層の絶縁層18中にエレクトロクロミック材料を浸透させることができ、また、プリント配線板2の表層にもエレクトロクロミック材料を吸着させることができる。エレクトロクロミック材料を浸透又は吸着させた後のプリント配線板を、常温、減圧中で乾燥させることにより、エレクトロクロミック材料をプリント配線板を構成する絶縁層18内に存在させることができる。   The electrochromic material is immersed in the insulating layer 18 on the surface layer of the printed wiring board 2 by immersing the printed wiring board 2 after completion of manufacturing including component mounting in a mixed solution in which an electrochromic material is mixed in an organic solvent. The electrochromic material can be adsorbed on the surface layer of the printed wiring board 2. The electrochromic material can be allowed to exist in the insulating layer 18 constituting the printed wiring board by drying the printed wiring board after permeating or adsorbing the electrochromic material at room temperature and under reduced pressure.

こうした方法は、プリント配線板の製造プロセス中の熱やUV照射処理等の工程によってエレクトロクロミック材料が異性化したり分解(破壊)したりする可能性を回避できるので、特に好ましい。そして、この第2実施形態で作製したプリント配線板2は、エレクトロクロミック材料をマイクロカプセルに封入せずに絶縁層18内に直接分散できるため、マイクロカプセルで封入した場合に比べ、早い段階での不良発生を検知できる。   Such a method is particularly preferable because it can avoid the possibility that the electrochromic material is isomerized or decomposed (destroyed) by a process such as heat or UV irradiation treatment during the manufacturing process of the printed wiring board. And since the printed wiring board 2 produced in the second embodiment can be directly dispersed in the insulating layer 18 without encapsulating the electrochromic material in the microcapsule, it is at an earlier stage than when encapsulated in the microcapsule. Defects can be detected.

図4は、形成された絶縁層の絶縁劣化部が発色する態様を示す説明図であり、(A)は絶縁層の発色態様を示す断面図であり、(B)は「S4」の拡大断面図である。図4では、導体配線11,12を保護し且つ絶縁している絶縁層18が劣化し、その絶縁層18に生じた微小な亀裂22と、その亀裂の近傍での発色部分を示している。   FIGS. 4A and 4B are explanatory views showing an aspect in which the insulation degradation portion of the formed insulating layer develops color, FIG. 4A is a cross-sectional view showing the color development aspect of the insulating layer, and FIG. 4B is an enlarged cross section of “S4”. FIG. In FIG. 4, the insulating layer 18 that protects and insulates the conductor wirings 11 and 12 is deteriorated, and a minute crack 22 generated in the insulating layer 18 and a colored portion in the vicinity of the crack are shown.

図4(B)に示すように、配線12の縁部から亀裂22が発生し、その亀裂22が絶縁層18中を伝播し、成長し、その亀裂22が他の配線11に連絡したところへ外部環境による吸湿等の影響が加わると、電圧印加環境下において、絶縁層18中の不純物イオン等を伴って絶縁不良が発生し、微小な電気が流れる。導体配線11,12間に絶縁不良による電気導通が生じると、電気導通した亀裂周囲に存在するエレクトロクロミック材料が異性化して発色し、発色部分21を特定できる(図4(A)参照)。したがって、電圧印加を停止した後も発色した状態が維持され、発色部分21によって示された不良個所を直接特定できる。   As shown in FIG. 4B, a crack 22 is generated from the edge of the wiring 12, the crack 22 propagates and grows in the insulating layer 18, and the crack 22 communicates with another wiring 11. When the influence of moisture absorption or the like by the external environment is applied, an insulation failure occurs with impurity ions in the insulating layer 18 under a voltage application environment, and minute electricity flows. When electrical conduction due to poor insulation occurs between the conductor wirings 11 and 12, the electrochromic material existing around the electrically conductive crack is isomerized and colored to identify the colored portion 21 (see FIG. 4A). Therefore, the colored state is maintained even after the voltage application is stopped, and the defective portion indicated by the colored portion 21 can be directly specified.

以上説明したように、本発明の第1実施形態に係るプリント配線板1によれば、導体配線11,12を覆う絶縁層13がエレクトロクロミック材料を含むように構成し、また、第2実施形態に係るプリント配線板2によれば、エレクトロクロミック材料がプリント配線板の周囲に及び絶縁層18内に存在するように構成したので、導体間に電圧印加したとき、導体配線間の絶縁層に絶縁劣化した箇所が存在したり、絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所が存在した場合、その箇所のエレクトロクロミック材料が変色し、不良個所や不良進展箇所を直接確認することができる。   As described above, according to the printed wiring board 1 according to the first embodiment of the present invention, the insulating layer 13 covering the conductor wirings 11 and 12 is configured to include the electrochromic material, and the second embodiment. According to the printed wiring board 2 of the present invention, since the electrochromic material is configured to exist around the printed wiring board and in the insulating layer 18, it is insulated from the insulating layer between the conductor wirings when a voltage is applied between the conductors. When there is a deteriorated part or there is a fine defect part that may cause insulation deterioration, the electrochromic material at that part is discolored, and the defective part and the defective progress part can be directly confirmed.

[エレクトロクロミック材料の一例]
次に、本発明のプリント配線板に好ましく用いることができるエレクトロクロミック材料の一例について詳しく説明する。下記化学式は、エレクトロクロミック材料として使用できるスピロオキサジンラジカル誘導体の一般式である。
[Example of electrochromic material]
Next, an example of an electrochromic material that can be preferably used for the printed wiring board of the present invention will be described in detail. The following chemical formula is a general formula of a spirooxazine radical derivative that can be used as an electrochromic material.

Figure 0004992787
Figure 0004992787

前記化学式において、Xは、カルコゲン元素(酸素、硫黄、セレン、テルル等)、アルキリデン基(エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン等)、又はその環状構造からなるシクロアルキリデン基である。Xは、カルコゲン元素(酸素、硫黄、セレン、テルル等)である。R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アリール基(フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル等)、ハロゲン化アルキル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基又はハロゲン原子である。また、隣り合う炭素原子にあるR〜R11が互いに結合して置換基を有することのある、芳香環あるいは複素環を形成していてもよい。なお、化学式中のnは0又は1である。 In the chemical formula, X 1 is a chalcogen element (oxygen, sulfur, selenium, tellurium, etc.), an alkylidene group (ethylidene, propylidene, isopropylidene, butylidene, etc.), or a cycloalkylidene group composed of a cyclic structure thereof. X 2 is a chalcogen element (oxygen, sulfur, selenium, tellurium, etc.). R 1 to R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, butyl), an alkoxy group (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), an aryl group (phenyl, Tolyl, xylyl, biphenyl, etc.), a halogenated alkyl group, a cyano group, an amino group, a nitro group, or a halogen atom. In addition, R 1 to R 11 in adjacent carbon atoms may be bonded to each other to form an aromatic ring or a heterocyclic ring that may have a substituent. In the chemical formula, n is 0 or 1.

こうしたスピロオキサジンラジカル誘導体は、電子授受に寄与する安定ラジカル基と、識別のためのクロミズム特性を示すスピロオキサジン化合物とを併せ持つ。   Such spirooxazine radical derivatives have both a stable radical group contributing to electron transfer and a spirooxazine compound exhibiting chromic characteristics for identification.

ここで、スピロオキサジンラジカル誘導体を構成するスピロオキサジン化合物と、クロミック化合物として知られているスピロピラン化合物とを比較する。スピロピラン化合物は、ピラン環内に発色団として機能する炭素−炭素二重結合部(−C=C−)があり、この結合部位は一重項酸素による自動酸化反応が発生しやすい構造であるため、可逆的異性化の耐久性を保持する期間が短いとされている。これに対し、スピロオキサジンラジカル誘導体を構成するスピロオキサジン化合物は、スピロピラン化合物のピラン環をオキサジン環に置き換えた構造であり、スピロピラン化合物のピラン環と同様にオキサジン環上の発色団である炭素−窒素二重結合部(−C=N−)が一重項酸素の攻撃を受けた際、炭素−炭素二重結合(−C=C−)に比較して一重項酸素との結合が困難であるとされる。こうしたスピロオキサジン化合物で構成されたスピロオキサジンラジカル誘導体は、自動酸化劣化が発生しにくく、このため異性化の耐久性が向上する。   Here, a spirooxazine compound constituting a spirooxazine radical derivative is compared with a spiropyran compound known as a chromic compound. The spiropyran compound has a carbon-carbon double bond part (-C = C-) functioning as a chromophore in the pyran ring, and this bond site is a structure in which an autooxidation reaction due to singlet oxygen is likely to occur. It is said that the period for maintaining the durability of reversible isomerization is short. On the other hand, the spirooxazine compound constituting the spirooxazine radical derivative has a structure in which the pyran ring of the spiropyran compound is replaced with an oxazine ring, and is a carbon-nitrogen that is a chromophore on the oxazine ring in the same manner as the pyran ring of the spiropyran compound. When the double bond portion (-C = N-) is attacked by singlet oxygen, it is difficult to bond with singlet oxygen compared to carbon-carbon double bond (-C = C-). Is done. A spirooxazine radical derivative composed of such a spirooxazine compound is less susceptible to auto-oxidative degradation, thus improving the durability of isomerization.

エレクトロクロミック材料として好ましく使用するためには、電子授受による異性化に関してはラジカル基の可逆反応が安定していることが必要である。このスピロオキサジンラジカル誘導体では、スピロオキサジン化合物のオキサジン環に対してスピロ環を形成している、ピロリジン環、ピペリジン環、オキサゾリジン環、オキサジン環、チアゾリジン環、チアジン環、セレナゾリジン環、セレナジン環などの環内に、安定なラジカル種であるニトロキシラジカル部位(>N−O・)を持っているので、上記要求は十分に満たしている。   In order to use it preferably as an electrochromic material, it is necessary that the reversible reaction of radical groups is stable with respect to isomerization by electron transfer. In this spirooxazine radical derivative, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, an oxazolidine ring, an oxazine ring, a thiazolidine ring, a thiazine ring, a selenazolidine ring, a selenazine ring, etc., forming a spiro ring with respect to the oxazine ring of the spirooxazine compound. Since it has a nitroxy radical site (> N—O.), Which is a stable radical species, the above requirement is sufficiently satisfied.

このスピロオキサジンラジカル誘導体は、クロミック化合物として一般に知られたスピロオキサジン化合物中のスピロ炭素に隣接する窒素原子をヒドロキシルアミン化した後、脱水するなどのプロセスにより、前記窒素原子に酸素ラジカルを付加し、生成することができる。   This spirooxazine radical derivative is obtained by adding a hydroxyl radical to the nitrogen atom by a process such as dehydration after hydroxylamination of the nitrogen atom adjacent to the spirocarbon in the spirooxazine compound generally known as a chromic compound, Can be generated.

[プリント配線板の検査方法]
本発明のプリント配線板の検査方法は、上記第1,第2実施形態に係るプリント配線板1,2を検査する方法である。第1の検査方法は、第1実施形態に係るプリント配線板1を検査する方法であり、基材10上に導体配線11,12と絶縁層13とが形成され、具体的にはマイクロカプセル15,16に封入された態様のエレクトロクロミック材料が絶縁層13に含まれてなるプリント配線板を準備する工程と、導体配線11,12に電圧を印加して絶縁層13の色の変化を検査する工程とを有する方法である。一方、第2の検査方法は、第2実施形態に係るプリント配線板2を検査する方法であり、基材10上に導体配線11,12と絶縁層18とが形成されたプリント配線板であってそのプリント配線板の周囲及び絶縁層18内にエレクトロクロミック材料が存在するプリント配線板2を準備する工程と、導体配線11,12に電圧を印加して絶縁層18の色の変化を検査する工程とを有する方法である。
[Inspection method of printed wiring board]
The printed wiring board inspection method of the present invention is a method for inspecting the printed wiring boards 1 and 2 according to the first and second embodiments. The first inspection method is a method for inspecting the printed wiring board 1 according to the first embodiment. The conductor wirings 11 and 12 and the insulating layer 13 are formed on the base material 10. , 16 and a step of preparing a printed wiring board in which the electrochromic material enclosed in the insulating layer 13 is included, and a voltage is applied to the conductor wirings 11 and 12 to inspect the color change of the insulating layer 13. A method having a process. On the other hand, the second inspection method is a method for inspecting the printed wiring board 2 according to the second embodiment, and is a printed wiring board in which the conductor wirings 11 and 12 and the insulating layer 18 are formed on the substrate 10. The step of preparing the printed wiring board 2 in which the electrochromic material exists around the printed wiring board and in the insulating layer 18, and the voltage change is applied to the conductor wirings 11 and 12 to inspect the color change of the insulating layer 18. A method having a process.

こうした検査方法によれば、プリント配線板1,2を構成する導体配線11,12間の絶縁層(13,18)に絶縁劣化した箇所が存在したり、絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所が存在したりする場合、その箇所のエレクトロクロミック材料が変色し、不良個所や不良進展箇所を直接確認することができる。その結果、絶縁不良がなく、また絶縁劣化する可能性のある微細な欠陥箇所もないプリント配線板を、特別な観察用補助機器を用いずとも目視により容易に特定できる。   According to such an inspection method, the insulation layer (13, 18) between the conductor wirings 11 and 12 constituting the printed wiring boards 1 and 2 has a location where insulation has deteriorated, or a fine defect that may cause insulation deterioration. When a location exists, the electrochromic material at that location changes color, and a defective portion or a defective progress location can be directly confirmed. As a result, it is possible to easily identify visually a printed wiring board that is free from insulation defects and has no fine defects that may cause insulation deterioration without using a special observation auxiliary device.

次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。以下の実施例は、エレクトロクロミック材料の一例として、上記化学式のスピロオキサジンラジカル誘導体を用いた場合である。なお、本発明のプリント配線板は、以下のエレクトロクロミック材料を用いた場合のみに限定されない。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the following examples, a spirooxazine radical derivative having the above chemical formula is used as an example of an electrochromic material. In addition, the printed wiring board of this invention is not limited only when the following electrochromic materials are used.

上記した化学式に示すスピロオキサジンラジカル誘導体において、Xがイソプロピリデン、Xが酸素、RとRがメチル基、R〜Rは水素原子、nが0、からなる化合物を合成した。 In the spirooxazine radical derivative represented by the above chemical formula, a compound was synthesized in which X 1 is isopropylidene, X 2 is oxygen, R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 to R 9 are hydrogen atoms, and n is 0. .

先ず、2−メチレン−3,3,5,5−テトラメチルピロリジン3mmol(417mg)と2−ニトロソフェノール3mmol(369mg)を脱水メタノール溶媒40mlに溶解し、加熱還流した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留反応物をシリカゲルカラムで展開分離し(展開溶媒:酢酸エチル/ノルマルヘキサン混合溶媒)、得られた溶液から溶媒を減圧留去して除去した。精製された化合物0.61mmol(150mg)を脱水エーテル中にて、過酸化水素水を過剰量滴下し、前駆体化合物を得た。この前駆体化合物0.50mmol(130mg)を脱水エーテル30ml中に加え、氷冷にて酸化銀(I)0.50mmol(116mg)を加えて十分に攪拌した。無水硫酸ナトリウムを加えて、吸引ろ過し、得られたろ液をロータリーエバポレーターにより2分の1の体積まで減圧濃縮した。残分をエタノールとドライアイス混合物などにより低温冷却(−78℃)し、前記した置換基を有したスピロオキサジンラジカル誘導体を得た。   First, 2-methylene-3,3,5,5-tetramethylpyrrolidine 3 mmol (417 mg) and 2-nitrosophenol 3 mmol (369 mg) were dissolved in 40 ml of dehydrated methanol solvent, heated to reflux, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. . The resulting residual reaction product was developed and separated on a silica gel column (developing solvent: ethyl acetate / normal hexane mixed solvent), and the solvent was removed from the resulting solution by distillation under reduced pressure. An excessive amount of hydrogen peroxide was dropped into 0.61 mmol (150 mg) of the purified compound in dehydrated ether to obtain a precursor compound. 0.50 mmol (130 mg) of this precursor compound was added to 30 ml of dehydrated ether, and 0.50 mmol (116 mg) of silver (I) oxide was added with ice cooling, followed by thorough stirring. Anhydrous sodium sulfate was added, suction filtration was performed, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to a half volume by a rotary evaporator. The residue was cooled at a low temperature (−78 ° C.) with a mixture of ethanol and dry ice to obtain a spirooxazine radical derivative having the aforementioned substituent.

なお、得られたスピロオキサジンラジカル誘導体のラジカルの発生は電子スピン共鳴分析(ESR)により確認できた。また、その構造等は、H−NMRの測定結果(溶媒:CDC1、基準:TMS)と元素分析結果等により確認した。 In addition, generation | occurrence | production of the radical of the obtained spirooxazine radical derivative has been confirmed by electron spin resonance analysis (ESR). Further, the structure and the like were confirmed by 1 H-NMR measurement results (solvent: CDC1 3 , standard: TMS), elemental analysis results, and the like.

また、同様にして、Xがイソプロピリデン、Xが酸素、Rがメチル基、Rがニトロ基、R、R、R、R、Rが水素原子、nが0で、RとRとが高いに結合して芳香族6員環を形成しているスピロオキサジンラジカル誘導体も合成した。 Similarly, X 1 is isopropylidene, X 2 is oxygen, R 5 is a methyl group, R 8 is a nitro group, R 1 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 are hydrogen atoms, and n is 0 Thus, a spirooxazine radical derivative in which R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aromatic 6-membered ring was also synthesized.

得られた誘導体をエレクトロクロミック材料として使用し、MMA(メチルメタアクリレート)でマイクロカプセル化し、そのマイクロカプセルを、エポキシ樹脂溶液中に分散混合し、得られた混合溶液を、導体配線11,12が形成されたプリント配線板1の表面に塗布してソルダーレジストとして機能する絶縁層13を形成し、第1実施形態に係るプリント配線板1を作製した。   The obtained derivative is used as an electrochromic material, microencapsulated with MMA (methyl methacrylate), the microcapsules are dispersed and mixed in an epoxy resin solution, and the resulting mixed solution is used as conductor wirings 11 and 12. The insulating layer 13 functioning as a solder resist was formed by coating on the surface of the formed printed wiring board 1 to produce the printed wiring board 1 according to the first embodiment.

また、同様の混合溶液を用い、その混合溶液19中に、導体配線11,12上に絶縁層18が形成され且つ電子部品23,24が搭載されたプリント配線板2をその混合溶液19中に浸漬し、第2実施形態に係るプリント配線板2を作製した。   Further, using the same mixed solution, the printed wiring board 2 in which the insulating layer 18 is formed on the conductor wirings 11 and 12 and the electronic components 23 and 24 are mounted in the mixed solution 19. Immersion was performed to produce a printed wiring board 2 according to the second embodiment.

このように、スピロオキサジンラジカル誘導体は上記第1実施形態や第2実施形態のプリント配線板で用いるエレクトロクロミック材料として用いることができる。そして、スピロオキサジンラジカル誘導体は、長期にわたり安定したエレクトロクロミック特性を得ることができるという利点があり、こうしたスピロオキサジンラジカル誘導体を本発明に係るプリント配線板を構成する絶縁層中に含有させれば、絶縁不良を起こす又は起こす虞のある絶縁欠陥部を特定でき、さらに経時的に徐々に進行する欠陥の発生についても長期間にわたって保守管理することができるという効果がある。   Thus, the spirooxazine radical derivative can be used as an electrochromic material used in the printed wiring board of the first embodiment or the second embodiment. And the spirooxazine radical derivative has the advantage that stable electrochromic properties can be obtained over a long period of time, and if such a spirooxazine radical derivative is contained in the insulating layer constituting the printed wiring board according to the present invention, Insulation defects that cause or may cause insulation failure can be identified, and the occurrence of defects that gradually progress with time can be maintained and managed over a long period of time.

本発明のプリント配線板及びその検査方法によれば、プリント配線板の絶縁劣化による不良個所の特定を容易に行うことができ、保全及び修理の用途に適用できる。   According to the printed wiring board and the inspection method of the present invention, it is possible to easily identify a defective portion due to insulation deterioration of the printed wiring board, and it can be applied to maintenance and repair applications.

本発明の第1実施形態であるプリント配線板を示す説明図であり、(A)は斜視図であり、(B)は「S1」の拡大断面図である。It is explanatory drawing which shows the printed wiring board which is 1st Embodiment of this invention, (A) is a perspective view, (B) is an expanded sectional view of "S1". 絶縁層の絶縁劣化部が発色する態様を示す説明図であり、(A)は絶縁層の発色態様を示す断面図であり、(B)は「S2」の拡大断面図である。It is explanatory drawing which shows the aspect which the insulation degradation part of an insulating layer colors, (A) is sectional drawing which shows the coloring aspect of an insulating layer, (B) is an expanded sectional view of "S2". 本発明の第2実施形態であるプリント配線板の製造プロセスを示す説明図であり、(A)はプロセスの斜視図であり、(B)は得られたプリント配線板の「S3」の拡大断面図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the printed wiring board which is 2nd Embodiment of this invention, (A) is a perspective view of a process, (B) is an expanded cross section of "S3" of the obtained printed wiring board FIG. 絶縁層の絶縁劣化部が発色する態様を示す説明図であり、(A)は絶縁層の発色態様を示す断面図であり、(B)は「S4」の拡大断面図である。It is explanatory drawing which shows the aspect which the insulation degradation part of an insulating layer colors, (A) is sectional drawing which shows the coloring aspect of an insulating layer, (B) is an expanded sectional view of "S4".

符号の説明Explanation of symbols

1,2 プリント配線板
10 基材
11,12 導体配線
13 絶縁層
14 発色部分
15 マイクロカプセル(非発色)
16 マイクロカプセル(発色)
17 亀裂(欠陥)
18 絶縁層
19 エレクトロクロミック材料が溶解した溶液
20,21 発色部分
22 亀裂(欠陥)
23,24 電子部品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Printed wiring board 10 Base material 11,12 Conductor wiring 13 Insulating layer 14 Colored part 15 Microcapsule (non-colored)
16 microcapsules (color development)
17 Crack (defect)
18 Insulating layer 19 Solution in which electrochromic material is dissolved 20, 21 Colored portion 22 Crack (defect)
23, 24 Electronic components

Claims (6)

基材と、該基材上に設けられた2つ以上の導体配線と、該導体配線を覆うように設けられた絶縁層と、で形成されてなるプリント配線板において、前記絶縁層が前記導体配線の間で電気導通した箇所を特定するためのエレクトロクロミック材料を含んでいることを特徴とするプリント配線板。 A substrate, and two or more conductive wiring provided on the substrate, an insulating layer provided so as to cover the conductor wire, in the composed formed printed wiring board, the insulating layer is the conductor A printed wiring board comprising an electrochromic material for specifying a portion where electrical conduction is made between wirings. 前記エレクトロクロミック材料がマイクロカプセルで封入されている、請求項1に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the electrochromic material is encapsulated in microcapsules. 前記プリント配線板の周囲及び前記絶縁層内に、前記エレクトロクロミック材料が存在する、請求項1又は2に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the electrochromic material is present around the printed wiring board and in the insulating layer. 前記絶縁層がソルダーレジストである、請求項1〜のいずれか1項に記載のプリント配線板。 It said insulating layer is a solder resist, printed circuit board according to any one of claims 1-3. 前記エレクトロクロミック材料がスピロオキサジンラジカル誘導体である、請求項1〜のいずれか1項に記載のプリント配線板。 The printed wiring board according to any one of claims 1 to 4 , wherein the electrochromic material is a spirooxazine radical derivative. 前記プリント配線板が、電子部品を搭載する前又は後の、フレキシブル基板、リジッド基板又はリジッドフレキシブル基板である、請求項1〜のいずれか1項に記載のプリント配線板。 The printed wiring board, before or after mounting the electronic component, a flexible substrate, a rigid substrate or a rigid flexible substrate, printed wiring board according to any one of claims 1-5.
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