JP4986032B2 - 光書込み型表示媒体、光書込み装置及び光書込み方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光書込み型表示媒体、光書込み装置及び光書込み方法に関する。
近年、表示媒体として、電子情報の一時的な閲覧を目的とする電子ペーパーが注目されている。この電子ペーパーの一つとして、光書込み型のものがある。光書込み型の電子ペーパーは、無電源状態であったも表示状態が維持される、例えば液晶からなる表示層と、光により電気抵抗が変化する光導電層とが積層されて構成されている。このような光書込み型の電子ペーパーには、閲覧面側から光を照射して画像を形成するものと、閲覧面と反対側（裏面側）から光を照射して画像を形成するものとがある。特許文献１及び特許文献２は、カラー用の電子ペーパーとして、裏面側から書込み光を照射する場合に、各色に対応した光導電層の吸収波長領域と、閲覧面側から入射する読出し光の透過波長領域との関係について開示する。
本発明の目的は、閲覧面側から書込む光書込み表示媒体において、閲覧のために読出し光の照射を受けることによる経時的な光導電層の劣化に基づく表示画像品質の劣化を防止することにある。
請求項１に係る本発明は、印加される電圧に応じて選択的に光学特性が変化し、入射した可視光を選択的に透過又は反射させる表示層と、この表示層を透過した所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光の照射に応じて電気抵抗が変化する光導電層と、前記表示層を透過した第１の波長領域に含まれる波長を有する可視光を透過させ、少なくとも第１の波長領域以外の波長を有する第２の波長領域の可視光を吸収する選択透過層と、前記光導電層の表示層とは反対側に配置され、前記光導電層を透過した光を吸収する光吸収層と、を有する光書込み型表示媒体である。
なお、ここで、「透過」とは、入射した光の５０％以上の光量を透過し、「吸収」とは、入射した光の５０％以上の光量を吸収することをいう。
なお、ここで、「透過」とは、入射した光の５０％以上の光量を透過し、「吸収」とは、入射した光の５０％以上の光量を吸収することをいう。
請求項２に係る本発明は、前記表示層はコレステリック液晶から構成されている請求項１記載の光書込み型表示媒体である。
請求項３に係る本発明は、前記第１の波長領域の色と前記第２の波長領域の色とは補色関係にある請求項１又は２記載の光書込み型表示媒体である。
請求項４に係る本発明は、前記光導電層は電荷発生物質としてフタロシアニン顔料が用いられ、前記選択透過層は第１の成分として赤色成分を透過させる請求項３記載の光書込み型表示媒体である。
請求項５に係る本発明は、前記光導電層は電荷発生物質としてジブロモアントアントロン顔料が用いられ、前記選択透過層は第１の成分として青色成分を透過させる請求項３記載の光書込み型表示媒体である。
請求項６に係る本発明は、前記表示層と前記光導電層とを接着してなることを特徴とする請求項１乃至５いずれか記載の光書込み型表示媒体である。
請求項７に係る本発明は、前記表示層と前記選択透過層とを接着させる接着層、をさらに有し、前記選択透過層が前記接着層の成分の前記光導電層への溶出を防止する隔離性能を備える請求項１乃至５いずれか記載の光書込み型表示媒体である。
請求項８に係る本発明は、少なくとも前記表示層及び前記光導電層を挟むように配置された一対の電極層、をさらに有し、該一対の電極層のうち少なくとも表示層側の電極層は可視光を透過させる請求項１乃至７いずれか記載の光書込み型表示媒体である。
請求項９に係る本発明は、請求項１記載の光書き込み型表示媒体の前記表示層および前記光導電層に対して電圧を印加する電圧印加手段と、前記第１の波長領域の光を成分として含む可視光を発生する発光装置と、を有する光書込み装置である。
請求項１０に係る本発明は、前記光書込み型表示媒体は、少なくとも前記表示層及び前記光導電層を挟むように配置された一対の電極層、をさらに有し、前記電圧印加手段は前記一対の電極層に対して電圧を印加するとともに、該一対の電極層のうち少なくとも表記層側の電極層は可視光を透過させる請求項９記載の光書込み装置である。
請求項１１に係る本発明は、印加される電圧に応じて選択的に光学特性が変化し、入射した可視光を選択的に透過又は反射させる表示層と、この表示層を透過した所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光の照射に応じて電気抵抗が変化する光導電層と、前記表示層を透過した第１の波長領域に含まれる波長を有する可視光を透過させ、少なくとも第１の波長領域以外の波長を有する第２の波長領域の可視光を吸収する選択透過層と、前記光導電層の表示層とは反対側に配置され、前記光導電層を透過した光を吸収する光吸収層と、を有する光書込み型表示媒体を用意し、この光書込み型表示媒体の前記表示層および前記光導電層に電圧を印加しながら第１の波長領域を成分として含む可視光を照射する光書込み方法である。
請求項１に係る本発明によれば、閲覧のために読出し光の照射を受けることによる経時的な光導電層の劣化に基づく表示画像品質の劣化を防止することができる。
また、光を吸収する光吸収層を有しない場合と比較して、裏面側に透過光を吸収する部材を別途設けなくても、白と黒のコントラスト比が大きい光書込み型表示媒体を簡単に得ることができる。
また、光を吸収する光吸収層を有しない場合と比較して、裏面側に透過光を吸収する部材を別途設けなくても、白と黒のコントラスト比が大きい光書込み型表示媒体を簡単に得ることができる。
請求項２に係る本発明によれば、請求項１に係る本発明の効果に加えて、表示層への電圧印加を無くしても画像を記憶させることができる。
請求項３に係る本発明によれば、請求項１又は２に係る本発明の効果に加えて、表示層を透過した部分の色を黒に近付けるように調整することができる。
請求項４に係る本発明によれば、請求項３に係る本発明において、光導電層にフタロシアニン顔料を用いた場合に表示層を透過した部分の色を、より黒に近付けるように調整することができる。
請求項５に係る本発明によれば、請求項３に係る本発明において、光導電層にジブロモアントアントロン顔料を用いた場合に表示層を透過した部分の色を、より黒に近付けるように調整することができる。
請求項６に係る本発明によれば、請求項１乃至５いずれかに係る本発明の効果に加えて、選択透過層と接着層とを分けて形成する場合と比較して、構造を簡素化することができる。
請求項７に係る本発明によれば、請求項１乃至５いずれかに係る本発明の効果に加えて、選択透過層と隔離層とを分けて形成する場合と比較して、構造を簡素化することができる。
請求項８に係る本発明によれば、請求項１乃至７いずれかに係る本発明の効果に加えて、電極層を有しない場合に比較して、光書込みを行う際に光書込み型表示媒体を電極間に挟む必要が無くなり、画像形成を簡略化することができる。
請求項９に係る本発明によれば、閲覧のために読出し光の照射を受けることによる経時的な光導電層の劣化に基づく表示画像品質の劣化を防止することができる光書込み型表示媒体に画像を形成することができる光書込み装置を提供することができる。
請求項１０に係る本発明によれば、請求項９に係る本発明の効果に加えて、光書込み型表示媒体に電極層を有しない場合に比較して、電圧を印加するための電極を別途設けなくともよいため、構成を簡略化することができる光書込み装置を提供することができる。
請求項１１に係る本発明によれば、閲覧のために読出し光の照射を受けることによる経時的な光導電層の劣化に基づく表示画像品質の劣化を防止することができる光書込み型表示媒体に画像を形成することができる光書込み方法を提供することができる。
また、光を吸収する光吸収層を有しない場合と比較して、裏面側に透過光を吸収する部材を別途設けなくても、白と黒のコントラスト比が大きい光書込み型表示媒体を簡単に得ることができる。
また、光を吸収する光吸収層を有しない場合と比較して、裏面側に透過光を吸収する部材を別途設けなくても、白と黒のコントラスト比が大きい光書込み型表示媒体を簡単に得ることができる。
次に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光書込み型表示媒体１０と光書込み装置１２とを示す概略図である。
光書込み型表示媒体１０は、例えば可撓性を有する電子ペーパーであり、一方の面に画像が表示されると共にこの表示される画像に対応する書込み光が入射される。この一方の面を閲覧面と称し、他方の面を裏面と称する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光書込み型表示媒体１０と光書込み装置１２とを示す概略図である。
光書込み型表示媒体１０は、例えば可撓性を有する電子ペーパーであり、一方の面に画像が表示されると共にこの表示される画像に対応する書込み光が入射される。この一方の面を閲覧面と称し、他方の面を裏面と称する。
光書込み型表示媒体１０は、この実施形態においては、閲覧面側から、第１の基板１４、第１の電極層１６、表示層１８、選択透過層２０、接着層２２、隔離層２４、光導電層２６、光吸収層２８、第２の電極層３０及び第２の基板３２から構成されている。
第１の基板１４及び第２の基板３２は、絶縁性材料から構成されており、例えばガラス、シリコン、又はポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン若しくはポリカーボネート等の高分子フィルムからなる。第１の基板１４は、書込み光及び読出し光に対して透過性を有する。第２の基板２２は、第１の基板１４と同じ材料から形成してもよいが、他の材料から形成してもよく、必ずしも書込み光及び読出し光に対して透過性を有する必要はない。
第１の電極層１６及び第２の電極層３０は、表示層１８及び光導電層２６を挟み、該表示層１８及び光導電層２６に電圧を印加するように導電性材料から構成されている。即ち、第１の電極層１６及び第２の電極層３０は、金若しくはアルミニウム等の金属薄膜、酸化インジウム若しくは酸化スズ等の金属酸化物、又はポリピロール、ポリアセチレン若しくはポリアニリン等の導電性有機高分子からなる。第１の電極層１６は、書込み光及び読出し光に対して透過性を有する。第２の電極層３０は、第１の電極層１６と同じ材料から形成してもよいが、他の材料から形成してもよく、必ずしも書込み光及び読出し光に対して透過性を有する必要はない。
この第１の電極層１６及び第２の電極層３０との間に後述する光書込み装置１２の電圧印加部３４からのパルス電圧が印加される。
なお、他の実施形態として、この第１の電極層１６及び第２の電極層３０は、光書込み型表示媒体１０に設ける代わりに、光書込み装置１２側に設けることもできる。また、第１の電極層１６及び第２の電極層３０のいずれか一方を光書込み型表示媒体１０に設け、他方を光書込み装置１２側に設けることもできる。
この第１の電極層１６及び第２の電極層３０との間に後述する光書込み装置１２の電圧印加部３４からのパルス電圧が印加される。
なお、他の実施形態として、この第１の電極層１６及び第２の電極層３０は、光書込み型表示媒体１０に設ける代わりに、光書込み装置１２側に設けることもできる。また、第１の電極層１６及び第２の電極層３０のいずれか一方を光書込み型表示媒体１０に設け、他方を光書込み装置１２側に設けることもできる。
表示層１８は、印加される電圧に応じて選択的に光学特性が変化し、入射した可視光を選択的に透過又は反射させるもので、例えば液晶が用いられる。液晶としては、垂直配向ネマチック液晶、平行配向ネマチック液晶、ツイストネマチック液晶、スーパーツイストネマチック液晶、表面安定化強誘電性液晶等の偏光状態の変化を利用する方式、高分子分散型液晶等の光散乱状態の変化を利用する方式、ゲストホスト液晶等の光吸収状態の変化を利用する方式、又はコレステリック（カイラルネマチック）液晶等の光干渉状態の変化を利用する方式等、光学効果の異なる種々の液晶素子を用いることができる。
この実施形態においては、表示層１８はコレステリック液晶が用いられている。ただし、コレステリック液晶のみからなる構造の他、液晶の連続相中に網目状の高分子を含む構造、液晶を高分子バインダ骨格中にドロップレット状に分散した構造、液晶を高分子シェルで包んでマイクロカプセル化した構造、又はマイクロカプセル化した液晶を高分子のバインダ骨格中に分散した構造とすることができる。
コレステリック液晶としては、ステロイド系コレステロール誘導体、又はシッフ塩基系、アゾ系、エステル系若しくはビフェニル系等の光学活性材料からなるカイラル成分を、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、安息香酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン系、シクロヘキサン系、トラン系、アルケニル系、スチルベン系、縮合多環系等のネマチック液晶やスメクチック液晶、又はこれらの混合液晶に添加した材料を用いることができ、誘電率異方性が正になるように構成されている。
正の誘電率異方性を有するコレステリック液晶は、らせん軸がセル表面にほぼ垂直になり、入射光に対して上記の選択反射現象を起こすプレーナー、らせん軸がセル表面にほぼ平行になり、入射光を少し前方散乱させながら透過させるフォーカルコニック、及びらせん構造がほどけて液晶ダイレクタが電界方向を向き、入射光をほぼ完全に透過させるホメオトロピック、の３つの状態を示す。
これら３つの状態のうち、プレーナーとフォーカルコニックは、無電圧で双安定に存在することができる。したがって、コレステリック液晶の配向状態は、印加される電圧に対して一義的に決まらず、初期状態がプレーナーの場合には、印加電圧の増加に伴って、プレーナー、フォーカルコニック、ホメオトロピックの順に変化し、初期状態がフォーカルコニックの場合には、印加電圧の増加に伴って、フォーカルコニック、ホメオトロピックの順に変化する。一方、印加した電圧を急激にゼロにした場合には、プレーナーとフォーカルコニックはそのままの状態を維持し、ホメオトロピックはプレーナーに変化する。
図２は、パルス電圧が印加された直後のコレステリック液晶の光学特性を示す模式図である。
図２において、縦軸は、最大反射率を１００、最小反射率を０として、正規化した正規化反射率であり、横軸は、印加されるパルス電圧である。図中の実線で示す曲線は、パルス電圧が印加された直後のコレステリック液晶の光学特性を表し、印加されたパルス電圧が、閾値電圧Ｖｆｈ以上の場合はホメオトロピックからプレーナーに変化した選択反射状態となり、電圧Ｖｐｆと電圧Ｖｆｈの間にある場合は、フォーカルコニックによる透過状態となり、電圧Ｖｐｆ以下の場合は、パルス電圧印加前の状態、すなわちプレーナーによる選択反射状態またはフォーカルコニックによる透過状態が継続される。
図２において、縦軸は、最大反射率を１００、最小反射率を０として、正規化した正規化反射率であり、横軸は、印加されるパルス電圧である。図中の実線で示す曲線は、パルス電圧が印加された直後のコレステリック液晶の光学特性を表し、印加されたパルス電圧が、閾値電圧Ｖｆｈ以上の場合はホメオトロピックからプレーナーに変化した選択反射状態となり、電圧Ｖｐｆと電圧Ｖｆｈの間にある場合は、フォーカルコニックによる透過状態となり、電圧Ｖｐｆ以下の場合は、パルス電圧印加前の状態、すなわちプレーナーによる選択反射状態またはフォーカルコニックによる透過状態が継続される。
選択透過層２０は、絶縁性材料から構成されており、後で説明する光導電層が光照射によって電気抵抗の変化を示す波長領域（以降、所定範囲と呼ぶことがある）に含まれる波長を有する第１の波長領域の可視光成分を透過させ、少なくとも第１の波長領域以外の波長を有する第２の波長領域の可視光を吸収する。第１の波長領域の色と第２の波長領域の色とは補色関係にある。この選択透過層２０は、カドミウム系、クロム系、コバルト系若しくはマンガン系等の無機顔料、又はアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系若しくはアントロン系等の有機染料若しくは有機顔料、又はこれらを高分子バインダーに分散した材料を用いて形成されている。
接着層２２は、少なくも書込み光に対して透過性を有し、ポリウレタン系又はポリエステル系等の接着材料から構成されている。
隔離層２４は、少なくも書込み光に対して透過性を有し、接着層２２の材料により後述する光導電層２６が溶出するのを防止する。この隔離層２４は、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基又はメチロールアミン基等の水溶性樹脂を用いて形成されている。
光導電層２６は、例えば３層からなり、上部電荷発生層２６２と下部電荷発送層２６４との間に電荷輸送層２６６を設けた構成となっている。上部電荷発生層２６２と下部電荷発生層２６４は、高分子バインダーに電荷発送物質が分散されている。電荷輸送層２６６は、高分子バインダーに電荷輸送物質が分散されている。
電荷発生物質としては、ａ−Ｓｉ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、Ｓｅ、ＳｅＴｅ、若しくはＴｉＯ等の無機材料、又はフタロシアニン系、アゾ系、多環キノン系、インジゴ系、キナクリドン系、ペリレン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系等の有機材料を用いることができる。
電荷輸送物質としては、カルバゾール系、トリアゾール系、オキサジアゾール系、イミダゾール系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、アミン系又はニトロフルオレノン系等の有機材料を用いることができる。
高分子バインダーとしては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、アクリル、メタクリル、塩化ビニル、酢酸ビニル又はこれらの共重合体等を用いることができる。
光吸収層２８は、光導電層２６を透過した光を吸収するもので、例えば黒色を呈し、絶縁性材料から構成されており、例えばカーボンブラックを高分子バインダーに分散して形成されている。
なお、この光吸収層２８は必ずしも光書込み型表示媒体１０内に積層する必要はなく、光書込み型表示媒体１０とは別体となる背景部を読出し時に用意し、この背景部を光書込み型表示媒体１０の裏面側に配置すればよい。
なお、この光吸収層２８は必ずしも光書込み型表示媒体１０内に積層する必要はなく、光書込み型表示媒体１０とは別体となる背景部を読出し時に用意し、この背景部を光書込み型表示媒体１０の裏面側に配置すればよい。
光書込み装置１２は、電圧印加部３４、制御部３６及び発光装置３８を有する。電圧印加部３４は、光書込み型表示媒体１０の第１の電極層１６及び第２の電極層３０に接続され、第１の電極層１６及び第２の電極層３０にパルス電圧を印加する。
制御部３６は、電圧印加部３４のパルス電圧の印加と発光装置３８の発光とを制御する。
発光装置３８は、任意の書込み光を光書込み型表示媒体１０に照射できるものであればよく、レーザービームスキャン装置、ＬＥＤアレイ、ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ若しくはＥＬディスプレイ等の自発光素子又は液晶シャッター等の調光素子と蛍光管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、水銀ランプ若しくはＬＥＤランプ等の光源との組み合わせ等、特に限定されるものではない。
ただし、この実施形態においては、フィルタ等を介することによって所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光を発するように構成されている。
ただし、この実施形態においては、フィルタ等を介することによって所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光を発するように構成されている。
図３は、光書込み型表示媒体１０の等価回路図を示す。
図３において、光書込み型表示媒体１０は、電極層１６,３０の抵抗Ｒ１、表示層１８の抵抗Ｒ２及び静電容量Ｃ２からなる並列回路、その他の層の抵抗Ｒ３及び静電容量Ｃ３からなる並列回路並びに光導電層２６の抵抗Ｒ３及び静電容量Ｃ３からなる並列回路が直列に接続されて構成されている。電圧印加部３４から電極層１６,３０間に印加された電圧Ｖはそれぞれの回路のインピーダンスによって分圧される。ここで、発光装置３８から光導電層２６に書込み光が照射されると光導電層２６の抵抗値Ｒ４が低下するため、表示層１８における書き込み光が照射された部分に印加される分圧Ｖ２は、書き込み光が照射されない部分よりも高くなる。したがって、書込み光の光量に応じて表示層１８の電圧分布が変化するとともに、その電圧分布に応じて表示層の光学状態も変化するので、書き込み光の光量分布を読出し光の反射率分布に反映させることができる。
図３において、光書込み型表示媒体１０は、電極層１６,３０の抵抗Ｒ１、表示層１８の抵抗Ｒ２及び静電容量Ｃ２からなる並列回路、その他の層の抵抗Ｒ３及び静電容量Ｃ３からなる並列回路並びに光導電層２６の抵抗Ｒ３及び静電容量Ｃ３からなる並列回路が直列に接続されて構成されている。電圧印加部３４から電極層１６,３０間に印加された電圧Ｖはそれぞれの回路のインピーダンスによって分圧される。ここで、発光装置３８から光導電層２６に書込み光が照射されると光導電層２６の抵抗値Ｒ４が低下するため、表示層１８における書き込み光が照射された部分に印加される分圧Ｖ２は、書き込み光が照射されない部分よりも高くなる。したがって、書込み光の光量に応じて表示層１８の電圧分布が変化するとともに、その電圧分布に応じて表示層の光学状態も変化するので、書き込み光の光量分布を読出し光の反射率分布に反映させることができる。
次に光書込み装置１２を用いて光書込み型表示媒体１０に画像を書き込む方法について述べる。
まず暗室等に配置された光書込み装置１２に光書込み型表示媒体１０をセットする。光書込み媒体１０のセットが完了すると、制御部３６は電圧印加部３４に対して電極層１６,３０間にパルス電圧を印加するように指令する。電圧印加部３４により印加されるパルス電圧は、表示層１８の分圧がＶｐｆとＶｆｈの間にあるように設定されている。このため、表示層１８の液晶は、フォーカルコニックによる透過状態となる。次に制御部３６は、発光装置３８に画像に対応した書込み光を光書込み型表示媒体１０に照射するよう指令する。閲覧面側から照射された光書込み光は第１の基板１４、第１の電極層１６、表示層１８、選択透過層２０、接着層２２及び隔離層２４を介して光導電層２６に達する。光書込み光が光導電層２６に達すると、光導電層２６の抵抗値Ｒ４が低下するため、表示層１８における書き込み光が照射された部分に印加される分圧Ｖ２は、Ｖｆｈよりも高くなり、その部分はホメオトロピックに変化する。次に制御部３６は電極層１６,３０間へのパルス電圧を急激にゼロにするように指令する。電極層１６,３０間へのパルス電圧が急激にゼロにすると、書込み光が照射された部分に対応する表示層１８の部分はプレーナーに変化し、書込み光が照射されなかった部分はフォーカルコニックそのままの状態を維持し、画像形成が完了する。光書込み装置１２から光書込み型表示媒体１０を離しても表示層１８の液晶の状態はそのまま維持され、光書込み型表示媒体１０に画像が記憶されることになる。
まず暗室等に配置された光書込み装置１２に光書込み型表示媒体１０をセットする。光書込み媒体１０のセットが完了すると、制御部３６は電圧印加部３４に対して電極層１６,３０間にパルス電圧を印加するように指令する。電圧印加部３４により印加されるパルス電圧は、表示層１８の分圧がＶｐｆとＶｆｈの間にあるように設定されている。このため、表示層１８の液晶は、フォーカルコニックによる透過状態となる。次に制御部３６は、発光装置３８に画像に対応した書込み光を光書込み型表示媒体１０に照射するよう指令する。閲覧面側から照射された光書込み光は第１の基板１４、第１の電極層１６、表示層１８、選択透過層２０、接着層２２及び隔離層２４を介して光導電層２６に達する。光書込み光が光導電層２６に達すると、光導電層２６の抵抗値Ｒ４が低下するため、表示層１８における書き込み光が照射された部分に印加される分圧Ｖ２は、Ｖｆｈよりも高くなり、その部分はホメオトロピックに変化する。次に制御部３６は電極層１６,３０間へのパルス電圧を急激にゼロにするように指令する。電極層１６,３０間へのパルス電圧が急激にゼロにすると、書込み光が照射された部分に対応する表示層１８の部分はプレーナーに変化し、書込み光が照射されなかった部分はフォーカルコニックそのままの状態を維持し、画像形成が完了する。光書込み装置１２から光書込み型表示媒体１０を離しても表示層１８の液晶の状態はそのまま維持され、光書込み型表示媒体１０に画像が記憶されることになる。
このように画像が形成された光書込み型表示媒体１０に外光である読出し光が照射されると、表示層１８のフォーカルコニック状態の部分は、第１の基板１４、第１の電極層１６及び表示層１８を透過し、さらに選択透過層２０に達する。この選択透過層２０は、第１の成分のみを透過し、第１の成分以外の第２の成分を吸収し、光導電層２６に達する光量を少なくする。選択透過層２０を透過した読出し光は、さらに接着層２２、隔離層２４及び光導電層２６を介して光吸収層２８まで達して読出し光が吸収され、黒として見えるようになる。一方、表示層１８のプレーナー状態の部分は、表示層１８で読出し光が反射され、白として見えるようになる。
媒体の閲覧側から照射され、表示層１８を透過した書き込み光の成分は、続いて光導電層２６で吸収され、さらにその背面に設けた光吸収層２８で吸収されるか、光吸収層がなければ透過するため、原理的には表示層で選択反射しなかった領域は黒く表示されるはずである。しかし、光導電層２６とその前にある層（本実施例では隔離層２４）との間には屈折率差が生じてしまうので、読出し光の一部が閲覧側の基板方向に反射することとなる。このとき選択透過層２０を設けない場合には、表示層１８を透過した光の成分のうち、選択透過層２０が吸収する波長の光成分が吸収されないまま、光導電層２６とその前にある層との間の屈折率差で反射してしまうため、この色成分が読み出し光の黒部分への色味となっていた。しかしながら、選択透過層２０を設けることで、表示層１８を透過し選択透過層２０を透過した光には、選択透過層２０の透過波長の光成分しか含まれない。このため、読出し光の黒部分に色味が付くのを防止することができる。
さらに選択透過層２０の作用について詳しく説明する。
図４は、選択透過層２０及び光導電層２６の吸収スペクトル並びに外光スペクトルの関係を示す。選択透過層２０は、書込み光波長（例えば６４０ｎｍ）近傍の波長領域である第１の波長領域に対しては吸収率が低く、それ以外の波長領域である第２の波長領域に対しては吸収率が高い。光導電層２６は、反対に第１の成分に対しては吸収率が高く、第２の成分に対しては吸収率が低い。光書込み型表示媒体１０全体としてはどの波長の光に対しても吸収率が高い（反射率が低い）。
なお、この実施形態においては、選択透過層２０が６４０ｎｍ近傍の波長領域である第１の成分に対してのみ透過率が高いようにしたので、外光のうち強度が高い第２の成分が光導電層２６に達するのを防止することができる。
図４は、選択透過層２０及び光導電層２６の吸収スペクトル並びに外光スペクトルの関係を示す。選択透過層２０は、書込み光波長（例えば６４０ｎｍ）近傍の波長領域である第１の波長領域に対しては吸収率が低く、それ以外の波長領域である第２の波長領域に対しては吸収率が高い。光導電層２６は、反対に第１の成分に対しては吸収率が高く、第２の成分に対しては吸収率が低い。光書込み型表示媒体１０全体としてはどの波長の光に対しても吸収率が高い（反射率が低い）。
なお、この実施形態においては、選択透過層２０が６４０ｎｍ近傍の波長領域である第１の成分に対してのみ透過率が高いようにしたので、外光のうち強度が高い第２の成分が光導電層２６に達するのを防止することができる。
図５は、選択透過層２０として赤を透過させるものを用い、光導電層２６の電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を用いた例を示す。書込み光の波長は例えば６４０ｎｍであり、選択透過層２０では書込み光の吸収率が０．２以下であり、光導電層２６では書込み光の吸収率が０．８以上である。
図６は、選択透過層２０として青を透過させるものを用い、光導電層２６の電荷発送物質としてジブロモアントアントロン（ＤＢＡ）顔料を用いた例を示す。書込み光の波長は例えば４８０ｎｍであり、選択透過層２０では書込み光の吸収率が０．５以下であり、光導電層２６では吸収率が０．６以上である。
図７は、第２の実施形態に係る光書込み型表示媒体１０を示す。前述した第１の実施形態と比較すると、第１の実施形態においては、選択透過層２０を接着層２２とは別の層として設けたが、この第２の実施形態においては、選択透過層２０に接着機能を付加しており、単独の接着層は設けられていない。選択透過層２２は、ポリウレタン系又はポリエステル系等の接着材料に、カドミウム系、クロム系、コバルト系若しくはマンガン系等の無機顔料、又はアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系若しくはアントロン系等の有機染料若しくは有機顔料が分散させて構成されている。
図８は、第３の実施形態に係る光書込み型表示媒体１０を示す。前述した第２の実施形態と比較すると、第２の実施形態においては、選択透過層２０に接着機能を付加したのに対し、この第３の実施形態においては、選択透過層２０に隔離機能を付加している。選択透過層２０は、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基又はメチロールアミン基等の水溶性樹脂に、カドミウム系、クロム系、コバルト系若しくはマンガン系等の無機顔料、又はアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系若しくはアントロン系等の有機染料若しくは有機顔料が分散させて構成されている。
以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、以下において％は「質量％」を、部は「質量部」を意味する。
実施例１：
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０％）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０％）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
上部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度２％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．２μｍ厚に形成した。このようにして、基板、下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層よりなる光吸収層を有する光吸収層及び光導電層を作製した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
（基板、電極層及び表示層）
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、基板、電極層及び表示層とした。
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、基板、電極層及び表示層とした。
（赤選択透過層）
ＰＶＡバインダーとし、赤顔料（ジオケトピロロピロール）と分散し、その重量比が１：１になるように水溶液を作製した（固形分濃度１０%）。この赤インクをアプリケータで表示層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、９０℃３０分乾燥した。
ＰＶＡバインダーとし、赤顔料（ジオケトピロロピロール）と分散し、その重量比が１：１になるように水溶液を作製した（固形分濃度１０%）。この赤インクをアプリケータで表示層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、９０℃３０分乾燥した。
（接着層）
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
実施例２：
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
上部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度２％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．２μｍ厚に形成した。このようにして、基板、下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層よりなる光導電層を作製した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
（基板、電極層及び表示層）
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、基板、電極層及び表示層とした。
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、基板、電極層及び表示層とした。
（赤選択透過層兼接着層）
次に酢酸ブチルを溶媒にして、熱可塑性樹脂に赤顔料としてジオケトピロロピロールを分散したラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
次に酢酸ブチルを溶媒にして、熱可塑性樹脂に赤顔料としてジオケトピロロピロールを分散したラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
実施例３：
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、1１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、1１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
上部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度２％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．２μｍ厚に形成した。このようにして、基板、下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層よりなる光導電層を作製した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
（基板、電極層及び表示層）
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板および電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板および電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
（赤選択透過層）
ＰＶＡバインダとし、赤顔料（ジオケトピロロピロール）と分散し、その重量比が１：１になるように水溶液を作製した（固形分濃度１０%）。この赤インクをスピンコートで上部電荷発生層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、９０℃３０分乾燥した。
ＰＶＡバインダとし、赤顔料（ジオケトピロロピロール）と分散し、その重量比が１：１になるように水溶液を作製した（固形分濃度１０%）。この赤インクをスピンコートで上部電荷発生層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、９０℃３０分乾燥した。
（接着層）
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
実施例４：
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、ジブロモアントアントロンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を８：１とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、ジブロモアントアントロンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を８：１とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
上部電荷発生層用分散液として、ジブロモアントアントロンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を８：１とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度２％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．２μｍ厚に形成した。このようにして、基板、下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層よりなる光吸収層及び光導電層を作製した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
（基板、電極層及び表示層）
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７C：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７C：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０μｍとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
（青選択透過層）
塩化ビニール酢共重合体樹脂をバインダーとし、青顔料（銅フタロシアニン）を分散し、その重量比が１：２になるように溶媒を酢酸ブチルとして青インクを作製した（固形分濃度１０%）。この青インクをアプリケータで表示層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、１００℃３０分乾燥した。
塩化ビニール酢共重合体樹脂をバインダーとし、青顔料（銅フタロシアニン）を分散し、その重量比が１：２になるように溶媒を酢酸ブチルとして青インクを作製した（固形分濃度１０%）。この青インクをアプリケータで表示層上に乾燥後の厚み２μｍになるように塗布し、１００℃３０分乾燥した。
（接着層）
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミネートインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
比較例：
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ1１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
（光吸収層、光導電層及び隔離層）
光吸収層として、ＰＶＡをバインダーとし、顔料としてカーボンブラックを用い、かつ、その重量比率を３：１とした水溶液（固形分濃度１０%）を作製し、これを、乾燥膜厚２μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
下部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度４％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．８μｍ厚に形成した。
電荷輸送層用溶液として、ベンジジン系電荷輸送材、とバインダー樹脂PolyCarbonate bisphenol-Z、(ポリ(4,4'-シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート))をそれぞれ６：４の質量比率で混合した後、これをモノクロロベンゼンに溶解させ1１０%の溶液としたものを調製した。この溶液をディップコートにより、2０%の溶液としたものを調製した。この溶液をGap幅80μmのアプリケータにより、下部電荷発生層上に８μｍ厚の電荷輸送層を作製した。
上部電荷発生層用分散液として、クロロガリウムフタロシアニンを電荷発生材とし、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを用い、両者の質量比率を６：４とし、これを、ブタノールで分散させたもの（濃度２％）を調製した。この分散液をスピンコート法により電荷輸送層の上に塗布後、乾燥させ、上部電荷発生層を０．２μｍ厚に形成した。このようにして、基板、下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層よりなる光導電層を作製した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
さらに、隔離層として、ＰＶＡを６%溶解させた水溶液を作製し、これを、乾燥膜厚１μｍになるように上部電荷発生層上に形成し、１００℃３０分乾燥した。
（基板、電極層及び表示層）
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０マイクロメートルとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
コレステリック液晶は、ネマチック液晶Ｅ７（メルク社製）にカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を１２．８％と、カイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）を３．２％とを添加して得た。
このコレステリック液晶１０部に対して、ポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）を１.２部と酢酸エチルを１００部加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール（ポバール２１７EE：クラレ製）水溶液１０００部の中に投入し、撹拌・乳化して約１０μｍ径のｏ／ｗエマルジョンを作製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、１２％ポリビニルアルコール（ポバール２１７Ｃ：クラレ製）水溶液を加えてマイクロカプセル液晶塗料とした。
基板及び電極層として、市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム(ハイビーム：東レ製)を用いて上記マイクロカプセル液晶塗料を乾燥膜厚で３０マイクロメートルとなるように塗布して１００℃３０分乾燥し、表示層とした。
（接着層）
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
次に酢酸ブチルを溶媒にして、２液ウレタン系接着剤タケラックA50/A315（三井化学ポリウレタン製）を溶解させたラミインクを用いて光導電層を作製した基板の隔離層上にスピンコート法で塗布して膜厚５μｍの接着層とした。
最後に、このようにして準備した各層を重ねて９０℃に加熱したラミネーターを通して貼合して電子ペーパーを完成した。
評価：
（１）耐光性評価
実施例及び比較例の耐光性を調べた。蛍光灯を光源とし、２ｃｍ近傍に前述した評価用媒体を配置し、所定の時間照射した。その露光に先立ち、あらかじめ、初期特性として、白状態における書き込み反射率を測定した。書き込み波形は４００ＶＯｐ程度で矩形パルスを１０Ｈｚで２００ｍｓ印加した。光量は１２０ｕｗ〜２００ｕｗ程度とした。書き込み光源の波長は、実施例１,２,３では６４０ｎｍのＬＥＤ（発光ダイオード）を用い、実施例４においては５００ｎｍのＬＥＤを用いた。次に、耐光試験用の蛍光灯光源を照射した。測定は、３時間後と５時間後に再び反射率を測定し、初期に比べて度の程度劣化するかを調べた。反射率の測定にはミノルタ製分光測色計ＣＭ−２００２を用いた。
（１）耐光性評価
実施例及び比較例の耐光性を調べた。蛍光灯を光源とし、２ｃｍ近傍に前述した評価用媒体を配置し、所定の時間照射した。その露光に先立ち、あらかじめ、初期特性として、白状態における書き込み反射率を測定した。書き込み波形は４００ＶＯｐ程度で矩形パルスを１０Ｈｚで２００ｍｓ印加した。光量は１２０ｕｗ〜２００ｕｗ程度とした。書き込み光源の波長は、実施例１,２,３では６４０ｎｍのＬＥＤ（発光ダイオード）を用い、実施例４においては５００ｎｍのＬＥＤを用いた。次に、耐光試験用の蛍光灯光源を照射した。測定は、３時間後と５時間後に再び反射率を測定し、初期に比べて度の程度劣化するかを調べた。反射率の測定にはミノルタ製分光測色計ＣＭ−２００２を用いた。
この結果、図９にあるように、比較例が５時間照射後に反射率が初期の２割程度に低下してしまったのに対し、実施例１及び２はほとんど劣化が無かった。この他、実施例３及び４についても同様の実験を行ったが、５時間露光後の劣化は１０%以下であった。これにより耐光性の改善が示された。
（２）黒味評価
黒の色味を調べるため、前述したミノルタ製分光測色計ＣＭ−２００２を用いて測定した。評価は実施例、比較例の分光スペクトルを観察するとともに、L*a*b*表色系で評価した。すなわち、分光光度計でL*a*b*を測定した後、a*,b*の自乗平均を計算、評価した。計算値が小さいほど、無彩化、すなわち、黒に色味がつかない良好な表色となっている。図１０にスペクトルを示す。比較のため、反射率は最小反射率を１として規格化している。図１０に示すように比較例では特に波長の短い青領域のゲインが高く、青みがかっていることがわかる。一方、実施例１,２,３では、青のゲインが他の波長に比べ下がっていて、波長に対し均一になっている。図１１にL*a*b*による黒味の評価結果を示す。図１１にあるように比較例に比べ、実施例１,２,３は小さく、良好であることが確認された。実施例４についても同様な評価をこなったところ自乗平均が１０以下となり良好な結果が得られた。
黒の色味を調べるため、前述したミノルタ製分光測色計ＣＭ−２００２を用いて測定した。評価は実施例、比較例の分光スペクトルを観察するとともに、L*a*b*表色系で評価した。すなわち、分光光度計でL*a*b*を測定した後、a*,b*の自乗平均を計算、評価した。計算値が小さいほど、無彩化、すなわち、黒に色味がつかない良好な表色となっている。図１０にスペクトルを示す。比較のため、反射率は最小反射率を１として規格化している。図１０に示すように比較例では特に波長の短い青領域のゲインが高く、青みがかっていることがわかる。一方、実施例１,２,３では、青のゲインが他の波長に比べ下がっていて、波長に対し均一になっている。図１１にL*a*b*による黒味の評価結果を示す。図１１にあるように比較例に比べ、実施例１,２,３は小さく、良好であることが確認された。実施例４についても同様な評価をこなったところ自乗平均が１０以下となり良好な結果が得られた。
１０ 光書込み型表示媒体
１２ 光書込み装置
１４ 第１の基板
１６ 第１の電極層
１８ 表示層
２０ 選択透過層
２２ 接着層
２４ 隔離層
２６ 光導電層
２８ 光吸収層
３０ 第２の電極層
３２ 第２の基板
３４ 電圧印加部
３６ 制御部
３８ 発光装置
１２ 光書込み装置
１４ 第１の基板
１６ 第１の電極層
１８ 表示層
２０ 選択透過層
２２ 接着層
２４ 隔離層
２６ 光導電層
２８ 光吸収層
３０ 第２の電極層
３２ 第２の基板
３４ 電圧印加部
３６ 制御部
３８ 発光装置
Claims (11)
- 印加される電圧に応じて選択的に光学特性が変化し、入射した可視光を選択的に透過又は反射させる表示層と、
この表示層を透過した所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光の照射に応じて電気抵抗が変化する光導電層と、
前記表示層を透過した第１の波長領域に含まれる波長を有する可視光を透過させ、少なくとも第１の波長領域以外の波長を有する第２の波長領域の可視光を吸収する選択透過層と、
前記光導電層の表示層とは反対側に配置され、前記光導電層を透過した光を吸収する光吸収層と、
を有する光書込み型表示媒体。 - 前記表示層はコレステリック液晶から構成されている請求項１記載の光書込み型表示媒体。
- 前記第１の波長領域の色と前記第２の波長領域の色とは補色関係にある請求項１又は２記載の光書込み型表示媒体。
- 前記光導電層は電荷発生物質としてフタロシアニン顔料が用いられ、前記選択透過層は第１の成分として赤色成分を透過させる請求項３記載の光書込み型表示媒体。
- 前記光導電層は電荷発生物質としてジブロモアントアントロン顔料が用いられ、前記選択透過層は第１の成分として青色成分を透過させる請求項３記載の光書込み型表示媒体。
- 前記選択透過層は、前記表示層と前記光導電層とを接着してなることを特徴とする請求項１乃至５いずれか記載の光書込み型表示媒体。
- 前記表示層と前記選択透過層とを接着させる接着層、
をさらに有し、
前記選択透過層が前記接着層の成分の前記光導電層への溶出を防止する隔離性能を備える請求項１乃至５いずれか記載の光書込み型表示媒体。 - 少なくとも前記表示層及び前記光導電層を挟むように配置された一対の電極層、
をさらに有し、
該一対の電極層のうち少なくとも表示層側の電極層は可視光を透過させる請求項１乃至７いずれか記載の光書込み型表示媒体。 - 請求項１記載の光書き込み型表示媒体の前記表示層および前記光導電層に対して電圧を印加する電圧印加手段と、
前記第１の波長領域の光を成分として含む可視光を発生する発光装置と、
を有する光書込み装置。 - 前記光書込み型表示媒体は、少なくとも前記表示層及び前記光導電層を挟むように配置された一対の電極層、
をさらに有し、
前記電圧印加手段は前記一対の電極層に対して電圧を印加するとともに、該一対の電極層のうち少なくとも表記層側の電極層は可視光を透過させる請求項９記載の光書込み装置。 - 印加される電圧に応じて選択的に光学特性が変化し、入射した可視光を選択的に透過又は反射させる表示層と、
この表示層を透過した所定範囲の波長を有する可視光のうち、第１の波長領域の可視光の照射に応じて電気抵抗が変化する光導電層と、
前記表示層を透過した第１の波長領域に含まれる波長を有する可視光を透過させ、少なくとも第１の波長領域以外の波長を有する第２の波長領域の可視光を吸収する選択透過層と、
前記光導電層の表示層とは反対側に配置され、前記光導電層を透過した光を吸収する光吸収層と、
を有する光書込み型表示媒体を用意し、
この光書込み型表示媒体の前記表示層および前記光導電層に電圧を印加しながら第１の波長領域を成分として含む可視光を照射する光書込み方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2007047271A JP4986032B2 (ja) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 光書込み型表示媒体、光書込み装置及び光書込み方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2007047271A JP4986032B2 (ja) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 光書込み型表示媒体、光書込み装置及び光書込み方法 |
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