JP4979291B2 - Laser cutting device - Google Patents

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Description

本発明は、半導体基板等のワークに対してレーザ光を照射することで該ワークを切断するレーザ切断装置に関する。   The present invention relates to a laser cutting device for cutting a workpiece such as a semiconductor substrate by irradiating the workpiece with a laser beam.

ワークに対してレーザ光を照射してワークを切断する装置は種々提案されている。例えば、BGA(ball grid array)やCSP(chip size package)等の半導体装置領域が複数形成された半導体基板を予定切断線に沿ってレーザ光により切断して個々の半導体装置を切り出す装置として、特許文献1,2において開示されたレーザ切断装置がある。   Various apparatuses for irradiating a workpiece with laser light to cut the workpiece have been proposed. For example, as a device for cutting out individual semiconductor devices by cutting a semiconductor substrate having a plurality of semiconductor device regions such as BGA (ball grid array) and CSP (chip size package) by laser light along a predetermined cutting line There are laser cutting devices disclosed in Documents 1 and 2.

そして、レーザ切断装置においては、レーザ光をガルバノミラー等の走査手段を用いて予定切断線に沿って走査(スキャン)することで、半導体基板やこれを保持するステージ又はレーザ発振器を移動させることなく、全ての半導体装置領域の予定切断線に沿って半導体基板を切断することも可能である。   In the laser cutting device, the laser light is scanned along a predetermined cutting line by using a scanning means such as a galvanometer mirror without moving the semiconductor substrate, the stage holding the semiconductor substrate, or the laser oscillator. It is also possible to cut the semiconductor substrate along a predetermined cutting line in all the semiconductor device regions.

このようなレーザ切断装置においては、ワークを突き抜けたレーザ光が装置にダメージを与えないように、ワークに対してレーザ発振器とは反対側に、アルミ等の耐火材料により形成されたレーザ受け部材が配置される。特許文献3には、レーザ受け部材で反射したレーザ光がワークに再び照射されないように、ワークに対して平行に配置された平板状のレーザ受け部材にレーザ光の減衰構造や散乱反射構造を付加する方法が開示されている。
特開2005−142303号公報(段落0019〜0022等) 特開2005−238246号公報(段落0014等) 特開平10−328875号公報(段落0021〜0025等)
In such a laser cutting device, a laser receiving member formed of a refractory material such as aluminum is provided on the opposite side of the workpiece from the laser oscillator so that the laser beam penetrating the workpiece does not damage the device. Be placed. In Patent Document 3, a laser beam attenuation structure and a scattering reflection structure are added to a flat plate-shaped laser receiving member arranged parallel to the workpiece so that the laser beam reflected by the laser receiving member is not irradiated again. A method is disclosed.
JP 2005-142303 A (paragraphs 0019 to 0022, etc.) JP-A-2005-238246 (paragraph 0014, etc.) JP-A-10-328875 (paragraphs 0021 to 0025, etc.)

しかしながら、レーザ受け部材に、特許文献3に開示されているようなレーザ光の減衰構造や散乱反射構造を設けると、レーザ受け部材の構造が複雑化し、レーザ受け部材の大型化や高コスト化を招く。   However, if the laser receiving member is provided with a laser light attenuation structure or a scattering reflection structure as disclosed in Patent Document 3, the structure of the laser receiving member becomes complicated, resulting in an increase in size and cost of the laser receiving member. Invite.

また、上記のようなレーザ受け部材が配置される領域が、ワークの切断により発生したすすや塵を除去するための集塵用エアの流路となっている場合がある。しかしながら、従来のレーザ切断装置では、集塵用エアでは除去しきれないすすや塵がワークやレーザ受け部材に付着し、頻繁な清掃が必要であった。   Further, the region where the laser receiving member as described above is arranged may be a dust collecting air flow path for removing soot and dust generated by cutting the workpiece. However, in the conventional laser cutting apparatus, soot and dust that cannot be removed by dust collection air adhere to the workpiece and the laser receiving member, and frequent cleaning is required.

本発明は、簡単な構造のレーザ受け部材を用いて、該レーザ受け部材で反射したレーザ光がワークにダメージを与えることを回避できるようにしたレーザ切断装置を提供することを目的の1つとしている。   One object of the present invention is to provide a laser cutting device that uses a laser receiving member having a simple structure and prevents the laser beam reflected by the laser receiving member from damaging the workpiece. Yes.

また、本発明は、レーザ受け部材を利用して集塵用エアによるすすや塵の除去機能を向上させることができるようにしたレーザ切断装置を提供することを目的の1つとしている。   Another object of the present invention is to provide a laser cutting device that can improve the function of removing soot and dust by air for collecting dust using a laser receiving member.

本発明の一側面としてのレーザ切断装置は、ワーク設置領域に配置されたワークをレーザ光により切断するレーザ切断装置であって、レーザ光を発するレーザ発振器と、集塵用エアの流路内に設けられ、ワーク設置領域を通過したレーザ光を受けるレーザ受け部材とを有する。そして、レーザ受け部材は、該集塵用エアの流れの上流側から下流側に向かってワーク設置領域に近づくレーザ受け面を有することを特徴とする。
A laser cutting device according to one aspect of the present invention is a laser cutting device that cuts a workpiece disposed in a workpiece installation region with a laser beam, and is provided in a laser oscillator that emits the laser beam and a flow path of dust collection air. And a laser receiving member that receives the laser beam that has passed through the workpiece installation region. And a laser receiving member has a laser receiving surface which approaches a workpiece | work installation area | region toward the downstream from the upstream of the flow of this dust collection air, It is characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、レーザ受け面を上記のようにワーク設置領域(つまりはワーク)に近づく傾斜面等とした簡単な構造のレーザ受け部材を用いることで、該レーザ受け部材で反射したレーザ光によるワークのダメージを効果的に回避できる。   According to the present invention, the laser beam reflected by the laser receiving member can be obtained by using the laser receiving member having a simple structure in which the laser receiving surface is an inclined surface or the like approaching the work installation area (that is, the work) as described above. The work damage due to can be effectively avoided.

また、集塵用エアの流路内に配置されたレーザ受け部材に、該エアの上流側から下流側に向かってワーク設置領域に近づくレーザ受け面をレーザ受け部材に設けることにより、該レーザ受け面に沿って流れる集塵用エアの流速を増加させたり集塵用エアの流れの方向をワーク設置領域側に偏向させたりすることができる。この結果、集塵用エアによるすすや塵の除去機能を向上させることができる。   Further, the laser receiving member provided in the dust collecting air flow path is provided with a laser receiving surface that approaches the work installation region from the upstream side to the downstream side of the air, thereby providing the laser receiving member. It is possible to increase the flow velocity of the dust collection air flowing along the surface or to deflect the flow direction of the dust collection air toward the workpiece installation area. As a result, the function of removing soot and dust by the dust collecting air can be improved.

以下、本発明の好ましい実施例について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には、本発明の実施例1であるレーザ切断装置の構成を上方から見て示している。図1において、100はレーザ切断装置である。   FIG. 1 shows a configuration of a laser cutting apparatus that is Embodiment 1 of the present invention as viewed from above. In FIG. 1, 100 is a laser cutting device.

レーザ切断装置100は、基台101と、該基台101上に設置されたレーザ発振器110とを有する。102はレーザ切断加工前の半導体基板120が多数収納された第1基板マガジンであり、不図示の第1搬送機構によって該第1基板マガジン102から半導体基板120が基台101上の第1ポジションIに1つずつ搬送される。   The laser cutting device 100 includes a base 101 and a laser oscillator 110 installed on the base 101. Reference numeral 102 denotes a first substrate magazine in which a large number of semiconductor substrates 120 before laser cutting are stored, and the first substrate I is moved from the first substrate magazine 102 to a first position I on the base 101 by a first transport mechanism (not shown). One by one.

切断加工前の半導体基板120を図4に示す。ここでは、半導体基板の1つとして、メモリカード基板120を例として示す。メモリカード基板120は、複数個のメモリカード用の回路が形成されたプリント配線板上に、メモリチップやコントローラチップが搭載された後、樹脂によって封止(コーティング)されたものである。   The semiconductor substrate 120 before cutting is shown in FIG. Here, a memory card substrate 120 is shown as an example of one of the semiconductor substrates. The memory card substrate 120 is formed by mounting a memory chip or a controller chip on a printed wiring board on which a plurality of memory card circuits are formed, and then sealing (coating) with a resin.

点線130は、メモリカード基板120の予定切断線である。予定切断線130は、図中の水平方向に連続して延びる第1の直線部分131と、垂直方向に連続して延びる第2の直線部分132と、これら第1および第2の直線部分131,132をつなぐ異形線部分としての1/4円弧曲線形状を有する4つのコーナー部分133a〜133dとを有する。但し、予定切断線130は仮想の線であり、実際にメモリカード基板120上に描かれている訳ではなく、レーザ切断部100およびブレード切断部200に設けられたコントローラ(コンピュータ)150内のメモリに記憶されている。   A dotted line 130 is a planned cutting line of the memory card substrate 120. The planned cutting line 130 includes a first straight line portion 131 extending in the horizontal direction in the drawing, a second straight line portion 132 extending in the vertical direction, and the first and second straight line portions 131, 131. And four corner portions 133 a to 133 d having a ¼ arc curve shape as a deformed line portion connecting the 132. However, the planned cutting line 130 is a virtual line, and is not actually drawn on the memory card substrate 120, but is stored in the controller (computer) 150 provided in the laser cutting unit 100 and the blade cutting unit 200. Is remembered.

それぞれ2本の直線部分131,132と4つのコーナー部分133a〜133dとによって囲まれた1つ1つの領域135は、該予定切断線130に沿って基板120を切断することで、そのまま個々の半導体装置としてのメモリカードとなる半導体装置領域である。以下、切断前の該各半導体装置領域(予定切断領域)をメモリカード領域135という。なお、半導体装置としては、IC,LSIといったチップ素子等、メモリカード以外のものであってもよい。   Each region 135 surrounded by the two straight portions 131 and 132 and the four corner portions 133a to 133d is cut into the individual semiconductors by cutting the substrate 120 along the predetermined cutting line 130. This is a semiconductor device area to be a memory card as a device. Hereinafter, each semiconductor device area (planned cutting area) before cutting is referred to as a memory card area 135. The semiconductor device may be other than a memory card, such as a chip element such as an IC or LSI.

図1において、第1ポジションIに配置された基板120は、不図示の第2搬送機構によってレーザ発振器110の正面である第2ポジションIIに搬送される。第2ポジションIIには、後述する可動ステージが設けられており、該可動ステージ上に搬送された基板120は、その下面が負圧吸着されることによって可動ステージ上に固定される。可動ステージは、図2に示すように、メモリカード領域135の中心がレーザ発振器110の中心軸LO上に位置するように駆動される。   In FIG. 1, the substrate 120 disposed at the first position I is transported to a second position II which is the front of the laser oscillator 110 by a second transport mechanism (not shown). A movable stage, which will be described later, is provided at the second position II, and the substrate 120 transported on the movable stage is fixed on the movable stage by the negative pressure adsorption of the lower surface thereof. As shown in FIG. 2, the movable stage is driven so that the center of the memory card area 135 is positioned on the central axis LO of the laser oscillator 110.

レーザ発振器110は、例えば図3に示すように構成されている。レーザ光源111から発せられたレーザ光Lは、ビームエキスパンダ112によってその光束径が拡大された後、走査(スキャン)手段としてのY軸およびX軸用ガルバノミラー113,114によって順次反射される。ガルバノミラー113,114で反射されたレーザ光Lは、f−θレンズ等の集光光学系115によって、切断加工ポジションに配置された基板120上にスポット像を形成する。   The laser oscillator 110 is configured as shown in FIG. 3, for example. The laser light L emitted from the laser light source 111 is reflected by the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 113 and 114 as scanning means after the beam diameter is enlarged by the beam expander 112. The laser light L reflected by the galvanometer mirrors 113 and 114 forms a spot image on the substrate 120 disposed at the cutting position by a condensing optical system 115 such as an f-θ lens.

スポット像は、ガルバノミラー113,114の回転に応じてY軸方向(図4における垂直方向)およびX軸方向(図4における水平方向)に走査される。このため、ガルバノミラー113,114の回転角を制御することによって、レーザ光Lのスポット像を予定切断線130に沿って移動させることができ、これにより基板120における該スポット像の移動軌跡が溶融切削される。こうして、メモリカード135を切り出すことができる。   The spot image is scanned in the Y-axis direction (vertical direction in FIG. 4) and the X-axis direction (horizontal direction in FIG. 4) according to the rotation of the galvanometer mirrors 113 and 114. For this reason, by controlling the rotation angle of the galvanometer mirrors 113 and 114, the spot image of the laser beam L can be moved along the planned cutting line 130, whereby the movement trajectory of the spot image on the substrate 120 is melted. To be cut. Thus, the memory card 135 can be cut out.

すなわち、本実施例のレーザ切断装置100では、1つのメモリカード領域135を切断する際に、基板120をX軸方向およびY軸方向に移動させず、レーザ光Lを走査する。   That is, in the laser cutting apparatus 100 of the present embodiment, when cutting one memory card area 135, the laser beam L is scanned without moving the substrate 120 in the X-axis direction and the Y-axis direction.

なお、本実施例では、レーザ光源111としてはYAGレーザ(波長:1.06μm)が用いられる。また、本実施例では、プリント基板を樹脂コーティングした基板120を切断するに際して、レーザ光の波長を一定とした上で、樹脂部分(後述するパッケージ樹脂層)を切断する場合とプリント基板部分(後述するプリント基板層)を切断する場合とでレーザ光のパルス照射周波数(Qスイッチ周波数)、電流値および切断スピード等を変更する。また、本実施例では、基板120をガス雰囲気中に入れることなくレーザ切断を行う。これにより、レーザ切断部100の構成が簡単になるとともに、直線切断以外を行うことが難しいガス雰囲気中でのレーザ切断とは異なり、曲線等の異形線部分を含む予定切断線130をレーザ光の走査によって基板120を移動させることなく切断することができる。   In this embodiment, a YAG laser (wavelength: 1.06 μm) is used as the laser light source 111. Further, in this embodiment, when cutting the substrate 120 with the resin coating on the printed circuit board, the wavelength of the laser light is made constant and the resin portion (package resin layer described later) is cut and the printed circuit board portion (described later). The pulse irradiation frequency (Q switch frequency), current value, cutting speed, and the like of the laser light are changed depending on when the printed circuit board layer is cut. In this embodiment, laser cutting is performed without placing the substrate 120 in a gas atmosphere. This simplifies the configuration of the laser cutting unit 100 and, unlike laser cutting in a gas atmosphere where it is difficult to perform operations other than linear cutting, the planned cutting line 130 including a deformed line portion such as a curve is converted into the laser beam. The substrate 120 can be cut without being moved by scanning.

また、本実施例のレーザ切断装置100では、基板120における1つのメモリカード領域135の予定切断線130に対する所定量(少量)ずつの切削、すなわちレーザ光の周回走査を複数回繰り返すことで、該メモリーカード領域135を完全に切断する。   Further, in the laser cutting apparatus 100 of the present embodiment, by cutting a predetermined amount (small amount) of the predetermined cutting line 130 in one memory card area 135 in the substrate 120, that is, by repeating the laser beam circumferential scanning a plurality of times, The memory card area 135 is completely cut.

図1において、全てのメモリカード領域135の切断が完了した半導体基板120′は、不図示の第3搬送機構によって第2ポジションII(可動ステージ)上から基台101上の第3ポジションIIIに取り出される。なお、基板120′は、実際にはレーザ切断によって個片化された複数のメモリカードである。この第3ポジションIIIでは、レーザ切断加工により基板120′上に付着したすすや塵等の加工屑が不図示のクリーニング機構によって取り除かれる。そして、クリーニングされた基板120′は、不図示の第4搬送機構によって第3ポジションIIIから第2基板マガジン103に収納される。   In FIG. 1, the semiconductor substrate 120 ′ after cutting all the memory card areas 135 is taken out from the second position II (movable stage) to the third position III on the base 101 by a third transport mechanism (not shown). It is. The substrate 120 'is actually a plurality of memory cards separated by laser cutting. In the third position III, processing waste such as soot and dust adhering to the substrate 120 ′ by laser cutting is removed by a cleaning mechanism (not shown). Then, the cleaned substrate 120 ′ is stored in the second substrate magazine 103 from the third position III by a fourth transport mechanism (not shown).

図2において、160は前述した可動ステージであり、該可動ステージ160には、基板120(メモリカード領域135)の下面を負圧により吸着する吸着ヘッド(支持部材)161が設けられている。   In FIG. 2, reference numeral 160 denotes the movable stage described above, and the movable stage 160 is provided with a suction head (support member) 161 that sucks the lower surface of the substrate 120 (memory card area 135) with a negative pressure.

また、165は、吸着ヘッド161によって吸着されることで基板120が位置決め設置されるワーク設置領域である。ワーク設置領域165の下面(ワーク設置基準面)165aおよび該ワーク設置領域165に配置された基板120の上下面は、レーザ発振器110の中心軸(走査中心軸)LOに対して直交する。   Reference numeral 165 denotes a work placement area where the substrate 120 is positioned and placed by being sucked by the suction head 161. The lower surface (work installation reference plane) 165a of the workpiece installation region 165 and the upper and lower surfaces of the substrate 120 arranged in the workpiece installation region 165 are orthogonal to the central axis (scanning central axis) LO of the laser oscillator 110.

可動ステージ160の内部には、集塵用エアAの流路162がX方向に延びるように形成されている。該流路162には、集塵ポンプ170が接続されており、該集塵ポンプ170の吸引力によって流路162内に集塵用エアAの流れが発生する。   Inside the movable stage 160, a flow path 162 of dust collection air A is formed so as to extend in the X direction. A dust collection pump 170 is connected to the flow path 162, and the flow of dust collection air A is generated in the flow path 162 by the suction force of the dust collection pump 170.

図のようにレーザ発振器110からレーザ光Lを基板120に照射してこれを切断する際には、基板120からすすや塵が発生する。集塵用エアAはこれらすすや塵が基板120や後述するレーザ受け部材180に付着するのを防止し、集塵ポンプ170に取り付けられたフィルタ上に集める役割を有する。   As shown in the figure, soot and dust are generated from the substrate 120 when the substrate 120 is irradiated with the laser beam L from the laser oscillator 110 and cut. The dust collection air A prevents these soot and dust from adhering to the substrate 120 and a laser receiving member 180 described later, and has a role of collecting on a filter attached to the dust collection pump 170.

レーザ受け部材180は、流路162内におけるワーク設置領域165の下方に、該ワーク設置領域165と同等な面積を有するように設けられている。但し、本実施例では、レーザ発振器110の走査中心軸LO上に吸着ヘッド161が設けられているため、レーザ受け部材180はXY面上で該吸着ヘッド161を囲むように設けられている。   The laser receiving member 180 is provided below the work installation area 165 in the flow path 162 so as to have an area equivalent to the work installation area 165. However, in this embodiment, since the suction head 161 is provided on the scanning center axis LO of the laser oscillator 110, the laser receiving member 180 is provided so as to surround the suction head 161 on the XY plane.

レーザ受け部材180は、アルミやセラミックス等、耐熱性(耐火性)や放熱性に優れた材料により形成するのが好ましい。   The laser receiving member 180 is preferably formed of a material having excellent heat resistance (fire resistance) and heat dissipation, such as aluminum and ceramics.

レーザ受け部材180の上面(表面)は、ワーク設置領域165に設置された基板120を切断してこれを通過したレーザ光Lを受けるレーザ受け面181である。   The upper surface (front surface) of the laser receiving member 180 is a laser receiving surface 181 that receives the laser light L that has been cut through the substrate 120 installed in the work installation region 165 and passed therethrough.

レーザ受け面181は、その外側部分E1,E2から内側、つまりは中心側の部分C1,C2に向かって、ワーク設置領域165に連続して近づくように、すなわち斜め上方に向かって延びるように傾斜している。なお、部分C1,C2は、吸着ヘッド161の側面に沿った部分である。   The laser receiving surface 181 is inclined so as to continuously approach the workpiece installation region 165 from the outer portions E1 and E2 toward the inside, that is, the center-side portions C1 and C2, that is, obliquely upward. is doing. The portions C1 and C2 are portions along the side surface of the suction head 161.

また、言い換えれば、レーザ受け面181は、レーザ光の走査中心軸LOおよび吸着ヘッド161に近いほどワーク設置領域165に連続して近づくように傾斜している。   In other words, the laser receiving surface 181 is inclined so as to continuously approach the workpiece installation region 165 as it is closer to the scanning center axis LO of the laser light and the suction head 161.

一方、図2において、レーザ受け面181のうち吸着ヘッド161よりも左側の部分(以下、上流側レーザ受け面という)181aに注目すると、該上流側レーザ受け面181aは、流路162(つまりは集塵用エアAの流れ)の上流側から下流側に向かってワーク設置領域165に徐々に近づくように傾斜している。これに対し、レーザ受け面181のうち吸着ヘッド161よりも右側の部分(以下、下流側レーザ受け面という)181bは、上流側から下流側に向かってワーク設置領域165から徐々に離れるように、すなわち斜め下方に向かって延びるように傾斜している。   On the other hand, in FIG. 2, when attention is paid to a portion 181a on the left side of the laser receiving surface 181 (hereinafter referred to as an upstream laser receiving surface) 181a, the upstream laser receiving surface 181a It is inclined so as to gradually approach the workpiece installation region 165 from the upstream side to the downstream side of the flow of dust collection air A). On the other hand, a portion of the laser receiving surface 181 on the right side of the suction head 161 (hereinafter referred to as a downstream laser receiving surface) 181b is gradually separated from the workpiece installation region 165 from the upstream side toward the downstream side. That is, it is inclined so as to extend obliquely downward.

なお、レーザ受け面181がワーク設置領域165に近づく又は遠ざかるように傾斜しているとは、前述したワーク設置基準面165aに対して傾斜している又は非平行であると言い換えることもできる。   Note that the fact that the laser receiving surface 181 is inclined so as to approach or move away from the workpiece installation region 165 can also be said to be inclined or non-parallel to the workpiece installation reference surface 165a.

基板120(ワーク設置領域165)を通過してレーザ受け面181に入射したレーザ光Lは、該レーザ受け面181が傾斜していることで、図5に示すように、その走査位置、つまりはレーザ受け面181に対する入射角度にかかわらず、ワーク設置領域165とは異なる方向に反射する。言い換えれば、レーザ受け面181で反射したレーザ光Lがワーク設置領域165に向かわないように、レーザ受け面181のワーク設置基準面165aに対する傾斜角度θを設定することが望ましい。   The laser beam L that has entered the laser receiving surface 181 after passing through the substrate 120 (work setting area 165) is inclined, as shown in FIG. 5, because the laser receiving surface 181 is inclined. Irrespective of the incident angle with respect to the laser receiving surface 181, the light is reflected in a direction different from that of the workpiece installation region 165. In other words, it is desirable to set the inclination angle θ of the laser receiving surface 181 with respect to the workpiece setting reference surface 165a so that the laser light L reflected by the laser receiving surface 181 does not go to the workpiece setting region 165.

なお、傾斜したレーザ受け面181に、梨地形状や微細な山と谷が交互に並んだ形状等、レーザ光を散乱反射させる形状を設けてもよい。この場合、微視的に見れば、散乱形状の表面は連続的にワーク設置領域165に近づいたりそれから離れたりはしないが、散乱形状のベース面としてのレーザ受け面181は、連続的にワーク設置領域165に近づいたりそれから離れたりしている。本発明では、このような場合も含めて、レーザ受け面が連続的にワーク設置領域に近づく(又は離れる)ように傾斜しているという。   The inclined laser receiving surface 181 may be provided with a shape for scattering and reflecting laser light, such as a satin shape or a shape in which fine peaks and valleys are alternately arranged. In this case, when viewed microscopically, the scattering-shaped surface does not continuously approach or separate from the workpiece placement region 165, but the laser receiving surface 181 as the scattering-shaped base surface continuously places the workpiece. Approaching or leaving the region 165. In the present invention, including such a case, the laser receiving surface is inclined so as to continuously approach (or leave) the workpiece installation area.

また、本実施例のレーザ受け面181は、中心側部分C1,C2が最もワーク設置領域165に近く、外側部分E1,E2がワーク設置領域165から最も離れている。これに対し、例えば、一方の外側部分E1がワーク設置領域165から最も離れ、他方の外側部分E2がワーク設置領域165に最も近づくように、レーザ受け面を一端側から他端側まで連続的に傾いた一方向傾斜面として形成してもよい。   Further, in the laser receiving surface 181 of this embodiment, the center side portions C1 and C2 are closest to the workpiece installation region 165, and the outer portions E1 and E2 are farthest from the workpiece installation region 165. On the other hand, for example, the laser receiving surface is continuously extended from one end side to the other end side so that one outer portion E1 is farthest from the workpiece placement region 165 and the other outer portion E2 is closest to the workpiece placement region 165. It may be formed as an inclined unidirectional inclined surface.

但し、この場合、レーザ受け部材の全体としての高さが増加し、その分、可動ステージ160の厚みが増加したり、流路162の断面積が大きくなって集塵用エアAの流速が低下したりする。したがって、レーザ受け面181は、中心側部分C1,C2が最もワーク設置領域165に近く、外側部分E1,E2がワーク設置領域165から最も離れるように形成することが望ましい。但し、本発明は、レーザ受け面を上述した一方向傾斜面とする場合を含む。   However, in this case, the overall height of the laser receiving member is increased, and accordingly, the thickness of the movable stage 160 is increased, or the cross-sectional area of the flow path 162 is increased and the flow velocity of the dust collection air A is decreased. To do. Therefore, it is desirable that the laser receiving surface 181 be formed so that the center side portions C1 and C2 are closest to the workpiece installation region 165 and the outer portions E1 and E2 are farthest from the workpiece installation region 165. However, the present invention includes the case where the laser receiving surface is the one-way inclined surface described above.

また、本実施例では、上流側レーザ受け面181aが流路162の上流側から下流側に向かってワーク設置領域165に連続して近づくように傾斜している。これにより、流路162の断面積は、上流側レーザ受け面181aの外側部分E1の位置から中心側部分C1の位置にかけて徐々に小さくなる。このため、ここを流れる集塵用エアAの流速が、中心側部分C1に向かって増加する。しかも、基板120付近の集塵用エアAの流れが、上流側レーザ受け面181aのガイド機能によって基板120側に偏向される。したがって、集塵ポンプ170の吸引能力を変更することなく、集塵性能を向上させることができる。   In this embodiment, the upstream laser receiving surface 181a is inclined so as to continuously approach the workpiece installation region 165 from the upstream side to the downstream side of the flow path 162. Thereby, the cross-sectional area of the flow path 162 gradually decreases from the position of the outer portion E1 of the upstream laser receiving surface 181a to the position of the center side portion C1. For this reason, the flow velocity of the air A for dust collection flowing here increases toward the center side portion C1. Moreover, the flow of the dust collection air A in the vicinity of the substrate 120 is deflected toward the substrate 120 by the guide function of the upstream laser receiving surface 181a. Therefore, the dust collection performance can be improved without changing the suction capability of the dust collection pump 170.

さらに、レーザ受け面181に沿って流れる集塵用エアAの流速が増加することで、レーザ受け部材180を効率良く冷却することができる。   Further, the flow rate of the dust collection air A flowing along the laser receiving surface 181 increases, whereby the laser receiving member 180 can be efficiently cooled.

なお、本実施例では、図4を用いて説明したように、基板120には、複数のメモリカード領域135が形成されているため、実際の可動ステージ160の構成は、図6に示すようになる。すなわち、可動ステージ160には、複数の吸着ヘッド161が所定間隔で設けられ、各吸着ヘッド161の周囲に、傾斜したレーザ受け面を有するレーザ受け部材180が設けられる。この場合、図7に示すように、レーザ受け部材180をメモリカード領域135(吸着ヘッド161)ごとに設けてもよいし、図8に示すように、レーザ受け部材180を複数のメモリカード領域135(吸着ヘッド161)ごとに設けてもよい。   In the present embodiment, as described with reference to FIG. 4, since a plurality of memory card areas 135 are formed on the substrate 120, the actual configuration of the movable stage 160 is as shown in FIG. Become. That is, the movable stage 160 is provided with a plurality of suction heads 161 at predetermined intervals, and a laser receiving member 180 having an inclined laser receiving surface is provided around each suction head 161. In this case, as shown in FIG. 7, a laser receiving member 180 may be provided for each memory card area 135 (suction head 161). As shown in FIG. It may be provided for each (suction head 161).

図7及び図8の上側の図は上面図であり、下側の図は側面図である。図7では、吸着ヘッド161ごとに、吸着ヘッド161を中心とした円錐台形状のレーザ受け部材180が設けられている。また、図8では、複数の吸着ヘッド161により構成される吸着ヘッド列ごとに、側面視において山形断面を有して該吸着ヘッド列の方向に延びるレーザ受け部材180が設けられている。   7 and 8 is a top view, and the lower view is a side view. In FIG. 7, each of the suction heads 161 is provided with a truncated cone-shaped laser receiving member 180 centered on the suction head 161. In FIG. 8, a laser receiving member 180 having a mountain-shaped cross section in a side view and extending in the direction of the suction head row is provided for each suction head row composed of a plurality of suction heads 161.

図9には、本発明の実施例2であるレーザ切断装置の構成を示している。実施例1では、レーザ発振器としてレーザ光の走査が可能なタイプを用いた場合について説明したが、本実施例では、レーザ発振器として一定方向にのみレーザ光を射出するタイプを用い、半導体基板が設置された可動ステージをXY方向に駆動することで、基板を予定切断線に沿って切断する装置について説明する。   FIG. 9 shows the configuration of a laser cutting apparatus that is Embodiment 2 of the present invention. In the first embodiment, a case where a laser beam capable of scanning with laser light is used as the laser oscillator has been described. In this embodiment, a laser oscillator that emits laser light only in a certain direction is used, and a semiconductor substrate is installed. An apparatus for cutting the substrate along the predetermined cutting line by driving the movable stage in the XY directions will be described.

図9において、260は可動ステージである。該可動ステージ260には、基板120におけるメモリカード領域135の下面を負圧により吸着する吸着ヘッド261が設けられている。   In FIG. 9, 260 is a movable stage. The movable stage 260 is provided with a suction head 261 that sucks the lower surface of the memory card area 135 on the substrate 120 with a negative pressure.

また、265は、吸着ヘッド261によって吸着されることで基板120が設置されるワーク設置領域である。ワーク設置領域265の下面であるワーク設置基準面265aおよび該ワーク設置領域265に配置された基板120の上下面は、レーザ発振器210の中心軸LOに対して直交する。   Reference numeral 265 denotes a work placement area where the substrate 120 is placed by being sucked by the suction head 261. The workpiece placement reference surface 265 a that is the lower surface of the workpiece placement region 265 and the upper and lower surfaces of the substrate 120 disposed in the workpiece placement region 265 are orthogonal to the central axis LO of the laser oscillator 210.

レーザ発振器210は、不図示のレーザ光源と、該レーザ光源から発せられたレーザ光を中心軸LOに沿った方向(真下方向)に集光する光学系とを有する。   The laser oscillator 210 includes a laser light source (not shown) and an optical system that condenses the laser light emitted from the laser light source in a direction (directly downward direction) along the central axis LO.

可動ステージ260の内部には、集塵用エアAの流路262がX方向に延びるように形成されている。該流路262には、集塵ポンプ170が接続されており、該集塵ポンプ170の吸引力によって流路262内に集塵用エアAの流れが発生する。   Inside the movable stage 260, a flow path 262 of dust collection air A is formed so as to extend in the X direction. A dust collection pump 170 is connected to the flow path 262, and the flow of dust collection air A is generated in the flow path 262 by the suction force of the dust collection pump 170.

280はレーザ受け部材であり、流路262内におけるワーク設置領域265の下方に、該ワーク設置領域265と同等の面積を有するように設けられている。   A laser receiving member 280 is provided below the work installation area 265 in the flow path 262 so as to have an area equivalent to the work installation area 265.

レーザ受け部材280は、アルミやセラミックス等、耐熱性(耐火性)や放熱性に優れた材料により形成するのが好ましい。   The laser receiving member 280 is preferably formed of a material excellent in heat resistance (fire resistance) and heat dissipation, such as aluminum and ceramics.

レーザ受け部材280の上面(表面)は、ワーク設置領域265に設置された基板120を切断してこれを通過したレーザ光Lを受けるレーザ受け面281である。   The upper surface (front surface) of the laser receiving member 280 is a laser receiving surface 281 that receives the laser light L that has been cut through the substrate 120 installed in the work installation region 265 and passed therethrough.

レーザ受け面281は、その外側部分E1,E2から中心側部分C1,C2に向かって、ワーク設置領域265に連続して近づくように傾斜している。また、レーザ受け面281は、吸着ヘッド261に近いほどワーク設置領域265に連続して近づくように傾斜している。   The laser receiving surface 281 is inclined so as to continuously approach the workpiece installation area 265 from the outer portions E1 and E2 toward the center-side portions C1 and C2. Further, the laser receiving surface 281 is inclined so as to continuously approach the workpiece installation area 265 as it is closer to the suction head 261.

さらに、レーザ受け面281のうち上流側レーザ受け面281aは、流路262の上流側から下流側に向かってワーク設置領域265に連続して近づくように傾斜している。これに対し、レーザ受け面281のうち下流側レーザ受け面281bは、流路262の上流側から下流側に向かってワーク設置領域265から連続して離れるように傾斜している。   Further, of the laser receiving surfaces 281, the upstream laser receiving surface 281 a is inclined so as to continuously approach the workpiece installation region 265 from the upstream side to the downstream side of the flow path 262. On the other hand, the downstream laser receiving surface 281b of the laser receiving surface 281 is inclined so as to be continuously away from the work installation region 265 from the upstream side to the downstream side of the flow path 262.

なお、レーザ受け面281がワーク設置領域265に近づく又は遠ざかるように傾斜しているとは、前述したワーク設置基準面265aに対して傾斜している又は非平行であると言い換えることもできる。   In addition, the fact that the laser receiving surface 281 is inclined so as to approach or move away from the workpiece installation area 265 can also be said to be inclined or non-parallel to the workpiece installation reference surface 265a.

レーザ受け面281に入射したレーザ光L(各光線)は、該レーザ受け面281が傾斜していることで、ワーク設置領域265とは異なる方向に反射する。言い換えれば、レーザ受け面281で反射したレーザ光Lがワーク設置領域265に向かわないように、レーザ受け面281のワーク設置基準面265aに対する傾斜角度を設定することが望ましい。   The laser light L (each light beam) incident on the laser receiving surface 281 is reflected in a direction different from the workpiece installation region 265 because the laser receiving surface 281 is inclined. In other words, it is desirable to set an inclination angle of the laser receiving surface 281 with respect to the workpiece setting reference surface 265a so that the laser light L reflected by the laser receiving surface 281 does not go to the workpiece setting region 265.

なお、本実施例でも、傾斜したレーザ受け面281に、梨地形状やごく小さな山と谷が交互に並んだ形状等、レーザ光を散乱反射させる形状を設けてもよい。この場合も、散乱形状のベース面としてのレーザ受け面282は連続的にワーク設置領域265に近づく(又は離れる)と考えてよい。   Also in this embodiment, the inclined laser receiving surface 281 may be provided with a shape for scattering and reflecting laser light, such as a satin shape or a shape in which very small peaks and valleys are alternately arranged. In this case as well, it may be considered that the laser receiving surface 282 as the scattering-shaped base surface continuously approaches (or leaves) the workpiece installation region 265.

また、本実施例のレーザ受け面281は、中心側部分C1,C2が最もワーク設置領域265に近く、外側部分E1,E2がワーク設置領域265から最も離れている。しかし、例えば、外側部分E1がワーク設置領域265から最も離れ、外側部分E2がワーク設置領域265に最も近づくようにレーザ受け面を一方向傾斜面として形成してもよい。   Further, in the laser receiving surface 281 of this embodiment, the center side portions C1 and C2 are closest to the workpiece installation region 265, and the outer portions E1 and E2 are farthest from the workpiece installation region 265. However, for example, the laser receiving surface may be formed as a unidirectional inclined surface so that the outer portion E1 is farthest from the workpiece placement region 265 and the outer portion E2 is closest to the workpiece placement region 265.

また、本実施例でも、上流側レーザ受け面281aが流路262の上流側から下流側に向かってワーク設置領域165に連続して近づくように傾斜している。これにより、流路262の断面積は、上流側レーザ受け面281aの端側の部分E1から中心側の部分Cにかけて徐々に小さくなる。このため、ここを流れる集塵用エアAの流速が、中心側の部分Cに向かって増加する。しかも、基板120付近の集塵用エアAの流れが、上流側レーザ受け面281aのガイド機能によって基板120側に偏向される。したがって、集塵ポンプ170の吸引能力を変更することなく、集塵性能を向上させることができる。   Also in this embodiment, the upstream laser receiving surface 281a is inclined so as to continuously approach the workpiece installation region 165 from the upstream side to the downstream side of the flow path 262. Accordingly, the cross-sectional area of the flow path 262 gradually decreases from the end portion E1 of the upstream laser receiving surface 281a to the central portion C. For this reason, the flow velocity of the dust collecting air A flowing there increases toward the center portion C. Moreover, the flow of dust collection air A in the vicinity of the substrate 120 is deflected toward the substrate 120 by the guide function of the upstream laser receiving surface 281a. Therefore, the dust collection performance can be improved without changing the suction capability of the dust collection pump 170.

なお、上記各実施例では、レーザ受け部材のレーザ受け面を傾斜面(平面状の面)とした場合について説明したが、レーザ受け面を、凹面等の曲面に形成してもよい。   In each of the above embodiments, the case where the laser receiving surface of the laser receiving member is an inclined surface (planar surface) has been described, but the laser receiving surface may be formed as a curved surface such as a concave surface.

本発明の実施例1であるレーザ切断装置の平面図。1 is a plan view of a laser cutting apparatus that is Embodiment 1 of the present invention. 実施例1のレーザ切断装置における可動ステージの断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of a movable stage in the laser cutting apparatus according to the first embodiment. 実施例1のレーザ切断装置におけるレーザ発振器の構成を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of a laser oscillator in the laser cutting device according to the first embodiment. 実施例1のレーザ切断装置により切断される半導体基板の平面図。FIG. 3 is a plan view of a semiconductor substrate cut by the laser cutting apparatus according to the first embodiment. 実施例1のレーザ切断装置におけるレーザ受け部材の反射作用を説明する図。FIG. 3 is a diagram for explaining a reflection action of a laser receiving member in the laser cutting device according to the first embodiment. 実施例1のレーザ切断装置における可動ステージの断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of a movable stage in the laser cutting apparatus according to the first embodiment. 実施例1のレーザ切断装置におけるレーザ受け部材の形状例を示す上面図及び側面図。FIG. 3 is a top view and a side view showing a shape example of a laser receiving member in the laser cutting device of Embodiment 1. 実施例1のレーザ切断装置におけるレーザ受け部材の他の形状例を示す上面図及び側面図。The top view and side view which show the other example of a shape of the laser receiving member in the laser cutting apparatus of Example 1. FIG. 本発明の実施例2であるレーザ切断装置における可動ステージの断面図。Sectional drawing of the movable stage in the laser cutting device which is Example 2 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100,200 レーザ切断装置
110 レーザ発振器
111 レーザ光源
113,114 ガルバノミラー
120,120′ メモリカード基板
130 予定切断線
135 メモリカード領域
161 吸着ヘッド
180,280 レーザ受け部材
181,281 レーザ受け面
L レーザ光
LO 走査中心軸
A 集塵用エア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100,200 Laser cutting device 110 Laser oscillator 111 Laser light source 113,114 Galvano mirror 120,120 'Memory card board 130 Planned cutting line 135 Memory card area 161 Adsorption head 180,280 Laser receiving member 181,281 Laser receiving surface L Laser light LO Scanning center axis A Dust collection air

Claims (5)

ワーク設置領域に配置されたワークをレーザ光により切断するレーザ切断装置であって、
レーザ光を発するレーザ発振器と、
集塵用エアの流路内に設けられ、前記ワーク設置領域を通過したレーザ光を受けるレーザ受け部材とを有し、
前記レーザ受け部材は、該集塵用エアの流れの上流側から下流側に向かって前記ワーク設置領域に近づくレーザ受け面を有することを特徴とするレーザ切断装置。
A laser cutting device for cutting a workpiece placed in a workpiece installation area with a laser beam,
A laser oscillator that emits laser light;
A laser receiving member that is provided in the dust collecting air flow path and receives the laser beam that has passed through the workpiece installation region;
The laser cutting device, wherein the laser receiving member has a laser receiving surface that approaches the work installation area from the upstream side to the downstream side of the flow of the dust collection air.
前記レーザ受け面は、該レーザ受け部材の外側部分から内側部分に向かって前記ワーク設置領域に近づくことを特徴とする請求項1に記載のレーザ切断装置。 The laser cutting device according to claim 1, wherein the laser receiving surface approaches the workpiece installation region from an outer portion to an inner portion of the laser receiving member . 前記レーザ発振器は、前記レーザ光の走査が可能であり、
前記レーザ受け面は、該レーザ光の走査中心軸に近いほど前記ワーク設置領域に近づくことを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ切断装置。
The laser oscillator is capable of scanning the laser beam,
3. The laser cutting device according to claim 1 , wherein the laser receiving surface is closer to the workpiece installation region as being closer to a scanning center axis of the laser light . 4.
前記ワークにおける前記レーザ受け部材側の面を支持する支持部材を有しており、
前記レーザ受け面は、前記支持部材に近いほど前記ワーク設置領域に近づくことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のレーザ切断装置。
A support member for supporting the laser receiving member side surface of the workpiece;
4. The laser cutting device according to claim 1 , wherein the laser receiving surface is closer to the workpiece installation region as being closer to the support member . 5.
前記ワークは半導体基板であり、該ワークに形成された半導体装置領域を切断することを特徴とする請求項に記載のレーザ切断装置。 The laser cutting apparatus according to claim 1 , wherein the workpiece is a semiconductor substrate and cuts a semiconductor device region formed in the workpiece.
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