JP4974107B2 - Method for producing benzene compound - Google Patents

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Description

本発明は、ベンゼン化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a benzene compound.

多置換のベンゼン化合物は、エレクトロルミネッセンス、レドックスキャパシタ等の有用な機能性物質として、幅広い産業分野において利用が期待される化合物である。   Multi-substituted benzene compounds are compounds that are expected to be used in a wide range of industrial fields as useful functional materials such as electroluminescence and redox capacitors.

例えば、ヘキサアリールベンゼン及びその誘導体は、特許文献1及び特許文献2では、有機電界発光素子として使用され、特許文献3では、リチウム電池の非水電解液の添加剤として使用されている。   For example, hexaarylbenzene and its derivatives are used as an organic electroluminescent element in Patent Document 1 and Patent Document 2, and are used as an additive for a non-aqueous electrolyte of a lithium battery in Patent Document 3.

多置換ベンゼン誘導体の製造法については、今日まで種々の提案がなされており、最も簡便且つ直接的な合成法として、Ni、Pd、Co、Ti、Ru、Rh等の遷移金属触媒存在下、アルキン化合物を加熱して環状三量化する反応が報告されている(非特許文献1〜6)。   Various proposals have been made to date for the production of multi-substituted benzene derivatives. The simplest and most direct synthesis method is the presence of transition metal catalysts such as Ni, Pd, Co, Ti, Ru, Rh, and alkynes. Reaction which heats a compound and carries out cyclic trimerization is reported (nonpatent literature 1-6).

しかしながら、非特許文献1〜6に記載されている方法では、非対称のジ置換アルキン化合物を用いて環状三量化反応を行った場合、多置換ベンゼン化合物が低収率で得られるに過ぎず、また非対称の多置換ベンゼン化合物を選択的に製造し得ない。
特開2005−285410 特開2006−49438 特開2001−15158 J. Organomet. Chem., 2003, 683, 295-300 Organometallics, 2002, 21, 5029-5037 J. Mol. Catal., 1985, 32, 101-105 Z. Naturforsch., B: Chem. Sci., 1984, 39B, 180-184 Chem.Ber., 1960, 93, 103-115 J. Mol. Catal., 1987, 40, 337-357
However, in the methods described in Non-Patent Documents 1 to 6, when a cyclic trimerization reaction is performed using an asymmetric disubstituted alkyne compound, a polysubstituted benzene compound is only obtained in a low yield. Asymmetric polysubstituted benzene compounds cannot be selectively produced.
JP 2005-285410 A JP 2006-49438 A JP2001-15158 J. Organomet. Chem., 2003, 683, 295-300 Organometallics, 2002, 21, 5029-5037 J. Mol. Catal., 1985, 32, 101-105 Z. Naturforsch., B: Chem. Sci., 1984, 39B, 180-184 Chem.Ber., 1960, 93, 103-115 J. Mol. Catal., 1987, 40, 337-357

本発明の課題は、アルキン化合物を環状三量化反応させて相当するベンゼン化合物を高収率で、更に非対称の多置換ベンゼン化合物を高選択的に製造し得る方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method by which an alkyne compound can be subjected to cyclic trimerization to produce a corresponding benzene compound in a high yield and, moreover, an asymmetric polysubstituted benzene compound can be produced with high selectivity.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねてきた。その結果、非特許文献1〜6に教示も示唆もないハロゲン化ロジウムを使用し、しかも反応系内にハロゲン化ロジウムと第三級アミン化合物とを共存させることにより、アルキン化合物から所望のベンゼン化合物を高収率で製造できること、及び非対称の多置換ベンゼン化合物においては高収率で且つ高選択的に製造できることを見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, the desired benzene compound is obtained from the alkyne compound by using rhodium halide which is not taught or suggested in Non-Patent Documents 1 to 6 and coexisting rhodium halide and a tertiary amine compound in the reaction system. It was found that can be produced in a high yield, and that an asymmetric polysubstituted benzene compound can be produced in a high yield and with a high selectivity. The present invention has been completed based on such findings.

本発明は、下記項1〜8に係る製造方法を提供する。
項1.ハロゲン化ロジウム及び第三級アミン化合物の共存下に、一般式(1)
The present invention provides manufacturing methods according to items 1 to 8 below.
Item 1. In the presence of rhodium halide and a tertiary amine compound, the compound represented by the general formula (1)

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、C1-15アルキル基、置換基を有することのあるフェニル基、C1-4アルコキシC1-4アルキル基、C1-4アルキルカルボニル基、置換基を有することのあるベンゾイル基、C1-4アルコキシカルボニル基、トリ(C1-4アルキル)シリル基、トリ(C1-4アルコキシ)シリル基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。但し、R1及びR2が同時に水素原子を示すことはない。]
で表されるアルキン化合物を三量化反応させて、一般式(2)
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a C 1-15 alkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl group, C 1 -4 alkylcarbonyl group, benzoyl group which may have a substituent, C 1-4 alkoxycarbonyl group, tri (C 1-4 alkyl) silyl group, tri (C 1-4 alkoxy) silyl group, cyano group, halogen The heterocyclic group which may have an atom, a nitro group, or a substituent is shown. However, R 1 and R 2 do not represent a hydrogen atom at the same time. ]
The alkyne compound represented by general formula (2)

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、R1及びR2は前記に同じ。]
で表されるベンゼン化合物を製造する、ベンゼン化合物の製造方法。
項2.ハロゲン化ロジウムがフッ化ロジウム、塩化ロジウム、臭化ロジウム、ヨウ化ロジウム及びそれらの水和物からなる群から選ばれる少なくとも1種である項1に記載の製造方法。
項3.ハロゲン化ロジウムが塩化ロジウム及びその水和物からなる群から選ばれる少なくとも1種である項1に記載の製造方法。
項4.一般式(1)で表されるアルキン化合物1モルに対して、ハロゲン化ロジウムを0.015〜2モル程度使用する項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
項5.ハロゲン化ロジウム1モルに対して、第三級アミン化合物を1.2〜10モル程度使用する項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
項6.一般式(1)のアルキン化合物が、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、C1-8アルキル基、置換基を有することのあるフェニル基又はC1-4アルコキシカルボニル基を示すアルキン化合物である項1に記載の製造方法。
項7.芳香族炭化水素系溶媒中で反応を行う上記1〜6のいずれかに記載の製造方法。
項8.加熱還流下に反応を行う上記1〜7のいずれかに記載の製造方法。
[Wherein, R 1 and R 2 are the same as defined above. ]
The manufacturing method of a benzene compound which manufactures the benzene compound represented by these.
Item 2. Item 2. The production method according to Item 1, wherein the rhodium halide is at least one selected from the group consisting of rhodium fluoride, rhodium chloride, rhodium bromide, rhodium iodide and hydrates thereof.
Item 3. Item 2. The method according to Item 1, wherein the rhodium halide is at least one selected from the group consisting of rhodium chloride and hydrates thereof.
Item 4. Item 4. The production method according to any one of Items 1 to 3, wherein about 0.015 to 2 mol of rhodium halide is used with respect to 1 mol of the alkyne compound represented by the general formula (1).
Item 5. Item 5. The production method according to any one of Items 1 to 4, wherein the tertiary amine compound is used in an amount of about 1.2 to 10 mol per 1 mol of rhodium halide.
Item 6. In the alkyne compound of the general formula (1), R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a C 1-8 alkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a C 1-4 alkoxycarbonyl group. The manufacturing method of claim | item 1 which is an alkyne compound to show.
Item 7. 7. The production method according to any one of 1 to 6 above, wherein the reaction is carried out in an aromatic hydrocarbon solvent.
Item 8. 8. The production method according to any one of 1 to 7 above, wherein the reaction is performed under heating and reflux.

本明細書において、各基は以下のものを示す。   In this specification, each group shows the following.

1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、オクチル基等の炭素数1〜8の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。 Examples of the C 1-8 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and an isopentyl group. And linear or branched alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms such as neopentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, isohexyl group and octyl group.

1-15アルキル基としては、例えば、前記C1-8アルキル基で例示した基に加えて、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基等の炭素数1〜15の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。 Examples of the C 1-15 alkyl group include, in addition to the groups exemplified for the C 1-8 alkyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, an n-undecyl group, an n-dodecyl group, and an n-tridecyl group. C1-C15 linear or branched alkyl groups, such as n-tetradecyl group and n-pentadecyl group.

1-4アルコキシC1-4アルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基等の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が置換した炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl group include straight chain having 1 to 4 carbon atoms such as methoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, n-propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, and the like. C1-C4 linear or branched alkyl group which the branched alkoxy group substituted is mentioned.

1-4アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基(アセチル基)、エチルカルボニル基(プロピオニル基)、n−プロピルカルボニル基(ブチリル基)、イソプロピルカルボニル基(イソブチリル基)、n−ブチルカルボニル基(バレリル基)、イソブチルカルボニル基(イソバレリル基)、sec−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基等の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基とカルボニル基とが結合した基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkylcarbonyl group include a methylcarbonyl group (acetyl group), an ethylcarbonyl group (propionyl group), an n-propylcarbonyl group (butyryl group), an isopropylcarbonyl group (isobutyryl group), and n-butylcarbonyl. A group in which a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a group (valeryl group), isobutylcarbonyl group (isovaleryl group), sec-butylcarbonyl group, tert-butylcarbonyl group, and the carbonyl group is bonded Is mentioned.

1-4アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシとカルボニル基とが結合した基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, tert A group in which a linear or branched alkoxy having 1 to 4 carbon atoms such as a butoxycarbonyl group and a carbonyl group are bonded to each other is exemplified.

トリ(C1-4アルキル)シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等の同一種又は異種の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が3個置換したシリル基が挙げられる。 Examples of the tri (C 1-4 alkyl) silyl group include three linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms of the same or different types such as a trimethylsilyl group and a tert-butyldimethylsilyl group. Examples include substituted silyl groups.

トリ(C1-4アルコキシ)シリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、ジメトキシエトキシシリル基等の同一種又は異種の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基が3個置換したシリル基が挙げられる。 Examples of the tri (C 1-4 alkoxy) silyl group include three linear or branched alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms of the same type or different types such as a trimethoxysilyl group and a dimethoxyethoxysilyl group. Examples include substituted silyl groups.

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。   As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example.

複素環基としては、例えば、チエニル、フリル、テトラヒドロフリル、ジオキソラニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソキサゾリニル、チアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリニル、ピラゾリル、ピラゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、オキサジアゾリル、オキサジアゾリニル、チアジアゾリニル、トリアゾリル、トリアゾリニル、トリアゾリジニル、テトラゾリル、テトラゾリニル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、ピペリジル、オキサジニル、ジヒドロオキサジニル、モルホリノ、チアジニル、ジヒドロチアジニル、チアモルホリノ、ピリダジニル、ジヒドロピリダジニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリダジニル、オキサジアジニル、ジヒドロオキサジアジニル、テトラヒドロオキサジアジニル、チアジアゾリル、チアジアジニル、ジヒドロチアジアジニル、テトラヒドロチアジアジニル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、テトラヒドロピリミジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、テトラヒドロピラジニル、ピペラジニル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、テトラヒドロトリアジニル、ヘキサヒドロトリアジニル、テトラジニル、ジヒドロテトラジニル、インドリル、インドリニル、イソインドリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリル、テトラヒドロキナゾリル、カルバゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサゾリニル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイソチアゾリニル、ベンゾイミダゾリル、インダゾリニル、キノリニル、ジヒドロキノリニル、テトラヒドロキノリニル、イソキノリニル、ジヒドロイソキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、ピリドインドリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、シンノリニル、ジヒドロシンノリニル、テトラヒドロシンノリル、フタラジニル、ジヒドロフタラジニル、テトラヒドロフタラジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキノキサリニル、プリニル、ジヒドロベンゾトリアジニル、ジヒドロベンゾテトラジニル、フェノチアジニルフラニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル等が挙げられる。これら複素環基は置換可能な任意の位置にオキソ体又はチオケトン体となっているものも含むことができ、また、これら複素環基は置換可能な任意の位置に適当な置換基が置換されてもよい。   Examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, tetrahydrofuryl, dioxolanyl, pyrrolyl, pyrrolinyl, pyrrolidinyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxazolinyl, oxazolidinyl, isoxazolinyl, thiazolyl, isothiazolyl, thiazolinyl, thiazolidinyl, isothiazolidinyl, pyrazolyridylyl, pyrazolidridyl, , Imidazolidinyl, oxadiazolyl, oxadiazolinyl, thiadiazolinyl, triazolyl, triazolinyl, triazolidinyl, tetrazolyl, tetrazolinyl, pyridyl, dihydropyridyl, tetrahydropyridyl, piperidyl, oxazinyl, dihydrooxazinyl, morpholino, thiazinyl, thiazinyl , Dihydropi Dazinyl, tetrahydropyridazinyl, hexahydropyridazinyl, oxadiazinyl, dihydrooxadiazinyl, tetrahydrooxadiazinyl, thiadiazolyl, thiadiazinyl, dihydrothiadiazinyl, tetrahydrothiadiazinyl, pyrimidinyl, dihydropyrimidinyl, tetrahydropyrimidinyl , Hexahydropyrimidinyl, pyrazinyl, dihydropyrazinyl, tetrahydropyrazinyl, piperazinyl, triazinyl, dihydrotriazinyl, tetrahydrotriazinyl, hexahydrotriazinyl, tetrazinyl, dihydrotetrazinyl, indolyl, indolinyl, isoindolyl, Indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolyl, tetrahydroquinazolyl, carbazolyl, benzoxazolyl, benzoxazo Nyl, benzisoxazolyl, benzoisoxazolinyl, benzothiazolyl, benzisothiazolyl, benzisothiazolinyl, benzimidazolyl, indazolinyl, quinolinyl, dihydroquinolinyl, tetrahydroquinolinyl, isoquinolinyl, dihydroisoquinolinyl , Tetrahydroisoquinolinyl, pyridoindolyl, dihydrobenzooxazinyl, cinnolinyl, dihydrocinnolinyl, tetrahydrocinnolyl, phthalazinyl, dihydrophthalazinyl, tetrahydrophthalazinyl, quinoxalinyl, dihydroquinoxalinyl, tetrahydroquino Xalinyl, purinyl, dihydrobenzotriazinyl, dihydrobenzotetrazinyl, phenothiazinylfuranyl, benzofuranyl, benzothienyl and the like. These heterocyclic groups may include those in the form of oxo or thioketone at any substitutable position, and these heterocyclic groups may be substituted with an appropriate substituent at any substitutable position. Also good.

置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基及び置換基を有してもよい複素環基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、アミノ基、C1-4アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられ、置換可能な任意の位置に、単独又は複数置換することができ、複数の置換基は、各々同一であっても、異なっていてもよい。 Examples of the substituent of the phenyl group which may have a substituent, the benzoyl group which may have a substituent, and the heterocyclic group which may have a substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, C 1-4 Examples thereof include an alkyl group, a C 1-4 haloalkyl group, a C 1-4 alkoxy group, an amino group, a C 1-4 alkoxycarbonyl group, a nitro group, a cyano group, and the like. The plurality of substituents may be the same or different from each other.

1-4アルコキシカルボニル基の具体例は、前記した通りである。 Specific examples of the C 1-4 alkoxycarbonyl group are as described above.

1-4アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. A linear or branched alkyl group is mentioned.

1-4ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヨードエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、1−フルオロイソプロピル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基等の1〜9個、好ましくは1〜5個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, an iodomethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a bromodifluoromethyl group, a dichlorofluoromethyl group, 1 -Fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-iodoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, pentafluoroethyl 1-9, preferably 1-5, such as a group, 1-fluoroisopropyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 3-bromopropyl group, 4-fluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, etc. C1-C4 linear or branched alkyl group substituted with the halogen atom is mentioned.

1-4アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, cyclopropyloxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, and n-pentyloxy. C1-C6 linear or branched alkoxy groups, such as a group, an isopentyloxy group, a neopentyloxy group, a tert-pentyloxy group, an n-hexyloxy group, and an isohexyloxy group.

本発明の一般式(2)で表されるベンゼン化合物は、次式に示すように、ハロゲン化ロジウム及び第三級アミン化合物の共存下で、一般式(1)で表されるアルキン化合物を環状三量化反応させることにより製造される。   As shown in the following formula, the benzene compound represented by the general formula (2) of the present invention is a cyclic alkyne compound represented by the general formula (1) in the presence of rhodium halide and a tertiary amine compound. It is produced by a trimerization reaction.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、R1及びR2は前記に同じ。]
一般式(1)で表されるアルキン化合物を環状三量化反応させると、一般式(3)で表される異性体が副生するが、反応系内にハロゲン化ロジウム及び第三級アミン化合物の存在させた場合には、一般式(3)で表される異性体の副生を大幅に抑制でき、一般式(2)で表されるベンゼン化合物を高い選択率で、高収率で製造できる。
[Wherein, R 1 and R 2 are the same as defined above. ]
When the alkyne compound represented by the general formula (1) is subjected to a cyclic trimerization reaction, an isomer represented by the general formula (3) is produced as a by-product. When present, the by-product of the isomer represented by the general formula (3) can be significantly suppressed, and the benzene compound represented by the general formula (2) can be produced with high selectivity and high yield. .

本発明において出発原料として用いられる一般式(1)で表されるアルキン化合物の中でも、下記一般式(1a)   Among the alkyne compounds represented by the general formula (1) used as a starting material in the present invention, the following general formula (1a)

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、R1a及びR2aは、同一又は異なって、水素原子、C1-8アルキル基、置換基を有することのあるフェニル基又はC1-4アルコキシカルボニル基を示す。但し、R1a及びR2aが同時に水素原子を示すことはない。]
で表されるアルキン化合物を好適に使用することができる。一般式(1a)で表されるアルキン化合物を出発原料として使用した場合には、下記一般式(2a)
[Wherein, R 1a and R 2a are the same or different and each represents a hydrogen atom, a C 1-8 alkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a C 1-4 alkoxycarbonyl group. However, R 1a and R 2a do not represent a hydrogen atom at the same time. ]
The alkyne compound represented by these can be used conveniently. When the alkyne compound represented by the general formula (1a) is used as a starting material, the following general formula (2a)

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、R1a及びR2aは前記に同じ。]
で表されるベンゼン化合物が製造される。
[Wherein, R 1a and R 2a are the same as above. ]
Is produced.

本発明で用いられるハロゲン化ロジウムとしては、フッ化ロジウム、塩化ロジウム、臭化ロジウム、ヨウ化ロジウム等が挙げられる。フッ化ロジウムの具体例としては、フッ化ロジウム(III)、フッ化ロジウム(IV)、フッ化ロジウム(V)等が挙げられる。塩化ロジウムの具体例としては、塩化ロジウム(I)、塩化ロジウム(II)、塩化ロジウム(III)等が挙げられる。臭化ロジウムの具体例としては、臭化ロジウム(III)、塩基性臭化ロジウム等が挙げられる。ヨウ化ロジウムの具体例としては、ヨウ化ロジウム(III)等が挙げられる。本発明では、これらハロゲン化ロジウムの水和物も使用することができる。これらは、1種単独で又は2種以上混合して用いられる。   Examples of the rhodium halide used in the present invention include rhodium fluoride, rhodium chloride, rhodium bromide, and rhodium iodide. Specific examples of rhodium fluoride include rhodium fluoride (III), rhodium fluoride (IV), rhodium fluoride (V) and the like. Specific examples of rhodium chloride include rhodium (I) chloride, rhodium (II) chloride, rhodium (III) chloride and the like. Specific examples of rhodium bromide include rhodium (III) bromide and basic rhodium bromide. Specific examples of rhodium iodide include rhodium (III) iodide. In the present invention, hydrates of these rhodium halides can also be used. These are used alone or in combination of two or more.

上記ハロゲン化ロジウムの中でも塩化ロジウム及びその水和物を好ましく使用でき、特に塩化ロジウム(III)(ロジウム三塩化物:RhCl3)及びその3水和物(RhCl3・3H2Oを好適に使用することができる。 Among the above rhodium halides, rhodium chloride and hydrates thereof can be preferably used. Particularly, rhodium (III) chloride (rhodium trichloride: RhCl 3 ) and trihydrate thereof (RhCl 3 .3H 2 O are preferably used. can do.

ハロゲン化ロジウムの使用量は、一般式(1)で表されるアルキン化合物1モルに対して、通常0.015〜2モル程度、好ましくは0.02〜1モル程度、より好ましくは0.03〜0.5モル程度である。   The amount of rhodium halide used is usually about 0.015 to 2 mol, preferably about 0.02 to 1 mol, more preferably 0.03, per 1 mol of the alkyne compound represented by the general formula (1). About 0.5 mol.

本発明で使用される第三級アミン化合物としては、例えば、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン、トリ(n−ブチル)アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソブチルメチルアミン等のN,N,N−トリ(C1-4アルキル)アミン;ジエチル(テトラメチルシリル)アミン、N−メチルピロリジン、N−メチルピぺリジン等のN−(C1-4アルキル)アザシクロアルカン;N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン等のN−(C1-4アルキル)アザオキシシクロアルカン;N−ベンジル−N,N−ジメチルアミン、N−ベンジル−N,N−ジエチルアミン等のN−ベンジル−N,N−ジ(C1-4アルキル)アミン;N,N−ジメチルアニリン等のN,N−ジ(C1-4アルキル)アニリン;ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の二環式アミン類を挙げることができる。これらの第三級アミン化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the tertiary amine compound used in the present invention include N, N, N-tri (C 1- ) such as trimethylamine, dimethylethylamine, triethylamine, tri (n-butyl) amine, diisopropylethylamine, diisobutylmethylamine. 4 alkyl) amine; N- (C 1-4 alkyl) azacycloalkane such as diethyl (tetramethylsilyl) amine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine; N such as N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine -(C 1-4 alkyl) azaoxycycloalkane; N-benzyl-N, N-di (C 1-4 alkyl) such as N-benzyl-N, N-dimethylamine and N-benzyl-N, N-diethylamine ) amine; N, N-dimethylaniline or the like of N, N-di (C 1-4 alkyl) aniline; diazabicyclo undecenyl It can include bicyclic amines such as diazabicyclononene. These tertiary amine compounds may be used alone or in combination of two or more.

これら第三級アミンの中でも、N,N,N−トリ(C1-4アルキル)アミン類及びN−(C1-4アルキル)アザシクロアルカンを好ましく使用でき、ジイソプロピルメチルアミン及びトリ(n−ブチル)アミンを特に好ましく使用できる。 Among these tertiary amines, N, N, N-tri (C 1-4 alkyl) amines and N- (C 1-4 alkyl) azacycloalkane can be preferably used, and diisopropylmethylamine and tri (n- Butyl) amine is particularly preferably used.

第三級アミン化合物の使用量としては、ハロゲン化ロジウム1モルに対して、通常1.2〜10モル程度、好ましくは1.5〜8モル程度、より好ましくは2〜4モル程度、特に好ましくは3モル程度である。   The amount of the tertiary amine compound used is usually about 1.2 to 10 mol, preferably about 1.5 to 8 mol, more preferably about 2 to 4 mol, particularly preferably 1 mol of rhodium halide. Is about 3 moles.

本発明の反応は、通常溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、イソプロパノール、イソブタノール、tert−ブタノール等の低級アルキルアルコール系溶媒;蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶媒;ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;N−メチルピロリジノン等の環状アミド系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等の環状エーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、水等を挙げることができる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上混合して使用してもよい。   The reaction of the present invention is usually carried out in a solvent. Examples of the solvent used include lower alkyl alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, isopropanol, isobutanol, and tert-butanol; methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate , Lower alkyl ester solvents of lower carboxylic acids such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone Solvents: ethers such as diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, dimethoxyethane Medium; nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, valeronitrile; substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, anisole; dichloromethane, chloroform, Halogenated hydrocarbon solvents such as dichloroethane, trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, and chlorofluorocarbons; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclo Cycloalkane solvents such as octane; amide solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, dimethylacetamide; cyclic amide solvents such as N-methylpyrrolidinone; tetrahydrofuran, di It can be exemplified dimethyl sulfoxide, water and the like; hexane, cyclic ethers dioxolane-based solvent. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

これら溶媒の中でも、低級アルキルアルコール系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒及び環状エーテル系溶媒が好ましく、具体的には、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレン、ジメトキシエタン及びジオキサンが好ましい。トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒がより好ましい。   Among these solvents, lower alkyl alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents and cyclic ether solvents are preferable, and specifically, isopropyl alcohol, toluene, xylene, dimethoxyethane and dioxane are preferable. Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene are more preferred.

これらの溶媒の使用量は、一般式(1)のアルキン化合物1kg当たり、通常2〜200リットル程度、好ましくは3〜100リットル程度である。   The amount of these solvents used is usually about 2 to 200 liters, preferably about 3 to 100 liters per kg of the alkyne compound of the general formula (1).

本発明の反応温度は、室温から使用する溶媒の沸点付近又は還流温度とすればよいが、50〜150℃の範囲で反応できるように使用する溶媒を選択するのが好ましく、使用する溶媒の還流温度とするのが特に好ましい。   The reaction temperature of the present invention may be from room temperature to around the boiling point of the solvent to be used or the reflux temperature, but it is preferable to select the solvent to be used so that the reaction can be carried out in the range of 50 to 150 ° C. The temperature is particularly preferable.

本反応の反応時間は、使用するアルキン化合物の種類、その他反応条件により異なり一概には言えないが、一般に1〜48時間程度、通常5〜24時間程度で該反応はほぼ完結する。   The reaction time of this reaction varies depending on the type of alkyne compound used and other reaction conditions, and cannot be generally specified, but is generally about 1 to 48 hours, usually about 5 to 24 hours.

本発明の方法により得られる一般式(1)のベンゼン化合物は、公知の単離手段及び精製手段により、反応混合物から単離され、精製される。   The benzene compound of the general formula (1) obtained by the method of the present invention is isolated from the reaction mixture and purified by known isolation means and purification means.

本発明の方法により、アルキン化合物から所望のベンゼン化合物を高収率で製造できる。   By the method of the present invention, a desired benzene compound can be produced in high yield from an alkyne compound.

本発明の方法により、アルキン化合物から一段階で複雑な多置換ベンゼン化合物(非対称の多置換ベンゼン化合物)を高選択的且つ高収率で製造することができる。   According to the method of the present invention, a complex polysubstituted benzene compound (asymmetric polysubstituted benzene compound) can be produced from an alkyne compound in a single step with high selectivity and high yield.

本発明の製造法により得られる多置換ベンゼン化合物は、それ自身で機能性物質又は機能性材料として使用され、或いは機能性物質又は機能性材料を製造するための原料として使用される。   The polysubstituted benzene compound obtained by the production method of the present invention is used by itself as a functional substance or a functional material, or used as a raw material for producing a functional substance or a functional material.

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to these examples.

なお、本発明で用いた分析法及び機器は以下の通りである。   The analytical methods and equipment used in the present invention are as follows.

核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、Varian社製のINOVA UNITY 600(600MHz)を用いて測定し、化学シフトは内部標準 (テトラメチルシラン) を基準にppm単位で表現した。分裂パターンの略記は次の通りである。
s:singlet,d:doublet,m:multiplet,br:broad。
Nuclear magnetic resonance (NMR) spectra were measured using INOVA UNITY 600 (600 MHz) manufactured by Varian, and chemical shifts were expressed in ppm based on the internal standard (tetramethylsilane). Abbreviations for splitting patterns are as follows.
s: singlet, d: doublet, m: multit, br: broad.

また、目的とするベンゼン化合物(2)と副生する異性体(3)との生成割合は、NMRより算出した。   Moreover, the production | generation ratio of the target benzene compound (2) and the by-product isomer (3) was computed from NMR.

赤外分光 (IR) スペクトルは、日本分光社製のFT-IR ValorIIIを用いて測定した。また液体サンプルは液膜法を用いて測定した。   Infrared spectroscopy (IR) spectrum was measured using FT-IR Valor III manufactured by JASCO Corporation. The liquid sample was measured using a liquid film method.

実施例1   Example 1

Figure 0004974107
Figure 0004974107

[式中、Phはフェニル基を示し、Etはエチル基を示す。]
反応器に塩化ロジウム(III)3水和物( RhCl3・3H2O)13.1mg(0.05mmol)を秤取り、反応器内をアルゴン置換した。次いで、反応器にトルエン3ml及びジイソプロピルエチルアミン(IPEA)19.4mg(0.15mmol)を加えた後、還流下に15分間撹拌した。次に、フェニルプロピン酸エチル(1−1)87mg(0.5mmol)を徐々に滴下して加えた後、加熱還流下に24時間撹拌して反応を行った。反応混合物を濾過して不溶物を除き、濾液を減圧下濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (展開溶媒:n−へキサン/酢酸エチル=5/1(容量比))で精製して、ベンゼン化合物(2−1)を得た。
収量:79.3mg
収率:91%
ベンゼン化合物(2−1)の含有率:96重量%以上(異性体(3−1)の含有率:4重量%未満)
ベンゼン化合物(2−1)のNMRスペクトルは、次の通りである。
1H−NMR(600MHz)δppm:7.35(s,5H),7.11−7.14(m,6H),7.00−7.04(m,4H),3.98(q,2H,J=7.2Hz),3.94(q,2H,J=7.2Hz),3.65(q,2H,J=7.2Hz),0.90(t,3H,J=7.2Hz),0.87(t,3H,J=7.2Hz),0.68(t,3H,J=7.2Hz)
ベンゼン化合物(2−1)のIRスペクトルは、次の通りである。
IR(Neat):3057,2981,2936,1729,1232,1200cm-1
[In the formula, Ph represents a phenyl group, and Et represents an ethyl group. ]
In the reactor, 13.1 mg (0.05 mmol) of rhodium (III) chloride trihydrate (RhCl 3 .3H 2 O) was weighed, and the inside of the reactor was purged with argon. Next, 3 ml of toluene and 19.4 mg (0.15 mmol) of diisopropylethylamine (IPEA) were added to the reactor, followed by stirring for 15 minutes under reflux. Next, 87 mg (0.5 mmol) of ethyl phenylpropinate (1-1) was gradually added dropwise, and then the reaction was carried out by stirring for 24 hours while heating under reflux. The reaction mixture was filtered to remove insolubles, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane / ethyl acetate = 5/1 (volume ratio)) to obtain a benzene compound (2-1).
Yield: 79.3 mg
Yield: 91%
Content of benzene compound (2-1): 96% by weight or more (content of isomer (3-1): less than 4% by weight)
The NMR spectrum of the benzene compound (2-1) is as follows.
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 7.35 (s, 5H), 7.11-7.14 (m, 6H), 7.00-7.04 (m, 4H), 3.98 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 3.94 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 3.65 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 0.90 (t, 3H, J = 7) .2 Hz), 0.87 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 0.68 (t, 3H, J = 7.2 Hz)
The IR spectrum of the benzene compound (2-1) is as follows.
IR (Neat): 3057, 2981, 2936, 1729, 1232, 1200 cm −1 .

実施例2〜5
RhCl3・3H2O及びIPEAの使用量を表1に示す量に変更する以外は、実施例1と同様に反応及び処理を行った。なお、RhCl3・3H2O及びIPEAの使用量は、フェニルプロピン酸エチル100mmolに対するモル比(mmol%)で示した。結果を表1に示す。
Examples 2-5
The reaction and treatment were performed in the same manner as in Example 1 except that the amounts of RhCl 3 .3H 2 O and IPEA used were changed to the amounts shown in Table 1. Note that the amount of RhCl 3 · 3H 2 O and IPEA showed a molar ratio to phenylpropionate phosphate ethyl 100mmol (mmol%). The results are shown in Table 1.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

実施例6〜7及び比較例1〜9
IPEAを表3に記載のアミン化合物又はその他化合物に変更する以外は、実施例1と同様に反応及び処理を行った。結果を表2に示す。表中、Etはエチル基、Buはブチル基、TMSはトリメチルシリル基、TMEDAはN,N,N',N'−テトラメチルエチレンジアミン、Phはフェニル基を意味する。−は未確認であることを意味する。
Examples 6-7 and Comparative Examples 1-9
The reaction and treatment were performed in the same manner as in Example 1 except that IPEA was changed to the amine compounds shown in Table 3 or other compounds. The results are shown in Table 2. In the table, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, TMS represents a trimethylsilyl group, TMEDA represents N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, and Ph represents a phenyl group. -Means unconfirmed.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

実施例8〜11
トルエンを表3に記載の有機溶媒に変更する以外は実施例1と同様に反応及び処理を行った。結果を表3に示す。表中、DMEはジメトキシエタン、IPAはイソプロピルアルコールを意味する。
Examples 8-11
The reaction and treatment were performed in the same manner as in Example 1 except that toluene was changed to the organic solvent described in Table 3. The results are shown in Table 3. In the table, DME means dimethoxyethane and IPA means isopropyl alcohol.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

実施例12〜19
フェニルプロピン酸エチル(1−1)を表4に記載のアルキン化合物に変更する以外は、実施例1と同様に反応及び処理を行った。結果を表4に示す。表中、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはn−プロピル基、Hexはn−ヘキシル基、Phはフェニル基を意味する。
Examples 12-19
The reaction and treatment were performed in the same manner as in Example 1 except that ethyl phenylpropinate (1-1) was changed to the alkyne compounds shown in Table 4. The results are shown in Table 4. In the table, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr represents an n-propyl group, Hex represents an n-hexyl group, and Ph represents a phenyl group.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

実施例12〜19で得られたベンゼン化合物(2−2)、(2−3)、(2−4)、(2−5)、(2−6)、(2−7)、(2−8)及び(2−9)のNMRスペクトルデータ及びIRスペクトルデータを以下に示す。
ベンゼン化合物(2−2);
1H−NMR(600MHz)δppm:δ=6.96−7.46(m,15H),2.05(s,3H),2.04(s,3H),1.72(s,3H)
IR(Neat):3055,2956,2918,2849cm-1
ベンゼン化合物(2−3);
1H−NMR(600MHz)δppm:4.40(q,2H,J=7.2Hz),4.33(q,2H,J=7.2Hz),4.32(q,2H,J=7.2Hz),2.30(s,3H),2.26(s,3H),2.22(s,3H),1.38(t,3H,J=7.2Hz),1.36(t,3H,J=7.2Hz),1.35(t,3H,J=7.2Hz)
IR(Neat):2982,2938,2906,1731,1576cm-1
ベンゼン化合物(2−4);
1H−NMR(600MHz)δppm:2.46−2.48(m,12H),1.49−1.57(m,12H),1.04(t,18H,J=7.2Hz),1.87(s,3H)
IR(Neat):2952,2928,2890,2869cm-1
ベンゼン化合物(2−5);
1H−NMR(600MHz)δppm:6.83−6.86(m,30H)
IR(Neat):3056,3024,2925cm-1
ベンゼン化合物(2−6);
1H−NMR(600MHz)δppm:7.17−7.69(m,18H)
IR(Neat):3075,3056,3027cm-1
ベンゼン化合物(2−7);
1H−NMR(600MHz)δppm:7.56−7.62(m,4H),7.46(dd,1H,J=7.8Hz,J=0.6Hz),7.26(dd,2H,J=7.8Hz,J=0.6Hz),7.03−7.10(m,8H),2.40(s,3H),2.33(s,3H),2.32(s,3H)
IR(Neat):3025,2917,2863cm-1
ベンゼン化合物(2−8);
1H−NMR(600MHz)δppm:6.81−7.05(m,3H),2.52−2.58(m,6H),1.54−1.59(m,6H),1.28−1.39(m,18H),0.87−0.91(m,9H)
IR(Neat):2926,2856cm-1
ベンゼン化合物(2−9);
1H−NMR(600MHz)δppm:8.40(dd,1H,J=1.2Hz,J=0.6Hz,8.19(dd,1H,J=8.4Hz,J=1.2Hz),7.76(dd,1H,J=8.4Hz,J=0.6Hz),4.37−4.43(m,6H),1.37−1.59(m,9H)
IR(Neat):2983,2938,1727,1244cm-1
比較例10〜13
RhCl3・3H2Oを表5に記載のロジウム化合物に変更する以外は実施例1と同様に反応及び処理を行った。結果を表5に示す。表中、codは1,6−シクロオクタジエン、acacはアセチルアセトナートを意味する。
Benzene compounds (2-2), (2-3), (2-4), (2-5), (2-6), (2-7), (2- The NMR spectrum data and IR spectrum data of 8) and (2-9) are shown below.
Benzene compound (2-2);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: δ = 6.96-7.46 (m, 15H), 2.05 (s, 3H), 2.04 (s, 3H), 1.72 (s, 3H)
IR (Neat): 3055, 2956, 2918, 2849 cm −1
Benzene compound (2-3);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 4.40 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 4.33 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 4.32 (q, 2H, J = 7) .2 Hz), 2.30 (s, 3H), 2.26 (s, 3H), 2.22 (s, 3H), 1.38 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.36 ( t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.35 (t, 3H, J = 7.2 Hz)
IR (Neat): 2982, 2938, 2906, 1731, 1576 cm −1
Benzene compound (2-4);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 2.46-2.48 (m, 12H), 1.49-1.57 (m, 12H), 1.04 (t, 18H, J = 7.2 Hz), 1.87 (s, 3H)
IR (Neat): 2952, 2928, 2890, 2869 cm −1
Benzene compound (2-5);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 6.83 to 6.86 (m, 30H)
IR (Neat): 3056, 3024, 2925 cm −1
Benzene compound (2-6);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 7.17-7.69 (m, 18H)
IR (Neat): 3075, 3056, 3027 cm −1
Benzene compound (2-7);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 7.56-7.62 (m, 4H), 7.46 (dd, 1H, J = 7.8 Hz, J = 0.6 Hz), 7.26 (dd, 2H) , J = 7.8 Hz, J = 0.6 Hz), 7.03-7.10 (m, 8H), 2.40 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 2.32 (s , 3H)
IR (Neat): 3025, 2917, 2863 cm −1
Benzene compound (2-8);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 6.81-7.05 (m, 3H), 2.52-2.58 (m, 6H), 1.54-1.59 (m, 6H), 28-1.39 (m, 18H), 0.87-0.91 (m, 9H)
IR (Neat): 2926, 2856 cm −1
Benzene compound (2-9);
1 H-NMR (600 MHz) δ ppm: 8.40 (dd, 1H, J = 1.2 Hz, J = 0.6 Hz, 8.19 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, J = 1.2 Hz), 7.76 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, J = 0.6 Hz), 4.37-4.43 (m, 6H), 1.37-1.59 (m, 9H)
IR (Neat): 2983, 2938, 1727, 1244 cm −1
Comparative Examples 10-13
The reaction and treatment were carried out in the same manner as in Example 1 except that RhCl 3 .3H 2 O was changed to the rhodium compounds shown in Table 5. The results are shown in Table 5. In the table, cod means 1,6-cyclooctadiene, and acac means acetylacetonate.

Figure 0004974107
Figure 0004974107

Claims (4)

ハロゲン化ロジウム及び第三級アミン化合物の共存下に、一般式(1)
Figure 0004974107
[式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、C1-15アルキル基、置換基を有することのあるフェニル基、C1-4アルコキシC1-4アルキル基、C1-4アルキルカルボニル基、置換基を有することのあるベンゾイル基、C1-4アルコキシカルボニル基、トリ(C1-4アルキル)シリル基、トリ(C1-4アルコキシ)シリル基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基又は置換基を有していてもよい複素環基を示す。但し、R1及びR2が同時に水素原子を示すことはない。]
で表されるアルキン化合物を三量化反応させて、一般式(2)
Figure 0004974107
[式中、R1及びR2は前記に同じ。]
で表されるベンゼン化合物を製造する、ベンゼン化合物の製造方法。
In the presence of rhodium halide and a tertiary amine compound, the compound represented by the general formula (1)
Figure 0004974107
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a C 1-15 alkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl group, C 1 -4 alkylcarbonyl group, benzoyl group which may have a substituent, C 1-4 alkoxycarbonyl group, tri (C 1-4 alkyl) silyl group, tri (C 1-4 alkoxy) silyl group, cyano group, halogen The heterocyclic group which may have an atom, a nitro group, or a substituent is shown. However, R 1 and R 2 do not represent a hydrogen atom at the same time. ]
The alkyne compound represented by general formula (2)
Figure 0004974107
[Wherein, R 1 and R 2 are the same as defined above. ]
The manufacturing method of a benzene compound which manufactures the benzene compound represented by these.
ハロゲン化ロジウムがフッ化ロジウム、塩化ロジウム、臭化ロジウム、ヨウ化ロジウム及びそれらの水和物からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the rhodium halide is at least one selected from the group consisting of rhodium fluoride, rhodium chloride, rhodium bromide, rhodium iodide and hydrates thereof. 一般式(1)で表されるアルキン化合物1モルに対して、ハロゲン化ロジウムを0.015〜2モル程度使用する請求項1又は2に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 1 or 2 which uses about 0.015-2 mol of rhodium halides with respect to 1 mol of alkyne compounds represented by General formula (1). ハロゲン化ロジウム1モルに対して、第三級アミン化合物を1.2〜10モル程度使用する請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the tertiary amine compound is used in an amount of about 1.2 to 10 moles per mole of rhodium halide.
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JPS55160727A (en) * 1979-06-01 1980-12-13 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of 1,2,4,5-tetra-substituted benzene derivative
JP4416466B2 (en) * 2003-10-02 2010-02-17 高砂香料工業株式会社 Method for producing benzene derivatives
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