JP4961541B2 - 欠陥修正方法及び装置 - Google Patents
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Description
ガラス基板に向けて照明光を照射し、ガラス基板から出射する散乱光を受光してガラス基板の内部欠陥及びそのアドレスを検出する工程と、
検出した欠陥のアドレス情報に基づき、ガラス基板表面の、検出された内部欠陥の近傍に光学的に透明な液状の光硬化性樹脂を滴下する工程と、
ガラス基板上に滴下された樹脂の液滴に向けて紫外線を照射して、当該樹脂の液滴を硬化させ、ガラス基板の表面上に凸状の湾曲面を有する集束性レンズ素子を形成する工程とを含むことを特徴とする。
修正すべきガラス基板を保持するステージと、
ガラス基板に向けて照明光を投射する照明光学系と、
対物レンズを含み、ガラス基板の内部欠陥を観察する観察光学系と、
ガラス基板の表面上に光学的に透明な液状の光硬化性樹脂を滴下するマイクロディスペンサと、
ガラス基板の表面上に滴下された液状の光硬化性樹脂を硬化させるための紫外線光源とを具えることを特徴とする。
2 XYステージ
3 光源
4,15,20 集光レンズ
5 ステージ駆動装置
6 対物レンズ
7 ハーフミラー
8 リレーレンズ
9 結像レンズ
10 2次元CCDカメラ
11 増幅器
12 信号処理回路
13 アドレス検出装置
14 光源
16 マイクロディスペンサ
17 注入装置
18 アクチュエータ
19 紫外線光源
30 気泡
31 集束性レンズ素子(液滴)
Claims (6)
- フォトマスク用ガラス基板の内部欠陥を修正する方法であって、
ガラス基板に向けて照明光を照射し、ガラス基板から出射する散乱光を受光してガラス基板の内部欠陥及びそのアドレスを検出する工程と、
検出した欠陥のアドレス情報に基づき、ガラス基板表面の、検出された内部欠陥の近傍に光学的に透明な液状の光硬化性樹脂を滴下する工程と、
ガラス基板上に滴下された樹脂の液滴に向けて紫外線を照射して、当該樹脂の液滴を硬化させ、ガラス基板の表面上に凸状の湾曲面を有する集束性レンズ素子を形成する工程とを含むことを特徴とする欠陥修正方法。 - 請求項1に記載の欠陥修正方法において、ガラス基板の表面上に液状の光硬化性樹脂を滴下した際、表面張力の作用により、界面が凸状の湾曲面を有する液滴が形成されることを特徴とする欠陥修正方法。
- 請求項2に記載の欠陥修正方法において、検出された内部欠陥の近傍であって、欠陥の中心から僅かに変位した位置に前記液状の光硬化性樹脂を滴下することを特徴とする欠陥修正方法。
- 請求項3に記載の欠陥修正方法において、検出された欠陥である気泡の大きさに応じて滴下する光硬化性樹脂の量を制御し、ガラス基板の表面上に形成されるレンズ素子の直径を制御することを特徴とする欠陥修正方法。
- フォトマスク用ガラス基板の内部欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
修正すべきガラス基板を保持するステージと、
ガラス基板に向けて照明光を投射する照明光学系と、
対物レンズを含み、ガラス基板の内部欠陥を観察する観察光学系と、
ガラス基板の表面上に光学的に透明な液状の光硬化性樹脂を滴下するマイクロディスペンサと、
ガラス基板の表面上に滴下された液状の光硬化性樹脂を硬化させるための紫外線光源とを具えることを特徴とする欠陥修正装置。 - 請求項5に記載の欠陥修正装置において、前記マイクロディスペンサは、観察光学系の対物レンズを保持する保持部材に固定され、当該マイクロディスペンサの先端部分は対物レンズの視野中心であって焦点面又はその近傍に位置することを特徴とする欠陥修正装置。
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