JP4959288B2 - Electro-optic multilayer column - Google Patents
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 82
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 29
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 6
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 3
- 229910020220 Pb—Sn Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017945 Cu—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- PCEXQRKSUSSDFT-UHFFFAOYSA-N [Mn].[Mo] Chemical compound [Mn].[Mo] PCEXQRKSUSSDFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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Description
本発明は、荷電粒子ビーム装置に用いられる電子光学多層コラムに関し、例えば荷電粒子ビーム装置の電子光学の電子光学鏡筒外(大気中)で生成される偏向、縮小投影電圧を、電子光学の電子光学鏡筒内(真空中)にある光学装置の各電極に供給する手段を有する電子光学多層コラムに関する。
The present invention relates to an electron optical multilayer column used in a charged particle beam apparatus, and for example, a deflection and reduced projection voltage generated outside (in the atmosphere) of an electron optical column of the charged particle beam apparatus is converted into an electron optical electron. It relates to an electronic optical multilayer column having a means for supplying to the electrodes of the optical device in the optical barrel (in vacuum).
走査型電子顕微鏡や電子線描画装置等の荷電粒子ビーム装置は、電子線を試料上に照射して観察、描画等を行う装置である。例えば、電子線描画装置の場合、電子線源からの電子線を成形用絞り板(アパーチャ)に設けられた開口部に照射して、その開口部のパターン形状に電子線断面形態を成形し、この成形された電子ビームを静電又は電磁縮小投影レンズによって縮小投影し、静電又は電磁偏向レンズによって試料表面上の所望の位置に偏向して照射することにより、試料表面上に所望の形態寸法のパターン露光を行っている。 A charged particle beam apparatus such as a scanning electron microscope or an electron beam drawing apparatus is an apparatus that performs observation, drawing, etc. by irradiating a sample with an electron beam. For example, in the case of an electron beam drawing apparatus, an electron beam from an electron beam source is irradiated to an opening provided in a forming diaphragm (aperture), and an electron beam cross-sectional shape is formed into a pattern shape of the opening, This shaped electron beam is reduced and projected by an electrostatic or electromagnetic reduction projection lens, and is deflected to a desired position on the sample surface by an electrostatic or electromagnetic deflection lens and irradiated, so that a desired shape dimension is provided on the sample surface. Pattern exposure is performed.
ここで、図9を用いて従来の荷電粒子ビーム装置の概略について説明する。従来の荷電粒子ビームは、電子光学鏡筒17の外(大気中)で生成された偏向、縮小投影電圧を、真空内用信号ケーブル18で耐真空コネクタ(ハーメチックシールコネクタ)を介して、電子光学鏡筒内17(真空)に導入される。
Here, an outline of a conventional charged particle beam apparatus will be described with reference to FIG. In the conventional charged particle beam, the deflection and reduced projection voltage generated outside (in the atmosphere) of the electron
さらに、導入された偏向、縮小投影電圧は、真空内用信号ケーブル18を介して静電レンズの電極22に与えられる。偏向、縮小投影電圧を電極22に与えることによって電場が生成され、その電場の強さに比例した電子線の縮小投影作用、偏向作用を生じる。さらに、静電レンズの電極22は、絶縁支持部19を介して円筒状の保持体21に固定され、固定された各静電レンズの電極22と偏向制御回路間は、シールドの一端をアース接続のシールド線を用いて接続されている。シールド線23は、隣り合う伝送線間の静電結合によるクロストークを防止するために必要であるとされている(特許文献1参照)。
Further, the introduced deflection / reduction projection voltage is applied to the
また、この荷電粒子ビーム装置に搭載する電子光学コラムとしては、例えば図10(a)、(b)に示すように、電極材を構成する導電性セラミックスからなる静電レンズの電極22を研削加工によって同一形状に形成した後に、各静電レンズの電極22と導通をとる部分にメタライズ法によりチタンを主成分とする導電性金属パッド24を形成している。さらに、同様にして各静電レンズの電極22を保持体21の内周面に固定する部分の任意の2箇所にメタライズ法によりチタンを主成分とする接続用金属パッド25を形成している。次に、白金を電解メッキにより各静電レンズの電極22の表面に形成し、保持体21に各静電レンズの電極22を内部に配置固定する際に各静電レンズの電極22の接続用金属パッド25がそれぞれに当接するように開口部を形成している。さらに、開口部の内壁部分に、メタライズ法によりチタンもしくはモリブデン−マンガンを主成分とする接続用金属パッド25を形成し、各静電レンズの電極22を位置決めした状態で保持体21に挿入し、保持体21に形成された開口部にハンダ等の接続金属を注入し加熱することにより各静電レンズの電極22に形成した接続用金属パッドと保持体に形成した接続用金属パッド25を互いに固定することにより静電レンズを得るものである(特許文献2参照)。
Further, as an electron optical column mounted on this charged particle beam apparatus, for example, as shown in FIGS. 10A and 10B, an
また、電極22と真空用信号ケーブル18との接合方法としては図11に示すように、導電性セラミックスで構成される静電レンズの電極22の表面にTi、Cr、Zr、Niの少なくとも1種を含む導電性材料で構成される密着メタライズ層23aと、Cu、Ni、Au、Pt、Agの内の少なくとも一つを含む導電性材料で構成される接続用メタライズ層23bとからなるメタライズ層23を設けた静電レンズの電極22が提案されている。さらにこのメタライズ層23上にPb−Snはんだを形成し、このPb−Snはんだを利用して静電レンズの電極22に電圧を印加するための真空用信号ケーブル18を接続することによって静電レンズの電極22の基本構造が完成し、これら静電レンズの電極22を8個円周上に配置し静電レンズが得られるとしている。この静電レンズの構成と製造方法によれば、膜厚の均一性、密着性およびはんだ濡れ性の全てに優れたメタライズ層23とすることができ、電子ビーム露光装置の静電レンズを精度良く動作させることができるとされている(特許文献3参照)。
前述のように、電子光学コラムでは、静電又は電磁レンズの電極と真空コネクタは、ケーブルを介して接続されている。この方法では、電子光学コラムに長尺のケーブルが多数配置されることとなり、電子光学コラムにそのためのスペースを設ける必要がある。また、ケーブルの絶縁材に樹脂系の材料等を使用した場合には、その表面からの放出ガスが多いため、高い真空度に到達するまでに時間を要し、また到達真空度も低くなる。樹脂以外の放出ガスの少ない材料を使用したとしても、その表面積が大きいため、同様に高い真空度を得るまでに多くの時間を要する、もしくは、高い到達真空度を得にくいという課題があった。 As described above, in the electro-optical column, the electrode of the electrostatic or electromagnetic lens and the vacuum connector are connected via the cable. In this method, a lot of long cables are arranged in the electro-optic column, and it is necessary to provide a space for it in the electro-optic column. Further, when a resin material or the like is used for the cable insulating material, since a large amount of gas is released from the surface, it takes time to reach a high degree of vacuum and the ultimate degree of vacuum is also lowered. Even when a material with a small amount of released gas other than resin is used, since the surface area is large, there is a problem that it takes much time to obtain a high degree of vacuum or it is difficult to obtain a high degree of ultimate vacuum.
通常、静電又は電磁レンズは筒状の電子光学鏡筒内に上方又は下方から挿入するように設置する。この時、図9に示すように、各電極22に真空用真空ケーブル18が接続されていると、挿入作業が非常に困難であり、断線等の不具合が発生する可能性も高い。同様に、メンテナンスの際に静電または電磁レンズを電子光学鏡筒17内から取り出す際にも、作業性が悪く断線等の不具合が発生する可能性が高い構成となっている。
Usually, an electrostatic or electromagnetic lens is installed in a cylindrical electron optical column so as to be inserted from above or below. At this time, as shown in FIG. 9, if the
また、通常、偏向電圧は高周波であるため、真空用信号ケーブル18の静電容量は低いことが望ましいが、その手段としては、真空用信号ケーブル18の長さを短くする、断面積を小さくする等があるが、ケーブルとして用いられる銅線の断面積を小さくすると断線のおそれが高くなるという課題を有していた。
In general, since the deflection voltage is a high frequency, it is desirable that the electrostatic capacity of the
本発明の電子光学多層コラムは、中空部に電子線を通過させる筒体と、該筒体の内周面に設けられた電極と、前記筒体の外周面に設けられた第1溝部と、該第1溝部に配された第1導電パターンと、前記電極および前記第1導電パターンを電気的に接続するとともに、少なくとも一部が前記筒体中に配された第1接続部材と、を備えた電子光学コラムと、該電子光学コラムが内部に配された筒状の保持体と、該保持体の外周面に設けられた第2溝部と、信号ケーブルが接続される端子部を有するとともに、前記第2溝部に配された第2導電パターンと、前記第1導電パターンと前記第2導電パターンとを電気的に接続する、前記保持体に配された第2接続部材と、を具備しており、前記端子部は、前記第2接続部材と前記第2導電パターンとの接続箇所から、前記外周面に沿って離れていることを特
徴とする。
The electron optical multilayer column of the present invention includes a cylindrical body that allows an electron beam to pass through a hollow portion, an electrode provided on an inner peripheral surface of the cylindrical body, a first groove portion provided on an outer peripheral surface of the cylindrical body, A first conductive pattern disposed in the first groove; and a first connection member electrically connecting the electrode and the first conductive pattern, and at least a part of which is disposed in the cylindrical body. An electron optical column, a cylindrical holder in which the electron optical column is disposed, a second groove provided on the outer peripheral surface of the holder, and a terminal portion to which a signal cable is connected, a second conductive pattern disposed on said second groove, which connects the first conductive pattern and the second conductive pattern electrically, comprises a, a second connection member arranged in the holding body And the terminal portion includes the second connection member and the second conductive pattern. From the connection point, characterized in that apart along said outer peripheral surface.
本発明の電子光学多層コラムによれば、保持体の外周面に第2導電パターンを備えており、この第2導電パターンが電極と接続されることから、複雑な真空内用信号ケーブルなどの配線作業を簡略化できるとともに、作業性が良く、断線などの不具合発生を防止することが可能となる。同時に樹脂被覆されたケーブルを用いないため、高真空に到達する時間を短くすることが可能であり、到達真空度をより高くすることが可能である。
According to the electro-optical multilayer column of the present invention, the second conductive pattern is provided on the outer peripheral surface of the holding body , and this second conductive pattern is connected to the electrode. Work can be simplified, workability is good, and occurrence of problems such as disconnection can be prevented. At the same time, since a resin-coated cable is not used, the time for reaching a high vacuum can be shortened, and the ultimate vacuum can be further increased.
外周面に前記筒体の第1導電パターンと接続する第2導電パターンを備えた筒状の保持体と、該保持体の内部に前記筒体を備えることにより、さらに複雑な配線が可能になるとともに、分割した筒体を用いる場合、保持体による位置決めにより、筒体の組立精度を高めることができ、同軸度の良い静電レンズ群もしくは電子光学系を得ることができる。 By providing the cylindrical holding body provided with the second conductive pattern connected to the first conductive pattern of the cylindrical body on the outer peripheral surface and the cylindrical body inside the holding body, more complicated wiring becomes possible. In addition, when the divided cylinder is used, the assembly accuracy of the cylinder can be increased by positioning with the holding body, and an electrostatic lens group or an electron optical system with good coaxiality can be obtained.
ここで、本発明の電子光学コラムの実施形態について説明する。 Here, an embodiment of the electro-optical column of the present invention will be described.
図1は、本発明の電子光学コラムの一実施形態を示す一部断面斜視図であり、図2(a)は本発明の電子光学コラムにおける筒体の外周面の部分拡大図であり、図2(b)は筒体1に形成された第1導電パターン3の部分拡大断面図である。
FIG. 1 is a partially sectional perspective view showing an embodiment of an electro-optical column of the present invention, and FIG. 2A is a partially enlarged view of an outer peripheral surface of a cylindrical body in the electro-optical column of the present invention. FIG. 2B is a partially enlarged cross-sectional view of the first
図3は、本発明の電子光学コラムの第1導電パターンと電極との接続を示す部分拡大断面図である。 FIG. 3 is a partially enlarged sectional view showing the connection between the first conductive pattern and the electrode of the electro-optical column of the present invention.
図1〜3に示すように、本発明の電子光学コラム100は、中空部に電子線を通過させる筒体1と、筒体1の内周面30に形成された電極2と、外周面に形成された溝部3aと該溝部3aに配された導電体3bからなる第1導電パターン3と、前記電極2および第1導電パターン3を少なくとも一部が前記筒体1中に配される第1接続部材を介して電気的に接続したものである。
As shown in FIGS. 1 to 3, the electro-
筒体1は、樹脂または無機物から形成されるが、真空中での発塵、放出ガスが少なく、電子線20が照射されても電気的性質が変化しない等の理由から無機物であることが好ましく、特にアルミナ質焼結体から形成することが好ましい。このアルミナ質焼結体は、焼結体中のアルカリ元素などの含有量をコントロールすることにより、電圧印加による焼結体中のイオンのマイグレーションを抑制することができるため、長期間にわたり筒体1の電気特性の安定化を確保することができる。さらに、アルミナ質焼結体は、ヤング率が280MPa以上、3点曲げ強度が300MPa以上と機械的特性に優れているため、研削加工を行っても割れなどが発生しにくく高精度の寸法精度を得ることができる。
The
筒体1の内周面30の表面抵抗値は、106〜1010Ωの範囲であることが好ましく、電極2に印加する電圧により筒体1の内部に発生する帯電を防止することができ、筒体1の内部を通過する電子線20が、筒体1の内部に帯電した電子が放電することによる影響を受けにくく高精度な電子線20およびレンズを形成できる。
The surface resistance value of the inner
筒体1の外周面の表面抵抗値は、内周面の表面抵抗値より高いことが好ましい。筒体1の内周面30の表面抵抗値が小さいと、前述の通り電子線20の照射による帯電を防止することができる。一方、外周面の表面抵抗値が大きいと、第1導電パターン3の形成部分に個別に絶縁処理をする必要がなくなる。
The surface resistance value of the outer peripheral surface of the
このような筒体1としては、チタン酸化物もしくはチタン化合物を分散させたアルミナ質焼結体を用いることがさらに好ましい。チタン酸化物もしくはチタン化合物を分散させたアルミナ質焼結体を得る際は非酸化雰囲気にて焼成することにより、焼結体の外周面の抵抗値が低く、焼結体内部の抵抗値が高い焼結体が得られる。この現象を利用して、例えば、外周面の表面を研削削加工することで抵抗値の高い焼結体内部を露出させることにより、表面抵抗値の高い外周面が得られる。この製造方法によると、1個の母材から必要に応じて、任意の場所に任意の表面抵抗値を付与した筒体1を一体加工することが可能となる。また、第1導電パターン3から筒体1へのリーク電流を防止するために、筒体1の外周面の表面抵抗値は1012Ω以上であることが好ましい。
As such a
なお、筒体1の内周面30とは、電極2が形成された表面を含む中空部に露出する面を言い、内周面30、外周面の表面抵抗の測定方法はJISC6481に定められた方法によって求めることができる。
The inner
筒体1の内周面30に形成する電極2は、Au、Cu、Ti、Ag及びPtなどから選択される導体から形成され、筒体1の内周面30にメッキ法、蒸着法によりコーティングされる薄膜でもよく、金属などの導体を筒状に形成した後に、内周面30に接合することにより形成してもよい。
The
この電極2は、外部から印加される電圧に応じて、集光レンズ電極用、投影レンズ電極用、縮小レンズ電極用、偏向電極用等に使用される。また、各レンズ間をシールドするための接地電極用に使用される。また、筒体1の内周面30には、各電極2間を分極することを目的として溝を形成することが好ましい。溝が電子光学コラム100の軸方向に形成される場合は、各レンズ間を溝により分極する。円周方向に形成される場合は、偏向器の各電極2を溝により分極する。また、溝の側面及び底面の表面抵抗が1012Ω以上であると、電子線照射により帯電が生じ、放電現象を起こすため、溝の側面及び底面の表面抵抗値は106〜1012Ωの範囲であることが望ましく、特に帯電を防止するということから、106〜1010Ωの範囲であることが望ましい。
The
筒体1の内周面30は、真円度が2μm以下であることが好ましく、これにより、電子銃から放出された電子線が、電子光学コラムを通り、電気的な位置の補正を行わなくても試料上において光軸中心に近い位置に照射される。また、電気的に補正を行わなくても成形された電子線20が意図した形状に近い形となる。
The inner
特に、内周面30の真円度が小さい光学コラム100は、電子線描画装置に好適に搭載され、電子線を用いて高い寸法精度で描画することができる。筒体1の内周面30の真円度を1μm以下とすることがより好ましい。
In particular, the
また、筒体1の内周面は、円筒度が2μm以下であることが好ましく、筒体1の軸方向にわたって、上述同様に、電子銃から放出された電子線が、電気的な位置の補正を行わなくても試料上において光軸中心に近い位置に照射され、電気的に補正を行わなくても成形された電子線20が意図した形状に近い形となる。
The
なお、筒体1の内周面30を真円度、円筒度を2μm以下とするには、例えば、センタレス研削等により外周面の真円度、円筒度が2μm以下となるよう加工後、この外周面を基準とし、円筒研削盤等により筒体1の内周面を加工する。上述のように、筒体1の内周面30とは、電極2が形成された表面、電極2が形成されていない面等、中空部に露出する面の全ての面を示すものであるため、電極2が形成された面の真円度を2μm以下とするには、詳細を後述するように第1接続部材の筒体1の中空部側の端面と内周面30とを同時に加工し、両者の境界を微小なものとした後に、電極2を形成すればよい。
In order to make the inner
なお、筒体1の内周面30の真円度、円筒度は、JIS B 0621で規定され、例えば、JIS B 7451に準拠した真円度測定器により測定することができる。
In addition, the roundness and cylindricity of the inner
筒体1の外周面には、図2、3に示すように、溝部3aと、該溝部3aに配される導電体3bとからなる第1導電パターン3が設けられており、前記電極2および第1導電パターン3を少なくとも一部が前記筒体1中に配される第1接続部材を介して電気的に接続される。
As shown in FIGS. 2 and 3, a first
これにより、第1導電パターン3は、一端を筒体1の任意の外周面に形成することが可能となり、筒体1の外周面に接続する真空用信号ケーブルの接続場所を任意に設定することができるため、複雑な真空内用信号ケーブルなどの配線作業を簡略化することができる。電子光学コラム100の組立の作業性を容易にするとともに、真空用信号ケーブルの断線等の発生を防止することが可能となる。特に、電極2を偏向器として用いる場合、電極2を2極、4極、8極等のように分極し、各々の分極した電極2に電圧を印加するため、分極した電極2の数に応じて真空内信号用ケーブルを接続する必要があり配線作業が繁雑になるが、本発明の電子光学コラム100を用いることにより、配線の作業性がより向上できる。また、樹脂被覆された真空内用信号ケーブルの利用を少なくすることができることから、樹脂からのアウトガスを抑制でき、高真空に到達する時間を短くすることが可能であり、到達真空度をより高くすることが可能である。
As a result, the first
筒体1の外周面に形成する溝部3aは、電子光学コラム100の利用目的に応じて適宜形成され、その形成方法としては、研削加工、ブラスト加工、焼成前加工(切削加工)等がある。また溝部3aの断面形状は、溝部3aの底面部が円弧状であっても、直線状であってもよく、溝部3aの側面は底面から開口部にかけて広がるテーパー状であっても構わないが、溝部3aの側面が底面から開口部にかけて広がるテーパー状であることが導電体3bの塗布形成が行いやすいため好ましい。また、溝部3aをエンドミルなどによる加工で形成すると、研削治具の直径に対応する溝部3aが形成され、溝部3aの断面積は常に一定とすることができるため好ましい。
The
溝部3a内に形成される導電体3bは、Ag−Cu−Ti、Ag、AuそしてPt等を主成分とする導電性の配線、膜からなり、溝部3a内に被着された膜から成ることが好ましい。膜で形成される場合には、例えば、ペーストを塗布した後に加熱処理することで容易に形成できる。筒体1の外周面に溝部3aを加工した後に、メッキ法などにより外周面全面にAu膜を形成し、外周面をメッキ膜厚以上、導電線の溝部3a深さ未満の研磨代で研削加工することにより、溝部3a内に導電線を形成して第1導電パターン3を得ることができる。
The
前述の通り、溝部3aの断面積は常に一定とすることができるため、溝部3a内に導電体3bを形成する際に、ディスペンサーなどを用いて塗布すると、常に一定厚みの第1導電パターン3を形成することが可能となり、単位長さ当たりの第1導電パターン3の抵抗値、静電容量を常に一定とすることができるため、電極2に印加する電圧を安定化させることが可能となり、高精度の電子線20を得ることができる。
As described above, since the cross-sectional area of the
図2(b)に示すように、第1導電パターン3は、筒体1の外周面より内側に形成することが好ましい。これにより、筒体1を導電性を有する電子光学鏡筒に設置する際に、電子光学鏡筒との絶縁を確保することが容易となり、印加電圧のショートを防止することができる。
As shown in FIG. 2B, the first
第1導電パターン3は、筒体1の外周面に形成された溝部3a内に形成された第1接続部材を介して電極2と電気的に接続され、第1接続部材は、導電体3bとは別体の導電ピンや、導電体3bを筒体1の内部に引き回してよいが、図3の部分拡大断面図に示すように、第1接続部材として導電ピン5を用いることが好ましい。
The first
これにより、真空内信号用ケーブルは、導電ピン5と機械的に接合することができるので、信頼性の優れる接合が得られる。また、機械的な接合であることから、装置の分解、組立などに対応しやすくメンテナンス性に優れる電子光学コラム100が得られる。
As a result, the in-vacuum signal cable can be mechanically joined to the
導電ピン5は、筒体1の外周面から内周面に向けて形成された接続孔6に配置され、その一方端は接続孔6に延設された第1導電パターン3と接続され、他端は電極2と接続される。また、接続孔6は溝部3aと一体的に成形されている。また、より確実に電極2と第1導電パターン3を接続するために、導電ピン5をロウ付け部5aにより筒体1に接続することが好ましい。このように電極2と第1導電パターン3を接合することで電気的に接続することができる。これにより、第1接続部材と筒体1との間には隙間が形成されることなく、筒体1の気密性もしくは高真空度を保つことができるため、安定した電子線20を得ることができる。ここで、導電ピン5は、銅、純チタン、白金などの非磁性金属からなり、円柱形状のロッドからの研削により得ることができる。
The
第1接続部材は、筒体1の内周面30と同一面上に配置されていることが好ましい。詳細には、図3の部分拡大断面図に示すように、第1接続部材がロウ付け部5aを介して配置された導電ピン5から成る場合、導電ピン5の端面のうち電極2が形成される側の端面と電極2を形成する前の筒体1の内周面が同一面上に形成されているものであり、導電ピン5と筒体1との境界部に微小な段差等はない。この内周面30に薄膜から成る電極2を形成する。この、薄膜はほぼ均一に膜付けされる。この結果、筒体1の電極2の表面を含む内周面30の真円度を2μm以下の小さなものとして、筒体1の内周面のうち電極2が形成された面における真円度、電極2が形成されていない面における真円度の差も小さくすることができる。また、電子光学コラムとして使用する際に筒体1の中空部を通過する電子線の位置精度を高精度に調整することができる。一方、導電ピン5の端面が筒体1の内周面30と同一面上に配置されない場合、即ち、導電ピン5と筒体1との境界部に段差が生じている場合、 電極2を形成する際に薄膜はほぼ均一に膜付けされるため、段差の形状は保持され、筒体1の内周面30の真円度を小さくすることができず、中空部を通過する電子線の位置精度が低いものとなってしまう。
The first connecting member is preferably disposed on the same surface as the inner
ここで、導電ピン5の端面と筒体1の内周面30とが同一面上に配置されているとは、導電ピン5を含む領域の筒体1の内周面の真円度が2μm以下の状態をいう。
Here, the fact that the end face of the
このように、導電ピン5の端面を筒体1の内周面30と同一面上に配置するには、導電ピン5をロウ付け等により筒体1に接続した後に、筒体1の内周面、導電ピン5の端面を同時に加工することによって得られ、詳細は上述のように真円度を2μm以下とする際と同様である。
Thus, in order to arrange the end face of the
図4の電子光学コラム100の斜視図に示すように、筒体1の外周面の軸方向に略垂直な鍔部4を設けることが好ましい。これにより、第1導電パターン3は鍔部4まで延設され、さらに鍔部4にて真空用信号ケーブルと接続される。第1導電パターン3と真空内用信号ケーブルの接続は、真空内用信号ケーブルの先端に取り付けたラグ端子を、第1導電パターン3に接触させ、ネジ止めすることにより行う。この接続方法により、接続位置を任意に設計することが可能となり、鍔部4に集中して真空内信号用ケーブルを配置することにより作業性を向上することができる。
As shown in the perspective view of the electro-
次いで、図5〜7を用いて、本発明の電子光学コラムの他の実施形態である電子光学多層コラムについて説明する。 Next, an electro-optic multilayer column, which is another embodiment of the electro-optic column of the present invention, will be described with reference to FIGS.
本発明の電子光学多層コラム200は、図5に示すように、図1〜3に示すような電子光学コラム100を複数層備えたものであり、外周面に電子光学コラム100の第1導電パターン3と接続する第2導電パターン13を備えた筒状の保持体11を備えるものである。
As shown in FIG. 5, the electro-
保持体11は、上述の電子光学コラム100における筒体1と同様に、金属、樹脂、無機物のいずれから選択されるが、真空中での発塵、放出ガスが少なく、電子線が照射されても電気的性質が変化しないなどの理由から無機物であることが好ましく、特にアルミナ質焼結体であることが好ましい。アルミナ質焼結体は、焼結体中のアルカリ元素などの含有量をコントロールすることにより、電圧印加による焼結体中のイオンのマイグレーションを抑制することができるので、長期間にわたり保持体11の電気特性を安定化することができる。
The holding
保持体11の内部には、外周面に第1導電パターン3が形成された筒体1を配置することから、保持体11は絶縁体であることが好ましく、アルミナ質焼結体は焼結体中の遷移金属元素、金属元素などの含有量をコントロールすることにより容易に絶縁体を得ることができるため好ましい。
Since the
このように外周面に筒体1の第1導電パターン3と接続する第2導電パターン13を有する保持体11を備えることにより、さらに複雑な配線が可能になる。
Thus, by providing the holding
さらに、図5に示すように、電極2の機能毎に筒体1を分割し、各々の筒体1を組み立てる場合、分割した筒体1の同軸度のズレは、筒体1の内部を透過する電子線20の精度に直接影響を及ぼす。ここで、本実施例のように、保持体11によって筒体1を位置決めを行うことが可能になり、筒体1の組立精度を高めることができる電子光学多層コラム200を得ることができる。
Further, as shown in FIG. 5, when the
通常のケーブルで行う配線は複数のケーブルの相互の位置が、繰り返し組立てる毎に変わり、クロストークノイズ等が変化する可能性があるが、本発明の電子光学コラム100及び電子光学多層コラム200に形成する第1導電パターン3及び第2導電パターン13は、共に固定配線であるため、繰り返し組立を行ってもクロストークノイズの状態等は変化しない。
Wiring performed by a normal cable changes each time a plurality of cables are repeatedly assembled, and crosstalk noise or the like may change. However, the wiring is formed in the electro-
電子光学コラム100の第1導電パターン3と同様、図5に示すように保持体11の外周面に形成する第2導電パターン13は、保持体11の外周面に溝部13aを形成し、この溝部13a内に導電体13bを形成することが好ましい。保持体11の外周面に溝部13aを形成する方法としては、筒体1に形成する溝部3aと同様に形成することができる。
Similar to the first
筒体1に形成された第1導電パターン3と、保持体11に形成された第2導電パターン13の接合方法について図6を用いて説明する。
The joining method of the 1st
図6(a)は、本発明の電子光学多層コラム200における第1導電パターン3と第2導電パターン13との接続を示す部分拡大断面図、同ず(b)は第1接続部材と第2接続部材との接続を示す部分拡大断面図である。
FIG. 6A is a partially enlarged sectional view showing the connection between the first
図6に示すように、筒体1の外周面に形成した第1導電パターン3と、保持体11の外周面に形成した第2導電パターン13は、保持体11に設けられた接続孔16に第2接続部材である導電ピン15を介して接続することが好ましい。
As shown in FIG. 6, the first
この第2接続部材は、図6(a)に示すように、第1接続部材と同様、第2導電パターン13の導電体13bとは別体の導電ピン15により形成されることが好ましいが、導電線を筒体1の内部に引き回したものでもよい。保持体11には外周面から内周面30にかけて貫通する接続孔16を設け、この接続孔16に導電ピン15を配置する。また保持体11の内部に備える筒体1の外周面側に接続ブッシュ28を配置し、導電ピン15の先端部を接続ブッシュ28に接合することにより、第1導電パターン3と第2導電パターン13を電気的に接続することができる。保持体11の接続孔16の側面には、第2導電パターン13が延設されており、第1導電パターン3と第2導電パターン13は、固定配線とすることができ、繰り返し組立を行ってもクロストークノイズの状態等は変化しない効果が得られる。なお、図6(a)では導電ピン15を接続ブッシュ28にて固定しているが、導電ピン15を接続孔16内にロウ付けにて保持してもよい。
As shown in FIG. 6A, the second connection member is preferably formed by a
第1導電パターン3と第2接続部である導電ピン15とが接続される場合、特に、図6(b)に示すように、第1接続部材を成す導電ピン5の保持体11側の端部と、第2接続部材を成す導電ピン15端部とが直接当接していることが好ましい。
When the first
これにより接続部分を小型化することができ、接続部分およびその近傍に電界が集中しにくくなるため、高電圧を印加しても、接続部分及びその近傍から放電が起こりにくくなる。 As a result, the connection portion can be reduced in size, and the electric field is less likely to concentrate on the connection portion and the vicinity thereof. Therefore, even when a high voltage is applied, the discharge hardly occurs from the connection portion and the vicinity thereof.
このように、第1接続部材を成す導電ピン5の保持体11側の端部と、第2接続部材を成す導電ピン15の端部とが直接当接させる構造として、導電ピン5の保持体11側の端部および導電ピン15の筒体1側の端部は、それぞれ図7(a)〜(d)に示す要部拡大正面図のように、それぞれの端部が凹状又は凸状であり、それぞれの端部が互いに凹凸嵌合する構造とすることで、確実に導電ピン5および導電ピン15の端部を当接させ、接続部分を小型化することができる。また、図7に示すような係脱可能な凹凸嵌合とすることにより、電子光学多層コラム200の洗浄等の際に、分解、組立も容易にすることができる。
As described above, the holding body of the
図6(b)に示すように、第2接続部材を成す導電ピン15は、中心に貫通孔15aを備えることが好ましく、電子光学多層コラム200内の閉空間をなくすことができるので、電子光学多層コラム200から気体を脱気する際に、早く気体を脱気できかつ高真空にすることができる。貫通孔15aを備えることによって、第1接続部材の保持体11側の端部と第2接続部材の筒体1側の端部を当接させる際に、貫通孔15a内にガイドピン(不図示)を挿入してガイドピンの先端を第1接続部材の端部に当接させたまま、第2接続部材を挿入することで、第1接続部材と第2接続部材を確実に当接させることができる。この貫通孔15aを備えた導電ピン15は、図6(a)に示すような接続ブッシュ28の代わりに保持体11の接続孔16内にナット26とブッシュ27を設けることにより導電ピン15を脱着可能に保持している。
As shown in FIG. 6B, the
このような電子光学多層コラム200は、その同軸度を2μm以下とすることが好ましい。これにより、電子銃から放出された電子線が、電子光学コラムを通り、電気的な位置の補正を行わなくても試料上において光軸中心に近い位置に照射される。また、電気的に補正を行わなくても成形された電子線を意図した形状に近似した形状とすることができる。特に、同軸度が小さい多層電子光学コラム200は、電子線描画装置に好適に搭載され、電子線を用いて高い寸法精度で描画することができる。より好ましくは、同軸度が1μm以下である。
Such an electro-
同軸度を2μm以下とするには、筒体1の内周面、外周面の同軸度を2μm以下とすればよく、保持体11の内周面の円筒度を1μm以下とし、さらに保持体11の内径と筒体1の外径の隙間を2μm以下とした上で保持体11内に筒体1を挿入すればよい。
In order to set the coaxiality to 2 μm or less, the coaxiality of the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the
なお、同軸度は、JIS B 0621で規定され、例えば、JIS B 7451に準拠した真円度測定器により測定することができる。 The coaxiality is defined by JIS B 0621, and can be measured by, for example, a roundness measuring device based on JIS B 7451.
図8に示すように、本発明の電子光学多層コラム200の保持体11には、外周面の軸方向に略垂直な鍔部14を形成することが好ましい。
As shown in FIG. 8, it is preferable to form a
第2導電パターン13は鍔部14まで延設され、さらに鍔部14にて真空用信号ケーブルと接続される。第2導電パターン13と真空内用信号ケーブルの接続は、真空内用信号ケーブルの先端に取り付けたラグ端子を、第2導電パターン13に接触させ、ネジ止めすることにより行う。この接続方法により、接続位置を任意に設計することが可能となり、鍔部14に集中して配置することにより作業性を向上することができる。また、鍔部14は保持体11を装置に固定する機能に加えて、第2導電パターン13と真空内用信号ケーブルとの接続部を集約する機能を具備することが可能である。
The second
1:筒体
2,22:電極
3:第1導電パターン
3a,13a:溝部
3b,13b:導電体
4,14:鍔部
5:導電ピン、5a:ロウ付部
15:導電ピン、15a:貫通孔
6,16:接続孔
11:保持体
13:第2導電パターン
17:電子光学鏡筒
18:真空内用信号ケーブル
19:絶縁支持部
20:電子線
23:メタライズ層
23a:密着メタライズ層、23b:接続用メタライズ層
24:導電性金属パッド
25:接続用金属パッド
26:ナット
27:ブッシュ
28:接続ブッシュ
30:内周面
100:電子光学コラム
200:電子光学多層コラム
1:
Claims (10)
該電子光学コラムが内部に配された筒状の保持体と、
該保持体の外周面に設けられた第2溝部と、
信号ケーブルが接続される端子部を有するとともに、前記第2溝部に配された第2導電パターンと、
前記第1導電パターンと前記第2導電パターンとを電気的に接続する、前記保持体に配された第2接続部材と、
を具備しており、
前記端子部は、前記第2接続部材と前記第2導電パターンとの接続箇所から、前記外周面に沿って離れている
ことを特徴とする電子光学多層コラム。 A cylindrical body that allows an electron beam to pass through the hollow portion, an electrode provided on the inner peripheral surface of the cylindrical body, a first groove portion provided on the outer peripheral surface of the cylindrical body, and a first groove portion disposed in the first groove portion An electro-optical column comprising: 1 conductive pattern; and a first connecting member that electrically connects the electrode and the first conductive pattern, and at least a part of which is disposed in the cylindrical body;
A cylindrical holder in which the electro-optic column is disposed;
A second groove provided on the outer peripheral surface of the holding body;
A terminal portion to which a signal cable is connected and a second conductive pattern disposed in the second groove portion;
A second connection member disposed on the holding body for electrically connecting the first conductive pattern and the second conductive pattern;
It has
The electro-optical multilayer column , wherein the terminal portion is separated from the connection portion between the second connection member and the second conductive pattern along the outer peripheral surface .
前記導電ピンを前記筒体に接続するロウ付け部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の電子光学多層コラム。 The first connecting member comprises a conductive pin,
The electro-optical multilayer column according to any one of claims 1 to 3 , further comprising a brazing portion for connecting the conductive pin to the cylindrical body.
前記第2導電パターンは、前記鍔部まで延設しており、前記鍔部に前記端子部を有することを特徴とする請求項1〜9の何れかに記載の電子光学多層コラム。 Further comprising a collar portion substantially perpendicular to the axial direction on the outer peripheral surface of the holding body,
The second conductive pattern is then extended to the collar portion, the electron optical multilayer column of any crab of claims 1 to 9, characterized in that it has the terminal portion to the flange portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006291105A JP4959288B2 (en) | 2005-10-28 | 2006-10-26 | Electro-optic multilayer column |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005313864 | 2005-10-28 | ||
JP2005313864 | 2005-10-28 | ||
JP2006291105A JP4959288B2 (en) | 2005-10-28 | 2006-10-26 | Electro-optic multilayer column |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007149655A JP2007149655A (en) | 2007-06-14 |
JP4959288B2 true JP4959288B2 (en) | 2012-06-20 |
Family
ID=38210782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006291105A Expired - Fee Related JP4959288B2 (en) | 2005-10-28 | 2006-10-26 | Electro-optic multilayer column |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4959288B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013047688A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 京セラ株式会社 | Electrostatic lens and charged particle beam device using same |
JP6185267B2 (en) * | 2013-03-25 | 2017-08-23 | 京セラ株式会社 | Control element and charged particle beam apparatus using the same |
EP3872836A1 (en) * | 2020-02-28 | 2021-09-01 | ASML Netherlands B.V. | Electrostatic lens designs |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07122786A (en) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Victor Co Of Japan Ltd | Led array device |
JPH10162763A (en) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Jeol Ltd | Sample holder |
JP2001118536A (en) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Nikon Corp | Charged particle beam control element and charged particle beam apparatus |
WO2003107383A1 (en) * | 2002-06-13 | 2003-12-24 | Okumura Katsuya | Electronic optical lens barrel and production method therefor |
-
2006
- 2006-10-26 JP JP2006291105A patent/JP4959288B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007149655A (en) | 2007-06-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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