JP4943883B2 - Resin laminate - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
本発明は光触媒機能を有する樹脂積層体に関する。 The present invention relates to a resin laminate having a photocatalytic function.
近年、合成樹脂の表面に光触媒層を形成し、光触媒機能を付与した積層体が開発されている。この積層体は、表面に露出する光触媒粒子により、悪臭の元となる有機物を分解したり、防汚・抗菌作用をなしたり、親水性を発揮したりするため、ドアミラー等の自動車部品、カーポートの屋根材等の建築資材、高速道路の防音壁等の道路資材等に使用されつつある(例えば、特許文献1)。しかしながら、上記のように主に屋外で使用される場合には、太陽光による透明性低下、黄変、及び層間剥離を防止するため、耐候性能を付与する必要がある。 In recent years, a laminated body in which a photocatalytic layer is formed on the surface of a synthetic resin and a photocatalytic function is provided has been developed. This laminated body decomposes organic substances that cause bad odors by using photocatalyst particles exposed on the surface, provides antifouling and antibacterial effects, and exhibits hydrophilicity. It is being used for building materials such as roofing materials and road materials such as soundproof walls of highways (for example, Patent Document 1). However, when used mainly outdoors as described above, it is necessary to provide weather resistance in order to prevent the decrease in transparency, yellowing, and delamination due to sunlight.
光触媒機能を有する層を含む樹脂積層体では、光触媒による樹脂層の分解を防ぐために、通常、光触媒層と直接接触する層に無機材料をマトリックス成分とする中間層を配置する。さらに耐候性を付与するためには例えば、前記中間層と樹脂基材層の間に耐候層を形成する。 In a resin laminate including a layer having a photocatalytic function, in order to prevent the resin layer from being decomposed by the photocatalyst, an intermediate layer containing an inorganic material as a matrix component is usually disposed in a layer in direct contact with the photocatalytic layer. Further, in order to impart weather resistance, for example, a weather resistant layer is formed between the intermediate layer and the resin base material layer.
耐候層としてはアクリル系樹脂等に低分子の耐候剤(紫外線吸収剤や光安定剤等)を数%添加したものがよく用いられているが(特許文献2)、耐候性の効果は十分でない。
耐候性を高めるために耐候剤を30%以上添加することが試みられているが(特許文献3)、使用時に耐候剤が樹脂基材との界面に移行し、そこで凝集し、樹脂積層体のヘーズが悪化することがあった。
As the weathering layer, an acrylic resin or the like having a low molecular weight weathering agent (ultraviolet absorber, light stabilizer, etc.) added in a few percent is often used (Patent Document 2), but the weathering effect is not sufficient. .
Attempts have been made to add 30% or more of a weathering agent in order to improve the weather resistance (Patent Document 3). However, the weathering agent migrates to the interface with the resin base material during use, and aggregates there to form a resin laminate. Haze sometimes worsened.
これらの問題を解決するために、アクリル系重合体に耐候性成分を結合させた高分子型耐候剤を膜にして耐候層とする手法が提案されている(特許文献4)。しかし、このような高分子型耐候剤は、通常のアクリル系重合体と比べてガラス転移点が低い。
このため、前記高分子型耐候剤のガラス移転点を越える環境で光触媒積層体を使用した場合、高分子型耐候剤が大きく膨張し、樹脂基材(例えばポリカーボネート)との界面に大きな応力が発生する。その結果、耐候層と樹脂基材層が剥離する問題があった。
For this reason, when a photocatalyst laminate is used in an environment that exceeds the glass transition point of the polymer-type weathering agent, the polymer-type weathering agent expands greatly and a large stress is generated at the interface with the resin substrate (for example, polycarbonate). To do. As a result, there was a problem that the weather resistant layer and the resin base material layer were peeled off.
本発明の目的は、光触媒機能を有すると共に、耐候性、耐久性に優れた樹脂積層体を提供することである。 An object of the present invention is to provide a resin laminate having a photocatalytic function and excellent weather resistance and durability.
本発明によれば、以下の樹脂積層体が提供される。
1.光触媒層、中間層、及び樹脂基材層を含み、
前記中間層が、紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子を、Si−O結合を有するマトリックス中に分散した層である樹脂積層体。
2.前記中間層が、下記成分(1)〜(6)を含むコーティング組成物(I)から形成されたものである1記載の樹脂積層体。
(1)アルコキシシラン化合物
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
3.前記中間層が、下記成分(2)〜(8)を含むコーティング組成物(II)から形成されたものである1記載の樹脂積層体。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物
4.前記中間層が、紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子及び平均粒子径が1〜200nmの無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカを、Si−O結合を有するマトリックス中に分散した層である1に記載の樹脂積層体。
5.前記中間層が、下記成分(2)〜(9)を含むコーティング組成物(III)から形成されたものである4に記載の樹脂積層体。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物
(9)無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカ
6.光触媒層、無機層、中間層、及び樹脂基材層を含み、
前記中間層が、下記成分(a)〜(d)を含むコーティング組成物(A)から形成されたものである樹脂積層体。
(a)アクリル系化合物
(b)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(c)ラジカル開始剤
(d)溶剤
7.前記有機高分子型微粒子がアクリル系樹脂及び/又はスチレン系樹脂を含有してなるものである1〜6のいずれか記載の樹脂積層体。
8.樹脂積層体の可視光線透過率が80%以上である1〜7のいずれか記載の樹脂積層体。
According to the present invention, the following resin laminate is provided.
1. Including a photocatalyst layer, an intermediate layer, and a resin base material layer,
A resin laminate in which the intermediate layer is a layer in which organic polymer fine particles containing an ultraviolet absorbing group and having an average particle size of 1 to 200 nm are dispersed in a matrix having Si-O bonds.
2. 2. The resin laminate according to 1, wherein the intermediate layer is formed from a coating composition (I) containing the following components (1) to (6).
(1) Alkoxysilane compound (2) Organic polymer type fine particles having an ultraviolet absorbing group and an average particle size of 1 to 200 nm (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound 2. The resin laminate according to 1, wherein the intermediate layer is formed from a coating composition (II) containing the following components (2) to (8).
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or 3. Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound The intermediate layer contains an organic polymer type fine particle having an average particle size of 1 to 200 nm and an ultraviolet ray absorbing particle having an average particle size of 1 to 200 nm and / or colloidal silica containing an ultraviolet absorbing group, and an Si—O bond. 2. The resin laminate according to 1, which is a layer dispersed in a matrix having
5. 5. The resin laminate according to 4, wherein the intermediate layer is formed from a coating composition (III) containing the following components (2) to (9).
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or 5. Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound (9) Inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica Including a photocatalyst layer, an inorganic layer, an intermediate layer, and a resin base material layer,
A resin laminate in which the intermediate layer is formed from a coating composition (A) containing the following components (a) to (d).
(A) Acrylic compound (b) Organic polymer type fine particles containing ultraviolet absorbing groups and having an average particle diameter of 1 to 200 nm (c) Radical initiator (d) Solvent 7. The resin laminate according to any one of 1 to 6, wherein the organic polymer fine particles contain an acrylic resin and / or a styrene resin.
8). The resin laminate according to any one of 1 to 7, wherein the visible light transmittance of the resin laminate is 80% or more.
本発明によれば、光触媒機能を有すると共に、耐候性、耐久性に優れた樹脂積層体が提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while having a photocatalyst function, the resin laminated body excellent in the weather resistance and durability can be provided.
[第一の樹脂積層体]
本発明の第一の樹脂積層体は、光触媒層、中間層、及び樹脂基材層を含み、中間層は、紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子を、Si−O結合を有するマトリックス中に分散した層である。
この樹脂積層体の一実施形態を図1に示す。この図に示すように、樹脂積層体1は、光触媒層10、第一の中間層20、及び樹脂基材層30からなる。
[First resin laminate]
The first resin laminate of the present invention includes a photocatalyst layer, an intermediate layer, and a resin base material layer, and the intermediate layer contains organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group, It is a layer dispersed in a matrix having Si—O bonds.
One embodiment of this resin laminate is shown in FIG. As shown in this figure, the resin laminate 1 includes a photocatalyst layer 10, a first intermediate layer 20, and a resin base layer 30.
中間層に含まれる有機高分子型微粒子は、好適には、紫外線吸収剤の機能を有する骨格を分子内に有する高分子化合物である。
有機高分子型微粒子は、好ましくはアクリル系樹脂及び/又はスチレン系樹脂を含む。例えば、紫外線吸収剤として作用する骨格(ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系)を側鎖に有するアクリル系モノマー及び/又はスチレン系モノマーと他のエチレン系不飽和化合物(アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体、スチレン、酢酸ビニル等)と共重合させたものが例示される。従来の紫外線吸収基を含有する有機微粒子が一般に分子量200〜700の低分子であるのに対し、本発明の紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子の重量平均分子量は通常1万を超える。プラスチックとの相溶性や耐熱性等、従来からある紫外線吸収基を含有する有機微粒子の欠点が改良され、長期にわたって耐候性能を付与できるものである。
The organic polymer type fine particles contained in the intermediate layer are preferably a polymer compound having a skeleton having the function of an ultraviolet absorber in the molecule.
The organic polymer type fine particles preferably contain an acrylic resin and / or a styrene resin. For example, an acrylic monomer and / or a styrene monomer and other ethylenically unsaturated compounds (acrylic acid, methacrylic acid and those having a skeleton (benzophenone, benzotriazole, triazine)) acting as an ultraviolet absorber in the side chain And derivatives thereof, styrene, vinyl acetate, etc.). Conventional organic fine particles containing an ultraviolet absorbing group are generally low molecular weight molecules having a molecular weight of 200 to 700, whereas the organic polymer type fine particles containing an ultraviolet absorbing group of the present invention usually have a weight average molecular weight exceeding 10,000. Disadvantages of conventional organic fine particles containing ultraviolet absorbing groups, such as compatibility with plastic and heat resistance, are improved, and weather resistance performance can be imparted over a long period of time.
さらに有機高分子型微粒子は平均粒子径が1〜200nmであることが必要である。200nmを越えると光触媒機能付き樹脂積層体の透明性が低下するおそれがある。好ましい平均粒子径は100nm以下である。 Furthermore, the organic polymer type fine particles are required to have an average particle diameter of 1 to 200 nm. If it exceeds 200 nm, the transparency of the resin laminate with a photocatalytic function may be lowered. A preferable average particle diameter is 100 nm or less.
使用形態は粉末状、又は酢酸エチル等の有機溶剤に分散させた分散系や、水中に分散したエマルジョン系等が挙げられる。
具体例としては、一方社油脂工業(株)製のコーティング用高分子紫外線吸収剤ULS−700、ULS−1700、ULS−383MA、ULS−1383MA、ULS−383MG、ULS−385MG、ULS−1383MG、ULS−1385MG、ULS−635MH、ULS−933LP、ULS−935LH、ULS−1935LH、HC−935UE、XL−504、XL−524、XL−547、XL−729、XL−730、(株)ニッコー化学研究所のNCI−905−20EM、NCI−905−20EMA等が挙げられる。好ましくは、可溶化溶剤が水、メタノール、エタノール、プロパノール、メトキシプロパノール等の低級アルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類であるものが挙げられる。このような溶剤を用いることにより、高分子紫外線吸収剤の分散性が向上し、沈降を防ぐことができる。さらに好ましくは可溶化溶剤が水のものである。可溶化溶媒が水の場合、Si−O結合を有するマトリックスの形成の際に必要な、シラン化合物の加水分解、縮合反応にも使用できるので好都合である。
Examples of the use form include a powder or a dispersion system dispersed in an organic solvent such as ethyl acetate, and an emulsion system dispersed in water.
As specific examples, coating ultraviolet light absorbers ULS-700, ULS-1700, ULS-383MA, ULS-1383MA, ULS-383MG, ULS-385MG, ULS-1383MG, and ULS manufactured by Yushi Co., Ltd. -1385MG, ULS-635MH, ULS-933LP, ULS-935LH, ULS-1935LH, HC-935UE, XL-504, XL-524, XL-547, XL-729, XL-730, Nikko Chemical Laboratory NCI-905-20EM, NCI-905-20EMA, and the like. Preferably, the solubilizing solvent is water, lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and methoxypropanol, and cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve. By using such a solvent, the dispersibility of the polymer ultraviolet absorber is improved, and sedimentation can be prevented. More preferably, the solubilizing solvent is water. When the solubilizing solvent is water, it is advantageous because it can also be used for hydrolysis and condensation reactions of silane compounds, which are necessary for forming a matrix having Si—O bonds.
Si−O結合を有するマトリックスとしては、シリコーン系化合物等を使用できる。一例として、ポリオルガノアルコキシシラン、テトラエトキシシラン、又はエチルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類を加水分解した後、縮合したものがそのままマトリックスとなる。 As the matrix having an Si—O bond, a silicone compound or the like can be used. As an example, a hydrolyzed alkoxysilane such as polyorganoalkoxysilane, tetraethoxysilane, or ethyltriethoxysilane, and then condensed to form a matrix as it is.
中間層は、好適には、下記成分(1)〜(6)を含むコーティング組成物(I)から形成される。
(1)アルコキシシラン化合物
(2)紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
The intermediate layer is preferably formed from a coating composition (I) containing the following components (1) to (6).
(1) Alkoxysilane compound (2) Organic polymer type fine particle containing ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound
他の実施形態として、中間層は、好適には、下記成分(2)〜(8)を含むコーティング組成物(II)から形成される。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物
In another embodiment, the intermediate layer is preferably formed from a coating composition (II) comprising the following components (2) to (8).
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound
アルコキシシラン化合物(1)は、好ましくは2官能アルコキシシラン、3官能アルコキシシラン又は4官能アルコキシシラン、より好ましくは3官能アルコキシシラン又は4官能アルコキシシランを使用でき、さらにこれらの化合物がシロキサン結合(Si−O結合)でつながった縮合物(ポリアルコキシシラン化合物)も使用可能である。尚、これらは単独で使用してもよく、複数を組み合わせて使用してもよい。 The alkoxysilane compound (1) is preferably a bifunctional alkoxysilane, a trifunctional alkoxysilane or a tetrafunctional alkoxysilane, more preferably a trifunctional alkoxysilane or a tetrafunctional alkoxysilane. A condensate (polyalkoxysilane compound) linked by a -O bond can also be used. In addition, these may be used alone or in combination.
3官能アルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、イソシアネート基を2−ブタノオキシム等でブロック化したブロック化イソシアネートトリメトキシシラン等が挙げられる。 Trifunctional alkoxysilanes include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and γ-methacrylic. Examples thereof include loxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, and blocked isocyanate trimethoxysilane in which an isocyanate group is blocked with 2-butanooxime or the like.
4官能のアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン等が挙げられる。
ポリアルコキシシラン化合物の具体例としては、多摩化学工業(株)製の「シリケート40」、「シリケート45」、「シリケート48」、「Mシリケート51」、「MTMS−シリケートA」等のポリアルコキシシラン化合物(アルコキシシリケート化合物)が挙げられる。
Examples of the tetrafunctional alkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetraisobutoxysilane.
Specific examples of the polyalkoxysilane compound include polyalkoxysilanes such as “silicate 40”, “silicate 45”, “silicate 48”, “M silicate 51”, and “MTMS-silicate A” manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd. Examples include compounds (alkoxysilicate compounds).
硬化触媒(3)は、シラン化合物(1)、(5)、(6)、(7)及び(8)の加水分解及び縮合(硬化)させる触媒であり、その例として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、亜硝酸、過塩素酸、スルファミン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタミン酸、乳酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
また、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、n−ヘキシルアミン、ジメチルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、酢酸エタノールアミン、ギ酸ジメチルアニリン、安息香酸テトラエチルアンモニウム塩、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、グルタミン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウムアセテート、オクチル酸スズ等の有機金属塩、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、SnCl4、TiCl4、ZnCl4等のルイス酸等が挙げられる。
The curing catalyst (3) is a catalyst for hydrolysis and condensation (curing) of the silane compounds (1), (5), (6), (7) and (8). Examples thereof include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid , Inorganic acids such as phosphoric acid, nitrous acid, perchloric acid, sulfamic acid, organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, oxalic acid, tartaric acid, succinic acid, maleic acid, glutamic acid, lactic acid, p-toluenesulfonic acid Examples include acids.
Lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, n-hexylamine, dimethylamine, tributylamine, diazabicycloundecene, ethanolamine acetate, dimethylaniline formate, tetraethylammonium benzoate, sodium acetate, potassium acetate Organic metal salts such as sodium propionate, sodium glutamate, potassium propionate, sodium formate, potassium formate, benzoyltrimethylammonium acetate, tetramethylammonium acetate, tin octylate, tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, aluminum triisobutoxide , aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, SnCl 4, TiCl 4, etc. Lewis acids ZnCl 4 and the like can be mentioned, et al That.
これらの硬化触媒(3)のうち、紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子(2)の配合量を増量しても高分散化でき、得られる膜の透明性を向上できることから、有機酸が好ましい。特に有機カルボン酸、なかでも酢酸が好ましく使用できる。これらは単独で使用してもよく、また、複数を併用してもよい。 Among these curing catalysts (3), the organic polymer type fine particles (2) containing an ultraviolet absorbing group can be highly dispersed even when the blending amount is increased, and the transparency of the resulting film can be improved. Is preferred. In particular, organic carboxylic acids, especially acetic acid can be preferably used. These may be used alone or in combination.
アミノシラン化合物(アミノ基含有シラン化合物)(5)は、アミノ基を含むがエポキシ基とイソシアネート基は含まないアルコキシシラン化合物である。具体例としては、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N―(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 The aminosilane compound (amino group-containing silane compound) (5) is an alkoxysilane compound containing an amino group but not containing an epoxy group and an isocyanate group. Specific examples include N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3- Aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, N -Methylaminopropyltriethoxysilane and the like.
好適なアミノシラン化合物(5)を、以下の式(2)で表すことができる。
(R11)nSi(OR2)4−n (2)
(式中、R11は同じでも異なってもよく炭素数1〜4のアルキル基;ビニル基;フェニル基;又はメタクリロキシ基、アミノ基(−NH2基)、アミノアルキル基(−(CH2)x−NH2)、アルキルアミノ基(−NHR基)からなる群から選ばれる1以上の基で置換された炭素数1〜3のアルキル基であり、R11の少なくとも1つは、アミノ基、アミノアルキル基、アルキルアミノ基のいずれかで置換された炭素数1〜3のアルキル基である。上記アミノアルキル基におけるxは、1〜3の整数であり、上記アルキルアミノ基におけるRは炭素数1〜3のアルキル基である。R2は炭素数1〜4のアルキル基である。nは1又は2の整数である。)
A suitable aminosilane compound (5) can be represented by the following formula (2).
(R 11 ) n Si (OR 2 ) 4-n (2)
(In the formula, R 11 may be the same or different, and the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; vinyl group; phenyl group; or methacryloxy group, amino group (—NH 2 group), aminoalkyl group (— (CH 2 )) x— NH 2 ), an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with one or more groups selected from the group consisting of alkylamino groups (—NHR groups), and at least one of R 11 is an amino group, An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with either an aminoalkyl group or an alkylamino group, wherein x in the aminoalkyl group is an integer of 1 to 3, and R in the alkylamino group is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 1 or 2.)
エポキシシラン化合物(エポキシ基含有シラン化合物)(6)は、エポキシ基を含むがアミノ基とイソシアネート基は含まないアルコキシシラン化合物である。具体例としては、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 The epoxy silane compound (epoxy group-containing silane compound) (6) is an alkoxy silane compound containing an epoxy group but not an amino group or an isocyanate group. Specific examples include 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and the like.
好適なエポキシシラン化合物(6)を、以下の式(3)で表すことができる。
(R21)nSi(OR2)4−n (3)
(式中、R21は同じでも異なってもよく炭素数1〜4のアルキル基;ビニル基;フェニル基;又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる1以上の基で置換された炭素数1〜3のアルキル基であり、R21の少なくとも1つは、グリシドキシ基又は3,4−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数1〜3のアルキル基である。R2は炭素数1〜4のアルキル基である。nは1又は2の整数である。)
A suitable epoxysilane compound (6) can be represented by the following formula (3).
(R 21 ) n Si (OR 2 ) 4-n (3)
Wherein R 21 may be the same or different and is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; a vinyl group; a phenyl group; or one or more selected from the group consisting of a methacryloxy group, a glycidoxy group, and a 3,4-epoxycyclohexyl group And at least one of R 21 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a glycidoxy group or a 3,4-epoxycyclohexyl group. R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 1 or 2.)
オルガノアルコキシシラン化合物(7)は、アミノ基、エポキシ基、及びイソシアネート基を含まないオルガノアルコキシシラン化合物である。好ましくは2官能アルコキシシラン、3官能アルコキシシランである。さらに、これらの化合物がシロキサン結合(Si−O結合)で結合された部分縮合物(即ち、ポリオルガノアルコキシシラン化合物)も使用可能である。尚、これらの化合物は、単独で使用してもよく、複数を組み合わせて使用してもよい。
3官能アルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシシラン、メチル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、デシルトリプロポキシシラン、デシルトリブトキシシラン、置換基にフッ素原子を導入したトリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフッ素化アルキル(トリアルコキシ)シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。また2種類のアルコキシ基を有するメチルジメトキシ(エトキシ)シラン、エチルジエトキシ(メトキシ)シラン等も挙げられる。
2官能アルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス(2−メトキシエトキシ)ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等が挙げられる。
The organoalkoxysilane compound (7) is an organoalkoxysilane compound containing no amino group, epoxy group, or isocyanate group. Bifunctional alkoxysilane and trifunctional alkoxysilane are preferred. Furthermore, a partial condensate (that is, a polyorganoalkoxysilane compound) in which these compounds are bonded by a siloxane bond (Si—O bond) can also be used. In addition, these compounds may be used independently and may be used in combination of multiple.
Trifunctional alkoxysilanes include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, methyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyl Tripropoxysilane, ethyltributoxysilane, ethyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, hexyltripropoxysilane, hexylriboxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane Fluorinated alkyl (trialkoxy) silanes such as decyltripropoxysilane, decyltributoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxysilane in which a fluorine atom is introduced into the substituent. Emissions, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, .gamma.-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. Moreover, methyldimethoxy (ethoxy) silane, ethyl diethoxy (methoxy) silane, etc. which have two types of alkoxy groups are mentioned.
Examples of the bifunctional alkoxysilane include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, bis (2-methoxyethoxy) dimethylsilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like.
好適なオルガノアルコキシシラン化合物(7)を、以下の式(1)で表すことができる。
(R1)mSi(OR2)4−m (1)
(式中、R1は同じでも異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基;フッ素化アルキル基;ビニル基;フェニル基;又はメタクリロキシ基で置換された炭素数1〜3のアルキル基である。R2は炭素数1〜4のアルキル基、もしくはエーテル基を有するアルキル基である。mは1又は2のいずれかの整数である。)
A suitable organoalkoxysilane compound (7) can be represented by the following formula (1).
(R 1 ) m Si (OR 2 ) 4-m (1)
(In the formula, R 1 may be the same or different and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; a fluorinated alkyl group; a vinyl group; a phenyl group; or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a methacryloxy group. R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an ether group, and m is an integer of 1 or 2.)
ポリオルガノアルコキシシラン化合物(7)は、好ましくは分子量200〜6000のアルコキシシラン化合物である。例えば、以下の式で表すことができる。
好適なポリオルガノアルコキシシラン化合物(7)を、以下の式(1’)で表すことができる。
(R1)mSinOn−1(OR2)2n+2−m (1’)
(式中、R1は同じでも異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基;フッ素化アルキル基;ビニル基;フェニル基;又はメタクリロキシ基で置換された炭素数1〜3のアルキル基である。R2は炭素数1〜4のアルキル基、もしくはエーテル基を有するアルキル基である。mはn〜2nのいずれかの整数である。nは2〜15のいずれかの整数である。)
尚、ポリオルガノアルコキシシラン化合物(7)は、複数のnが異なる化合物からなる混合物もよい。また、上記式(1’)において、アルキル基の具体例としては、上記3官能アルコキシシランにおけるアルキル基が挙げられる。
ポリオルガノアルコキシシラン化合物としては、具体的には3官能アルコキシシランであるメチルトリメトキシシランやフェニルトリメトキシシランが部分縮合してできたポリメチルメトキシシロキサン(実施例で用いたMTMS−Aが相当。メチルメトキシシロキサンと表記する場合もある。)やポリフェニルメトキシシロキサン、2官能アルコキシシランであるジエチルジエトキシシランが部分縮合してできたポリメジエチルエトキシシロキサン等が挙げられる。
The polyorganoalkoxysilane compound (7) is preferably an alkoxysilane compound having a molecular weight of 200 to 6000. For example, it can be expressed by the following formula.
A suitable polyorganoalkoxysilane compound (7) can be represented by the following formula (1 ′).
(R 1 ) m Si n O n-1 (OR 2 ) 2n + 2-m (1 ′)
(In the formula, R 1 may be the same or different and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; a fluorinated alkyl group; a vinyl group; a phenyl group; or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a methacryloxy group. R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyl group having an ether group, m is an integer of n to 2n, and n is an integer of 2 to 15.)
The polyorganoalkoxysilane compound (7) may be a mixture of a plurality of compounds having different n. In the above formula (1 ′), specific examples of the alkyl group include the alkyl group in the trifunctional alkoxysilane.
As the polyorganoalkoxysilane compound, specifically, polymethylmethoxysiloxane formed by partial condensation of methyltrimethoxysilane or phenyltrimethoxysilane which are trifunctional alkoxysilanes (MTMS-A used in the examples corresponds). In some cases, it may be expressed as methylmethoxysiloxane.) And polyphenylmethoxysiloxane, and diethyldiethoxysilane, which is a bifunctional alkoxysilane, are partially condensed to form polydiethylethoxysiloxane.
ポリオリガノアルコキシシラン化合物(7)の具体例としては、多摩化学工業株式会社製の「MTMS−A」、コルコート株式会社製の「SS−101」、東レ・ダウコーニング株式会社製の「AZ−6101」「SR2402」「AY42−163」等が挙げられる。 Specific examples of the polyorganoalkoxysilane compound (7) include “MTMS-A” manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd., “SS-101” manufactured by Colcoat Co., Ltd., and “AZ-” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. 6101 "," SR2402 "," AY42-163 ", and the like.
ブロック化イソシアネートシラン化合物(8)とは、イソシアネート基をオキシム等のブロック剤で保護して不活性としておき、加熱により脱ブロック化してイソシアネート基が活性化(再生)されるイソシアネートシラン化合物である。
イソシアネートシラン化合物(イソシアネート基含有シラン化合物)は、イソシアネート基は含むがアミノ基とエポキシ基は含まないアルコキシシラン化合物である。具体例としては、γ―イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ―イソシアネートプロピルトリエトキシシシラン、イソシアネートシラン化合物等が挙げられる。本発明においては、これらのイソシアネートシラン化合物のイソシアネート基がブロック化された化合物を使用する。ブロック化イソシアネートシラン化合物としては、好ましくは、ブロック化イソシアネートプロピルトリエトキシシランである。
The blocked isocyanate silane compound (8) is an isocyanate silane compound in which an isocyanate group is protected by a blocking agent such as oxime to be inactive and is deblocked by heating to activate (regenerate) the isocyanate group.
An isocyanate silane compound (isocyanate group-containing silane compound) is an alkoxysilane compound that contains an isocyanate group but does not contain an amino group or an epoxy group. Specific examples include γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, isocyanate silane compounds, and the like. In the present invention, compounds in which isocyanate groups of these isocyanate silane compounds are blocked are used. The blocked isocyanate silane compound is preferably blocked isocyanate propyltriethoxysilane.
イソシアネート基のブロック化剤としては、アセトオキシム、2−ブタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、メチルイソブチルケトオキシム等のオキシム化合物、ε−カプロラクラム等のラクタム類、モノアルキルフェノール(クレゾール、ノニルフェノール等)等のアルキルフェノール類、3,5−キシレノール、ジ−t−ブチルフェノール等のジアルキルフェノール類、トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジエステル、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル等の活性メチレン化合物類、メタノール、エタノール、n−ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の水酸基含有エーテル類、乳酸エチル、乳酸アミル等の水酸基含有エステル類、ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン等のメルカプタン類、アセトアニリド、アクリルアマイド、タイマー酸アマイド等の酸アミド類、イミダゾール、2−エチルイミダゾール等のイミダゾール類、3,5−ジメチルピラゾール等のピラゾール類、1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール類、コハク酸イミド、フタル酸イミド等の酸イミド類等を使用できる。またブロック化剤解離温度を制御する為、ジブチル錫ジラウレート等の触媒を併用してもよい。 Examples of isocyanate group blocking agents include oxime compounds such as acetooxime, 2-butanone oxime, cyclohexanone oxime, methyl isobutyl ketoxime, lactams such as ε-caprolaclam, alkylphenols such as monoalkylphenol (cresol, nonylphenol, etc.), Active methylene compounds such as 3,5-xylenol, dialkylphenols such as di-t-butylphenol, trialkylphenols such as trimethylphenol, malonic acid diesters such as diethyl malonate, acetoacetates such as acetylacetone and ethyl acetoacetate , Alcohols such as methanol, ethanol and n-butanol, hydroxyl group-containing ethers such as methyl cellosolve and butyl cellosolve, hydroxyl group such as ethyl lactate and amyl lactate Stealtes, mercaptans such as butyl mercaptan, hexyl mercaptan, acid amides such as acetanilide, acrylic amide, and timer acid amide, imidazoles such as imidazole and 2-ethylimidazole, pyrazoles such as 3,5-dimethylpyrazole, 1 , 2,4-triazole and the like, and acid imides such as succinimide and phthalic imide can be used. In order to control the dissociation temperature of the blocking agent, a catalyst such as dibutyltin dilaurate may be used in combination.
上記コーティング組成物(I)及びコーティング組成物(II)は、水及び/又は有機溶剤等の溶剤(4)に混合された状態で使用する。溶剤(4)は、上記各成分を均一に混合できるものであれば特に限定されないが、例えば、水の他、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類等の有機溶剤を挙げることができる。これら有機溶剤のうち、アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ヘキシルアルコール、n−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール(プロピレングリコールモノメチルエーテル)、プロピレンモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等を挙げることができる。
その他の溶媒の具体例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、キシレン、ジクロロエタン、トルエン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸エトキシエチル等が挙げられる。
これらは、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The said coating composition (I) and coating composition (II) are used in the state mixed with solvent (4), such as water and / or an organic solvent. The solvent (4) is not particularly limited as long as the above components can be mixed uniformly. For example, in addition to water, organic solvents such as alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters, etc. Can be mentioned. Among these organic solvents, specific examples of alcohol include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol, n-hexyl alcohol, and n-octyl. Alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether, 1-methoxy-2-propanol (propylene glycol monomethyl ether), propylene monomethyl ether acetate, diacetone alcohol , Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve and the like.
Specific examples of other solvents include cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, xylene, dichloroethane, toluene, methyl acetate, ethyl acetate, ethoxyethyl acetate, and the like. Is mentioned.
These may be used singly or in combination of two or more.
コーティング組成物(I)において、各成分(1)〜(6)の配合量は以下のとおりである。まず、溶剤(4)の配合量は、成分(1)〜(3),(5),(6)の配合量の合計100質量部に対して好ましくは10〜1000質量部、より好ましくは10〜800質量部、特に好ましくは50〜600質量部である。 In coating composition (I), the compounding quantity of each component (1)-(6) is as follows. First, the blending amount of the solvent (4) is preferably 10 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass in total of the blending amounts of the components (1) to (3), (5) and (6). It is -800 mass parts, Most preferably, it is 50-600 mass parts.
成分(1)は、好ましくは5〜90質量部、より好ましくは10〜90質量部、より好ましくは15〜75質量部である。5質量部未満では無機層(マトリックスが無機物)との密着性が不足するおそれがある。配合量が90質量部を越えると有機層(マトリックスが有機物である層、例えば樹脂基材層)との密着性が不足するおそれがある。 Component (1) is preferably 5 to 90 parts by mass, more preferably 10 to 90 parts by mass, and more preferably 15 to 75 parts by mass. If it is less than 5 mass parts, there exists a possibility that adhesiveness with an inorganic layer (a matrix is an inorganic substance) may be insufficient. If the blending amount exceeds 90 parts by mass, the adhesion with the organic layer (a layer whose matrix is an organic substance, such as a resin base material layer) may be insufficient.
紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子(2)の配合量は、好ましくは1〜95質量部で、より好ましくは3〜85質量部、さらに好ましくは5〜75質量部である。1質量部未満の場合は十分な耐候性を示さない場合がある。95質量部を越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。 The blending amount of the organic polymer type fine particles (2) containing an ultraviolet absorbing group is preferably 1 to 95 parts by mass, more preferably 3 to 85 parts by mass, and still more preferably 5 to 75 parts by mass. When the amount is less than 1 part by mass, sufficient weather resistance may not be exhibited. If it exceeds 95 parts by mass, the film forming property may be deteriorated (cracked).
硬化触媒(3)の配合量は好ましくは0.1〜30質量部である。0.1質量部未満では硬化不良の原因となり、30質量部を超えると硬化が速すぎて中間層膜が不均一となる場合がある。 The amount of the curing catalyst (3) is preferably 0.1 to 30 parts by mass. If the amount is less than 0.1 parts by mass, curing may be caused. If the amount exceeds 30 parts by mass, curing may be too fast and the intermediate layer film may be non-uniform.
アミノシラン化合物(5)は好ましくは3〜55質量部、より好ましくは
5〜45質量部である。55質量部を越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。
エポキシシラン化合物(6)は好ましくは3〜60質量部、より好ましくは5〜45質量部である。60質量部を越えると膜(中間層)の透明性が劣るおそれがある。
The aminosilane compound (5) is preferably 3-55 parts by mass, more preferably 5-45 parts by mass. If it exceeds 55 parts by mass, the film forming property may be deteriorated (cracked).
The epoxysilane compound (6) is preferably 3 to 60 parts by mass, more preferably 5 to 45 parts by mass. If it exceeds 60 parts by mass, the transparency of the film (intermediate layer) may be inferior.
コーティング組成物(I)は、上記成分(1)〜(6)を混合して調製する。少なくとも成分(1)及び成分(2)を含む第一の混合液を作製し、少なくとも成分(1),(5),(6)を含む第二の混合液を作製し、その後両者を混合するのが好ましい。このようにすることによりコーティング組成物の保存安定性(ゲル化しない等)が向上する。尚、好ましくは、成分(3),(4)は第1の混合液に混合する。 The coating composition (I) is prepared by mixing the components (1) to (6). A first mixed solution containing at least component (1) and component (2) is prepared, a second mixed solution containing at least components (1), (5), and (6) is prepared, and then both are mixed. Is preferred. By doing so, the storage stability (such as not gelling) of the coating composition is improved. In addition, Preferably, component (3), (4) is mixed with a 1st liquid mixture.
コーティング組成物(II)において、各成分(2)〜(8)の配合量は、適宜設定できるが、例えば、以下の通りである。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子:0.1〜50重量%(より好ましくは5〜50重量%)
(3)硬化触媒:0.1〜40重量%(より好ましくは0.1〜30重量%)
(5)アミノシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは3〜40重量%)
(6)エポキシシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは5〜50重量%)
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物:好ましくは10〜80重量%(より好ましくは15〜75重量%)
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは5〜60重量%)
(4)溶剤:成分(2),(3),(5),(6),(7)及び(8)の合計を100重量部としたとき、5〜1000重量部(より好ましくは20〜800重量部)
In the coating composition (II), the blending amounts of the components (2) to (8) can be set as appropriate, and are as follows, for example.
(2) Organic polymer type fine particles containing ultraviolet absorbing groups and having an average particle size of 1 to 200 nm: 0.1 to 50% by weight (more preferably 5 to 50% by weight)
(3) Curing catalyst: 0.1 to 40% by weight (more preferably 0.1 to 30% by weight)
(5) Aminosilane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 3 to 40% by weight)
(6) Epoxysilane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 5 to 50% by weight)
(7) Organoalkoxysilane compound or polyorganoalkoxysilane compound: preferably 10 to 80% by weight (more preferably 15 to 75% by weight)
(8) Blocked isocyanate silane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 5 to 60% by weight)
(4) Solvent: When the total of components (2), (3), (5), (6), (7) and (8) is 100 parts by weight, 5-1000 parts by weight (more preferably 20- 800 parts by weight)
紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子(2)が50重量%を超えて混合される場合は、耐擦傷性や造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。0.1重量%未満の場合は、十分な耐候性を示さないおそれがある。 When the organic polymer type fine particles (2) containing an ultraviolet absorbing group and having an average particle size of 1 to 200 nm are mixed in an amount exceeding 50% by weight, the scratch resistance and film forming property may be deteriorated (cracked). is there. If it is less than 0.1% by weight, sufficient weather resistance may not be exhibited.
硬化触媒(3)が40重量%を超えて混合される場合は、コーティング液の安定性が低下するおそれがあり、0.1重量%未満の場合は、硬化不良の原因となるおそれがある。 When the curing catalyst (3) exceeds 40% by weight, the stability of the coating solution may be reduced. When the curing catalyst (3) is less than 0.1% by weight, it may cause poor curing.
アミノシラン化合物(5)が60重量%を超えて混合される場合は、造膜性が低下し(ひび割れ)、1重量%未満の場合は、密着性、耐擦傷性が著しく低下するおそれがある。さらに配合量下限については、実施例で示すように、3重量%以上使用することが、耐擦傷性発現に好ましい。 When the aminosilane compound (5) is mixed in an amount exceeding 60% by weight, the film-forming property is deteriorated (cracked), and when it is less than 1% by weight, the adhesion and scratch resistance may be significantly decreased. Furthermore, about the minimum of compounding quantity, as shown in an Example, using 3 weight% or more is preferable for abrasion-resistant expression.
エポキシシラン化合物(6)が60重量%を超えて混合される場合は、膜の透明性、密着性、耐擦傷性、コーティング液安定性が低下し、1重量%未満の場合は、造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。さらに配合量下限については、5重量%以上使用することが、造膜性発現に好ましい。より好ましくは、10重量%以上である。 When the epoxysilane compound (6) exceeds 60% by weight, the transparency, adhesion, scratch resistance, and coating solution stability of the film are deteriorated. May decrease (crack). Furthermore, about the minimum of compounding quantity, using 5 weight% or more is preferable for film forming property expression. More preferably, it is 10% by weight or more.
オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物(7)が
80重量%を超えて混合される場合は、密着性が低下するおそれがあり、10重量%未満の場合は、耐擦傷性や造膜性が低下(ひび割れ等)のおそれがある。
When the organoalkoxysilane compound or the polyorganoalkoxysilane compound (7) is mixed in an amount exceeding 80% by weight, the adhesion may be lowered. When the amount is less than 10% by weight, the scratch resistance and film-forming property are decreased. May decrease (crack, etc.).
ブロック化イソシアネートシラン化合物(8)が60重量%を超えて混合される場合は、造膜性が低下し、1重量%未満の場合は、コーティング液安定性が低下するおそれがある。さらに、配合量下限については、5重量%以上使用することが、耐久性(耐湿性)発現に好ましい。より好ましくは、10重量%以上である。
上記ブロック化イソシアネートシラン化合物(8)の配合量は、イソシアネートシラン化合物及びブロック化剤の合計量である。
イソシアネートシラン化合物及びブロック化剤の配合モル比は、通常、0.9〜1.1:0.9〜1.1であり、好ましくは0.95〜1.05:0.95〜1.05である。
When the blocked isocyanate silane compound (8) is mixed in an amount exceeding 60% by weight, the film forming property is lowered, and when it is less than 1% by weight, the coating liquid stability may be lowered. Furthermore, with respect to the lower limit of the blending amount, it is preferable to use 5% by weight or more in order to develop durability (moisture resistance). More preferably, it is 10% by weight or more.
The amount of the blocked isocyanate silane compound (8) is the total amount of the isocyanate silane compound and the blocking agent.
The compounding molar ratio of the isocyanate silane compound and the blocking agent is usually 0.9 to 1.1: 0.9 to 1.1, preferably 0.95 to 1.05: 0.95 to 1.05. It is.
溶剤(4)の配合量は、成分(2),(3),(5),(6),(7)及び(8)の合計を100重量部としたとき、好ましくは5〜1000重量部、より好ましくは20〜800重量部、特に好ましくは50〜600重量部の範囲で使用される。 The amount of the solvent (4) is preferably 5 to 1000 parts by weight when the total of the components (2), (3), (5), (6), (7) and (8) is 100 parts by weight. More preferably, it is used in the range of 20 to 800 parts by weight, particularly preferably 50 to 600 parts by weight.
コーティング組成物(II)は、上記成分(2)〜(8)を混合して調製する。
好ましくは、少なくとも成分(7)及び成分(8)を含む第一の混合液を作製し、最後に成分(5)を混合する。
このように、分離して調製すると、コーティング組成物の液保存安定性(ゲル化しない等)が向上したりするため、好ましい。
例えば、成分(7),(6),(2)〜(4)を混合した後、成分(8)を加え、最後に成分(5)を混合する。
成分(4)は、コーティング組成物を調製後、さらに加えることによりコーティング組成物を希釈することができる。
The coating composition (II) is prepared by mixing the components (2) to (8).
Preferably, a first mixed solution containing at least component (7) and component (8) is prepared, and finally component (5) is mixed.
Thus, when prepared separately, the liquid storage stability of the coating composition (such as non-gelling) is improved, which is preferable.
For example, the components (7), (6), (2) to (4) are mixed, the component (8) is added, and finally the component (5) is mixed.
Component (4) can be added to the coating composition to further dilute the coating composition.
本発明の樹脂積層体の中間層は、好ましくは紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子及び平均粒子径が1〜200nmの無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカを、Si−O結合を有するマトリックス中に分散した層である。このような中間層を得るためには、上述した成分(2)〜(8)を含むコーティング組成物(II)に、さらに無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカ(9)を加えたコーティング組成物(III)を用いればよい。無機系紫外線吸収材及び/又はコロイダルシリカの平均粒径は、好ましくは、1〜100nmである。 The intermediate layer of the resin laminate of the present invention is preferably an organic polymer type fine particle having an average particle diameter of 1 to 200 nm and an inorganic ultraviolet absorbing particle having an average particle diameter of 1 to 200 nm and / or containing an ultraviolet absorbing group and / or This is a layer in which colloidal silica is dispersed in a matrix having Si—O bonds. In order to obtain such an intermediate layer, a coating obtained by further adding inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica (9) to the coating composition (II) containing the components (2) to (8) described above. Composition (III) may be used. The average particle diameter of the inorganic ultraviolet absorber and / or colloidal silica is preferably 1 to 100 nm.
無機系紫外線吸収性粒子(9)として、半導体を例示できる。半導体は、バンドギャップ以上のエネルギーがもつ光、即ち紫外線を吸収し、伝導帯に電子が、価電子帯に正孔が生じる。エネルギー放出過程は、これらの再結合により熱等のエネルギーに変換されると考えられている。酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、三酸化タングステン、チタン酸ストロンチウム等が、一般的に知られた無機系紫外線吸収性粒子である。例えば、酸化チタンのバンドギャップエネルギーはルチル型で3eV、アナターゼ型で3.2eVであり、各々約410nm、390nmの波長の光エネルギーに相当する。これよりも短波長の光、即ち紫外線を吸収することができる。より長波長の紫外線がカットできることから、ルチル型が使用されることが多い。逆にこれよりも長波長の光、即ち可視光は本質的には吸収しない。 A semiconductor can be illustrated as an inorganic type ultraviolet absorptive particle (9). A semiconductor absorbs light having energy greater than the band gap, that is, ultraviolet light, and generates electrons in the conduction band and holes in the valence band. It is thought that the energy release process is converted into energy such as heat by these recombination. Titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, zirconium oxide, tungsten trioxide, strontium titanate, and the like are generally known inorganic ultraviolet absorbing particles. For example, the band gap energy of titanium oxide is 3 eV for the rutile type and 3.2 eV for the anatase type, which corresponds to light energy having wavelengths of about 410 nm and 390 nm, respectively. Light of a shorter wavelength than that, that is, ultraviolet rays can be absorbed. A rutile type is often used because it can cut longer wavelength ultraviolet rays. Conversely, light having a wavelength longer than that, that is, visible light is not essentially absorbed.
市販品としては、用途、製法によって使い分けることが可能であるが、酸化チタンとしては、石原産業株式会社製「中性チタニアゾルTSK−5」等、酸化セリウムは、多木化学製の酸化セリウム系紫外線吸収剤「ニードラール」、水分散タイプのアニオン型エマルションのニードラールP−10、水分散タイプのカチオン型エマルションのニードラールU−15や、粉末タイプ等、酸化亜鉛としては、住友大阪セメント社製「ZS−303」、石原産業株式会社製「超微粒子酸化亜鉛FZO」等が挙げられる。無機系紫外線吸収性粒子は、その電子の働きにより紫外線エネルギーを微弱なエネルギーに変換して放出する。この時、無機系紫外線吸収性粒子自体は物質変化を起こさないので、長期間、その効果を持続する。 Commercially available products can be used according to the application and production method, but as titanium oxide, "Neutral titania sol TSK-5" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., cerium oxide is a cerium oxide-based ultraviolet ray manufactured by Taki Chemical. As the zinc oxide, such as the absorbent “Nidoral”, the aqueous dispersion type anionic emulsion Niedral P-10, the water dispersion type cationic emulsion Niedral U-15, the powder type, etc., “ZS-” manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. 303 ”,“ ultrafine zinc oxide FZO ”manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., and the like. The inorganic ultraviolet absorbing particles convert ultraviolet energy into weak energy by the action of the electrons and release it. At this time, since the inorganic ultraviolet absorbing particles themselves do not cause a substance change, the effect is maintained for a long time.
コロイダルシリカ(9)は、コロイドシリカ、コロイド珪酸ともいう。水中では、水和によって表面にSi−OH基を有する酸化ケイ素のコロイド懸濁液をいう。珪酸ナトリウムの水溶液に塩酸を加えると生成する。最近は、新しい調製法が次々に開発され、非水溶液中に分散したものや、気相法で作った微粉末状のものがあり、粒子径も数nmから数μmのものまで多彩である。本発明で使用するのは、平均粒径が1〜200nmのものである。粒子の組成も不定で、シロキサン結合(―Si−O―、−Si―O−Si−)を形成して、高分子化しているものもある。粒子表面は多孔性で、水中では一般的に負に帯電している。 Colloidal silica (9) is also called colloidal silica or colloidal silicic acid. In water, it refers to a colloidal suspension of silicon oxide having Si—OH groups on the surface by hydration. Formed when hydrochloric acid is added to an aqueous solution of sodium silicate. Recently, new preparation methods have been developed one after another, and there are those dispersed in a non-aqueous solution and fine powders made by a gas phase method, and the particle diameters are various from several nm to several μm. In the present invention, those having an average particle diameter of 1 to 200 nm are used. In some cases, the composition of the particles is indefinite, and a siloxane bond (—Si—O—, —Si—O—Si—) is formed to form a polymer. The particle surface is porous and is generally negatively charged in water.
市販品としては、扶桑化学工業株式会社製「超高純度コロイダルシリカ」クォートロンPLシリーズ(品名:PL−1、PL−3、PL−7)、同社製「高純度オルガノゾル」や、日産化学工業株式会社製「水性シリカゾル(品名:スノーテックス20、スノーテックス30、スノーテックス40、スノーテックスO、スノーテックスO−40、スノーテックスC、スノーテックスN、スノーテックスS、スノーテックス20L、スノーテックスOL)等」や「オルガノシリカゾル(品名:メタノールシリカゾル、MA−ST−MS,IPA−ST、IPA−ST−MS、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL,IPA−ST−UP、EG−ST、NPC−ST−30、MEK−ST、MEK−ST−MS、MIBK−ST、XBA−ST、PMA−ST、DMAC−ST)等」が挙げられる。 Commercially available products include “Ultra High-Purity Colloidal Silica” Quartron PL Series (product names: PL-1, PL-3, PL-7) manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd. "Aqueous silica sol" (Product name: Snowtex 20, Snowtex 30, Snowtex 40, Snowtex O, Snowtex O-40, Snowtex C, Snowtex N, Snowtex S, Snowtex 20L, Snowtex OL) Etc. "or" organosilica sol (product names: methanol silica sol, MA-ST-MS, IPA-ST, IPA-ST-MS, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, IPA-ST-UP, EG-ST, NPC-ST-30, MEK-ST, MEK-ST-MS, MIBK-ST, XBA-ST PMA-ST, DMAC-ST) or the like "are mentioned.
有機高分子型微粒子だけでも耐紫外線性に優れるが、さらに耐久性を求められた場合、中間層中の有機高分子型微粒子含量を増やす方法がある。しかし、耐擦傷性の低下が著しくなることが予想される。また、無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカのみで中間層を製造することは可能だが、中間層の可とう性が低下し、熱硬化時のクラック発生防止が困難になることから、中間層の厚みを増加させるのが困難になってくる。結果、十分な紫外線吸収能力が発揮できない。本発明では、有機高分子型微粒子と、無機系紫外線吸収剤及び/又はコロイダルシリカを共に使用することにより、他の特性を劣化させることなく優れた紫外線吸収性が得られる。 Although only organic polymer type fine particles are excellent in UV resistance, there is a method of increasing the content of organic polymer type fine particles in the intermediate layer when durability is further required. However, it is expected that the abrasion resistance will decrease significantly. In addition, it is possible to produce an intermediate layer only with inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica, but since the flexibility of the intermediate layer is reduced and it becomes difficult to prevent cracks during thermosetting, It becomes difficult to increase the thickness of the layer. As a result, sufficient ultraviolet absorbing ability cannot be exhibited. In the present invention, by using the organic polymer type fine particles together with the inorganic ultraviolet absorbent and / or colloidal silica, excellent ultraviolet absorption can be obtained without deteriorating other characteristics.
コーティング組成物(III)において、各成分(2)〜(9)の配合量は、適宜設定できるが、例えば、以下の通りである。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子:0.1〜50重量%(より好ましくは5〜50重量%)
(3)硬化触媒:0.1〜40重量%(より好ましくは0.1〜30重量%)
(5)アミノシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは3〜40重量%)
(6)エポキシシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは5〜50重量%)
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物:好ましくは10〜80重量%(より好ましくは15〜75重量%)
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物:1〜60重量%(より好ましくは5〜60重量%)
(9)無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカ:
成分(9)が無機系紫外線吸収性粒子のみの場合、好ましくは0.1〜50重量%(より好ましくは0.1〜30重量%)
成分(9)がコロイダルシリカのみの場合、好ましくは0.1〜80重量%(より好ましくは0.1〜50重量%)
成分(9)が無機系紫外線吸収性粒子及びコロイダルシリカの場合、好ましくは、無機系紫外線吸収性粒子が0.1〜50重量%(より好ましくは0.1〜30重量%),コロイダルシリカが0.1〜80重量%(より好ましくは0.1〜50重量%)
(4)溶剤:成分(2),(3)及び(5)〜(9)の合計を100重量部としたとき、5〜1000重量部(より好ましくは20〜800重量部)
尚、上記の(2),(3)及び(5)〜(9)の配合量は(2),(3)及び(5)〜(9)の合計量に対する重量%である。
In the coating composition (III), the amount of each of the components (2) to (9) can be set as appropriate, and is as follows, for example.
(2) Organic polymer type fine particles containing ultraviolet absorbing groups and having an average particle size of 1 to 200 nm: 0.1 to 50% by weight (more preferably 5 to 50% by weight)
(3) Curing catalyst: 0.1 to 40% by weight (more preferably 0.1 to 30% by weight)
(5) Aminosilane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 3 to 40% by weight)
(6) Epoxysilane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 5 to 50% by weight)
(7) Organoalkoxysilane compound or polyorganoalkoxysilane compound: preferably 10 to 80% by weight (more preferably 15 to 75% by weight)
(8) Blocked isocyanate silane compound: 1 to 60% by weight (more preferably 5 to 60% by weight)
(9) Inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica:
When component (9) is only inorganic UV-absorbing particles, preferably 0.1 to 50% by weight (more preferably 0.1 to 30% by weight)
When component (9) is only colloidal silica, preferably 0.1 to 80% by weight (more preferably 0.1 to 50% by weight)
When component (9) is inorganic ultraviolet absorbing particles and colloidal silica, preferably, the inorganic ultraviolet absorbing particles are 0.1 to 50% by weight (more preferably 0.1 to 30% by weight), and colloidal silica is 0.1 to 80% by weight (more preferably 0.1 to 50% by weight)
(4) Solvent: 5 to 1000 parts by weight (more preferably 20 to 800 parts by weight) when the total of components (2), (3) and (5) to (9) is 100 parts by weight
In addition, the compounding quantity of said (2), (3) and (5)-(9) is weight% with respect to the total amount of (2), (3) and (5)-(9).
無機系紫外線吸収性粒子(9)が50重量%を超えて混合される場合は、造膜性が低下するおそれがあり、0.1重量%未満の場合は、十分な耐候性を示さないおそれがある。 If the inorganic ultraviolet absorbing particles (9) are mixed in an amount exceeding 50% by weight, the film forming property may be deteriorated. If the amount is less than 0.1% by weight, sufficient weather resistance may not be exhibited. There is.
コロイダルシリカ(9)が80重量%を超えて混合される場合は、造膜性が低下したり、均一分散が困難になるおそれがあり、0.1重量%未満の場合は、十分な耐擦傷性付与効果が得られないおそれがある。 If the colloidal silica (9) is mixed in an amount exceeding 80% by weight, the film-forming property may be deteriorated or uniform dispersion may be difficult. If the amount is less than 0.1% by weight, sufficient scratch resistance is obtained. There is a possibility that the effect of imparting sex may not be obtained.
コーティング組成物(III)は、上記成分(2)〜(9)を混合して調製する。
好ましくは、少なくとも成分(7)及び成分(8)を含む第一の混合液を作製し、引き続き成分(5)を混合し、最後に成分(9)を混合する。さらに好ましくは、少なくとも成分(7)、(6)、(2)、(3)を含む第一の混合液を作製し、次に成分(8)を混合して第二の混合液、さらに引き続き成分(5)を混合し第三の混合液を作製する。最後に成分(9)を混合しコーティング組成物とする。
このように、各成分を分離して調製すると、コーティング組成物の液保存安定性(ゲル化しない等)が向上するため、好ましい。特に、成分(2)や成分(9)の添加量増により液中の水の量が増加した際に、この効果がより発揮される。
例えば、成分(7),(6),(2),(3)及び(4)を混合した後、成分(8)を加える。次に、成分(5)を混合し、最後に成分(9)を混合する。
成分(4)は、コーティング組成物を調製後、さらに加えることによりコーティング組成物を希釈することができる。
The coating composition (III) is prepared by mixing the components (2) to (9).
Preferably, a first mixed liquid containing at least component (7) and component (8) is prepared, component (5) is subsequently mixed, and finally component (9) is mixed. More preferably, a first mixed solution containing at least components (7), (6), (2), (3) is prepared, and then component (8) is mixed to form a second mixed solution, and further A component (5) is mixed and a 3rd liquid mixture is produced. Finally, component (9) is mixed to form a coating composition.
Thus, it is preferable to prepare each component separately because the liquid storage stability (such as non-gelling) of the coating composition is improved. In particular, this effect is more exhibited when the amount of water in the liquid increases due to an increase in the amount of component (2) or component (9) added.
For example, the components (7), (6), (2), (3) and (4) are mixed and then the component (8) is added. Next, component (5) is mixed, and finally component (9) is mixed.
Component (4) can be added to the coating composition to further dilute the coating composition.
本発明のコーティング組成物のような混合材料の液保存安定性は、液pHに影響し易いことが知られている(例えば、「ゾルーゲル法のナノテクノロジーへの応用/監修:作花済夫」シーエムシー出版)。本発明のコーティング組成物の製造においては、成分(3)として酸性成分が、成分(5)、(3)として塩基性成分が混合される為、混合順序によって液pHが変化する。
液pH値、例えば、校正用pH標準液で補正したポータブルpHメーター(ハンナ社製:商品名 チェッカー1)で評価した液pH値としては、上記の第一の混合液及び第二の混合液はpH≦6、第三の混合液及び最終の混合液はpH≦7とすることが好ましい。特に、第三の混合液、即ち成分(5)混合時に液pHが8を越えると、液安定性が低下するおそれがある。コーティング組成物の製造開始時から製造終了時まで、液は酸性状態に保つことが好ましい。即ち、このような条件が維持されるような手順で、コーティング組成物を製造することが好ましい。
It is known that the liquid storage stability of a mixed material such as the coating composition of the present invention is likely to affect the liquid pH (for example, “application / supervision of sol-gel method to nanotechnology: Sakuo Sakuo”). CMC Publishing). In the production of the coating composition of the present invention, since the acidic component is mixed as the component (3) and the basic component is mixed as the components (5) and (3), the liquid pH changes depending on the mixing order.
As the liquid pH value, for example, the liquid pH value evaluated with a portable pH meter (trade name: Checker 1) manufactured by a calibration pH standard solution, the above first mixed liquid and second mixed liquid are It is preferable that pH ≦ 6, the third mixed solution, and the final mixed solution have pH ≦ 7. In particular, if the pH of the third mixed solution, that is, the component (5), exceeds 8, the liquid stability may be lowered. The liquid is preferably kept in an acidic state from the start of the production of the coating composition to the end of the production. That is, it is preferable to produce the coating composition by a procedure in which such conditions are maintained.
また、上記の第一の混合液、第二の混合液、及び第三の混合液は、各成分の混合後、加熱処理することが好ましい。温度は30℃〜130℃、より好ましくは、50℃〜90℃であり、加熱処理時間は、30分〜24時間、より好ましくは、1時間〜8時間である。混合、加熱手段については、均一に混合、加熱できる手段であれば特に制限はない。このように加熱することで、液内の成分(7)、(5)、(6)、(8)の縮合反応が進み、耐煮沸性やその他耐久性が向上する。成分(7)、(5)、(6)、(8)の反応は、溶液Si−NMRで解析可能であり、それにより適した構造に設計できる。30℃未満や1時間未満では反応が極端に遅い場合が多く、また130℃以上や24時間以上の場合には、成分(7)、(5)、(6)、(8)の反応が進みすぎ、液がゲル化したり高粘性化し、塗布できなくなるおそれがある。 Moreover, it is preferable to heat-process said 1st liquid mixture, 2nd liquid mixture, and 3rd liquid mixture after mixing of each component. The temperature is 30 ° C. to 130 ° C., more preferably 50 ° C. to 90 ° C., and the heat treatment time is 30 minutes to 24 hours, more preferably 1 hour to 8 hours. The mixing and heating means is not particularly limited as long as it can uniformly mix and heat. By heating in this way, the condensation reaction of the components (7), (5), (6) and (8) in the liquid proceeds, and the boiling resistance and other durability are improved. The reactions of components (7), (5), (6), and (8) can be analyzed by solution Si-NMR, and can be designed to have a suitable structure. The reaction is often extremely slow at less than 30 ° C. or less than 1 hour, and the reaction of components (7), (5), (6), (8) proceeds when it is at 130 ° C. or more or 24 hours or more. Too much, the liquid may gel or become highly viscous, and may not be applied.
また成分(9)を混合した後の最終液(コーティング組成物)も、加熱処理することが好ましい。室温での混合の場合、攪拌効率の影響を受けやすく、これに起因して成分(9)の分散度が低い場合は、硬化膜の透明性(全光線透過率低下、ヘイズ上昇)が低下するおそれがある。温度は30℃〜130℃、より好ましくは、50℃〜90℃であり、時間は、5分〜10時間、より好ましくは、15分〜6時間である。混合、加熱手段については、均一に混合、加熱できる手段であれば特に制限はない。30℃未満や5分未満では加熱処理の効果が乏しい場合が多く、また130℃以上や10時間以上だと、液がゲル化したり高粘性化し、塗布できなくなるおそれがある。 Moreover, it is preferable to heat-process the last liquid (coating composition) after mixing a component (9). In the case of mixing at room temperature, it is easily affected by the stirring efficiency. If the degree of dispersion of the component (9) is low due to this, the transparency of the cured film (decrease in total light transmittance, increase in haze) decreases. There is a fear. The temperature is 30 ° C. to 130 ° C., more preferably 50 ° C. to 90 ° C., and the time is 5 minutes to 10 hours, more preferably 15 minutes to 6 hours. The mixing and heating means is not particularly limited as long as it can uniformly mix and heat. If it is less than 30 ° C. or less than 5 minutes, the effect of the heat treatment is often poor, and if it is 130 ° C. or more or 10 hours or more, the liquid may gel or become highly viscous and may not be applied.
尚、このコーティング組成物(I)、コーティング組成物(II)及びコーティング組成物(III)は、上述の成分以外に、硬化皮膜のレベリング剤、潤滑剤を添加することができ、これらの添加剤として、例えばポリオキシアルキレンとポリジメチルシロキサンの共重合体、ポリオキシアルキレンとフルオロカーボンとの共重合体等を用いることができる。
この他、用途に応じて、光安定化剤(ヒンダードアミン系、Ni系、ベンゾエート系)、耐候性付与剤、着色剤、又は帯電防止剤も添加可能である。
The coating composition (I), the coating composition (II) and the coating composition (III) can be added with a leveling agent and a lubricant for the cured film in addition to the above-described components. For example, a copolymer of polyoxyalkylene and polydimethylsiloxane, a copolymer of polyoxyalkylene and fluorocarbon, and the like can be used.
In addition, a light stabilizer (hindered amine type, Ni type, benzoate type), a weather resistance imparting agent, a colorant, or an antistatic agent can be added depending on the application.
樹脂基材の種類に制限はないが、可視光線透過率が80%以上である透明性が高い材料が好ましい。特にポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、又はポリエステル系樹脂が好ましく、なかでも、ポリカーボネート系樹脂が透明性だけでなく力学特性にも優れ、特に好ましい。また、他の樹脂材料でも基材の厚みによっては可視光線透過率が80%以上となり使用可能である。可視光線透過率が80%未満であると、カーポートや高速道路防音壁等の用途には使い難い。積層体の密着性を向上させる目的で、樹脂基材に表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては例えば、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理、サンドブラスト処理、溶剤処理等が挙げられる。 Although there is no restriction | limiting in the kind of resin base material, The material with high transparency whose visible light transmittance is 80% or more is preferable. In particular, a polycarbonate resin, an acrylic resin, or a polyester resin is preferable, and among them, the polycarbonate resin is particularly preferable because it is excellent not only in transparency but also in mechanical properties. Also, other resin materials can be used with a visible light transmittance of 80% or more depending on the thickness of the substrate. When the visible light transmittance is less than 80%, it is difficult to use for applications such as carports and highway soundproof walls. For the purpose of improving the adhesion of the laminate, the resin substrate may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment method include corona discharge treatment, oxygen plasma treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, sand blast treatment, solvent treatment and the like.
光触媒層に用いられる光触媒材料としては特に制限はなく、従来公知のもの、例えば二酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、チタン酸ナトリウム、二酸化ジルコニウム、α−Fe2O3、酸化タングステン、硫化カドミウム、硫化亜鉛等を用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。これらの中で、二酸化チタン、特にアナターセ型二酸化チタンが実用的光触媒として有用である。また、これらの光触媒の活性を促進させる目的で、従来公知の光触媒促進剤を添加してもよい。光触媒促進剤としては例えば、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等の白金族金属が好ましく挙げられ、これらは単独で用いてもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。この光触媒促進剤の添加量は、光触媒活性の観点から、通常、光触媒に対して1〜20質量%の範囲で選ばれる。 The photocatalyst material used for the photocatalyst layer is not particularly limited, and conventionally known materials such as titanium dioxide, strontium titanate, barium titanate, sodium titanate, zirconium dioxide, α-Fe 2 O 3 , tungsten oxide, cadmium sulfide. Zinc sulfide or the like can be used. These may be used alone or in combination. Among these, titanium dioxide, particularly anatase-type titanium dioxide, is useful as a practical photocatalyst. Moreover, you may add a conventionally well-known photocatalyst promoter for the purpose of promoting the activity of these photocatalysts. Preferred examples of the photocatalyst promoter include platinum group metals such as platinum, palladium, rhodium, and ruthenium. These may be used alone or in combination. The addition amount of the photocatalyst promoter is usually selected in the range of 1 to 20% by mass with respect to the photocatalyst from the viewpoint of photocatalytic activity.
光触媒層の形成法については後述するが、湿式法を用いる場合は、光触媒層のマトリックスに通常、シリコーン系化合物を用いる。例えば一例として、ポリオルガノシロキサン又はテトラエトキシシラン等のアルコキシシランを加水分解した後、縮合したもの等がそのままマトリックスとなる。 Although the formation method of a photocatalyst layer is mentioned later, when using a wet method, a silicone type compound is normally used for the matrix of a photocatalyst layer. For example, as an example, a product obtained by hydrolyzing an alkoxysilane such as polyorganosiloxane or tetraethoxysilane and then condensing it becomes a matrix as it is.
本発明の積層体は、図1に示すように、光触媒層10、中間層20、樹脂基材30の三層から形成されてもよいし、光触媒層10と中間層20の間及び/又は中間層20と樹脂基材30の間に、他の層が介在していてもよい。例えば、図2に示すように、樹脂基材30と中間層20の間に有機層40を形成してもよい。また、図3に示すように、中間層20と光触媒層10の間に無機層50を設けてもよい。また、有機層と無機層を組み合わせて設けてもよい。光触媒層10と樹脂基材30の間の層構成は、しばしは積層体の密着性に影響する。 As shown in FIG. 1, the laminate of the present invention may be formed from three layers of a photocatalyst layer 10, an intermediate layer 20, and a resin base material 30, or between the photocatalyst layer 10 and the intermediate layer 20 and / or an intermediate. Another layer may be interposed between the layer 20 and the resin base material 30. For example, as shown in FIG. 2, an organic layer 40 may be formed between the resin base material 30 and the intermediate layer 20. In addition, as shown in FIG. 3, an inorganic layer 50 may be provided between the intermediate layer 20 and the photocatalyst layer 10. Moreover, you may provide combining an organic layer and an inorganic layer. The layer structure between the photocatalyst layer 10 and the resin substrate 30 often affects the adhesion of the laminate.
樹脂基材30と中間層20の密着性が十分でないと予想される場合は、有機層40を設けることが好ましい。有機層40は、マトリックスが有機成分で、無機系材料ともある程度の密着性を有する従来公知の材料が使用できる。例えば、アクリルシリコーン系の塗料、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、各種市販のプライマー(ウレタン系、アクリル系、エポキシ系、塩素化ポリエチレン系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系等)等が使用可能である。 When it is predicted that the adhesion between the resin base material 30 and the intermediate layer 20 is not sufficient, it is preferable to provide the organic layer 40. As the organic layer 40, a conventionally known material having a matrix of an organic component and having a certain degree of adhesion with an inorganic material can be used. For example, acrylic silicone paints, acrylic adhesives, urethane adhesives, various commercially available primers (urethane, acrylic, epoxy, chlorinated polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc.) can be used. It is.
同様に、光触媒層10と中間層20の密着性が十分でないと予想される場合は、無機層50を設けることが好適に行なわれる。無機層50はマトリックスが無機成分で、有機系材料ともある程度の密着性を有する従来公知の材料が使用できる。例えば、シリコーン系塗料、シリコーン変性物、ポリジメチルシロキサンとシリカとの混合物、ポリジメチルシロキサンとアクリル系樹脂の混合物、各種市販の光触媒アンダーコート剤等が用いることができる。 Similarly, when it is expected that the adhesion between the photocatalyst layer 10 and the intermediate layer 20 is not sufficient, the inorganic layer 50 is preferably provided. As the inorganic layer 50, a conventionally known material having an inorganic component as a matrix and having a certain degree of adhesion with an organic material can be used. For example, a silicone-based paint, a silicone-modified product, a mixture of polydimethylsiloxane and silica, a mixture of polydimethylsiloxane and an acrylic resin, various commercially available photocatalyst undercoat agents, and the like can be used.
層20,40,50は、通常、これらの層の原料である液状材料(例えば上記のコーティング組成物)を塗布後、乾燥又は硬化させることにより、形成される。 The layers 20, 40 and 50 are usually formed by applying a liquid material (for example, the above-described coating composition) which is a raw material of these layers, and then drying or curing.
塗布方法は、従来公知の方法、例えば、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が用いられる。乾燥又は硬化の条件は各種材料により異なる。特に、中間層20について言及すれば、その適当な硬化条件は、通常70〜150℃、好ましくは80℃〜140℃で30〜120分間加熱することで硬化膜が得られる。中間層20の厚みは、好ましくは1〜20μm、より好ましくは2〜15μmである。1μm未満では耐候性が不十分なおそれがあり、20μmを越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。一方、層40,50の厚みは、密着性が発現する程度の厚さを有すればよいが、通常は0.05〜10μm、好ましくは0.1〜5μmの範囲で選定される。0.05μm未満では密着性が不十分となるおそれがあり、10μmを越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。積層体の製造の容易さを考えると、あるレベルの密着性が確保できるのであれば、層10,20,30のみからなる積層体が好ましい。この観点から見ると、上記のコーティング組成物は有機層にも無機層にも比較的良好な密着性を示すので、単独中間層として好適に用いることができる。 As the coating method, conventionally known methods such as dip coating, spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating are used. Drying or curing conditions vary depending on various materials. In particular, if the intermediate layer 20 is mentioned, the appropriate curing conditions are usually 70 to 150 ° C., preferably 80 to 140 ° C., and 30 to 120 minutes to obtain a cured film. The thickness of the intermediate layer 20 is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 15 μm. If it is less than 1 μm, the weather resistance may be insufficient, and if it exceeds 20 μm, the film forming property may be deteriorated (cracked). On the other hand, the thicknesses of the layers 40 and 50 may be such that adhesion is exhibited, but is usually selected in the range of 0.05 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm. If it is less than 0.05 μm, the adhesion may be insufficient, and if it exceeds 10 μm, the film forming property may be deteriorated (cracked). Considering the ease of production of the laminate, a laminate comprising only the layers 10, 20, and 30 is preferable if a certain level of adhesion can be secured. From this point of view, the coating composition exhibits relatively good adhesion to both the organic layer and the inorganic layer, and therefore can be suitably used as a single intermediate layer.
中間層20又は無機層50に光触媒層10を形成する方法として特に制限はなく、様々な方法が使用可能である。例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等のPVD法や金属溶射法等の乾式法、塗工液を用いる湿式法等が挙げられる。湿式法に用いる塗工液としては、光触媒粒子その他を適当な無機系バインダー(例えば、シリコーン系化合物等)に分散させたものが好ましく用いられる。
塗工液は、公知の方法、例えば、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等により塗布し、乾燥又は硬化させて、光触媒層10を形成することができる。光触媒層10の厚みは、通常、5nm〜2μmであり、好ましくは10nm〜2μmであり、特に好ましくは20nm〜1μmである。5nm未満では光触媒機能が十分発揮されないおそれがある。2μmを越えると、それ以上厚くしても光触媒機能はあまり向上しない。
There is no restriction | limiting in particular as a method of forming the photocatalyst layer 10 in the intermediate | middle layer 20 or the inorganic layer 50, Various methods can be used. For example, a PVD method such as a vacuum deposition method and a sputtering method, a dry method such as a metal spraying method, a wet method using a coating liquid, and the like can be given. As the coating liquid used in the wet method, a solution obtained by dispersing photocatalyst particles and the like in a suitable inorganic binder (for example, a silicone compound) is preferably used.
The coating liquid is applied by a known method such as dip coating, spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, gravure coating, etc. The photocatalyst layer 10 can be formed by drying or curing. The thickness of the photocatalyst layer 10 is usually 5 nm to 2 μm, preferably 10 nm to 2 μm, and particularly preferably 20 nm to 1 μm. If it is less than 5 nm, the photocatalytic function may not be sufficiently exhibited. If it exceeds 2 μm, the photocatalytic function is not improved so much even if it is thicker.
[第二の樹脂積層体]
本発明の第二の樹脂積層体は、光触媒層、無機層、中間層、及び樹脂基材層を含み、中間層は、後述するコーティング組成物(A)から形成されたものである。この樹脂積層体では、有機系の中間層を用いるため、光触媒層と中間層との間に無機層を用いて、光触媒による分解を防いでいる。
この樹脂積層体の一実施形態を図4に示す。この図に示すように、樹脂積層体2は、光触媒層10、無機層50、中間層22、及び樹脂基材層30からなる。
[Second resin laminate]
The 2nd resin laminated body of this invention contains a photocatalyst layer, an inorganic layer, an intermediate | middle layer, and a resin base material layer, and an intermediate | middle layer is formed from the coating composition (A) mentioned later. In this resin laminate, since an organic intermediate layer is used, decomposition by the photocatalyst is prevented by using an inorganic layer between the photocatalyst layer and the intermediate layer.
One embodiment of this resin laminate is shown in FIG. As shown in this figure, the resin laminate 2 includes a photocatalyst layer 10, an inorganic layer 50, an intermediate layer 22, and a resin base material layer 30.
この樹脂積層体の中間層22は、下記成分(a)〜(d)を含むコーティング組成物(A)から形成されたものである。
(a)アクリル系化合物
(b)紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子
(c)ラジカル開始剤
(d)溶剤
The intermediate layer 22 of this resin laminate is formed from a coating composition (A) containing the following components (a) to (d).
(A) Acrylic compound (b) Organic polymer type fine particle containing ultraviolet absorbing group (c) Radical initiator (d) Solvent
上記有機高分子型微粒子(b)と溶剤(d)は、コーティング組成物(I)で説明した有機高分子型微粒子(2)と溶剤(4)とそれぞれ同じである。 The organic polymer type fine particles (b) and the solvent (d) are the same as the organic polymer type fine particles (2) and the solvent (4) described in the coating composition (I), respectively.
アクリル系化合物(a)とは、(メタ)アクリル酸類を各種アルコールと反応させた(メタ)アクリル酸エステル類である。例えば,メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類、フルオロメチルアクリレート、2,2,2−フルオロエチルメタクリレート、1,2,2,2−テトラクロロエチルアクリレート等のハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート類、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート類、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート等のアルコキシ(メタ)アクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート等のアリール(メタ)アクリレート類等が挙げられる。これら(メタ)アクリル酸エステル類を複数使用してもよい。また、他のエチレン系不飽和化合物(アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体、スチレン、酢酸ビニル等)を併用してもよい。さらに市販のアクリル系接着剤(例えば、コニシ(株)VP−2000等)も使用可能である。 The acrylic compound (a) is (meth) acrylic acid esters obtained by reacting (meth) acrylic acids with various alcohols. For example, methyl (meth) acrylates such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, fluoromethyl acrylate, 2,2,2-fluoroethyl methacrylate, 1,2, Halogenated alkyl (meth) acrylates such as 2,2-tetrachloroethyl acrylate, hydroxyl-containing (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate , Alkoxy (meth) acrylates such as 2-ethoxyethyl methacrylate, aryl (meth) acrylates such as phenyl acrylate and phenyl methacrylate, etc. It is. A plurality of these (meth) acrylic acid esters may be used. Further, other ethylenically unsaturated compounds (acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof, styrene, vinyl acetate, etc.) may be used in combination. Furthermore, commercially available acrylic adhesives (for example, Konishi Co., Ltd. VP-2000) can also be used.
ラジカル開始剤(c)はアクリル系化合物(a)を高分子量化させる役割を果たす。例えば、ラジカル重合開始剤として、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジイソブチリルパーオキサイド、ビス−3,5,5−トリメチルヘキサノールパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、m−トルイルベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキセン等のジアルキルパーオキサイド類、1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチル)シクロヘキサン、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルペルオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシネオジカーボネート、α−クミルペルオキシネオジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオジカーボネート、t−ヘキシルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルペルオキシヘキサヒドロテレフタレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサネート、t−アミルペルオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジブチルペルオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル類、ジ−3−メトキシブチルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート、ビス(1,1−ブチルシクロヘキサオキシジカーボネート)、ジイソプロピルオキシジカーボネート、t−アミルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、1,6−ビス(t−ブチルペルオキシカルボキシ)ヘキサン等のパーオキシカーボネート類等が挙げられる。 The radical initiator (c) serves to increase the molecular weight of the acrylic compound (a). For example, as radical polymerization initiators, ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide Hydroperoxides such as oxide, cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, diisobutyryl peroxide, bis-3,5,5-trimethylhexanol peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, m-toluylbenzoyl Diacyl peroxides such as peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) Sun, 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexene, etc. Dialkyl peroxides, 1,1-di (t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl) cyclohexane, 1,1-di-t-butylperoxycyclohexane, 2,2-di (t-butylperoxy) Peroxyketals such as butane, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodicarbonate, α-cumylperoxyneodicarbonate, t-butylperoxyneodicarbonate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypi Valate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2- Ethyl hexanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, 1,1 , 3,3-tetramethylbutylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-amylperoxy 3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxy 3,5,5-trimethylhexanoate, alkyl peresters such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyladipate, di-3-methoxybutylperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, bis (1,1-butylcyclohexyl) Sao Peroxy such as sidicarbonate), diisopropyloxydicarbonate, t-amylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexylcarbonate, 1,6-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane And carbonates.
上記ラジカル開始剤は単独で使用してもよく、複数を併用してもよい。 The above radical initiators may be used alone or in combination.
コーティング組成物(A)は、水及び/又は有機溶剤(溶剤(d))に混合された状態で使用する。 The coating composition (A) is used in a state of being mixed with water and / or an organic solvent (solvent (d)).
また、コーティング組成物(I)で用いるアミノシラン化合物(5)、エポキシシラン化合物(6)をさらに添加してもよい。これにより無機層50との密着性が大きく向上する場合がある。 Moreover, you may further add the aminosilane compound (5) used by coating composition (I), and an epoxysilane compound (6). Thereby, the adhesiveness with the inorganic layer 50 may be greatly improved.
各成分(a)〜(d)の配合量は以下のとおりである。まず、溶剤(d)の配合量は、成分(a)〜(c)の配合量の合計100質量部に対して好ましくは10〜1000質量部、より好ましくは10〜800質量部、特に好ましくは50〜600質量部である。 The compounding quantity of each component (a)-(d) is as follows. First, the compounding amount of the solvent (d) is preferably 10 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 800 parts by mass, particularly preferably 100 parts by mass of the total amount of components (a) to (c). 50 to 600 parts by mass.
成分(a)は、好ましくは5〜90質量部、より好ましくは10〜90質量部、特に好ましくは15〜75質量部である。5質量部未満では樹脂基材層30との密着性が不足するおそれがある。配合量が90質量部を越えると無機層50との密着性が不足するおそれがある Component (a) is preferably 5 to 90 parts by mass, more preferably 10 to 90 parts by mass, and particularly preferably 15 to 75 parts by mass. If it is less than 5 mass parts, there exists a possibility that adhesiveness with the resin base material layer 30 may be insufficient. If the blending amount exceeds 90 parts by mass, the adhesion with the inorganic layer 50 may be insufficient.
紫外線吸収基を含有する有機高分子型微粒子(b)の配合量は、好ましくは1〜95質量部で、より好ましくは3〜85質量部、さらに好ましくは5〜75質量部である。1質量部未満の場合は十分な耐候性を示さない場合がある。95質量部を越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。 The blending amount of the organic polymer type fine particles (b) containing an ultraviolet absorbing group is preferably 1 to 95 parts by mass, more preferably 3 to 85 parts by mass, and still more preferably 5 to 75 parts by mass. When the amount is less than 1 part by mass, sufficient weather resistance may not be exhibited. If it exceeds 95 parts by mass, the film forming property may be deteriorated (cracked).
ラジカル開始剤(c)の配合量は好ましくは0.005〜5質量部である。0.005質量部未満では硬化不良の原因となり、5質量部を超えると硬化が速すぎて中間層膜が不均一となる場合がある。 The amount of the radical initiator (c) is preferably 0.005 to 5 parts by mass. If it is less than 0.005 parts by mass, it will cause curing failure, and if it exceeds 5 parts by mass, curing may be too fast and the intermediate layer film may become non-uniform.
アミノシラン化合物(5)を添加する場合、その配合量は好ましくは3〜55質量部、より好ましくは3〜45質量部である。55質量部を越えると造膜性が低下する(ひび割れ)おそれがある。エポキシシラン化合物(6)を添加する場合、その配合量は好ましくは3〜60質量部、より好ましくは
3〜45質量部である。60質量部を越えると膜(中間層)の透明性が劣るおそれがある。
When adding an aminosilane compound (5), the compounding quantity becomes like this. Preferably it is 3-55 mass parts, More preferably, it is 3-45 mass parts. If it exceeds 55 parts by mass, the film forming property may be deteriorated (cracked). When adding an epoxysilane compound (6), the compounding quantity becomes like this. Preferably it is 3-60 mass parts, More preferably, it is 3-45 mass parts. If it exceeds 60 parts by mass, the transparency of the film (intermediate layer) may be inferior.
コーティング組成物(A)は、上記成分(a)〜(d)を混合して調製する。アミノシラン化合物(5)及びエポキシシラン化合物(6)を添加する場合は、少なくとも成分(a)及び成分(b)を含む第一の混合液を作製し、少なくとも成分(a),(5),(6)を含む第二の混合液を作製し、その後両者を混合するのが好ましい。このようにすることによりコーティング組成物の保存安定性(ゲル化しない等)が向上する。尚、好ましくは、成分(c),(d)は第1の混合液に混合する。 The coating composition (A) is prepared by mixing the components (a) to (d). When the aminosilane compound (5) and the epoxysilane compound (6) are added, a first mixed liquid containing at least the component (a) and the component (b) is prepared, and at least the components (a), (5), ( It is preferable to prepare the 2nd liquid mixture containing 6), and to mix both after that. By doing so, the storage stability (such as not gelling) of the coating composition is improved. Preferably, components (c) and (d) are mixed in the first mixed solution.
尚、コーティング組成物(A)は、コーティング組成物(I)と同様の添加剤を含むことができる。
第二の樹脂積層体の中間層は、第一の樹脂積層体の中間層と同様に製造できる。
The coating composition (A) can contain the same additives as the coating composition (I).
The intermediate layer of the second resin laminate can be produced in the same manner as the intermediate layer of the first resin laminate.
第二の樹脂積層体の光触媒層、無機層、樹脂基材層は、第一の樹脂積層体で説明した通りである。
さらに、第二の樹脂積層体も、第一の樹脂積層体と同様に、層間に他の層を介在させることができる。例えば、必要に応じて、樹脂基材層30と中間層22の間に、図2に示すような有機層40を設けることができる。また、無機層50と中間層22の間に有機層40を設けることができる。
The photocatalyst layer, inorganic layer, and resin base material layer of the second resin laminate are as described in the first resin laminate.
Furthermore, the second resin laminate can also have other layers interposed between the layers, like the first resin laminate. For example, an organic layer 40 as shown in FIG. 2 can be provided between the resin base layer 30 and the intermediate layer 22 as necessary. Further, the organic layer 40 can be provided between the inorganic layer 50 and the intermediate layer 22.
第二の樹脂積層体は、第一の樹脂積層体と同様に製造できる。 The second resin laminate can be produced in the same manner as the first resin laminate.
第一及び第二の樹脂積層体とも、好ましくは可視光線透過率は80%以上である。透過率が高いと、特にカーポートや防音壁等の用途に好適に使用できる。 Both the first and second resin laminates preferably have a visible light transmittance of 80% or more. When the transmittance is high, it can be suitably used for applications such as carports and sound barriers.
[第一の樹脂積層体]
実施例1
サンプル管に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収基結合アクリル微粒子の水分散液「ULS−1385MG」(一方社油脂工業(株)製;固形分30%で、この内の50%が紫外線吸収剤骨格)2.8g、1−メトキシ−2−プロパノールを10g仕込み、攪拌しながら、テトラメトキシシラン2gを滴下した。引き続き、20%p−トルエンスルホン酸メタノール溶液0.1g及び酢酸1.5gを滴下し、30分間攪拌した。これをA−1液とした。メチルトリメトキシシラン2g、3−アミノプロピルトリメトキシシラン2g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2gの混合液をつくり、これをA−2液とした。A−1液をA−2液にゆっくり滴下し、2時間攪拌した。引き続き暗所25℃にて、1週間静置した。これをA液(コーティング組成物(I))とした。
[First resin laminate]
Example 1
In the sample tube, an aqueous dispersion “ULS-1385MG” of benzotriazole-based UV-absorbing group-bonded acrylic fine particles (manufactured by Yushi Kogyo Co., Ltd .; solid content 30%, of which 50% is UV absorber framework) 2 8 g and 10 g of 1-methoxy-2-propanol were charged, and 2 g of tetramethoxysilane was added dropwise with stirring. Subsequently, 0.1 g of a 20% p-toluenesulfonic acid methanol solution and 1.5 g of acetic acid were added dropwise and stirred for 30 minutes. This was designated as A-1. A mixed liquid of 2 g of methyltrimethoxysilane, 2 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane and 2 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was prepared, and this was designated as A-2 liquid. The A-1 solution was slowly dropped into the A-2 solution and stirred for 2 hours. Subsequently, the mixture was allowed to stand at 25 ° C. for 1 week. This was designated as solution A (coating composition (I)).
上記で得られたA液を、出光興産(株)製「IV2200R」を原料として作製した100mm×100mm×3mmのポリカーボネート(PC)成形体(可視光線透過率90%)の表面に、硬化皮膜が約5μmになるように塗布し、室温で5分自然乾燥させた後、120℃で1時間硬化させた。この積層中間体について後述する評価方法に従って評価した。結果を表1に示す。 A cured film is formed on the surface of a 100 mm × 100 mm × 3 mm polycarbonate (PC) molded body (visible light transmittance 90%) prepared from “IV2200R” manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd. It was applied to a thickness of about 5 μm, naturally dried at room temperature for 5 minutes, and then cured at 120 ° C. for 1 hour. This laminated intermediate was evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 1.
上記積層中間体の硬化皮膜側の面に、石原産業(株)製光触媒トップコート剤「STK−211」を加熱処理後厚みが約0.5μmとなるように塗布した後、100℃で30分間加熱処理して、光触媒膜を形成し、樹脂積層体を作製した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表1に示す。 After applying the photocatalyst topcoat agent “STK-211” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. to the surface of the above-mentioned laminated intermediate on the cured film side so as to have a thickness of about 0.5 μm after heat treatment, at 100 ° C. for 30 minutes. Heat treatment was performed to form a photocatalyst film, and a resin laminate was produced. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 1.
実施例2
「ULS−1385MG」の代わりにベンゾフェノン系紫外線吸収基結合アクリル微粒子の水分散液「ULS−385MG」(一方社油脂工業(株)製;固形分30%で、この内の50%が紫外線吸収剤骨格)を用いた以外は実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 2
Instead of “ULS-1385MG”, an aqueous dispersion of benzophenone-based UV-absorbing group-bonded acrylic fine particles “ULS-385MG” (manufactured by Yushi Kogyo Co., Ltd .; solid content 30%, of which 50% is UV absorber) A laminated intermediate and a resin laminated body were produced in the same manner as in Example 1 except that the skeleton was used, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例3
「ULS−1385MG」を1.2g、テトラメトキシシランを3.8g、メチルトリメトキシシラン3.8g、3−アミノプロピルトリメトキシシランを1.0g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを1.0gとした以外は実施例1と同様にしてコーティング組成物を製造し、これを用いて実施例1と同様にして積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 3
1.2 g of “ULS-1385MG”, 3.8 g of tetramethoxysilane, 3.8 g of methyltrimethoxysilane, 1.0 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane, and 1.3 of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. A coating composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was 0 g. Using this coating composition, a laminated intermediate and a resin laminated body were produced in the same manner as in Example 1, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例4
「ULS−1385MG」を8.7g、1−メトキシ−2−プロパノールを16g、テトラメトキシシランを1.0g、20%p−トルエンスルホン酸メタノール溶液を0.05g、酢酸を0.75g、メチルトリメトキシシランを1.0g、3−アミノプロピルトリメトキシシランを0.4g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを0.4gとした以外は実施例1と同様にしてコーティング組成物を製造し、これを用いて実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 4
8.7 g of “ULS-1385MG”, 16 g of 1-methoxy-2-propanol, 1.0 g of tetramethoxysilane, 0.05 g of 20% p-toluenesulfonic acid methanol solution, 0.75 g of acetic acid, A coating composition was produced in the same manner as in Example 1 except that 1.0 g of methoxysilane, 0.4 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane and 0.4 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane were used. Using this, in the same manner as in Example 1, a laminate intermediate and a resin laminate were prepared, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例5
実施例1で用いたA液を(株)サンプラテック社製アクリル(PMMA)板(色:クリア、100mm×100mm×3mm、可視光線透過率93%)の表面に、硬化皮膜が約5μmになるように塗布し、室温で5分自然乾燥させた後、80℃で2時間硬化させた。この積層中間体を実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
上記積層中間体の硬化皮膜側の面に石原産業(株)製光触媒トップコート剤「STK−211」を加熱処理後厚みが約0.5μmとなるように塗布した後、80℃で1時間加熱処理して、光触媒膜を形成し、樹脂積層体を作製した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
Example 5
The solution A used in Example 1 was applied to the surface of an acrylic (PMMA) plate (color: clear, 100 mm × 100 mm × 3 mm, visible light transmittance 93%) manufactured by Sampratec Co., Ltd. so that the cured film was about 5 μm. After being naturally dried at room temperature for 5 minutes, it was cured at 80 ° C. for 2 hours. This laminated intermediate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
After applying the photocatalyst topcoat agent “STK-211” produced by Ishihara Sangyo Co., Ltd. to the surface of the laminated intermediate on the cured film side so as to have a thickness of about 0.5 μm after heating, it is heated at 80 ° C. for 1 hour It processed, the photocatalyst film | membrane was formed and the resin laminated body was produced. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
実施例6
前記ポリカーボネート板の表面に、石原産業(株)製有機系プライマー「ST−K300」を乾燥後の厚みが約0.3μmとなるように塗布した後、室温で30分間乾燥させた。このプライマー層上に実施例1のA液を実施例1と同様の方法で塗布、硬化させた。この積層中間体を実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
次に上記積層中間体の硬化皮膜側の面に、実施例1と同様にして光触媒膜を形成した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表1に示す。
Example 6
An organic primer “ST-K300” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was applied to the surface of the polycarbonate plate so that the thickness after drying was about 0.3 μm, and then dried at room temperature for 30 minutes. On this primer layer, the liquid A of Example 1 was applied and cured in the same manner as in Example 1. This laminated intermediate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
Next, a photocatalytic film was formed on the surface of the laminated intermediate on the cured film side in the same manner as in Example 1. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 1.
実施例7
容積50gのサンプル管に、ULS―1385MG:8.4g、1−メトキシ−2−プロパノール:10g、イオン交換水:1gを仕込み、700ppmで撹拌しながら、酢酸:1.0g、メチルトリメトキシシラン:4g、ジメトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン:1.9g、20%p−トルエンスルホン酸メタノール液:0.1gの順に、それぞれ1分間かけて滴下した。引き続き、室温で10分撹拌後、1日静置し、これをA’−1液とした。
容積20gのサンプル管に、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン:2.2g、2−ブタノオキシム:0.7gを仕込み、500ppmで、10分間撹拌後、1日静置し、これをA’−2液とした。
Example 7
A sample tube having a volume of 50 g was charged with ULS-1385MG: 8.4 g, 1-methoxy-2-propanol: 10 g, and ion-exchanged water: 1 g, and stirred at 700 ppm while acetic acid: 1.0 g, methyltrimethoxysilane: 4 g, dimethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane: 1.9 g, 20% p-toluenesulfonic acid methanol solution: 0.1 g were added dropwise in this order over 1 minute. Subsequently, after stirring at room temperature for 10 minutes, the mixture was allowed to stand for 1 day, which was designated as A′-1 solution.
A sample tube with a capacity of 20 g was charged with 3-isocyanatopropyltriethoxysilane: 2.2 g and 2-butanooxime: 0.7 g, stirred at 500 ppm for 10 minutes, and allowed to stand for 1 day. It was.
冷却管を取り付けた200ml三口フラスコに、A’−1液と攪拌子を入れ、窒素気流下、600rpmで、80℃3時間加熱した。引き続き、A’−2液を加え、同条件にて、80℃で4時間加熱した。さらに、これに3−アミノプロピルトリメトキシシラン:0.8gを、2分間かけて滴下した後、80℃で6時間、600rpmにて加熱した。
引き続き、1週間静置し、これをA’液とした(コーティング組成物(II))。
A液の代わりに、A’液(コーティング組成物(II))を用いて、実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行った。結果を表1に示す。
A 200-ml three-necked flask equipped with a condenser was charged with the A′-1 solution and a stirrer, and heated at 80 ° C. for 3 hours at 600 rpm under a nitrogen stream. Subsequently, A′-2 solution was added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 4 hours under the same conditions. Furthermore, after adding 0.8 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane to this over 2 minutes, it heated at 600 rpm for 6 hours at 80 degreeC.
Subsequently, the mixture was allowed to stand for 1 week, and this was used as A ′ solution (coating composition (II)).
Using the A ′ liquid (coating composition (II)) instead of the A liquid, a laminated intermediate and a resin laminated body were produced in the same manner as in Example 1, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例8
「ULS−1385MG」を12g、及びジメトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシランを1.3g、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランを2.1gとし、メチルトリメトキシシランの代わりにMTMS−Aを3g用いた他は実施例7と同様にしてコーティング組成物を製造し、これを用いて実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行った。結果を表1に示す。
Example 8
12 g of “ULS-1385MG”, 1.3 g of dimethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane, 2.1 g of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, and 3 g of MTMS-A instead of methyltrimethoxysilane In the same manner as in Example 7, a coating composition was produced. Using this, a laminated intermediate and a resin laminated body were produced in the same manner as in Example 1, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例9
容積50gのサンプル管に、ULS―1385MG:8.4g、1−メトキシ−2−プロパノール:10g、イオン交換水:1gを仕込み、700ppmで撹拌しながら、酢酸:1.0g、MTMS−A:3g、ジメトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン:1.9g、20%p−トルエンスルホン酸メタノール液:0.1gの順に、それぞれ1分間かけて滴下した。引き続き、室温で10分撹拌後、1日静置し、これをA’’−1液とした。
容積20gのサンプル管に、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン:2.2g、2−ブタノオキシム:0.7gを仕込み、500ppmで、10分間撹拌後、1日静置し、これをA’’−2液とした。
Example 9
A sample tube having a volume of 50 g was charged with ULS-1385MG: 8.4 g, 1-methoxy-2-propanol: 10 g, and ion-exchanged water: 1 g, while stirring at 700 ppm, acetic acid: 1.0 g, MTMS-A: 3 g , Dimethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane: 1.9 g, 20% p-toluenesulfonic acid methanol solution: 0.1 g, each in the order of dropwise addition over 1 minute. Subsequently, after stirring at room temperature for 10 minutes, the mixture was allowed to stand for 1 day, and this was designated as A ″ -1 solution.
A sample tube having a volume of 20 g was charged with 3-isocyanatopropyltriethoxysilane: 2.2 g and 2-butanooxime: 0.7 g, stirred at 500 ppm for 10 minutes, and allowed to stand for 1 day. Liquid.
冷却管を取り付けた200ml三口フラスコに、A’’−1液と攪拌子を入れ、窒素気流下、600rpmで、80℃3時間加熱した。引き続き、A’’−2液を加え、同条件にて、80℃で4時間加熱した。さらに、これに3−アミノプロピルトリメトキシシラン:0.8gを、2分間かけて滴下した後、80℃で6時間、600rpmにて加熱した。
引き続き、暗所25℃にて、1日静置した後、650rpmで攪拌しながら、IPA−ST(日産化学工業(株)製、イソプロパノール分散、コロイダルシリカ濃度30重量%、粒子系10〜20nm(メーカー公表値)):5.7gを2分間かけて滴下した。室温で30分攪拌後、さらに80℃で60分加熱した。
引き続き、1週間静置し、これをA’’液とした(コーティング組成物(III))。
A液の代わりに、A’’液(コーティング組成物(III))を用いて、実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行った。結果を表1に示す。
A ″ -1 liquid and a stirrer were placed in a 200 ml three-necked flask equipped with a condenser, and heated at 80 ° C. for 3 hours at 600 rpm under a nitrogen stream. Subsequently, A ″ -2 solution was added and heated at 80 ° C. for 4 hours under the same conditions. Furthermore, after adding 0.8 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane to this over 2 minutes, it heated at 600 rpm for 6 hours at 80 degreeC.
Subsequently, after standing at 25 ° C. in a dark place for 1 day, while stirring at 650 rpm, IPA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., isopropanol dispersion, colloidal silica concentration 30% by weight, particle system 10-20 nm ( (Manufacturer published value)): 5.7 g was dropped over 2 minutes. After stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was further heated at 80 ° C. for 60 minutes.
Subsequently, the mixture was allowed to stand for 1 week, and this was designated as A ″ solution (coating composition (III)).
Using the A ″ liquid (coating composition (III)) instead of the A liquid, a laminated intermediate and a resin laminated body were produced in the same manner as in Example 1, and physical properties were evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例10
イオン交換水を添加せず、MTMS−Aの代わりにメチルトリメトキシシランを4g用い、IPA−STの代わりにスノーテックスO−40(日産化学工業(株)製、水分散、コロイダルシリカ濃度20重量%、粒子径10〜20nm(メーカー公表値))を2.5g及びニードラールU−15(多木化学(株)製、水分散、酸化セリウム濃度15重量%,粒子径8nm以下(メーカーカタログ値))を4.7g用いた他は実施例9と同様にしてコーティング組成物を製造し、これを用いて実施例1と同様にして、積層中間体及び樹脂積層体を作製し、物性評価を行った。結果を表1に示す。
Example 10
No ion-exchanged water was added, 4 g of methyltrimethoxysilane was used instead of MTMS-A, Snowtex O-40 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., water dispersion, colloidal silica concentration 20 wt. %, Particle diameter 10-20 nm (manufacturer published value) 2.5 g and Niedral U-15 (manufactured by Taki Chemical Co., Ltd., water dispersion, cerium oxide concentration 15% by weight, particle diameter 8 nm or less (manufacturer catalog value) ) Was used in the same manner as in Example 9 except that 4.7 g was used, and a laminated intermediate and a resin laminate were prepared in the same manner as in Example 1 and evaluated for physical properties. It was. The results are shown in Table 1.
[第二の樹脂積層体]
参考例1
サンプル管に、「ULS−1385MG」6.2g、1−メトキシ−2−プロパノールを10g仕込み、攪拌しながら、1−メチルメタクリレート6.2gと2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.062gの混合物を滴下し、30分間攪拌した。引き続き暗所25℃にて、1週間静置した。これをB液(コーティング組成物(A))とした。
実施例1と同様のポリカーボネート成形体の表面に、B液を硬化皮膜が約5μmになるように塗布し、室温で5分自然乾燥させた後、120℃で1時間硬化させた。この積層中間体(1)について後述する評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
[Second resin laminate]
Reference example 1
A sample tube was charged with 6.2 g of “ULS-1385MG” and 10 g of 1-methoxy-2-propanol, and with stirring, 6.2 g of 1-methyl methacrylate and 0.062 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile. Was added dropwise and stirred for 30 minutes. Subsequently, the mixture was allowed to stand at 25 ° C. for 1 week. This was designated as B liquid (coating composition (A)).
The liquid B was applied to the surface of the same polycarbonate molded body as in Example 1 so that the cured film had a thickness of about 5 μm, allowed to dry naturally at room temperature for 5 minutes, and then cured at 120 ° C. for 1 hour. This laminated intermediate (1) was evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
次に上記積層中間体(1)の硬化皮膜側の面に、石原産業(株)製無機系アンダーコート剤「ST−K102a」と「ST−K102b」の等量混合液を乾燥加熱後の厚みが約3μmになるように塗布し、室温で5分乾燥させた後、100℃30分間加熱した。これを積層中間体(2)とした。
次に上記積層体(2)のアンダーコート層の面に、実施例1と同様にして光触媒膜を形成した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
Next, an equivalent mixed solution of inorganic undercoat agents “ST-K102a” and “ST-K102b” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. is dried and heated on the surface of the laminated intermediate (1) on the cured film side. Was applied to a thickness of about 3 μm, dried at room temperature for 5 minutes, and then heated at 100 ° C. for 30 minutes. This was designated as laminated intermediate (2).
Next, a photocatalyst film was formed on the surface of the undercoat layer of the laminate (2) in the same manner as in Example 1. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
参考例2
サンプル管に、「ULS−1385MG」5.0g、1−メトキシ−2−プロパノールを10g仕込み、攪拌しながら、1−メチルメタクリレート2.3gと2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.043gの混合物を滴下し、30分間攪拌した。これをC−1液とした。1−メチルメタクリレート2.0g、3−アミノプロピルトリメトキシシラン1.6g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1.6gの混合液をつくり、これをC−2液とした。C−1液をC−2液にゆっくり滴下し、2時間攪拌した。引き続き暗所25℃にて、1週間静置した。これをC液(コーティング組成物(A))とした。
前記ポリカーボネート板の表面に、上記で得られたC液を硬化皮膜が約5μmになるように塗布し、室温で5分自然乾燥させた後、120℃で1時間硬化させた。この積層中間体(1)について後述する評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
Reference example 2
A sample tube was charged with 5.0 g of “ULS-1385MG” and 10 g of 1-methoxy-2-propanol, and with stirring, 2.3 g of 1-methyl methacrylate and 0.043 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile. Was added dropwise and stirred for 30 minutes. This was designated as C-1 solution. A liquid mixture of 2.0 g of 1-methyl methacrylate, 1.6 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane and 1.6 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was prepared, and this was designated as C-2 liquid. C-1 liquid was slowly dripped at C-2 liquid, and it stirred for 2 hours. Subsequently, the mixture was allowed to stand at 25 ° C. for 1 week. This was designated as solution C (coating composition (A)).
The liquid C obtained above was applied to the surface of the polycarbonate plate so that the cured film had a thickness of about 5 μm, allowed to dry naturally at room temperature for 5 minutes, and then cured at 120 ° C. for 1 hour. This laminated intermediate (1) was evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
次に上記積層中間体(1)の硬化皮膜側の面に、石原産業(株)製有機系プライマー「ST−K300」を乾燥後の厚みが約0.3μmとなるように塗布した後、室温で30分間乾燥させ、さらにその上に、石原産業(株)製無機系アンダーコート剤「ST−K102a」と「ST−K102b」の等量混合液を乾燥加熱後の厚みが約3μmになるように塗布し、室温で5分乾燥させた後、100℃30分間加熱した。これを積層中間体(2)とした。
次に上記積層体中間体(2)のアンダーコート層の面に、実施例1と同様にして光触媒膜を形成した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
Next, an organic primer “ST-K300” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was applied to the surface of the laminated intermediate (1) on the cured film side so that the thickness after drying was about 0.3 μm. For 30 minutes, and further, an equivalent mixture of inorganic undercoat agents “ST-K102a” and “ST-K102b” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. is dried to a thickness of about 3 μm. And dried at room temperature for 5 minutes and then heated at 100 ° C. for 30 minutes. This was designated as laminated intermediate (2).
Next, a photocatalytic film was formed on the surface of the undercoat layer of the laminate intermediate (2) in the same manner as in Example 1. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
比較例1
1−メチルメタクリレート4g、紫外線吸収剤2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン0.15g、及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.042gをイソプロパノール8gに添加し十分に攪拌した。この液を前記ポリカーボネート板の表面に、硬化皮膜が約5μmになるように塗布し、室温で5分自然乾燥させた後、80℃で1時間硬化させた。この積層中間体について後述する評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
ここで得た積層中間体の硬化物側の面に、石原産業(株)製アンダーコート剤「ST−K102a」と「ST−K102b」の等量混合液を乾燥加熱後の厚みが約3μmになるように塗布し、室温で5分乾燥させた後、100℃30分間加熱した。その上にさらに、実施例1と同様にして光触媒膜を形成した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
Comparative Example 1
4 g of 1-methyl methacrylate, 0.15 g of an ultraviolet absorber 2,4-dihydroxybenzophenone, and 0.042 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile were added to 8 g of isopropanol and sufficiently stirred. This solution was applied to the surface of the polycarbonate plate so that the cured film had a thickness of about 5 μm, naturally dried at room temperature for 5 minutes, and then cured at 80 ° C. for 1 hour. This laminated intermediate was evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
On the cured product side surface of the laminated intermediate obtained here, an equivalent mixed liquid of undercoat agents “ST-K102a” and “ST-K102b” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was dried to a thickness of about 3 μm. After being coated and dried at room temperature for 5 minutes, it was heated at 100 ° C. for 30 minutes. Further thereon, a photocatalytic film was formed in the same manner as in Example 1. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
比較例2
紫外線吸収剤2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンの量を2g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.06gとした以外は、比較例1と同様に試料調製を行ない、物性を評価した。結果を表2に示す。
Comparative Example 2
Sample preparation was performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of the ultraviolet absorber 2,4-dihydroxybenzophenone was changed to 2 g and 2,2′-azobisisobutyronitrile 0.06 g, and the physical properties were evaluated. The results are shown in Table 2.
比較例3
(株)日本触媒製・紫外線吸収性フィルムコーテング剤「UV−G101」5gと、住化バイエルウレタン(株)製イソシアネート硬化剤「デスモジュールN3200」0.05gを均一混合し、加熱乾燥後の厚みが約5μmになるように、前記ポリカーボネート板の表面に塗布した後、100℃で3分、40℃で24時間乾燥させた。この積層中間体について後述する評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
上記積層中間体の硬化物側の面に、石原産業(株)製アンダーコート剤「ST−K102a」と「ST−K102b」の等量混合液を乾燥加熱後の厚みが約3μmになるように塗布し、室温で5分乾燥させた後、100℃30分間加熱した。その上にさらに、実施例1と同様にして光触媒膜を形成した。この樹脂積層体の接触角及び光線透過率を後述の評価方法に従って評価した。結果を表2に示す。
Comparative Example 3
Nippon Catalyst Co., Ltd. UV-absorbing film coating agent “UV-G101” 5 g and Sumika Bayer Urethane Co., Ltd. isocyanate curing agent “Desmodur N3200” 0.05 g are uniformly mixed and dried after heating. Was applied to the surface of the polycarbonate plate so as to be about 5 μm, and then dried at 100 ° C. for 3 minutes and at 40 ° C. for 24 hours. This laminated intermediate was evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
On the cured product side surface of the above-mentioned laminated intermediate, an equivalent mixed liquid of the undercoat agents “ST-K102a” and “ST-K102b” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. is dried to be about 3 μm in thickness. After applying and drying at room temperature for 5 minutes, it was heated at 100 ° C. for 30 minutes. Further thereon, a photocatalytic film was formed in the same manner as in Example 1. The contact angle and light transmittance of this resin laminate were evaluated according to the evaluation method described later. The results are shown in Table 2.
[評価方法]
1.樹脂積層体の評価
(1)光触媒機能
光触媒機能が発現しているか否かの指標として、親水性の度合いが挙げられる(一般に水との接触角が40°以下の親水性を有すれば防汚性を有するといわれている)。どの程度光触媒機能が発現されているかの指標として、以下の方法により接触角を測定した。
光触媒層側にブラックライトブルーランプにて1mW/cm2の紫外線を照射し、接触角の経時変化を測定した。接触角は、光触媒層面にマイクロシリンジを用いてイオン交換水20mlを滴下し、水滴を画像処理接触角度計(協和界面科学(株)製、CA−A)を用いて測定した。
[Evaluation methods]
1. Evaluation of resin laminate (1) Photocatalytic function As an index of whether or not the photocatalytic function is manifested, the degree of hydrophilicity can be mentioned (in general, if the contact angle with water has a hydrophilicity of 40 ° or less, antifouling It is said to have sex). As an index of how much photocatalytic function is expressed, the contact angle was measured by the following method.
The photocatalyst layer was irradiated with 1 mW / cm 2 of ultraviolet light with a black light blue lamp, and the change with time in contact angle was measured. The contact angle was measured by dropping 20 ml of ion-exchanged water on the surface of the photocatalyst layer using a microsyringe and using an image processing contact angle meter (Kyowa Interface Science Co., Ltd., CA-A).
(2)可視光線透過率
直読ヘイズコンピュータ(スガ試験機(株)製、HGM−2DP)を用いて測定した。
(2) Visible light transmittance It measured using the direct reading haze computer (Suga Test Instruments Co., Ltd. product, HGM-2DP).
2.積層中間体の評価
(1)ヘーズ
直読ヘイズコンピュータ(スガ試験機(株)製、HGM−2DP)を用いて測定した。
2. Evaluation of Laminated Intermediate (1) Haze Measurement was performed using a direct reading haze computer (HGM-2DP, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
(2)黄変度(YI)
SZ−optical SENSOR(日本電色工業(株)製)を用い、JIS K7105に準拠して測定した。
(2) Degree of yellowing (YI)
It measured based on JISK7105 using SZ-optical SENSOR (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. product).
(3)密着性
JIS K5400に準拠し、サンプルをカミソリの刃で2mm間隔に縦横11本ずつ切れ目を入れて100個の碁盤目をつくり、市販のセロハンテープ(「CT−24(幅24mm)」、ニチバン(株)製)を指の腹でよく密着させた後、90°の角度で手前方向に急激に剥し、皮膜が剥離しないで残存したます目数(X)をX/100で表示した。
(3) Adhesion In accordance with JIS K5400, a sample was cut into 11 grids at 2 mm intervals with a razor blade to make 100 grids, and a commercially available cellophane tape (“CT-24 (width 24 mm)”). , Manufactured by Nichiban Co., Ltd.) with the abdomen of the finger well, and then peeled off rapidly at an angle of 90 °, and the remaining number (X) of the film without peeling was displayed as X / 100. .
(4)耐候性
キセノンウェザー試験(アトラス社Ci165、出力6.5kW、ブラックパネル温度63℃、湿度50%)を実施し、上記(1)−(3)のパラメータの変化度合いで耐候性を評価した。
(4) Weather resistance A xenon weather test (Atlas Ci165, output 6.5 kW, black panel temperature 63 ° C., humidity 50%) was performed, and weather resistance was evaluated based on the degree of change in the parameters (1) to (3) above. did.
(5)耐冷熱衝撃性
冷熱衝撃試験(ESPEC製、TSA−200D−Wにて、−30℃で1時間、110℃で1時間を100サイクル)を実施した。冷熱衝撃試験前後での密着性(上記(3)参照)の変化で、耐冷熱試験性を評価した。
(5) Cold-heat shock resistance A cold-heat shock test (manufactured by ESPEC, TSA-200D-W, -30 ° C for 1 hour, 110 ° C for 1 hour for 100 cycles) was performed. The heat resistance test property was evaluated by the change in adhesion (see (3) above) before and after the heat shock test.
(6)有機高分子型微粒子の平均粒径
TEM(透過型電子顕微鏡)で中間層の断面観察を行ない、その1μm角中に存在する粒子を10個選び、米国NIH(National Institute of Health)製フリーソフト:NIH Image 1.63を使用して平均粒径を求めた。尚、実施例1−8における平均粒径は40〜60μmであった。また、実施例1で作製した中間層の断面写真(倍率:10万倍)を図5に示す。写真中の灰色(あるいは黒色)部分は、Si−O結合を有するマトリックスであり、白色部分(あるいは白点)は、紫外線線吸収基を含有する有機高分子微粒子である。これは、TEMに組み込まれた元素分析装置により確認した。
(6) Average particle diameter of organic polymer type fine particles Cross-sectional observation of the intermediate layer was performed with a TEM (transmission electron microscope), and 10 particles existing in the 1 μm square were selected and manufactured by NIH (National Institute of Health) in the United States. Average particle size was determined using free software: NIH Image 1.63. In addition, the average particle diameter in Example 1-8 was 40-60 micrometers. Moreover, the cross-sectional photograph (magnification: 100,000 times) of the intermediate layer produced in Example 1 is shown in FIG. The gray portion (or black portion) in the photograph is a matrix having Si—O bonds, and the white portion (or white point) is organic polymer fine particles containing an ultraviolet ray absorbing group. This was confirmed by an elemental analyzer incorporated in the TEM.
尚、成分(1),(5),(6)が完全に加水分解・縮合した場合の非揮発分量の計算値と成分(2)中の溶媒除去後に残る量の合計を100質量%として、中間層中の紫外線吸収ユニットの含有量(wt%)を計算した値を表1に示す。さらに、中間層の密度dを1g/cm3(おおよその有機物密度)及び2.5g/cm3(おおよそのSiO2密度)と仮定し、それぞれの仮定に対し、中間層(体積=100mm×100mm×5×10−3mm)中の紫外線吸収ユニット量(mg)を求めた。 The total of the calculated amount of non-volatile content when the components (1), (5), and (6) are completely hydrolyzed / condensed and the amount remaining after removing the solvent in the component (2) is 100% by mass, Table 1 shows values obtained by calculating the content (wt%) of the ultraviolet absorbing unit in the intermediate layer. Further, assuming that the density d of the intermediate layer is 1 g / cm 3 (approximate organic substance density) and 2.5 g / cm 3 (approximate SiO 2 density), for each assumption, the intermediate layer (volume = 100 mm × 100 mm) The amount of ultraviolet absorbing unit (mg) in × 5 × 10 −3 mm) was determined.
実施例1の中間層はSi−Oユニットを含むので、密度dは1g/cm3と2.5g/cm3の間にある。従って、中間層中の紫外線吸収ユニットは最大でも11.9mgである。一方、比較例2の中間層は有機成分のみなのでd〜1g/cm3と考えてよく、内在する紫外線吸収ユニットはおおよそ17mgである。比較例2の方が、紫外線吸収ユニット量が多いにも拘らず、実施例1の中間層の方が耐候性に優れることが表1,2から見て取れる。これは有機微粒子が中間層内で安定に存在しているためである。同様に、実施例2〜8の中間層も耐候性が優れたものになっている。比較例1の中間層の耐候性が悪いのは低分子型紫外線吸収剤を使用していることに起因する。高分子型紫外線吸収剤をそのまま膜として用いた比較例3の中間層に関しては、耐冷熱衝撃性が劣る結果となっている。 Since the intermediate layer of Example 1 includes Si—O units, the density d is between 1 g / cm 3 and 2.5 g / cm 3 . Therefore, the maximum UV absorption unit in the intermediate layer is 11.9 mg. On the other hand, since the intermediate layer of Comparative Example 2 contains only organic components, it may be considered that d to 1 g / cm 3, and the inherent ultraviolet absorption unit is approximately 17 mg. It can be seen from Tables 1 and 2 that Comparative Example 2 is superior in weather resistance to the intermediate layer of Example 1 although the amount of the ultraviolet absorbing unit is larger. This is because the organic fine particles exist stably in the intermediate layer. Similarly, the intermediate layers of Examples 2 to 8 are also excellent in weather resistance. The low weather resistance of the intermediate layer of Comparative Example 1 is due to the use of a low molecular weight UV absorber. With respect to the intermediate layer of Comparative Example 3 in which the polymer ultraviolet absorber was used as a film as it was, the thermal shock resistance was inferior.
表1,2より、実施例の樹脂積層体では、光触媒機能が発揮され、樹脂積層体の透明性が維持されていることがわかる。さらに、実施例の樹脂積層体は、使用環境下で、黄変しにくい、ヘーズが悪化しない、界面剥離が起こりにくい等耐候性、耐熱性に優れていた。 From Tables 1 and 2, it can be seen that in the resin laminates of the examples, the photocatalytic function is exhibited and the transparency of the resin laminate is maintained. Furthermore, the resin laminates of the examples were excellent in weather resistance and heat resistance, such as hardly yellowing, haze did not deteriorate, and interface peeling did not easily occur under the usage environment.
本発明の樹脂積層体は、道路関連資材(防音壁等)、建築材料(アーケードの天窓、カーポート等)に使用できる。 The resin laminate of the present invention can be used for road-related materials (such as soundproof walls) and building materials (such as arcade skylights and carports).
1 第一の樹脂積層体
2 第二の樹脂積層体
10 光触媒層
20 第一の樹脂積層体の中間層
22 第二の樹脂積層体の中間層
30 樹脂基材層
40 有機層
50 無機層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st resin laminated body 2 2nd resin laminated body 10 Photocatalyst layer 20 Intermediate layer of 1st resin laminated body 22 Intermediate layer of 2nd resin laminated body 30 Resin base material layer 40 Organic layer 50 Inorganic layer
Claims (9)
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(1)アルコキシシラン化合物
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物 On the resin base material layer, an intermediate layer is formed using the coating composition (I) containing the following components (1) to (6),
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(1) Alkoxysilane compound (2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物 On the resin base material layer, an intermediate layer is formed using a coating composition (II) containing the following components (2) to (8),
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound
て中間層を形成し、
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物
(9)無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカ On the resin base material layer, an intermediate layer is formed using a coating composition (III) containing the following components (2) to (9),
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound (9) Inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica
樹脂基材層の上に前記コーティング組成物を用いて中間層を形成し、
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(1)アルコキシシラン化合物
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物 A coating composition is produced using the following compounds (1) to (6),
An intermediate layer is formed on the resin base layer using the coating composition,
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(1) Alkoxysilane compound (2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound
樹脂基材層の上に前記コーティング組成物を用いて中間層を形成し、
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物 A coating composition is produced using the following compounds (2) to (8),
An intermediate layer is formed on the resin base layer using the coating composition,
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound
樹脂基材層の上に前記コーティング組成物を用いて中間層を形成し、
前記中間層の上に光触媒層を形成する樹脂積層体の製造方法。
(2)紫外線吸収基を含有する平均粒子径が1〜200nmの有機高分子型微粒子
(3)硬化触媒
(4)溶剤
(5)アミノシラン化合物
(6)エポキシシラン化合物
(7)オルガノアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物
(8)ブロック化イソシアネートシラン化合物
(9)無機系紫外線吸収性粒子及び/又はコロイダルシリカ A coating composition is produced using the following compounds (2) to (9),
An intermediate layer is formed on the resin base layer using the coating composition,
The manufacturing method of the resin laminated body which forms a photocatalyst layer on the said intermediate | middle layer.
(2) Organic polymer type fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing an ultraviolet absorbing group (3) Curing catalyst (4) Solvent (5) Aminosilane compound (6) Epoxysilane compound (7) Organoalkoxysilane compound or Polyorganoalkoxysilane compound (8) Blocked isocyanate silane compound (9) Inorganic ultraviolet absorbing particles and / or colloidal silica
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