JP4905106B2 - Laser wavelength control device, gas concentration measurement device, laser wavelength control method, and gas concentration measurement method - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 60
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 20
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 65
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 58
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 238000012887 quadratic function Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
本発明はレーザの波長制御装置、ガス濃度測定装置、レーザの波長制御方法およびガス濃度測定方法に関し、特に、周波数変調されたレーザ光を用いてガスの濃度を測定する方法に適用して好適なものである。 The present invention relates to a laser wavelength control device, a gas concentration measurement device, a laser wavelength control method, and a gas concentration measurement method, and is particularly suitable for application to a method of measuring a gas concentration using a frequency-modulated laser beam. Is.
気体状のガス分子にはそれぞれ固有の光吸収スペクトルが有ることが知られており、ガス分子の吸収線の中心周波数における減衰量はガスの濃度に比例する。このため、ガス分子の吸収線の中心周波数に一致した発振周波数をもつ半導体レーザ光をガスに照射し、その時のレーザ光の減衰量を測定することで、ガスの濃度を推定することができる(特許文献1)。 It is known that each gaseous gas molecule has its own light absorption spectrum, and the attenuation at the center frequency of the absorption line of the gas molecule is proportional to the gas concentration. For this reason, the gas concentration can be estimated by irradiating the gas with semiconductor laser light having an oscillation frequency that matches the center frequency of the absorption line of gas molecules, and measuring the attenuation of the laser light at that time ( Patent Document 1).
この原理を発展させたものとして2波長差分方式及び周波数変調方式があり、2波長差分方式では、半導体レーザの発振周波数はTHzオーダの信号であることから、複雑な信号処理を行うことができないのに対して、周波数変調方式では、数kHzのベースバンド領域で信号処理を行うことができるという利点がある。
ここで、周波数変調方式では、ガスの吸収線幅よりもレーザ光の線幅の方が小さいことから、ガスの吸収波長と半導体レーザの発光波長とを合わせる必要がある。この方法として、予め測定したいガスと同じ成分を封入した参照ガスセルを用いる方法がある(特許文献2)。
The two-wavelength difference method and the frequency modulation method are developed from this principle. In the two-wavelength difference method, since the oscillation frequency of the semiconductor laser is a signal on the order of THz, complicated signal processing cannot be performed. On the other hand, the frequency modulation method has an advantage that signal processing can be performed in a baseband region of several kHz.
Here, in the frequency modulation method, since the line width of the laser beam is smaller than the absorption line width of the gas, it is necessary to match the absorption wavelength of the gas with the emission wavelength of the semiconductor laser. As this method, there is a method using a reference gas cell in which the same component as the gas to be measured is enclosed (Patent Document 2).
図8は、従来の周波数変調方式におけるガス濃度測定装置の概略構成を示す平面図である。
図8において、光源ユニットには、半導体レーザモジュール121、参照ガスセル122およびフォト検出器123が収容され、光源ユニットのケース本体26の底面には、冷却用フィン27が取り付けられたペルチェ素子28が配設されている。ここで、半導体レーザモジュール121には、周波数変調されたレーザ光を両面から出射する半導体レーザが配設されるとともに、コネクタ125aを備えた光ケーブル125が延出され、半導体レーザから出射される一方の光が光ケーブル125を介して測定対象ガスの雰囲気に出射される。
FIG. 8 is a plan view showing a schematic configuration of a gas concentration measuring apparatus in a conventional frequency modulation method.
In FIG. 8, the light source unit accommodates a
また、参照ガスセル122は、半導体レーザの後ろ側の光路上に配設され、参照ガスセル122を通過したレーザ光は、参照ガスセル122の後ろ側に配設されたフォト検出器123によって受光検出される。
そして、参照ガスセル122を通過したレーザ光を参照しながらペルチェ素子28にて半導体レーザの温度制御を行い、2倍波と基本波との比が最大となるように半導体レーザの発光波長を制御することにより、ガスの吸収波長と半導体レーザの発光波長とを合わせることができる。
Then, the temperature of the semiconductor laser is controlled by the Peltier element 28 while referring to the laser beam that has passed through the
しかしながら、ガスの吸収波長と半導体レーザの発光波長とを合わせるために参照ガスセル122を用いる方法では、測定対象ガスの成分が環境によって変動したり、測定対象ガスと参照ガスセル122に封入されたガスの温度が異なったりすることから、測定対象ガスと参照ガスセル122に封入されたガスの成分や吸収波長を完全に一致させることが困難となり、計測精度の低下を招くという問題があった。
However, in the method of using the
また、HClやHFなどの腐食性ガスでは封入設備も高価となり、参照ガスセル122に封入するのが困難となるという問題があった。
さらに、参照ガスセル122を用いる方法では、部品点数が増加することから、戻り光によって半導体レーザの動作が不安定になり、計測精度の低下を招くという問題があった。
そこで、本発明の目的は、測定環境に依存することなく、ガスの吸収波長と半導体レーザの発光波長とを精度よく合わせることが可能なレーザの波長制御装置、ガス濃度測定装置、レーザの波長制御方法およびガス濃度測定方法を提供することである。
Further, the corrosive gas such as HCl and HF has a problem that the sealing equipment becomes expensive and it is difficult to seal the gas in the
Furthermore, in the method using the
Accordingly, an object of the present invention is to provide a laser wavelength control device, a gas concentration measurement device, and a laser wavelength control capable of accurately matching the absorption wavelength of a gas and the emission wavelength of a semiconductor laser without depending on the measurement environment. It is to provide a method and a gas concentration measurement method.
上述した課題を解決するために、請求項1記載のレーザの波長制御装置によれば、レーザ光を出射するレーザ素子と、前記レーザ光を基本波で周波数変調する周波数変調部と、前記周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、前記光検出部にて検出されたレーザ光から基本波成分を検出する基本波成分検出部と、前記光検出部にて検出されたレーザ光から2倍波成分を検出する2倍波成分検出部と、前記レーザ光から検出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する振幅比算出部と、前記基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて前記レーザ素子の温度を設定する温度設定部と、測定対象ガスの吸収ピーク波長からシフトされた波長を基準とする波長変調を行った時の前記基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて前記レーザ素子の駆動電流を制御する駆動電流制御部とを備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problem, a laser wavelength control device according to claim 1, a laser element that emits laser light, a frequency modulation unit that frequency-modulates the laser light with a fundamental wave, and the frequency modulation. A light detection unit that detects the laser beam that has been detected, a fundamental wave component detection unit that detects a fundamental wave component from the laser beam detected by the light detection unit, and a laser beam that is detected from the laser light detected by the light detection unit. A second harmonic component detection unit for detecting a harmonic component; an amplitude ratio calculation unit for calculating an amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component detected from the laser beam; and the fundamental wave component and the second harmonic wave. A temperature setting unit that sets the temperature of the laser element based on an amplitude ratio with the component; and the fundamental wave component when wavelength modulation is performed with reference to a wavelength shifted from the absorption peak wavelength of the measurement target gas; Based on the amplitude ratio with the harmonic component Characterized in that it comprises a drive current control unit for controlling the drive current of the laser element.
また、請求項2記載のレーザの波長制御装置によれば、前記温度設定部は、前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ素子の温度を設定し、前記駆動電流制御部は、吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように駆動電流を制御することを特徴とする。 According to the laser wavelength control apparatus of claim 2, the temperature setting unit sets the temperature of the laser element so that an amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic wave component is maximized, The drive current control unit has an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component when frequency-modulated with reference to wavelengths shifted by the same shift amount from the absorption peak wavelength to the long wavelength side and the short wavelength side, respectively. The drive current is controlled so as to match.
また、請求項3記載のガス濃度測定装置によれば、レーザ光を出射するレーザ素子と、前記レーザ光を基本波で周波数変調する周波数変調部と、前記周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、前記光検出部にて検出されたレーザ光から基本波成分を検出する基本波成分検出部と、前記光検出部にて検出されたレーザ光から2倍波成分を検出する2倍波成分検出部と、前記レーザ光から検出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する振幅比算出部と、前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ素子の温度を設定する温度設定部と、測定対象ガスの吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御する駆動電流制御部と、前記吸収ピーク波長を基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、前記レーザ光が透過したガスの濃度を算出するガス濃度算出部とを備えることを特徴とする。 According to the gas concentration measuring apparatus of claim 3, the laser element that emits laser light, the frequency modulation unit that modulates the frequency of the laser light with a fundamental wave, and the light that detects the frequency-modulated laser light. A detection unit; a fundamental wave component detection unit that detects a fundamental wave component from the laser light detected by the light detection unit; and a double that detects a second harmonic component from the laser light detected by the light detection unit. A wave component detection unit; an amplitude ratio calculation unit that calculates an amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component detected from the laser beam; and an amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component is maximized. A temperature setting unit for setting the temperature of the laser element, and frequency modulation with reference to wavelengths shifted from the absorption peak wavelength of the measurement target gas to the long wavelength side and the short wavelength side by the same shift amount, respectively. Fundamental wave component and double wave formation And a drive current control unit that controls the drive current of the laser element so that the amplitude ratio matches the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component when frequency-modulated with reference to the absorption peak wavelength. And a gas concentration calculation unit for calculating the concentration of the gas transmitted by the laser beam.
また、請求項4記載のレーザの波長制御方法によれば、基本波で周波数変調しながら測定対象ガスにレーザ光を入射するステップと、前記測定対象ガスを透過したレーザ光を検出するステップと、前記検出されたレーザ光から基本波成分および2倍波成分を抽出するステップと、前記レーザ光から抽出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出するステップと、前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ光を発生させるレーザ素子の温度を設定するステップと、前記測定対象ガスの吸収線幅の範囲内で吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御するステップとを備えることを特徴とする。 According to the laser wavelength control method of claim 4, the step of making the laser beam incident on the measurement target gas while performing frequency modulation with the fundamental wave, the step of detecting the laser beam that has passed through the measurement target gas, Extracting a fundamental wave component and a second harmonic component from the detected laser beam; calculating an amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component extracted from the laser beam; and the fundamental wave component The step of setting the temperature of the laser element that generates the laser light so that the amplitude ratio between the second harmonic component and the second harmonic component is maximized, and the long wavelength side from the absorption peak wavelength within the range of the absorption line width of the measurement target gas And the drive power of the laser element so that the amplitude ratio of the fundamental wave component and the second harmonic wave component when frequency-modulated with reference to the wavelength shifted by the same shift amount to the short wavelength side is the same. Characterized in that it comprises a step of controlling.
また、請求項5記載のガス濃度測定方法によれば、基本波で周波数変調しながら測定対象ガスにレーザ光を入射するステップと、前記測定対象ガスを透過したレーザ光を検出するステップと、前記検出されたレーザ光から基本波成分および2倍波成分を抽出するステップと、前記レーザ光から抽出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出するステップと、前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ光を発生させるレーザ素子の温度を設定するステップと、前記測定対象ガスの吸収線幅の範囲内で吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御するステップと、前記吸収ピーク波長を基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するステップとを備えることを特徴とする。
According to the gas concentration measurement method of
以上説明したように、本発明によれば、レーザ光の波長が測定対象ガスの吸収ピーク波長に一致するようにレーザ素子の温度を設定した上で、その吸収ピーク波長からシフトされた波長を基準とする波長変調を行いながらレーザ素子の駆動電流を制御することにより、測定対象ガスの成分が環境によって変動したり、測定対象ガスの吸収波長が温度によって変動したりする場合においても、参照ガスセルを用いることなく、測定対象ガスの吸収ピーク波長とレーザ素子の発光波長とを合わせることが可能となり、測定環境に依存することなく、ガス濃度の計測精度を向上させることが可能となる。 As described above, according to the present invention, the temperature of the laser element is set so that the wavelength of the laser light matches the absorption peak wavelength of the measurement target gas, and the wavelength shifted from the absorption peak wavelength is used as a reference. By controlling the drive current of the laser element while performing wavelength modulation, the reference gas cell can be used even when the component of the gas to be measured varies depending on the environment or the absorption wavelength of the gas to be measured varies depending on the temperature. Without using it, it is possible to match the absorption peak wavelength of the gas to be measured and the emission wavelength of the laser element, and it is possible to improve the measurement accuracy of the gas concentration without depending on the measurement environment.
以下、本発明の実施形態に係るガス濃度測定装置について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の概略構成を示す断面図
である。
図1において、ガス濃度測定装置の送信側には、レーザユニット57から出射されたレーザ光を基本波で周波数変調する送信部基板54、レーザユニット57から出射されたレーザ光を平行ビームに変換するコリメートレンズ56およびレーザ素子が搭載されたレーザユニット57が設けられている。なお、レーザ素子としては半導体レーザを用いることができ、レーザユニット57にはレーザ素子の温度を調整するペルチェ素子を搭載することができる。
Hereinafter, a gas concentration measuring apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a gas concentration measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, on the transmission side of the gas concentration measuring apparatus, a
また、ガス濃度測定装置の受信側には、測定対象ガスを透過したレーザ光を集光する集光レンズ60、測定対象ガスを透過したレーザ光を検出する光検出部61および測定対象ガスを透過したレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する受信部基板62が設けられている。なお、光検出部61としては、例えば、フォトダイオードを用いることができる。
Further, on the receiving side of the gas concentration measuring apparatus, a
ここで、送信部基板54、コリメートレンズ56およびレーザユニット57はハウジング58に収容されるとともに、集光レンズ60、光検出部61および受信部基板62はハウジング59に収容されている。そして、煙道などの測定対象ガスが流れる配管などの隔壁51a、51bには、フランジ52a、52bが溶接などの方法にて取り付けられる。そして、送信部基板54、コリメートレンズ56およびレーザユニット57が収容されたハウジング58は、ウェッジ窓55aにて配管内と仕切られるようにしてフランジ52aに取り付けられるとともに、集光レンズ60、光検出部61および受信部基板62が収容されたハウジング59は、ウェッジ窓55bにて配管内と仕切られるようにしてフランジ52bに取り付けられる。
Here, the
そして、中心周波数fc、変調周波数fmでレーザ素子の出力が周波数変調されながら、レーザ光がレーザユニット57から出射され、コリメートレンズ56にて平行ビームに変換された後、ウェッジ窓55aを介して隔壁51a、51b間の測定対象ガスを透過する。そして、測定対象ガスを透過したレーザ光は、測定対象ガスのガス分子の吸収線に対応した波長の吸収を受けた後、ウェッジ窓55bを介して集光レンズ60に入射し、集光レンズ60にて光検出部61上に集光される。そして、光検出部61にレーザ光が入射すると、光検出部61にて電気信号に変換され、その電気信号が受信部基板62に送られる。そして、光検出部61にて変換された電気信号が受信部基板62に送られると、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が受信部基板62にて算出される。そして、レーザ光が周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、隔壁51a、51b間の測定対象ガスの濃度を算出することができる。
Then, the laser light is emitted from the
ここで、送信部基板54は、レーザユニット57から出射されるレーザ光の波長が隔壁51a、51b間の測定対象ガスの吸収ピーク波長に一致するようにレーザ素子の温度を設定した上で、その吸収ピーク波長からシフトされた波長を基準とする波長変調を行いながらレーザ素子の駆動電流を制御することにより、隔壁51a、51b間の測定対象ガスの吸収波長とレーザユニット57に搭載されたレーザ素子の発光波長とを合わせることができる。
Here, the
図2は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の概略構成を示すブロック図である。
図2において、図1のレーザユニット57には、半導体レーザ41および温度設定部42が搭載されている。なお、温度設定部42としては、例えば、ペルチェ素子を用いることができる。また、図1の送信部基板54には、半導体レーザ41に駆動電流を注入するレーザ駆動部11、半導体レーザ41から出射されるレーザ光を基本波で周波数変調する周波数変調部12および半導体レーザ41に注入される駆動電流を制御する駆動電流制御部13が設けられている。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a gas concentration measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 2, a
また、図1の受信部基板62には、光検出部61にて検出されたレーザ光から基本波成分を検出する基本波成分検出部21、光検出部61にて検出されたレーザ光から2倍波成分を検出する2倍波成分検出部22、光検出部61にて検出されたレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する振幅比算出部23および光検出部61にて検出された基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて測定対象ガスの濃度を算出するガス濃度算出部24が設けられている。
In addition, the receiving
そして、周波数変調部12は、中心周波数fc、変調周波数fmで半導体レーザ41の出力が周波数変調されるようにレーザ駆動部11を制御することにより、その周波数変調されたレーザ光が半導体レーザ41から出射され、測定対象ガスを透過する。そして、測定対象ガスを透過したレーザ光は、測定対象ガスのガス分子の吸収線に対応した吸収を受けた後、光検出部61に入射する。そして、光検出部61にレーザ光が入射すると、光検出部61にて電気信号に変換され、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にてレーザ光の基本波成分と2倍波成分とがそれぞれ抽出される。そして、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にて抽出されたレーザ光の基本波成分と2倍波成分は振幅比算出部23に送られ、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が振幅比算出部23にて算出された後、温度設定部42に送られる。
Then, the
ここで、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が振幅比算出部23にて算出される時に、温度設定部42は半導体レーザ41の温度を変化させることができる。そして、温度設定部42は、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と半導体レーザ41の温度との関係を取得し、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるようにレーザ素子の温度を設定することができる。
Here, when the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component of the laser light is calculated by the amplitude
そして、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように半導体レーザ41の温度が設定されると、駆動電流制御部13は、レーザ光の波長が吸収ピーク波長λcから長波長側にシフトされるように半導体レーザ41の駆動電流を制御する。そして、周波数変調部12は、吸収ピーク波長λcから長波長側にシフトされた波長λLを基準として半導体レーザ41の出力が周波数変調されるようにレーザ駆動部11を制御することにより、波長λLを基準として波長変調されたレーザ光が半導体レーザ41から出射され、測定対象ガスを透過する。
When the temperature of the
そして、測定対象ガスを透過したレーザ光は、測定対象ガスのガス分子の吸収線に対応した吸収を受けた後、光検出部61に入射する。そして、光検出部61にレーザ光が入射すると、光検出部61にて電気信号に変換され、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にてレーザ光の基本波成分と2倍波成分とがそれぞれ抽出される。そして、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にて抽出されたレーザ光の基本波成分と2倍波成分は振幅比算出部23に送られ、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が振幅比算出部23にて算出された後、駆動電流制御部13に送られる。
Then, the laser light that has passed through the measurement target gas enters the
また、駆動電流制御部13は、吸収ピーク波長λcから短波長側にシフトされるように半導体レーザ41の駆動電流を制御する。そして、周波数変調部12は、吸収ピーク波長λcから短波長側にシフトされた波長λsを基準として半導体レーザ41の出力が周波数変調されるようにレーザ駆動部11を制御することにより、波長λsを基準として波長変調されたレーザ光が半導体レーザ41から出射され、測定対象ガスを透過する。
Further, the drive
そして、測定対象ガスを透過したレーザ光は、測定対象ガスのガス分子の吸収線に対応した吸収を受けた後、光検出部61に入射する。そして、光検出部61にレーザ光が入射すると、光検出部61にて電気信号に変換され、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にてレーザ光の基本波成分と2倍波成分とがそれぞれ抽出される。そして、基本波成分検出部21および2倍波成分検出部22にて抽出されたレーザ光の基本波成分と2倍波成分は振幅比算出部23に送られ、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が振幅比算出部23にて算出された後、駆動電流制御部13に送られる。
Then, the laser light that has passed through the measurement target gas enters the
なお、レーザ光の波長を吸収ピーク波長λcから長波長側および短波長側にシフトさせる場合、波長のずれ量Δλは、測定対象ガスの吸収線幅の範囲内においてΔλ=λc−λL=λc−λsとなるように設定することが好ましい。
そして、駆動電流制御部13は、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とを受け取ると、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とを比較する。
When the wavelength of the laser beam is shifted from the absorption peak wavelength λc to the long wavelength side and the short wavelength side, the wavelength shift amount Δλ is Δλ = λc−λL = λc− within the range of the absorption line width of the measurement target gas. It is preferable to set so as to be λs.
Then, the drive
そして、駆動電流制御部13は、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とが一致するようになるまで、半導体レーザ41の駆動電流を制御しながら、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比との比較を繰り返す。
Then, the drive
そして、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とが一致すると、駆動電流制御部13は、それらの振幅比が一致するような吸収ピーク波長λcを基準として波長変調されるように半導体レーザ41の駆動電流を設定する。
Then, the amplitude ratio between the fundamental wave component and the double wave component of the laser light when the wavelength is modulated with respect to the wavelength λL, and the double of the fundamental wave component of the laser light when the wavelength is modulated with the wavelength λs as a reference. When the amplitude ratio with the wave component matches, the drive
例えば、レーザ駆動部11は、吸収ピーク波長λcを基準としてレーザ光を波長変調する場合、30mA±5mAの電流で半導体レーザ41を駆動し、波長λLを基準としてレーザ光を波長変調する場合、40mA±5mAの電流で半導体レーザ41を駆動し、波長λsを基準としてレーザ光を波長変調する場合、20mA±5mAの電流で半導体レーザ41を駆動することができる。
For example, the
そして、ガス濃度算出部24は、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とが一致するような吸収ピーク波長λcを基準として波長変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、隔壁51a、51b間の測定対象ガスの濃度を算出することができる。
Then, the gas
これにより、半導体レーザ41の発光波長が測定対象ガスの吸収ピーク波長λcに一致するように半導体レーザ41の温度を設定した上で、吸収ピーク波長λcからシフトされた波長を基準とする波長変調を行いながら半導体レーザ41の駆動電流を制御することにより、測定対象ガスの成分が環境によって変動したり、測定対象ガスの吸収波長が温度によって変動したりする場合においても、参照ガスセルを用いることなく、測定対象ガスの吸収ピーク波長λcと半導体レーザ41の発光波長とを合わせることが可能となり、測定環境に依存することなく、ガス濃度の計測精度を向上させることが可能となる。
As a result, the temperature of the
図3は、本発明の一実施形態に係る周波数変調方式によるガス濃度の測定原理を説明する図である。
図3において、中心周波数fc、変調周波数fmで半導体レーザ41の出力を周波数変調し、測定対象ガスに照射されたものとする。ここで、測定対象ガスの吸収線は変調周波数に対してほぼ2次関数となっているので、この吸収線が弁別器の役割を果たし、光検出部61では変調周波数fmの2倍の周波数の成分(2倍波成分)が得られる。ここで、変調周波数fmは任意の周波数でよいので、例えば、変調周波数fmを数kHz程度に選ぶと、ディジタル信号処理装置(DSP)または汎用のプロセッサを用い高度な信号処理を施すことが可能となる。
FIG. 3 is a diagram for explaining the principle of measuring the gas concentration by the frequency modulation method according to one embodiment of the present invention.
In FIG. 3, it is assumed that the output of the
そして、半導体レーザ41と光検出部61との距離に起因するレーザ光の減衰量の影響を周波数変調方式にてキャンセルするためには、半導体レーザ41の出力に周波数変調を行うと同時に変調周波数fmで振幅変調を行えばよく、半導体レーザ41の出力に周波数変調をかけることで振幅変調もかけることができる。そして、光検出部61でエンベロープ検波を行うことで振幅変調による基本波成分を推定することができ、この基本波成分の振幅と2倍波成分の振幅の比を位相同期させて取ることで、半導体レーザ41と光検出部61との距離に依存することなく、測定対象ガスの濃度に比例した値を得ることができる。
In order to cancel the influence of the attenuation amount of the laser beam due to the distance between the
図4は、本発明の一実施形態に係るレーザ光の中心周波数制御方法を示す図である。
図4において、中心周波数fc、変調周波数fmで周波数変調された半導体レーザ41の出力が測定対象ガスに照射されると、測定対象ガスの吸収線は変調周波数に対してほぼ2次関数となっているので、光検出部61では変調周波数fmの2倍の周波数の成分(2倍波成分)が得られる。
FIG. 4 is a diagram illustrating a method for controlling the center frequency of laser light according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 4, when the measurement target gas is irradiated with the output of the
そして、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比を振幅比算出部23にて算出する場合、温度設定部42は半導体レーザ41の温度を変化させることができる。そして、温度設定部42は、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と半導体レーザ41の温度との関係を取得し、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるようにレーザ素子の温度を設定することにより、半導体レーザ41の波長を吸収ピーク波長λcに合わせることができる。
When the amplitude
また、レーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように半導体レーザ41の温度が温度設定部42にて設定されると、駆動電流制御部13は、測定対象ガスの吸収線幅の範囲内で長波長側および短波長側に同一のずれ量Δλだけシフトされた波長λL、λsをそれぞれ基準として周波数変調KL、Ksが行われた時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように、半導体レーザ41の駆動電流を制御することができる。
When the temperature of the
そして、駆動電流制御部13は、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比と、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比とが一致するような吸収ピーク波長λcを基準として波長変調されるように半導体レーザ41の駆動電流を設定し、ガス濃度算出部24は、その吸収ピーク波長λcを基準として波長変調Kcが行われた時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、測定対象ガスの濃度を算出することができる。
Then, the drive
ここで、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比よりも大きい場合、温度設定部42にて設定された発光波長が吸収ピーク波長λcに対して長波長側にずれていることから、駆動電流制御部13は、半導体レーザ41の駆動電流を減少させることで、半導体レーザ41の発光波長を短波長側にずらすことで、半導体レーザ41の発光波長を吸収ピーク波長λcに近づけることができる。
Here, the amplitude ratio between the fundamental wave component of the laser beam and the second harmonic component when the wavelength is modulated with respect to the wavelength λL is 2 and the fundamental wave component of the laser beam when the wavelength is modulated with respect to the wavelength λs. When the amplitude ratio with the harmonic component is larger, the emission wavelength set by the
また、波長λLを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比が、波長λsを基準として波長変調された時のレーザ光の基本波成分と2倍波成分との振幅比よりも小さい場合、温度設定部42にて設定された発光波長が吸収ピーク波長λcに対して短波長側にずれていることから、駆動電流制御部13は、半導体レーザ41の駆動電流を増加させることで、半導体レーザ41の発光波長を長波長側にずらすことで、半導体レーザ41の発光波長を吸収ピーク波長λcに近づけることができる。
Further, the amplitude ratio between the fundamental wave component and the double wave component of the laser light when the wavelength is modulated with respect to the wavelength λL is twice the fundamental wave component of the laser light when the wavelength is modulated with respect to the wavelength λs. When the amplitude ratio is smaller than the wave component, the emission wavelength set by the
図5は、本発明の一実施形態に係る駆動電流と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
図5において、半導体レーザ41の発光波長は駆動電流が増加するに従って長くなる。このため、半導体レーザ41の駆動電流を制御することにより、半導体レーザ41の発光波長を調整することができる。
図6は、本発明の一実施形態に係る温度と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
図6において、半導体レーザ41の発光波長は温度が増加するに従って長くなる。このため、半導体レーザ41の温度を制御することにより、半導体レーザ41の発光波長を調整することができる。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the drive current and the emission wavelength of the semiconductor laser according to one embodiment of the present invention.
In FIG. 5, the emission wavelength of the
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the temperature and the emission wavelength of the semiconductor laser according to one embodiment of the present invention.
In FIG. 6, the emission wavelength of the
図7は、本発明の一実施形態に係るHCNが封入されたガスセルにレーザ光を照射した時の発光波長と受光電圧との関係を示す図である。なお、P1はガスセルがある場合、P2はガスセルがない場合の波形を示す。
図7において、気体状のガス分子には、それぞれ固有の光吸収スペクトルがある。そして、レーザ光をガスセルに照射した場合、そのガス分子に固有の光吸収スペクトルの波長でレーザ光が吸収されることから、その波長の位置で光検出部61による受光電圧が低下する。
そして、図5および図6に示すように、半導体レーザ41の発光波長は駆動電流または温度によって変化することから、半導体レーザ41の駆動電流または温度を制御することにより、半導体レーザ41の発光波長を吸収ピーク波長λcに一致させることができる。
FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a light emission wavelength and a light reception voltage when a laser beam is irradiated to a gas cell in which HCN is sealed according to an embodiment of the present invention. P1 shows a waveform when there is a gas cell, and P2 shows a waveform when there is no gas cell.
In FIG. 7, each gaseous gas molecule has its own light absorption spectrum. When the gas cell is irradiated with laser light, the laser light is absorbed at the wavelength of the light absorption spectrum unique to the gas molecule, so that the light reception voltage by the
As shown in FIGS. 5 and 6, since the emission wavelength of the
11 レーザ駆動部
12 周波数変調部
13 駆動電流制御部
21 基本波成分検出部
22 2倍波成分検出部
23 振幅比算出部
24 ガス濃度算出部
41 半導体レーザ
42 温度設定部
51a、51b 隔壁
52a、52b フランジ
54 送信部基板
55a、55b ウェッジ窓
56 コリメートレンズ
57 レーザユニット
58、59 ハウジング
60 集光レンズ
61 光検出部
62 受信部基板
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記レーザ光を基本波で周波数変調する周波数変調部と、
前記周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、
前記光検出部にて検出されたレーザ光から基本波成分を検出する基本波成分検出部と、
前記光検出部にて検出されたレーザ光から2倍波成分を検出する2倍波成分検出部と、
前記レーザ光から検出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する振幅比算出部と、
前記基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて前記レーザ素子の温度を設定する温度設定部と、
測定対象ガスの吸収ピーク波長からシフトされた波長を基準とする波長変調を行った時の前記基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて前記レーザ素子の駆動電流を制御する駆動電流制御部とを備えることを特徴とするレーザの波長制御装置。 A laser element that emits laser light;
A frequency modulation unit for frequency-modulating the laser beam with a fundamental wave;
A light detector for detecting the frequency-modulated laser light;
A fundamental wave component detector that detects a fundamental wave component from the laser light detected by the light detector; and
A second harmonic component detection unit for detecting a second harmonic component from the laser light detected by the light detection unit;
An amplitude ratio calculation unit for calculating an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component detected from the laser beam;
A temperature setting unit that sets the temperature of the laser element based on the amplitude ratio of the fundamental wave component and the second harmonic wave component;
Drive current for controlling the drive current of the laser element based on the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic wave component when wavelength modulation is performed with reference to the wavelength shifted from the absorption peak wavelength of the measurement target gas A laser wavelength control device comprising: a control unit.
前記駆動電流制御部は、吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように駆動電流を制御することを特徴とする請求項1記載のレーザの波長制御装置。 The temperature setting unit sets the temperature of the laser element so that the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component is maximized,
The drive current control unit has an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component when frequency-modulated with reference to wavelengths shifted by the same shift amount from the absorption peak wavelength to the long wavelength side and the short wavelength side, respectively. 2. The laser wavelength control apparatus according to claim 1, wherein the drive current is controlled so that the two coincide with each other.
前記レーザ光を基本波で周波数変調する周波数変調部と、
前記周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、
前記光検出部にて検出されたレーザ光から基本波成分を検出する基本波成分検出部と、
前記光検出部にて検出されたレーザ光から2倍波成分を検出する2倍波成分検出部と、
前記レーザ光から検出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出する振幅比算出部と、
前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ素子の温度を設定する温度設定部と、
測定対象ガスの吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御する駆動電流制御部と、
前記吸収ピーク波長を基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、前記レーザ光が透過したガスの濃度を算出するガス濃度算出部とを備えることを特徴とするガス濃度測定装置。 A laser element that emits laser light;
A frequency modulation unit for frequency-modulating the laser beam with a fundamental wave;
A light detector for detecting the frequency-modulated laser light;
A fundamental wave component detector that detects a fundamental wave component from the laser light detected by the light detector; and
A second harmonic component detection unit for detecting a second harmonic component from the laser light detected by the light detection unit;
An amplitude ratio calculation unit for calculating an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component detected from the laser beam;
A temperature setting unit that sets the temperature of the laser element so that the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic wave component is maximized;
The amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic wave component when the frequency is modulated with reference to the wavelength shifted by the same shift amount from the absorption peak wavelength of the measurement target gas to the long wavelength side and the short wavelength side is the same. A drive current control unit for controlling the drive current of the laser element,
A gas concentration calculation unit that calculates the concentration of the gas transmitted by the laser beam based on an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component when frequency-modulated with respect to the absorption peak wavelength. A gas concentration measuring device.
前記測定対象ガスを透過したレーザ光を検出するステップと、
前記検出されたレーザ光から基本波成分および2倍波成分を抽出するステップと、
前記レーザ光から抽出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出するステップと、
前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ光を発生させるレーザ素子の温度を設定するステップと、
前記測定対象ガスの吸収線幅の範囲内で吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御するステップとを備えることを特徴とするレーザの波長制御方法。 Injecting laser light into the gas to be measured while modulating the frequency with the fundamental wave;
Detecting laser light transmitted through the measurement target gas;
Extracting a fundamental wave component and a second harmonic component from the detected laser beam;
Calculating an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component extracted from the laser beam;
Setting the temperature of the laser element that generates the laser beam so that the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component is maximized;
The fundamental wave component and the second harmonic wave when frequency-modulated with reference to wavelengths shifted by the same shift amount from the absorption peak wavelength to the long wavelength side and the short wavelength side within the range of the absorption line width of the measurement target gas. And a step of controlling the drive current of the laser element so that the amplitude ratio with the component matches.
前記測定対象ガスを透過したレーザ光を検出するステップと、
前記検出されたレーザ光から基本波成分および2倍波成分を抽出するステップと、
前記レーザ光から抽出された基本波成分と2倍波成分との振幅比を算出するステップと、
前記基本波成分と2倍波成分との振幅比が最大になるように前記レーザ光を発生させるレーザ素子の温度を設定するステップと、
前記測定対象ガスの吸収線幅の範囲内で吸収ピーク波長から長波長側および短波長側に同一のずれ量だけシフトされた波長をそれぞれ基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比が一致するように前記レーザ素子の駆動電流を制御するステップと、
前記吸収ピーク波長を基準として周波数変調された時の基本波成分と2倍波成分との振幅比に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するステップとを備えることを特徴とするガス濃度測定方法。 Injecting laser light into the gas to be measured while modulating the frequency with the fundamental wave;
Detecting laser light transmitted through the measurement target gas;
Extracting a fundamental wave component and a second harmonic component from the detected laser beam;
Calculating an amplitude ratio between a fundamental wave component and a second harmonic component extracted from the laser beam;
Setting the temperature of the laser element that generates the laser beam so that the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic component is maximized;
The fundamental wave component and the second harmonic wave when frequency-modulated with reference to wavelengths shifted by the same shift amount from the absorption peak wavelength to the long wavelength side and the short wavelength side within the range of the absorption line width of the measurement target gas. Controlling the drive current of the laser element so that the amplitude ratio with the component matches;
Calculating the concentration of the measurement target gas transmitted by the laser beam based on the amplitude ratio between the fundamental wave component and the second harmonic wave component when frequency-modulated with respect to the absorption peak wavelength. Gas concentration measurement method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006335678A JP4905106B2 (en) | 2006-12-13 | 2006-12-13 | Laser wavelength control device, gas concentration measurement device, laser wavelength control method, and gas concentration measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006335678A JP4905106B2 (en) | 2006-12-13 | 2006-12-13 | Laser wavelength control device, gas concentration measurement device, laser wavelength control method, and gas concentration measurement method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008147557A JP2008147557A (en) | 2008-06-26 |
JP4905106B2 true JP4905106B2 (en) | 2012-03-28 |
Family
ID=39607369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006335678A Active JP4905106B2 (en) | 2006-12-13 | 2006-12-13 | Laser wavelength control device, gas concentration measurement device, laser wavelength control method, and gas concentration measurement method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4905106B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5277763B2 (en) * | 2008-07-14 | 2013-08-28 | 富士電機株式会社 | Laser gas analyzer |
JP5169586B2 (en) * | 2008-07-30 | 2013-03-27 | 富士電機株式会社 | Laser gas analyzer, oxygen gas concentration measurement method |
US8896835B2 (en) | 2011-12-27 | 2014-11-25 | Horiba, Ltd. | Gas measurement apparatus and the setting method of width of wavelength modulation in gas measurement apparatus |
CA2964052A1 (en) * | 2014-10-08 | 2016-04-14 | Nec Corporation | Optical transmitter and optical transceiver |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2703835B2 (en) * | 1991-04-26 | 1998-01-26 | 東京瓦斯株式会社 | Gas concentration measuring method and its measuring device |
JP2866230B2 (en) * | 1991-09-20 | 1999-03-08 | 東京瓦斯株式会社 | Gas concentration measurement device |
JPH07151682A (en) * | 1993-11-30 | 1995-06-16 | Anritsu Corp | Gas density measuring processor |
JP3051808B2 (en) * | 1993-11-30 | 2000-06-12 | アンリツ株式会社 | Gas concentration measurement device |
JP3305904B2 (en) * | 1994-12-02 | 2002-07-24 | アンリツ株式会社 | Semiconductor laser oscillation wavelength stabilizer |
JP3342446B2 (en) * | 1999-08-31 | 2002-11-11 | 三菱重工業株式会社 | Gas concentration measurement device |
JP4217108B2 (en) * | 2003-06-02 | 2009-01-28 | 東京電力株式会社 | Multipoint optical gas concentration detection method and system |
-
2006
- 2006-12-13 JP JP2006335678A patent/JP4905106B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008147557A (en) | 2008-06-26 |
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JP2009014661A (en) | Gas concentration measurement device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090515 |
|
A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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