JP4892380B2 - Reflective material for optical semiconductors - Google Patents

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本発明は、紫外線を発生する光半導体用の反射材に関する。   The present invention relates to a reflective material for an optical semiconductor that generates ultraviolet rays.

1990年代以降、発光ダイオード(LED)の進歩は目覚しく、高出力化とともに多色化が進んでいる。なかでも白色LEDは従来の白色電球、ハロゲンランプ、HIDランプ等を代替する次世代の光源として期待されている。実際、LEDは長寿命、省電力、温度安定性、低電圧駆動等の特長が評価され、ディスプレイ、行き先表示板、車載照明、信号灯、非常灯、携帯電話、ビデオカメラ等へ応用されている。かかる発光装置は、通常、合成樹脂をリードフレームと一体成形してなる凹形状の反射材にLEDを固定し、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の封止材料で封止することにより製造されている。   Since the 1990s, the progress of light emitting diodes (LEDs) has been remarkable. Among these, white LEDs are expected as next-generation light sources that replace conventional white light bulbs, halogen lamps, HID lamps, and the like. In fact, LEDs have been evaluated for their features such as long life, power saving, temperature stability, low voltage drive, etc., and are applied to displays, destination display boards, in-vehicle lighting, signal lights, emergency lights, mobile phones, video cameras and the like. Such a light emitting device is usually manufactured by fixing an LED to a concave reflecting material formed by integrally molding a synthetic resin with a lead frame and sealing with a sealing material such as an epoxy resin or a silicone resin.

近年、紫外線を発するLEDが用いられるようになってきた。しかしながら、紫外線を効率よく反射する樹脂材料は無く、紫外線に対して高い反射率を有するものが求められている。また、LED発光装置内に水分が浸透すると、水分により発光素子が故障する恐れがあり、装置内に水蒸気が浸入しないことが望まれている。   In recent years, LEDs that emit ultraviolet light have been used. However, there is no resin material that efficiently reflects ultraviolet rays, and a material having a high reflectance with respect to ultraviolet rays is required. Further, if moisture penetrates into the LED light emitting device, the light emitting element may be damaged by the moisture, and it is desired that water vapor does not enter the device.

LED反射体としては、ポリアミド系樹脂に酸化チタンを添加した樹脂組成物がよく用いられている(例えば、特許文献1参照)。この材料は、可視光領域では非常に高い反射率を有する。しかしながら、酸化チタンは波長400nm以下の紫外線をよく吸収するため、この材料は波長400nm以下の紫外線をほとんど反射しない。
また、酸化チタンの代わりにチタン酸カリウム繊維を用いた材料が開示されている(例えば、特許文献2参照)。この材料では、紫外線に対する反射特性がある程度改良されるが、それでも不充分であった。
As the LED reflector, a resin composition obtained by adding titanium oxide to a polyamide-based resin is often used (see, for example, Patent Document 1). This material has a very high reflectivity in the visible light region. However, since titanium oxide absorbs UV light with a wavelength of 400 nm or less well, this material hardly reflects UV light with a wavelength of 400 nm or less.
A material using potassium titanate fibers instead of titanium oxide is disclosed (for example, see Patent Document 2). Although this material has some improvement in the reflection characteristics against ultraviolet rays, it is still insufficient.

一方、特許文献3には、LED発光装置を製造する際に、発光素子の周辺に、光反射性フィラーを含有する樹脂層(例えば、シリコーン樹脂)を備える技術が開示されている。光反射性フィラーとしては、酸化チタンやチタン酸カリウム等チタンと酸素を含む化合物が開示されている。しかしながら、これらのフィラーは紫外線を吸収する性質を持っているため、やはり、紫外線に対する反射率は極めて低いものであった。また、シリコーン樹脂を用いた場合、低分子シロキサンが揮発し接点不良を起こす問題や、発光装置内部に水蒸気が侵透し、発光素子を故障させる問題が懸念されていた。   On the other hand, Patent Document 3 discloses a technique of providing a resin layer (for example, a silicone resin) containing a light reflective filler around a light emitting element when manufacturing an LED light emitting device. As the light reflective filler, a compound containing titanium and oxygen such as titanium oxide and potassium titanate is disclosed. However, since these fillers have the property of absorbing ultraviolet rays, the reflectivity with respect to ultraviolet rays is extremely low. In addition, when silicone resin is used, there are concerns about the problem of low molecular siloxane volatilizing to cause contact failure and the problem of water vapor penetrating into the light emitting device to cause failure of the light emitting element.

また、特許文献4に、気泡を内包する約190μm厚みのポリエステル樹脂シートに、中空粒子を含有する10〜100μmの表面層を積層した光反射フィルムが開示されている。本材料は反射率が高く、さらに液晶バックライトに組込むと輝度が向上することが示されている。しかしながら、ポリエステル樹脂の融点は253℃であり、260℃程度の熱がかかるはんだリフロー工程で融解してしまい、LED発光装置製造には適さない。また、LED発光装置の大きさは通常、5mm角程度と非常に小さい。特許文献4の積層体は大面積のシート状反射体としては有用であるが、5mm程度の凹形状に成形し、LED発光装置内に組込むことは困難であった。
特開平2−288274号公報 特開2002−294070号公報 特開2000−150969号公報 特開2004−101601号公報
Patent Document 4 discloses a light reflecting film in which a surface layer of 10 to 100 μm containing hollow particles is laminated on a polyester resin sheet having a thickness of about 190 μm enclosing air bubbles. This material has a high reflectivity, and it has been shown that the luminance is improved when incorporated in a liquid crystal backlight. However, the melting point of the polyester resin is 253 ° C., and it is melted in the solder reflow process where heat of about 260 ° C. is applied, which is not suitable for manufacturing the LED light emitting device. The size of the LED light emitting device is usually very small, about 5 mm square. The laminate of Patent Document 4 is useful as a large-area sheet-like reflector, but it has been difficult to form a concave shape of about 5 mm and incorporate it into an LED light-emitting device.
JP-A-2-288274 JP 2002-294070 A JP 2000-150969 A JP 2004-101601 A

本発明は、紫外線に対して高い反射率を有し、また、水蒸気を透過しにくい光半導体用反射材を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a reflective material for optical semiconductors which has a high reflectance with respect to ultraviolet rays and hardly transmits water vapor.

本発明によれば、以下の光半導体用反射材等が提供される。
1.(a)数平均分子量が800以上の非環式炭化水素基を含有する、多官能(メタ)アクリル酸エステル:15〜80質量%、及び、(b)波長350nmでの紫外線透過率が50%以上の材質からなる中空粒子:20〜60質量%を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
2.前記(a)の非環式炭化水素基が、ポリアルカジエン構造又はポリアルカジエン水添物構造を有する1に記載の光半導体用反射材。
3.前記中空粒子が、架橋樹脂又は無機化合物からなる1又は2に記載の光半導体用反射材。
4.前記中空粒子が、架橋スチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、無機ガラス又はシリカからなる1〜3のいずれか一項に記載の光半導体用反射材。
5.さらに、波長550nmでの可視光線反射率が80%以上の基体を含み、この基体上に1〜4のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を積層している光半導体用反射材。
6.上記1〜5のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を含む光電変換素子。
7.上記6に記載の光電変換素子を含む光電変換装置。
According to the present invention, the following reflective materials for optical semiconductors and the like are provided.
1. (A) Polyfunctional (meth) acrylic acid ester containing an acyclic hydrocarbon group having a number average molecular weight of 800 or more, 15 to 80% by mass, and (b) UV transmittance at a wavelength of 350 nm is 50%. Hollow particles made of the above materials: a reflective material for optical semiconductors obtained by polymerizing a heat or photopolymerizable composition containing 20 to 60% by mass.
2. 2. The reflector for an optical semiconductor according to 1, wherein the acyclic hydrocarbon group of (a) has a polyalkadiene structure or a polyalkadiene hydrogenated structure.
3. The reflective material for optical semiconductors according to 1 or 2, wherein the hollow particles are made of a crosslinked resin or an inorganic compound.
4). The reflective material for optical semiconductors according to any one of 1 to 3, wherein the hollow particles are made of a crosslinked styrene resin, a crosslinked acrylic resin, inorganic glass, or silica.
5. Furthermore, the reflecting material for optical semiconductors which contains the base | substrate whose visible light reflectance in wavelength 550nm is 80% or more, and has laminated | stacked the reflecting material for optical semiconductors as described in any one of 1-4 on this base | substrate.
6). The photoelectric conversion element containing the reflecting material for optical semiconductors as described in any one of said 1-5.
7). 7. A photoelectric conversion device comprising the photoelectric conversion element according to 6 above.

本発明によれば、紫外線に対して高い反射率を有し、また、水蒸気を透過しにくい光半導体用反射材を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it has a high reflectance with respect to an ultraviolet-ray, and can provide the reflecting material for optical semiconductors which is hard to permeate | transmit water vapor | steam.

本発明の光半導体用反射材(LED用反射材)は、下記(a)及び(b)を含む熱又は光重合性組成物を、重合することにより得られる。
(a)数平均分子量800以上の非環式炭化水素基を含有する、多官能(メタ)アクリル酸エステルを15〜80質量%
(b)波長350nmでの紫外線透過率が50%以上の材質からなる中空粒子を20〜60質量%
The optical semiconductor reflective material (LED reflective material) of the present invention can be obtained by polymerizing a heat or photopolymerizable composition containing the following (a) and (b).
(A) 15-80 mass% of polyfunctional (meth) acrylic acid ester containing the acyclic hydrocarbon group of number average molecular weight 800 or more
(B) 20 to 60% by mass of hollow particles made of a material having an ultraviolet transmittance of 50% or more at a wavelength of 350 nm

本発明のLED用反射材は、紫外線に対して極めて高い反射率を有する。さらに、水蒸気透過度が非常に低いので、水分が原因となる発光素子の故障を極めて少なくすることができる。   The reflective material for LED of the present invention has an extremely high reflectance with respect to ultraviolet rays. Furthermore, since the water vapor permeability is very low, the failure of the light emitting element caused by moisture can be extremely reduced.

成分(a)は多官能(メタ)アクリル酸エステルであり、数平均分子量800以上の非環式炭化水素基を含有する。非環式炭化水素基の数平均分子量が800未満であると、中空粒子の分散性が悪化する恐れがある。非環式炭化水素基の数平均分子量は、好ましくは1000〜50000である。
尚、(メタ)アクリル酸エステルは、メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステルを意味し、両者を纏めて記載したものである。
また、非環式炭化水素基の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定した値であり、多官能(メタ)アクリル酸エステルの数平均分子量を測定し、その値から(メタ)アクリル酸部分の分子量を減ずることで決定できる。
Component (a) is a polyfunctional (meth) acrylic ester and contains an acyclic hydrocarbon group having a number average molecular weight of 800 or more. If the number average molecular weight of the acyclic hydrocarbon group is less than 800, the dispersibility of the hollow particles may be deteriorated. The number average molecular weight of the acyclic hydrocarbon group is preferably 1000 to 50000.
In addition, (meth) acrylic acid ester means methacrylic acid ester or acrylic acid ester, and describes both together.
Further, the number average molecular weight of the acyclic hydrocarbon group is a value measured by gel permeation chromatography (GPC), and the number average molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester is measured. It can be determined by reducing the molecular weight of the acrylic acid moiety.

成分(a)における平均分子量800以上の非環式炭化水素基としては、例えば、ポリアルカジエン、又はポリアルカジエンの水添物が好ましい。特に、耐紫外線性に優れるため、ポリアルカジエンの水添物が好ましい。
ポリアルカジエンの好適例としては、ポリイソプレン、ポリブタジエン等が挙げられる。
成分(a)である多官能(メタ)アクリル酸エステルは、一分子中に(メタ)アクリル基を2個以上有する。官能基の数は、2又は3個が好ましい。また、成分(a)は単独で用いてもよく、異なるものを複数組み合わせて用いてもよい。
成分(a)である多官能(メタ)アクリル酸エステルの具体例には、ポリブタジエン末端ジアクリレート、水添ポリブタジエン末端ジアクリレート、ポリイソプレン末端ジアクリレート、水添ポリイソプレン末端ジアクリレート等が挙げられる。
As the acyclic hydrocarbon group having an average molecular weight of 800 or more in the component (a), for example, polyalkadiene or a hydrogenated product of polyalkadiene is preferable. In particular, a hydrogenated product of polyalkadiene is preferable because of excellent ultraviolet resistance.
Preferable examples of the polyalkadiene include polyisoprene and polybutadiene.
The polyfunctional (meth) acrylic acid ester as the component (a) has two or more (meth) acrylic groups in one molecule. The number of functional groups is preferably 2 or 3. Moreover, a component (a) may be used independently and may use it combining several different things.
Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester that is component (a) include polybutadiene-terminated diacrylate, hydrogenated polybutadiene-terminated diacrylate, polyisoprene-terminated diacrylate, hydrogenated polyisoprene-terminated diacrylate, and the like.

尚、上述した成分(a)の代わりにシリコーン系樹脂を用いても、中空粒子の分散性を高め、さらに、紫外線に対する反射率を高めることができる。しかしながら、シリコーン系樹脂は水蒸気透過性が極めて高い材料であり、発光素子の故障の原因となる水分を取り込みやすい。それに対し、炭化水素系の材料は水蒸気透過性が極めて低く、光半導体用途に好適な材料である。   In addition, even if it uses a silicone type resin instead of the component (a) mentioned above, the dispersibility of a hollow particle can be improved and also the reflectance with respect to an ultraviolet-ray can be improved. However, the silicone resin is a material having extremely high water vapor permeability and easily takes in moisture that causes a failure of the light emitting element. In contrast, hydrocarbon-based materials have extremely low water vapor permeability and are suitable for optical semiconductor applications.

重合性組成物(重合開始剤等の添加剤を除く)に占める成分(a)の含有量は15〜80質量%であり、好ましくは20〜80質量%である。15質量%未満であると、LED発光装置製造時に、熱によって変形する場合がある。80質量%を超えると反射率が不十分となる恐れがある。   The content of the component (a) in the polymerizable composition (excluding additives such as a polymerization initiator) is 15 to 80% by mass, preferably 20 to 80% by mass. If it is less than 15% by mass, the LED light-emitting device may be deformed by heat during manufacture. If it exceeds 80% by mass, the reflectance may be insufficient.

成分(b)である中空粒子は、波長350nmにおける紫外線透過率が50%以上の材質からなる。ここで紫外線透過率は、中空粒子を構成する材質の厚みが250μmのときの波長350nmの光に対する紫外線透過率を意味する。紫外線透過率は、より好ましくは60〜100%である。
中空粒子の外殻を通過した紫外線は、中空部で反射されるため、紫外線透過率の高い材質が必要となる。中空部での反射率を高めるためには、中空粒子を構成する部分と中空粒子内部に存在する気体との屈折率の差が大きいほうがよい。中空粒子内部に存在する気体は、通常、空気であるが、窒素やアルゴン等の不活性ガスでもよく、また、真空であってもよい。
The hollow particles as the component (b) are made of a material having an ultraviolet transmittance of 50% or more at a wavelength of 350 nm. Here, the ultraviolet transmittance means the ultraviolet transmittance for light having a wavelength of 350 nm when the thickness of the material constituting the hollow particles is 250 μm. The ultraviolet transmittance is more preferably 60 to 100%.
Since the ultraviolet rays that have passed through the outer shell of the hollow particles are reflected by the hollow portion, a material having a high ultraviolet transmittance is required. In order to increase the reflectance at the hollow portion, it is preferable that the difference in refractive index between the portion constituting the hollow particle and the gas existing inside the hollow particle is large. The gas present inside the hollow particles is usually air, but may be an inert gas such as nitrogen or argon, or may be a vacuum.

中空粒子は、粒子内部に1つ以上の独立気泡を内包する粒子であることが好ましいが、中空部が形成されている2次粒子であってもよい。中空粒子を構成する材料は、有機化合物でも無機化合物でも構わない。しかし、中空粒子の外殻で光が吸収されると中空粒子内部に届く紫外線が減少し、中空部での反射率が低下するので、紫外線をあまり吸収しないものが好ましい。また、熱処理により中空部が破壊され、中空部が無くなると反射特性が失われるので、耐熱性が高いものが好ましい。   The hollow particles are preferably particles that contain one or more closed cells inside the particles, but may be secondary particles in which hollow portions are formed. The material constituting the hollow particles may be an organic compound or an inorganic compound. However, when light is absorbed by the outer shell of the hollow particles, the ultraviolet rays that reach the inside of the hollow particles are reduced, and the reflectance at the hollow portion is reduced. Therefore, those that do not absorb much ultraviolet rays are preferable. Moreover, since a hollow part is destroyed by heat processing and a reflective characteristic will be lost when a hollow part is lose | eliminated, a thing with high heat resistance is preferable.

このような材料としては、無機化合物では、無機ガラス、シリカ、アルミナ等の金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、珪酸カルシウム、炭酸ニッケル等の金属塩等を好適に用いることができる。
有機化合物では、ポリスチレン系樹脂、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、及び、これらの架橋体等を好適に用いることができ、これらを1種又は2種以上含んでいても良い。中でも、無機ガラス、シリカ、架橋(メタ)アクリル系樹脂、架橋スチレン系樹脂が好ましい。
As such materials, for inorganic compounds, inorganic glass, metal oxides such as silica and alumina, and metal salts such as calcium carbonate, barium carbonate, calcium silicate, and nickel carbonate can be suitably used.
In the organic compound, a polystyrene-based resin, a poly (meth) acrylate-based resin, a cross-linked product thereof, and the like can be suitably used, and one or more of these may be included. Among these, inorganic glass, silica, a crosslinked (meth) acrylic resin, and a crosslinked styrene resin are preferable.

中空粒子の外径は特に限定されない。光反射性、取扱性の観点から0.01〜500μmが好ましい。0.01μmより小さいと、中空粒子が不均一に分散してしまう恐れがある。500μmより大きいと、反射板の表面荒れが生じ、反射率が低下する。中空粒子の内径も特に限定されない。光反射性の観点から、0.005〜100μmが好ましく、0.1〜50μmがより好ましい。この範囲を外れると反射効率が悪くなる。   The outer diameter of the hollow particles is not particularly limited. From the viewpoint of light reflectivity and handleability, 0.01 to 500 μm is preferable. If it is smaller than 0.01 μm, the hollow particles may be dispersed unevenly. If it is larger than 500 μm, the surface of the reflector is roughened, and the reflectance is lowered. The inner diameter of the hollow particles is not particularly limited. From a light reflective viewpoint, 0.005-100 micrometers is preferable and 0.1-50 micrometers is more preferable. Outside this range, the reflection efficiency deteriorates.

重合性組成物(重合開始剤等の添加剤を除く)に占める中空粒子の含有量は20〜60質量%であり、好ましくは25〜55質量%である。20質量%未満であると反射率が低下する恐れがある。60質量%を超えると、中空粒子の分散性が悪化する場合がある。   The content of the hollow particles in the polymerizable composition (excluding additives such as a polymerization initiator) is 20 to 60% by mass, preferably 25 to 55% by mass. If it is less than 20% by mass, the reflectance may be lowered. If it exceeds 60% by mass, the dispersibility of the hollow particles may deteriorate.

本発明で使用する熱又は光重合性組成物には、成分(a)以外の(メタ)アクリル酸エステルを添加してもよい。この場合、重合性組成物(重合開始剤等の添加剤を除く)における成分(a)とその他の(メタ)アクリル酸エステルの合計量の割合を40〜80質量%とすることが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルとして、例えば、メチルアクリレート、フルオロメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1,2,2,2−テトラクロロエチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、2−クロロ−1−(クロロジフルオロメチル)エチルアクリレート、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアクリレート、1−メチルエチルアクリレート、2−(メチルチオ)エチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−プロペニルアクリレート、1−エトキシ−2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2−(エチルチオ)エチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルアクリレート、3−(メチルチオ)プロピルアクリレート、1−メチルプロピルアクリレート、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルアクリレート、4−オキサペンチルアクリレート、2−(トリフルオロエトキシ)エチルアクリレート、2−(1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ)エチルアクリレート、3−(エチルチオ)プロピルアクリレート、1−エチルプロピルアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチルアクリレート、2,2−ジメチルプロピルアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルアクリレート、4−メチルチオブチルアクリレート、2−メチルブチルアクリレート、3−メチルブチルアクリレート、4−オキサヘキシルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルブチルアクリレート、2−メチルペンチルアクリレート、4−メチル−2−ペンチルアクリレート、フェニルアクリレート、2−クロロフェニルアクリレート、4−クロロフェニルアクリレート、2,4−ジクロロフェニルアクリレート、ペンタクロロアクリレート、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロアクリレート,ペンタフロロアクリレート、ヘプチルアクリレート、フェニルメチルアクリレート、2−メチルフェニルアクリレート、3−メチルフェニルアクリレート、4−メチルフェニルアクリレート、1−メチルへキシルアクリレート、4−メトキシフェニルアクリレート、オクチルアクリレート、2−フェニルエチルアクリレート、1−メチルヘプチルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリレート等のアクリル酸エステルや、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、2−クロロエチルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2−ニトロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2−クロロプロピルメタクリレート、トリメチルシリルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘプタフルオロイソプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、ノナフルオロ−tert−ブチルメタクリレート、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート、ペンチルメタクリレート、シクロペンチルメタクリレート、2,2−ジエチルプロピルメタクリレート、1−メチルブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、2,2,3,3,4,4,5,6−オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、3,3−ジメチルブチルメタクリレート、2−エチルブチルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、3−メチルシクロヘキシルメタクリレート、4−メチルシクロヘキシルメタクリレート、1,1−ジエチルプロピルメタクリレート、2−メチルフェニルメタクリレート、3−メチルフェニルメタクリレート、4−メチルフェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−メトキシフェニルメタクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−フェニルエチルメタクリレート、2,4−ジメチルフェニルメタクリレート、2,5−ジメチルフェニルメタクリレート、2,6−ジメチルフェニルメタクリレート、3,5−ジメチルフェニルメタクリレート、ノニルメタクリレート、デシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート等のメタクリル酸エステルが挙げられる。
尚、これらのなかで芳香環を含まない(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。
You may add (meth) acrylic acid ester other than a component (a) to the heat | fever or photopolymerizable composition used by this invention. In this case, the ratio of the total amount of component (a) and other (meth) acrylic acid ester in the polymerizable composition (excluding additives such as a polymerization initiator) is preferably 40 to 80% by mass.
Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl acrylate, fluoromethyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 1, 2,2,2-tetrachloroethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-chloro-1- (chlorodifluoromethyl) ethyl acrylate, 1,2,2,2-tetrafluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl acrylate 2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 1-methylethyl acrylate, 2- (methyl Thio) ethyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-propenyl acrylate, 1-ethoxy-2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2- (ethylthio) ethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl acrylate, 3- (methylthio) propyl acrylate, 1-methylpropyl acrylate, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl acrylate 4-oxapentyl acrylate, 2- (trifluoroethoxy) ethyl acrylate, 2- (1,1,2,2-tetrafluoroethoxy) ethyl acrylate, 3- (ethylthio) propyl acrylate, 1-ethylpropyl acrylate, 2 , , 3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl acrylate, 2,2-dimethylpropyl acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl acrylate, 4, -Methylthiobutyl acrylate, 2-methylbutyl acrylate, 3-methylbutyl acrylate, 4-oxahexyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylbutyl acrylate, 2-methylpentyl acrylate, 4-methyl -2-pentyl acrylate, phenyl acrylate, 2-chlorophenyl acrylate, 4-chlorophenyl acrylate, 2,4-dichlorophenyl acrylate, pentachloroacrylate, 3,3,4,4,5,5,6,6,6- Ndecafluoroacrylate, pentafluoroacrylate, heptyl acrylate, phenylmethyl acrylate, 2-methylphenyl acrylate, 3-methylphenyl acrylate, 4-methylphenyl acrylate, 1-methylhexyl acrylate, 4-methoxyphenyl acrylate, octyl acrylate, Acrylic esters such as 2-phenylethyl acrylate, 1-methylheptyl acrylate, nonyl acrylate, decyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2-nitro Ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, 2-meth Cyethyl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-chloropropyl methacrylate, trimethylsilyl methacrylate, 2,2,2-trifluoro-1-methylethyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, heptafluoroisopropyl Methacrylate, hexafluoroisopropyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, diethylene glycol methacrylate, nonafluoro-tert-butyl methacrylate, 2,2,3,3,4,4 , 4-Heptafluorobutyl methacrylate, pentyl methacrylate, cyclopentyl methacrylate Chlorate, 2,2-diethylpropyl methacrylate, 1-methylbutyl methacrylate, isoamyl methacrylate, 2,2,3,3,4,4,5,6-octafluoropentyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl methacrylate, 3 , 3-dimethylbutyl methacrylate, 2-ethylbutyl methacrylate, 1-methylcyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, 3-methylcyclohexyl methacrylate, 4-methylcyclohexyl methacrylate, 1,1-diethylpropyl methacrylate, 2-methylphenyl methacrylate , 3-methylphenyl methacrylate, 4-methylphenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-methoxy Phenyl methacrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-phenylethyl methacrylate, 2,4- Examples thereof include methacrylic acid esters such as dimethylphenyl methacrylate, 2,5-dimethylphenyl methacrylate, 2,6-dimethylphenyl methacrylate, 3,5-dimethylphenyl methacrylate, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, and isodecyl methacrylate.
Of these, (meth) acrylic acid esters containing no aromatic ring are preferred.

成分(a)以外の(メタ)アクリル酸エステルの添加量は、組成物の60質量%以下が好ましく、さらに好ましくは50質量%以下である。60質量%を超えると、中空粒子の分散性が悪化することがある。   60 mass% or less of a composition is preferable, and, as for the addition amount of (meth) acrylic acid ester other than a component (a), More preferably, it is 50 mass% or less. If it exceeds 60% by mass, the dispersibility of the hollow particles may deteriorate.

本発明で使用する熱又は光重合性組成物には、添加剤として公知の酸化防止剤及び光安定剤等を使用することができる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等がある。これら添加剤の使用量は、重合性成分全量100質量部に対して、通常、0.005〜5質量部、好ましくは0.02〜2質量部である。これらの添加剤を2種以上組み合わせても良い。
In the heat or photopolymerizable composition used in the present invention, known antioxidants and light stabilizers can be used as additives.
Antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, amine antioxidants, and the like. The use amount of these additives is usually 0.005 to 5 parts by mass, preferably 0.02 to 2 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable components. Two or more of these additives may be combined.

光安定剤は、ヒンダードアミン系光安定剤が好適に用いることができる。添加量は、重合性成分全量100質量部に対して、通常、0.005〜5質量部、好ましくは0.02〜2質量部である。これらの添加剤を2種以上組み合わせても良い。   As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer can be suitably used. The addition amount is usually 0.005 to 5 parts by mass, preferably 0.02 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable components. Two or more of these additives may be combined.

本発明の反射材は、上述した成分(a)に成分(b)中空粒子を混合し、その後、熱又は光で重合し硬化することにより、製造することができる。重合反応を促進するため、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤は特に限定されない。例えば、ラジカル重合開始剤等を使用することができる。ラジカル重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジイソブチリルパーオキサイド、ビス−3,5,5−トリメチルヘキサノールパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、m−トルイルベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキセン等のジアルキルパーオキサイド類、1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチル)シクロヘキサン、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルペルオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシネオジカーボネート、α−クミルペルオキシネオジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオジカーボネート、t−ヘキシルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルペルオキシヘキサヒドロテレフタレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサネート、t−アミルペルオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジブチルペルオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル類、ジ−3−メトキシブチルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート、ビス(1,1−ブチルシクロヘキサオキシジカーボネート)、ジイソプロピルオキシジカーボネート、t−アミルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、1,6−ビス(t−ブチルペルオキシカルボキシ)ヘキサン等のパーオキシカーボネート類等が挙げられる。また、パーヘキサ3M−95(日本油脂(株))やアゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤に使用量は、前記の熱又は光重合性化合物全量100質量部に対して、通常、0.01〜5質量部、好ましくは0.05〜1.0質量部である。上記ラジカル重合開始剤をそれぞれ単独で使用してもよく、また、複数を併用しても差し支えない。
The reflective material of the present invention can be produced by mixing the component (a) with the component (b) hollow particles, and then polymerizing and curing with heat or light. In order to accelerate the polymerization reaction, a polymerization initiator may be added. The polymerization initiator is not particularly limited. For example, a radical polymerization initiator can be used. Examples of radical polymerization initiators include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide , Hydroperoxides such as cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, diisobutyryl peroxide, bis-3,5,5-trimethylhexanol peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, m-toluylbenzoyl peroxide Diacyl peroxides such as oxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane Dialkyl such as 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexene Peroxides, 1,1-di (t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl) cyclohexane, 1,1-di-t-butylperoxycyclohexane, 2,2-di (t-butylperoxy) butane, etc. Peroxyketals, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodicarbonate, α-cumylperoxyneodicarbonate, t-butylperoxyneodicarbonate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethyl Hexanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, 1,1,3 3-tetramethylbutylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-amylperoxy3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxy3,5,5-trimethylhexanoate, t-butyl Alkyl peresters such as peroxyacetate, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyladipate, di-3-methoxybutylperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, bis (1,1-butylcyclohexaoxydi) -Bonate), diisopropyloxydicarbonate, t-amylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexylcarbonate, 1,6-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane, and other peroxycarbonates And the like. Moreover, perhexa 3M-95 (Nippon Yushi Co., Ltd.), azobisisobutyronitrile, etc. are mentioned.
The usage-amount for a radical polymerization initiator is 0.01-5 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said heat | fever or photopolymerizable compounds whole quantity, Preferably it is 0.05-1.0 mass part. The above radical polymerization initiators may be used alone or in combination.

本発明では重合性組成物を、重合すると同時に反射材に成形することが好ましい。「重合すると同時に反射材の形に成形する」とは、例えば、重合性組成物を基材上で硬化させる操作のみで成形体を得ることである。例えば、液状重合性組成物を塗布やスピンコート等で基材を覆い、その後、光や熱等のエネルギーにより重合を完了させ、成形体の形にすることをいう。重合性組成物の重合物を予め作製し、その後、成形する場合、例えば、(1)重合性組成物の重合物を溶剤等に溶かし、支持体等に塗布、乾燥して反射体としたり、(2)重合性組成物の重合物を射出成形や押出成形等で反射体としたものは、以下の問題が生じるおそれがある。   In the present invention, the polymerizable composition is preferably formed into a reflector simultaneously with polymerization. “Molding into the shape of a reflector simultaneously with polymerization” means, for example, obtaining a molded body only by an operation of curing the polymerizable composition on a substrate. For example, the liquid polymerizable composition is covered with a coating or spin coating, and then the polymerization is completed by energy such as light or heat to form a molded body. In the case where a polymer of the polymerizable composition is prepared in advance and then molded, for example, (1) the polymer of the polymerizable composition is dissolved in a solvent or the like, applied to a support or the like, and dried to form a reflector, (2) When the polymer of the polymerizable composition is used as a reflector by injection molding or extrusion molding, the following problems may occur.

上記(1)の方法で、例えば、後述する図1(b)に示すような反射層24を形成する場合、樹脂組成物基体10の凹部に重合性組成物の重合物溶液を充填する必要がある。この場合、溶剤揮発後、反射層24が形成されるだけでなく、発光素子20の表面も白い反射層で覆われることになり、発光素子20から光を取り出すことができなくなる。
また、上記(2)の方法のように、重合物を一度溶融させた後、賦形すれば、凹状に成形することは可能である。しかしながら、重合物を溶融させるには、かなりの高温に数分間さらす必要がある。この間に重合物が劣化し、着色するため、反射率低下を免れない。
本発明のように、重合性組成物を樹脂組成物基体10の凹部に塗布し、重合すると同時に反射材の形に成形することで、はじめて理想的な反射層を形成することが可能になる。
When the reflective layer 24 as shown in FIG. 1B to be described later is formed by the method (1), for example, it is necessary to fill the concave portion of the resin composition substrate 10 with a polymer solution of the polymerizable composition. is there. In this case, after the solvent is volatilized, not only the reflective layer 24 is formed, but also the surface of the light emitting element 20 is covered with the white reflective layer, and light cannot be extracted from the light emitting element 20.
Moreover, if the polymer is once melted and then shaped as in the method (2), it can be formed into a concave shape. However, in order to melt the polymer, it must be exposed to a fairly high temperature for several minutes. During this time, the polymer is deteriorated and colored, so that a decrease in reflectance is inevitable.
As in the present invention, the ideal reflective layer can be formed only by applying the polymerizable composition to the concave portion of the resin composition substrate 10 and polymerizing it at the same time as forming the reflective material.

本発明の反射材を層状に形成するときは、層の厚さは0.05〜2mmが好ましく、0.25〜2mmがより好ましい。尚、発光装置をより小さくするには、反射層は薄い方が好ましいが、反射層が厚いほど光が中空粒子に衝突する確率が高くなるため、反射率が高くなる。   When the reflective material of the present invention is formed into a layer, the thickness of the layer is preferably 0.05 to 2 mm, and more preferably 0.25 to 2 mm. In order to make the light emitting device smaller, it is preferable that the reflective layer is thin. However, the thicker the reflective layer, the higher the probability that light will collide with the hollow particles.

上記の反射材は、好ましくは可視光に対する反射率が高い材料からなる基体上に反射材が積層している状態で使用される。これにより、紫外線だけでなく可視光でも高い反射率を得ることが可能になる。ここで、「可視光に対する反射率が高い材料」とは、波長550nmでの可視光線反射率が80%以上である材料を意味する。
このような基体の材料として、充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物が挙げられる。酸化チタン等の充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物からなる基体は、紫外線反射能は低いが可視光の反射率は非常に高い。
この樹脂組成物からなる基体上に本発明の反射材を積層すると、積層体の上部から可視光を照射した場合、反射材層で反射せずに透過した光は基体で反射される。従って、上記のように積層することにより、紫外線だけでなく、可視光でも高い反射率を得ることが可能になる。
The above-mentioned reflecting material is preferably used in a state where the reflecting material is laminated on a substrate made of a material having a high visible light reflectance. This makes it possible to obtain a high reflectance not only with ultraviolet rays but also with visible light. Here, “a material having a high reflectance for visible light” means a material having a visible light reflectance of 80% or more at a wavelength of 550 nm.
As a material for such a substrate, a resin composition containing a solid particle white pigment can be mentioned. A substrate made of a resin composition containing a solid particle white pigment such as titanium oxide has a low ultraviolet reflectivity but a very high visible light reflectivity.
When the reflective material of the present invention is laminated on a substrate made of this resin composition, when visible light is irradiated from above the laminated body, the transmitted light is reflected by the substrate without being reflected by the reflective material layer. Therefore, by laminating as described above, a high reflectance can be obtained not only for ultraviolet rays but also for visible light.

充実粒子系白色顔料として、例えば酸化チタン、シリカ、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、アルミナ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、タルク、マイカ等が挙げられる。   Examples of the solid particle white pigment include titanium oxide, silica, potassium titanate, barium sulfate, alumina, zinc oxide, calcium carbonate, talc, and mica.

充実粒子系白色顔料の含有量は、特に制限されないが、充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物に対して1〜50質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましい。   Although content in particular of a solid particle type white pigment is not restrict | limited, 1-50 mass% is preferable with respect to the resin composition containing a solid particle type white pigment, and 5-40 mass% is more preferable.

充実粒子系白色顔料を含ませる樹脂として、例えばポリアミド系樹脂、液晶ポリマー、ポリエーテル系樹脂、シンジオタクチックポリスチレン、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin containing the solid particle white pigment include polyamide resin, liquid crystal polymer, polyether resin, syndiotactic polystyrene, and polyester resin.

充実粒子系白色顔料を含ませる樹脂の含有量は、特に制限されないが、充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物に対して40〜95質量%が好ましく、50〜90質量%がより好ましい。
充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物は、その他、ガラス繊維等を含むことができる。
The content of the resin containing the solid particle white pigment is not particularly limited, but is preferably 40 to 95 mass%, more preferably 50 to 90 mass% with respect to the resin composition containing the solid particle white pigment.
In addition, the resin composition containing the solid particle-based white pigment can contain glass fiber or the like.

また、基体にはアルミニウム、金、銀、銅、ニッケル又はパラジウムから選ばれる1種又は2種以上からなる金属を使用することも好ましい。このような金属からなる基体でも、紫外線及び可視光にて高い反射率を得ることが可能になる。ただし、金属の表面状態によって反射率が異なるので、高反射な表面状態にある金属を選ぶことが肝要である。   Moreover, it is also preferable to use the metal which consists of 1 type, or 2 or more types chosen from aluminum, gold | metal | money, silver, copper, nickel, or palladium for a base | substrate. Even with such a metal substrate, it is possible to obtain a high reflectance with ultraviolet rays and visible light. However, since the reflectance varies depending on the surface state of the metal, it is important to select a metal in a highly reflective surface state.

基体の形状は必ずしも平面上である必要はなく、任意の形状でよい。例えば、下記の図1に示すように凹状の形に成形したものでもよい。
図1はLED用反射体の一例を示す図である。本例では、充実粒子系白色顔料を含有する樹脂組成物をリードフレーム12と一体成形して凹部を有する樹脂組成物基体10とし(図1a)、基体10の凹部内壁に上述した重合性組成物を塗布、硬化させ、反射層24を形成している(図1b)。さらに、この反射層24の上にシリコーン樹脂を塗布、硬化させ封止層30を形成する(図1c)。
尚、反射層24の厚みは場所により異なっていてもよい(図1(b)参照)。この層の最大厚みは0.05〜3mmが好ましく、0.25〜2mmがより好ましい。また、基体の外径及び高さは、ともに5mm程度と小さい。
The shape of the substrate does not necessarily have to be a flat surface, and may be an arbitrary shape. For example, it may be formed into a concave shape as shown in FIG.
FIG. 1 is a diagram showing an example of a reflector for LED. In this example, a resin composition containing a solid particle-based white pigment is molded integrally with the lead frame 12 to form a resin composition substrate 10 having a recess (FIG. 1a), and the polymerizable composition described above is formed on the inner wall of the recess of the substrate 10. Is applied and cured to form the reflective layer 24 (FIG. 1b). Further, a silicone resin is applied on the reflective layer 24 and cured to form the sealing layer 30 (FIG. 1c).
The thickness of the reflective layer 24 may vary depending on the location (see FIG. 1B). The maximum thickness of this layer is preferably 0.05 to 3 mm, more preferably 0.25 to 2 mm. The outer diameter and height of the base are both as small as about 5 mm.

実施例及び比較例で使用した材料は以下のとおりである。
[使用材料]
(A)成分(a):多官能(メタ)アクリル酸エステル
(1)水添ポリブタジエン末端ジアクリレート30:大阪有機化学工業(株)製、SPBDA−S30、数平均分子量=2000〜3000(カタログ値)
(2)水添ポリブタジエン末端ジアクリレート50:大阪有機化学工業(株)製、SPBDA−S50、数平均分子量=3000〜4000(カタログ値)
(3)ポリブタジエン末端ジアクリレート:大阪有機化学工業(株)性、BAC−45、数平均分子量=約3000(カタログ値)
The materials used in the examples and comparative examples are as follows.
[Materials used]
(A) Component (a): Multifunctional (meth) acrylic acid ester (1) Hydrogenated polybutadiene-terminated diacrylate 30: Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., SPBDA-S30, number average molecular weight = 2000 to 3000 (catalog value) )
(2) Hydrogenated polybutadiene-terminated diacrylate 50: manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., SPBDA-S50, number average molecular weight = 3000 to 4000 (catalog value)
(3) Polybutadiene-terminated diacrylate: Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., BAC-45, number average molecular weight = about 3000 (catalog value)

(B)成分(b):中空粒子
中空シリカビーズ:HSC−110C(ポッターズ・バロティーニ(株)、平均粒径13μm、平均孔径9μm、ガラスの紫外線透過率90%(波長350nm、厚み250μm))
(B) Component (b): Hollow particles Hollow silica beads: HSC-110C (Potters Ballotini Co., Ltd., average particle diameter 13 μm, average pore diameter 9 μm, glass UV transmittance 90% (wavelength 350 nm, thickness 250 μm))

(C)成分(a)以外の(メタ)アクリル酸エステル
(1)ステアリルメタクリレート:三菱レーヨン(株)製、アクリエステルS
(2)ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート:新中村化学工業(株)製、NKエステル9G
(3)1,9−ノナンジオールジアクリレート:大阪有機化学工業(株)製、V#260、分子量=268
(C) (meth) acrylic acid esters other than component (a) (1) Stearyl methacrylate: Acryester S manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
(2) Polyethylene glycol # 400 dimethacrylate: manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester 9G
(3) 1,9-nonanediol diacrylate: Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., V # 260, molecular weight = 268

(D)ラジカル重合開始剤
パーヘキサHC:日本油脂(株)製
(D) Radical polymerization initiator Perhexa HC: manufactured by NOF Corporation

(E)シリコーン樹脂(比較例で使用)
(1)シリコーン樹脂a:信越化学工業(株)製、KER2500a
(2)シリコーン樹脂b:信越化学工業(株)製、KER2500b
(E) Silicone resin (used in comparative examples)
(1) Silicone resin a: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KER2500a
(2) Silicone resin b: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KER2500b

実施例1〜8、比較例1〜4
表1に示す割合で(メタ)アクリル酸エステル及び中空粒子を配合し、さらに、パーヘキサHCを重合成分100質量部に対し0.1質量部加え、よく撹拌し、熱重合性組成物を得た。
尚、この組成物中の中空粒子の分散性を下記評価(1)により評価した。
Examples 1-8, Comparative Examples 1-4
(Meth) acrylic acid ester and hollow particles were blended in the proportions shown in Table 1, and 0.1 parts by mass of perhexa HC was added to 100 parts by mass of the polymerization component and stirred well to obtain a thermopolymerizable composition. .
In addition, the dispersibility of the hollow particles in this composition was evaluated by the following evaluation (1).

次に、熱重合性組成物を十分撹拌した後、300μm厚みのアルミ板(波長550nmの光に対する反射率=13.6%、波長380nmの光に対する反射率=18.5%)の上に塗布し、110℃で3時間、160℃で1時間加熱し、厚み約500μmの硬化物を得た。
得られた試料の反射率を下記評価(2)に従って測定した。但し、比較例2で得られた硬化物は明らかに中空粒子がまだらに分散しており、均一なものができなかったので、それ以上の評価は行わなかった。
また、下記評価(3)に示す方法で熱処理を行い、耐熱性を評価した。さらに、各例の配合において中空粒子を添加しない組成物を重合した試料について、下記評価(4)により水蒸気透過度を測定した。
Next, after sufficiently stirring the thermopolymerizable composition, it was coated on a 300 μm thick aluminum plate (reflectance with respect to light having a wavelength of 550 nm = 13.6%, reflectance with respect to light having a wavelength of 380 nm = 18.5%). And heated at 110 ° C. for 3 hours and 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product having a thickness of about 500 μm.
The reflectance of the obtained sample was measured according to the following evaluation (2). However, in the cured product obtained in Comparative Example 2, the hollow particles were clearly dispersed in the mottle, and a uniform product could not be formed. Therefore, no further evaluation was performed.
Moreover, heat processing was performed by the method shown to following evaluation (3), and heat resistance was evaluated. Furthermore, the water vapor transmission rate was measured by the following evaluation (4) for a sample obtained by polymerizing a composition to which no hollow particles were added in the formulation of each example.

(1)組成物における中空粒子の分散性
熱重合性組成物5gを8mlのスクリュー管に秤量し、激しく撹拌し、中空粒子が十分分散しているのを確認した後、平らな机の上に静置した。5時間後、目視にて中空粒子の分散性を評価した。
(1) Dispersibility of hollow particles in the composition 5 g of the thermopolymerizable composition was weighed into an 8 ml screw tube, stirred vigorously, and after confirming that the hollow particles were sufficiently dispersed, placed on a flat desk. Left to stand. After 5 hours, the dispersibility of the hollow particles was visually evaluated.

(2)硬化物の反射率
(株)島津製作所製・自記分光光度計UV−2400PCに(株)島津製作所製・マルチパーパス大形試料室ユニットMPC−2200形を取り付け、波長380nmにおける反射率(%)を測定した。尚、レファレンスとして硫酸バリウムを用いた。
(2) Reflectivity of cured product Shimadzu Corp., self-recording spectrophotometer UV-2400PC, Shimadzu Corp. multi-purpose large sample chamber unit MPC-2200 type is attached, and reflectance at a wavelength of 380 nm ( %). Incidentally, barium sulfate was used as a reference.

(3)耐熱変形性
試料をはんだリフロー炉内(TAMURAコーポレーション製、TAS20−15N)に通すことにより熱処理をした。熱処理前後での表面外観を顕微鏡観察により比較し、熱処理時の変形の有無を判断した。はんだリフロー炉にて試料が受ける熱処理条件は次の通りとした。
150℃60秒→(昇温速度200℃/分)→260℃5秒→(降温速度200℃/分)→150℃→(空冷)
(3) Heat-resistant deformation property It heat-processed by letting a sample pass through the inside of a solder reflow furnace (the product made from TAMURA Corporation, TAS20-15N). The surface appearances before and after the heat treatment were compared by microscopic observation, and the presence or absence of deformation during the heat treatment was judged. The heat treatment conditions for the sample in the solder reflow furnace were as follows.
150 ° C. for 60 seconds → (temperature increase rate 200 ° C./min)→260° C. for 5 seconds → (temperature decrease rate 200 ° C./min)→150° C. → (air cooling)

(4)水蒸気透過度
JIS Z0208に準拠して実施した。試料サイズは100mm×150mm×0.5mmとした。
測定には次の方法で作製した試料を用いた。即ち、表に示す割合で(メタ)成分(A)及び(C)のアクリル酸エステルのみを配合し、パーヘキサHCを1000ppm加え、よく撹拌した熱重合性組成物を、100mm×150mm×0.5mmの金型内に流し込み、110℃で3時間、160℃で1時間の条件で硬化させた。
評価の結果を表1及び2に示す。
(4) Water vapor transmission rate It implemented based on JISZ0208. The sample size was 100 mm × 150 mm × 0.5 mm.
For the measurement, a sample prepared by the following method was used. That is, only the acrylic ester of the (meth) components (A) and (C) is blended in the ratio shown in the table, 1000 ppm of perhexa HC is added, and the well-stirred thermopolymerizable composition is 100 mm × 150 mm × 0.5 mm. And was cured under conditions of 110 ° C. for 3 hours and 160 ° C. for 1 hour.
The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0004892380
Figure 0004892380

Figure 0004892380
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実施例9
実施例2で調製した熱重合性組成物を300μm厚みのアルミ板上に塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、厚み約300μmの硬化物を得た。反射率を測定したところ、波長380nmで79.5%であった。
Example 9
The thermopolymerizable composition prepared in Example 2 was applied on a 300 μm thick aluminum plate and cured (110 ° C. for 3 hours, 160 ° C. for 1 hour) to obtain a cured product having a thickness of about 300 μm. When the reflectance was measured, it was 79.5% at a wavelength of 380 nm.

実施例10
実施例2で調製した熱重合性組成物を300μm厚みのアルミ板上に塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、厚み約150μmの硬化物を得た。反射率を測定したところ、波長380nmで74.6%であった。
Example 10
The thermopolymerizable composition prepared in Example 2 was applied onto a 300 μm thick aluminum plate and cured (110 ° C. for 3 hours, 160 ° C. for 1 hour) to obtain a cured product having a thickness of about 150 μm. When the reflectance was measured, it was 74.6% at a wavelength of 380 nm.

実施例11
ポリフタルアミド板[(株)ユーコウ商会製、高可視光反射性基体:原料、アモデルA4122NLWH905、2mm×25mm×100mm:波長550nmの光に対する反射率=90.4%、波長380nmの光に対する反射率=12.5%]上に、実施例2で調製した熱重合性組成物を塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、500nmの反射層を形成し、積層体とした。
この積層体の反射率は550nmでは91.3%、380nmでは79.0%であった。一方、同じ熱重合性組成物をアルミ板上に塗布・硬化させた場合の反射率は、550nmでは84.9%、380nmでは81.5%であった。
Example 11
Polyphthalamide plate [manufactured by Yuko Shokai Co., Ltd., highly visible light reflective substrate: raw material, Amodel A4122NLWH905, 2 mm × 25 mm × 100 mm: reflectivity for light of wavelength 550 nm = 90.4%, reflectivity for light of wavelength 380 nm = 12.5%], the thermopolymerizable composition prepared in Example 2 was applied and cured (110 ° C. for 3 hours, 160 ° C. for 1 hour) to form a 500 nm reflective layer. did.
The reflectance of this laminate was 91.3% at 550 nm and 79.0% at 380 nm. On the other hand, the reflectance when the same thermopolymerizable composition was applied and cured on an aluminum plate was 84.9% at 550 nm and 81.5% at 380 nm.

比較例5
シリコーン樹脂a、シリコーン樹脂b、及び中空粒子(HSC110C)を30:30:40(質量%)の割合で混合し、よく撹拌して、熱重合性組成物を得た。この組成物中の中空粒子の分散性を上記方法(1)に従い評価した。
次に、この熱重合性組成物を十分撹拌した後、実施例1と同じ300μm厚みのアルミ板の上に塗布し、100℃で1時間、150℃で5時間加熱し、厚み約500μmの硬化物を得た。
こうして得られた試料の反射率を上記評価方法(2)〜(4)に従って評価した。評価結果を表2に示す。
Comparative Example 5
Silicone resin a, silicone resin b, and hollow particles (HSC110C) were mixed at a ratio of 30:30:40 (mass%) and stirred well to obtain a thermopolymerizable composition. The dispersibility of the hollow particles in this composition was evaluated according to the above method (1).
Next, after sufficiently stirring this thermopolymerizable composition, it was applied on the same 300 μm-thick aluminum plate as in Example 1, heated at 100 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 5 hours, and cured to a thickness of about 500 μm I got a thing.
The reflectance of the sample thus obtained was evaluated according to the evaluation methods (2) to (4). The evaluation results are shown in Table 2.

本発明の反射材は、液晶ディスプレイ用ランプリフレクタ、ショーケース用反射板、各程照明用反射板、LED用反射体等に使用できる。本発明の反射材を含む光電変換素子及び光電変換素子を含む光電変換装置として、具体的には、ディスプレイ、行き先表示板、車載照明、信号灯、非常灯、携帯電話、ビデオカメラ等の、様々なOA機器、電気電子機器及び部品、自動車部品等が挙げられる。   The reflective material of the present invention can be used for lamp reflectors for liquid crystal displays, reflectors for showcases, reflectors for illumination, LED reflectors, and the like. As the photoelectric conversion device including the reflective material of the present invention and the photoelectric conversion device including the photoelectric conversion device, specifically, various displays, destination display boards, in-vehicle illumination, signal lights, emergency lights, mobile phones, video cameras, etc. Examples include OA equipment, electrical and electronic equipment and parts, and automobile parts.

LED用反射体の一例を示す図であり、(a)は樹脂組成物を射出成形して得た成形体の断面図であり、(b)は、(a)の成形体にLEDを取り付け、成形体内部に中空粒子を含む重合性化合物を塗布し重合したときの断面図であり、(c)は、(b)の凹部に封止剤を投入して硬化したときの断面図である。It is a figure which shows an example of the reflector for LED, (a) is sectional drawing of the molded object obtained by injection-molding a resin composition, (b) attaches LED to the molded object of (a), It is sectional drawing when the polymeric compound containing a hollow particle is apply | coated and polymerized inside a molded object, (c) is sectional drawing when a sealing agent is injected into the recessed part of (b), and it hardens | cures.

符号の説明Explanation of symbols

10 樹脂組成物基体
12 リードフレーム
20 発光素子
22 ワイヤーボンディング
24 反射層(反射材)
30 封止材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Resin composition base | substrate 12 Lead frame 20 Light emitting element 22 Wire bonding 24 Reflective layer (reflective material)
30 Sealing material

Claims (7)

(a)数平均分子量が800以上の非環式炭化水素基を含有する、多官能(メタ)アクリル酸エステル:15〜80質量%、及び、
(b)波長350nmでの紫外線透過率が50%以上の材質からなる中空粒子:20〜60質量%を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
(A) polyfunctional (meth) acrylic acid ester containing an acyclic hydrocarbon group having a number average molecular weight of 800 or more: 15 to 80% by mass, and
(B) A hollow particle made of a material having an ultraviolet transmittance of 50% or more at a wavelength of 350 nm: a reflective material for an optical semiconductor obtained by polymerizing a heat or photopolymerizable composition containing 20 to 60% by mass.
前記(a)の非環式炭化水素基が、ポリアルカジエン構造又はポリアルカジエン水添物構造を有する請求項1に記載の光半導体用反射材。   The reflective material for optical semiconductors according to claim 1, wherein the acyclic hydrocarbon group of (a) has a polyalkadiene structure or a polyalkadiene hydrogenated structure. 前記中空粒子が、架橋樹脂又は無機化合物からなる請求項1又は2に記載の光半導体用反射材。   The optical semiconductor reflective material according to claim 1, wherein the hollow particles are made of a crosslinked resin or an inorganic compound. 前記中空粒子が、架橋スチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、無機ガラス又はシリカからなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の光半導体用反射材。   The said hollow particle consists of crosslinked styrene resin, crosslinked acrylic resin, inorganic glass, or silica, The reflecting material for optical semiconductors as described in any one of Claims 1-3. さらに、波長550nmでの可視光線反射率が80%以上の基体を含み、この基体上に請求項1〜4のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を積層している光半導体用反射材。   Furthermore, the reflection for optical semiconductors which contains the base | substrate whose visible light reflectance in wavelength 550nm is 80% or more, and has laminated | stacked the reflection material for optical semiconductors as described in any one of Claims 1-4 on this base | substrate. Wood. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を含む光電変換素子。   The photoelectric conversion element containing the reflecting material for optical semiconductors as described in any one of Claims 1-5. 請求項6に記載の光電変換素子を含む光電変換装置。   A photoelectric conversion device comprising the photoelectric conversion element according to claim 6.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5080114B2 (en) * 2007-03-20 2012-11-21 出光興産株式会社 Reflective material for optical semiconductors
CN102194960A (en) * 2010-03-02 2011-09-21 展晶科技(深圳)有限公司 Packaging structure of semiconductor light-emitting assembly
EP2634199B1 (en) 2010-10-25 2016-03-16 Idemitsu Kosan Co., Ltd. (meth)acrylate composition
JP2012244058A (en) * 2011-05-23 2012-12-10 Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd Reflector for light emitting diode and housing
CN104204869B (en) * 2012-04-05 2016-09-07 日本复合材料株式会社 Lamp reflector moulding material and products formed
JP2014095038A (en) * 2012-11-09 2014-05-22 Idemitsu Kosan Co Ltd Composition for reflection material and optical semiconductor light emitting device using the same
TWI599078B (en) * 2016-08-05 2017-09-11 行家光電股份有限公司 Moisture-resistant chip scale packaging light emitting device
TWI645585B (en) * 2017-03-03 2018-12-21 光感動股份有限公司 Photoelectric semiconductor device and package of photoelectric semiconductor device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03206673A (en) * 1990-01-08 1991-09-10 Seiwa Denki Kk Light-emitting diode element and its manufacture
JPH0963329A (en) * 1995-08-30 1997-03-07 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> Reflection sheet for liquid-crystal backlight
JP4117130B2 (en) * 2001-12-26 2008-07-16 大塚化学ホールディングス株式会社 Reflector material for UV source
WO2004097468A1 (en) * 2003-04-28 2004-11-11 Mitsubishi Plastics, Inc. Reflective sheet for liquid crystal display, method for producing same and backlight unit using such reflective sheet
JPWO2007037093A1 (en) * 2005-09-29 2009-04-02 出光興産株式会社 Reflector and reflector for light emitting diode
JP5080114B2 (en) * 2007-03-20 2012-11-21 出光興産株式会社 Reflective material for optical semiconductors

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