JP4860504B2 - Organic electroluminescence device - Google Patents

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Description

本発明は、有機電界発光素子(以後、有機EL素子と称する)に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescent element (hereinafter referred to as an organic EL element).

今日、種々の表示素子に関する研究開発が活発であり、中でも有機電界発光(EL)素子は、低電圧で高輝度の発光を得ることができるため、有望な表示素子として注目されている。   Today, research and development on various display elements are active. Among them, organic electroluminescence (EL) elements are attracting attention as promising display elements because they can emit light with high luminance at a low voltage.

近年の有機EL素子開発においては、駆動電圧の低下、耐久性の向上や外部量子効率向上の研究が種々行われている。
低電圧で発光を可能とする技術として銅フタロシアニンやアミン化合物を正孔注入材料として用いることが報告されている。しかしながら公知のホール注入材料を用いた素子では長時間発光させたり、高温で長期保管した場合には、輝度の低下やダークスポット(未発光部)が発生するなどの問題があった。
In recent organic EL element development, various researches on reduction of driving voltage, improvement of durability, and improvement of external quantum efficiency have been conducted.
It has been reported that copper phthalocyanine or an amine compound is used as a hole injection material as a technique that enables light emission at a low voltage. However, a device using a known hole injecting material has problems such as a decrease in luminance and a dark spot (non-light emitting portion) when light is emitted for a long time or stored at a high temperature for a long time.

また、外部量子効率に関しては、トリスフェニルピリジンイリジウム錯体(例えば、特許文献1参照。)、及び、オクタエチルポルフィリン白金錯体などの白金錯体(例えば、特許文献2、3参照。)などの燐光発光材料を含有する素子が高い効率を示し、着目されている。
しかしながら、これらの燐光発光材料を含有する素子は耐久性の点で満足のいくものではなく、さらなる改良が求められていた。
Regarding external quantum efficiency, phosphorescent materials such as trisphenylpyridine iridium complex (see, for example, Patent Document 1) and platinum complexes such as octaethylporphyrin platinum complex (see, for example, Patent Documents 2 and 3). An element containing bismuth has shown high efficiency and has attracted attention.
However, devices containing these phosphorescent materials are not satisfactory in terms of durability, and further improvements have been demanded.

一方、パネルの量産方法に関しては、低分子材料を用いた真空蒸着法、高分子材料を用いたインクジェット法、印刷法などがあるが、大面積化が容易な方法として湿式塗布方法が検討されている。
しかしながら、上記の多くの金属錯体は分子間相互作用が強く、会合体を形成するため、溶媒への溶解度が極めて低く、均一に溶解した湿式塗布液を調製することが困難である。さらに溶解度が低いため、高濃度に膜中に充填することが困難であり、素子の耐久性上も不利であった。
さらに有機EL素子中でもこれらの金属錯体は会合体を形成し、会合体に帰因する波長の異なる発光を示すため、発光色が濁り彩度の高い発光を得ることが困難であった。
一方、イリジウム錯体などの金属錯体を結合したポリマーを用いた湿式塗布による素子が開示されているが(例えば、特許文献4参照。)、発光効率が低く、また駆動耐久性の点においてなど改良すべき課題があり、さらなる改善が望まれている。
国際公開第00/070655号公報 米国特許第6,303,238B1号公報 米国特許第6,653,564B1号公報 特開2003−77675号公報
On the other hand, panel mass production methods include vacuum deposition methods using low molecular materials, ink jet methods using high molecular materials, printing methods, etc., but wet coating methods have been studied as methods for easily increasing the area. Yes.
However, since many of the above metal complexes have strong intermolecular interactions and form aggregates, the solubility in a solvent is extremely low, and it is difficult to prepare a wet coating solution that is uniformly dissolved. Furthermore, since the solubility is low, it is difficult to fill the film with a high concentration, which is disadvantageous in terms of durability of the device.
Further, even in the organic EL element, these metal complexes form aggregates and emit light having different wavelengths attributed to the aggregates, so that it is difficult to obtain light with high chromaticity due to turbid emission color.
On the other hand, a device by wet coating using a polymer to which a metal complex such as an iridium complex is bonded is disclosed (for example, see Patent Document 4). However, the light emitting efficiency is low and driving durability is improved. There is a problem to be solved and further improvement is desired.
International Publication No. 00/070655 US Pat. No. 6,303,238 B1 US Pat. No. 6,653,564B1 JP 2003-77675 A

本発明の目的は、高い発光効率を示し、かつ耐久性に優れた有機電界発光素子を提供することにある。さらに、湿式塗布方式に適した有機電界発光素子を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic electroluminescent device exhibiting high luminous efficiency and excellent durability. Furthermore, it is providing the organic electroluminescent element suitable for a wet application system.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、下記の手段により達成されるものである。
<1> 一対の電極間に少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、後述の一般式(I−A)、(II−A)及び(III−A)で表される化合物、並びに、後述の化合物1、3、5、7、9、11、13〜16、29、31、33、及び35〜37から選択されるインターロック型化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする有機電界発光素子。
<2> 前記インターロック型化合物を含む層が湿式塗布方式により形成された層であることを特徴とする<1>に記載の有機電界発光素子。
<3> 前記湿式塗布方式によって塗布する場合のインターロック型化合物の含む濃度が0.01質量%以上50質量%以下であることを特徴とする<2>に記載の有機電界発光素子。
> 前記インターロック型化合物を含む層が正孔注入層であることを特徴とする<1>のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
> 前記インターロック型化合物を含む層が発光層であることを特徴とする<1>〜<>のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
<6> 前記正孔注入層の厚みが5nm以上500nm以下であることを特徴とする<4>または<5>に記載の有機電界発光素子。
<7> 前記発光層の厚みが20m以上80nm以下であることを特徴とする<5>または<6>に記載の有機電界発光素子。
The present invention has been made in view of the above problems, and is achieved by the following means.
<1> An organic electroluminescence device having at least one organic layer between a pair of electrodes , the compounds represented by the following general formulas (IA), (II-A) and (III-A); And containing at least one of interlock-type compounds selected from the following compounds 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13-16, 29, 31, 33, and 35-37. Organic electroluminescent device.
<2> The organic electroluminescent element as described in <1>, wherein the layer containing the interlock compound is a layer formed by a wet coating method.
<3> The organic electroluminescence device according to <2>, wherein the concentration of the interlock type compound when applied by the wet coating method is 0.01% by mass or more and 50% by mass or less.
< 4 > The organic electroluminescent element according to any one of <1> to < 3 > , wherein the layer containing the interlock compound is a hole injection layer.
< 5 > The organic electroluminescent element according to any one of <1> to < 4 >, wherein the layer containing the interlock type compound is a light emitting layer.
<6> The organic electroluminescent element according to <4> or <5>, wherein the hole injection layer has a thickness of 5 nm to 500 nm.
<7> The organic electroluminescent element according to <5> or <6>, wherein the light emitting layer has a thickness of 20 m to 80 nm.

本発明によれば、高い発光効率を示し、かつ耐久性に優れた有機電界発光素子を提供することにある。さらに、湿式塗布方式に適した有機電界発光素子が提供される。   An object of the present invention is to provide an organic electroluminescent device that exhibits high luminous efficiency and excellent durability. Furthermore, an organic electroluminescent element suitable for the wet coating method is provided.

以下、本発明の有機電界発光素子(以下、適宜「有機EL素子」と称する場合がある。)について詳細に説明する。
本発明の発光素子は基板上に陰極と陽極を有し、両電極の間に有機発光層(以下、単に「発光層」と称する場合がある。)を含む有機化合物層を有する。発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明であることが好ましい。
本発明における有機化合物層は、単層または積層のいずれであってもよい。積層の場合の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。更に、正孔輸送層と発光層との間、又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。尚、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
Hereinafter, the organic electroluminescent element of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “organic EL element” as appropriate) will be described in detail.
The light-emitting element of the present invention has a cathode and an anode on a substrate, and an organic compound layer including an organic light-emitting layer (hereinafter sometimes simply referred to as “light-emitting layer”) between both electrodes. In view of the properties of the light emitting element, at least one of the anode and the cathode is preferably transparent.
The organic compound layer in the present invention may be either a single layer or a laminate. As an aspect in the case of lamination, an aspect in which a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer are sequentially laminated from the anode side is preferable. Further, a charge blocking layer or the like may be provided between the hole transport layer and the light-emitting layer, or between the light-emitting layer and the electron transport layer. A hole injection layer may be provided between the anode and the hole transport layer, and an electron injection layer may be provided between the cathode and the electron transport layer. Each layer may be divided into a plurality of secondary layers.

1.インターロック型化合物の説明
本発明においては、インターロック型化合物は後述する一般式(I−A)、(II−A)及び(III−A)で表される化合物、並びに後述する化合物1、3、5、7、9、11、13〜16、29、31、33、及び35〜37から選択される少なくとも一種を表す。
次に本発明の有機電界発光素子に用いるインターロック型化合物について、詳細に説明する。
本発明に用いるインターロック型化合物とは、分子の環が鎖のように繋がった化合物であり、カテナン化合物を含む。カテナン化合物については、「季刊 化学総説(No.31)超分子をめざす化学」日本化学会編(206頁〜216頁)、「機能性超分子」シーエムシー出版(38頁−59頁)に記載されている。
本発明に用いるインターロック型化合物は、インターロック部分(分子中で繋がった分子の環は構造)は一つであっても複数であってもよい。代表的な構造は下記タイプIで表される構造であるが、三次元的骨格に環がつながったもの(例えばタイプIIまたはタイプIIIで表される構造)でもよい。
1. Interlock type compound description
In the present invention, the interlock type compounds are compounds represented by the following general formulas (IA), (II-A) and (III-A), and compounds 1, 3, 5, 7, 9 described later. , 11, 13-16, 29, 31, 33, and at least one selected from 35-37.
Next, the interlock type compound used in the organic electroluminescence device of the present invention will be described in detail.
The interlock type compound used in the present invention is a compound in which molecular rings are connected like a chain, and includes a catenane compound. For information on Catenanes compound, "Quarterly chemical review (No.31) Chemical aims to supramolecular" edited by the Chemical Society of Japan (206 pp ~216), to "functional supramolecular" CMC Publishing (38 pp -59) Are listed.
The interlock type compound used in the present invention may have one or a plurality of interlock portions (the structure of the ring of molecules connected in the molecule). A typical structure is a structure represented by the following type I, but a structure in which a ring is connected to a three-dimensional skeleton (for example, a structure represented by type II or type III) may be used.

インターロック型化合物は、有機分子であっても非金属錯体(例えばホウ素錯体など)や金属錯体であってもよい。金属錯体の場合、金属としては特に制限は無いが、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Al、Ga、遷移金属、希土類金属が好ましい。金属の具体例としては、例えばLi、Na、Be、Mg、Ba、Al、Ca、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Ag、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Eu、Tb、およびYbなどが挙げれる。また、錯体の場合、単核錯体であっても複核錯体であってもよい。複核錯体の場合、複数個の金属は同一または互いに異なっていてもよい。
また、本発明に用いるインターロック型化合物は低分子(分子量として好ましくは、350以上3000以下、より好ましくは400以上2500以下、更に好ましくは450以上2000以下である。)であっても高分子(分子量として好ましくは、重量平均分子量として3000以上1000000以下、より好ましくは4000以上500000以下、更に好ましくは5000以上100000以下である。)であってもよい。
The interlock type compound may be an organic molecule or a non-metallic complex (for example, a boron complex) or a metal complex. In the case of a metal complex, the metal is not particularly limited, but alkali metals, alkaline earth metals, Al, Ga, transition metals, and rare earth metals are preferable. Specific examples of the metal include, for example, Li, Na, Be, Mg, Ba, Al, Ca, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Eu, Tb, Yb, etc. are mentioned. In the case of a complex, it may be a mononuclear complex or a binuclear complex. In the case of a binuclear complex, the plurality of metals may be the same or different from each other.
In addition, the interlock type compound used in the present invention is a low molecular weight (preferably having a molecular weight of 350 to 3000, more preferably 400 to 2500, and still more preferably 450 to 2000). The molecular weight may be preferably 3000 or more and 1000000 or less, more preferably 4000 or more and 500000 or less, and still more preferably 5000 or more and 100000 or less.

本発明で用いるインターロック型化合物として好ましくは、下記一般式(I)、(II)または(III)で表される化合物である。   The interlock compound used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (I), (II) or (III).

一般式(I)中、Mは金属を表す。L11、L12、L13およびL14は、それぞれ金属に配位する原子群を表す。Y11およびY12は、それぞれ連結基を表す。 In general formula (I), M 1 represents a metal. L 11 , L 12 , L 13 and L 14 each represent an atomic group coordinated to a metal. Y 11 and Y 12 each represent a linking group.

一般式(II)中、Mは金属を表す。L21、L22、L23およびL24は、それぞれ金属に配位する原子群を表す。Y21およびY22は、それぞれ連結基を表す。 In the general formula (II), M 2 represents a metal. L 21 , L 22 , L 23 and L 24 each represent an atomic group coordinated to a metal. Y 21 and Y 22 each represent a linking group.

一般式(III)中、Mは金属を表す。L31、L32、L33、L34、L35および、L36は、それぞれ金属に配位する原子群を表す。Y31およびY32は、それぞれ連結基を表す。 In the general formula (III), M 3 represents a metal. L 31 , L 32 , L 33 , L 34 , L 35 and L 36 each represent an atomic group coordinated to a metal. Y 31 and Y 32 each represent a linking group.

一般式(I)で表される化合物について詳細に説明する。
で表される金属は特に限定されないが、好ましくは0価〜4価、より好ましくは1〜3価である。Mで表される金属の具体例としては、例えばBe、Mg、Ba、Al、Ca、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Ag、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Eu、Tb、およびYbなどが挙げられる。金属として好ましくは、一般式(I)で表される化合物をホール輸送性材料(ホール注入材料、ホール輸送材料、電子ブロッキング材料、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Cu、Ru、Rh、Pd、Irであり、より好ましくはCu、Irであり、特に好ましくはCuである。
一般式(I)で表される化合物を電子輸送性材料(電子注入材料、電子輸送材料、ホールブロッキング材料、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Be、Mg、Al、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、およびPtが好ましく、Be、Al、Zn、Pd、およびPtがより好ましく、Be、Zn、Pd、およびPtが特に好ましい。また、一般式(I)で表される化合物を発光材料として用いる場合は、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Ir、およびPtが好ましく、Ru、Rh、Pd、Re、およびPtがより好ましく、Ptが特に好ましい。
The compound represented by formula (I) will be described in detail.
The metal represented by M 1 is not particularly limited, but is preferably 0 to 4 valence, more preferably 1 to 3 valence. Specific examples of the metal represented by M 1 include, for example, Be, Mg, Ba, Al, Ca, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Eu, Tb, Yb, etc. are mentioned. Preferably, as the metal, when the compound represented by the general formula (I) is used as a hole transport material (hole injection material, hole transport material, electron blocking material, light emitting layer host material, etc.), Cu, Ru, Rh, Pd and Ir, more preferably Cu and Ir, and particularly preferably Cu.
When the compound represented by the general formula (I) is used as an electron transport material (electron injection material, electron transport material, hole blocking material, light emitting layer host material, etc.), Be, Mg, Al, Zn, Ga, Ru , Rh, Pd, and Pt are preferable, Be, Al, Zn, Pd, and Pt are more preferable, and Be, Zn, Pd, and Pt are particularly preferable. When the compound represented by the general formula (I) is used as a light emitting material, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Ir, and Pt are preferable, and Ru, Rh, Pd, Re, and Pt are more preferable. , Pt is particularly preferred.

11、L12、L13、およびL14で表されるMに配位する(配位により形成される結合としては、例えば配位結合、共有結合、イオン結合がある)原子群は特に限定されないが、例えば炭素原子で配位する原子群、窒素原子で配位する原子群、酸素原子で配位する原子群、硫黄原子で配位する原子群、りん原子で配位する原子群などが挙げられる。 The atomic group that coordinates to M 1 represented by L 11 , L 12 , L 13 , and L 14 (the bond formed by coordination includes, for example, a coordinate bond, a covalent bond, and an ionic bond) Although not limited, for example, an atomic group coordinated by a carbon atom, an atomic group coordinated by a nitrogen atom, an atomic group coordinated by an oxygen atom, an atomic group coordinated by a sulfur atom, an atomic group coordinated by a phosphorus atom, etc. Is mentioned.

炭素原子で配位する原子群としては、例えば芳香族炭化水素環基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜14であり、例えばベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ペンタセン、ピレン、ペリレン、およびトリフェニレンなどが挙げられる。)、不飽和炭化水素基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜14であり、例えばビニル、フェニルアセチレンなどが挙げられる。)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばフラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、オキサゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、およびトリアジンなどが挙げられる。)およびこれらを含む縮合環(例えばインドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、イミダゾピリジン、プリン、キノリン、キノキサリン、フタラジン、フェナントロリン、カルバゾール、トリベンゾアゼピン、インドレニン、ピロロトリアゾール、ピロロピロール、ピラゾロトリアゾール、およびプリンなどが挙げられる。)およびこれらの互変異性体が挙げられる。これらの基は、さらに置換基を有していても良い。置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。 As an atomic group coordinated by a carbon atom, for example, an aromatic hydrocarbon ring group (preferably having a carbon number of 6 to 30, more preferably a carbon number of 6 to 20, particularly preferably a carbon number of 6 to 14, such as benzene, And naphthalene, anthracene, phenanthrene, pentacene, pyrene, perylene, and triphenylene), an unsaturated hydrocarbon group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 2 carbon atoms). -14, and examples thereof include vinyl and phenylacetylene), heterocyclic groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms. Furan, thiophene, pyrrole, imidazole, pyrazole, thiazole, oxazole, triazole, pyridine, pyra And fused rings containing these (eg indole, benzofuran, benzothiophene, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, imidazopyridine, purine, quinoline, quinoxaline, phthalazine, phenanthroline) , Carbazole, tribenzazepine, indolenine, pyrrolotriazole, pyrrolopyrrole, pyrazolotriazole, and purine)) and their tautomers. These groups may further have a substituent. As an example of a substituent, group demonstrated by R < a1> , R <a2> in the below-mentioned general formula (IA) is mentioned.

窒素原子で配位する原子群としては、例えばアミノ基(アルキルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばメチルアミノ、ジメチルアミノなどが挙げられる。)、アリールアミノ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜14であり、例えばフェニルアミノ、ナフチルアミノ、およびジフェニルアミノなどが挙げられる。)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばアミノフラン、アミノチオフェン、アミノピロール、アミノイミダゾール、アミノピラゾール、アミノチアゾール、アミノオキサゾール、アミノトリアゾール、アミノピリジン、アミノピラジン、アミノピリミジン、アミノピリダジン、およびアミノトリアジンなどが挙げられる。)およびこれらを含む縮合環(例えばアミノインドール、アミノベンゾフラン、アミノベンゾチオフェン、アミノベンズイミダゾール、アミノベンズオキサゾール、アミノベンズチアゾール、アミノイミダゾピリジン、アミノプリン、アミノキノリン、アミノキノキサリン、アミノフタラジン、アミノフェナントロリン、アミノカルバゾール、アミノトリベンゾアゼピン、およびアミノインドレニンなどが挙げられる。)およびこれらの互変異性体が挙げられる。)、   As an atomic group coordinated with a nitrogen atom, for example, an amino group (alkylamino group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, , Dimethylamino, etc.), arylamino groups (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 14 carbon atoms, such as phenylamino, naphthylamino, and Diphenylamino, etc.), heterocyclic amino groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as aminofuran, aminothiophene, amino Pyrrole, aminoimidazole, aminopyrazole, aminothiazole, aminooxazole, aminotriazole Aminopyridine, aminopyrazine, aminopyrimidine, aminopyridazine, and aminotriazine, etc.) and condensed rings containing these (eg, aminoindole, aminobenzofuran, aminobenzothiophene, aminobenzimidazole, aminobenzoxazole, aminobenzthiazole) , Aminoimidazopyridine, aminopurine, aminoquinoline, aminoquinoxaline, aminophthalazine, aminophenanthroline, aminocarbazole, aminotribenzazepine, and aminoindolenine) and their tautomers. ),

アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ、およびトリルスルホニルアミノなどが挙げられる。)、ニトリル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばシアニド、アセトニトリル、ベンゾニトリルなどが挙げられる。)、含窒素ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、オキサゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、およびトリアジンなどが挙げられる。)およびこれらを含む縮合環(例えばインドール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、イミダゾピリジン、プリン、キノリン、キノキサリン、フタラジン、フェナントロリン、カルバゾール、トリベンゾアゼピン、インドレニン、ピロロトリアゾール、ピロロピロール、ピラゾロトリアゾール、およびプリンなどが挙げられる。)、およびこれらの互変異性体が挙げられる。これらの基は、さらに置換基を有していても良い。置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。 An acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetylamino, benzoylamino, etc.), an alkoxycarbonylamino group (preferably Has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonylamino and the like, and an aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to 7 carbon atoms). 30, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino, etc.), sulfonylamino groups (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably carbon atoms) 1 to 20, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino Benzenesulfonylamino, tolylsulfonylamino, etc.), nitrile group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, cyanide, acetonitrile , Benzonitrile, etc.), nitrogen-containing heterocyclic groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as pyrrole, imidazole, And pyrazole, thiazole, oxazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, and triazine, etc.) and condensed rings containing these (for example, indole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, imidazopyridine, purine, quinoline, Keno Sarin, phthalazine, phenanthroline, carbazole, tribenzazepine, indolenine, pyrrolotriazole, pyrrole, pyrazolotriazole, and purine and the like.), And tautomers thereof. These groups may further have a substituent. As an example of a substituent, group demonstrated by R < a1> , R <a2> in the below-mentioned general formula (IA) is mentioned.

酸素原子で配位する原子群としては、例えばアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシ、およびシクロヘキシロキシなどが挙げられる。)、アルケニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニルオキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは炭素数6〜30、特に好ましくは炭素数6〜20であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ、2−ビフェニルオキシ、3−ビフェニルオキシ、4−ビフェニルオキシ、および2,6−ジフェニルフェニルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシ、フリルオキシ、チエニルオキシ、ベンゾフランオキシ、およびベンゾチオフェンオキシなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ、およびジメチルフェニルオキシなどが挙げられる。)、カルボニル基(例えばケトン基、エステル基、またはアミド基など)、エーテル基(例えばジアルキルエーテル基、ジアリールエーテル基、またはフリル基など)などが挙げられる。これらの基はさらに置換されていても良い。置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。 As an atomic group coordinated by an oxygen atom, for example, an alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), alkenyloxy groups (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyloxy An aryloxy group (preferably having 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably 6 to 20 carbon atoms, such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2- Naphtyloxy, 2-biphenyloxy, 3-biphenyloxy, 4-biphenyloxy, and 2,6-diphenyl A heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy). , Furyloxy, thienyloxy, benzofuranoxy, benzothiophenoxy, etc.), acyloxy groups (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms). For example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), silyloxy groups (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy, tri Phenylsilyloxy and dimethylpheny Such oxy and the like.), A carbonyl group (such as a ketone group, an ester group or an amide group), ether group (e.g. a dialkyl ether group, a diaryl ether or furyl group,), and the like. These groups may be further substituted. As an example of a substituent, group demonstrated by R < a1> , R <a2> in the below-mentioned general formula (IA) is mentioned.

硫黄原子で配位する原子群としては、例えばアルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、および2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、チオカルボニル基(例えばチオケトン基、チオエステル基など)、チオエーテル基(例えばジアルキルチオエーテル基、ジアリールチオエーテル基、またはチオフリル基など)などが挙げられる。これらの基はさらに置換されていても良い。置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。 As an atomic group coordinated with a sulfur atom, for example, an alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio and the like. An arylthio group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio and naphthylthio), a heterocyclic thio group (Preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. For example, pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolylthio, and 2-benz Thiazolylthio, etc.), thiocarbonyl groups (eg thioketone groups, thioester groups, etc.), thioethers (E.g. dialkyl thioether group, diaryl thioether or thiofuryl group, etc.,) and the like. These groups may be further substituted. As an example of a substituent, group demonstrated by R < a1> , R <a2> in the below-mentioned general formula (IA) is mentioned.

りん原子で配位する原子群としては、例えばジアルキルホスフィノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばジメチルホスフィノ、ジエチルフォスフィノなどが挙げられる。)、ジアリールホスフィノ基(好ましくは炭素数12〜50、より好ましくは炭素数12〜40、特に好ましくは炭素数12〜30であり、例えばジフェニルホスフィノなどが挙げられる。)、トリアルキルホスフィン(好ましくは炭素数3〜30、より好ましくは炭素数3〜20、特に好ましくは炭素数3〜12であり、例えばトリメチルホスフィン、トリエチルフォスフィン、およびトルブチルホスフィンなどが挙げられる。)、トリアリールホスフィン(好ましくは炭素数18〜50、より好ましくは炭素数18〜40、特に好ましくは炭素数18〜30であり、例えばトリフェニルホスフィンなどが挙げられる。)、ホスフィニン基等があげられる。これらの基はさらに置換されていても良い。置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。 As an atomic group coordinated by a phosphorus atom, for example, a dialkylphosphino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as dimethylphosphino, And diarylphosphino group (preferably having 12 to 50 carbon atoms, more preferably 12 to 40 carbon atoms, and particularly preferably 12 to 30 carbon atoms, such as diphenylphosphino). ), Trialkylphosphine (preferably having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, particularly preferably 3 to 12 carbon atoms, such as trimethylphosphine, triethylphosphine, and tolbutylphosphine. Triarylphosphine (preferably having 18 to 50 carbon atoms, and more). Mashiku is 18 to 40 carbon atoms, and particularly preferably 18 to 30 carbon atoms, such as triphenyl phosphine, for example.), Phosphinine group and the like. These groups may be further substituted. As an example of a substituent, group demonstrated by R < a1> , R <a2> in the below-mentioned general formula (IA) is mentioned.

11、L12、L13、およびL14で表されるMに配位する原子群としては、炭素原子で配位する原子群、窒素原子で配位する原子群、酸素原子で配位する原子群、りん原子で配位する原子群が好ましく、炭素原子で配位する原子群、窒素原子で配位する原子群、酸素原子で配位する原子群がより好ましく、炭素原子で配位するアリール基、炭素原子で配位するヘテロアリール基、窒素原子で配位するヘテロアリール基、酸素原子で配位するアルケニルオキシ基、酸素原子で配位するアリールオキシ基、酸素原子で配位するシリルオキシ基、酸素原子で配位するカルボニル基、酸素原子で配位するカルボキシル基、酸素原子で配位するアシル基、酸素原子で配位するヘテロアリールオキシ基が更に好ましく、炭素原子で配位するアリール基、炭素原子で配位するヘテロアリール基、窒素原子で配位するヘテロアリール基が特に好ましい。 As an atomic group coordinated to M 1 represented by L 11 , L 12 , L 13 , and L 14 , an atomic group coordinated with a carbon atom, an atomic group coordinated with a nitrogen atom, and coordinated with an oxygen atom An atomic group coordinated by a phosphorus atom, an atomic group coordinated by a carbon atom, an atomic group coordinated by a nitrogen atom, an atomic group coordinated by an oxygen atom are more preferable, and coordinated by a carbon atom An aryl group, a heteroaryl group coordinated with a carbon atom, a heteroaryl group coordinated with a nitrogen atom, an alkenyloxy group coordinated with an oxygen atom, an aryloxy group coordinated with an oxygen atom, coordinated with an oxygen atom More preferred are a silyloxy group, a carbonyl group coordinated by an oxygen atom, a carboxyl group coordinated by an oxygen atom, an acyl group coordinated by an oxygen atom, and a heteroaryloxy group coordinated by an oxygen atom, and coordinate by a carbon atom Aryl group, coordinated heteroaryl group at a carbon atom, and is coordinated heteroaryl group with nitrogen atoms particularly preferred.

11およびY12はそれぞれ連結基を表す。連結基としては、特に限定されないが、アルキレン基(例えばメチレン基、ジメチルメチレン基、ジイソプロピルメチレン基、ジフェニルメチレン基、エチレン基、テトラメチルエチレン基、およびトリメチレン基などが挙げられる。)、アルケニレン基(例えばビニレン基、ジメチルビニレン基などが挙げられる。)、アルキニレン基(例えばエチニレン基などが挙げられる。)、アリーレン基(例えばフェニレン基、ナフチレン基、およびアントラセニレン基などが挙げられる。)、ヘテロアリーレン基(例えばピリジレン基、ピラジレン基、およびキノリレン基などが挙げられる。)、酸素連結基、硫黄連結基、窒素連結基(例えばメチルアミノ連結基、フェニルアミノ連結基、およびt−ブチルアミノ連結基などが挙げられる。)、ケイ素連結基(例えばジメチルシリル連結基、ジフェニルシリル連結基、及び、これらを組み合わせた連結基(例えばエチレンオキシ基などが挙げられる。)などが挙げられる。 Y 11 and Y 12 each represent a linking group. The linking group is not particularly limited, but includes an alkylene group (for example, a methylene group, a dimethylmethylene group, a diisopropylmethylene group, a diphenylmethylene group, an ethylene group, a tetramethylethylene group, and a trimethylene group), an alkenylene group ( For example, a vinylene group, a dimethyl vinylene group, etc.), an alkynylene group (for example, an ethynylene group, etc.), an arylene group (for example, a phenylene group, a naphthylene group, an anthracenylene group, etc.), a heteroarylene group, etc. are mentioned. (For example, a pyridylene group, a pyradylene group, a quinolylene group, etc.), an oxygen linking group, a sulfur linking group, a nitrogen linking group (for example, a methylamino linking group, a phenylamino linking group, a t-butylamino linking group, etc.). ), Lee-containing linking group (such as dimethyl silyl linking group, diphenyl silyl linking group, and, like the linking group (e.g., ethyleneoxy groups that combine these.), And the like.

11、Y12で表される連結基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、酸素連結基、硫黄連結基、窒素連結基、ケイ素連結基およびこれらの組み合せから成る連結基が好ましく、アルキレン基と酸素連結基を組み合せた連結基、アリーレン基とアルキレン基と酸素連結基を組み合せた連結基、ヘテロアリーレン基とアルキレン基と酸素連結基を組み合せた連結基がより好ましい。
11、Y12は、置換基を有してもよく、置換基の例としては、後述の一般式(I−A)におけるRa1、Ra2で説明する基が挙げられる。
Examples of the linking group represented by Y 11 and Y 12 include an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, a heteroarylene group, an oxygen linking group, a sulfur linking group, a nitrogen linking group, a silicon linking group, and a linking group thereof. A linking group combining an alkylene group and an oxygen linking group, a linking group combining an arylene group, an alkylene group and an oxygen linking group, and a linking group combining a heteroarylene group, an alkylene group and an oxygen linking group are more preferable.
Y 11 and Y 12 may have a substituent, and examples of the substituent include groups described for R a1 and R a2 in the general formula (IA) described later.

11、Y12で表される連結基の具体例としては、例えば下記のものが挙げられる。 Specific examples of the linking group represented by Y 11 and Y 12 include the following.

−L11間の結合、M−L12間の結合、M−L13間の結合、M−L14間の結合は、共有結合であっても良いし、配位結合であっても良いし、イオン結合であっても良い。 The bond between M 1 and L 11, the bond between M 1 and L 12 , the bond between M 1 and L 13, and the bond between M 1 and L 14 may be covalent bonds or coordinate bonds. There may be an ionic bond.

一般式(I)で表される化合物のうち、下記一般式(I−A)で表される化合物である。 Among the compounds represented by formula (I), a compound represented by the following following general formula (I-A).

一般式(I−A)中、Ya1およびYa2は、それぞれ前記構造の連結基を表す。Ra1およびRa2は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。ma1およびma2は、それぞれ0ないし6の整数を表す。Xaはスルホナートイオン、パークロラートイオン、ボレートイオン、またはホスフェートイオンを表す。nは一般式(I−A)で表される化合物が中性分子となるように定められた0以上の数を表す。 In general formula (IA), Y a1 and Y a2 each represent a linking group having the above structure . R a1 and R a2 each have, as a substituent , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aromatic heterocyclic group having 1 to 12 carbon atoms, a fluorine atom, or 1 to 10 carbon atoms. An alkoxy group, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an aromatic heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, or an amino group having 0 to 20 carbon atoms . m a1 and m a2 each represent an integer of 0 to 6. Xa represents a sulfonate ion, a perchlorate ion, a borate ion, or a phosphate ion . n represents a number of 0 or more determined so that the compound represented by the general formula (IA) is a neutral molecule.

a1、Ya2で表される連結基は、一般式(I)におけるY11、Y12と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
a1、Ra2で表される置換基としては、例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばエチニル、プロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜14であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチル、アントラニル、およびビフェニルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜40、より好ましくは炭素数0〜30、特に好ましくは炭素数0〜20であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、およびジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜14であり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ、およびビフェニルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばフリルオキシ、チエニルオキシ、ピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、およびキノリルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、
The linking group represented by Y a1 and Y a2 has the same meaning as Y 11 and Y 12 in formula (I), and the preferred range is also the same.
Examples of the substituent represented by R a1 and R a2 include an alkyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms such as methyl and ethyl). , N-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like, and an alkenyl group (preferably). Has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include vinyl, allyl, 2-butenyl, and 3-pentenyl.), An alkynyl group (preferably Has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. And an aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 14 carbon atoms, such as phenyl and p-methylphenyl). , Naphthyl, anthranyl, biphenyl, etc.), an amino group (preferably having 0 to 40 carbon atoms, more preferably 0 to 30 carbon atoms, particularly preferably 0 to 20 carbon atoms, such as amino, methylamino , Dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, diphenylamino, and ditolylamino), an alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms). For example, methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, etc. An aryloxy group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 14 carbon atoms such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy, And a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms such as furyloxy, thienyloxy, Pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy, etc.), acyl groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms such as acetyl, Benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably Has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. ),

アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜14であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、およびフェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、およびフェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ、2−ベンズイミゾリルチオ、2−ベンズオキサゾリルチオ、2−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、 An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 14 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), acyloxy group (preferably carbon 2 to 30, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzoyloxy), acylamino group (preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably Has 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino, benzoylamino and the like, and an alkoxycarbonylamino group (preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). -20, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino). A sulfonylamino group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino and benzenesulfonylamino), a sulfamoyl group ( Preferably it is C0-30, More preferably, it is C0-20, Most preferably, it is C0-12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc. are mentioned. ), A carbamoyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably C1-C20, Most preferably, it is C1-C12, for example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl etc.), an alkylthio group (preferably C1-C30, more preferably C1-C20, Especially preferably, it is C1-C12, for example, methylthio, ethylthio etc. are mentioned, for example, An arylthio group (Preferably C6-C30, More preferably C6-C20, Especially preferable) Has 6 to 12 carbon atoms, for example, phenylthio and the like, and a heterocyclic thio group (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, pyridylthio, 2-benzimidazolylthio, 2-benzoxazolylthio, 2-benzthiazo And rilthio. ), A sulfonyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms,

例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、およびアゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリル、およびジ−tert−ブチルメチルシリルなどが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 Examples thereof include mesyl and tosyl. ), A sulfinyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), a ureido group (preferably Has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include ureido, methylureido, phenylureido and the like, and a phosphoric acid amide group (preferably carbon). 1 to 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as diethyl phosphoric acid amide and phenyl phosphoric acid amide)), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (Eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group A nitro group, a hydroxamic acid group, a sulfino group, a hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom and an oxygen atom A sulfur atom, specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, piperidyl, morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, carbazolyl, azepinyl, and the like, and a silyl group (preferably). ) Has 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include trimethylsilyl, triphenylsilyl, and di-tert-butylmethylsilyl). Group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably Prime 3-30, particularly preferably from 3 to 24 carbon atoms, for example trimethylsilyloxy, etc. triphenylsilyl oxy and the like.) And the like. These substituents may be further substituted.

置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シアノ基、またはアミノ基であり、より好ましくは、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シアノ基、またはアミノ基であり、更に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基であり、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の含窒素芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数2〜20のアミノ基である。   The substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an aromatic heterocyclic group, a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a cyano group, or an amino group, more preferably an alkyl group or an aryl group. Group, aromatic heterocyclic group, fluorine atom, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, cyano group, or amino group, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. An aryl group, an aromatic heterocyclic group having 1 to 12 carbon atoms, a fluorine atom, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an aromatic heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms, A cyano group or an amino group having 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms. Nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, fluorine atom, alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, aromatic heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms, cyano group, or 2 carbon atoms ~ 20 amino groups.

a1、ma2は、それぞれ0ないし6の整数を表し、0ないし2が好ましく、0または1がより好ましく、0が更に好ましい。。ma1、m22が2ないし6の整数の場合、複数のRa1、Ra2はそれぞれ同じであっても異なっても良い。 m a1 and m a2 each represent an integer of 0 to 6, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 0. . When m a1 and m 22 are integers of 2 to 6, a plurality of R a1 and R a2 may be the same or different.

Xaで表されるアニオンは、有機または無機のいずれでもよく、例えばハライドイオン(例えばCl、Br、I等)、スルホナートイオン(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート、またはパラクロロベンゼンスルホナート等)、スルファトイオン(例えばメチルスルファート、エチルスルファート等)、パークロラート、ボレートイオン(例えばテトラフルオロボレート、テトラファニルボレート等)、ホスフェートイオン(例えばヘキサフルオロホスフェート等)、アセテートイオン(例えばアセテート、トリフルオロアセテート、ピコリナート等)が挙げられ、スルホナートイオン、パークロラートイオン、ボレートイオン、またはホスフェートイオンが好ましく、ボレートイオン、ホスフェートイオンがより好ましい。
nは一般式(I−A)で表される化合物が中性分子となるように定められた0以上の数を表し、中心錯体部分が中性である場合、および中心錯体部分がカチオンであり、置換基及び/又は連結基と分子内塩を形成する場合はn=0である。
The anion represented by Xa may be either organic or inorganic. For example, halide ions (for example, Cl , Br , I − and the like), sulfonate ions (for example, trifluoromethane sulfonate, p-toluene sulfonate, benzene sulfonate) , Or parachlorobenzene sulfonate), sulfate ions (eg, methyl sulfate, ethyl sulfate, etc.), perchlorate, borate ions (eg, tetrafluoroborate, tetraphanyl borate, etc.), phosphate ions (eg, hexafluorophosphate, etc.), Acetate ions (for example, acetate, trifluoroacetate, picolinate, etc.), sulfonate ions, perchlorate ions, borate ions, or phosphate ions are preferred. Toion, phosphate ion is more preferable.
n represents a number of 0 or more determined so that the compound represented by the general formula (IA) is a neutral molecule, and when the central complex part is neutral, and the central complex part is a cation. In the case of forming an inner salt with a substituent and / or a linking group, n = 0.

次に一般式(II)で表される化合物について詳細に説明する。
で表される金属は特に限定されないが、好ましくは0価〜4価、より好ましくは1〜3価である。Mで表される金属の具体例としては、Li、Be、Mg、Ba、Al、Ca、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Ag、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Eu、Tb、およびYbなどが挙げられる。金属として好ましくは、一般式(II)で表される化合物をホール輸送性材料(ホール注入材料、ホール輸送材料、電子ブロッキング材料、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Cu、Ru、Rh、Pd、Ir、およびPtであり、より好ましくはCu、Ptであり、特に好ましくはPtである。一般式(II)で表される化合物を電子輸送性材料(電子注入材料、電子輸送材料、ホールブロッキング層、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Be、Mg、Al、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、およびPtが好ましく、Zn、Ptがより好ましく、Ptが特に好ましい。また、一般式(II)で表される化合物を発光材料として用いる場合、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Ir、およびPtが好ましく、Ru、Rh、Pd、Re、およびPtがより好ましく、Ptが特に好ましい。
Next, the compound represented by formula (II) will be described in detail.
The metal represented by M 2 is not particularly limited, but is preferably 0 to 4 valence, more preferably 1 to 3 valence. Specific examples of the metal represented by M 2 include Li, Be, Mg, Ba, Al, Ca, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os. , Ir, Pt, Au, Eu, Tb, and Yb. Preferably, as a metal, when the compound represented by the general formula (II) is used as a hole transport material (hole injection material, hole transport material, electron blocking material, light emitting layer host material, etc.), Cu, Ru, Rh, Pd, Ir, and Pt, more preferably Cu and Pt, and particularly preferably Pt. When the compound represented by the general formula (II) is used as an electron transport material (electron injection material, electron transport material, hole blocking layer, light emitting layer host material, etc.), Be, Mg, Al, Zn, Ga, Ru , Rh, Pd, and Pt are preferable, Zn and Pt are more preferable, and Pt is particularly preferable. Further, when the compound represented by the general formula (II) is used as a light emitting material, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Ir, and Pt are preferable, Ru, Rh, Pd, Re, and Pt are more preferable, Pt is particularly preferred.

21、L22、L23およびL24で表されるMに配位する原子群は、それぞれ一般式(I)におけるL11〜L14と同義である。
21、L22、L23として好ましくは、一般式(I)におけるL11〜L14の好ましい原子群として挙げたものと同様である。
24で表されるMに配位する原子群としては、L24としては、炭素原子で配位する原子群、窒素原子で配位する原子群、酸素原子で配位する原子群、硫黄原子で配位する原子群、りん原子で配位する原子群が好ましく、炭素原子で配位する原子群、窒素原子で配位する原子群、酸素原子で配位する原子群、硫黄原子で配位する原子群がより好ましく、炭素原子で配位するアリール基、炭素原子で配位するヘテロアリール基、窒素原子で配位するヘテロアリール基、酸素原子で配位するカルボキシル基、酸素原子で配位するアリールオキシ基、酸素原子で配位するヘテロアリールオキシ基、酸素原子で配位するシリルオキキシ基、硫黄原子で配位するアリールチオ基、硫黄原子で配位するヘテロアリールチオ基が更に好ましく、酸素原子で配位するアリールオキシ基、酸素原子で配位するヘテロアリールオキシ基が特に好ましい。
The atomic groups coordinated to M 2 represented by L 21 , L 22 , L 23 and L 24 are respectively synonymous with L 11 to L 14 in the general formula (I).
L 21 , L 22 and L 23 are preferably the same as those exemplified as the preferred atomic group of L 11 to L 14 in the general formula (I).
The atom coordinating groups M 2 represented by L 24, as the L 24, atom coordinating group with carbon atoms, atom coordinating group with a nitrogen atom, atom coordinating group with an oxygen atom, a sulfur An atom group coordinated by an atom and an atom group coordinated by a phosphorus atom are preferred, an atom group coordinated by a carbon atom, an atom group coordinated by a nitrogen atom, an atom group coordinated by an oxygen atom, and a sulfur atom. A more preferred group of atoms is an aryl group coordinated by carbon atom, heteroaryl group coordinated by carbon atom, heteroaryl group coordinated by nitrogen atom, carboxyl group coordinated by oxygen atom, coordinated by oxygen atom More preferred are an aryloxy group that is coordinated, a heteroaryloxy group that is coordinated with an oxygen atom, a silyloxy group that is coordinated with an oxygen atom, an arylthio group that is coordinated with a sulfur atom, and a heteroarylthio group that is coordinated with a sulfur atom, original In coordinating an aryloxy group, coordinating heteroaryloxy group with an oxygen atom it is particularly preferred.

21、Y22は、それぞれ一般式(I)におけるY11、Y12と同義であり、また好ましい範囲も同様である。 Y 21 and Y 22 have the same meanings as Y 11 and Y 12 in the general formula (I), respectively, and preferred ranges thereof are also the same.

−L21間の結合、M−L22間の結合、M−L23間の結合、M−L24間の結合は、共有結合であっても良いし、配位結合であっても良いし、イオン結合であっても良い。 The bond between M 2 and L 21, the bond between M 2 and L 22 , the bond between M 2 and L 23, and the bond between M 2 and L 24 may be a covalent bond or a coordinate bond. There may be an ionic bond.

一般式(II)で表される化合物のうち、好ましくは下記一般式(II−A)で表される化合物である。   Of the compounds represented by the general formula (II), a compound represented by the following general formula (II-A) is preferable.

一般式(II−A)中、Yb1およびYb2は、それぞれ前記構造の連結基を表す。Rb1、Rb2、Rb3およびRb4は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。mb1、mb2、mb3、およびmb4は、それぞれ0ないし3の整数を表す。 In general formula (II-A), Y b1 and Y b2 each represent a linking group having the above structure . R b1 , R b2 , R b3, and R b4 are each a substituent having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aromatic heterocyclic group having 1 to 12 carbon atoms, or a fluorine atom. Represents an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an aromatic heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, or an amino group having 0 to 20 carbon atoms . m b1 , m b2 , m b3 , and m b4 each represents an integer of 0 to 3.

b1、Yb2で表される連結基は、一般式(I)におけるY11、Y12と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
b1、Rb2、Rb3、およびRb4で表される置換基は、一般式(I−A)におけるRa1、Ra2と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
b1、mb2、mb3、およびmb4としては、0ないし2が好ましく、0または1がより好ましく、0が更に好ましい。mb1、mb2、mb3、およびmb4が2または3の場合、複数のRb1、Rb2、Rb3、およびRb4はそれぞれ同じであっても異なっても良い。
The linking group represented by Y b1 and Y b2 has the same meaning as Y 11 and Y 12 in formula (I), and the preferred range is also the same.
The substituents represented by R b1 , R b2 , R b3 , and R b4 have the same meanings as R a1 and R a2 in formula (IA), and preferred ranges are also the same.
m b1 , m b2 , m b3 , and m b4 are preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 0. When m b1 , m b2 , m b3 , and m b4 are 2 or 3, the plurality of R b1 , R b2 , R b3 , and R b4 may be the same or different.

次に一般式(III)で表される化合物について詳細に説明する。
で表される金属は特に限定されないが、好ましくは0〜4価、より好ましくは1〜3価である。Mで表される金属の具体例としては、Li、Be、Mg、Ba、Al、Ca、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Ag、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Eu、Tb、およびYbなどが挙げられる。金属として好ましくは、一般式(III)で表される化合物をホール輸送性材料(ホール注入材料、ホール輸送材料、電子ブロッキング材料、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Cu、Ru、Rh、Pd、Ir、およびPtであり、より好ましくはCu、Irであり、特に好ましくはIrである。一般式(III)で表される化合物を電子輸送性材料(電子注入材料、電子輸送材料、ホールブロッキング材料、発光層ホスト材料など)として用いる場合は、Be、Mg、Al、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、およびPtが好ましく、より好ましくはAl、Ga、およびPtであり、特に好ましくはPtである。また、一般式(III)で表される化合物を発光材料として用いる場合は、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Ir、およびPtが好ましく、Ru、Rh、Pd、Re、Ir、およびPtがより好ましく、Re、Ir、およびPtがより好ましく、Irが特に好ましい。
Next, the compound represented by formula (III) will be described in detail.
Although the metal represented by M 3 is not particularly limited, it is preferably 0 to 4 valent, more preferably 1 to 3 valent. Specific examples of the metal represented by M 3 include Li, Be, Mg, Ba, Al, Ca, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Ag, W, Re, Os. , Ir, Pt, Au, Eu, Tb, and Yb. Preferably, as a metal, when the compound represented by the general formula (III) is used as a hole transporting material (hole injection material, hole transport material, electron blocking material, light emitting layer host material, etc.), Cu, Ru, Rh, Pd, Ir, and Pt, more preferably Cu and Ir, and particularly preferably Ir. When the compound represented by the general formula (III) is used as an electron transport material (electron injection material, electron transport material, hole blocking material, light emitting layer host material, etc.), Be, Mg, Al, Zn, Ga, Ru , Rh, Pd, and Pt are preferable, Al, Ga, and Pt are more preferable, and Pt is particularly preferable. Further, when the compound represented by the general formula (III) is used as the light emitting material, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Ir, and Pt are preferable, and Ru, Rh, Pd, Re, Ir, and Pt are preferable. More preferably, Re, Ir, and Pt are more preferable, and Ir is particularly preferable.

一般式(III)で表される化合物のうち、好ましくは下記一般式(III−A)で表される化合物である。   Of the compounds represented by the general formula (III), a compound represented by the following general formula (III-A) is preferable.

一般式(III−A)中、Yc1およびYc2は、それぞれ前記構造の連結基を表す。Rc1、Rc2、Rc3、Rc4、Rc5およびRc6は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。mc1、mc2、mc3、mc4、mc5およびmc6は、それぞれ0ないし3の整数を表す。 In general formula (III-A), Y c1 and Y c2 each represent a linking group having the above structure . R c1 , R c2 , R c3 , R c4 , R c5 and R c6 are each a substituent having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. Heterocyclic group, fluorine atom, C 1-10 alkoxy group, C 6-14 aryloxy group, C 1-12 aromatic heterocyclic oxy group, cyano group, or C 0-20 amino Represents a group . m c1 , m c2 , m c3 , m c4 , m c5 and m c6 each represents an integer of 0 to 3.

c1、Yc2で表される連結基は、一般式(I)におけるY11、Y12と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
c1、Rc2、Rc3、Rc4、Rc5、およびRc6で表される置換基は、一般式(I−A)におけるRa1、Ra2と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
c1、mc2、mc3、mc4、mc5、およびmc6としては、0ないし2が好ましく、0または1がより好ましく、0が更に好ましい。mc1、mc2、mc3、mc4、mc5、およびmc6が2または3の場合、複数のRc1、Rc2、Rc3、Rc4、Rc5、およびRc6はそれぞれ同じであっても異なっても良い。
The linking group represented by Y c1 and Y c2 has the same meaning as Y 11 and Y 12 in formula (I), and the preferred range is also the same.
The substituents represented by R c1 , R c2 , R c3 , R c4 , R c5 , and R c6 have the same definitions as R a1 and R a2 in general formula (IA), and the preferred ranges are also the same. is there.
As m c1 , m c2 , m c3 , m c4 , m c5 , and m c6 , 0 to 2 are preferable, 0 or 1 is more preferable, and 0 is still more preferable. When m c1 , m c2 , m c3 , m c4 , m c5 , and m c6 are 2 or 3, the plurality of R c1 , R c2 , R c3 , R c4 , R c5 , and R c6 are the same. Or different.

次に本発明に用いるインターロック型化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, specific examples of the interlock type compound used in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.

<インターロック型化合物の合成方法>
インターロック型化合物の代表的な合成方法としては、テンプレート(鋳型)法と自己集合法と言われるものが挙げられる。テンプレート法とは、配位結合、ドナー・アクセプター相互作用、水素結合などの相互作用を利用して複数の鎖状分子、あるいは環状分子と鎖状分子を引き付けておき、鎖状分子を環化させ、インターロック骨格を作る方法であり、自己集合法とは、インターロック構造が熱力学的に安定となる骨格を設計したのち、可逆的な結合生成を利用して、熱力学平衡の結果としてインターロック型化合物を得る方法である。
本発明で用いるインターロック型化合物は、例えばAngew.Chem.Int.Ed.Engl.28,189(1989年)、Angew.Chem.,Int.Ed.Engl.,32,1434(1993年)、J.Am.Chem.Soc.,116,375(1994年)、J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,2231(1994年)、Angew.Chem.,Int.Ed.Engl.,36,1308(1997年)、J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,2053(1997年)およびその引用文献に記載の合成法などを参考にして合成できる。
<Synthesis Method of Interlock Type Compound>
As a typical synthesis method of an interlock type compound, there are a so-called template method and a self-assembly method. The template method uses multiple interactions such as coordination bonds, donor-acceptor interactions, and hydrogen bonds to attract multiple chain molecules or cyclic molecules and chain molecules to cyclize the chain molecules. This is a method of creating an interlock skeleton. The self-assembly method is a method of designing a skeleton in which the interlock structure is thermodynamically stable, and then using reversible bond generation to generate the interlock as a result of thermodynamic equilibrium. This is a method for obtaining a lock-type compound.
The interlock type compound used in the present invention is, for example, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 28, 189 (1989), Angew. Chem. , Int. Ed. Engl. , 32, 1434 (1993), J. Am. Am. Chem. Soc. 116, 375 (1994); Chem. Soc. , Chem. Commun. , 2231 (1994), Angew. Chem. , Int. Ed. Engl. 36, 1308 (1997), J. Am. Chem. Soc. , Chem. Commun. , 2053 (1997) and references cited therein and the like.

<用途>
本発明に於いてインターロック型化合物は正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、電子ブロック層、または正孔ブロック層などとして用いることが出来る。
インターロック型化合物の設計によって用いる好ましい層は異なるが、金属錯体型のインターロック型化合物の場合には、正孔注入層、発光層、電子輸送層、または電子注入層に用いることが好ましく、正孔注入層、発光層に用いることが好ましい。
<Application>
In the present invention, the interlock type compound can be used as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, an electron block layer, a hole block layer, or the like.
The preferred layer used depends on the design of the interlock type compound, but in the case of a metal complex type interlock type compound, it is preferably used for the hole injection layer, the light emitting layer, the electron transport layer, or the electron injection layer. It is preferable to use for a hole injection layer and a light emitting layer.

<使用方法>
本発明に於いてインターロック型化合物を含有する層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法、分子積層法、湿式塗布方式(スプレーコート法、ディップコート法、含浸法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スピンコート法、フローコート法、バーコート法、マイクログラビアコート法、エアードクターコート、ブレードコート法、スクイズコート法、トランスファーロールコート法、キスコート法、キャストコート法、エクストルージョンコート法、ワイヤーバーコート法、またはスクリーンコート法等)、インクジェット法、印刷法、または転写法などの方法が用いられる。本発明に於いてインターロック型化合物は溶媒へ高濃度で溶解することが出来るので、湿式塗布方式を好ましく用いることが出来る。
<How to use>
In the present invention, the method for forming a layer containing an interlock type compound is not particularly limited, but a resistance heating vapor deposition method, an electron beam method, a sputtering method, a molecular lamination method, a wet coating method ( spray coating method). Dip coating method, impregnation method, roll coating method, gravure coating method, reverse coating method, roll brush method, air knife coating method, curtain coating method, spin coating method, flow coating method, bar coating method, micro gravure coating method, Air doctor coating, blade coating method, squeeze coating method, transfer roll coating method, kiss coating method, cast coating method, extrusion coating method, wire bar coating method, screen coating method, etc.) , inkjet method, printing method, or transfer method Such a method is used. In the present invention, since the interlock type compound can be dissolved in a solvent at a high concentration, a wet coating method can be preferably used.

塗布方式によって製造する場合のインターロック型化合物の濃度は特に限定されないが、好ましくは、0.0001質量%以上90質量%以下であり、より好ましくは0.001質量%以上70質量%以下であり、更に好ましくは0.01質量%以上50質量%以下であり、特に好ましくは0.1質量%以上30質量%以下である。   The concentration of the interlock type compound in the case of producing by a coating method is not particularly limited, but is preferably 0.0001% by mass to 90% by mass, more preferably 0.001% by mass to 70% by mass. More preferably, it is 0.01 mass% or more and 50 mass% or less, Most preferably, it is 0.1 mass% or more and 30 mass% or less.

塗布方式の場合、用いる溶媒は特に限定されないが、好ましくは、例えば芳香族炭化水素系(例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、またはクロロベンゼンなど)、ハロゲン化炭化水素系(例えばジクロロエタン、クロロホルムなど)、エーテル系(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサンなど)、アミド系(例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど)、エステル系(例えば酢酸エチルなど)、アルコール系(例えばメタノールなど)、ケトン系(例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)、スルホキシド系(例えばジメチルスルホキシドなど)、ニトリル系(例えばアセトニトリルなど)などが挙げられる。これらの溶媒は単独でも、2種以上を混合して用いても良い。   In the case of the coating method, the solvent to be used is not particularly limited, but preferably, for example, an aromatic hydrocarbon type (for example, benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, or chlorobenzene), a halogenated hydrocarbon type (for example, dichloroethane, chloroform, etc.), Ether type (eg, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), Amide type (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), Ester type (eg, ethyl acetate), Alcohol type (eg, methanol), Ketone type (eg, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.) , Sulfoxide (for example, dimethyl sulfoxide), nitrile (for example, acetonitrile) and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

塗布する方法としては、上記インターロック型化合物を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法(例えば前記湿式塗布方式の例として挙げたものが適用できる。)、インクジェット法、印刷法などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解、または分散することができ、樹脂成分としては例えば、塗布する方法の場合、上記材料を樹脂成分と共に溶解又は分散させて塗布液を調製してもよく、該樹脂成分としては、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、またはシリコン樹脂等が使用できる。   As a method of coating, a method of coating by dissolving or dispersing the interlock type compound in a solvent (for example, those mentioned as examples of the wet coating method can be applied), an inkjet method, a printing method, or the like is used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component. As the resin component, for example, in the case of the coating method, the above materials may be dissolved or dispersed together with the resin component to prepare a coating solution. As resin components, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, Ethyl cellulose, polyvinyl acetate, ABS resin, polyurethane, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, silicon resin, or the like can be used.

<膜厚>
インターロック型化合物を正孔注入層に用いる場合、膜厚は特に限定されないが、通常1nm以上2μm以下が好ましく、5nm以上500nm以下がより好ましく、10nm以上500nm以下が特に好ましい。1nmより膜厚が薄い場合は、電極の凹凸などにより短絡したり、輝度ムラ等の問題が発生する。また、2μmより膜厚が厚い場合は、駆動電圧が高くなるなどの問題が発生する。
インターロック型化合物を正孔輸送層に用いる場合、膜厚は特に限定されないが、通常1nm以上500nm以下が好ましく、3nm以上300nm以下がより好ましく、5nm以上100nm以下が特に好ましい。
1nmより膜厚が薄い場合は、電極の凹凸などにより短絡したり、輝度ムラ等の問題が発生する。また、500nmより膜厚が厚い場合は、駆動電圧が高くなるなどの問題が発生する。
インターロック型化合物を発光層に用いる場合、膜厚は特に限定されないが、通常5nm以上1μm以下が好ましく、10nm以上100nm以下がより好ましく、20nm以上80nm以下が特に好ましい。
インターロック型化合物を電子輸送層に用いる場合、膜厚は特に限定されないが、通常1nm以上1μm以下が好ましく、3nm以上100nm以下がより好ましく、5nm以上60nm以下が特に好ましい。
インターロック型化合物を電子注入層に用いる場合、膜厚は特に限定されないが、通常1nm以上1μm以下が好ましく、3nm以上100nm以下がより好ましく、5nm以上60nm以下が特に好ましい。
上記の膜厚は、駆動電圧、発光効率、耐久性を両立する点で好ましい。
<Film thickness>
When the interlock type compound is used for the hole injection layer, the film thickness is not particularly limited, but is usually preferably 1 nm to 2 μm, more preferably 5 nm to 500 nm, and particularly preferably 10 nm to 500 nm. When the film thickness is thinner than 1 nm, a short circuit occurs due to the unevenness of the electrodes, and problems such as luminance unevenness occur. Also, when the film thickness is thicker than 2 μm, problems such as an increase in driving voltage occur.
When the interlock type compound is used for the hole transport layer, the film thickness is not particularly limited, but is usually preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 3 nm to 300 nm, and particularly preferably 5 nm to 100 nm.
When the film thickness is thinner than 1 nm, a short circuit occurs due to the unevenness of the electrodes, and problems such as luminance unevenness occur. Moreover, when the film thickness is thicker than 500 nm, problems such as an increase in driving voltage occur.
When the interlock type compound is used for the light emitting layer, the film thickness is not particularly limited, but is usually preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 100 nm, and particularly preferably 20 nm to 80 nm.
When the interlock type compound is used for the electron transport layer, the film thickness is not particularly limited, but is usually preferably 1 nm to 1 μm, more preferably 3 nm to 100 nm, and particularly preferably 5 nm to 60 nm.
When the interlock type compound is used for the electron injection layer, the film thickness is not particularly limited, but is usually preferably 1 nm to 1 μm, more preferably 3 nm to 100 nm, and particularly preferably 5 nm to 60 nm.
The above film thickness is preferable in terms of achieving both driving voltage, light emission efficiency, and durability.

2.有機電界発光素子の構成要素
次に、本発明の発光材料を構成する要素について、詳細に説明する。
2. Components of Organic Electroluminescent Device Next, the components that constitute the luminescent material of the present invention will be described in detail.

<基板>
本発明で使用する基板としては、有機化合物層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、およびポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
<Board>
The substrate used in the present invention is preferably a substrate that does not scatter or attenuate light emitted from the organic compound layer. Specific examples include zirconia-stabilized yttrium (YSZ), inorganic materials such as glass, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, and polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, and polycycloolefin. , Norbornene resins, and organic materials such as poly (chlorotrifluoroethylene).
For example, when glass is used as the substrate, alkali-free glass is preferably used as the material in order to reduce ions eluted from the glass. Moreover, when using soda-lime glass, it is preferable to use what gave barrier coatings, such as a silica. In the case of an organic material, it is preferable that it is excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, and workability.

基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular about the shape of a board | substrate, a structure, a magnitude | size, It can select suitably according to the use, purpose, etc. of a light emitting element. In general, the shape of the substrate is preferably a plate shape. The structure of the substrate may be a single layer structure, a laminated structure, may be formed of a single member, or may be formed of two or more members.

基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、有機発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。   The substrate may be colorless and transparent or colored and transparent, but is preferably colorless and transparent in that it does not scatter or attenuate light emitted from the organic light emitting layer.

基板には、その表面又は裏面に透湿防止層(ガスバリア層)を設けることができる。
透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
The substrate can be provided with a moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) on the front surface or the back surface.
As a material for the moisture permeation preventive layer (gas barrier layer), inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide are preferably used. The moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) can be formed by, for example, a high frequency sputtering method.
When a thermoplastic substrate is used, a hard coat layer, an undercoat layer, or the like may be further provided as necessary.

<陽極>
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。
<Anode>
The anode usually has a function as an electrode for supplying holes to the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element. , Can be appropriately selected from known electrode materials. As described above, the anode is usually provided as a transparent anode.

陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられる。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはITOが好ましい。   Suitable examples of the material for the anode include metals, alloys, metal oxides, conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples of the anode material include conductive metals such as tin oxide doped with antimony and fluorine (ATO, FTO), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO). Metals such as oxides, gold, silver, chromium, nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, etc. Organic conductive materials, and a laminate of these and ITO. Among these, conductive metal oxides are preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.

陽極は、例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、陽極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って、前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ITOを選択する場合には、陽極の形成は、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。   The anode is composed of, for example, a wet method such as a printing method and a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a chemical method such as a CVD and a plasma CVD method. It can be formed on the substrate according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material to be processed. For example, when ITO is selected as the anode material, the anode can be formed according to a direct current or high frequency sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like.

本発明の有機電界発光素子において、陽極の形成位置としては特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができる。が、前記基板上に形成されるのが好ましい。この場合、陽極は、基板における一方の表面の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。   In the organic electroluminescent element of the present invention, the formation position of the anode is not particularly limited and can be appropriately selected according to the use and purpose of the light emitting element. Is preferably formed on the substrate. In this case, the anode may be formed on the entire one surface of the substrate, or may be formed on a part thereof.

なお、陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   The patterning for forming the anode may be performed by chemical etching such as photolithography, or may be performed by physical etching such as laser, or vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

陽極の厚みとしては、陽極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常、10nm〜50μm程度であり、50nm〜20μmが好ましい。   The thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material constituting the anode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 50 μm, and preferably 50 nm to 20 μm.

陽極の抵抗値としては、10Ω/□以下が好ましく、10Ω/□以下がより好ましい。陽極が透明である場合は、無色透明であっても、有色透明であってもよい。透明陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。 The resistance value of the anode is preferably 10 3 Ω / □ or less, and more preferably 10 2 Ω / □ or less. When the anode is transparent, it may be colorless and transparent or colored and transparent. In order to take out light emission from the transparent anode side, the transmittance is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more.

なお、透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊(1999)に詳述があり、ここに記載される事項を本発明に適用することができる。耐熱性の低いプラスティック基材を用いる場合は、ITO又はIZOを使用し、150℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。   The transparent anode is described in detail in the book “New Development of Transparent Electrode Films” published by CMC (1999), supervised by Yutaka Sawada, and the matters described here can be applied to the present invention. In the case of using a plastic substrate having low heat resistance, a transparent anode formed using ITO or IZO at a low temperature of 150 ° C. or lower is preferable.

<陰極>
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
<Cathode>
The cathode usually has a function as an electrode for injecting electrons into the organic compound layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element, It can select suitably from well-known electrode materials.

陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としてはアルカリ金属(たとえば、LI、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(たとえばMg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、およびイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。   Examples of the material constituting the cathode include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. Specific examples include alkali metals (eg, LI, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys, lithium-aluminum alloys, magnesium. -Rare earth metals such as silver alloys, indium and ytterbium. These may be used alone, but two or more can be suitably used in combination from the viewpoint of achieving both stability and electron injection.

これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01質量%〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。
Among these, as a material constituting the cathode, an alkali metal or an alkaline earth metal is preferable from the viewpoint of electron injecting property, and a material mainly composed of aluminum is preferable from the viewpoint of excellent storage stability.
The material mainly composed of aluminum is aluminum alone, an alloy of aluminum and 0.01% by mass to 10% by mass of alkali metal or alkaline earth metal, or a mixture thereof (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy). Etc.).

なお、陰極の材料については、特開平2−15595号公報、特開平5−121172号公報に詳述されており、これらの広報に記載の材料は、本発明においても適用することができる。   The materials for the cathode are described in detail in JP-A-2-15595 and JP-A-5-121172, and the materials described in these public relations can also be applied in the present invention.

陰極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、前記した陰極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その1種又は2種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。   There is no restriction | limiting in particular about the formation method of a cathode, According to a well-known method, it can carry out. For example, the cathode described above is configured from a wet method such as a printing method or a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a chemical method such as CVD or plasma CVD method. It can be formed according to a method appropriately selected in consideration of suitability with the material. For example, when a metal or the like is selected as the cathode material, one or more of them can be simultaneously or sequentially performed according to a sputtering method or the like.

陰極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。   Patterning when forming the cathode may be performed by chemical etching such as photolithography, physical etching by laser, or the like, or by vacuum deposition or sputtering with the mask overlaid. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

本発明において、陰極形成位置は特に制限はなく、有機化合物層上の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を0.1nm〜5nmの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。
In the present invention, the cathode formation position is not particularly limited, and may be formed on the entire organic compound layer or a part thereof.
Further, a dielectric layer made of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride or oxide may be inserted between the cathode and the organic compound layer with a thickness of 0.1 nm to 5 nm. This dielectric layer can also be regarded as a kind of electron injection layer. The dielectric layer can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常10nm〜5μm程度であり、50nm〜1μmが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1nm〜10nmの厚さに薄く成膜し、更にITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
The thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material constituting the cathode and cannot be generally defined, but is usually about 10 nm to 5 μm, and preferably 50 nm to 1 μm.
Further, the cathode may be transparent or opaque. The transparent cathode can be formed by depositing a thin cathode material to a thickness of 1 nm to 10 nm and further laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO.

<有機化合物層>
本発明における有機化合物層について説明する。
本発明の有機電界発光素子は、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
<Organic compound layer>
The organic compound layer in the present invention will be described.
The organic electroluminescent element of the present invention has at least one organic compound layer including a light emitting layer, and the organic compound layer other than the organic light emitting layer includes a hole transport layer, an electron transport layer as described above. , Charge blocking layer, hole injection layer, electron injection layer and the like.

−有機化合物層の形成−
本発明の有機電界発光素子において、有機化合物層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布方式、転写法、印刷法、インクジェット方式等いずれによっても好適に形成することができる。
-Formation of organic compound layer-
In the organic electroluminescence device of the present invention, each layer constituting the organic compound layer is preferably formed by any of dry film forming methods such as vapor deposition and sputtering, wet coating methods, transfer methods, printing methods, and ink jet methods. be able to.

−有機発光層−
有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
本発明における発光層は、発光材料のみで構成されていても良く、ホスト材料と発光材料の混合層とした構成でも良い。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であっても良く、ドーパントは1種であっても2種以上であっても良い。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であっても良く、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料を混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいても良い。
また、発光層は1層であっても2層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
本発明に使用できる発光材料としては、本発明のインターロック型化合物のほか、他の蛍光発光材料、燐光発光材料を用いることができる。これらの併用する発光材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
-Organic light emitting layer-
The organic light emitting layer receives holes from the anode, the hole injection layer, or the hole transport layer when an electric field is applied, receives electrons from the cathode, the electron injection layer, or the electron transport layer, and recombines holes and electrons. It is a layer having a function of providing a field to emit light.
The light emitting layer in the present invention may be composed of only a light emitting material, or may be a mixed layer of a host material and a light emitting material. The light emitting material may be a fluorescent light emitting material or a phosphorescent light emitting material, and the dopant may be one type or two or more types. The host material is preferably a charge transport material. The host material may be one type or two or more types, and examples thereof include a configuration in which an electron transporting host material and a hole transporting host material are mixed. Further, the light emitting layer may include a material that does not have charge transporting properties and does not emit light.
Further, the light emitting layer may be a single layer or two or more layers, and each layer may emit light in different emission colors.
As the light emitting material that can be used in the present invention, other fluorescent light emitting materials and phosphorescent light emitting materials can be used in addition to the interlock type compound of the present invention. These light emitting materials used in combination may be a low molecular compound or a high molecular compound.

本発明に使用できる蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾフラン誘導体、ベンゾチオフェン誘導体、ピラン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、8−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。   Examples of fluorescent materials that can be used in the present invention include, for example, benzofuran derivatives, benzothiophene derivatives, pyran derivatives, benzoxazole derivatives, benzimidazole derivatives, benzothiazole derivatives, styrylbenzene derivatives, polyphenyl derivatives, diphenylbutadiene derivatives, tetra Phenylbutadiene derivatives, naphthalimide derivatives, coumarin derivatives, condensed aromatic compounds, perylene derivatives, oxadiazole derivatives, oxazine derivatives, aldazine derivatives, pyrazine derivatives, cyclopentadiene derivatives, bisstyrylanthracene derivatives, quinacridone derivatives, pyrrolopyridine derivatives, thiols Asiazolopyridine derivatives, cyclopentadiene derivatives, styrylamine derivatives, diketopyrrolopyrrole derivatives, aromatic dimethylidin compounds , 8-quinolinol derivatives of various metal complexes typified by metal complexes of the metal complex and pyrromethene derivatives, polythiophene, polyphenylene, polyphenylene vinylene polymer compounds include compounds such as organic silane derivatives.

また、本発明に使用できる燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。
遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金である。
ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
Examples of the phosphorescent material that can be used in the present invention include complexes containing transition metal atoms or lanthanoid atoms.
Although it does not specifically limit as a transition metal atom, Preferably, ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, and platinum are mentioned, More preferably, they are rhenium, iridium, and platinum.
Lanthanoid atoms include lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, and lutetium. Among these lanthanoid atoms, neodymium, europium, and gadolinium are preferable.

錯体の配位子としては、例えば、G.WIlkInson等著,ComprehensIve CoordInatIon ChemIstry, Pergamon Press社1987年発行、H.YersIn著,「PhotochemIstry and PhotophysIcs of CoordInatIon Compounds」 SprInger−Verlag社1987年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社1982年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
具体的な配位子としては、好ましくは、ハロゲン配位子(好ましくは塩素配位子)、芳香族配位子(例えば、シクロペンタジエニルアニオン、ベンゼンアニオン、またはナフチルアニオンなど)、含窒素ヘテロ環配位子(例えば、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、またはフェナントロリンなど)、ジケトン配位子(例えば、アセチルアセトンなど)、カルボン酸配位子(例えば、酢酸配位子など)、アルコール配位子(例えば、フェノレート配位子など)、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子であり、より好ましくは、含窒素ヘテロ環配位子である。上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
Examples of the ligand of the complex include G.I. WIlkInson et al., ComprehensIve CoordInatIon ChemIstry, published by Pergamon Press, 1987, H.C. YersIn, “Photochemistry and Photophysics of CoordInatIon Compounds”, published by SprInger-Verlag, Inc., 1987, Akio Yamamoto, “Organic Metal Chemistry-Fundamentals and Applications,” published by Soukabo, Inc., published in 1982, etc. .
The specific ligand is preferably a halogen ligand (preferably a chlorine ligand), an aromatic ligand (eg, cyclopentadienyl anion, benzene anion, or naphthyl anion), nitrogen-containing Heterocyclic ligands (eg, phenylpyridine, benzoquinoline, quinolinol, bipyridyl, or phenanthroline), diketone ligands (eg, acetylacetone), carboxylic acid ligands (eg, acetate ligands), alcohols A ligand (such as a phenolate ligand), a carbon monoxide ligand, an isonitrile ligand, or a cyano ligand, more preferably a nitrogen-containing heterocyclic ligand. The complex may have one transition metal atom in the compound, or may be a so-called binuclear complex having two or more. Different metal atoms may be contained at the same time.

燐光発光材料は、発光層中に、0.1質量%〜40質量%含有されることが好ましく、0.5質量%〜20質量%含有されることがより好ましい。   The phosphorescent material is preferably contained in the light emitting layer in an amount of 0.1% by mass to 40% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 20% by mass.

また、本発明における発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、ピロール骨格を有するもの、インドール骨格を有するもの、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するもの及びアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。   Examples of the host material contained in the light emitting layer in the present invention include those having a pyrrole skeleton, those having an indole skeleton, those having a carbazole skeleton, those having a diarylamine skeleton, those having a pyridine skeleton, pyrazine Examples thereof include those having a skeleton, those having a triazine skeleton, those having an arylsilane skeleton, and materials exemplified in the sections of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer described later.

発光層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。   Although the thickness of a light emitting layer is not specifically limited, Usually, it is preferable that they are 1 nm-500 nm, it is more preferable that they are 5 nm-200 nm, and it is still more preferable that they are 10 nm-100 nm.

−正孔注入層、正孔輸送層−
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。本発明の正孔注入層、正孔輸送層に使用できる材料としては、本発明のインターロック型化合物のほか、他の正孔注入材料、正孔輸送材料を用いることができる。これらの正孔注入材料、正孔輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、またはカーボン、等を含有する層であることが好ましい。
-Hole injection layer, hole transport layer-
The hole injection layer and the hole transport layer are layers having a function of receiving holes from the anode or the anode side and transporting them to the cathode side. As a material that can be used for the hole injection layer and the hole transport layer of the present invention, other hole injection materials and hole transport materials can be used in addition to the interlock type compound of the present invention. These hole injection material and hole transport material may be a low molecular compound or a high molecular compound.
Specifically, pyrrole derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styryl Anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, thiophene derivatives, organosilane derivatives, or carbon , Etc. are preferable.

本発明の有機EL素子の正孔注入層あるいは正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。正孔注入層、あるいは正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。   An electron-accepting dopant can be contained in the hole injection layer or the hole transport layer of the organic EL device of the present invention. As the electron-accepting dopant introduced into the hole-injecting layer or the hole-transporting layer, an inorganic compound or an organic compound can be used as long as it has an electron-accepting property and oxidizes an organic compound.

具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、および三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。   Specifically, examples of the inorganic compound include metal halides such as ferric chloride, aluminum chloride, gallium chloride, indium chloride, and antimony pentachloride, metal oxides such as vanadium pentoxide, and molybdenum trioxide.

有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。
この他にも、特開平6−212153、特開平11−111463、特開平11−251067、特開2000−196140、特開2000−286054、特開2000−315580、特開2001−102175、特開2001−160493、特開2002−252085、特開2002−56985、特開2003−157981、特開2003−217862、特開2003−229278、特開2004−342614、特開2005−72012、特開2005−166637、特開2005−209643等に記載の化合物を好適に用いることが出来る。
In the case of an organic compound, a compound having a nitro group, halogen, cyano group, trifluoromethyl group or the like as a substituent, a quinone compound, an acid anhydride compound, fullerene, or the like can be preferably used.
In addition, JP-A-6-212153, JP-A-11-111463, JP-A-11-251067, JP-A-2000-196140, JP-A-2000-286054, JP-A-2000-315580, JP-A-2001-102175, JP-A-2001-2001. -160493, JP2002-252085, JP2002-56985, JP2003-157981, JP2003-217862, JP2003-229278, JP2004-342614, JP2005-72012, JP20051666667 The compounds described in JP-A-2005-209643 and the like can be preferably used.

これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して0.01質量%〜50質量%であることが好ましく、0.05質量%〜20質量%であることが更に好ましく、0.1質量%〜10質量%であることが特に好ましい。   These electron-accepting dopants may be used alone or in combination of two or more. Although the usage-amount of an electron-accepting dopant changes with kinds of material, it is preferable that it is 0.01 mass%-50 mass% with respect to hole transport layer material, and it is 0.05 mass%-20 mass%. It is further more preferable and it is especially preferable that it is 0.1 mass%-10 mass%.

正孔注入層、正孔輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
正孔輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、正孔注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.5nm〜100nmであるのがより好ましく、1nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the hole transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the hole injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.5 nm to 100 nm, and still more preferably 1 nm to 100 nm.
The hole injection layer and the hole transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the materials described above, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. .

−電子注入層、電子輸送層−
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。本発明の電子注入層、電子輸送層に使用できる材料としては、本発明のインターロック型化合物のほか、他の正孔注入材料、正孔輸送材料を用いることができる。これらの正孔注入材料、正孔輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
-Electron injection layer, electron transport layer-
The electron injection layer and the electron transport layer are layers having a function of receiving electrons from the cathode or the cathode side and transporting them to the anode side. As a material that can be used for the electron injection layer and the electron transport layer of the present invention, in addition to the interlock type compound of the present invention, other hole injection materials and hole transport materials can be used. These hole injection material and hole transport material may be a low molecular compound or a high molecular compound.
Specifically, pyridine derivatives, quinoline derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, phthalazine derivatives, phenanthroline derivatives, triazine derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone Derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, naphthalene, perylene and other aromatic ring tetracarboxylic acid anhydrides, phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivative metal complexes, Metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes with benzoxazole and benzothiazole as ligands, organosilane derivatives represented by siloles Body, or the like is preferably a layer containing.

本発明の有機EL素子の電子注入層あるいは電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。電子注入層、あるいは電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Liなどのアルカリ金属、Mgなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が4.2eV以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Y、Cs、La、Sm、Gd、およびYbなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。
この他にも、特開平6−212153、特開2000−196140、特開2003−68468、特開2003−229278、特開2004−342614等に記載の材料を用いることが出来る。
The electron injection layer or the electron transport layer of the organic EL device of the present invention can contain an electron donating dopant. The electron donating dopant introduced into the electron injecting layer or the electron transporting layer only needs to have an electron donating property and a property of reducing an organic compound, such as an alkali metal such as Li or an alkaline earth metal such as Mg. Transition metals including rare earth metals and reducing organic compounds are preferably used. As the metal, a metal having a work function of 4.2 eV or less can be preferably used. Specifically, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd , And Yb. Examples of the reducing organic compound include nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, and phosphorus-containing compounds.
In addition, materials described in JP-A-6-212153, JP-A-2000-196140, JP-A-2003-68468, JP-A-2003-229278, JP-A-2004-342614, and the like can be used.

これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して0.1質量%〜99質量%であることが好ましく、1.0質量%〜80質量%であることが更に好ましく、2.0質量%〜70質量%であることが特に好ましい。   These electron donating dopants may be used alone or in combination of two or more. The amount of the electron donating dopant varies depending on the type of material, but is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, and 1.0% by mass to 80% by mass with respect to the electron transport layer material. Is more preferable, and 2.0 mass% to 70 mass% is particularly preferable.

電子注入層、電子輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
電子輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.2nm〜100nmであるのがより好ましく、0.5nm〜50nmであるのが更に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
The thicknesses of the electron injection layer and the electron transport layer are each preferably 500 nm or less from the viewpoint of lowering the driving voltage.
The thickness of the electron transport layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm. In addition, the thickness of the electron injection layer is preferably 0.1 nm to 200 nm, more preferably 0.2 nm to 100 nm, and still more preferably 0.5 nm to 50 nm.
The electron injection layer and the electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

−正孔ブロック層−
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。
正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、BAlq等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、BCP等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
正孔ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
-Hole blocking layer-
The hole blocking layer is a layer having a function of preventing holes transported from the anode side to the light emitting layer from passing through to the cathode side. In the present invention, a hole blocking layer can be provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side.
Examples of the compound constituting the hole blocking layer include aluminum complexes such as BAlq, triazole derivatives, phenanthroline derivatives such as BCP, and the like.
The thickness of the hole blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

−電子ブロック層−
電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が、陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として、電子ブロック層を設けることができる。
電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが適用できる。
電子ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
<保護層>
本発明において、有機EL素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。
保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO、Al、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe、Y、TiO等の金属酸化物、SiN、SiN等の金属窒化物、MgF、LiF、AlF、CaF等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
-Electronic block layer-
The electron blocking layer is a layer having a function of preventing electrons transported from the cathode side to the light emitting layer from passing through to the anode side. In the present invention, an electron blocking layer can be provided as the organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the anode side.
As examples of the compound constituting the electron blocking layer, for example, those mentioned as the hole transport material described above can be applied.
The thickness of the electron blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and even more preferably 10 nm to 100 nm.
The hole blocking layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.
<Protective layer>
In the present invention, the entire organic EL element may be protected by a protective layer.
As a material contained in the protective layer, any material may be used as long as it has a function of preventing materials that promote device deterioration such as moisture and oxygen from entering the device.
Specific examples thereof include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, and Ni, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, NiO, CaO, BaO, and Fe 2 O. 3 , metal oxides such as Y 2 O 3 , TiO 2 , metal nitrides such as SiN x , SiN x O y , metal fluorides such as MgF 2 , LiF, AlF 3 , CaF 2 , polyethylene, polypropylene, polymethyl Monomer mixture containing methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, tetrafluoroethylene and at least one comonomer Copolymer obtained by copolymerization, cyclic in the copolymer main chain Examples thereof include a fluorine-containing copolymer having a structure, a water-absorbing substance having a water absorption of 1% or more, and a moisture-proof substance having a water absorption of 0.1% or less.

保護層の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、コーティング法、印刷法、または転写法を適用できる。   The method for forming the protective layer is not particularly limited, and for example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization (high frequency) Excited ion plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method, printing method, or transfer method can be applied.

<封止>
さらに、本発明の有機電界発光素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。
また、封止容器と発光素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に限定されることはないが、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、および酸化マグネシウム等を挙げることができる。不活性液体としては、特に限定されることはないが、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、およびシリコーンオイル類が挙げられる。
<Sealing>
Furthermore, the organic electroluminescent element of this invention may seal the whole element using a sealing container.
Further, a moisture absorbent or an inert liquid may be sealed in a space between the sealing container and the light emitting element. Although it does not specifically limit as a moisture absorber, For example, barium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, phosphorus pentoxide, calcium chloride, magnesium chloride, copper chloride Cesium fluoride, niobium fluoride, calcium bromide, vanadium bromide, molecular sieve, zeolite, magnesium oxide, and the like. The inert liquid is not particularly limited, and examples thereof include paraffins, liquid paraffins, fluorinated solvents such as perfluoroalkane, perfluoroamine, and perfluoroether, chlorinated solvents, and silicone oils. Can be mentioned.

<駆動>
本発明の有機電界発光素子は、陽極と陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜15ボルト)、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の有機電界発光素子の駆動方法については、特開平2−148687号、同6−301355号、同5−29080号、同7−134558号、同8−234685号、同8−241047号の各公報、特許第2784615号、米国特許5828429号、同6023308号の各明細書、等に記載の駆動方法を適用することができる。
<Drive>
The organic electroluminescence device of the present invention emits light by applying a direct current (which may include an alternating current component as necessary) voltage (usually 2 to 15 volts) or a direct current between the anode and the cathode. Obtainable.
The driving method of the organic electroluminescence device of the present invention is described in JP-A-2-148687, JP-A-6-301355, JP-A-5-29080, JP-A-7-134558, JP-A-8-234658, and JP-A-8-2441047. The driving method described in each publication, Japanese Patent No. 2784615, US Pat. Nos. 5,828,429, 6023308, and the like can be applied.

本発明の発光素子は、種々の公知の工夫により、光取り出し効率を向上させることができる。例えば、基板表面形状を加工する(例えば微細な凹凸パターンを形成する)、基板・ITO層・有機層の屈折率を制御する、基板・ITO層・有機層の膜厚を制御すること等により、光の取り出し効率を向上させ、外部量子効率を向上させることが可能である。   The light-emitting element of the present invention can improve the light extraction efficiency by various known devices. For example, by processing the substrate surface shape (for example, forming a fine concavo-convex pattern), controlling the refractive index of the substrate / ITO layer / organic layer, controlling the film thickness of the substrate / ITO layer / organic layer, etc. It is possible to improve light extraction efficiency and external quantum efficiency.

本発明の発光素子は、陽極側から発光を取り出す、いわゆる、トップエミッション方式であっても良い。   The light-emitting element of the present invention may be a so-called top emission type in which light emission is extracted from the anode side.

(本発明の用途)
本発明の有機電界発光素子は、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等に好適に利用できる。
(Use of the present invention)
The organic electroluminescence device of the present invention can be suitably used for display devices, displays, backlights, electrophotography, illumination light sources, recording light sources, exposure light sources, reading light sources, signs, signboards, interiors, optical communications, and the like.

本発明について実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
<有機EL素子の作製>
(本発明の有機EL素子1の作製)
1)陽極の形成
25mm×25mm×0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さで蒸着し製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄した。
2)正孔注入・輸送層
このITOガラス基板上に、正孔注入・輸送層としてBaytron P(PEDOT−PSS溶液(ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸ドープ体)/バイエル社製)をスピンコートした後、真空乾燥した(膜厚約100nm)。
The present invention will be specifically described using examples, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
<Production of organic EL element>
(Preparation of the organic EL device 1 of the present invention)
1) Formation of anode A transparent support substrate was formed by depositing ITO on a glass substrate of 25 mm × 25 mm × 0.7 mm to a thickness of 150 nm to form a film (Tokyo Sanyo Vacuum Co., Ltd.). This transparent support substrate was etched and washed.
2) Hole injection / transport layer On this ITO glass substrate, Baytron P (PEDOT-PSS solution (polyethylenedioxythiophene-polystyrenesulfonic acid doped body) / manufactured by Bayer) was spin-coated as a hole injection / transport layer. Thereafter, it was vacuum dried (film thickness of about 100 nm).

3)発光層
上記正孔注入・輸送層の上に発光材料としてインターロック型化合物No.17を3mg、ホスト材料としてポリビニルカルバゾール40mgを1,2−ジクロロエタン3.5gに溶解した発光材料の質量%が約0.08%の溶液をスピンコートした後、真空乾燥した。膜厚は約40nmであった。
3) Light-Emitting Layer As a light-emitting material on the hole injection / transport layer, an interlock type compound No. A solution containing about 0.08% by mass of a light emitting material in which 3 mg of 17 and 40 mg of polyvinylcarbazole as a host material were dissolved in 3.5 g of 1,2-dichloroethane was spin-coated and then dried in vacuo. The film thickness was about 40 nm.

4)電子輸送層
次いで、電子輸送材料BAlqおよびAlqをそれぞれ膜厚20nm(蒸着速度0.15nm/秒)、30nm(蒸着速度0.1nm/秒)となるように順次蒸着し、電子輸送層とした。
5)電子注入層
さらにLiFを膜厚約1nm蒸着(蒸着速度0.01nm/秒)した。
6)陰極電極の形成
この上にパターニングしたマスク(発光面積が2mm×2mmとなるマスク)を設置し、アルミニウムを膜厚約70nm蒸着(蒸着速度0.3nm/秒)して素子を作製した。なお、作製した素子は乾燥グローブボックス内で封止した。
上記の蒸着は、10−3Pa〜10−4Paの真空中で、基板温度は室温の条件下で行った。
4) Electron transport layer Next, the electron transport materials BAlq and Alq were sequentially deposited so as to have film thicknesses of 20 nm (deposition rate 0.15 nm / second) and 30 nm (deposition rate 0.1 nm / second), respectively. did.
5) Electron injection layer Further, LiF was deposited to a thickness of about 1 nm (deposition rate: 0.01 nm / second).
6) Formation of cathode electrode A patterned mask (a mask having a light emitting area of 2 mm × 2 mm) was placed thereon, and aluminum was deposited to a thickness of about 70 nm (deposition rate: 0.3 nm / second) to produce a device. The produced element was sealed in a dry glove box.
Said vapor deposition was performed in the vacuum of 10 < -3 > Pa-10 < -4 > Pa, and the substrate temperature on the conditions of room temperature.

(本発明の有機EL素子2の作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりに、インターロック型化合物No.22を用いる以外は本発明1と全く同様にして比較の有機EL素子2を作製した。
(本発明の有機EL素子3の作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりに、インターロック型化合物No.30を用いる以外は本発明1と全く同様にして比較の有機EL素子3を作製した。
(本発明の有機EL素子4の作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりに、インターロック型化合物No.34を用いる以外は本発明1と全く同様にして比較の有機EL素子4を作製した。
(Preparation of the organic EL element 2 of the present invention)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. In place of Interlock Type Compound No. 17 A comparative organic EL element 2 was produced in exactly the same manner as in the present invention 1 except that 22 was used.
(Preparation of the organic EL device 3 of the present invention)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. In place of Interlock Type Compound No. 17 A comparative organic EL device 3 was produced in exactly the same manner as in the present invention 1 except that 30 was used.
(Preparation of the organic EL element 4 of the present invention)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. In place of Interlock Type Compound No. 17 A comparative organic EL device 4 was produced in exactly the same manner as in the present invention 1 except that 34 was used.

(比較の有機EL素子Aの作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりにIr(ppy)を用いる以外は本発明の有機EL素子1と全く同様にして比較の有機EL素子Aを作製した。
(Production of Comparative Organic EL Element A)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. A comparative organic EL device A was prepared in exactly the same manner as the organic EL device 1 of the present invention except that Ir (ppy) 3 was used instead of 17.

(比較の有機EL素子Bの作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりに、化合物P−A(特許2003−77675に記載化合物)を用いる以外は本発明の有機EL素子1と全く同様にして比較の有機EL素子Bを作製した。
(Production of Comparative Organic EL Element B)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. A comparative organic EL device B was produced in exactly the same manner as the organic EL device 1 of the present invention except that the compound PA (the compound described in Patent No. 2003-77675) was used instead of 17.

(比較の有機EL素子Cの作製)
本発明の有機EL素子1の作製において、発光層中のインターロック型化合物No.17の代わりに、化合物P−B(特許2003−77675に記載化合物)を用いる以外は本発明の有機EL素子1と全く同様にして比較の有機EL素子Cを作製した。
(Production of comparative organic EL element C)
In the production of the organic EL device 1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the light emitting layer was used. A comparative organic EL device C was produced in exactly the same manner as in the organic EL device 1 of the present invention, except that compound P-B (the compound described in Japanese Patent Publication No. 2003-77675) was used instead of 17.

<有機EL素子の性能評価>
1)外部量子効率
東陽テクニカ(株)製ソースメジャーユニット2400を用いて、直流電圧を各素子に印加し、発光させる。その輝度をトプコン社製輝度計BM−8を用いて測定した。発光スペクトルと発光波長は、浜松ホトニクス(株)製スペクトルアナライザーPMA−11を用いて測定した。これらの数値をもとに、輝度が1000cd/m付近の外部量子効率を輝度換算法により算出した。
<Performance evaluation of organic EL elements>
1) External quantum efficiency A source measure unit 2400 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. is used to apply a direct current voltage to each element to emit light. The brightness was measured using a luminance meter BM-8 manufactured by Topcon Corporation. The emission spectrum and emission wavelength were measured using a spectrum analyzer PMA-11 manufactured by Hamamatsu Photonics. Based on these numerical values, the external quantum efficiency when the luminance was around 1000 cd / m 2 was calculated by the luminance conversion method.

2)最高輝度
東陽テクニカ(株)製ソースメジャーユニット2400を用いて、直流電圧を各素子に印加し、発光させる。素子に流す電流を徐々に上げ、素子破壊が起きる直前の輝度を最高輝度として測定した。
3)駆動耐久性:輝度半減時間
各素子を輝度1000cd/mになるように直流電圧を印加し、輝度が500cd/mになるまでの時間を測定した。この輝度半減時間をもってして駆動耐久性の指標とした。
2) Maximum brightness Using a source measure unit 2400 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd., a direct current voltage is applied to each element to emit light. The current flowing through the device was gradually increased, and the luminance immediately before the device breakdown was measured as the maximum luminance.
3) driving durability: a luminance half-life each element by applying a DC voltage so that the luminance 1000 cd / m 2, the time was measured until the brightness is 500 cd / m 2. This luminance half time was used as an index of driving durability.

4)有機EL素子の製造後の保存安定性
素子作製直後に電流密度10mA/cmで駆動させたときの輝度を100とし、素子を75℃、24時間保存した後の輝度を測定し、相対値で保存安定性を評価した。
4) Storage stability after production of organic EL device The luminance when the device was driven at a current density of 10 mA / cm 2 immediately after production of the device was taken as 100, and the luminance after the device was stored at 75 ° C. for 24 hours was measured. The storage stability was evaluated by the value.

得られた結果を下の表1にまとめた。   The results obtained are summarized in Table 1 below.

上記結果から明らかなように、本発明の素子は、比較例素子に比べ、最高輝度が高く、発光効率、駆動耐久性に優れていた。また、素子製造後の性能低下も小さく、保存安定性に優れていた。   As is clear from the above results, the device of the present invention had higher maximum luminance, superior light emission efficiency, and driving durability than the comparative device. Moreover, the performance degradation after manufacturing the element was small, and the storage stability was excellent.

実施例2
<素子の作製>
実施例1の発光層における本発明の素子3と比較の素子Aにおいて、表2に各々の発光材料の濃度を変更した試料を作製した。
<性能評価>
実施例1と同様に評価した結果を表2に示した。
Example 2
<Production of element>
In the light emitting layer of Example 1, in the device 3 of the present invention and the device A for comparison, samples having different concentrations of the light emitting materials shown in Table 2 were prepared.
<Performance evaluation>
The results of evaluation in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

比較の素子ではIr(ppy)の濃度を増加しても最高輝度、外部量子効率の増加は僅かで、むしろ高濃度で最高輝度、外部量子効率が低下する傾向が見られた。また高濃度にすると黄緑色となり発光色の変化も見られた。また、Ir(ppy)を高濃度にした素子2−8では、発光面状がスジ状に不均一となった。
一方、本発明の素子では、インターロック型化合物の濃度増加とともに最高輝度、外部量子効率が増加し、かつ耐久性が増加した。発光色は殆ど変化しなかった。また、インターロック型化合物No.30を10質量%の高濃度溶液で塗布した素子2−4でも発光面状は均一となり、湿式塗布方式で作製した素子が優れた性能を示すことがわかった。
なお、Ir(ppy)の高濃度での発光色変化(長波長化)は、分子会合に伴うものと予測されるものであるが、本発明で用いるインターロック型化合物は高濃度で塗布製膜しても分子状にモノメリックに分散され、発光色の変化が起きなかったものと考えられる。
In the comparative device, even when the Ir (ppy) 3 concentration was increased, the maximum luminance and the external quantum efficiency were slightly increased, but rather the highest luminance and the external quantum efficiency tended to decrease at a high concentration. When the concentration was increased, the color was changed to yellowish green, and the emission color changed. Further, in the element 2-8 in which Ir (ppy) 3 was made high in concentration, the light emitting surface was non-uniform in a streak shape.
On the other hand, in the device of the present invention, the maximum luminance, the external quantum efficiency increased and the durability increased as the concentration of the interlock type compound increased. The luminescent color hardly changed. Interlock type compound No. Even in the device 2-4 coated with 30 in a high concentration solution of 10% by mass, the light emitting surface was uniform, and it was found that the device fabricated by the wet coating method showed excellent performance.
Note that the change in emission color (lengthening of wavelength) at a high concentration of Ir (ppy) 3 is predicted to accompany molecular association, but the interlock type compound used in the present invention is manufactured at a high concentration by coating. Even if the film is formed, it is considered that the molecule is dispersed in a monomeric manner and the emission color does not change.

実施例3
<有機EL素子の作製>
(本発明の有機EL素子3−1の作製)
1)陽極の形成
25mm×25mm×0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さで蒸着し製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄した。
2)正孔注入層
このITOガラス基板上に、正孔注入層としてインターロック型化合物No.2(20mg)を1,2−ジクロロエタン3.5gに溶解した溶液(約0.57質量%)をスピンコートした後、真空乾燥した(膜厚約10nm)。
Example 3
<Production of organic EL element>
(Preparation of organic EL device 3-1 of the present invention)
1) Formation of anode A transparent support substrate was formed by depositing ITO on a glass substrate of 25 mm × 25 mm × 0.7 mm to a thickness of 150 nm to form a film (Tokyo Sanyo Vacuum Co., Ltd.). This transparent support substrate was etched and washed.
2) Hole injection layer On this ITO glass substrate, an interlock type compound No. 1 was used as a hole injection layer. A solution (about 0.57% by mass) of 2 (20 mg) dissolved in 3.5 g of 1,2-dichloroethane was spin-coated and then vacuum-dried (film thickness: about 10 nm).

3)正孔輸送層
上記正孔注入層の上に正孔輸送層としてα−NPD((N,N’−ジ−α−ナフチル−N,N’−ジフェニル)−ベンジジン)を膜厚30nm(蒸着速度0.1nm/秒)となるように蒸着した。
4)発光層
上記正孔輸送層の上に発光材料としてIr(ppy)を、ホスト材料としてCBPを1:12の比率(質量比)で膜厚36nm(蒸着速度:Ir(ppy)0.02nm/秒、CBP0.24nm/秒)となるように共蒸着した。
3) Hole transport layer α-NPD ((N, N′-di-α-naphthyl-N, N′-diphenyl) -benzidine) is formed as a hole transport layer on the hole injection layer with a film thickness of 30 nm ( Vapor deposition was performed at a deposition rate of 0.1 nm / second.
4) Light-Emitting Layer Ir (ppy) 3 as a light-emitting material on the hole transport layer and CBP as a host material in a ratio (mass ratio) of 1:12 (film deposition rate: Ir (ppy) 3 0 (.02 nm / second, CBP 0.24 nm / second).

5)電子輸送層
次いで、電子輸送材料BAlqおよびAlqをそれぞれ膜厚20nm(蒸着速度0.15nm/秒)、30nm(蒸着速度0.1nm/秒)となるように順次蒸着し、電子輸送層とした。
6)電子注入層
さらにLiFを膜厚約1nm蒸着(蒸着速度0.01nm/秒)した。
7)陰極電極の形成
この上にパターニングしたマスク(発光面積が2mm×2mmとなるマスク)を設置し、アルミニウムを膜厚約70nm蒸着(蒸着速度0.3nm/秒)して素子を作製した。なお、作製した素子は乾燥グローブボックス内で封止した。
蒸着は、10−3Pa〜10−4Paの真空中で、基板温度は室温の条件下で行った。
5) Electron transport layer Next, the electron transport materials BAlq and Alq were sequentially deposited to a film thickness of 20 nm (deposition rate 0.15 nm / second) and 30 nm (deposition rate 0.1 nm / second), respectively. did.
6) Electron injection layer Further, LiF was deposited to a thickness of about 1 nm (deposition rate: 0.01 nm / second).
7) Formation of cathode electrode A patterned mask (a mask having a light emitting area of 2 mm × 2 mm) was placed thereon, and aluminum was deposited to a thickness of about 70 nm (deposition rate: 0.3 nm / second) to produce a device. The produced element was sealed in a dry glove box.
Deposition was performed in a vacuum of 10 −3 Pa to 10 −4 Pa and a substrate temperature at room temperature.

(比較の有機EL素子3−2の作製)
本発明の有機EL素子3−1の作製において、正孔注入層中のインターロック型化合物No.2の代わりに銅フタロシアニン20mgを用いる以外は、本発明の有機EL素子3−1と全く同様にして比較の有機EL素子3−2を作製した。
この場合、ホール注入層の塗布液は殆ど溶解せず、懸濁した状態で塗布した。
(比較の有機EL素子3−3の作製)
本発明の有機EL素子3−1の作製において、正孔注入層中のインターロック型化合物No.2の代わりにm−MTDATA(アリールアミン化合物)20mgを用いる以外は、本発明の有機EL素子3−1と全く同様にして比較の有機EL素子3−3を作製した。
(Production of Comparative Organic EL Element 3-2)
In the production of the organic EL device 3-1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the hole injection layer was used. A comparative organic EL element 3-2 was produced in the same manner as the organic EL element 3-1 of the present invention except that 20 mg of copper phthalocyanine was used instead of 2.
In this case, the hole injection layer coating solution was hardly dissolved and applied in a suspended state.
(Production of Comparative Organic EL Element 3-3)
In the production of the organic EL device 3-1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 in the hole injection layer was used. A comparative organic EL device 3-3 was produced in the same manner as the organic EL device 3-1 of the present invention except that 20 mg of m-MTDATA (arylamine compound) was used instead of 2.

<有機EL素子の性能評価>
外部量子効率、駆動耐久性、保存性について実施例1と同様な方法により評価した。
得られた結果を下の表3にまとめた。
<Performance evaluation of organic EL elements>
External quantum efficiency, driving durability, and storage stability were evaluated in the same manner as in Example 1.
The results obtained are summarized in Table 3 below.

上記結果から明らかなように、銅フタロシアニンは溶剤に対する溶解性が低く、非発光である。またアリールアミン型のホール注入材料m−MTDATAは塗布可能なものの保存安定性が低い。これに対し、本発明の素子は、湿式塗布製膜可能であり、保存安定性も優れていた。   As is clear from the above results, copper phthalocyanine has low solubility in a solvent and does not emit light. The arylamine type hole injection material m-MTDATA can be applied, but has low storage stability. On the other hand, the device of the present invention can be formed by wet coating and has excellent storage stability.

実施例4
<有機EL素子の作製>
(本発明の有機EL素子4−1の作製)
1)陽極、2)正孔注入・輸送層は、実施例1と同様に製膜した。
3)発光層
上記正孔注入・輸送層の上に発光材料としてルブレン(8mg)、ホスト材料としてポリビニルカルバゾール(30mg)、電子輸送材料としてインターロック型化合物No.35(10mg)を1,2−ジクロロエタン4.0gに溶解したの溶液をスピンコートした後、真空乾燥した。膜厚は約40nmであった。
4)電子輸送層
次いで、電子輸送材料BAlqおよびAlqをそれぞれ膜厚20nm(蒸着速度0.15nm/秒)、30nm(蒸着速度0.1nm/秒)となるように順次蒸着し、電子輸送層とした。
5)電子注入層
さらにLiFを膜厚約1nm蒸着(蒸着速度0.01nm/秒)した。
6)陰極電極の形成
この上にパターニングしたマスク(発光面積が2mm×2mmとなるマスク)を設置し、アルミニウムを膜厚約70nm蒸着(蒸着速度0.3nm/秒)して素子を作製した。なお、作製した素子は乾燥グローブボックス内で封止した。
蒸着は、10−3Pa〜10−4Paの真空中で、基板温度は室温の条件下で行った。
(比較の有機EL素子4−2の作製)
本発明の有機EL素子4−1の作製において、発光層中の電子輸送材料として用いたインターロック型化合物No.35の代わりにBphen(10mg)を用いる以外は、本発明の有機EL素子4−1と全く同様にして比較の有機EL素子4−2を作製した。
Example 4
<Production of organic EL element>
(Preparation of organic EL element 4-1 of the present invention)
The 1) anode and 2) hole injection / transport layer were formed in the same manner as in Example 1.
3) Luminescent layer On the hole injection / transport layer, rubrene (8 mg) as a luminescent material, polyvinylcarbazole (30 mg) as a host material, and interlock type compound No. 1 as an electron transport material. A solution of 35 (10 mg) dissolved in 4.0 g of 1,2-dichloroethane was spin-coated and then dried in vacuo. The film thickness was about 40 nm.
4) Electron transport layer Next, the electron transport materials BAlq and Alq were sequentially deposited so as to have film thicknesses of 20 nm (deposition rate 0.15 nm / second) and 30 nm (deposition rate 0.1 nm / second), respectively. did.
5) Electron injection layer Further, LiF was deposited to a thickness of about 1 nm (deposition rate: 0.01 nm / second).
6) Formation of cathode electrode A patterned mask (a mask having a light emitting area of 2 mm × 2 mm) was placed thereon, and aluminum was deposited to a thickness of about 70 nm (deposition rate: 0.3 nm / second) to produce a device. The produced element was sealed in a dry glove box.
Deposition was performed in a vacuum of 10 −3 Pa to 10 −4 Pa and a substrate temperature at room temperature.
(Production of Comparative Organic EL Element 4-2)
In the production of the organic EL device 4-1 of the present invention, the interlock type compound No. 1 used as the electron transport material in the light emitting layer was used. A comparative organic EL element 4-2 was produced in the same manner as the organic EL element 4-1 of the present invention except that Bphen (10 mg) was used instead of 35.

<有機EL素子の性能評価>
外部量子効率、駆動耐久性、保存性について実施例1と同様な方法により評価した。
得られた結果を下の表4にまとめた。
<Performance evaluation of organic EL elements>
External quantum efficiency, driving durability, and storage stability were evaluated in the same manner as in Example 1.
The results obtained are summarized in Table 4 below.

上記結果から明らかなように、本発明の素子は、比較例素子に比べ、発光効率、駆動耐久性に優れていた。また、素子製造後の性能低下も小さく、保存安定性に優れていた。   As is clear from the above results, the device of the present invention was superior in luminous efficiency and driving durability compared to the comparative device. Moreover, the performance degradation after manufacturing the element was small, and the storage stability was excellent.

Claims (7)

一対の電極間に少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、下記一般式(I−A)、(II−A)及び(III−A)で表される化合物、並びに、下記化合物1、3、5、7、9、11、13〜16、29、31、33、及び35〜37から選択されるインターロック型化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする有機電界発光素子。







(一般式(I−A)中、Ya1およびYa2は、それぞれ下記構造の連結基を表す。Ra1およびRa2は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。ma1およびma2は、それぞれ0ないし6の整数を表す。Xaはスルホナートイオン、パークロラートイオン、ボレートイオン、またはホスフェートイオンを表す。nは一般式(I−A)で表される化合物が中性分子となるように定められた0以上の数を表す。
一般式(II−A)中、Yb1およびYb2は、それぞれ下記構造の連結基を表す。Rb1、Rb2、Rb3およびRb4は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。mb1、mb2、mb3、およびmb4は、それぞれ0ないし3の整数を表す。
一般式(III−A)中、Yc1およびYc2は、それぞれ下記構造の連結基を表す。Rc1、Rc2、Rc3、Rc4、Rc5およびRc6は、それぞれ置換基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環基、フッ素原子、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜12の芳香族ヘテロ環オキシ基、シアノ基、または炭素数0〜20のアミノ基を表す。mc1、mc2、mc3、mc4、mc5およびmc6は、それぞれ0ないし3の整数を表す。)




An organic electroluminescent device having at least one organic layer between a pair of electrodes, the compounds represented by the following general formulas (IA), (II-A) and (III-A), and the following compounds An organic electroluminescent device comprising at least one interlock compound selected from 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13-16, 29, 31, 33, and 35-37 .







(In General Formula (IA), Y a1 and Y a2 each represent a linking group having the following structure: R a1 and R a2 each represent a substituent having 1 to 10 carbon atoms and 6 carbon atoms. -12 aryl group, C1-C12 aromatic heterocyclic group, fluorine atom, C1-C10 alkoxy group, C6-C14 aryloxy group, C1-C12 aromatic heterocycle Represents an oxy group, a cyano group, or an amino group having 0 to 20 carbon atoms, m a1 and m a2 each represent an integer of 0 to 6. Xa represents a sulfonate ion, a perchlorate ion, a borate ion, or a phosphate. Represents an ion, and n represents a number of 0 or more determined so that the compound represented by formula (IA) is a neutral molecule.
In general formula (II-A), Y b1 and Y b2 each represent a linking group having the following structure . R b1 , R b2 , R b3, and R b4 are each a substituent having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aromatic heterocyclic group having 1 to 12 carbon atoms, or a fluorine atom. Represents an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an aromatic heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, or an amino group having 0 to 20 carbon atoms . m b1 , m b2 , m b3 , and m b4 each represents an integer of 0 to 3.
In general formula (III-A), Y c1 and Y c2 each represent a linking group having the following structure . R c1 , R c2 , R c3 , R c4 , R c5 and R c6 are each a substituent having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. Heterocyclic group, fluorine atom, C 1-10 alkoxy group, C 6-14 aryloxy group, C 1-12 aromatic heterocyclic oxy group, cyano group, or C 0-20 amino Represents a group . m c1 , m c2 , m c3 , m c4 , m c5 and m c6 each represents an integer of 0 to 3. )




前記インターロック型化合物を含む層が湿式塗布方式により形成された層であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the layer containing the interlock type compound is a layer formed by a wet coating method. 前記湿式塗布方式によって塗布する場合の前記インターロック型化合物の濃度が0.01質量%以上50質量%以下であることを特徴とする請求項2に記載の有機電界発光素子。The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the concentration of the interlock type compound when applied by the wet coating method is 0.01 mass% or more and 50 mass% or less. 前記インターロック型化合物を含む層が正孔注入層であることを特徴とする請求項1請求項3のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。 The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 3, wherein the layer containing the interlock type compound is a hole injection layer. 前記インターロック型化合物を含む層が発光層であることを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。 The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 4, the layer containing the interlock type compound characterized in that it is a light-emitting layer. 前記正孔注入層の厚みが5nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の有機電界発光素子。6. The organic electroluminescent element according to claim 4, wherein the thickness of the hole injection layer is 5 nm or more and 500 nm or less. 前記発光層の厚みが20m以上80nm以下であることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の有機電界発光素子。The thickness of the said light emitting layer is 20 to 80 nm, The organic electroluminescent element of Claim 5 or Claim 6 characterized by the above-mentioned.
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