JP4797667B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物の加熱処理を行う機能を有する高周波加熱装置の加熱室外への水漏れ安全対策に関するものである。

従来、この種の高周波加熱装置は図６から図８に示すようなものが知られていた。すなわち、加熱室１の蒸発皿８に注水された水が蒸発皿加熱ヒータ（図示せず）により加熱され、水蒸気となるが、この水蒸気を含む空気が加熱室１内で結露し、加熱室１内において、加熱室の残水Ｆ（図７）となり、蒸発皿８と加熱室１との結合部から加熱室１の外に滴下する。この滴下した水は蒸発皿８の下部に設けた水受け用仕切り部４に滞留させる構成となっている。これにより、結露水が装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故からの防止等の安全性を向上させている。（例えば、特許文献１参照）。
特開２００２−１６３９４２号公報

しかしながら、前記従来の構成では、蒸気による加熱量を増すために供給する蒸気の量を増やすと、加熱室１内で結露する量が増え、加熱室内の残水量Ｆがかなり多く、水受け用仕切り部４だけで滴下水Ｅを滞留するのには、限界がある。したがって、連続した、被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気調理を行うと、水受け用仕切り部４から装置本体外への滴下が発生する。又、被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気調理を行った直後に、高周波加熱装置を駆動すると、前記と同じく、水受け用仕切り部４からの滴下が発生する。これにより、装置本体外にこぼれ出すということが生じ、製品の品位が低下するとともに、その水の浸入により製品の誤動作や感電等が発生する可能性があり安全性を向上させる事ができなくなる。

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、構成の複雑化を伴うことなく加熱室から滴下した水を安全に排水し、装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から防止することを目的としたものである。

前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段と、前記加熱室の下部に設けた被加熱物加熱用の電熱手段と、前記被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気発生手段とを備えた高周波加熱装置であって、前記加熱室の下部に加熱室からの滴下水を受けるようにヒータ熱反射板を設けるとともに装置本体前面に水受けトレーを着脱自在に配置して、前記ヒータ熱反射板は前記滴下水を本体前面の水受けトレーに案内する構成としたものである。

これによって、構成の複雑化を伴うことなく加熱室内で結露した水蒸気の残水が装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から確実に防止できる。

本発明の高周波加熱装置によれば、加熱室内で結露した残水の滴下水を効率よく装置本
体外部に安全に排水し、製品の品位を下げることなく排水処理ができる。

また、安全に排水することで回転導波管駆動機や機械室を保護することができる。更に構成的にも特殊な装置を必要とせず、現行の構成で部品を一部改造することで効果的に保護するため、コスト的にも安価に構成できる。

第１の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段と、前記加熱室の下部に設けた被加熱物加熱用の電熱手段と、前記被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気発生手段とを備えた高周波加熱装置であって、前記加熱室の下部に加熱室からの滴下水を受けるようにヒータ熱反射板を設けるとともに装置本体前面に水受けトレーを着脱自在に配置して、前記ヒータ熱反射板は前記滴下水を本体前面の水受けトレーに案内する構成としたもので、構成の複雑化を伴うことなく加熱室内で結露した水蒸気の残水が装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から確実に防止できる。

第２の発明の蒸気発生手段は、加熱室底部に設けるとともに、この蒸気発生手段が位置する加熱室と前記蒸気発生手段となる蒸発皿との結合部下方に水を受け止める水受け用仕切り部を設け、この水受け用仕切り部で受け止めた水を加熱室下部のヒータ熱反射板を介して水受けトレーに排水する構成としてあり、より安全に装置本体に滴下水が排水されることで漏電による機械の誤動作や感電事故からの防止等、安全性を向上させる事ができる。

第３の発明は、加熱室のセラミック製皿受け台下部に位置する加熱室底面壁に排水用の穴を設け、前記セラミック製皿受け台より滴下した水を加熱室底面壁で受け止め、加熱室底面壁の排水用穴からヒータ熱反射板に案内する構成としてあり、加熱室内のセラミック製皿受け台が万が一破損してここより水が漏れたとしても、安全に排水することができ、より安全性を向上させることができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における高周波加熱装置の側断面図、図２は同排水の流れを説明するための側断面図、図３は図２の要部拡大断面図、図４、図５は同排水の流れを説明する斜視図である。

図１において、加熱室１には、被加熱物を乗せるセラミック製皿受け台７、被加熱物を加熱する電熱手段となるヒータ２、被加熱物を加熱する高周波発生手段となる回転導波管１３が取り付けられている。そしてこの加熱室１は、水蒸気を発生させる蒸気発生手段となる蒸気皿８、加熱室後面壁１１、加熱室底面壁９、をそれぞれカシメにより結合し、密着曲げにより扉板６を結合して加熱室を構成している。

加熱室１の下部には、蒸発皿８の下に蒸発皿加熱ヒータ（図示せず）と、その下に蒸発皿８と加熱室１との結合部１２からの滴下水を受けるように、水受け用仕切り部４が設置されている。そしてさらに、加熱室底面壁９に取り付けられるヒータ２の輻射熱を加熱室に反射するヒータ熱反射板３が水受け用仕切り部４からの排水を装置本体外部へと排水する排水経路の役割もかねて扉板６に接触するように設けられている。上記扉板６とヒータ熱反射板３との間には排水用穴１ａが設けられ、この排水用穴１ａから装置本体外部に設けた着脱自在な水受けトレー５へと排水し、水受けトレー５に貯水する構成としてある。この水受けトレー５は図示しない扉の下方に位置する如く装置前面に設け、少なくともその前側を略透明に構成してある。

これにより加熱室から漏れ出した、滴下水を、水受けトレーを外し容易にかつ安全に処理することができる。

すなわち、上記構成において、図２で示すように、まず始めに加熱室１内の蒸発皿８から発生した水蒸気が室壁で結露し、残水Ｆとなって蒸発皿８と加熱室１との結合部１２から漏れ出し、その滴下水Ｅは水受け仕切り部４が受け止め、ヒータ熱反射板３へと排水していく。そして、その排水をヒータ熱反射板３が扉板６とヒータ熱反射板３との間の排水用穴１ａへと誘導し、その穴１ａから装置本体外部の水受けトレー５へと排水する。

また、万が一セラミック製皿受け台７が破損し、その亀裂から結露水が滴下した場合、図４、図５に示すようにその滴下水はセラミック製皿受け台７と加熱室底面壁９との間に浸入して回転導波管１３表面へと伝わり、回転導波管１３から滴り落ちた滴下水は、図２に示すように加熱室底面壁９に設けた排水用の穴９ａから排水される。この穴９ａから排水された水は、ヒータ熱反射板３が受け止め、前記した排水と合流し、装置本体外部の水受けトレー５へと排水する。

したがって使用者は水受けトレー５を装置本体からはずして所定の場所へと持っていき、水を捨てることができる。

ここで、上記した如くこの実施の形態ではヒータ熱反射板３によって結露水を案内させているので、この反射板３の温度を結露水による冷却効果で比較的低温に維持できるとともに、結露水を水受けトレーに案内する部材を別途必要とせず、構成の簡素化もあわせて図ることができる。加えて蒸気水受けトレーは少なくともその前側部分を略透明に構成してあるから、使用者はこの水受けトレー５に溜まった結露水量を容易に知ることができ、この結露水が水受けトレー５からあふれることを容易に防止することができる。

以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置によれば、機器内に滞留する滴下水を構成の複雑化をともなうことなく効率よく装置外に排水することができるので、水蒸発生機能付きの高周波加熱装置にのみならず、加熱室からの水漏れによる機械室の装置への漏電対策が可能となる。

本発明の実施の形態１における高周波加熱装置の側断面図 同高周波加熱装置の同排水の流れを説明するための側断面図 図２の要部拡大図 同高周波加熱装置の排水の流れを説明する斜視図 同高周波加熱装置の排水の流れを説明する斜視図 従来の高周波加熱装置の斜視図 同高周波加熱装置の要部斜視図 同高周波加熱装置の要部拡大斜視図

符号の説明

１ 加熱室
２ 電熱手段（ヒータ）
３ ヒータ熱反射板
４ 水受け用仕切り板
５ 水受けトレー
７ セラミック製皿受け台
８ 蒸気発生手段（蒸発皿）
９ 加熱室底面壁
１２ 蒸発皿と加熱室の結合部
１３ 高周波加熱手段（回転導波管）

Claims (1)

1. 被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段と、前記加熱室の下部に設けた被加熱物加熱用の電熱手段と、前記被加熱物を蒸気によって加熱するために前記加熱室の底部に設けられる蒸気発生手段と、前記蒸気発生手段から浸入した水を受け止めるために前記蒸気発生手段の下方に設けられる水受け用仕切り部と、前記電熱手段の輻射熱を反射するために前記加熱室の下部に設けられるヒータ熱反射板と、前記電熱手段を取り付けるために前記加熱室の下方かつ前記ヒータ熱反射板の上方に設けられる加熱室底面壁とを備え、前記ヒータ熱反射板は、前記水受け用仕切り部で受け止められた水を排水するための経路となり、前記加熱室底面壁には、前記加熱室から浸入した水を前記ヒータ熱反射板に導くための穴が設けられ、装置本体前面には、前記水受け用仕切り部を流れる水を前記ヒータ熱反射板を介して受けるための水受けトレーが脱着可能に設けられる高周波加熱装置。