JP4779234B2 - Coating die cleaning method and cleaning apparatus, and color filter manufacturing method and manufacturing apparatus - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造分野に使用されるものであり、詳しくはガラス基板などの被塗布部材表面にカラーフィルター用塗膜を塗布する際に好適に用いられるダイコータのダイの吐出口およびその周辺の清掃方法および装置、並びにこれを用いた塗布方法、さらにはこれらの装置および方法を使用したカラーフィルター製造装置および製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ガラス基板等の被塗布部材への塗布方法として、ダイコータ塗布がある。
【0003】
ダイコータは特開平5−208154号公報に開示されている通り、フィルム、基板等の被塗布部材を移動させながら、塗布器であるダイの細長い吐出口から塗布液を被塗布部材に吐出し、被塗布部材上に所定の厚さの塗膜面を形成するものである。
【0004】
ガラス基板などの枚葉状の塗布対象物への塗布にこのダイコータを使用する場合、一度塗布液の塗布を行うと、ダイの塗布液吐出口面(以下、リップ面と呼ぶ)およびその隣接面(以下、リップ斜面と呼ぶ)に塗布液の一部が、滴状になって残存する。再び塗布を行う際に、リップ面およびリップ斜面に滴状の塗布液が放置されたままであると、ダイから吐出される塗布液と共に滴状に残存していた塗布液も基板に塗布されることになるので、均一な膜厚の塗布面を得ることができない。そのため、一回の塗布が終了するごとに、ダイのリップ面およびリップ斜面を清掃して、付着した塗布液を除去することが必要となる。またこのとき、塗布液として感光性アクリル系カラーペースト、フォトレジスト等の揮発性の高いものを使用する場合、リップ面およびリップ斜面に付着した液滴が乾燥して固着するため、例えば単純に清掃部材をリップ面およびリップ斜面に摺接させたりするだけでは塗布液と固着物を完全に除去することができない。固着物が残っていると塗布時の基板とダイ間のビード(リップ面と被塗布部材との間に形成される液だまり)の形状が乱されるので、縦スジ等の塗膜欠点を誘発する。
【0005】
上記の問題を解決する手段として、特開平10−216598号公報には、ダイの吐出口に洗浄液を付着させた後に、ダイの先端面形状と合致する切り欠きを有するシリコーンゴム等の合成樹脂製の清掃部材をダイのリップ面およびリップ斜面に摺接させることで清掃を行う装置および方法が開示されている。また、特開2000−51763号公報には、ダイの吐出口に洗浄液をノズルより噴射した後に、ワイヤー等のかき取り部材をダイのリップ面に摺接させることで清掃を行う装置が開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の装置および方法では、特に塗布液が0.1Pa・s以下と低粘度である場合に、洗浄液をダイの吐出口に付着させるとダイの吐出口内部の塗布液と洗浄液とが混じり合い、次回の塗布時に塗膜の色ムラが生じる問題があった。
【0007】
また、特開2000−51763号公報に開示されている装置では、リップ斜面に付着した洗浄液を除去することができないため、塗布時にリップ斜面に残存した洗浄液が容易に塗布液に混ざり、塗膜に色ムラを生じてしまう。
【0008】
一方、特開平10−216598号公報に開示されている装置および方法では、塗布液が乾燥しやすいものである場合、リップ斜面に洗浄液が付着しないため、そこに塗布液が乾燥固着したものを洗浄することができない。そのため残存した固着物と清掃部材が擦れ合い、清掃部材が磨耗し、その際に発生する摩耗粉が塗膜中に混入して、塗膜の品質欠点を引き起こしていた。
【0009】
さらに、リップ斜面上部は吐出口から離れているために塗布液や洗浄液が到達しにくく、たびたび液のない状態でリップ斜面と清掃部材とが摺接するため、清掃部材が著しく摩耗する。
【0010】
加えて、リップ面の清掃後はダイの吐出口が直接大気にさらされるため、そのまま長い時間放置しておくと、吐出口内部に充填された塗布液が蒸発し、濃度や粘度にむらを生じるので、この状態で塗布を開始するとビードがダイの長手方向に均一とならず、塗膜の塗布開始部に塗布抜け等の塗膜欠点を生じるという問題もあった。
【0011】
本発明は上述の事情に基づいてなされたものであり、その目的とするところは、ダイの清掃を行う際に、縦スジ・色ムラ・塗布抜け等の塗膜欠点を誘発せず、さらに清掃部材の摩耗を大幅に低減し、生産性が高められる塗布用ダイ清掃方法および清掃装置並びにカラーフィルター製造方法および製造装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の塗布用ダイの清掃方法は、
(1)塗布液を吐出口から吐出させる塗布用ダイの吐出口面およびその隣接面を清掃する塗布用ダイの清掃方法であって、清掃部材と前記吐出口面の隣接面との摺接部分に液体を供給することにより、前記吐出口面の隣接面に液体を付着させた後に、前記吐出口面およびその隣接面に前記清掃部材を前記塗布用ダイ長手方向に摺接させて前記吐出口面およびその隣接面に付着している塗布液を除去することを特徴とする。
【0014】
(2)また、前記(1)において、前記液体は前記塗布液の構成溶媒と互いに可溶である溶剤であることが好ましい。
【0015】
(3)さらに、前記(1)乃至(2)のいずれかにおいて、前記液体はその溶解性パラメータδsolv[(J/cm3)1/2]が前記塗布液の溶解性パラメータδcoat[(J/cm3)1/2]に対し、式δcoat−2<δsolv<δcoat+2で表される範囲内にある液体であることが好ましい。
【0016】
(4)加えて、前記(1)乃至(3)のいずれかにおいて、前記液体は20℃において飽和蒸気圧が100Pa以下の液体であることが好ましい。
【0017】
本発明のカラーフィルターの製造方法は、
(5)塗布用ダイの清掃工程を伴うカラーフィルターの製造方法であって、前記塗布用ダイの清掃工程が前記(1)乃至(4)のいずれかに記載の塗布用ダイの清掃方法を用いることを特徴とする。
【0020】
本発明の塗布用ダイの清掃装置は、
(6)塗布液を吐出口から吐出させる塗布用ダイの吐出口面およびその隣接面を清掃する塗布用ダイの清掃装置であって、清掃部材と前記吐出口面の隣接面との摺接部分に液体を供給することにより前記吐出口面の隣接面に液体を付着させる液体付着手段と、前記吐出口面およびその隣接面に前記塗布用ダイ長手方向に摺接して前記吐出口面およびその隣接面に付着している塗布液を除去する清掃部材を有することを特徴とする。
【0022】
本発明のカラーフィルターの製造装置は、
(7)塗布用ダイと、塗布用ダイの清掃装置を備えるカラーフィルターの製造装置であって、前記塗布用ダイの清掃装置が、(6)に記載の塗布用ダイの清掃装置であることを特徴とする。
【0023】
上記本発明の塗布用ダイの清掃方法および清掃装置を用いれば、液体をリップ斜面に付着させて、清掃部材で塗布用ダイのリップ面およびリップ斜面を清掃するのであるから、該液体が塗布用ダイの吐出口内部の塗布液と混じり合わず、清掃部材と塗布用ダイが常に潤滑状態で摺動するので、清掃部材の摩耗を大幅に低減することができる。
【0024】
また、前記液体を塗布液の溶剤としたので、リップ斜面に乾燥し固着した塗布液を溶解し除去することができ、固着物と擦れ合うことによる清掃部材の摩耗も防ぐことができる。
【0026】
さらに、上記本発明による優れた塗布用ダイの清掃方法および清掃装置を用いてカラーフィルターを製造するのであるから、品質欠点のない高品質のカラーフィルターを高い生産性で得ることができる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の好ましい一実施形態を、図面に基づいて説明する。
【0028】
図1は本発明の塗布用ダイ清掃装置7を適用したダイコータ1の一例を示す概略斜視図であり、図2は図1の塗布用ダイ清掃装置7による清掃状況を示す側面断面図であり、図3は図1のダイコータ1の正面図であり、図4は清掃ヘッド8の概略斜視図であり、図5はダイ3と清掃部材20との配置関係を示す正面図である。
【0029】
図1を見ると、ダイコータ1があり、該ダイコータ1は塗布液を吐出するダイ3と、ガラス基板4を搬送するテーブル5、および塗布用ダイ清掃装置7から構成される。サブ基台6に設けられた塗布用ダイ清掃装置7の先端には、ダイ3の清掃を行う清掃ヘッド8が取りつけられている。一方、ダイ3は基台2上に設けられた門型の支柱9に、昇降運動機構10を介して昇降自在に取り付けられている。また、テーブル5はダイ3の下部を矢印A、Bの方向に直進運動ができるように、図示しない往復運動機構を介して基台2に取り付けられている。なお、ガラス基板4はテーブル5上の図示しない吸着孔より吸引されて、テーブル5上に吸着保持されるようになっている。
【0030】
次に図2を見ると、ダイ3を長手方向から見た拡大断面が示されている。ダイ3はドクターリップ11とバックアップリップ12をシム13を介して向かい合わせに、図示しない複数の締結ボルトにより一体に結合することで構成されており、ダイ3の下部にシム13の厚さに等しい幅の塗布液の吐出口14を形成している。この吐出口14はスリット部15を介してダイ3中央部のマニホールド16に接続されており、このマニホールド16に繋がる塗布液供給口17に塗布液を供給することで塗布液が吐出口14から均一に吐出されるようになっている。吐出された塗布液は、ダイ3のリップ面18およびリップ斜面19に付着するので、清掃ヘッド8を構成する清掃部材20をリップ面18およびリップ斜面19に密着する形状とし、かつダイ3の長手方向に摺接させることで付着した塗布液を掻き取るようになっている。除去した塗布液は吸引口21より回収する。
【0031】
続いて、上記の清掃ヘッド8を含む塗布用ダイ清掃装置7の構成をより詳細に説明する。
【0032】
図3を見ると、塗布用ダイ清掃装置7は、清掃ヘッド8がトレイ22の先端部に取りつけられているとともに、トレイ22を移動させる往復運動機構23がサブ基台6上に設けられている。さらにサブ基台6内部には、清掃ヘッド8に潤滑液を供給する潤滑液送液ユニット24と、除去した廃液を清掃ヘッド8およびトレイ22から回収する廃液回収ユニット25が設けられている。
【0033】
往復運動機構23はトレイ22を直接移動させるキャリア26、該キャリア26をダイ3の長手方向に摺動自在に保持するガイド27、該キャリア26を貫通するフィードスクリュー28とモーター29よりなる駆動装置、を備えている。フィードスクリュー28はその両端を軸受け30により回転自在に保持されるとともに、その一端がモーター29に接続されており、該モーター29によりキャリア26の動作を自在に制御できる。
【0034】
潤滑液送液ユニット24は潤滑液タンク31と、潤滑液ポンプ32よりなっており、潤滑液配管33を通して清掃ヘッド8に潤滑液を供給することができる。ここで、潤滑液ポンプ32は定量の送液が行える容積形のポンプが好ましく、ギアポンプ、シリンジポンプ、ダイアフラムポンプ、プランジャポンプ等を好適に用いることができる。
【0035】
廃液回収ユニット25は廃液タンク34と真空ポンプ35よりなっており、廃液配管36を通して、トレイ22に設けられた排出口37および清掃ヘッド8に設けられた吸引口21から、ダイ3より吐出された塗布液を吸引回収することができる。
【0036】
次に図4で清掃ヘッド8を詳細に見ると、該清掃ヘッド8は清掃部材20、清掃部材保持具38、ベース39から構成されている。
【0037】
ダイ3に摺接して、リップ面18およびリップ斜面19に付着した塗布液を除去する清掃部材20は、その先端部40がダイ3の先端部形状に合致するように成形されているとともに、リップ斜面19と摺接するエッジの近傍には潤滑液吐出口41が設けられている。
【0038】
清掃部材保持具38には、清掃部材20の外形に合わせたくぼみが設けられており、そこに清掃部材20をはめ込み、プレート42で清掃部材20を押し付けることにより清掃部材20を保持する。また、清掃部材保持具38はその両側面に潤滑液供給パイプ43が設けられている。該潤滑液供給パイプ43は潤滑液配管33に接続されているので、潤滑液ポンプ32により潤滑液タンク31から供給される潤滑液は、清掃部材保持具38および清掃部材20内部に設けられた潤滑液送液孔44を通って潤滑液吐出口41より吐出される。さらに、清掃部材保持具38には、清掃部材20の清掃方向側に吸引口21が設けられており、清掃部材保持具38内部に設けられた図示しない経路を介して、該清掃部材20により除去された塗布液を廃液配管36を通して真空ポンプ35により吸引し、廃液タンク34へと排出することができる。またトレイ22上に落下した塗布液は、排出口37から同様に真空ポンプ35により廃液タンク34へと排出される。
【0039】
清掃部材保持具38はトレイ22にベース39を介して固定されており、トレイ22と一体に移動する。なお、本実施例では清掃部材保持具38をベース39上に直接固定することとしたが、清掃部材20がダイ3のリップ面18およびリップ斜面19に倣って摺動するための圧縮バネ等で構成する倣い機構を介して固定しても良い。
【0040】
続いて、以上の塗布用ダイ清掃装置7を用いたダイ3の清掃方法を図3を用いて説明する。
【0041】
まず、往復運動機構23により清掃ヘッド8を図3の位置Cからダイ3の清掃開始位置45の直下である位置Dに移動させる。
【0042】
次に、昇降運動機構10によりダイ3を下降させ、リップ面18およびリップ斜面19を清掃部材20に押し付け、隙間無く密着させる。
【0043】
続いて、潤滑液ポンプ32と真空ポンプ35を作動させ、潤滑液を清掃部材20の潤滑液吐出口41より吐出させながら、往復運動機構23によって清掃ヘッド8を清掃開始位置45から清掃終了位置46まで移動させ、清掃部材20によりダイ3のリップ面18およびリップ斜面19に付着した余分な塗布液を掻き取るとともに、該清掃部材20により掻き取られた塗布液を吸引口21より吸引・排出する。清掃ヘッド8が清掃終了位置46を過ぎたらダイ3を上昇させ、その後清掃ヘッド8は最初の位置Cまで復帰し、清掃動作を完了する。
【0044】
なお、清掃ヘッド8が位置Cに復帰した後も継続して潤滑液ポンプ32と真空ポンプ35を作動させ、潤滑液を潤滑液吐出口41から吐出させ続けるとともに余分な潤滑液を回収することにより、清掃部材20に付着した塗布液を洗い流すことができるので、次回の清掃動作時に、清掃部材20に残存した塗布液によりリップ面18およびリップ斜面19が汚染されるのを防ぐことができる。
【0045】
以上の清掃方法では、潤滑液をリップ斜面19と清掃部材20との摺動部に供給することになるので、清掃部材20とリップ斜面19が必ず潤滑状態で摺動し、清掃部材20の磨耗を大きく低減できる。
【0046】
このとき、潤滑液の吐出量はダイ3の長手方向の長さ1mあたりで1μl〜100μlであることが好ましく、より好ましくは5μl〜20μlである。潤滑液の吐出量が上記範囲より少ないと、潤滑効果が十分に得られず、清掃部材20の磨耗を低減することができにくくなる。また、潤滑液の吐出量が上記範囲より多いと、多量に供給された潤滑液が清掃部材20の上部より溢れ出し、リップ斜面19上部にたまる。このたまった潤滑液はリップ面18に流れ落ちて、塗布時に塗布液と混じり合い、塗膜欠点を引き起こすようになる。
【0047】
使用する潤滑液としては塗布液の構成溶媒と互いに可溶である溶剤であることが好ましい。可溶である溶剤であるならば、リップ斜面19に付着し、乾燥固化した塗布液を溶解することができるため、乾燥固化した塗布液と清掃部材20が擦れ合うことに起因する清掃部材20の磨耗を大きく低減できる。
【0048】
さらに、潤滑液の飽和蒸気圧は20℃において100Pa以下であることが好ましく、より好ましくは50Pa以下にする。このような揮発性の低い潤滑液を用いれば、リップ斜面19に残存した塗布液には揮発性の低い潤滑液が混じり合うので、該塗布液がリップ斜面19で乾燥固化することを防ぐことができ、清掃部材20の磨耗をさらに低減できる。
【0049】
加えて、潤滑液はその溶解性パラメータδsolv[(J/cm3)1/2]が前記塗布液の溶解性パラメータδcoat[(J/cm3)1/2]に対し、式
δcoat−2<δsolv<δcoat+2
を満たしていることが好ましい。
【0050】
ここで、溶解性パラメータとは単位体積当たりの凝集エネルギ密度の平方根であり、分子の極性の大きさを表す尺度である。したがって、溶解性パラメータが上記範囲内にある液体同士が接触した場合は、分子の極性がほぼ等しいので、接触界面で界面張力が発生せず、液体が動かないため、互いに混じり合うことがない。一方、溶解性パラメータが上記範囲外にある液体同士が接触すると、分子の極性が異なるため、接触界面で界面張力が生じ、液体の移動が生じるので、2液は速やかに混合する。したがって、潤滑液と塗布液の溶解性パラメータが上記範囲外にあると、潤滑液とダイ3先端部に付着した塗布液とが接触した際に、2液が直ちに交じり合い、その結果、潤滑液がダイ3のスリット部15内に侵入したり、あるいはダイ3のスリット部15の内部の塗布液がリップ面18上に引き出されてしまう。潤滑液がダイ3のスリット部15内に侵入すると、塗布開始部で塗布抜けや色ムラ等の塗布欠点が発生する。また、塗布液がスリット部15からリップ面18上に滲み出ると、塗布開始部の塗布抜けや、滲み出た塗布液が乾燥することに起因する縦スジ等の塗布欠点を誘発する。したがって、高品質な塗膜を安定して得るには、潤滑液と塗布液の溶解性パラメータを上記式の範囲内とし、2液が混合することにより発生する塗布欠点を生じさせないようにすることが好ましい。
【0051】
また、吸引口21における吸引圧力は、大気圧を基準として−100Pa〜−10000Paとするのが好ましく、より好ましくは−200Pa〜−500Paにする。吸引圧力が上記範囲より低いと清掃部材20により掻き取られた塗布液を十分に吸引・排出できず、塗布液が清掃部材20の上部より溢れてしまうようになるので好ましくない。また、吸引圧力が上記範囲より高いと吸引量が多くなり、それに伴って発生する気流でダイ3先端部に付着した塗布液を蒸発させてしまうので、塗布液が感光性アクリル系カラーペーストやフォトレジスト等の特に乾燥しやすいものの場合は、リップ面18およびリップ斜面19上に乾燥固化物がすぐに生成され、これが塗布時に塗膜欠点を誘発したり、清掃部材20の磨耗を増大させる原因となるので好ましくない。
【0052】
さらに、清掃ヘッド8の移動速度は好ましくは1m/min〜50m/minとし、より好ましくは15m/min〜30m/minとする。移動速度が上記範囲より遅いとダイ3の清掃に多大な時間を要し、生産性が低下するようになる。一方、移動速度が上記範囲より速いと、清掃部材20により掻き取った塗布液が該清掃部材20の上部より溢れ出して再汚染を引き起こすようになり、好ましくない。
【0053】
またこのとき、清掃部材20の材質としては、ダイ3のリップ面18およびリップ斜面19を傷つけない高分子樹脂が良く、その高分子樹脂としてはフッ素樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーンゴム、エチレンプロピレン共重合体ゴム、フッ素ゴム等を用いることができるが、ダイ3に密着できるよう弾性を有するゴム弾性体が特に好ましい。このときゴム硬さはJIS K6301に定められている試験方法において、Hs値で30〜80であることが好ましく、より好ましくは50〜70にする。Hs値が上記範囲より低いと、清掃部材20をダイ3に押し付けた際に、清掃部材20が大きく変形して面で接触するために、十分な塗布液の掻き取り能力が得られにくくなる。またHs値が上記範囲より高いと、清掃部材20がリップ面18及びリップ斜面19に密着せず隙間が生じるため、塗布液が隙間を通過し、掻き取り残りが生じるようになる。また、使用する塗布液及び潤滑液に対して薬品耐性を有する材質を選択することが好ましい。さらに、清掃部材20に発生する静電気を除去し、埃の付着を防止するために、高分子樹脂中に導電性粉末を混入しても良い。導電性粉末としては、カーボン、白金、ニッケル、銀、銅などが好ましく、混入する割合としては40重量%〜100重量%が好ましい。
【0054】
また、図5に示されている、ダイ3のリップ面18と清掃部材20とが作る角度θは、90°未満であることが好ましく、より好ましくは30°〜60°にする。角度θを上記範囲にすることにより、清掃部材20をダイ3に対して対向して移動させることになり、掻き取った塗布液を重力を利用して効率よく下方に落下させることができる。一方、角度θを90°以上とすると、清掃部材20によって掻き取られた塗布液が清掃部材20によって落下を妨げられ、リップ斜面19上部に容易にせり上がり、清掃部材20から溢れ出してリップ面18およびリップ斜面19を再汚染してしまうようになる。
【0055】
続いて、本発明の塗布用ダイ清掃装置7を用いた塗布方法の一例を図1、図2および図3を用いて説明する。
【0056】
まず、ガラス基板4上に塗布液を塗布する前に、図示しない圧送、ポンプ等の送液手段を用いてダイ3の内部に塗布液を充填する。このとき、吐出口14から余剰の塗布液が吐出されるので、予め、往復運動機構23によって、トレイ22をダイ3の吐出口14の下側に移動させて、吐出される塗布液を受け、排出口37から排出する。
【0057】
ダイ3への塗布液の充填が完了したら、ダイ3のリップ面18およびリップ斜面19を前記清掃方法により清掃する。
【0058】
以上の準備作業が完了すると、図示しないローダによりテーブル5上にガラス基板4を移載し、図示しない位置決め装置によって位置決めを行った状態で、ガラス基板4をテーブル5に吸着保持する。このとき同時に、ダイ3より塗布液を微少量吐出させ、リップ面に塗布液を付着させてから、前記清掃方法によりダイ3のリップ面18およびリップ斜面19を清掃する。このときの塗布液の吐出量はダイの長手方向長さ1mあたり500μl〜2000μlが好ましい。
【0059】
次に、テーブル5を原点位置からA方向に直進させ、ガラス基板4の塗布開始位置がダイ3の吐出口14の真下に達するとテーブル5を停止させる。そして、ダイ3のリップ面18とガラス基板4との間に所定の隙間(クリアランス)が設けられるまで昇降運動機構10によりダイ3を下降させる。次いで、ダイ3に塗布液を一定量供給し、ダイ3のリップ面18とガラス基板4との間にビードを形成する。このとき、直前に行ったダイ3の清掃作業が終了してから該ビードが形成されるまでの時間は5秒以内であることが好ましく、より好ましくは3秒以内とする。これより時間が長いと、特に塗布液が感光性アクリル系ペースト、フォトレジスト等の揮発性の高いものである場合に、吐出口14内部に充填された塗布液が揮発し、濃度や粘度にむらが生じやすくなるので、該ビードがダイ3の長手方向に均一とならず、塗膜に塗布抜けや縦スジ等の欠点が発生するようになる。
【0060】
続いて、ダイ3に塗布液を所定の膜厚が得られるように連続的に供給し、吐出口14から塗布液を吐出させながら、テーブル5をA方向に一定速度で移動させて基板に塗膜を形成する。そして、ガラス基板4の塗布終了位置がダイ3の吐出口14の真下に達したら、塗布液の吐出を停止し、ダイ3を上昇させる。さらにテーブル5を終了位置まで移動し、停止したらテーブル5上のガラス基板4の吸着を解除して、図示しないアンローダによりガラス基板4を取り出し、次工程に搬送する。ガラス基板4の取り出しを終えた後、テーブル5をB方向に移動し、原点位置まで戻す。
【0061】
以降連続して塗布液の塗布を繰り返す場合は上記した塗布工程を繰り返せば良い。また、一時的に停機する場合は上記塗布工程が終了後、ダイ3のリップ面18およびリップ斜面19に付着した塗布液が乾燥し固着しないよう、前記清掃方法による清掃作業を行ってから待機させるのが良い。
【0062】
なお、本実施態様ではトレイ22と清掃ヘッド8を一体とし、往復運動機構23により同時に移動させるように構成したが、各々別々に移動させるようにしても良い。
【0063】
本発明の塗布用ダイの清掃方法および清掃装置は、ガラス基板表面に塗布液を塗布するダイのリップ面及びリップ斜面の清掃に有効であり、カラーフィルターの製造工程での各種塗布液、特に感光性アクリル系カラーペースト、フォトレジスト、オーバーコート材等の、粘度が0.1Pa・s以下と低粘度かつ揮発性の高い塗布液を枚葉塗布するダイの清掃に好適に用いることができる。
【0064】
また、本発明のダイコータによる塗料の塗布方法は、カラーフィルターの製造工程において、上述した低粘度かつ揮発性の高い各種塗布液を枚葉塗工する際に好適に用いることができる。
【0065】
【実施例】
実施例
液晶ディスプレイ用カラーフィルター製造工程で、吐出口14の幅が100μm、長さが620mm、リップ面18の幅が3mmであるダイ3を用いて、ポジ型フォトレジスト液(シプレイ・ファーイースト社製SC31A−17、溶解性パラメータ=18.4[(J/cm3)1/2])をガラス基板に塗布するダイコータに、本発明の塗布用ダイ清掃装置を適用した。
【0066】
清掃部材20には、JIS K6253に定められている試験方法による測定で、Hs値が60であるエチレンプロピレン共重合体ゴム製の成形品を用い、清掃部材保持具38に図5に示す角度θが60°となるように取りつけた。
【0067】
また、潤滑液ポンプ32にはダイアフラムポンプを用い、潤滑液としてエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(溶解性パラメータ=18.2[(J/cm3)1/2]、20℃での飽和蒸気圧=40Pa)を5μl/sで清掃時に吐出させるとともに、清掃作業時の清掃ヘッドの移動速度を30m/minとした。
【0068】
さらに、吸引口21における吸引圧力が大気圧を基準として−300Paとなるように真空ポンプ35により吸引を行った。
【0069】
そして、ダイ3の清掃が終了してから塗布を開始するまでの時間は2秒とした。
【0070】
以上の塗布用ダイ清掃装置を備えたダイコータを用いたカラーフィルターの製造を次の手順で行った。
【0071】
まず、620mm×750mmサイズのガラス基板上に、基板短尺方向に100μm、基板長尺方向に400μmの間隔で格子状に横幅60μm、縦幅250μmの開口部を有する厚み1μmの樹脂遮光層を形成した。この遮光層上にR着色剤を添加した熱硬化性塗料を乾燥後膜厚が1.7μmとなるようにダイコータで塗布し、120℃の温度で乾燥して、塗膜を形成した。
【0072】
続いて、該塗膜上に前記ポジ型フォトレジストを、本発明による塗布用ダイ清掃装置を上記条件にて適用したダイコータで塗布し乾燥させ、厚み1.7μmのフォトレジスト膜を形成した。
【0073】
そして、超高圧水銀灯を用いてマスク露光を行い、次いで該ポジ型フォトレジストを現像することで該塗膜のエッチングを行い、レリーフパターンを形成した。
【0074】
さらに該ポジ型フォトレジストを剥離した後、300℃で加熱焼成して該塗膜を熱硬化し、R画素とした。以上の工程をG、Bの各画素についても繰り返し、カラーフィルターを得た。
【0075】
以上の工程によるカラーフィルターの製造を、10,000シート連続で行った後の清掃部材の磨耗量と目視による概観、ダイ先端の清掃状況および塗布塗膜中に混入した清掃部材の磨耗紛の数は、表1上段に示した通りであった。清掃部材の磨耗は目視によっては確認できない程度にとどまり、磨耗による質量の減少量は4μgであった。またダイ先端部に塗布液の拭き残りや固着はなく、塗布塗膜中への磨耗分の混入もなかった。その結果、高品質のカラーフィルターを高い生産性で得ることができた。
【0076】
実施例2
前記実施例1と同様に本発明による塗布用ダイ清掃装置を適用したダイコータにより、前記ポジ型フォトレジストの塗布を行った。このとき、潤滑液として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと酢酸−n−ブチルを重量比8:2で混合した溶液(溶解性パラメータ=18.4[(J/cm3)1/2]、20℃での飽和蒸気圧=555Pa)を用いた以外は、前記実施例1と全く同一条件とした。なお、前記混合溶液の20℃での飽和蒸気圧は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよび酢酸−n−ブチルの25℃における飽和蒸気圧をClausius−Clapeyronの式により20℃における飽和蒸気圧に換算した後、Raoultの法則により該混合溶液の飽和蒸気圧として算出した値である。
【0077】
本条件にてポジ型フォトレジストの塗布を10,000シート連続で行った後の清掃部材の磨耗量と目視による概観、ダイ先端の清掃状況および塗布塗膜中に混入した清掃部材の磨耗紛の数を表1中段に示す。清掃部材のリップ斜面と接する位置に磨耗による削れが視認でき、磨耗量としては8μgあって、またダイ先端部のリップ斜面には塗布液の乾燥物が固着残存し、塗布塗膜中にも磨耗紛の混入が若干見られた。実施例1と比較すると劣るものの、ダイの清掃能力・清掃部材の磨耗低減性能ともに効果があり、カラーフィルターの生産性を向上できた。
【0078】
比較例1
本発明による塗布用ダイ清掃装置を適用したダイコータにおいて、潤滑液を使用せずにダイの清掃を行う以外は前記実施例1と全く同一の条件とし、前記ポジ型フォトレジストの塗布を行った。
【0079】
本条件にてポジ型フォトレジストの塗布を10,000シート連続で行った結果は表1下段の通りであり、清掃部材がリップ斜面と接する位置で大きく磨耗しているのが視認でき、磨耗量は25μgであった。また、ダイ先端部のリップ斜面には塗布液の乾燥固着物が厚く堆積した。さらに塗布塗膜中への磨耗紛の混入も多数見られた。
【0080】
【表1】
【0081】
【発明の効果】
以上、説明したように塗布用ダイのリップ面およびリップ斜面の清掃に本発明の塗布用ダイ清掃方法および清掃装置を用いれば、清掃部材を塗布用ダイに摺接させる際に、清掃部材とリップ斜面との摺接部に潤滑液を供給するのであるから、潤滑液がダイの吐出口内部の塗布液と混じり合わないので、塗膜欠点を発生させることなく清掃部材の磨耗を大きく低減できる。
【0083】
そして、上記の優れた塗布用ダイの清掃方法および清掃装置を用いてカラーフィルターを製造すれば、繰り返して塗布を行っても、清掃部材の磨耗が少なく、磨耗紛による被塗布材の汚染がなく、さらに、塗膜の塗布開始部に塗布抜け・色ムラなどの塗膜欠点のない良好な塗膜面を形成することができ、高品質なカラーフィルターを高い生産性で製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の塗布用ダイ清掃装置を適用したダイコータの一例を示す概略斜視図である。
【図2】図1の塗布用ダイ清掃装置による清掃状況を示す側面断面図である。
【図3】図1のダイコータの正面図である。
【図4】清掃ヘッドの一例を示す概略斜視図である。
【図5】ダイと清掃部材との配置関係の一例を示す正面図である。
【符号の説明】
1:ダイコータ
2:基台
3:ダイ
4:ガラス基板
5:テーブル
6:サブ基台
7:塗布用ダイ清掃装置
8:清掃ヘッド
9:支柱
10:昇降運動機構
11:ドクターリップ
12:バックアップリップ
13:シム
14:吐出口
15:スリット部
16:マニホールド
17:塗布液供給口
18:リップ面
19:リップ斜面
20:清掃部材
21:吸引口
22:トレイ
23:往復運動機構
24:潤滑液送液ユニット
25:廃液回収ユニット
26:キャリア
27:ガイド
28:フィードスクリュー
29:モーター
30:軸受け
31:潤滑液タンク
32:潤滑液ポンプ
33:潤滑液配管
34:廃液タンク
35:真空ポンプ
36:廃液配管
37:排出口
38:清掃部材保持具
39:ベース
40:清掃部材先端部
41:潤滑液吐出口
42:プレート
43:潤滑液供給パイプ
44:潤滑液送液孔
45:清掃開始位置
46:清掃終了位置
A:テーブル送り方向
B:テーブル戻り方向
C,D:清掃ヘッドの移動位置
θ:リップ面と清掃部材とが作る角度[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is used, for example, in the field of manufacturing color filters for liquid crystal displays, and more specifically, a die coater die suitably used for coating a color filter coating film on the surface of a coated member such as a glass substrate. The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning an ejection port and its periphery, a coating method using the same, and a color filter manufacturing apparatus and a manufacturing method using these apparatuses and methods.
[0002]
[Prior art]
As a method of applying to a member to be coated such as a glass substrate, there is a die coater coating.
[0003]
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-208154, the die coater discharges the coating liquid from the elongated discharge port of the die, which is an applicator, to the coated member while moving the coated member such as a film or a substrate. A coating film surface having a predetermined thickness is formed on the coating member.
[0004]
When this die coater is used for application to a sheet-like application object such as a glass substrate, once the application liquid is applied, the die application liquid discharge port surface (hereinafter referred to as a lip surface) and its adjacent surface ( Hereinafter, a part of the coating solution remains in the form of droplets on the lip slope). When applying again, if the drop-like coating liquid is left on the lip surface and the lip slope, the coating liquid remaining in the drop-form together with the coating liquid discharged from the die is also applied to the substrate. Therefore, a coated surface with a uniform film thickness cannot be obtained. For this reason, it is necessary to clean the lip surface and lip slope of the die and remove the applied coating liquid every time one application is completed. At this time, when highly volatile materials such as photosensitive acrylic color paste and photoresist are used as the coating liquid, the droplets adhering to the lip surface and lip slope are dried and fixed, so for example simply cleaning. It is not possible to completely remove the coating liquid and the fixed matter simply by sliding the member against the lip surface and the lip slope. If sticky objects remain, the shape of the bead between the substrate and the die during coating (the liquid pool formed between the lip surface and the member to be coated) will be disturbed, causing coating defects such as vertical stripes. To do.
[0005]
As a means for solving the above problem, Japanese Patent Laid-Open No. 10-216598 discloses a synthetic resin such as silicone rubber having a notch that matches the shape of the tip end surface of the die after the cleaning liquid is attached to the discharge port of the die. An apparatus and a method for performing cleaning by bringing the cleaning member into sliding contact with the lip surface and lip slope of the die are disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-51763 discloses a device for cleaning by spraying a cleaning liquid from a nozzle to a discharge port of a die and then sliding a scraping member such as a wire on the lip surface of the die. Yes.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-described apparatus and method, particularly when the coating liquid has a low viscosity of 0.1 Pa · s or less, when the cleaning liquid is attached to the discharge port of the die, the coating liquid and the cleaning liquid inside the discharge port of the die are mixed. In addition, there was a problem that the coating film was uneven in color at the next application.
[0007]
In addition, in the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-51763, since the cleaning liquid adhering to the lip slope cannot be removed, the cleaning liquid remaining on the lip slope during application is easily mixed with the coating liquid and applied to the coating film. Color unevenness will occur.
[0008]
On the other hand, in the apparatus and method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-216598, when the coating solution is easy to dry, the cleaning solution does not adhere to the lip slope, so that the coating solution is dried and fixed there. Can not do it. For this reason, the remaining fixed matter and the cleaning member rub against each other, the cleaning member is worn, and wear powder generated at that time is mixed into the coating film, causing a quality defect of the coating film.
[0009]
Further, since the upper part of the lip slope is away from the discharge port, the coating liquid and the cleaning liquid are difficult to reach, and the lip slope and the cleaning member often come into sliding contact in the absence of liquid, so that the cleaning member is significantly worn.
[0010]
In addition, after cleaning the lip surface, the die outlet is directly exposed to the atmosphere, so if left for a long time, the coating liquid filled inside the outlet evaporates, resulting in uneven density and viscosity. Therefore, when coating is started in this state, the beads are not uniform in the longitudinal direction of the die, and there is a problem that a coating film defect such as missing coating occurs in the coating start part of the coating film.
[0011]
The present invention has been made based on the above-mentioned circumstances, and the purpose of the present invention is not to induce coating film defects such as vertical stripes, uneven color, and missing coating when cleaning the die, and further cleaning. An object of the present invention is to provide a coating die cleaning method and a cleaning device, a color filter manufacturing method and a manufacturing device that can greatly reduce the wear of members and increase productivity.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the coating die cleaning method of the present invention comprises:
(1) A coating die cleaning method for cleaning a discharge port surface of a coating die for discharging a coating liquid from a discharge port and its adjacent surface, By supplying the liquid to the sliding contact portion between the cleaning member and the adjacent surface of the discharge port surface, After the liquid is attached to the adjacent surface of the discharge port surface, the discharge port surface and its adjacent surface Said A cleaning member is brought into sliding contact with the coating die longitudinal direction to remove the coating liquid adhering to the discharge port surface and its adjacent surface.
[0014]
( 2 In addition, the above (1 ) The liquid is preferably a solvent that is soluble with the constituent solvent of the coating solution.
[0015]
( 3 Further, the above (1) to ( 2 ), The liquid has its solubility parameter δ solv [(J / cm Three ) 1/2 ] Is the solubility parameter δ of the coating solution coat [(J / cm Three ) 1/2 ] For the formula δ coat -2 <δ solv <Δ coat The liquid is preferably in the range represented by +2.
[0016]
( 4 In addition, (1) to ( 3 ), The liquid is preferably a liquid having a saturated vapor pressure of 100 Pa or less at 20 ° C.
[0017]
The method for producing the color filter of the present invention includes:
( 5 ) A color filter manufacturing method involving a coating die cleaning process, wherein the coating die cleaning process includes the steps (1) to (1) 4 The method for cleaning a coating die described in any one of the above) is used.
[0020]
The coating die cleaning apparatus of the present invention is:
( 6 ) A coating die cleaning device for cleaning the discharge port surface of the coating die for discharging the coating liquid from the discharge port and its adjacent surface, By supplying the liquid to the sliding contact portion between the cleaning member and the adjacent surface of the discharge port surface Liquid adhering means for adhering liquid to an adjacent surface of the discharge port surface, and application that adheres to the discharge port surface and its adjacent surface by slidingly contacting the discharge port surface and its adjacent surface in the longitudinal direction of the application die. It has the cleaning member which removes a liquid, It is characterized by the above-mentioned.
[0022]
The apparatus for producing a color filter of the present invention comprises:
( 7 ) A color filter manufacturing apparatus comprising a coating die and a coating die cleaning device, wherein the coating die cleaning device comprises: (6) It is the cleaning apparatus of the application | coating die as described in above.
[0023]
If the cleaning method and the cleaning device for the coating die of the present invention are used, the liquid adheres to the lip slope and the lip surface and the lip slope of the coating die are cleaned by the cleaning member. Since the cleaning liquid and the application die always slide in a lubrication state without being mixed with the coating liquid inside the discharge port of the die, the wear of the cleaning member can be greatly reduced.
[0024]
In addition, since the liquid is used as a solvent for the coating solution, the coating solution dried and fixed on the lip slope can be dissolved and removed, and wear of the cleaning member due to rubbing against the fixed substance can be prevented.
[0026]
Furthermore, since the color filter is manufactured by using the excellent coating die cleaning method and cleaning device according to the present invention, a high-quality color filter free from quality defects can be obtained with high productivity.
[0027]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0028]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of a
[0029]
Referring to FIG. 1, there is a
[0030]
Next, when FIG. 2 is seen, the expanded cross section which looked at the die | dye 3 from the longitudinal direction is shown. The
[0031]
Next, the configuration of the coating die cleaning apparatus 7 including the
[0032]
As shown in FIG. 3, the coating die cleaning device 7 has a
[0033]
The
[0034]
The lubricating
[0035]
The waste
[0036]
Next, when the cleaning
[0037]
The cleaning
[0038]
The cleaning
[0039]
The cleaning
[0040]
Then, the cleaning method of the die | dye 3 using the above die cleaning apparatus 7 for an application | coating is demonstrated using FIG.
[0041]
First, the
[0042]
Next, the
[0043]
Subsequently, the
[0044]
In addition, after the
[0045]
In the above cleaning method, since the lubricating liquid is supplied to the sliding portion between the
[0046]
At this time, the discharge amount of the lubricating liquid is preferably 1 μl to 100 μl, more preferably 5 μl to 20 μl per 1 m in the longitudinal direction of the
[0047]
The lubricating liquid used is preferably a solvent that is soluble with the constituent solvent of the coating liquid. If the solvent is soluble, the coating liquid that adheres to the lip inclined
[0048]
Furthermore, the saturated vapor pressure of the lubricating liquid is preferably 100 Pa or less at 20 ° C., more preferably 50 Pa or less. If such a low-volatility lubricating liquid is used, the low-volatility lubricating liquid is mixed with the coating liquid remaining on the
[0049]
In addition, the lubricating fluid has its solubility parameter δ solv [(J / cm Three ) 1/2 ] Is the solubility parameter δ of the coating solution coat [(J / cm Three ) 1/2 ] For the expression
δ coat -2 <δ solv <Δ coat +2
Is preferably satisfied.
[0050]
Here, the solubility parameter is the square root of the cohesive energy density per unit volume, and is a measure representing the magnitude of the polarity of the molecule. Therefore, when liquids having solubility parameters in the above range are in contact with each other, the polarities of the molecules are almost equal, so that no interfacial tension is generated at the contact interface, and the liquid does not move, so that they do not mix with each other. On the other hand, when the liquids whose solubility parameters are outside the above range come into contact with each other, the polarities of the molecules are different, so that interfacial tension is generated at the contact interface, and the liquid is moved. Therefore, when the solubility parameter of the lubricating liquid and the coating liquid is outside the above range, the two liquids immediately mix when the lubricating liquid and the coating liquid adhering to the tip of the
[0051]
The suction pressure at the
[0052]
Furthermore, the moving speed of the
[0053]
At this time, the material of the cleaning
[0054]
Further, the angle θ formed by the
[0055]
Subsequently, an example of a coating method using the coating die cleaning apparatus 7 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3.
[0056]
First, before coating the coating solution on the
[0057]
When the filling of the coating liquid into the
[0058]
When the above preparatory work is completed, the
[0059]
Next, the table 5 is moved straight from the origin position in the A direction, and the table 5 is stopped when the application start position of the
[0060]
Subsequently, the coating solution is continuously supplied to the
[0061]
Thereafter, when the coating liquid is continuously applied, the above-described application process may be repeated. Further, when the operation is temporarily stopped, after the application process is finished, the application liquid adhering to the
[0062]
In the present embodiment, the
[0063]
INDUSTRIAL APPLICABILITY The coating die cleaning method and cleaning device of the present invention are effective for cleaning the lip surface and lip slope of a die that applies a coating solution to the surface of a glass substrate, and various coating solutions, particularly photosensitive, in the color filter manufacturing process. It can be suitably used for cleaning dies that apply a single-viscosity coating liquid having a low viscosity of 0.1 Pa · s or less, such as a conductive acrylic color paste, a photoresist, and an overcoat material.
[0064]
In addition, the coating method using the die coater of the present invention can be suitably used when applying the above-mentioned various low-viscosity and high-volatility coating solutions in the color filter manufacturing process.
[0065]
【Example】
Example
In a color filter manufacturing process for a liquid crystal display, a positive photoresist solution (SC31A manufactured by Shipley Far East Co., Ltd.) is used by using a
[0066]
As the cleaning
[0067]
In addition, a diaphragm pump is used as the
[0068]
Furthermore, suction was performed by the
[0069]
The time from the end of cleaning of the
[0070]
Production of a color filter using a die coater equipped with the above coating die cleaning device was performed according to the following procedure.
[0071]
First, a resin light-shielding layer having a thickness of 1 μm and having openings of 60 μm in width and 250 μm in length in a grid pattern on a glass substrate having a size of 620 mm × 750 mm and having an interval of 100 μm in the short direction of the substrate and 400 μm in the long direction of the substrate . A thermosetting paint added with an R colorant on this light shielding layer was applied with a die coater so as to have a film thickness of 1.7 μm after drying, and dried at a temperature of 120 ° C. to form a coating film.
[0072]
Subsequently, the positive photoresist was applied onto the coating film with a die coater to which the coating die cleaning apparatus according to the present invention was applied under the above conditions, and dried to form a 1.7 μm thick photoresist film.
[0073]
Then, mask exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp, and then the positive photoresist was developed to etch the coating film to form a relief pattern.
[0074]
Further, after peeling off the positive type photoresist, the coating film was thermally cured by heating and baking at 300 ° C. to obtain an R pixel. The above process was repeated for each pixel of G and B to obtain a color filter.
[0075]
The amount of wear of the cleaning member after the 10,000-sheet continuous production of the color filter by the above process and the visual appearance, the cleaning state of the die tip, and the number of the wear dust of the cleaning member mixed in the coating film Was as shown in the upper part of Table 1. The amount of wear of the cleaning member was not confirmed by visual observation, and the amount of mass reduction due to wear was 4 μg. In addition, there was no wiping residue or sticking of the coating liquid at the tip of the die, and no wear was mixed in the coating film. As a result, high quality color filters could be obtained with high productivity.
[0076]
Example 2
In the same manner as in Example 1, the positive photoresist was applied by a die coater to which the coating die cleaning apparatus according to the present invention was applied. At this time, as a lubricating liquid, a solution in which propylene glycol monomethyl ether acetate and n-butyl acetate were mixed at a weight ratio of 8: 2 (solubility parameter = 18.4 [(J / cm Three ) 1/2 The same conditions as in Example 1 were used except that the saturated vapor pressure at 20 ° C. = 555 Pa) was used. The saturated vapor pressure at 20 ° C. of the mixed solution is obtained by converting the saturated vapor pressure at 25 ° C. of propylene glycol monomethyl ether acetate and n-butyl acetate into the saturated vapor pressure at 20 ° C. according to the Clausius-Clapeyron formula. , A value calculated as the saturated vapor pressure of the mixed solution according to Raoult's law.
[0077]
Under this condition, the amount of wear and visual appearance of the cleaning member after applying 10,000 sheets of positive photoresist continuously, the cleaning condition of the tip of the die, and the wear of the cleaning member mixed in the coating film The numbers are shown in the middle of Table 1. Scraping due to wear can be visually recognized at the position of the cleaning member in contact with the lip slope, the amount of wear is 8 μg, and the dried material of the coating solution remains stuck on the lip slope at the tip of the die, and wear also in the coating film Some contamination was observed. Although inferior to Example 1, both the die cleaning ability and the wear reduction performance of the cleaning member were effective, and the productivity of the color filter could be improved.
[0078]
Comparative Example 1
In the die coater to which the coating die cleaning apparatus according to the present invention was applied, the positive photoresist was applied under the same conditions as in Example 1 except that the die was cleaned without using a lubricant.
[0079]
The result of applying 10,000 positive photoresists continuously under these conditions is as shown in the lower part of Table 1. It can be visually observed that the cleaning member is greatly worn at the position in contact with the lip slope. Was 25 μg. Further, a thick coating of dried coating material was deposited on the lip slope at the tip of the die. In addition, many wear powders were mixed in the coated film.
[0080]
[Table 1]
[0081]
【The invention's effect】
As described above, when the coating die cleaning method and the cleaning device of the present invention are used for cleaning the lip surface and the lip slope of the coating die, the cleaning member and the lip are brought into contact with the coating die when the cleaning member is brought into sliding contact with the coating die. Since the lubricating liquid is supplied to the sliding contact portion with the inclined surface, the lubricating liquid does not mix with the coating liquid in the discharge port of the die, so that the wear of the cleaning member can be greatly reduced without causing a coating film defect.
[0083]
And if a color filter is manufactured using the above-described excellent coating die cleaning method and cleaning device, even if it is repeatedly applied, the cleaning member is less worn and there is no contamination of the coated material due to wear powder. Furthermore, it is possible to form a good coating surface without coating defects such as missing coating or uneven color at the coating start part of coating, and it is possible to manufacture high quality color filters with high productivity. Become.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of a die coater to which a coating die cleaning apparatus of the present invention is applied.
2 is a side cross-sectional view showing a cleaning state by the coating die cleaning apparatus of FIG. 1;
FIG. 3 is a front view of the die coater of FIG. 1;
FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of a cleaning head.
FIG. 5 is a front view showing an example of an arrangement relationship between a die and a cleaning member.
[Explanation of symbols]
1: Die coater
2: Base
3: Die
4: Glass substrate
5: Table
6: Sub-base
7: Die cleaning device for coating
8: Cleaning head
9: Prop
10: Elevating mechanism
11: Doctor lip
12: Backup lip
13: Sim
14: Discharge port
15: slit part
16: Manifold
17: Coating liquid supply port
18: Lip surface
19: Lip slope
20: Cleaning member
21: Suction port
22: Tray
23: Reciprocating mechanism
24: Lubricating liquid feeding unit
25: Waste liquid recovery unit
26: Career
27: Guide
28: Feed screw
29: Motor
30: Bearing
31: Lubricant tank
32: Lubricating liquid pump
33: Lubricating fluid piping
34: Waste liquid tank
35: Vacuum pump
36: Waste liquid piping
37: Discharge port
38: Cleaning member holder
39: Base
40: Cleaning member tip
41: Lubricant discharge port
42: Plate
43: Lubricating liquid supply pipe
44: Lubrication liquid feed hole
45: Cleaning start position
46: Cleaning end position
A: Table feed direction
B: Table return direction
C, D: Moving position of the cleaning head
θ: Angle formed by the lip surface and the cleaning member
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