JP4737401B2 - Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film - Google Patents

Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film Download PDF

Info

Publication number
JP4737401B2
JP4737401B2 JP2005269697A JP2005269697A JP4737401B2 JP 4737401 B2 JP4737401 B2 JP 4737401B2 JP 2005269697 A JP2005269697 A JP 2005269697A JP 2005269697 A JP2005269697 A JP 2005269697A JP 4737401 B2 JP4737401 B2 JP 4737401B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
film
antireflection film
resin
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005269697A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006139259A (en
Inventor
正明 山谷
和治 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2005269697A priority Critical patent/JP4737401B2/en
Publication of JP2006139259A publication Critical patent/JP2006139259A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4737401B2 publication Critical patent/JP4737401B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

本発明は、特定の架橋体からなる含フッ素シリコーン製の耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れる反射防止膜、同反射防止膜を形成するための特定構造のF原子を含むビスシラン化合物及びパーフルオロアルキルシランの(部分)加水分解物を主成分として含有する保護被膜形成用コーティング剤組成物、及びそれを硬化して形成された被膜を有する被覆光学物品に関するものである。   The present invention relates to an antireflective film excellent in alkali resistance, scratch resistance and antifouling property made of a fluorine-containing silicone comprising a specific crosslinked product, a bissilane compound containing F atoms having a specific structure for forming the antireflective film, and The present invention relates to a coating composition for forming a protective film containing a (partial) hydrolyzate of perfluoroalkylsilane as a main component, and a coated optical article having a film formed by curing it.

近年、コンピューター、テレビ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置、透明プラスチックレンズ、各種計器のカバー、自動車、電車の窓ガラス等の光学物品に、視認性を向上させる目的から、反射防止膜を最外層に設けて使用されている。反射防止の原理から、反射防止膜は、低屈折率である必要がある。   In recent years, antireflection films have been applied to optical articles such as various displays such as computers, televisions, plasma displays, liquid crystal display devices, transparent plastic lenses, various instrument covers, automobiles, train window glass, etc. for the purpose of improving visibility. It is used in the outermost layer. From the principle of antireflection, the antireflection film needs to have a low refractive index.

フッ素樹脂は、本質的に屈折率が低く、耐アルカリ性に優れる材料であるので、ディスプレイ等の反射防止用途にも適用されている。しかしながら、フッ素樹脂は、その分子構造からゴム材料として使用されることが多く、耐擦傷性に優れる硬質な保護コーティング剤とすることは難しい。   Since the fluororesin is a material having a low refractive index and excellent alkali resistance, it is also applied to antireflection applications such as displays. However, a fluororesin is often used as a rubber material because of its molecular structure, and it is difficult to obtain a hard protective coating agent having excellent scratch resistance.

近年、パーフルオロアルキル基を有する加水分解性シラン化合物が開発され、その特性を活かして、耐アルカリ性、撥水性、撥油性、防汚性、反射防止性等に優れた各種コーティング剤が開発されている。しかしながら、その特性をもたらすパーフルオロアルキル基が嵩高く、不活性であるため、硬化被膜の架橋密度が低くなり、その結果、フッ素樹脂と比較するとかなり硬質となっているが、耐擦傷性はまだ不十分である。   In recent years, hydrolyzable silane compounds having a perfluoroalkyl group have been developed, and various coating agents with excellent alkali resistance, water repellency, oil repellency, antifouling properties, antireflection properties, etc. have been developed taking advantage of the properties. Yes. However, because the perfluoroalkyl groups that provide the properties are bulky and inert, the cured coating has a lower crosslink density, and as a result, it is considerably harder than fluoropolymers, but still has no scratch resistance. It is insufficient.

耐擦傷性を高める目的で、パーフルオロアルキル基含有シランとテトラアルコキシシラン等の各種シラン化合物とを共加水分解する方式(特許文献1:特開2002−53805号公報参照)が提案されている。また、耐擦傷性と防汚性を両立させる目的で、パーフルオロアルキレン基をスペーサーとして含有するビスシラン化合物に、パーフルオロアルキル基含有シランと、テトラアルコキシシランあるいはシランカップリング剤とを併用する系(特許文献2,3:特開昭61−40845号公報、特公平6−29332号公報参照)が提案されている。テトラアルコキシシランを使用した系では、そのQ単位の部分がアルカリに弱く、家庭で強力なアルカリ性洗剤を用いて洗滌する場合に被膜が劣化する危険性があり、好ましくない。また、パーフルオロアルキレン基をスペーサーとして含有するビスシラン化合物と、エポキシ官能性シランとを併用する系(特許文献4:特許第2629813号公報参照)も提案されている。目的とする防汚性、耐擦傷性、密着性及び反射防止性は比較的良好なレベルを確保できているが、フッ素含有率が低下し、更にエポキシ基が親水性であるため、耐アルカリ性が不足し、実用上問題があった。   For the purpose of enhancing the scratch resistance, a method of co-hydrolyzing a perfluoroalkyl group-containing silane and various silane compounds such as tetraalkoxysilane has been proposed (see Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-53805). In addition, for the purpose of achieving both scratch resistance and antifouling properties, a system in which a perfluoroalkyl group-containing silane and a tetraalkoxysilane or a silane coupling agent are used in combination with a bissilane compound containing a perfluoroalkylene group as a spacer ( Patent Documents 2 and 3: Japanese Patent Laid-Open Publication No. 61-40845 and Japanese Patent Publication No. 6-29332 have been proposed. In a system using tetraalkoxysilane, the Q unit portion is weak against alkali, and there is a risk that the film may deteriorate when washed with a strong alkaline detergent at home, which is not preferable. In addition, a system in which a bissilane compound containing a perfluoroalkylene group as a spacer and an epoxy functional silane is used in combination (see Patent Document 4: Japanese Patent No. 2629813) has also been proposed. Although the target antifouling property, scratch resistance, adhesion and antireflection properties have been secured at a relatively good level, the fluorine content is lowered and the epoxy group is hydrophilic, so alkali resistance is high. Insufficient and practically problematic.

また、前記特許文献4では、散乱性凸凹表面を有する透明プラスチック基材の表面に、パーフルオロアルキレン基をスペーサーとして含有するビスシラン化合物とパーフルオロアルキル基含有シランとからなる組み合わせも、実施例に記載されている。使用しているビスシラン化合物のパーフルオロアルキレン基の鎖長は長く、得られる硬化被膜の架橋点間距離が長くなるため、十分な耐擦傷性が得られないという欠点がある。耐アルカリ性に関して記述は一切なく、良好な耐アルカリ性を満たすための必要特性は把握できていなかった。また、同様な系で、硬質のガラス基材で耐アルカリ性を評価している系(特許文献5:特許第3210045号公報参照)もある。その耐アルカリ性を評価する方法として実施例で示されているのは、試験片全体を1%NaOH水溶液に24時間浸漬し、直後に洗滌し、外観変化及び水滴除去性を評価するものである。評価している被膜は、パーフルオロアルキル基含有シラン単独の被膜と、パーフルオロアルキレン基をスペーサーとして含有するビスシラン化合物と、パーフルオロアルキル基含有シランと、テトラアルコキシシランとからなる3元系の被膜の2種類である。本発明者も、液滴を載せ、30分経過後、拭き取った後の外観変化を確認する方式で評価したところ、3元系の被膜は、水滴を載せた部分が微白濁し、無色透明な液滴を載せていない部分と外観上、差が認められ、耐アルカリ性は不十分であった。試験片全体を浸漬する方式では、全体が均一に劣化するため、外観上の変化を確認できず、評価方法としては不十分で、これでは実用上耐アルカリ性は不十分と考えられる。また、パーフルオロアルキル基含有シラン単独の被膜は、合成樹脂基材に適用した場合、前述した通り耐擦傷性が不十分であった。以上のように、本発明者が見出した、良好な耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性を共に満たす条件は、いずれの系でも把握できていない。   Moreover, in the said patent document 4, the combination which consists of the bissilane compound and perfluoroalkyl group containing silane which contain a perfluoroalkylene group as a spacer on the surface of the transparent plastic base material which has a scattering uneven surface is described in an Example. Has been. Since the chain length of the perfluoroalkylene group of the bissilane compound used is long and the distance between cross-linking points of the resulting cured film is long, there is a drawback that sufficient scratch resistance cannot be obtained. There was no description about the alkali resistance, and the necessary characteristics for satisfying the good alkali resistance could not be grasped. Further, there is a similar system in which alkali resistance is evaluated with a hard glass substrate (see Patent Document 5: Japanese Patent No. 3210045). In the Examples, the alkali resistance is evaluated by immersing the whole test piece in a 1% NaOH aqueous solution for 24 hours, and immediately washing it to evaluate the appearance change and the water drop removal property. The film being evaluated is a ternary film composed of a perfluoroalkyl group-containing silane alone film, a bissilane compound containing a perfluoroalkylene group as a spacer, a perfluoroalkyl group-containing silane, and a tetraalkoxysilane. There are two types. The present inventor also evaluated the appearance after confirming the appearance change after wiping off a droplet after 30 minutes had passed, and the ternary coating film was slightly clouded and colorless and transparent at the portion where the water droplet was placed. A difference was observed in appearance from the portion where no droplet was placed, and the alkali resistance was insufficient. In the method of immersing the entire test piece, since the whole deteriorates uniformly, a change in appearance cannot be confirmed, which is insufficient as an evaluation method, and it is considered that the alkali resistance is practically insufficient. Moreover, when the coating film of the perfluoroalkyl group-containing silane alone was applied to a synthetic resin substrate, the scratch resistance was insufficient as described above. As described above, the conditions found by the present inventor that satisfy both good alkali resistance, scratch resistance and antifouling properties cannot be grasped in any system.

このように、耐薬品性(特に耐アルカリ性)、耐擦傷性及び防汚性に優れた反射防止コーティング剤はこれまで見出せていなかった。   Thus, an antireflection coating agent excellent in chemical resistance (particularly alkali resistance), scratch resistance and antifouling properties has not been found so far.

特開2002−53805号公報JP 2002-53805 A 特開昭61−40845号公報JP 61-40845 A 特公平6−29332号公報Japanese Patent Publication No. 6-29332 特許第2629813号公報Japanese Patent No. 2629813 特許第3210045号公報Japanese Patent No. 3210045

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れたF原子及びSi原子を含有し、3次元架橋構造を有する反射防止膜、該反射防止膜を形成するためのコーティング剤組成物、及び該反射防止膜が形成された光学物品と該光学物品の多層積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and contains an F atom and an Si atom excellent in alkali resistance, scratch resistance and antifouling property, and has an antireflection film having a three-dimensional crosslinked structure, and the antireflection film is formed. An object of the present invention is to provide a coating agent composition, an optical article on which the antireflection film is formed, and a multilayer laminate of the optical article.

本発明者らは、耐擦傷性及び耐アルカリ性に優れた反射防止性コーティングについて鋭意検討を重ねた結果、下記の条件を満たす反射防止膜、同被膜を形成するためのコーティング剤組成物、及び同被膜を被覆した光学物品であれば、耐擦傷性、耐アルカリ性、防汚性を同時に満足できることを見出した。   As a result of intensive studies on anti-reflection coatings excellent in scratch resistance and alkali resistance, the present inventors have obtained an anti-reflection film satisfying the following conditions, a coating agent composition for forming the film, and the same It has been found that an optical article coated with a coating can simultaneously satisfy the scratch resistance, alkali resistance and antifouling properties.

即ち、合成樹脂製透明基材の最外層に設けられた(F原子及びSi原子)を含む3次元架橋された反射防止膜において、
(I)架橋構造を、Si−O−Si結合及びF原子を含有する短鎖スペーサーを有するSi−C24−(CF2n−C24−Si結合(但し、nは4又は6である。)のみで構成することにより、架橋密度を上げることで良好な耐擦傷性が得られ、
(II)反射防止膜中のF原子とSi原子の比率が、F/Si=8.0〜10.0(モル比)の範囲を満たすことにより、また、
(III)Siに結合する全有機置換基中、下記構造で示されるパーフルオロアルキル基
−C24−(CF2aF(但し、aは4,6,8,10又は12である。)
を90〜100モル%含有することにより、硬化被膜に優れた撥水性、撥油性及び潤滑性が付与され、その結果、(I)〜(III)の複合効果により、反射防止膜上に、1質量%NaOH水溶液の水滴を載せ、30分経過後、拭き取った後の外観が、初期の外観と変わらない耐アルカリ性を示し、反射防止膜に良好な耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性を与えることができることを見出した。
That is, in the three-dimensional cross-linked antireflection film containing (F atoms and Si atoms) provided in the outermost layer of the synthetic resin transparent substrate,
(I) Si—C 2 H 4 — (CF 2 ) n —C 2 H 4 —Si bond having a short chain spacer containing an Si—O—Si bond and an F atom (where n is 4). Or 6), it is possible to obtain good scratch resistance by increasing the crosslinking density.
(II) When the ratio of F atoms to Si atoms in the antireflection film satisfies the range of F / Si = 8.0 to 10.0 (molar ratio),
(III) Perfluoroalkyl group —C 2 H 4 — (CF 2 ) a F represented by the following structure among all organic substituents bonded to Si (where a is 4, 6, 8, 10 or 12) .)
Is contained in the cured film, thereby imparting excellent water repellency, oil repellency and lubricity to the cured film. As a result, the composite effect of (I) to (III) results in 1 on the antireflection film. The appearance after wiping off a water droplet of a mass% NaOH aqueous solution after 30 minutes shows alkali resistance that is the same as the initial appearance, and gives the antireflection film good alkali resistance, scratch resistance and antifouling properties. I found that I can do it.

本発明により得られる被膜の屈折率は低くなるため、本被膜を単独、あるいは更に下層に屈折率の高い層を光学膜厚で設定することにより、反射防止性に優れた被膜を形成することができる。   Since the refractive index of the coating film obtained by the present invention is lowered, it is possible to form a coating film having excellent antireflection properties by setting the coating film alone or further by setting a layer having a high refractive index in the lower layer as an optical film thickness. it can.

また、アルカリ物質の攻撃に弱いQ単位を実質的に含まず、シロキサン結合及び短鎖で剛直な含フッ素アルキレン基でネットワークを構成することにより、架橋密度を高くし、同時にF原子を特定比率以上に含有する被膜にすると、強い耐アルカリ性を示すことを新たに見出した。表面の汚染を洗滌する場合、アルカリ性の強い洗滌剤を使用しても安心して使うことができる。   In addition, it contains substantially no Q units that are vulnerable to attack by alkaline substances, and the network is composed of siloxane bonds and short-chain rigid fluorine-containing alkylene groups, thereby increasing the crosslink density and at the same time increasing the F atoms to a specific ratio or more. It has been newly found that when it is made into a coating film, it exhibits strong alkali resistance. When cleaning surface contamination, it is safe to use a strong alkaline cleaning agent.

フッ素含有アルキレン鎖長を短くすることにより架橋密度を高くし、F原子を特定比率以上に含有することで表面に潤滑性を付与することにより、硬化被膜は優れた耐擦傷性及び防汚性を示すことも見出した。   By shortening the fluorine-containing alkylene chain length, the crosslink density is increased, and by adding F atoms in a specific ratio or more to impart lubricity to the surface, the cured film has excellent scratch resistance and antifouling properties. I also found out.

そして、上記のことから、これらの特性に欠けるプラスチック基材等の保護被膜としても有効であり、この硬化被膜は透明性にも優れるので、コンピューター、テレビ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板、透明プラスチックレンズ、各種計器のカバー、自動車、電車の窓ガラス等の撥水性、防汚性、指紋付着防止性、耐擦傷性に優れた反射防止性光学物品あるいはフィルムに適用できること、裏面に、粘着剤層あるいは接着剤層を設けることで、基材の上に本反射防止フィルムあるいは板を接着使用することもできることを見出し、本発明を完成させたものである。   And from the above, it is also effective as a protective coating for plastic substrates and the like lacking in these characteristics, and since this cured coating is also excellent in transparency, various displays such as computers, televisions, plasma displays, and liquid crystal display devices Applicable to anti-reflective optical articles or films with excellent water repellency, anti-fouling properties, anti-fingerprint resistance, and scratch resistance, such as polarizing plates, transparent plastic lenses, covers for various instruments, window windows for automobiles, trains, etc. The inventors have found that the present antireflection film or plate can be adhered and used on a substrate by providing a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer on the back surface, and the present invention has been completed.

なお、本発明者は、特開2004−315712号公報において、耐薬品性に優れた保護コーティング剤として、パーフルオロアルキレン基をスペーサーとして含有するビスシラン化合物を主体とするコーティングを提案しているが、家庭用洗滌剤の性能が向上するに伴い、求められる耐アルカリ性の水準もどんどん高まり、このため更に耐アルカリ性の高い反射防止剤が要望されていたが、本発明はこれに応えたものである。   In addition, the present inventor has proposed a coating mainly composed of a bissilane compound containing a perfluoroalkylene group as a spacer as a protective coating agent excellent in chemical resistance in JP-A-2004-315712. As the performance of household cleaning agents has improved, the level of alkali resistance required has been increasing. For this reason, antireflective agents with higher alkali resistance have been demanded. The present invention responds to this demand.

従って、本発明は下記コーティング剤組成物、光学物品、多層積層体を提供する。
請求項
(1)ビスシラン化合物(A)及び/又はその(部分)加水分解物及び/又はその縮合物と、
m3-mSi−C24(CF2n24−SiR3-mm (A)
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれる同一又は異なってもよい1価炭化水素基、XはOH基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基、アルケノキシ基、ケトオキシム基、アルコキシアルコキシ基又は−NCO基であり、mは2又は3、nは4又は6である。)
(2)パーフルオロアルキル基を含有する有機ケイ素化合物(B)及び/又はその(部分)加水分解物及び/又はその縮合物
F(CF2a24−SiR3-bb (B)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、aは4,6,8,10又は12であり、bは2又は3である。)
からなる混合物、又は成分(1)及び(2)の混合物を共(部分)加水分解・縮合したものを主成分として含有し、成分(1)と(2)の合計質量に対して、成分(2)の含有率が42〜70質量%であり、更に、(3)下記平均組成式(C)で表される有機ケイ素化合物
[R 3 Si−(O−R 2 Si−) c −Y−] p q SiX r (4-p-q-r)/2 (C)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、Yは−O−又は炭素数2〜10のアルキレン基であり、0.01≦p<1、0≦q<1、0.5≦r<3、1<p+q+r<4、cは1〜100である。)
を添加してなることを特徴とする耐アルカリ性に優れる反射防止膜形成用コーティング剤組成物。
請求項
更に、含ケイ素系又は含フッ素系界面活性剤を添加したことを特徴とする請求項記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物。
請求項
アルキルシリケート、エポキシ官能性シラン、(メタ)アクリル官能性シラン、メルカプト官能性シラン、アミノ官能性シラン及びこれらの(部分)加水分解物を、成分(1),(2)の有機ケイ素化合物の混合物中又はその共(部分)加水分解・縮合物中に1質量%以上含まないことを特徴とする請求項1又は2記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物。
請求項
溶媒をコーティング剤組成物中50〜99質量%含むことを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の耐アルカリ性に優れる反射防止膜形成用コーティング剤組成物。
請求項
合成樹脂製透明基材の最外層に、請求項乃至のいずれか1項記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物の硬化被膜を反射防止膜として形成した被覆光学物品。
請求項
合成樹脂製透明基材と反射防止膜の間に、基材より高屈折率な被膜及び/又は耐擦傷性保護層を設けることを特徴とする請求項記載の被覆光学物品。
請求項
高屈折率被膜中に、少なくともTi,Sn,Ce,Al,Zr,In,Feから選ばれる原子を含有する金属酸化物ゾルを含有することを特徴とする請求項記載の被覆光学物品。
請求項
合成樹脂が、ポリカーボネート系樹脂、ポリアルキレンテレフタレート系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂から選ばれるものであることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品。
請求項
透明基材が、フィルム状又は板状であることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品。
請求項10
請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品の透明基材側に、更に粘着剤又は接着剤層を設け、更にその上に剥離膜を積層することを特徴とする多層積層体。
Accordingly, the present invention provides lower Kiko computing compositions, optical articles, the multilayer stack.
Claim 1 :
(1) a bissilane compound (A) and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate;
X m R 3-m Si- C 2 H 4 (CF 2) n C 2 H 4 -SiR 3-m X m (A)
(Wherein R is the same or different monovalent hydrocarbon group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group, X is an OH group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, acyloxy A group, an alkenoxy group, a ketoxime group, an alkoxyalkoxy group or an —NCO group, m is 2 or 3, and n is 4 or 6.)
(2) Organosilicon compound (B) containing a perfluoroalkyl group and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate F (CF 2 ) a C 2 H 4 —SiR 3-b X b ( B)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, a is 4, 6, 8, 10 or 12, and b is 2 or 3.)
Or a mixture of components (1) and (2) that is co- (partially) hydrolyzed / condensed as a main component, with respect to the total mass of components (1) and (2), content of 42-70% by mass of 2) is, further, (3) an organosilicon compound represented by the following average composition formula (C)
[R 3 Si— (O—R 2 Si—) c —Y—] p R q SiX r O (4-pqr) / 2 (C)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, Y is —O— or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and 0.01 ≦ p <1, 0 ≦ q <1, 0.5. ≦ r <3, 1 <p + q + r <4, c is 1 to 100)
An antireflection film-forming coating agent composition having excellent alkali resistance, characterized by comprising
Claim 2 :
Further, the silicon-based or fluorine-based surfactant characterized in that the addition of claim 1 for forming an antireflective film coating composition.
Claim 3 :
Alkyl silicates, epoxy functional silanes, (meth) acryl functional silanes, mercapto functional silanes, amino functional silanes and their (partial) hydrolysates, mixtures of organosilicon compounds of components (1) and (2) The coating composition for forming an antireflective film according to claim 1 or 2 , wherein the composition is not contained in 1% by mass or more in or in a co- (partial) hydrolysis / condensate thereof.
Claim 4 :
The coating agent composition for forming an antireflection film excellent in alkali resistance according to any one of claims 1 to 3 , wherein the solvent is contained in an amount of 50 to 99% by mass in the coating agent composition.
Claim 5 :
The coated optical article which formed in the outermost layer of the synthetic resin transparent base material the cured film of the coating agent composition for antireflection film formation of any one of Claims 1 thru | or 4 as an antireflection film.
Claim 6 :
6. The coated optical article according to claim 5, wherein a coating film and / or a scratch-resistant protective layer having a higher refractive index than the base material is provided between the synthetic resin transparent base material and the antireflection film.
Claim 7 :
7. The coated optical article according to claim 6, wherein the high refractive index film contains a metal oxide sol containing atoms selected from at least Ti, Sn, Ce, Al, Zr, In, and Fe.
Claim 8 :
Synthetic resin, polycarbonate resin, polyalkylene terephthalate resin, either an acrylic resin, triacetyl cellulose resin, polystyrene resin, according to claim 5 to 7, characterized in that those selected from the polyolefin resin The coated optical article according to claim 1.
Claim 9 :
The coated optical article according to any one of claims 5 to 8 , wherein the transparent substrate is in the form of a film or a plate.
Claim 10 :
A multilayer laminate comprising a coated optical article according to any one of claims 5 to 9 further provided with a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer on the transparent substrate side, and a release film further laminated thereon.

なお、本発明において、(部分)加水分解は、部分加水分解又は完全加水分解であることを示す。   In the present invention, (partial) hydrolysis indicates partial hydrolysis or complete hydrolysis.

本発明の反射防止膜及びこれが表面に形成された物品は、耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れたものであり、本発明に係るコーティング剤組成物によれば、このような反射防止膜を良好に形成することができる。   The antireflection film of the present invention and the article on which the antireflection film is formed have excellent alkali resistance, scratch resistance and antifouling properties. According to the coating composition according to the present invention, such antireflection A film can be formed satisfactorily.

本発明に係る反射防止膜は、合成樹脂製透明基材の最外層に設けられた(F原子及びSi原子)を含む3次元架橋された反射防止膜であり、
(I)架橋構造は、Si−O−Si結合、及びSi−C24−(CF2n−C24−Si結合(但し、nは4又は6である。)で構成されており、
(II)反射防止被膜中のF原子とSi原子の比率が、F/Si=8.0〜10.0(モル比)であり、
(III)Siに結合する全1価有機置換基中、下記構造で示されるパーフルオロアルキル基を90〜100モル%含有する
−C24−(CF2aF(但し、aは4,6,8,10又は12である。)
ことを特徴とする。この反射防止膜は、耐アルカリ性に優れ、特に反射防止膜上に、1質量%NaOH水溶液の水滴を載せ、30分経過後、拭き取った後の外観が、初期の外観と変わらない耐アルカリ性を示し得る。
The antireflection film according to the present invention is a three-dimensionally cross-linked antireflection film containing (F atoms and Si atoms) provided on the outermost layer of a synthetic resin transparent substrate,
(I) The crosslinked structure is composed of Si—O—Si bonds and Si—C 2 H 4 — (CF 2 ) n —C 2 H 4 —Si bonds (where n is 4 or 6). And
(II) The ratio of F atoms to Si atoms in the antireflection coating is F / Si = 8.0 to 10.0 (molar ratio),
(III) the total monovalent organic substituents attached to Si, -C 2 H 4 containing 90 to 100 mol% of the perfluoroalkyl group represented by the following structural - (CF 2) a F (provided that, a 4 , 6, 8, 10 or 12.)
It is characterized by that. This anti-reflective film is excellent in alkali resistance, and in particular, the appearance after wiping off a water droplet of 1% by weight NaOH aqueous solution on the anti-reflective film after 30 minutes has shown alkali resistance that is the same as the initial appearance. obtain.

架橋構造は、Si−O−Si結合と、Si−C24−(CF2n−C24−Si結合(但し、nは4又は6である。)で構成するが、スペーサー部分(−C24−(CF2n−C24−)としては、−C24−(CF24−C24−、−C24−(CF26−C24−のいずれかがよい。これにより、鎖長が長くなると、架橋密度が疎になり、その結果被膜が十分な強度を得られなくなるので、良好な耐擦傷性が得られなくなる。また、フッ素化ポリエーテル鎖を用いると、スペーサー部分が剛直でなくなるため、逆に耐擦傷性が低下する。 The crosslinked structure is composed of a Si—O—Si bond and a Si—C 2 H 4 — (CF 2 ) n —C 2 H 4 —Si bond (where n is 4 or 6). As the moiety (—C 2 H 4 — (CF 2 ) n —C 2 H 4 —), —C 2 H 4 — (CF 2 ) 4 —C 2 H 4 —, —C 2 H 4 — (CF 2 ) Any of 6- C 2 H 4- is preferable. As a result, when the chain length becomes long, the crosslink density becomes sparse, and as a result, the coating film cannot obtain sufficient strength, so that good scratch resistance cannot be obtained. On the other hand, when a fluorinated polyether chain is used, the spacer portion is not rigid, and conversely, the scratch resistance is lowered.

反射防止被膜中のF原子とSi原子の比率(モル比)は、F/Si=8.0〜10.0、好ましくは8.0〜9.8の範囲を満たすのがよい。この範囲の下限より小さいと、フッ素含有率が低くなりすぎ、良好な耐アルカリ性が得られず、この範囲の上限より大きいと、F原子を含む有機置換基あるいはスペーサー部分が長くなるため、硬化被膜が柔軟になり、良好な耐擦傷性が得られない。   The ratio (molar ratio) between F atoms and Si atoms in the antireflection coating should satisfy the range of F / Si = 8.0 to 10.0, preferably 8.0 to 9.8. If it is smaller than the lower limit of this range, the fluorine content is too low to obtain good alkali resistance, and if it is larger than the upper limit of this range, the organic substituent or the spacer part containing F atoms becomes longer, so that the cured film Becomes soft and good scratch resistance cannot be obtained.

また、Siに結合する全1価有機置換基中、−C24−(CF2aF(但し、aは4,6,8,10又は12である。)で示されるパーフルオロアルキル基を90〜100モル%含有すると、硬化被膜に優れた撥水性及び潤滑性を与えることができるため、優れた耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性が得られるので好ましい。この下限より少ないと、耐アルカリ性が不足する。パーフルオロアルキル基の鎖長を決定するaの値は、4〜12の範囲を満たすのがよい。これより小さいと、十分な撥水性が得られず、良好な耐アルカリ性が達成できず、これより長い鎖長の場合、硬化被膜が柔軟になり、良好な耐擦傷性が得られない。また、シラン化合物の沸点が著しく上昇する結果、精製が難しくなり、経済的にも不利となる。なお、Siに結合する上記パーフルオロアルキル基以外の有機置換基としては、炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、パーフルオロポリエーテル基などが挙げられる。 Further, among all monovalent organic substituents bonded to Si, perfluoroalkyl represented by —C 2 H 4 — (CF 2 ) a F (where a is 4, 6, 8, 10 or 12). When the group is contained in an amount of 90 to 100 mol%, the cured film can be provided with excellent water repellency and lubricity, so that excellent alkali resistance, scratch resistance and antifouling properties can be obtained. If it is less than this lower limit, the alkali resistance is insufficient. The value of a that determines the chain length of the perfluoroalkyl group should satisfy the range of 4-12. If it is smaller than this, sufficient water repellency cannot be obtained, and good alkali resistance cannot be achieved. If the chain length is longer than this, the cured film becomes flexible and good scratch resistance cannot be obtained. Further, the boiling point of the silane compound is remarkably increased, so that purification becomes difficult and economically disadvantageous. Examples of the organic substituent other than the perfluoroalkyl group bonded to Si include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoropolyether group.

上記諸事情を満たせば、得られる反射防止膜は、下記の耐アルカリ試験を実施しても、優れた耐アルカリ性を示す。即ち、本反射防止膜上に、1質量%NaOH水溶液の水滴を載せ、30分経過後、拭き取った後の外観が、微白色のスポットが形成されず、初期の外観と変わらない。また、F/Si範囲、含F置換基含有率比の条件を満たせば、反射防止膜の屈折率は、1.40以下になり、良好な反射防止性能が得られる。   If the above circumstances are satisfied, the obtained antireflection film exhibits excellent alkali resistance even when the following alkali resistance test is performed. That is, a water droplet of a 1% by weight NaOH aqueous solution is placed on the antireflection film, and after 30 minutes, the appearance after wiping is not formed with a faint white spot, which is the same as the initial appearance. Further, if the conditions of the F / Si range and the F-containing substituent content ratio are satisfied, the refractive index of the antireflection film becomes 1.40 or less, and good antireflection performance can be obtained.

更に、反射防止膜中に後述する片末端封鎖ジオルガノポリシロキサン鎖含有成分を加えると、相溶性に乏しい同シロキサン鎖部分は硬化前に表面に移行し、硬化時に固定されるため、硬化被膜に優れた潤滑性と防汚性を付与することができ、反射防止膜の耐擦傷性及び防汚性を向上させることができる。   Furthermore, when one end-capped diorganopolysiloxane chain-containing component, which will be described later, is added to the antireflection film, the siloxane chain portion having poor compatibility moves to the surface before curing and is fixed at the time of curing. Excellent lubricity and antifouling properties can be imparted, and the anti-scratch and antifouling properties of the antireflection film can be improved.

また、反射防止膜中にQ(SiZ4単位)単位を含有すると、Q単位がアルカリ成分に対して弱いため、良好な耐アルカリ性が得られ難い。かかる点から、Q単位の含有量はできるだけ低減するのがよく、実質的に含有しないほうがよい。含有する場合でも、全Si原子に対して0〜1モル%未満の量に止めるのがよい。 Further, when the antireflection film contains Q (SiZ 4 unit) units, it is difficult to obtain good alkali resistance because the Q units are weak against alkali components. From this point, the content of the Q unit should be reduced as much as possible, and should not be substantially contained. Even when it is contained, it is preferable to stop the amount to 0 to less than 1 mol% with respect to all Si atoms.

なお、SiZ4において、ZはOH基、炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基、アルケノキシ基又はシロキサン残基を示す。ここで、シロキサン残基とは、シロキサン結合により結合した架橋構造の末端を意味する。 In SiZ 4 , Z represents an OH group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an acyloxy group, an alkenoxy group, or a siloxane residue. Here, the siloxane residue means an end of a crosslinked structure bonded by a siloxane bond.

次に、上記反射防止膜を形成するためのコーティング剤について説明すると、このコーティング剤組成物は、
(1)ビスシラン化合物(A)及び/又は、その(部分)加水分解物及び/又はその縮合物と、
m3-mSi−C24(CF2n24−SiR3-mm (A)
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれる同一又は異なってもよい1価炭化水素基、XはOH基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基、アルケノキシ基、ケトオキシム基、アルコキシアルコキシ基又は−NCO基であり、mは2又は3、nは4又は6である。)
(2)パーフルオロアルキル基を含有する有機ケイ素化合物(B)及び/又はその(部分)加水分解物及び/又はその縮合物
F(CF2a24−SiR3-bb (B)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、aは4,6,8,10又は12であり、bは2又は3である。)
からなる混合物、又は成分(1)及び(2)の混合物を共(部分)加水分解・縮合したものを主成分として含有し、成分(1)と(2)の合計質量に対して、成分(2)の含有率が42〜70質量%であることを特徴とする。
Next, the coating agent for forming the antireflection film will be described.
(1) a bissilane compound (A) and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate;
X m R 3-m Si- C 2 H 4 (CF 2) n C 2 H 4 -SiR 3-m X m (A)
(Wherein R is the same or different monovalent hydrocarbon group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group, X is an OH group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, acyloxy A group, an alkenoxy group, a ketoxime group, an alkoxyalkoxy group or an —NCO group, m is 2 or 3, and n is 4 or 6.)
(2) Organosilicon compound (B) containing a perfluoroalkyl group and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate F (CF 2 ) a C 2 H 4 —SiR 3-b X b ( B)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, a is 4, 6, 8, 10 or 12, and b is 2 or 3.)
Or a mixture of components (1) and (2) that is co- (partially) hydrolyzed / condensed as a main component, with respect to the total mass of components (1) and (2), The content of 2) is 42 to 70% by mass.

ここで、成分(1)のビスシラン化合物(A)である、
m3-mSi−C24(CF2n24−SiR3-mm (A)
において、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれる同一あるいは異なってもよい1価炭化水素基を表す。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基等を例示することができる。Xは、OH基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基、アルケノキシ基、ケトオキシム基、アルコキシアルコキシ基又は−NCO基を表す。具体的には、OH基、Cl等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、イソプロペノキシ基等のアルケノキシ基、アセトキシ基等のアシルオキシ基、メチルエチルケトオキシム基等のケトオキシム基、メトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、−NCO基等を挙げることができる。メトキシ基、エトキシ基のシラン化合物が取り扱いやすく、加水分解時の反応の制御もしやすいため、好ましい。シロキサン架橋可能な基Xの個数を示すmは、2又は3が好ましい。架橋密度を上げて、耐擦傷性を良好なレベルにするためには、m=3とするのがよい。
Here, it is the bissilane compound (A) of the component (1).
X m R 3-m Si- C 2 H 4 (CF 2) n C 2 H 4 -SiR 3-m X m (A)
In the formula, R represents a monovalent hydrocarbon group which may be the same or different and is selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and a phenyl group. X represents an OH group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an acyloxy group, an alkenoxy group, a ketoxime group, an alkoxyalkoxy group or an —NCO group. Specifically, halogen atoms such as OH group and Cl, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group and butoxy group, alkenoxy groups such as isopropenoxy group, acyloxy groups such as acetoxy group, methyl ethyl ketoxime Examples thereof include a ketoxime group such as a group, an alkoxyalkoxy group such as a methoxyethoxy group, and a —NCO group. A methoxy group or an ethoxy group silane compound is preferable because it is easy to handle and can easily control the reaction during hydrolysis. M indicating the number of siloxane crosslinkable groups X is preferably 2 or 3. In order to increase the crosslink density and achieve a good level of scratch resistance, m = 3 is preferable.

以上を満たすビスシラン化合物の具体例としては、
(CH3O)3Si−C24−(CF24−C24−Si(OCH33
(CH3O)3Si−C24−(CF26−C24−Si(OCH33
(C25O)3Si−C24−(CF24−C24−Si(OC253
(C25O)3Si−C24−(CF26−C24−Si(OC253
(C37O)3Si−C24−(CF24−C24−Si(OC373
(C37O)3Si−C24−(CF26−C24−Si(OC373
(CH3O)2(CH3)Si−C24−(CF24−C24−Si(CH3)(OCH32
(CH3O)2(CH3)Si−C24−(CF26−C24−Si(CH3)(OCH32
(CH3O)2(C65)Si−C24−(CF24−C24−Si(C65)(OCH32
(CH3O)2(C65)Si−C24−(CF26−C24−Si(C65)(OCH32
が挙げられ、この中でも好ましくは、
(CH3O)3Si−C24−(CF24−C24−Si(OCH33
(CH3O)3Si−C24−(CF26−C24−Si(OCH33
の各ビスシラン化合物を使用するのがよい。
As a specific example of the bissilane compound satisfying the above,
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
(C 2 H 5 O) 3 Si-C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (OC 2 H 5) 3,
(C 2 H 5 O) 3 Si-C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (OC 2 H 5) 3,
(C 3 H 7 O) 3 Si-C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (OC 3 H 7) 3,
(C 3 H 7 O) 3 Si-C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (OC 3 H 7) 3,
(CH 3 O) 2 (CH 3) Si-C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (CH 3) (OCH 3) 2,
(CH 3 O) 2 (CH 3) Si-C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (CH 3) (OCH 3) 2,
(CH 3 O) 2 (C 6 H 5) Si-C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (C 6 H 5) (OCH 3) 2,
(CH 3 O) 2 (C 6 H 5) Si-C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (C 6 H 5) (OCH 3) 2
Among these, preferably,
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 - (CF 2) 4 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 - (CF 2) 6 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3
These bissilane compounds are preferably used.

また、これらビスシラン化合物の部分加水分解物やそれらの縮合物を使用することもできる。   Moreover, the partial hydrolyzate of these bissilane compounds and those condensates can also be used.

次に、ビスシラン化合物(A)と併用する成分(2)のパーフルオロアルキル基を含有する有機ケイ素化合物(B)について説明する。
F(CF2a24−SiR3-bb (B)
パーフルオロアルキル基の鎖長を決定するaは4,6,8,10又は12の値をとるのがよい。この値より短いと、被膜中のF原子の含有率が低くなり、耐アルカリ性が低下するため好ましくない。シロキサン架橋可能な基Xの個数を示すbは2又は3が好ましい。架橋密度を上げて、耐擦傷性を良好なレベルにするためには、b=3とするのがよい。
Next, the organosilicon compound (B) containing the perfluoroalkyl group of the component (2) used in combination with the bissilane compound (A) will be described.
F (CF 2 ) a C 2 H 4 —SiR 3-b X b (B)
It is preferable that a which determines the chain length of the perfluoroalkyl group takes a value of 4, 6, 8, 10 or 12. If it is shorter than this value, the content of F atoms in the coating becomes low and the alkali resistance is lowered, which is not preferable. B representing the number of siloxane crosslinkable groups X is preferably 2 or 3. In order to increase the crosslink density and achieve a good level of scratch resistance, b = 3 is preferable.

以上を満たすF原子置換有機基を含有する有機ケイ素化合物の具体例としては、
CF3(CF2324−Si(OCH33
CF3(CF2324−Si(OC253
CF3(CF2324−Si(CH3)(OCH32
CF3(CF2524−Si(OCH33
CF3(CF2724−Si(OCH33
CF3(CF2724−Si(OC253
CF3(CF2724−Si(CH3)(OCH32
CF3(CF2924−Si(OCH33
CF3(CF21124−Si(OCH33
が挙げられ、この中でも下記のものが特に好ましい。
CF3(CF2724−Si(OCH33
As a specific example of the organosilicon compound containing the F atom-substituted organic group satisfying the above,
CF 3 (CF 2) 3 C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
CF 3 (CF 2) 3 C 2 H 4 -Si (OC 2 H 5) 3,
CF 3 (CF 2) 3 C 2 H 4 -Si (CH 3) (OCH 3) 2,
CF 3 (CF 2) 5 C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
CF 3 (CF 2) 7 C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
CF 3 (CF 2) 7 C 2 H 4 -Si (OC 2 H 5) 3,
CF 3 (CF 2) 7 C 2 H 4 -Si (CH 3) (OCH 3) 2,
CF 3 (CF 2) 9 C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3,
CF 3 (CF 2 ) 11 C 2 H 4 —Si (OCH 3 ) 3
Among these, the following are particularly preferable.
CF 3 (CF 2 ) 7 C 2 H 4 —Si (OCH 3 ) 3

また、これら有機ケイ素化合物の(部分)加水分解物やそれらの(部分)縮合物を使用することもできる。   In addition, (partial) hydrolysates and (partial) condensates of these organosilicon compounds can also be used.

本発明においては、成分(1)と成分(2)の合計質量に対して、成分(2)の含有率を42〜70質量%とする必要がある。成分(2)の含有率が42質量%未満であると、硬化被膜中のフッ素含有率が低くなり、耐アルカリ性が不十分となることがある。70質量%を超えると、架橋密度が低下し、良好な耐擦傷性が得られなくなることがある。より好ましくは成分(2)の含有率が43〜60質量%であるのがよい。   In this invention, it is necessary to make content rate of a component (2) into 42-70 mass% with respect to the total mass of a component (1) and a component (2). When the content of the component (2) is less than 42% by mass, the fluorine content in the cured film is lowered, and the alkali resistance may be insufficient. If it exceeds 70% by mass, the crosslink density may decrease, and good scratch resistance may not be obtained. More preferably, the content rate of a component (2) is 43-60 mass%.

上記ビスシラン化合物及びパーフルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物以外に、求める諸特性に影響を与えない範囲内で、下記化合物を併用することができる。具体的には、テトラエトキシシラン等のシリケート類、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性シラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ官能性シラン類、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリル官能性シラン類、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性シラン類、メチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類、フェニルトリメトキシシラン等のフェニルシラン類、及びこれらの誘導体を挙げることができる。但し、アルキルシリケートは、全有機ケイ素化合物中に1質量%以上含まないことが必要である。エポキシ官能性シラン、(メタ)アクリル官能性シラン、メルカプト官能性シラン、アミノ官能性シラン等の親水性シラン化合物の含有率は、全有機ケイ素化合物中に10質量%以下、特に好ましくは1質量%以下である。水溶性のアルカリ性物質が濡れやすくなり、アルカリ性の攻撃を受け、劣化を起こすため、これ以上配合するのはよくない。アルキルシラン類あるいはフェニルシラン類は、F/Si比率等の前記条件を満たす範囲内で使用するのは問題ない。   In addition to the bissilane compound and the perfluoroalkyl group-containing organosilicon compound, the following compounds can be used in combination as long as they do not affect the required properties. Specifically, silicates such as tetraethoxysilane, epoxy functional silanes such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexyltrimethoxysilane, and amino such as γ-aminopropyltriethoxysilane. Functional silanes, (meth) acrylic functional silanes such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, mercaptofunctional silanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxy Examples thereof include alkylsilanes such as silane and decyltrimethoxysilane, phenylsilanes such as phenyltrimethoxysilane, and derivatives thereof. However, it is necessary that the alkyl silicate is not contained in 1% by mass or more in the total organosilicon compound. The content of hydrophilic silane compounds such as epoxy functional silane, (meth) acryl functional silane, mercapto functional silane, amino functional silane, etc. is 10% by mass or less, particularly preferably 1% by mass in the total organosilicon compound. It is as follows. Since water-soluble alkaline substances are likely to get wet, are subject to alkaline attack and cause deterioration, it is not good to add more. Alkyl silanes or phenyl silanes can be used within a range that satisfies the above conditions such as F / Si ratio.

上記ビスシラン化合物(A)及びパーフルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物(B)は、このままで混合使用してもよいし、(部分)加水分解した形、あるいは下記溶剤中で(部分)加水分解・縮合した形で使用してもよい。コーティング後の硬化速度を高める観点からは、(部分)加水分解・縮合した形で使用する方が好ましい。   The bissilane compound (A) and the perfluoroalkyl group-containing organosilicon compound (B) may be mixed and used as they are, or (partially) hydrolyzed or in the following solvent (partially) hydrolysis / condensation You may use it in the form. From the standpoint of increasing the curing rate after coating, it is preferable to use in a (partial) hydrolyzed / condensed form.

この場合、上記化合物(A),(B)それぞれの(部分)加水分解物又はその縮合物を混合使用するようにしてもよく、また、上記化合物(A),(B)を共(部分)加水分解・縮合したものでもよい。   In this case, the (part) hydrolyzate or condensate of each of the compounds (A) and (B) may be mixed and used, and the compounds (A) and (B) may be used together (partially). It may be hydrolyzed and condensed.

なお、加水分解に使用する水の量は、(H2O/Si−X)のモル比が0.1〜10の量比で使用するのがよい。 The amount of water used in the hydrolysis, it is preferable to use a molar ratio of 0.1 to 10 ratio of (H 2 O / Si-X ).

加水分解・縮合は、従来公知の方法を適用することができ、加水分解用触媒あるいは加水分解・縮合硬化用触媒として、塩酸、硝酸、酢酸、マレイン酸等の酸類、NaOH、アンモニア、トリエチルアミン、ジブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ジブチルアミン等のアミン化合物、及びアミン化合物の塩類、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩等の塩基類、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムのようなフッ化塩、固体酸性触媒あるいは固体塩基性触媒(例えばイオン交換樹脂触媒など)、鉄−2−エチルヘキソエート、チタンナフテート、亜鉛ステアレート、ジブチル錫ジアセテートなどの有機カルボン酸の金属塩、テトラブトキシチタン、テトラ−i−プロポキシチタン、ジブトキシ−(ビス−2,4−ペンタンジオネート)チタン、ジ−i−プロポキシ(ビス−2,4−ペンタンジオネート)チタンなどの有機チタンエステル、テトラブトキシジルコニウム、テトラ−i−プロポキシジルコニウム、ジブトキシ−(ビス−2,4−ペンタンジオネート)ジルコニウム、ジ−i−プロポキシ(ビス−2,4−ペンタンジオネート)ジルコニウムなどの有機ジルコニウムエステル、アルミニウムトリイソプロポキシド等のアルコキシアルミニウム化合物、アルミニウムアセチルアセトナート錯体等のアルミニウムキレート化合物等の有機金属化合物、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノアルキル置換アルコキシシラン等を単独で又は混合して使用してもよい。   For the hydrolysis / condensation, a conventionally known method can be applied. As a hydrolysis catalyst or hydrolysis / condensation curing catalyst, acids such as hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, maleic acid, NaOH, ammonia, triethylamine, Amine compounds such as butylamine, hexylamine, octylamine, dibutylamine, and salts of amine compounds, bases such as quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide, potassium fluoride, sodium fluoride Organic carboxylic acids such as fluoride salts, solid acidic catalysts or solid basic catalysts (such as ion exchange resin catalysts), iron-2-ethylhexoate, titanium naphthate, zinc stearate, dibutyltin diacetate Metal salts, tetrabutoxy titanium, tetra-i Organic titanium esters such as propoxytitanium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) titanium, di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) titanium, tetrabutoxyzirconium, tetra-i-propoxy Organic zirconium esters such as zirconium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) zirconium, di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) zirconium, and alkoxyaluminum compounds such as aluminum triisopropoxide , Organometallic compounds such as aluminum chelate compounds such as aluminum acetylacetonate complex, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxy Silane, aminoalkyl-substituted alkoxysilanes such as N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, etc. may be used alone or in combination.

この触媒の添加量は、化合物(A)又は(B)100質量部に対し、0.01〜10質量部、好ましくは0.1〜5質量部である。この量が0.01質量部よりも少ないと、反応完結までに時間がかかりすぎたり、反応が進行しない場合がある。また、10質量部より多いと、コスト的に不利であり、得られる組成物あるいは硬化物が着色してしまったり、副反応が多くなったりすることがある。   The addition amount of this catalyst is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of compounds (A) or (B), Preferably it is 0.1-5 mass parts. If this amount is less than 0.01 parts by mass, it may take too long to complete the reaction or the reaction may not proceed. On the other hand, when the amount is more than 10 parts by mass, it is disadvantageous in cost, and the resulting composition or cured product may be colored or side reactions may increase.

本組成物は、溶剤により希釈され、使用することができる。この溶剤としては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸エチル等のエステル類、キシレン、トルエン等が挙げられる。   This composition can be diluted with a solvent and used. As this solvent, alcohols such as methanol, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl Ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether acetate, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and acetyl acetone, ethyl acetate , Esters such as butyl acetate and ethyl acetoacetate, xylene, Etc. The.

溶剤の添加量は任意であるが、塗装のしやすさ、コーティング膜厚の制御のしやすさ、及びコーティング液の安定性を考慮すれば、コーティング液中の溶剤の含有量は、50〜99質量%であるのが好ましく、特に好ましくは70〜98質量%である。   The addition amount of the solvent is arbitrary, but considering the ease of painting, the ease of controlling the coating film thickness, and the stability of the coating solution, the content of the solvent in the coating solution is 50 to 99. It is preferable that it is mass%, Most preferably, it is 70-98 mass%.

更に、本発明のコーティング剤組成物には、含ケイ素系又は含フッ素系界面活性剤を添加してもよい。具体的には、各種ポリエーテル変性シリコーン化合物、及び住友スリーエム(株)製(商品名:フルオラード)、デュポン社製(フルオロアルキルポリエーテル)、旭硝子(株)製(商品名:サーフロン)から販売されている各種含フッ素系界面活性剤を挙げることができる。添加量は、コーティング剤中の固形分に対して0.01〜10質量%の範囲であればよい。上記界面活性剤は、塗装時のレベリング性を確保するのに有効である。   Furthermore, a silicon-containing or fluorine-containing surfactant may be added to the coating agent composition of the present invention. Specifically, various polyether-modified silicone compounds and products manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd. (trade name: Fluorard), DuPont (fluoroalkyl polyether), and Asahi Glass Co., Ltd. (trade name: Surflon) are sold. And various fluorine-containing surfactants. The addition amount may be in the range of 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content in the coating agent. The surfactant is effective for ensuring leveling properties during coating.

本発明のコーティング剤組成物には、下記平均組成式(C)
[R3Si−(O−R2Si−)c−Y−]pqSiXr(4-p-q-r)/2 (C)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、Yは−O−又は炭素数2〜10のアルキレン基であり、0.01≦p<1、0≦q<1、0.5≦r<3、1<p+q+r<4、cは1〜100である。)
で表される片末端封鎖ポリジアルキルシロキサン鎖含有有機ケイ素化合物を添加することが好ましい。
In the coating agent composition of the present invention, the following average composition formula (C)
[R 3 Si— (O—R 2 Si—) c —Y—] p R q SiX r O (4-pqr) / 2 (C)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, Y is —O— or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and 0.01 ≦ p <1, 0 ≦ q <1, 0.5. ≦ r <3, 1 <p + q + r <4, c is 1 to 100)
It is preferable to add a one-end-capped polydialkylsiloxane chain-containing organosilicon compound represented by:

この化合物は、F原子を高含有するコーティング剤本体とは完全には相溶せず、コーティング剤中の溶剤が揮発した時点で相分離、表面にブリードアウトし、片末端に反応性シリル基を含有しているため、硬化表面に固定され、耐久性のあるレベリング性、防汚性あるいは潤滑性を付与できるものである。ここで、Yは、片末端封鎖ジオルガノポリシロキサン基を加水分解性基を有するオリゴマー状有機ケイ素化合物に結合させるためのスペーサー基を示す。Yの具体例としては、エーテル性酸素(この場合、シロキサン結合を意味する)、−(CH22−、−(CH26−、−(CH28−、−(CH210−、−(CH22−C64−(CH22−、−(CH22−C610−等を挙げることができる。経済的有利性からエーテル性酸素、あるいは−(CH22−が好ましく、特に耐光性を求める場合には、全ての基本骨格がシロキサン結合で形成されているエーテル性酸素であるのが好ましい。 This compound is not completely compatible with the coating agent main body containing a high amount of F atoms, phase separation occurs when the solvent in the coating agent volatilizes, bleeds out to the surface, and a reactive silyl group is formed at one end. Since it contains, it is fixed to the cured surface and can impart durable leveling, antifouling or lubricating properties. Here, Y represents a spacer group for bonding one end-capped diorganopolysiloxane group to an oligomeric organosilicon compound having a hydrolyzable group. Specific examples of Y include etheric oxygen (in this case, meaning a siloxane bond), — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 6 —, — (CH 2 ) 8 —, — (CH 2 ). 10 -, - (CH 2) 2 -C 6 H 4 - (CH 2) 2 -, - (CH 2) 2 -C 6 H 10 - , and the like. Etheric oxygen or — (CH 2 ) 2 — is preferable from the economical advantage, and particularly when light resistance is required, etheric oxygen in which all basic skeletons are formed by siloxane bonds is preferable.

片末端封鎖ジオルガノポリシロキサン基の置換度を表すpは、0.01≦p<1の範囲を満たすのがよい。pが0.01未満では十分な潤滑性、防汚性が得られないことがあり、1以上では硬化性が悪くなることがある。特に好ましくは、0.02≦p≦0.7を満たすのがよい。   P representing the degree of substitution of the one-end blocked diorganopolysiloxane group should satisfy the range of 0.01 ≦ p <1. If p is less than 0.01, sufficient lubricity and antifouling properties may not be obtained, and if it is 1 or more, curability may be deteriorated. Particularly preferably, 0.02 ≦ p ≦ 0.7 is satisfied.

qは置換基Rの置換度を示し、0≦q<1の範囲を満たすのがよい。1以上では、硬化被膜の架橋可能な基Xの数が減少し、耐久性が劣ることがある。特に好ましくは0≦q≦0.7を満たすのがよい。   q represents the degree of substitution of the substituent R, and preferably satisfies the range of 0 ≦ q <1. When the number is 1 or more, the number of crosslinkable groups X in the cured coating film is decreased, and durability may be inferior. Particularly preferably, 0 ≦ q ≦ 0.7 is satisfied.

rは、OH基あるいは加水分解性基の置換度を表し、0.5≦r<3の範囲を満たすのがよい。0.5未満では、架橋可能な基Xの数が減少し、耐久性が劣ることがある。3以上では、実質的には有機ケイ素化合物のモノマーを意味し、片末端封鎖ジオルガノポリシロキサン基が処理表面で上手く外側に配向せず、良好な防汚性が得られないことがある。特に好ましくは、1≦r≦2.5を満たすのがよい。   r represents the degree of substitution of the OH group or hydrolyzable group, and preferably satisfies the range of 0.5 ≦ r <3. If it is less than 0.5, the number of crosslinkable groups X decreases, and durability may be inferior. When it is 3 or more, it means substantially a monomer of an organosilicon compound, and the one-end-capped diorganopolysiloxane group is not well oriented outward on the treated surface, and good antifouling properties may not be obtained. Particularly preferably, 1 ≦ r ≦ 2.5 is satisfied.

また、p+q+rは、1<p+q+r<4であるが、好ましくは2<p+q+r≦3、特に好ましくは2.1≦p+q+r≦2.7である。   Further, p + q + r is 1 <p + q + r <4, preferably 2 <p + q + r ≦ 3, and particularly preferably 2.1 ≦ p + q + r ≦ 2.7.

ジオルガノシロキシ単位の重合度を表すcは1〜100の範囲を満たすのがよい。cが1未満では、ジオルガノシロキサン鎖長が短くて十分な防汚性が得られない。cが100を超過すると、処理時に表面での配向が上手く進行しないため、満足すべき防汚性が得られず、また表面固定も十分とはいえず、耐久性も不足する。より好ましくは、cが1〜50の範囲を満たすのがよい。
この材料の添加量は、コーティング剤中の固形分に対して、0.01〜10質量%の範囲であればよい。
C representing the degree of polymerization of the diorganosiloxy unit should satisfy the range of 1-100. If c is less than 1, the diorganosiloxane chain length is short and sufficient antifouling property cannot be obtained. When c exceeds 100, the orientation on the surface does not proceed well at the time of processing, so that satisfactory antifouling properties cannot be obtained, surface fixing is not sufficient, and durability is insufficient. More preferably, c satisfies the range of 1-50.
The addition amount of this material should just be the range of 0.01-10 mass% with respect to solid content in a coating agent.

更に、本発明のコーティング剤組成物には、被膜の硬度、耐擦傷性を向上させることを目的として、無機酸化物微粒子、特に水あるいは有機溶媒に分散させたシリカ、あるいは中空状シリカゾルを配合してもよい。この中で、平均一次粒子径が0.001〜0.1μmであるものが好ましく、更に好ましくは0.001〜0.08μmとされる。平均一次粒子径が0.1μmを超える場合には、調製される組成物によって形成される硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。これらの無機酸化物微粒子は、その表面をシラン系、チタン系、アルミニウム系、あるいはジルコニウム系カップリング剤等の有機金属化合物で処理したものを使用してもよい。無機酸化物微粒子の添加量としては、上記成分(1),(2)の合計量100質量部当たり、固形分換算で0〜30質量部であり、好ましくは0.1〜10質量部である。   Further, the coating agent composition of the present invention is blended with inorganic oxide fine particles, particularly silica dispersed in water or an organic solvent, or a hollow silica sol for the purpose of improving the hardness and scratch resistance of the film. May be. Among these, those having an average primary particle diameter of 0.001 to 0.1 μm are preferable, and more preferably 0.001 to 0.08 μm. When the average primary particle diameter exceeds 0.1 μm, the transparency of the cured film formed by the prepared composition tends to decrease. As these inorganic oxide fine particles, those whose surfaces are treated with an organometallic compound such as a silane-based, titanium-based, aluminum-based, or zirconium-based coupling agent may be used. As addition amount of inorganic oxide fine particles, it is 0-30 mass parts in conversion of solid content per 100 mass parts of total amounts of the said component (1), (2), Preferably it is 0.1-10 mass parts. .

上記方法にて得られた本発明のコーティング剤組成物に、更に有機系及び無機系の紫外線吸収剤、系内のpHをシラノール基が安定に存在しやすいpH2〜7に制御するための緩衝剤、例えば、酢酸−酢酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム−クエン酸などの任意成分が含まれていてもよい。   The coating agent composition of the present invention obtained by the above method, further includes an organic and inorganic ultraviolet absorber, and a buffer for controlling the pH in the system to pH 2 to 7 where silanol groups are likely to exist stably. For example, optional components such as acetic acid-sodium acetate and disodium hydrogen phosphate-citric acid may be contained.

本発明によるコーティング剤組成物によって基材表面に形成される反射防止膜の膜厚は、通常0.01〜0.5μmに制御するのがよい。特に、0.1μm程度の光学膜厚に調整すると、良好な反射防止性が得られる。本組成物を基材表面にコーティングする方法としては、ディッピング法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法など特に限定されるものではないが、膜厚の制御を容易に行うことができることから、ディッピング法、スプレー法及びロールコート法で所定の膜厚になるように行うのが好ましい。   The film thickness of the antireflection film formed on the substrate surface by the coating agent composition according to the present invention is usually preferably controlled to 0.01 to 0.5 μm. Particularly, when the optical film thickness is adjusted to about 0.1 μm, good antireflection properties can be obtained. The method for coating the surface of the composition with the composition is not particularly limited, such as a dipping method, a spin coating method, a flow coating method, a roll coating method, a spray coating method, or a screen printing method. Therefore, it is preferable to carry out the film thickness to a predetermined thickness by a dipping method, a spray method and a roll coating method.

なお、本発明のコーティング剤組成物の硬化は、加熱硬化させる条件として室温〜150℃×1分〜10時間、好ましくは60℃〜120℃×10分〜2時間とすることができる。   In addition, hardening of the coating agent composition of this invention can be made into room temperature-150 degreeC x 1 minute-10 hours, Preferably it is 60 degreeC-120 degreeC x 10 minutes-2 hours as conditions to heat-harden.

本コーティング剤を合成樹脂製透明基材に塗装するが、この場合、合成樹脂の具体例としては、光学的特性に優れるものであれば全て適用可能であるが、ポリカーボネート系樹脂、PET等のポリアルキレンテレフタレート樹脂、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアリレート等の液晶性樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、トリメチルペンテン、ポリビニルノルボルネン等のポリオレフィン樹脂、及びこれらの複合化樹脂を例示することができるが、これに限定されるものではない。特に好ましくは、ポリカーボネート系樹脂、PET等のポリアルキレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、アクリル系樹脂である。透明基材は、成型部品、板状、フィルム状のいずれでもよい。塗装の作業性の容易さから、フィルム状のものがより好ましい。   The coating agent is applied to a transparent base made of synthetic resin. In this case, as specific examples of the synthetic resin, any resin having excellent optical characteristics can be applied. Alkylene terephthalate resin, cellulose resin such as diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, triacetyl cellulose, acrylic resin, polystyrene resin, polyimide resin, polyester resin, polyether sulfone resin, polyarylate liquid crystal resin, polyurethane resin Polyolefin resins such as polysulfone resin, polyether ketone resin, trimethylpentene, and polyvinyl norbornene, and composite resins thereof can be exemplified, but are not limited thereto. Particularly preferred are polycarbonate resins, polyalkylene terephthalate resins such as PET, triacetyl cellulose resins, and acrylic resins. The transparent substrate may be a molded part, a plate shape, or a film shape. From the viewpoint of ease of painting work, a film-like one is more preferable.

本発明によるコーティング剤組成物によって、基材表面に形成される硬化被膜上に、各種撥油性防汚被膜を更に積層してもよい。特に、本発明による反射防止性部品を使用する際に付着する指紋等の油汚れの付着防止、付着した汚れを容易に除去することを目的に、撥油性防汚被膜を設けることができる。   With the coating composition according to the present invention, various oil-repellent antifouling coatings may be further laminated on the cured coating formed on the substrate surface. In particular, an oil-repellent antifouling coating can be provided for the purpose of preventing adhesion of oil stains such as fingerprints attached when using the antireflective component according to the present invention and for easily removing the attached stains.

本発明のコーティング剤を塗装・被覆した透明基材を、優れた耐擦傷性及び耐薬品性を備えた反射防止性部品として使用する際、別の透明基材に貼り付けて使用することも可能である。他の基材に貼付して使用するために、基材のコーティング剤を被覆した側と反対側に、従来公知のアクリル系、エポキシ系、ポリイミド系、あるいはシリコーン系接着剤、感圧接着剤を設けてもよい。特にアクリル系、シリコーン系のものが好ましい。   When using a transparent base material coated and coated with the coating agent of the present invention as an anti-reflective part with excellent scratch resistance and chemical resistance, it is also possible to attach it to another transparent base material. It is. In order to use it by sticking it to other base materials, a conventionally known acrylic, epoxy, polyimide, or silicone adhesive or pressure sensitive adhesive is applied to the side opposite to the side coated with the coating agent. It may be provided. Particularly preferred are acrylic and silicone materials.

この接着剤層の膜厚は1〜500μmの範囲であればよい。薄すぎると良好な接着力が得られず、厚すぎると経済的に不利となることがある。更にこの上に剥離層として表面保護用の保護プラスチックシートを設けてもよい。   The film thickness of the adhesive layer may be in the range of 1 to 500 μm. If it is too thin, good adhesive strength cannot be obtained, and if it is too thick, it may be economically disadvantageous. Further, a protective plastic sheet for surface protection may be provided thereon as a release layer.

本発明の光学物品においては、合成樹脂製透明基材と反射防止膜の間に、基材より高屈折率被膜及び/又は耐擦傷性保護層を設けることができるが、反射防止性を高める目的で、反射防止層と透明基材との間に設けることが可能な高屈折率層に関して説明する。   In the optical article of the present invention, a high refractive index film and / or a scratch-resistant protective layer can be provided between the synthetic resin transparent substrate and the antireflection film, but the antireflection property is improved. The high refractive index layer that can be provided between the antireflection layer and the transparent substrate will be described.

高屈折率層には、高硬度であることと、屈折率ができるだけ高いことが求められる。本発明者らが種々検討した結果、本高屈折率層には、高屈折率の金属酸化物ゾルを配合し、屈折率を1.60以上にすることが好ましい。屈折率を高める目的で配合する金属酸化物ゾルは、屈折率が1.6以上の高屈折率超微粒子を使用するのがよい。この高屈折率金属酸化物ゾルとしては、平均粒径が1〜100nm、特に1〜50nmの高屈折率金属酸化物ゾルが好ましい。高屈折率金属酸化物ゾルを配合する場合、その配合量は特に限定されないが、配合する目的を十分達成するためには、高屈折率層を形成する組成物の硬化性成分100質量部に対して5〜500質量部が好ましい。特に好ましくは70〜250質量部である。配合量が500質量部より多いと、硬化被膜にヘーズが発生するなどの問題を生じやすくなり、好ましくない。一方、5質量部より少ないと屈折率が高くならず、好ましくない。   The high refractive index layer is required to have high hardness and a refractive index as high as possible. As a result of various studies by the present inventors, it is preferable that the high refractive index layer is mixed with a metal oxide sol having a high refractive index so that the refractive index is 1.60 or more. As the metal oxide sol to be blended for the purpose of increasing the refractive index, high refractive index ultrafine particles having a refractive index of 1.6 or more are preferably used. The high refractive index metal oxide sol is preferably a high refractive index metal oxide sol having an average particle diameter of 1 to 100 nm, particularly 1 to 50 nm. When the high refractive index metal oxide sol is blended, the blending amount is not particularly limited. However, in order to sufficiently achieve the blending purpose, the amount of the curable component of the composition forming the high refractive index layer is 100 parts by weight. 5 to 500 parts by mass is preferable. Most preferably, it is 70-250 mass parts. When the blending amount is more than 500 parts by mass, problems such as the occurrence of haze in the cured film tend to occur, which is not preferable. On the other hand, when the amount is less than 5 parts by mass, the refractive index is not high, which is not preferable.

高屈折率金属酸化物ゾルは、硬化層の硬化物屈折率よりも高く、かつ屈折率1.6以上であることが高屈折率の硬化物層の屈折率を上げる意味で好ましい。この場合、少なくともTi,Sn,Ce,Al,Zn,In,Feから選ばれる原子を含有する金属酸化物ゾルが好ましく、具体的なものとしては、ZnO(n=1.90)、TiO2(n=2.3〜2.7)、Sb25(n=1.71)、Y23(n=1.87)、La23(n=1.95)、ZrO2(n=2.05)、Al23(n=1.63)、InとSnの混合酸化物であるITO(n=1.95)などの金属酸化物、及びこれらの成分を含む複合酸化物からなる高屈折率金属酸化物ゾルが好ましい。 The high refractive index metal oxide sol is preferably higher than the cured product refractive index of the cured layer and has a refractive index of 1.6 or more in terms of increasing the refractive index of the high refractive index cured product layer. In this case, a metal oxide sol containing at least an atom selected from Ti, Sn, Ce, Al, Zn, In, and Fe is preferable. Specific examples include ZnO (n = 1.90), TiO 2 ( n = 2.3-2.7), Sb 2 O 5 (n = 1.71), Y 2 O 3 (n = 1.87), La 2 O 3 (n = 1.95), ZrO 2 ( n = 2.05), Al 2 O 3 (n = 1.63), metal oxides such as ITO (n = 1.95) which is a mixed oxide of In and Sn, and composite oxidation containing these components A high refractive index metal oxide sol made of a material is preferred.

その他、In23、SnO2、CeO2、Fe23などの金属酸化物ゾルなども使用できる。特に、屈折率が高くなるTi原子を含むものの適用が好ましい。これら高屈折率金属酸化物ゾルは、分散安定性を向上させる意味で表面がシラン化合物、あるいは有機官能性基を含有するシランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機官能基含有アクリルポリマー等で修飾されたものでもよい。 In addition, metal oxide sols such as In 2 O 3 , SnO 2 , CeO 2 , and Fe 2 O 3 can also be used. In particular, it is preferable to use those containing Ti atoms that have a high refractive index. These high-refractive-index metal oxide sols are modified with a silane compound, a silane coupling agent containing an organic functional group, a titanium coupling agent, an organic functional group-containing acrylic polymer or the like in order to improve dispersion stability. It may be done.

高屈折率金属酸化物ゾルを分散させる分散媒としては、水、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類等を適用することができる。   Examples of the dispersion medium for dispersing the high refractive index metal oxide sol include water, alcohols such as methanol and ethanol, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as propylene glycol monomethyl ether, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. These ketones can be applied.

この高屈折率硬化層を形成する硬化性樹脂としては、従来公知の熱可塑性樹脂、及び/又は、湿気硬化性、熱硬化性、あるいは光硬化性の有機樹脂やシリコーン樹脂を適用することができる。湿気硬化性、熱硬化性、あるいは光硬化性樹脂としては、熱硬化性アクリル樹脂、湿気硬化性アクリル樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、UV/EB硬化性アクリル樹脂、シランやシロキサンで変性したアクリル樹脂、ウレタン樹脂、UV/EB硬化性エポキシ樹脂、熱硬化性シリコーン樹脂、湿気硬化性シリコーン樹脂、UV/EB硬化性シリコーン樹脂などを例示することができる。特に、各種加水分解性シラン化合物を加水分解し、あるいは更に(部分)縮合させて得られるシリコーン樹脂が、得られる被膜の硬度が高く、本発明による反射防止膜との密着性にも優れるため、好ましい。また、UV硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂あるいはシリコーン樹脂も、得られる被膜の密着性に優れ、生産性の高さから好ましい。   As the curable resin for forming the high refractive index cured layer, a conventionally known thermoplastic resin and / or moisture curable, thermosetting, or photocurable organic resin or silicone resin can be applied. . Examples of moisture curable, thermosetting, or photocurable resins include thermosetting acrylic resins, moisture curable acrylic resins, thermoplastic acrylic resins, UV / EB curable acrylic resins, acrylic resins modified with silane and siloxane, Examples include urethane resins, UV / EB curable epoxy resins, thermosetting silicone resins, moisture curable silicone resins, and UV / EB curable silicone resins. In particular, a silicone resin obtained by hydrolyzing or further (partially) condensing various hydrolyzable silane compounds has a high hardness of the resulting film and is excellent in adhesion to the antireflection film according to the present invention. preferable. Further, UV curable acrylic resin, epoxy resin, or silicone resin is also preferable from the viewpoint of high productivity and excellent adhesion of the resulting film.

紫外線、電子線等の光/放射線を照射して重合させる系では、光重合開始剤を添加し、光重合を行わせるのが好ましい。光重合開始剤としては、アリールケトン系光重合開始剤(例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類など)、含硫黄系光重合開始剤(例えば、スルフィド類、チオキサントン類など)、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤は、アミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。具体的な光重合開始剤としては、例えば以下のような化合物がある。4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチルジクロロアセトフェノン、4−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−メチルプロパン−1−オン、1−{4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル}−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}−2−モルホリノプロパン−1−オン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、べンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、9,10−フェナントレンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、2−エチルアントラキノン、4’,4’’−ジエチルイソフタロフェノン、α−アシロキシムエステル、フェニルグリオキシル酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどである。   In a system in which polymerization is performed by irradiation with light / radiation such as ultraviolet rays and electron beams, it is preferable to add a photopolymerization initiator and perform photopolymerization. Examples of the photopolymerization initiator include aryl ketone photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers, benzyl dimethyl ketals, benzoylbenzoates, α-acylose). Oxime esters), sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.), acylphosphine oxide photopolymerization initiators, and other photopolymerization initiators. The photopolymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as amines. Specific examples of the photopolymerization initiator include the following compounds. 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone, 4-t-butyltrichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) ) -2-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-methylpropan-1-one, 1- {4- (2-hydroxyethoxy) phenyl} -2-hydroxy 2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin Ethyl ether, benzoin isopropyl ether Benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 3,3 ', 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, dibenzosuberone, 2-ethylanthraquinone, 4 ′, 4 ″ -diethylisophthalophenone, α-acilo Ximeme ester, methyl phenylglyoxylate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, Sopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine Oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, and the like.

上記高屈折率硬化用組成物は、溶剤により希釈されて使用してもよい。この溶剤としては、メタノール、エタノール、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、n−プロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。   The high refractive index curable composition may be used after diluted with a solvent. Examples of the solvent include methanol, ethanol, diacetone alcohol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, and n-propyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetyl acetone, ethyl acetoacetate, ethyl acetate, butyl acetate, xylene, toluene and the like.

更に必要に応じ、従来のコーティング剤に用いられる公知の添加剤、例えばレベリング剤などを配合しても差し支えない。   Furthermore, if necessary, a known additive used in a conventional coating agent, such as a leveling agent, may be blended.

形成される高屈折率層の硬化被膜の膜厚は、反射防止性等の光学特性を維持するために屈折率に応じた薄膜としなければならないが、通常0.02〜3μmとされ、好ましくは0.05〜0.5μmとされる。   The film thickness of the cured film of the high refractive index layer to be formed must be a thin film according to the refractive index in order to maintain optical properties such as antireflection properties, but is usually 0.02 to 3 μm, preferably The thickness is set to 0.05 to 0.5 μm.

次いで、良好な耐擦傷性を得るために、透明基材と反射防止層の間、あるいは透明基材と高屈折率層の間に設けてもよい耐擦傷性保護層について説明する。本保護層は、ポリカーボネート樹脂、PETなどのポリアルキレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース樹脂、アクリル樹脂等の各種透明基材に対して優れた密着性を有し、かつ一定膜厚以上の膜厚とした場合、良好な硬度を示すものでなくてはならない。熱可塑性アクリル系樹脂、UV/EB硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、あるいはアクリル基、エポキシ基等の有機官能基を含有するシリコーン樹脂を保護層として採用するのがよく、作業性を考慮するとアクリル系樹脂の方が好ましい。その具体例としては、下記のものを例示することができる。
(A)放射線重合性組成物、特に(メタ)アクリル官能性基を有する有機ケイ素化合物を含有する組成物を放射線重合し、硬化させた層、
(B)アクリル系重合体を含有する組成物、特に加水分解性シリル基を含有するアクリル系重合体を含有する組成物を硬化させた層、
(C)アクリル系重合体、特に耐熱性に優れ、硬度が高い、共重合成分としてメチルメタクリレートを主成分とする熱可塑性アクリル系樹脂からなる層。
Next, a scratch-resistant protective layer that may be provided between the transparent substrate and the antireflection layer or between the transparent substrate and the high refractive index layer in order to obtain good scratch resistance will be described. This protective layer has excellent adhesion to various transparent substrates such as polycarbonate resin, polyalkylene terephthalate resin such as PET, cellulose resin such as triacetyl cellulose, acrylic resin, etc., and is a film having a certain thickness or more. When it is thick, it must exhibit good hardness. Thermoplastic acrylic resins, UV / EB curable acrylic resins, epoxy resins, or silicone resins containing organic functional groups such as acrylic groups and epoxy groups should be used as the protective layer. Then, the acrylic resin is preferable. Specific examples thereof include the following.
(A) a radiation-polymerizable composition, in particular, a layer obtained by radiation-polymerizing and curing a composition containing an organosilicon compound having a (meth) acryl functional group;
(B) a layer obtained by curing a composition containing an acrylic polymer, particularly a composition containing an acrylic polymer containing a hydrolyzable silyl group,
(C) A layer made of an acrylic polymer, particularly a thermoplastic acrylic resin that has excellent heat resistance and high hardness, and has methyl methacrylate as a main component as a copolymerization component.

更に、被膜の硬度、耐擦傷性、導電性等の物性を調整することを目的として、シリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化スズ、酸化インジウム、あるいはこれらの複合酸化物等の無機酸化物微粒子を配合してもよい。これらの中では、コロイダルシリカが特に好ましい。これらの無機酸化物微粒子は、その表面をシラン系、チタン系、アルミニウム系、あるいはジルコニウム系カップリング剤等の有機金属化合物で処理したものを使用してもよい。   Furthermore, for the purpose of adjusting physical properties such as hardness, scratch resistance, and conductivity of the coating, silica, aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, cerium oxide, tin oxide, indium oxide, or a composite thereof You may mix | blend inorganic oxide fine particles, such as an oxide. Of these, colloidal silica is particularly preferable. As these inorganic oxide fine particles, those whose surfaces are treated with an organometallic compound such as a silane-based, titanium-based, aluminum-based, or zirconium-based coupling agent may be used.

無機酸化物微粒子を配合する場合、その添加量は、上記加水分解性シリル基を含有するアクリル系重合体100質量部当たり、固形分換算で0.1〜80質量部であり、好ましくは1〜50質量部である。無機酸化物微粒子の添加量が80質量部を超える場合には、調製される組成物によって形成される硬化被膜の透明性が低下する傾向がある。   When blending inorganic oxide fine particles, the addition amount is 0.1 to 80 parts by mass in terms of solid content per 100 parts by mass of the acrylic polymer containing the hydrolyzable silyl group, preferably 1 to 1 part by mass. 50 parts by mass. When the added amount of the inorganic oxide fine particles exceeds 80 parts by mass, the transparency of the cured film formed by the prepared composition tends to decrease.

上記保護層に、基材の光劣化を抑制する目的で、通常の紫外線吸収剤を加えてもよい。酸化チタン微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機系紫外線吸収剤、及び下記有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤は、主骨格がヒドロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体が好ましい。更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビニルポリマーなどの重合体でもよい。具体的には、2,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ベンジロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジエトキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジプロポキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジブトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−4’−プロポキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−4’−ブトキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジフェニルトリアジン、4−(2−アクリロキシエトキシ)−2−ヒドロキシベンゾフェノンの重合体、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールの重合体等が例示される。また、これらの有機系紫外線吸収剤は2種以上併用してもよい。   A normal ultraviolet absorber may be added to the protective layer for the purpose of suppressing photodegradation of the substrate. Inorganic ultraviolet absorbers such as titanium oxide fine particles and zinc oxide fine particles and the following organic ultraviolet absorbers are preferred. The organic ultraviolet absorber is preferably a compound derivative whose main skeleton is hydroxybenzophenone, benzotriazole, cyanoacrylate, or triazine. Furthermore, a polymer such as vinyl polymer containing these ultraviolet absorbers in the side chain may be used. Specifically, 2,4′-dihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-benzyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy Benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-diethoxy-benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dipropoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dibutoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-4'-propoxybenzof Non, 2,2′-dihydroxy-4-methoxy-4′-butoxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 -Hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -4,6-diphenyltriazine, 4- (2-acryloxyethoxy) -2-hydroxybenzophenone polymer 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloxyethylphenyl) -2H-be Polymers, etc. Zotoriazoru are exemplified. Two or more of these organic ultraviolet absorbers may be used in combination.

保護層の膜厚としては、良好な耐擦傷性が得られるならば特に限定されるものではなく、0.1〜10μmの範囲にあればよい。薄すぎると良好な耐擦傷性が得られず、厚すぎるとクラックが発生しやすいため、適さない。より好ましくは、0.2〜5μmの範囲を満たすのがよい。   The thickness of the protective layer is not particularly limited as long as good scratch resistance is obtained, and may be in the range of 0.1 to 10 μm. If it is too thin, good scratch resistance cannot be obtained, and if it is too thick, cracks are likely to occur. More preferably, the range of 0.2 to 5 μm is satisfied.

以下、合成例、及び実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において%は質量%、部は質量部、本明細書中における平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(以下、GPCという)によるポリスチレン換算の数平均分子量を示す。   Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In addition, in the following example,% is mass%, a part is mass part, and the average molecular weight in this specification shows the number average molecular weight of polystyrene conversion by gel permeation chromatography (henceforth GPC).

[合成例1]
撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた3リットルフラスコに、下記ビスシラン化合物(A)−(1)49.8g(0.10モル)、下記含フッ素シラン(B)−(1)56.8g(0.10モル)及びt−ブタノール400gを仕込み、25℃で撹拌しているところに、0.1N酢酸水18g(1.0モル)を10分かけて滴下した。
[Synthesis Example 1]
In a 3 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 49.8 g (0.10 mol) of the following bissilane compound (A)-(1) and 56.8 g of the following fluorine-containing silane (B)-(1) ( 0.10 mol) and 400 g of t-butanol were added, and 18 g (1.0 mol) of 0.1N acetic acid aqueous solution was added dropwise over 10 minutes while stirring at 25 ° C.

更に、25℃で48時間撹拌し、加水分解を終了した。ここに縮合触媒としてアルミニウムアセチルアセトナートを1g、レベリング剤としてフッ素系界面活性剤フルオラードFC−4430を1g、エタノール1,700g及びジアセトンアルコール100gを加え、更に30分間撹拌し、反射防止用コーティング剤溶液(I)を得た。
(B)−(1)の含有率=53質量%
[(B)−(1)の含有率
={(B)−(1)/((A)−(1)+(B)−(1))}×100]
F/Si=8.3(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
(CH3O)3Si−C24−C48−C24−Si(OCH33 (A)−(1)
(CH3O)3Si−C24−C817 (B)−(1)
Further, the mixture was stirred at 25 ° C. for 48 hours to complete the hydrolysis. Add 1 g of aluminum acetylacetonate as a condensation catalyst, 1 g of fluorosurfactant Fluorard FC-4430 as a leveling agent, 1,700 g of ethanol and 100 g of diacetone alcohol, and further stir for 30 minutes to give an antireflection coating agent. Solution (I) was obtained.
Content ratio of (B)-(1) = 53 mass%
[Content of (B)-(1)
= {(B)-(1) / ((A)-(1) + (B)-(1))} × 100]
F / Si = 8.3 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 -C 4 F 8 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3 (A) - (1)
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 -C 8 F 17 (B) - (1)

[合成例2]
合成例1において、ビスシラン化合物(A)−(1)の代わりに、ビスシラン化合物(A)−(2)59.8g(0.10モル)を用い、含フッ素シラン(B)−(1)の量を45.4g(0.08モル)に変えて、以下同様に実施し、反射防止用コーティング溶液(II)を得た。
(B)−(1)の含有率=43質量%
F/Si=9.1(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
(CH3O)3Si−C24−C612−C24−Si(OCH33 (A)−(2)
[Synthesis Example 2]
In Synthesis Example 1, 59.8 g (0.10 mol) of the bissilane compound (A)-(2) was used instead of the bissilane compound (A)-(1), and the fluorine-containing silane (B)-(1) The amount was changed to 45.4 g (0.08 mol), and the same procedure was followed to obtain an antireflection coating solution (II).
Content ratio of (B)-(1) = 43% by mass
F / Si = 9.1 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 -C 6 F 12 -C 2 H 4 -Si (OCH 3) 3 (A) - (2)

[合成例3]
合成例1において、ビスシラン化合物(A)−(1)の量を39.8g(0.08モル)、含フッ素シラン(B)−(1)の量を68.2g(0.12モル)に変えて、以下同様に実施し、反射防止用コーティング溶液(III)を得た。
(B)−(1)の含有率=63質量%
F/Si=9.6(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
[Synthesis Example 3]
In Synthesis Example 1, the amount of the bissilane compound (A)-(1) is 39.8 g (0.08 mol) and the amount of the fluorine-containing silane (B)-(1) is 68.2 g (0.12 mol). Thereafter, the same procedure was followed to obtain an antireflection coating solution (III).
Content ratio of (B)-(1) = 63 mass%
F / Si = 9.6 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%

[合成例4]
合成例1において、含フッ素シラン(B)−(1)の代わりに、下記含フッ素シラン(B)−(3)18.6g(0.04モル)と含フッ素シラン(B)−(2)46.1g(0.06モル)の混合物を用いて、以下同様に実施し、反射防止用コーティング溶液(IV)を得た。
((B)−(2)+(B)−(3))の含有率=57質量%
F/Si=8.9(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
(CH3O)3Si−C24−C1225 (B)−(2)
(CH3O)3Si−C24−C49 (B)−(3)
[Synthesis Example 4]
In Synthesis Example 1, instead of fluorine-containing silane (B)-(1), 18.6 g (0.04 mol) of the following fluorine-containing silane (B)-(3) and fluorine-containing silane (B)-(2) An antireflection coating solution (IV) was obtained in the same manner using 46.1 g (0.06 mol) of the mixture.
Content ratio of ((B)-(2) + (B)-(3)) = 57 mass%
F / Si = 8.9 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 -C 12 F 25 (B) - (2)
(CH 3 O) 3 Si- C 2 H 4 -C 4 F 9 (B) - (3)

[合成例5]
合成例1において、各種シラン化合物の他に、下記で示される片末端封鎖ジオルガノポリシロキサン鎖を含有する化合物(Si重合度=15)を1g添加し、以下同様にして、反射防止性コーティング溶液(V)を得た。
[(CH33Si(−O−(CH32Si−)9−CH2CH2−]0.07Si(OCH30.781.58
[Synthesis Example 5]
In Synthesis Example 1, in addition to various silane compounds, 1 g of a compound containing an end-capped diorganopolysiloxane chain (Si polymerization degree = 15) shown below was added, and the same was applied to the antireflection coating solution. (V) was obtained.
[(CH 3) 3 Si ( -O- (CH 3) 2 Si-) 9 -CH 2 CH 2 -] 0.07 Si (OCH 3) 0.78 O 1.58

[合成例6](比較例)
合成例1において、各種シラン化合物の他に、更にテトラエトキシシランを4.2g(0.02モル)加え、以下同様にして、コーティング剤溶液(VI)を調製した。
[Synthesis Example 6] (Comparative Example)
In Synthesis Example 1, in addition to the various silane compounds, 4.2 g (0.02 mol) of tetraethoxysilane was further added, and the coating agent solution (VI) was prepared in the same manner.

[合成例7](比較例)
合成例1において、ビスシラン化合物(A)−(1)を79.7g(0.16モル)、含フッ素シラン(B)−(1)を22.7g(0.04モル)に変更し、同様にしてコーティング液(VII)を調製した。
(B)−(1)の含有率=22質量%
F/Si=5.4(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
[Synthesis Example 7] (Comparative Example)
In Synthesis Example 1, the bissilane compound (A)-(1) was changed to 79.7 g (0.16 mol) and the fluorine-containing silane (B)-(1) was changed to 22.7 g (0.04 mol). Thus, a coating solution (VII) was prepared.
Content ratio of (B)-(1) = 22% by mass
F / Si = 5.4 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%

[合成例8](比較例)
合成例1において、ビスシラン化合物(A)−(1)を19.9g(0.04モル)、含フッ素シラン(B)−(1)を90.9g(0.16モル)に変更し、同様にしてコーティング液(VIII)を調製した。
(B)−(1)の含有率=82質量%
F/Si=12.7(モル比)
Siに結合するパーフルオロアルキル基/Siに結合する全1価有機置換基=100モル%
[Synthesis Example 8] (Comparative Example)
In Synthesis Example 1, the bissilane compound (A)-(1) was changed to 19.9 g (0.04 mol) and the fluorine-containing silane (B)-(1) was changed to 90.9 g (0.16 mol). Thus, a coating solution (VIII) was prepared.
Content ratio of (B)-(1) = 82 mass%
F / Si = 12.7 (molar ratio)
Perfluoroalkyl group bonded to Si / all monovalent organic substituents bonded to Si = 100 mol%

[合成例9]
撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた2リットルフラスコに、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン236.3g(1.00モル)、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン74.5g(0.30モル)、1次粒子径が20nmで質量構成比がTiO2/ZrO2/SiO2=85/3/12の有効成分量が30%のメタノール分散ゾル700gを仕込み、室温で撹拌しているところに、0.1N酢酸水70gを1時間かけて滴下した。更に室温で5時間撹拌し、加水分解を終了した。ここに、ジアセトンアルコール150g、縮合触媒としてアルミニウムアセチルアセトナートを2g、レベリング剤としてポリエーテル変性シリコーンを2g加え、更に30分間撹拌し、高屈折率ゾルを含有するシリコーン溶液を調製した。この溶液100gに、エタノール600gを加え、加熱硬化型の高屈折率層形成用コーティング剤(K)を調製した。
[Synthesis Example 9]
In a 2 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 236.3 g (1.00 mol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 74.5 g (0.30) of γ-glycidoxypropyldiethoxysilane were added. Mol) 700 g of methanol-dispersed sol having a primary particle diameter of 20 nm and a mass composition ratio of TiO 2 / ZrO 2 / SiO 2 = 85/3/12 with an active ingredient amount of 30% is being stirred at room temperature. 70 g of 0.1N acetic acid was added dropwise over 1 hour. Further, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours to complete the hydrolysis. Thereto was added 150 g of diacetone alcohol, 2 g of aluminum acetylacetonate as a condensation catalyst, and 2 g of polyether-modified silicone as a leveling agent, and the mixture was further stirred for 30 minutes to prepare a silicone solution containing a high refractive index sol. To 100 g of this solution, 600 g of ethanol was added to prepare a thermosetting high refractive index layer forming coating agent (K).

[合成例10]
撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた1リットルフラスコに、γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン82.0g(0.35モル)、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン32.7g(0.15モル)、テトラエトキシシラン104.2g(0.50モル)、及びイソブタノール50gを仕込み、10℃で撹拌しているところに、0.1N酢酸水65gを1時間かけて滴下した。更に室温で5時間撹拌し、加水分解を終了した。ここに、ジアセトンアルコール150g、縮合触媒としてアルミニウムアセチルアセトナートを1g、レベリング剤としてポリエーテル変性シリコーンを1g加え、更に30分間撹拌し、アクリル官能基を含有するシリコーン溶液(L)を調製した。
こうして得たシリコーン溶液100gに、多官能アクリル成分としてトリメチロールプロパントリアクリレートを50g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50g、光反応開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンを1g加え、撹拌した。これにより、UV硬化型保護コーティング液(M)を得た。
[Synthesis Example 10]
In a 1-liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 82.0 g (0.35 mol) of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane and 32.7 g (0.15 mol) of γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane. Then, 104.2 g (0.50 mol) of tetraethoxysilane and 50 g of isobutanol were charged, and 65 g of 0.1N aqueous acetic acid was added dropwise over 1 hour while stirring at 10 ° C. Further, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours to complete the hydrolysis. Thereto was added 150 g of diacetone alcohol, 1 g of aluminum acetylacetonate as a condensation catalyst, and 1 g of polyether-modified silicone as a leveling agent, and the mixture was further stirred for 30 minutes to prepare a silicone solution (L) containing an acrylic functional group.
100 g of the silicone solution thus obtained was mixed with 50 g of trimethylolpropane triacrylate as a polyfunctional acrylic component, 50 g of propylene glycol monomethyl ether, and 1 g of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as a photoinitiator. Added and stirred. Thereby, a UV curable protective coating solution (M) was obtained.

[合成例11]
アクリル官能基を含有するシリコーン溶液(L)100gに、1次粒子径が20nmで質量構成比がTiO2/ZrO2/SiO2=85/3/12の有効成分量が30%のメタノール分散ゾル80g、トリメチロールプロパントリアクリレート10g、縮合触媒としてアルミニウムアセチルアセトナートを1g、レベリング剤としてポリエーテル変性シリコーンを1g、光反応開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンを1g加え、室温で撹拌した。こうして得た溶液100gに、エタノール500gを加えて希釈し、UV硬化型の高屈折率層形成用コーティング剤(N)を調製した。
[Synthesis Example 11]
Methanol-dispersed sol having a primary particle size of 20 nm and a mass composition ratio of TiO 2 / ZrO 2 / SiO 2 = 85/3/12 and an active ingredient amount of 30% in 100 g of an acrylic functional group-containing silicone solution (L) 80 g, 10 g of trimethylolpropane triacrylate, 1 g of aluminum acetylacetonate as a condensation catalyst, 1 g of polyether-modified silicone as a leveling agent, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one as a photoinitiator 1 g was added and stirred at room temperature. To 100 g of the solution thus obtained, 500 g of ethanol was added for dilution to prepare a UV curable high refractive index layer forming coating agent (N).

[合成例12]
撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた1リットルフラスコに、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン24.8g(0.10モル)、イソプロパノール450gを仕込み、水分散のコロイダルシリカ(有効成分=20%)300gを滴下した。ここにテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを0.1g加え、50℃で3時間加熱撹拌した。この方法で、メタクリル官能性シランで表面処理したシリカゾルを得た。
この表面処理シリカゾル100gに、アクリル官能基を含有するシリコーン溶液(L)40g、トリメチロールプロパントリアクリレートを40g、ヘキサメチレンジオールジアクリレート20g、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンを1g加え、撹拌した。これにより、UV硬化型保護用コーティング液(P)を調製した。
[Synthesis Example 12]
A 1 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer was charged with 24.8 g (0.10 mol) of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 450 g of isopropanol, and water-dispersed colloidal silica (active ingredient = 20%). 300 g was added dropwise. 0.1g of tetramethylammonium hydroxide was added here, and it heat-stirred at 50 degreeC for 3 hours. By this method, a silica sol surface-treated with a methacryl functional silane was obtained.
To 100 g of this surface-treated silica sol, 40 g of a silicone solution (L) containing an acrylic functional group, 40 g of trimethylolpropane triacrylate, 20 g of hexamethylenediol diacrylate, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- 1 g of ON was added and stirred. Thus, a UV curable protective coating solution (P) was prepared.

[合成例13]
撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた1リットルフラスコに、ジアセトンアルコールとメチルイソブチルケトンの2:1の混合溶剤330gを仕込み、80℃まで昇温させた。窒素雰囲気下、加熱撹拌している上記溶媒中に、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン24.8g(0.10モル)、メチルメタクリレート180g(1.80モル)、グリシジルメタクリレート14.2g(0.10モル)、及びアゾビスイソブチロニトリル2gを混合したものを、30分を要して滴下した。更に80℃で加熱撹拌を5時間行った。数平均分子量125,000のアクリルポリマーを含有する加水分解性シリル基を含有するアクリルポリマーの溶液が得られた。
これとは別に、メチルトリメトキシシラン136g(1.00モル)とイソプロパノール72gを混合した溶液に、室温で0.1N酢酸水60gを30分を要して滴下した。滴下終了後、この溶液に、上記アクリルポリマー溶液を200g、縮合触媒として蟻酸ナトリウムを0.1g、酢酸を10g、レベリング剤としてポリエーテル変性シリコーンを1g加え、撹拌混合し、有効成分31%の加熱硬化型の保護用コーティング液(Q)を調製した。
[Synthesis Example 13]
A 1 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer was charged with 330 g of a 2: 1 mixed solvent of diacetone alcohol and methyl isobutyl ketone, and the temperature was raised to 80 ° C. In the above-mentioned solvent heated and stirred under a nitrogen atmosphere, 24.8 g (0.10 mol) of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 180 g (1.80 mol) of methyl methacrylate, 14.2 g (0.2 mol of glycidyl methacrylate). 10 mol) and 2 g of azobisisobutyronitrile were added dropwise over 30 minutes. Further, the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 5 hours. An acrylic polymer solution containing a hydrolyzable silyl group containing an acrylic polymer having a number average molecular weight of 125,000 was obtained.
Separately, 60 g of 0.1N aqueous acetic acid was added dropwise at room temperature over 30 minutes to a solution in which 136 g (1.00 mol) of methyltrimethoxysilane and 72 g of isopropanol were mixed. After completion of dropping, 200 g of the above acrylic polymer solution, 0.1 g of sodium formate as a condensation catalyst, 10 g of acetic acid, and 1 g of polyether-modified silicone as a leveling agent are added to this solution, and mixed with stirring. A curable protective coating solution (Q) was prepared.

[合成例14]
合成例13と同様にして、混合溶剤370gに対して、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン24.8g(0.10モル)、メチルメタクリレート160g(1.60モル)、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール64.6g(0.20モル)及びアゾビスイソブチロニトリル2gを混合したものを滴下し、数平均分子量103,000のアクリルポリマーを含有する溶液が得られた。
この溶液100gに、γ−アミノエチル−アミノプロピルトリメトキシシラン1.00モルとγ−グリシドキシプロピルジメトキシシラン2.00モルとをヘキサメチルジシラザン3.00モル共存下に開環反応させ、更に無水酢酸を2.00モル反応させた接着性向上剤を20%含有するMIBK(メチルイソブチルケトン)溶液を10g加え、湿気硬化型の保護用コーティング液(R)を調製した。
[Synthesis Example 14]
In the same manner as in Synthesis Example 13, 24.8 g (0.10 mol) of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 160 g (1.60 mol) of methyl methacrylate, 2- (2′-hydroxy) with respect to 370 g of the mixed solvent. -5'-methacryloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole 64.6 g (0.20 mol) and 2 g of azobisisobutyronitrile are added dropwise to contain an acrylic polymer having a number average molecular weight of 103,000. A solution was obtained.
100 g of this solution was subjected to a ring-opening reaction of 1.00 mol of γ-aminoethyl-aminopropyltrimethoxysilane and 2.00 mol of γ-glycidoxypropyldimethoxysilane in the presence of 3.00 mol of hexamethyldisilazane, Further, 10 g of MIBK (methyl isobutyl ketone) solution containing 20% of an adhesion improver reacted with 2.00 mol of acetic anhydride was added to prepare a moisture curing type protective coating solution (R).

[合成例15]
数平均分子量200,000のポリメチルメタクリレート樹脂を30%含有するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液100gに、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンを3g、更にジアセトンアルコールを150g加え、溶解するまで撹拌し、熱可塑性の保護用コーティング液(S)を調製した。
[Synthesis Example 15]
Add 3 g of 2,4-dihydroxybenzophenone and 150 g of diacetone alcohol to 100 g of a propylene glycol monomethyl ether acetate solution containing 30% of a polymethyl methacrylate resin having a number average molecular weight of 200,000, and stir until dissolved. A protective coating solution (S) was prepared.

以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。また、実施例中の各種物性の測定及び評価は以下の方法で行った。
耐擦傷性試験:
(方式−1)
往復式引掻き試験機((株)ケイエヌテー製)にスチールウール#0000を装着し、荷重100g/cm2下で、10往復させた後のキズの本数を測定した。
<評価の水準>
◎:0本
○:1〜2本
△:3〜5本
×:6本以上
(方式−2)
方式−1において、スチールウールの代わりにネル布を装着し、1kg荷重の条件で1,000回往復させた後のキズの本数を測定した。
○:キズなし
△:曇りあり
×:剥離あり
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, various physical properties in the examples were measured and evaluated by the following methods.
Scratch resistance test:
(Method-1)
Steel wool # 0000 was attached to a reciprocating scratch tester (manufactured by KT Corporation), and the number of scratches after 10 reciprocations was measured under a load of 100 g / cm 2 .
<Level of evaluation>
◎: 0 ◯: 1 to 2 △: 3 to 5 ×: 6 or more (Method-2)
In Method-1, flannel cloth was attached instead of steel wool, and the number of scratches after reciprocating 1,000 times under the condition of 1 kg load was measured.
○: No scratch △: Cloudy ×: Peeling

硬化被膜の密着性:
JIS K5400に準拠し、サンプルをカミソリの刃で1mm間隔の縦横11本ずつ切り目を入れて100個のゴバン目をつくり、市販セロテープ(登録商標)をよく密着させた後、90度手前方向に急激に剥がした時、被膜が剥離せずに残存したます目数(X)をX/100で表示した。
屈折率:
プリズムカプラー(セキ テクノトロン(株)製)で被膜の屈折率を測定した。
反射防止性:
目視により反射防止性を確認した。良好なものを「○」で示した。
耐薬品性:
被膜上に、下記薬剤を1滴垂らし、30分放置後、薬剤を除去し、その表面状態を目視で観察した。
<評価の水準>
○:変化なし
△:跡形が残る
×:被膜溶解
Hardened film adhesion:
In accordance with JIS K5400, make a sample with 100 razors by cutting 11 samples at 1 mm intervals vertically and horizontally with a razor blade, and after making close contact with commercially available cello tape (registered trademark), suddenly 90 degrees forward When the film was peeled off, the number of squares (X) remaining without peeling off the film was indicated by X / 100.
Refractive index:
The refractive index of the film was measured with a prism coupler (manufactured by Seki Technotron Co., Ltd.).
Anti-reflective properties:
The antireflection property was confirmed by visual observation. Good ones are indicated by “◯”.
chemical resistance:
One drop of the following drug was dropped on the film, left for 30 minutes, the drug was removed, and the surface condition was visually observed.
<Level of evaluation>
○: No change △: Trace remains *: Film dissolution

耐アルカリ性に関しては、0.1N(0.4%)NaOH水溶液と、1%NaOH水溶液の2水準の液を用いて確認した。
塗装方法:
透明樹脂板は厚さ0.5mm、10cm×10cmの大きさのPC(ポリカーボネート)樹脂及びアクリル樹脂、
フィルムは厚さ50μm、10cm×10cmの大きさのPETフィルム
を用いた。
塗装方法:
表面を清浄化した透明樹脂板あるいはフィルムに、所定の膜厚となるようにバーコーターを用いて塗布するか、あるいは浸漬法で塗布した。
(1)単独塗装する場合
硬化膜の膜厚を2〜3μmになるように塗装した。
(2)多層に積層する場合
保護層 →3〜5μm膜厚の硬化膜
高屈折率層→0.1〜0.3μm膜厚の硬化膜
低屈折率層→0.1〜0.3μm膜厚の硬化膜
硬化条件:
(1)熱硬化させる場合
溶液を塗布後、風乾により溶剤分を揮発させ、80〜120℃の熱風循環オーブン中で5分〜30分間保持し、硬化させた。
(2)紫外線硬化させる場合
高圧水銀灯を用いて、200mJ/cm2を3回繰り返して照射し、硬化させた。各層を積層させる場合、下地となる層を硬化させてから、上層を塗布、硬化させた。
The alkali resistance was confirmed using two levels of a 0.1N (0.4%) aqueous NaOH solution and a 1% aqueous NaOH solution.
Painting method:
The transparent resin plate has a thickness of 0.5 mm, a size of 10 cm × 10 cm, a PC (polycarbonate) resin and an acrylic resin,
As the film, a PET film having a thickness of 50 μm and a size of 10 cm × 10 cm was used.
Painting method:
It applied to the transparent resin board or film which cleaned the surface using a bar coater so that it may become a predetermined film thickness, or it apply | coated by the immersion method.
(1) In the case of single coating The cured film was coated so that the film thickness was 2 to 3 μm.
(2) When laminated in multiple layers Protective layer → 3 to 5 μm thick cured film High refractive index layer → 0.1 to 0.3 μm thick cured film Low refractive index layer → 0.1 to 0.3 μm thick Cured film curing conditions:
(1) When heat-curing After applying the solution, the solvent was volatilized by air-drying, and kept in a hot-air circulating oven at 80 to 120 ° C. for 5 to 30 minutes for curing.
(2) In case of UV curing 200 mJ / cm 2 was repeatedly irradiated 3 times using a high pressure mercury lamp to be cured. When laminating each layer, the upper layer was applied and cured after the underlying layer was cured.

参考例1〜3]
アクリル板及びPC板に、保護層用コーティング液として(N)あるいは(Q)を塗装、硬化させた。この硬化被膜上に、反射防止用コーティング溶液(I),(II),(III)を塗装、硬化させた。こうして得られた塗装被膜の特性を調べた。
[ Reference Examples 1-3]
(N) or (Q) was coated and cured on the acrylic plate and the PC plate as a protective layer coating solution. On this cured film, the antireflection coating solutions (I), (II), and (III) were applied and cured. The characteristics of the coating film thus obtained were examined.

下記表の通り、本発明による反射防止膜により得られる被膜は、耐擦傷性並びに耐薬品性は良好で、更に被膜の屈折率も1.400以下であった。   As shown in the following table, the film obtained from the antireflection film according to the present invention had good scratch resistance and chemical resistance, and the refractive index of the film was 1.400 or less.

Figure 0004737401
Figure 0004737401

* 家庭用洗剤、花王(株)製
** 皮膚保護剤、花王(株)製
*** 家庭用洗剤、ジョンソン(株)製
* Household detergent, manufactured by Kao Corporation ** Skin protectant, manufactured by Kao Corporation *** Household detergent, manufactured by Johnson Corporation

[実施例1、参考例4〜7、比較例1〜3]
PETフィルムに、保護層用コーティング液、高屈折率コーティング剤、反射防止用コーティング溶液を順次塗装、硬化して積層体を作製し、この積層体の被膜特性を確認した。
[Example 1, Reference Examples 4-7 , Comparative Examples 1-3]
On the PET film, a protective layer coating solution, a high refractive index coating agent, and an antireflection coating solution were sequentially applied and cured to prepare a laminate, and the coating properties of this laminate were confirmed.

下記表の通り、本発明による反射防止コーティング剤により得られる被膜は、耐擦傷性並びに耐薬品性は良好で、更に反射防止性も優れていた。   As shown in the following table, the film obtained by the antireflection coating agent according to the present invention had good scratch resistance and chemical resistance, and also excellent antireflection properties.

Figure 0004737401
Figure 0004737401

Claims (10)

(1)ビスシラン化合物(A)及び/又はその(部分)加水分解物及び/又はその縮合物と、
m3-mSi−C24(CF2n24−SiR3-mm (A)
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれる同一又は異なってもよい1価炭化水素基、XはOH基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基、アルケノキシ基、ケトオキシム基、アルコキシアルコキシ基又は−NCO基であり、mは2又は3、nは4又は6である。)
(2)パーフルオロアルキル基を含有する有機ケイ素化合物(B)及び/又はその(部分)加水分解物及び/又はその縮合物
F(CF2a24−SiR3-bb (B)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、aは4,6,8,10又は12であり、bは2又は3である。)
からなる混合物、又は成分(1)及び(2)の混合物を共(部分)加水分解・縮合したものを主成分として含有し、成分(1)と(2)の合計質量に対して、成分(2)の含有率が42〜70質量%であり、更に、(3)下記平均組成式(C)で表される有機ケイ素化合物
[R 3 Si−(O−R 2 Si−) c −Y−] p q SiX r (4-p-q-r)/2 (C)
(式中、R、Xは上記と同様の意味を示し、Yは−O−又は炭素数2〜10のアルキレン基であり、0.01≦p<1、0≦q<1、0.5≦r<3、1<p+q+r<4、cは1〜100である。)
を添加してなることを特徴とする耐アルカリ性に優れる反射防止膜形成用コーティング剤組成物。
(1) a bissilane compound (A) and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate;
X m R 3-m Si- C 2 H 4 (CF 2) n C 2 H 4 -SiR 3-m X m (A)
(Wherein R is the same or different monovalent hydrocarbon group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group, X is an OH group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, acyloxy A group, an alkenoxy group, a ketoxime group, an alkoxyalkoxy group or an —NCO group, m is 2 or 3, and n is 4 or 6.)
(2) Organosilicon compound (B) containing a perfluoroalkyl group and / or its (partial) hydrolyzate and / or its condensate F (CF 2 ) a C 2 H 4 —SiR 3-b X b ( B)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, a is 4, 6, 8, 10 or 12, and b is 2 or 3.)
Or a mixture of components (1) and (2) that is co- (partially) hydrolyzed / condensed as a main component, with respect to the total mass of components (1) and (2), content of 42-70% by mass of 2) is, further, (3) an organosilicon compound represented by the following average composition formula (C)
[R 3 Si— (O—R 2 Si—) c —Y—] p R q SiX r O (4-pqr) / 2 (C)
(In the formula, R and X have the same meanings as described above, Y is —O— or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and 0.01 ≦ p <1, 0 ≦ q <1, 0.5. ≦ r <3, 1 <p + q + r <4, c is 1 to 100)
An antireflection film-forming coating agent composition having excellent alkali resistance, characterized by comprising
更に、含ケイ素系又は含フッ素系界面活性剤を添加したことを特徴とする請求項記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物。 Further, the silicon-based or fluorine-based surfactant characterized in that the addition of claim 1 for forming an antireflective film coating composition. アルキルシリケート、エポキシ官能性シラン、(メタ)アクリル官能性シラン、メルカプト官能性シラン、アミノ官能性シラン及びこれらの(部分)加水分解物を、成分(1),(2)の有機ケイ素化合物の混合物中又はその共(部分)加水分解・縮合物中に1質量%以上含まないことを特徴とする請求項1又は2記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物。 Alkyl silicates, epoxy functional silanes, (meth) acryl functional silanes, mercapto functional silanes, amino functional silanes and their (partial) hydrolysates, mixtures of organosilicon compounds of components (1) and (2) The coating composition for forming an antireflective film according to claim 1 or 2 , wherein the composition is not contained in 1% by mass or more in or in a co- (partial) hydrolysis / condensate thereof. 溶媒をコーティング剤組成物中50〜99質量%含むことを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の耐アルカリ性に優れる反射防止膜形成用コーティング剤組成物。 The coating agent composition for forming an antireflection film excellent in alkali resistance according to any one of claims 1 to 3 , wherein the solvent is contained in an amount of 50 to 99% by mass in the coating agent composition. 合成樹脂製透明基材の最外層に、請求項乃至のいずれか1項記載の反射防止膜形成用コーティング剤組成物の硬化被膜を反射防止膜として形成した被覆光学物品。 The coated optical article which formed in the outermost layer of the synthetic resin transparent base material the cured film of the coating agent composition for antireflection film formation of any one of Claims 1 thru | or 4 as an antireflection film. 合成樹脂製透明基材と反射防止膜の間に、基材より高屈折率な被膜及び/又は耐擦傷性保護層を設けることを特徴とする請求項記載の被覆光学物品。 6. The coated optical article according to claim 5, wherein a coating film and / or a scratch-resistant protective layer having a higher refractive index than the base material is provided between the synthetic resin transparent base material and the antireflection film. 高屈折率被膜中に、少なくともTi,Sn,Ce,Al,Zr,In,Feから選ばれる原子を含有する金属酸化物ゾルを含有することを特徴とする請求項記載の被覆光学物品。 7. The coated optical article according to claim 6, wherein the high refractive index film contains a metal oxide sol containing atoms selected from at least Ti, Sn, Ce, Al, Zr, In, and Fe. 合成樹脂が、ポリカーボネート系樹脂、ポリアルキレンテレフタレート系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂から選ばれるものであることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品。 Synthetic resin, polycarbonate resin, polyalkylene terephthalate resin, either an acrylic resin, triacetyl cellulose resin, polystyrene resin, according to claim 5 to 7, characterized in that those selected from the polyolefin resin The coated optical article according to claim 1. 透明基材が、フィルム状又は板状であることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品。 The coated optical article according to any one of claims 5 to 8 , wherein the transparent substrate is in the form of a film or a plate. 請求項乃至のいずれか1項記載の被覆光学物品の透明基材側に、更に粘着剤又は接着剤層を設け、更にその上に剥離膜を積層することを特徴とする多層積層体。 A multilayer laminate comprising a coated optical article according to any one of claims 5 to 9 further provided with a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer on the transparent substrate side, and a release film further laminated thereon.
JP2005269697A 2004-10-13 2005-09-16 Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film Active JP4737401B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005269697A JP4737401B2 (en) 2004-10-13 2005-09-16 Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004298523 2004-10-13
JP2004298523 2004-10-13
JP2005269697A JP4737401B2 (en) 2004-10-13 2005-09-16 Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006139259A JP2006139259A (en) 2006-06-01
JP4737401B2 true JP4737401B2 (en) 2011-08-03

Family

ID=36620093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005269697A Active JP4737401B2 (en) 2004-10-13 2005-09-16 Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4737401B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008038782A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-03 Hoya Corporation Vapor deposition material, process for producing optical member or plastic lens for spectacle with use thereof, and plastic lens for spectacle
JP5091467B2 (en) * 2006-12-01 2012-12-05 リケンテクノス株式会社 Antireflection film
WO2008117652A1 (en) * 2007-03-28 2008-10-02 Konica Minolta Opto, Inc. Anti-reflection film, method for production of anti-reflection film, polarizing plate using the anti-reflection film, and display device
JP4948387B2 (en) * 2007-12-27 2012-06-06 リケンテクノス株式会社 Antireflection film
JP2010180375A (en) * 2009-02-09 2010-08-19 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Photocurable coating composition, film forming method, and coated article
JP5835069B2 (en) * 2012-04-05 2015-12-24 信越化学工業株式会社 Antifouling imparting hard coat composition
JP6284762B2 (en) * 2013-12-18 2018-02-28 富士フイルム株式会社 Heat shield and window glass
RU2017112519A (en) 2014-10-13 2018-11-22 Дайвёрси, Инк. PERMISABLE SURFACE SYSTEM OVER MULTI-SECTION SUBSTRATE
JP7332988B2 (en) * 2019-02-06 2023-08-24 日産化学株式会社 Curable composition for light resistant hard coat

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2629813B2 (en) * 1988-04-28 1997-07-16 旭硝子株式会社 Low reflection transparent molded body
JP2002055205A (en) * 2000-08-11 2002-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and image display
JP2002131507A (en) * 2000-10-24 2002-05-09 Fuji Photo Film Co Ltd Antidazzle reflection preventing film and polarizing plate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006139259A (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101062564B1 (en) An article having an antireflection film, a coating composition for forming an antireflection film, and an antireflection film
JP4126545B2 (en) Coated article and multilayer laminate
JP4737401B2 (en) Antireflection film, coating composition for forming antireflection film, and article provided with antireflection film
JP4126521B2 (en) Method for producing fluoroorganopolysiloxane resin for film forming composition
JP4711080B2 (en) Method for producing fluoroorganopolysiloxane resin for film forming composition
US7351477B2 (en) Antifouling coating compositions and coated articles
JP2003025510A (en) Multilayered laminate having reflection preventing properties and scratch resistance
JP4862992B2 (en) Antifouling agent, antifouling coating agent composition, antifouling film and coated article thereof
JP4905656B2 (en) COMPOSITE RESIN, COATING COMPOSITION CONTAINING THE SAME, COATED ARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOSITE RESIN
JP4400751B2 (en) Light and thermosetting coating composition and article having cured film thereof
JP4126522B2 (en) Method for producing condensate and hydrolyzate for film-forming composition
JP5598448B2 (en) Scratch resistant silicone coating composition, coated article and method for producing the same
JP4239030B2 (en) Photo-curable resin composition and article having cured film thereof
JP2010180375A (en) Photocurable coating composition, film forming method, and coated article
JP2005146272A (en) Method for manufacturing antifouling film-coated resin article
JP4866811B2 (en) Antireflection film
JP4502112B2 (en) Antifouling coating agent and coated article
JP4868150B2 (en) Light and thermosetting coating composition, and article having the cured film
JP4092525B2 (en) Coating agent composition, coating method and coated article
JP4948387B2 (en) Antireflection film
JP5091467B2 (en) Antireflection film
JP5222605B2 (en) Antireflection film
JP5038621B2 (en) Antireflection film and composition for forming antireflection film
JP2014141562A (en) Photocurable resin composition and coated article

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101020

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110406

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110419

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4737401

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513

Year of fee payment: 3