JP4731846B2 - Display device - Google Patents

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潤 小山
光明 納
麻衣 長田
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Description

本発明は、基板上に形成された発光素子を、該基板とカバー材の間に封入した
表示用パネルに関する。また、該表示用パネルにICを実装した表示用モジュー
ルに関する。なお本明細書において、表示用パネル及び表示用モジュールを発光
装置と総称する。本発明はさらに、該発光装置を用いた電子機器に関する。
The present invention relates to a display panel in which a light emitting element formed on a substrate is enclosed between the substrate and a cover material. The present invention also relates to a display module in which an IC is mounted on the display panel. In this specification, the display panel and the display module are collectively referred to as a light emitting device. The present invention further relates to an electronic apparatus using the light emitting device.

近年、基板上にTFTを形成する技術が大幅に進歩し、アクティブマトリクス
型表示装置への応用開発が進められている。特に、ポリシリコン膜を用いたTF
Tは、従来のアモルファスシリコン膜を用いたTFTよりも電界効果移動度(モ
ビリティともいう)が高いので、高速動作が可能である。そのため、従来、基板
外の駆動回路で行っていた画素の制御を、画素と同一の基板上に形成した駆動回
路で行うことが可能となっている。
In recent years, a technology for forming a TFT on a substrate has greatly advanced, and application development to an active matrix display device has been advanced. In particular, TF using polysilicon film
T has a higher field effect mobility (also referred to as mobility) than a TFT using a conventional amorphous silicon film, and thus can operate at high speed. For this reason, it is possible to control a pixel, which has been conventionally performed by a drive circuit outside the substrate, with a drive circuit formed on the same substrate as the pixel.

このようなアクティブマトリクス型表示装置は、同一基板上に様々な回路や素
子を作り込むことで製造コストの低減、表示装置の小型化、歩留まりの上昇、ス
ループットの低減など、様々な利点が得られる。
Such an active matrix display device has various advantages such as a reduction in manufacturing cost, a reduction in size of the display device, an increase in yield, and a reduction in throughput by forming various circuits and elements on the same substrate. .

そしてさらに、自発光型素子として発光素子を有したアクティブマトリクス型
の発光装置の研究が活発化している。発光装置は有機ELディスプレイ(OEL
D:Organic EL Display)又は有機ライトエミッティングダイオード(OLED
:Organic Light Emitting Diode)とも呼ばれている。
In addition, active matrix light-emitting devices having light-emitting elements as self-light-emitting elements are being actively researched. The light emitting device is an organic EL display (OEL)
D: Organic EL Display) or organic light emitting diode (OLED)
: Organic Light Emitting Diode).

発光装置は、液晶ディスプレイと異なり自発光型である。発光素子は一対の電
極(陽極と陰極)間に、電場を加えることでルミネッセンスが発生する有機化合
物を含む層(以下、有機化合物層と記す)が挟まれた構造となっているが、有機
化合物層は通常、積層構造となっている。代表的には、コダック・イーストマン
・カンパニーのTangらが提案した「正孔輸送層/発光層/電子輸送層」という積
層構造が挙げられる。この構造は非常に発光効率が高く、現在、研究開発が進め
られている発光装置は殆どこの構造を採用している。
Unlike a liquid crystal display, the light emitting device is a self-luminous type. A light-emitting element has a structure in which a layer containing an organic compound that generates luminescence when an electric field is applied (hereinafter referred to as an organic compound layer) is sandwiched between a pair of electrodes (anode and cathode). The layer usually has a laminated structure. A typical example is a “hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer” stacked structure proposed by Tang et al. Of Kodak Eastman Company. This structure has very high luminous efficiency, and most of the light emitting devices that are currently under research and development employ this structure.

有機化合物におけるルミネッセンスには、一重項励起状態から基底状態に戻る
際の発光(蛍光)と三重項励起状態から基底状態に戻る際の発光(リン光)とが
あるが、本発明の発光装置は、上述した発光のうちのいずれか一方の発光を用い
ても良いし、または両方の発光を用いても良い。
Luminescence in organic compounds includes light emission (fluorescence) when returning from the singlet excited state to the ground state and light emission (phosphorescence) when returning from the triplet excited state to the ground state. Any one of the above-described light emission may be used, or both light emission may be used.

また他にも、陽極上に正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層、または
正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層の順に積層する構造
でも良い。発光層に対して蛍光性色素等をドーピングしても良い。
In addition, the hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer, or hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer are laminated in this order on the anode. Structure may be sufficient. You may dope a fluorescent pigment | dye etc. with respect to a light emitting layer.

本明細書において陰極と陽極の間に設けられる全ての層を総称して有機化合物
層と呼ぶ。よって上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子
注入層等は、全て有機化合物層に含まれる。
In this specification, all layers provided between the cathode and the anode are collectively referred to as an organic compound layer. Therefore, the above-described hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, electron transport layer, electron injection layer, and the like are all included in the organic compound layer.

そして、上記構造でなる有機化合物層に一対の電極から所定の電圧をかけ、そ
れにより発光層においてキャリアの再結合が起こって発光する。なお本明細書に
おいて発光素子が発光することを、発光素子が駆動すると呼ぶ。また、本明細書
中では、陽極、有機化合物層及び陰極で形成される発光素子を発光素子と呼ぶ。
A predetermined voltage is applied to the organic compound layer having the above structure from the pair of electrodes, whereby recombination of carriers occurs in the light emitting layer to emit light. Note that in this specification, light emission of a light-emitting element is referred to as driving of the light-emitting element. In this specification, a light-emitting element formed using an anode, an organic compound layer, and a cathode is referred to as a light-emitting element.

発光装置はバックライトを用いる必要がないことから、液晶ディスプレイに比
べて、ディスプレイ自身の厚さと重さを抑えることができる。そのため近年、発
光装置は液晶ディスプレイに代わり、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携
帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)の表示部に用いられるようになって
いる。
Since the light emitting device does not need to use a backlight, the thickness and weight of the display itself can be suppressed as compared with a liquid crystal display. Therefore, in recent years, a light emitting device has been used for a display unit of a portable information terminal (such as a mobile computer, a mobile phone, a portable game machine, or an electronic book) instead of a liquid crystal display.

そして携帯情報端末の消費電力を抑えるために、表示部に用いる発光装置の消
費電力を抑えることが望まれていた。
In order to reduce the power consumption of the portable information terminal, it has been desired to reduce the power consumption of the light emitting device used for the display unit.

また近年、テレビやラジオなどの放送局側のデジタル化に加え、家庭用の受信
機やVTRなどもデジタル化が進んでいる。そして放送システムのデジタル化の
次の段階は、放送電波のデジタル化、すなわちデジタル放送の実現であり、これ
に向けて盛んに研究開発が行われている。
In recent years, in addition to the digitization of broadcasting stations such as televisions and radios, home receivers and VTRs are also being digitized. The next stage of digitalization of the broadcasting system is the digitization of broadcast radio waves, that is, the realization of digital broadcasting, and research and development are actively conducted for this purpose.

発光装置のデジタル駆動には時間階調表示がある。時間階調表示とは1フレー
ム期間中に発光素子が発光する時間を制御することで階調表示を行う駆動方法で
ある。
There is a time gradation display in digital driving of a light emitting device. Time gradation display is a driving method for performing gradation display by controlling the time during which a light emitting element emits light during one frame period.

発光装置をデジタル駆動で時間階調表示させた場合、表示する画像の階調数を
高くすると、画素に入力される画像情報を有するデジタルのビデオ信号(デジタ
ルビデオ信号)が書き換えられる回数が多くなる。そのため画素にデジタルビデ
オ信号を入力するための駆動回路群の消費電力が大きくなってしまい、発光装置
の消費電力が大きくなる。
When time gradation display is performed on a light emitting device by digital driving, if the number of gradations of an image to be displayed is increased, the number of times that a digital video signal (digital video signal) having image information input to a pixel is rewritten increases. . Therefore, the power consumption of the drive circuit group for inputting the digital video signal to the pixel is increased, and the power consumption of the light emitting device is increased.

また発光素子は自発光型であるため、表示する画像によって発光素子が1フレ
ーム期間中に発光する期間が左右される。そのため発光装置の消費電力は、表示
する画像によって左右される。
Further, since the light-emitting element is a self-luminous type, a period during which the light-emitting element emits light during one frame period depends on an image to be displayed. Therefore, the power consumption of the light emitting device depends on the image to be displayed.

またさらに発光素子に流れる電流の大きさは、温度によっても左右される。発
光素子の電極間にかかる電圧が同じであっても、発光素子が有する温度特性によ
って、有機化合物層の温度が高くなれば高くなるほど、発光素子を流れる電流は
大きくなる。よって発光装置を使用する環境温度が高ければ高いほど、発光装置
の消費電力が大きくなり、発光素子の輝度も上昇してしまう。
Further, the magnitude of the current flowing through the light emitting element also depends on the temperature. Even if the voltage applied between the electrodes of the light-emitting element is the same, the current flowing through the light-emitting element increases as the temperature of the organic compound layer increases due to the temperature characteristics of the light-emitting element. Therefore, the higher the environmental temperature at which the light emitting device is used, the greater the power consumption of the light emitting device and the higher the luminance of the light emitting element.

本発明は上述したことに鑑み、発光装置及び発光装置を表示部に用いる電子機
器の消費電力を抑えることを課題とする。
In view of the above, it is an object of the present invention to suppress power consumption of a light-emitting device and an electronic device using the light-emitting device for a display portion.

本発明の第1の構成は、発光装置において、モノクロの表示を行う場合、画素
部に表示される画像によって画像の明暗を反転させることを特徴とする。
The first configuration of the present invention is characterized in that in the light emitting device, when performing monochrome display, the lightness and darkness of the image is inverted by the image displayed on the pixel portion.

上記構成によって、発光素子に流れる電流の大きさをある程度抑えることがで
き、発光装置の消費電力を抑えることができる。
With the above structure, the current flowing through the light-emitting element can be suppressed to some extent, and the power consumption of the light-emitting device can be suppressed.

また本発明の第2の構成は、デジタル駆動の時分割階調表示を行う発光装置に
おいて、発光装置が有するソース信号線駆動回路に入力されたデジタルビデオ信
号を、そのビット数を落としてから画素部に入力することを特徴とする。具体的
には、最下位ビットのデジタルビデオ信号から順に切り捨てることによって、画
素部に入力されるデジタルビデオ信号のビット数を落としてゆく。
According to a second configuration of the present invention, in a light-emitting device that performs time division gray scale display of digital driving, a digital video signal input to a source signal line driving circuit included in the light-emitting device is reduced in the number of bits before the pixel It is characterized by being input to the section. Specifically, the number of bits of the digital video signal input to the pixel portion is decreased by sequentially discarding the digital video signal of the least significant bit.

上記構成によって、画素に入力されるデジタルビデオ信号のビット数が少なく
なるので、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路によってデジタルビ
デオ信号が画素に書き込まれる回数が少なくなる。そのためソース信号線駆動回
路及びゲート信号線駆動回路の消費電力を抑えることができ、発光装置の消費電
力も抑えることができる。
With the above structure, the number of bits of the digital video signal input to the pixel is reduced, so that the number of times the digital video signal is written to the pixel by the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit is reduced. Therefore, power consumption of the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit can be suppressed, and power consumption of the light-emitting device can also be suppressed.

また本発明の第3の構成では、発光装置に温度モニター用の発光素子を設ける
。そして温度モニター用の発光素子の一方の電極を定電流源に接続する。そして
モニター用の発光素子の温度特性を用いて、画素の発光素子を流れる電流の大き
さを一定に保つ。
In the third configuration of the present invention, the light emitting device is provided with a light emitting element for temperature monitoring. Then, one electrode of the temperature monitoring light emitting element is connected to a constant current source. Then, using the temperature characteristics of the light emitting element for monitoring, the magnitude of the current flowing through the light emitting element of the pixel is kept constant.

上記構成によって、有機化合物層の温度が変化しても画素の発光素子を流れる
電流の大きさを一定に保つことができる。よって発光装置の環境温度が上昇して
も、発光装置の消費電力が大きくなるのを抑えることができ、輝度も一定に保つ
ことができる。
With the above structure, even when the temperature of the organic compound layer changes, the magnitude of the current flowing through the light emitting element of the pixel can be kept constant. Therefore, even when the environmental temperature of the light emitting device rises, the power consumption of the light emitting device can be prevented from increasing, and the luminance can be kept constant.

本発明は上述した第1から第3の構成によって、発光装置及び該発光装置を用
いた電子機器の消費電力を抑えることが可能である。なお本発明は、第1から第
3の構成のいずれか1つを有していればよい。また第1から第3の構成のうちの
複数の構成を有していても良いし、全てを有していても良い。
According to the first to third configurations of the present invention, the power consumption of the light emitting device and the electronic device using the light emitting device can be suppressed. Note that the present invention only needs to have one of the first to third configurations. Moreover, you may have a some structure of 1st to 3rd structures, and may have all.

以下に本発明の構成を示す。   The configuration of the present invention is shown below.

本発明によって、
複数の画素を有する表示装置であって、
前記複数の画素に入力されるデジタルビデオ信号の極性を反転することによっ
て、前記複数の画素の輝度を変えることを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a plurality of pixels,
There is provided a display device characterized in that the luminance of the plurality of pixels is changed by inverting the polarity of a digital video signal input to the plurality of pixels.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有する表示装置であ
って、
前記ソース信号線駆動回路は出力の極性を切り替える切り替え回路を有してお
り、
前記切り替え回路に入力されたデジタルビデオ信号は、前記切り替え回路に入
力される切り替え信号によって極性が反転し、前記複数の画素に入力することを
特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
The source signal line driving circuit has a switching circuit for switching the polarity of the output,
A digital video signal input to the switching circuit is inverted in polarity by the switching signal input to the switching circuit and is input to the plurality of pixels.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有する表示装置であ
って、
前記複数の画素は発光素子をそれぞれ有しており、
前記ソース信号線駆動回路はシフトレジスタと、1つまたは複数のラッチと、
切り替え回路とを有しており、
前記1つまたは複数のラッチから前記切り替え回路に入力されたデジタルビデ
オ信号は、前記切り替え回路に入力される切り替え信号によって極性が反転し、
前記複数の画素に入力することを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
Each of the plurality of pixels has a light emitting element,
The source signal line driver circuit includes a shift register, one or more latches,
And a switching circuit,
The digital video signal input from the one or more latches to the switching circuit is inverted in polarity by the switching signal input to the switching circuit,
A display device is provided that inputs to the plurality of pixels.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有する表示装置であ
って、
前記複数の画素は発光素子をそれぞれ有しており、
前記ソース信号線駆動回路はシフトレジスタと、1つまたは複数のラッチと、
切り替え回路とを有しており、
前記1つまたは複数のラッチから前記切り替え回路に入力されたデジタルビデ
オ信号は、前記切り替え回路に入力される切り替え信号によって極性が反転し、
前記複数の画素に入力しており、
1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの平均が
、1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの最大値
の半分以下であることを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
Each of the plurality of pixels has a light emitting element,
The source signal line driver circuit includes a shift register, one or more latches,
And a switching circuit,
The digital video signal input from the one or more latches to the switching circuit is inverted in polarity by the switching signal input to the switching circuit,
Input to the plurality of pixels,
The average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is less than or equal to half of the maximum value of the length of the light emitting period of all of the light emitting elements in one frame period. A display device is provided.

前記切り替え回路はインバーターと、第1のアナログスイッチと、第2のアナ
ログスイッチとを有しており、
前記切り替え回路に入力されたデジタルビデオ信号は、前記インバーターを介
して前記第1のアナログスイッチの入力端子に入力し、
また前記1つまたは複数のラッチから出力されたデジタルビデオ信号は、前記
第2のアナログスイッチの入力端子に入力し、
切り替え信号が前記第1のアナログスイッチの第1の制御入力端子及び前記第
2のアナログスイッチの第2の制御入力端子から入力し、
前記切り替え信号の極性が反転した信号が前記第1のアナログスイッチの第2
の制御入力端子及び前記第2のアナログスイッチの第1の制御入力端子から入力
し、
前記第1のアナログスイッチ及び前記第2のアナログスイッチの出力端子から
出力される信号が、前記切り替え回路から出力されることを特徴としていても良
い。
The switching circuit includes an inverter, a first analog switch, and a second analog switch,
The digital video signal input to the switching circuit is input to the input terminal of the first analog switch via the inverter,
The digital video signal output from the one or more latches is input to an input terminal of the second analog switch,
A switching signal is input from a first control input terminal of the first analog switch and a second control input terminal of the second analog switch;
A signal obtained by inverting the polarity of the switching signal is a second signal of the first analog switch.
Input from the control input terminal of the second analog switch and the first control input terminal of the second analog switch,
Signals output from output terminals of the first analog switch and the second analog switch may be output from the switching circuit.

前記切り替え回路はインバーターと、第1のNANDと、第2のNANDと、
NORとを有しており、
前記第1のNANDに、切り替え信号と、前記インバーターを介してデジタル
ビデオ信号とが入力され、
前記第2のNANDに、前記切り替え信号の極性を反転させた信号と、前記デ
ジタルビデオ信号とが入力され、
前記第1のNANDから出力された信号と、前記第2のNANDから出力され
た信号とが前記NORに入力され、
前記NORから出力された信号が前記切り替え回路から出力されることを特徴
としていても良い。
The switching circuit includes an inverter, a first NAND, a second NAND,
NOR and
A switching signal and a digital video signal are input to the first NAND via the inverter,
A signal obtained by inverting the polarity of the switching signal and the digital video signal are input to the second NAND,
The signal output from the first NAND and the signal output from the second NAND are input to the NOR,
The signal output from the NOR may be output from the switching circuit.

本発明によって、
複数の画素とソース信号線駆動回路とを有する表示装置であって、
前記ソース信号線駆動回路に入力されるデジタルビデオ信号のうち、上位ビッ
トのデジタルビデオ信号のみが前記複数の画素に入力されることを特徴とする表
示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a plurality of pixels and a source signal line driving circuit,
Of the digital video signals input to the source signal line driver circuit, only the upper bit digital video signal is input to the plurality of pixels.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有する表示装置であ
って、
前記ソース信号線駆動回路は、シフトレジスタと、第1のラッチと、第2のラ
ッチと、クロック信号制御回路とを有しており、
前記クロック信号制御回路を介してクロック信号が前記シフトレジスタに入力
されることによって、前記シフトレジスタからタイミング信号が出力され、
前記タイミング信号によって前記第1のラッチにデジタルビデオ信号が入力さ
れて保持され、
ラッチ信号によって、前記第1のラッチに保持されたデジタルビデオ信号が前
記第2のラッチに入力されて保持され、
前記第2のラッチに入力されて保持されたデジタルビデオ信号は、前記複数の
画素に入力され、
前記クロック信号制御回路は、一定の期間、前記クロック信号の代わりに、一
定の固定電位を前記シフトレジスタに与えることで、前記第1のラッチに入力し
て保持するデジタルビデオ信号のビット数を減らしていることを特徴とする表示
装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
The source signal line driver circuit includes a shift register, a first latch, a second latch, and a clock signal control circuit,
When a clock signal is input to the shift register via the clock signal control circuit, a timing signal is output from the shift register,
A digital video signal is input and held in the first latch by the timing signal,
The digital video signal held in the first latch is input and held in the second latch by the latch signal,
The digital video signal input and held in the second latch is input to the plurality of pixels,
The clock signal control circuit reduces the number of bits of the digital video signal that is input to and held in the first latch by applying a constant fixed potential to the shift register instead of the clock signal for a certain period. A display device is provided.

前記クロック信号制御回路はNANDとインバーターとを有しており、
前記NANDにクロック信号と選択信号とが入力され、
前記NANDから出力された信号は前記インバーターを介して前記クロック信
号制御回路から出力されることを特徴としていても良い。
The clock signal control circuit has a NAND and an inverter,
A clock signal and a selection signal are input to the NAND,
The signal output from the NAND may be output from the clock signal control circuit via the inverter.

前記クロック信号制御回路は第1のアナログスイッチと、第2のアナログスイ
ッチと、インバーターとを有しており、
前記インバーターを介して、前記第1のアナログスイッチの第2の制御入力端
子及び前記第2のアナログスイッチの第1の制御入力端子に選択信号が入力され

前記第1のアナログスイッチの第1の制御入力端子及び前記第2のアナログス
イッチの第2の制御入力端子に選択信号が入力され、
前記第1のアナログスイッチの入力端子にクロック信号が入力され、
前記第2のアナログスイッチの入力端子に固定電位が与えられ、
前記第1のアナログスイッチ及び前記第2のアナログスイッチの出力端子から
出力された信号は、前記クロック信号制御回路から出力されることを特徴として
いても良い。
The clock signal control circuit includes a first analog switch, a second analog switch, and an inverter.
A selection signal is input to the second control input terminal of the first analog switch and the first control input terminal of the second analog switch via the inverter.
A selection signal is input to the first control input terminal of the first analog switch and the second control input terminal of the second analog switch,
A clock signal is input to an input terminal of the first analog switch;
A fixed potential is applied to an input terminal of the second analog switch;
The signals output from the output terminals of the first analog switch and the second analog switch may be output from the clock signal control circuit.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路と、を有する表示装置で
あって、
前記ソース信号線駆動回路は、シフトレジスタと、第1のラッチと、第2のラ
ッチと、タイミング信号制御回路とを有しており、
前記シフトレジスタから出力されたタイミング信号が前記タイミング信号制御
回路を介して前記第1のラッチに入力され、
前記第1のラッチに入力された前記タイミング信号によって、前記第1のラッ
チにデジタルビデオ信号が入力されて保持され、
ラッチ信号によって、前記第1のラッチに保持されたデジタルビデオ信号が前
記第2のラッチに入力されて保持され、
前記第2のラッチに入力されて保持されたデジタルビデオ信号は、前記複数の
画素に入力され、
前記タイミング信号制御回路は、一定の期間、前記シフトレジスタから出力さ
れた前記タイミング信号の代わりに、一定の固定電位を前記第1のラッチに与え
ることで、前記第1のラッチに入力して保持するデジタルビデオ信号のビット数
を減らしていることを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
The source signal line driver circuit includes a shift register, a first latch, a second latch, and a timing signal control circuit.
The timing signal output from the shift register is input to the first latch via the timing signal control circuit,
According to the timing signal input to the first latch, a digital video signal is input and held in the first latch,
The digital video signal held in the first latch is input and held in the second latch by the latch signal,
The digital video signal input and held in the second latch is input to the plurality of pixels,
The timing signal control circuit inputs and holds the first latch by supplying a constant fixed potential to the first latch instead of the timing signal output from the shift register for a certain period. There is provided a display device characterized in that the number of bits of the digital video signal to be reduced is reduced.

前記タイミング信号制御回路はNANDとインバーターとを有しており、
前記NANDにタイミング信号と選択信号とが入力され、
前記NANDから出力された信号は前記インバーターを介して前記タイミング
信号制御回路から出力されることを特徴としていても良い。
The timing signal control circuit has a NAND and an inverter,
A timing signal and a selection signal are input to the NAND,
The signal output from the NAND may be output from the timing signal control circuit via the inverter.

前記タイミング信号制御回路は第1のアナログスイッチと、第2のアナログス
イッチと、インバーターとを有しており、
前記インバーターを介して、前記第1のアナログスイッチの第2の制御入力端
子及び前記第2のアナログスイッチの第1の制御入力端子に選択信号が入力され

前記第1のアナログスイッチの第1の制御入力端子及び前記第2のアナログス
イッチの第2の制御入力端子に選択信号が入力され、
前記第1のアナログスイッチの入力端子にタイミング信号が入力され、
前記第2のアナログスイッチの入力端子に固定電位が与えられ、
前記第1のアナログスイッチ及び前記第2のアナログスイッチの出力端子から
出力された信号は、前記タイミング信号制御回路から出力されることを特徴とし
ていても良い。
The timing signal control circuit includes a first analog switch, a second analog switch, and an inverter.
A selection signal is input to the second control input terminal of the first analog switch and the first control input terminal of the second analog switch via the inverter.
A selection signal is input to the first control input terminal of the first analog switch and the second control input terminal of the second analog switch,
A timing signal is input to an input terminal of the first analog switch;
A fixed potential is applied to an input terminal of the second analog switch;
The signals output from the output terminals of the first analog switch and the second analog switch may be output from the timing signal control circuit.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有する表示装置であ
って、
前記ソース信号線駆動回路は、シフトレジスタと、第1のラッチと、第2のラ
ッチと、スタートパルス信号制御回路とを有しており、
前記スタートパルス信号制御回路を介してスタートパルス信号が前記シフトレ
ジスタに入力されることによって、前記シフトレジスタからタイミング信号が出
力され、
前記タイミング信号によって前記第1のラッチにデジタルビデオ信号が入力さ
れて保持され、
ラッチ信号によって、前記第1のラッチに保持されたデジタルビデオ信号が前
記第2のラッチに入力されて保持され、
前記第2のラッチに入力されて保持されたデジタルビデオ信号は、前記複数の
画素に入力され、
前記スタートパルス信号制御回路は、一定の期間、前記スタートパルス信号の
代わりに、一定の固定電位を前記シフトレジスタに与えることで、前記第1のラ
ッチに入力して保持するデジタルビデオ信号のビット数を減らしていることを特
徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit,
The source signal line driver circuit includes a shift register, a first latch, a second latch, and a start pulse signal control circuit.
When a start pulse signal is input to the shift register via the start pulse signal control circuit, a timing signal is output from the shift register,
A digital video signal is input and held in the first latch by the timing signal,
The digital video signal held in the first latch is input and held in the second latch by the latch signal,
The digital video signal input and held in the second latch is input to the plurality of pixels,
The start pulse signal control circuit supplies a constant fixed potential to the shift register instead of the start pulse signal for a certain period, thereby inputting the number of bits of the digital video signal to be held in the first latch There is provided a display device that is characterized in that

前記スタートパルス信号制御回路はNANDとインバーターとを有しており、
前記NANDにスタートパルス信号と選択信号とが入力され、
前記NANDから出力された信号は前記インバーターを介して前記スタートパ
ルス信号制御回路から出力されることを特徴としていても良い。
The start pulse signal control circuit has a NAND and an inverter,
A start pulse signal and a selection signal are input to the NAND,
The signal output from the NAND may be output from the start pulse signal control circuit via the inverter.

前記スタートパルス信号制御回路は第1のアナログスイッチと、第2のアナロ
グスイッチと、インバーターとを有しており、
前記インバーターを介して、前記第1のアナログスイッチの第2の制御入力端
子及び前記第2のアナログスイッチの第1の制御入力端子に選択信号が入力され

前記第1のアナログスイッチの第1の制御入力端子及び前記第2のアナログス
イッチの第2の制御入力端子に選択信号が入力され、
前記第1のアナログスイッチの入力端子にスタートパルス信号が入力され、
前記第2のアナログスイッチの入力端子に固定電位が与えられ、
前記第1のアナログスイッチ及び前記第2のアナログスイッチの出力端子から
出力された信号は、前記スタートパルス信号制御回路から出力されることを特徴
としていても良い。
The start pulse signal control circuit includes a first analog switch, a second analog switch, and an inverter.
A selection signal is input to the second control input terminal of the first analog switch and the first control input terminal of the second analog switch via the inverter.
A selection signal is input to the first control input terminal of the first analog switch and the second control input terminal of the second analog switch,
A start pulse signal is input to an input terminal of the first analog switch;
A fixed potential is applied to an input terminal of the second analog switch;
The signals output from the output terminals of the first analog switch and the second analog switch may be output from the start pulse signal control circuit.

本発明によって、
複数の発光素子を有する複数の画素と、モニター用発光素子とを有する表示装
置であって、前記モニター用発光素子の温度特性を用いて前記複数の発光素子を
流れる電流の大きさを一定に保つことを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a plurality of pixels each having a plurality of light-emitting elements and a monitor light-emitting element, and maintaining a constant magnitude of a current flowing through the plurality of light-emitting elements using temperature characteristics of the monitor light-emitting elements. A display device is provided.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、電源供給線と、バッファアンプと、モニター用
発光素子と、定電流源とを有する表示装置であって、
前記複数の画素は薄膜トランジスタと発光素子をそれぞれ有しており、
前記モニター用発光素子及び前記発光素子は第1の電極と、第2の電極と、前
記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた有機化合物層とをそれぞれ有
しており、
前記モニター用発光素子の第1の電極と前記定電流源とは接続されており、
前記モニター用発光素子の第1の電極と前記バッファアンプの非反転入力端子
が接続されており、
前記バッファアンプの出力端子は前記電源供給線に接続されており、
前記電源供給線の電位は前記薄膜トランジスタを介して前記発光素子の第1の
電極に与えられていることを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels, a power supply line, a buffer amplifier, a monitor light emitting element, and a constant current source,
The plurality of pixels each have a thin film transistor and a light emitting element,
The monitor light-emitting element and the light-emitting element each have a first electrode, a second electrode, and an organic compound layer provided between the first electrode and the second electrode. ,
The first electrode of the monitor light emitting element and the constant current source are connected,
A first electrode of the monitor light emitting element and a non-inverting input terminal of the buffer amplifier are connected;
The output terminal of the buffer amplifier is connected to the power supply line,
A display device is provided in which the potential of the power supply line is supplied to the first electrode of the light-emitting element through the thin film transistor.

本発明によって、
複数の画素を有する画素部と、電源供給線と、バッファアンプと、モニター用
発光素子と、定電流源と、加算回路とを有する表示装置であって、
前記複数の画素は薄膜トランジスタと発光素子をそれぞれ有しており、
前記モニター用発光素子及び前記発光素子は第1の電極と、第2の電極と、前
記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた有機化合物層とをそれぞれ有
しており、
前記モニター用発光素子の第1の電極と前記定電流源とは接続されており、
前記モニター用発光素子の第1の電極と前記バッファアンプの非反転入力端子
が接続されており、
前記バッファアンプの出力端子は加算回路の入力端子に接続されており、
前記加算回路の出力端子は前記電源供給線に接続されており、
前記加算回路の入力端子と出力端子とは、常に一定の電位差を有しており、
前記電源供給線の電位は前記薄膜トランジスタを介して前記発光素子の第1の
電極に与えられていることを特徴とする表示装置が提供される。
According to the present invention,
A display device having a pixel portion having a plurality of pixels, a power supply line, a buffer amplifier, a monitor light emitting element, a constant current source, and an adder circuit,
The plurality of pixels each have a thin film transistor and a light emitting element,
The monitor light-emitting element and the light-emitting element each have a first electrode, a second electrode, and an organic compound layer provided between the first electrode and the second electrode. ,
The first electrode of the monitor light emitting element and the constant current source are connected,
A first electrode of the monitor light emitting element and a non-inverting input terminal of the buffer amplifier are connected;
The output terminal of the buffer amplifier is connected to the input terminal of the adder circuit,
An output terminal of the adder circuit is connected to the power supply line;
The input terminal and output terminal of the adder circuit always have a constant potential difference,
A display device is provided in which the potential of the power supply line is supplied to the first electrode of the light-emitting element through the thin film transistor.

本発明は、前記表示装置を用いることを特徴とするビデオカメラ、画像再生装
置、ヘッドマウントディスプレイ、携帯電話または携帯情報端末であっても良い
The present invention may be a video camera, an image reproducing device, a head mounted display, a mobile phone, or a portable information terminal using the display device.

本発明の第1の構成によって、発光素子に流れる電流の大きさをある程度抑え
ることができ、発光装置の消費電力を抑えることができる。また本発明の第2の
構成によって、画素に入力されるデジタルビデオ信号のビット数が少なくなるの
で、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路によってデジタルビデオ信
号が画素に書き込まれる回数が少なくなる。そのためソース信号線駆動回路及び
ゲート信号線駆動回路の消費電力を抑えることができ、発光装置の消費電力も抑
えることができる。また本発明の第3の構成によって、有機化合物層の温度が変
化しても発光素子を流れる電流の大きさを一定に保つことができる。よって発光
装置の環境温度が上昇し、発光装置の消費電力が大きくなるのを抑えることがで
きる。
According to the first configuration of the present invention, the magnitude of the current flowing through the light emitting element can be suppressed to some extent, and the power consumption of the light emitting device can be suppressed. In addition, since the number of bits of the digital video signal input to the pixel is reduced by the second configuration of the present invention, the number of times the digital video signal is written to the pixel by the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit is reduced. . Therefore, power consumption of the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit can be suppressed, and power consumption of the light-emitting device can also be suppressed. In addition, according to the third configuration of the present invention, the magnitude of the current flowing through the light emitting element can be kept constant even when the temperature of the organic compound layer changes. Therefore, it is possible to suppress an increase in the environmental temperature of the light emitting device and an increase in power consumption of the light emitting device.

本発明は上述した第1から第3の構成によって、発光装置及び該発光装置を用
いた電子機器の消費電力を抑えることが可能である。なお本発明は、第1から第
3の構成のいずれか1つを有していればよい。また第1から第3の構成のうちの
複数の構成を有していても良いし、全てを有していても良い。
According to the first to third configurations of the present invention, the power consumption of the light emitting device and the electronic device using the light emitting device can be suppressed. Note that the present invention only needs to have one of the first to third configurations. Moreover, you may have a some structure of 1st to 3rd structures, and may have all.

(実施の形態1)
本発明の第1の構成について説明する。本発明の第1の構成を有する発光装置
のブロック図を、図1に示す。
(Embodiment 1)
The first configuration of the present invention will be described. A block diagram of a light emitting device having the first configuration of the present invention is shown in FIG.

101は画素部であり、複数の画素がマトリクス状に設けられている。102
はソース信号線駆動回路であって、103はゲート信号線駆動回路である。
Reference numeral 101 denotes a pixel portion, and a plurality of pixels are provided in a matrix. 102
Is a source signal line driving circuit, and 103 is a gate signal line driving circuit.

ソース信号線駆動回路102はシフトレジスタ102−1、ラッチ(A)10
2−2、ラッチ(B)102−3、切り替え回路102−4を有している。なお
本発明のソース信号線駆動回路は、上述したものの他にレベルシフトやバッファ
等を有していても良い。
The source signal line driver circuit 102 includes a shift register 102-1 and a latch (A) 10
2-2, latch (B) 102-3, and switching circuit 102-4. Note that the source signal line driver circuit of the present invention may have a level shift, a buffer, and the like in addition to the above.

また図示しないが、ゲート信号線駆動回路103はシフトレジスタ、バッファ
を有している。また場合によっては、シフトレジスタ、バッファの他にレベルシ
フトを有していても良い。ゲート信号線には、1ライン分の画素TFTのゲート
電極が接続されており、1ライン分全ての画素TFTを同時にONにしなくては
ならないので、バッファは大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。
Although not shown, the gate signal line driver circuit 103 includes a shift register and a buffer. In some cases, a level shift may be provided in addition to the shift register and the buffer. The gate signal line is connected to the gate electrode of the pixel TFT for one line, and all the pixel TFTs for one line must be turned on at the same time, so that the buffer can flow a large current. Used.

ソース信号線駆動回路102において、シフトレジスタ102−1にクロック
信号(CLK)およびスタートパルス(SP)が入力される。シフトレジスタ1
02−1は、これらのクロック信号(CLK)およびスタートパルス(SP)に
基づきタイミング信号を順に発生させ、後段の回路へタイミング信号を順次供給
する。
In the source signal line driver circuit 102, a clock signal (CLK) and a start pulse (SP) are input to the shift register 102-1. Shift register 1
02-1 sequentially generates timing signals based on the clock signal (CLK) and the start pulse (SP), and sequentially supplies the timing signals to the subsequent circuit.

なお、シフトレジスタ102−1から出力されるタイミング信号をバッファ等
(図示せず)を通して後段の回路へタイミング信号を順次供給しても良い。シフ
トレジスタ102−1からのタイミング信号は、バッファ等によって緩衝増幅さ
れる。タイミング信号が供給される配線には、多くの回路あるいは素子が接続さ
れているために負荷容量(寄生容量)が大きい。この負荷容量が大きいために生
ずるタイミング信号の立ち上がりまたは立ち下がりの”鈍り”を防ぐために、こ
のバッファが設けられる。
Note that the timing signal output from the shift register 102-1 may be sequentially supplied to a subsequent circuit through a buffer or the like (not shown). The timing signal from the shift register 102-1 is buffered and amplified by a buffer or the like. Since many circuits or elements are connected to the wiring to which the timing signal is supplied, the load capacitance (parasitic capacitance) is large. This buffer is provided in order to prevent “blunting” of the rising edge or falling edge of the timing signal caused by the large load capacity.

シフトレジスタ102−1から出力されたタイミング信号は、ラッチ(A)1
02−2に供給される。ラッチ(A)102−2は、nビットのデジタルビデオ
信号(n bit digital video signals)を処理する複数のステージのラッチを有
している。ラッチ(A)102−2は、前記タイミング信号が入力されると、ソ
ース信号線駆動回路102の外部から供給されるnビットのデジタルビデオ信号
を順次取り込み、保持する。
The timing signal output from the shift register 102-1 is latched (A) 1
02-2. The latch (A) 102-2 has a plurality of stages of latches for processing n-bit digital video signals. When the timing signal is input, the latch (A) 102-2 sequentially captures and holds n-bit digital video signals supplied from the outside of the source signal line driver circuit 102.

なお、ラッチ(A)102−2にデジタルビデオ信号を取り込む際に、ラッチ
(A)102−2が有する複数のステージのラッチに、順にデジタルビデオ信号
を入力しても良い。しかし本発明はこの構成に限定されない。ラッチ(A)10
2−2が有する複数のステージのラッチをいくつかのグループに分け、グループ
ごとに並行して同時にデジタルビデオ信号を入力する、いわゆる分割駆動を行っ
ても良い。なおこのときのグループの数を分割数と呼ぶ。例えば4つのステージ
ごとにラッチをグループに分けた場合、4分割で分割駆動すると言う。
Note that when the digital video signal is taken into the latch (A) 102-2, the digital video signal may be sequentially input to the latches of a plurality of stages included in the latch (A) 102-2. However, the present invention is not limited to this configuration. Latch (A) 10
A so-called divided drive may be performed in which latches of a plurality of stages of 2-2 are divided into several groups, and digital video signals are input simultaneously in parallel for each group. Note that the number of groups at this time is called the number of divisions. For example, when the latches are divided into groups for every four stages, it is said that the driving is divided into four.

ラッチ(A)102−2の全てのステージのラッチにデジタルビデオ信号の書
き込みが一通り終了するまでの期間を、ライン期間と呼ぶ。すなわち、ラッチ(
A)102−2中で一番左側のステージのラッチにデジタルビデオ信号の書き込
みが開始される時点から、一番右側のステージのラッチにデジタルビデオ信号の
書き込みが終了する時点までの時間間隔がライン期間である。実際には、上記ラ
イン期間に水平帰線期間が加えられた期間をライン期間に含むことがある。
A period until writing of digital video signals to all the latches of the latch (A) 102-2 is called a line period. That is, the latch (
A) A time interval from the time when writing of the digital video signal is started to the leftmost stage latch in 102-2 to the time when writing of the digital video signal is finished to the rightmost stage latch is a line. It is a period. Actually, the line period may include a period obtained by adding a horizontal blanking period to the line period.

1ライン期間が終了すると、ラッチ(B)102−3にラッチ信号(Latch Si
gnals)が供給される。この瞬間、ラッチ(A)102−2に書き込まれ保持さ
れているデジタルビデオ信号は、ラッチ(B)102−3に一斉に送出され、ラ
ッチ(B)102−3の全ステージのラッチに書き込まれ、保持される。
When one line period ends, the latch signal (Latch Si) is sent to the latch (B) 102-3.
gnals) is supplied. At this moment, the digital video signal written and held in the latch (A) 102-2 is sent all at once to the latch (B) 102-3 and written to all the latches of the latch (B) 102-3. , Retained.

デジタルビデオ信号をラッチ(B)102−3に送出し終えたラッチ(A)1
02−2には、シフトレジスタ102−1からのタイミング信号に基づき、再び
ソース信号線駆動回路102の外部から供給されるデジタルビデオ信号の書き込
みが順次行われる。
Latch (A) 1 that has finished sending the digital video signal to latch (B) 102-3
In 02-2, digital video signals supplied from the outside of the source signal line driver circuit 102 are sequentially written again based on the timing signal from the shift register 102-1.

この2順目の1ライン期間中には、ラッチ(B)102−2に書き込まれ保持
されているデジタルビデオ信号が、一斉に切り替え回路102−4に入力される
。切り替え回路102−4は、切り替え信号(Shift Signals)によって、ラッ
チ(B)102−2から入力されたデジタルビデオ信号の極性を反転させて、も
しくは反転させずに出力する。
During the second line of one line, the digital video signals written and held in the latch (B) 102-2 are input to the switching circuit 102-4 all at once. The switching circuit 102-4 inverts the polarity of the digital video signal input from the latch (B) 102-2 according to the switching signal (Shift Signals) or outputs the inverted signal.

デジタルビデオ信号は「0」または「1」の情報を有しており、「0」と「1
」のデジタルビデオ信号は、一方がHi、一方がLoの電圧を有する信号である
。デジタルビデオ信号の極性を反転させるとは、「0」の情報を有するデジタル
ビデオ信号を「1」の情報を有するデジタルビデオ信号に変換し、「1」の情報
を有するデジタルビデオ信号を「0」の情報を有するデジタルビデオ信号に変換
することを意味する。
The digital video signal has information of “0” or “1”, and “0” and “1”
”Is a signal having a voltage of one Hi and one Lo. The inversion of the polarity of the digital video signal means that a digital video signal having information “0” is converted into a digital video signal having information “1”, and the digital video signal having information “1” is converted to “0”. It is converted into a digital video signal having the following information.

なお切り替え信号は、ラッチ(B)102−2から入力されたデジタルビデオ
信号の極性を反転させるか、させないかを選択する信号である。1フレーム期間
中における全ての発光素子の発光する期間の長さの平均が、画素部101に全白
を表示させたときの1フレーム期間中における発光素子の発光する期間の長さの
半分よりも長くなったとき、切り替え信号によってデジタルビデオ信号の極性を
反転させることで、消費電力を低減できる。逆に、1フレーム期間中における全
ての発光素子の発光する期間の長さの平均が、画素部101に全白を表示させた
ときの1フレーム期間中における発光素子の発光する期間の長さの半分よりも短
くなったとき、切り替え信号によってデジタルビデオ信号の極性を反転させない
方が消費電力を抑えることができる。
The switching signal is a signal for selecting whether to invert the polarity of the digital video signal input from the latch (B) 102-2. The average length of the light emission period of all the light emitting elements in one frame period is more than half the length of the light emission period of the light emitting elements in one frame period when all white is displayed on the pixel portion 101. When it becomes longer, the power consumption can be reduced by inverting the polarity of the digital video signal by the switching signal. On the other hand, the average length of the light emission periods of all the light emitting elements in one frame period is the length of the light emission period of the light emitting elements in one frame period when all white is displayed on the pixel portion 101. When the length is shorter than half, the power consumption can be reduced if the polarity of the digital video signal is not inverted by the switching signal.

なお、切り替え信号によってデジタルビデオ信号の極性を反転させるかさせな
いかは、使用者が選択しても良いし、表示される画像によって自動的に選択され
るようにしても良い。
Whether the polarity of the digital video signal is inverted by the switching signal may be selected by the user or may be automatically selected according to the displayed image.

切り替え回路102−4から出力されたデジタルビデオ信号は、ソース信号線
に入力される。
The digital video signal output from the switching circuit 102-4 is input to the source signal line.

一方、ゲート信号線駆動回路103において、シフトレジスタ(図示せず)か
らのゲート信号がバッファ(図示せず)に入力され、対応するゲート信号線(走
査線とも呼ぶ)に入力される。
On the other hand, in the gate signal line driver circuit 103, a gate signal from a shift register (not shown) is inputted to a buffer (not shown) and inputted to a corresponding gate signal line (also called a scanning line).

ゲート信号線に入力されたゲート信号によって、ソース信号線に入力されたデ
ジタルビデオ信号が画素に入力される。
The digital video signal input to the source signal line is input to the pixel by the gate signal input to the gate signal line.

なお本発明において、ソース信号線駆動回路102とゲート信号線駆動回路1
03は、画素部101と同じ基板上に形成されていても良いし、ICチップ上に
形成してFPCやTAB等を介して画素部101と接続されていても良い。
In the present invention, the source signal line driver circuit 102 and the gate signal line driver circuit 1
03 may be formed on the same substrate as the pixel portion 101, or may be formed on an IC chip and connected to the pixel portion 101 via FPC, TAB, or the like.

本実施の形態の上記構成によって、デジタル駆動の時分割階調表示を行う発光
装置がモノクロの表示を行う場合、画素部に表示される画像によって画像の明暗
を反転させることができる。具体的には、1フレーム期間中における全ての発光
素子の発光する期間の長さの平均が、画素部101に全白を表示させたときの1
フレーム期間中における発光素子の発光する期間の長さの半分よりも長くなるよ
うな場合、画素部に表示される画像の明暗を反転させれば良い。逆に、1フレー
ム期間中における全ての発光素子の発光する期間の長さの平均が、画素部101
に全白を表示させたときの1フレーム期間中における発光素子の発光する期間の
長さの半分よりも短くなったときは、画素部に表示される画像の明暗を反転させ
ない方がよい。
With the above structure of this embodiment mode, when a light-emitting device that performs digital-driven time-division gradation display performs monochrome display, light and darkness of an image can be reversed by an image displayed in a pixel portion. Specifically, the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is 1 when all white is displayed on the pixel portion 101.
When it is longer than half the length of the light emitting element during the frame period, the brightness and darkness of the image displayed on the pixel portion may be reversed. On the other hand, the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is the pixel portion 101.
It is better not to reverse the brightness of the image displayed in the pixel portion when it becomes shorter than half the length of the light emitting period of the light emitting element in one frame period when all white is displayed.

なお、本実施の形態では、ソース信号線駆動回路の中に切り変え回路が含まれ
ている構成を有しているが、切り変え回路はソース信号線駆動回路に含まれてい
なくても良い。
Note that in this embodiment, the switching circuit is included in the source signal line driver circuit, but the switching circuit may not be included in the source signal line driver circuit.

また、本実施の形態ではデジタルビデオ信号を用いた場合についてのみ説明し
たが、本発明はデジタルビデオ信号だけではなく、アナログのビデオ信号にも適
用することが可能である。
In this embodiment, only the case of using a digital video signal has been described. However, the present invention can be applied not only to a digital video signal but also to an analog video signal.

よって、本発明の第1の構成によって発光素子に流れる電流の大きさをある程
度抑えることができ、発光装置の消費電力を抑えることができる。
Therefore, with the first structure of the present invention, the magnitude of the current flowing through the light emitting element can be suppressed to some extent, and the power consumption of the light emitting device can be suppressed.

(実施の形態2)
次に、本発明の第2の構成について説明する。本発明の第2の構成を有する発
光装置のブロック図を、図2に示す。なお図1で示したものと同じものは、図1
と同じ符号で示す。
(Embodiment 2)
Next, the second configuration of the present invention will be described. FIG. 2 shows a block diagram of a light emitting device having the second configuration of the present invention. 1 is the same as that shown in FIG.
The same reference numerals are used.

本実施の形態の発光装置は、クロック信号制御回路106によって、クロック
信号(CLK)の代わりに、一定の電位をシフトレジスタ102−1に与えるこ
とを可能にした。
In the light-emitting device of this embodiment mode, the clock signal control circuit 106 can supply a constant potential to the shift register 102-1 instead of the clock signal (CLK).

具体的には、クロック信号制御回路106によって、一定の期間クロック信号
の代わりに一定の電位(固定電位)をシフトレジスタ102−1に入力するよう
にした。上記構成により、1〜mビット目(mは1からnまでの任意の整数)ま
での下位ビットのデジタルビデオ信号を、ラッチ(A)102−2に書き込むた
めのタイミング信号が、ラッチ(A)102−2に入力しないようにした。よっ
てソース信号線駆動回路102の外部から入力されたデジタルビデオ信号nビッ
トのうち、(m+1)ビット目からnビット目までの上位ビットのデジタルビデ
オ信号のみをラッチ(A)102−2に書き込むことができる。
Specifically, the clock signal control circuit 106 inputs a fixed potential (fixed potential) to the shift register 102-1 instead of the clock signal for a fixed period. With the above configuration, the timing signal for writing the digital video signal of the lower bits from the 1st to mth bits (m is an arbitrary integer from 1 to n) to the latch (A) 102-2 is latched (A). It was made not to input into 102-2. Therefore, of the digital video signal n bits input from the outside of the source signal line driver circuit 102, only the higher-order digital video signal from the (m + 1) th bit to the nth bit is written to the latch (A) 102-2. Can do.

なお本実施の形態の発光装置は、図1とは異なり、ソース信号線駆動回路10
2が切り替え回路102−4を有していない。そのため、ラッチ(B)102−
3に書き込まれて保持されているデジタルビデオ信号は、ラッチ(B)102−
3に入力されるラッチ信号によってソース信号線に入力される。
Note that the light-emitting device of this embodiment differs from that in FIG.
2 does not have the switching circuit 102-4. Therefore, latch (B) 102-
3 is held in the latch (B) 102-
3 is input to the source signal line by the latch signal input to 3.

本実施の形態では、デジタル駆動の時分割階調表示を行う発光装置において、
発光装置が有するソース信号線駆動回路に入力されたデジタルビデオ信号を、そ
のビット数を落としてから画素部に入力している。具体的には、最下位ビットの
デジタルビデオ信号から順に切り捨てることによって、画素部に入力されるデジ
タルビデオ信号のビット数を落としてゆく。
In this embodiment mode, in a light-emitting device that performs digital-driven time-division gradation display,
The digital video signal input to the source signal line driver circuit included in the light emitting device is input to the pixel portion after the number of bits is reduced. Specifically, the number of bits of the digital video signal input to the pixel portion is decreased by sequentially discarding the digital video signal of the least significant bit.

上記構成によって、画素に入力されるデジタルビデオ信号のビット数が少なく
なるので、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路によってデジタルビ
デオ信号が画素に書き込まれる回数が少なくなる。そのためソース信号線駆動回
路及びゲート信号線駆動回路の消費電力を抑えることができ、発光装置の消費電
力も抑えることができる。
With the above structure, the number of bits of the digital video signal input to the pixel is reduced, so that the number of times the digital video signal is written to the pixel by the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit is reduced. Therefore, power consumption of the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit can be suppressed, and power consumption of the light-emitting device can also be suppressed.

なお本実施の形態において、クロック信号制御回路106は、画素部101と
同じ基板上に形成されていても良いし、ICチップ上に形成されていても良い。
Note that in this embodiment, the clock signal control circuit 106 may be formed over the same substrate as the pixel portion 101 or may be formed over an IC chip.

(実施の形態3)
次に、本発明の第2の構成の、実施の形態2とは異なる例について説明する。
本発明の第2の構成を有する発光装置のブロック図を、図3に示す。なお図1で
示したものと同じものは、図1と同じ符号で示す。
(Embodiment 3)
Next, an example different from the second embodiment of the second configuration of the present invention will be described.
A block diagram of a light emitting device having the second configuration of the present invention is shown in FIG. The same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

本実施の形態の発光装置は、タイミング信号制御回路107によって、シフト
レジスタ102−1から出力されるタイミング信号の代わりに、一定の電位をラ
ッチ(A)102−2に与えることができるようにした。
In the light-emitting device of this embodiment, the timing signal control circuit 107 can supply a constant potential to the latch (A) 102-2 instead of the timing signal output from the shift register 102-1. .

具体的には、タイミング信号制御回路107によって、一定の期間シフトレジ
スタ102−1から出力されるタイミング信号の代わりに、一定の電位(固定電
位)をラッチ(A)102−2に与えるようにした。上記構成により、1〜mビ
ット目(mは1からnまでの任意の整数)までの下位ビットのデジタルビデオ信
号をラッチ(A)102−2に書き込むためのタイミング信号だけがラッチ(A
)102−2に入力しないようにした。よってソース信号線駆動回路102の外
部から入力されたデジタルビデオ信号nビットのうち、m+1ビット目からnビ
ット目までの上位ビットのデジタルビデオ信号のみをラッチ(A)102−2に
書き込むことができる。
Specifically, the timing signal control circuit 107 applies a fixed potential (fixed potential) to the latch (A) 102-2 instead of the timing signal output from the shift register 102-1 for a fixed period. . With the above configuration, only the timing signal for writing the digital video signal of the lower bits from the 1st to mth bits (m is an arbitrary integer from 1 to n) to the latch (A) 102-2 is latched (A
) Do not input to 102-2. Therefore, among the n bits of the digital video signal input from the outside of the source signal line driver circuit 102, only the upper bit digital video signals from the (m + 1) th bit to the nth bit can be written to the latch (A) 102-2. .

なお本実施の形態において固定電位は、ラッチ(A)102−2にデジタルビ
デオ信号が書き込まれないような電位であることが必要である。
Note that in this embodiment mode, the fixed potential needs to be a potential at which a digital video signal is not written to the latch (A) 102-2.

本実施の形態では、デジタル駆動の時分割階調表示を行う発光装置において、
発光装置が有するソース信号線駆動回路に入力されたデジタルビデオ信号を、そ
のビット数を落としてから画素部に入力している。具体的には、最下位ビットの
デジタルビデオ信号から順に切り捨てることによって、画素部に入力されるデジ
タルビデオ信号のビット数を落としてゆく。
In this embodiment mode, in a light-emitting device that performs digital-driven time-division gradation display,
The digital video signal input to the source signal line driver circuit included in the light emitting device is input to the pixel portion after the number of bits is reduced. Specifically, the number of bits of the digital video signal input to the pixel portion is decreased by sequentially discarding the digital video signal of the least significant bit.

上記構成によって、画素に入力されるデジタルビデオ信号のビット数が少なく
なるので、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路によってデジタルビ
デオ信号が画素に書き込まれる回数が少なくなる。そのためソース信号線駆動回
路及びゲート信号線駆動回路の消費電力を抑えることができ、発光装置の消費電
力も抑えることができる。
With the above structure, the number of bits of the digital video signal input to the pixel is reduced, so that the number of times the digital video signal is written to the pixel by the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit is reduced. Therefore, power consumption of the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit can be suppressed, and power consumption of the light-emitting device can also be suppressed.

なお本実施の形態において、タイミング信号制御回路107は、画素部101
と同じ基板上に形成されていても良いし、ICチップ上に形成されていても良い
Note that in this embodiment mode, the timing signal control circuit 107 includes the pixel portion 101.
It may be formed on the same substrate as that described above, or may be formed on an IC chip.

(実施の形態4)
次に、本発明の第2の構成の、実施の形態2及び3とは異なる例について説明
する。本発明の第2の構成を有する発光装置のブロック図を、図4に示す。なお
図1で示したものと同じものは、図1と同じ符号で示す。
(Embodiment 4)
Next, an example of the second configuration of the present invention that is different from the second and third embodiments will be described. A block diagram of a light emitting device having the second configuration of the present invention is shown in FIG. The same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

本実施の形態の発光装置は、スタートパルス信号制御回路108によって、ス
タートパルス信号(SP)の代わりに、一定の電位をシフトレジスタ102−1
に与えることができるようにした。
In the light-emitting device of this embodiment, the start pulse signal control circuit 108 applies a constant potential instead of the start pulse signal (SP) to the shift register 102-1.
To be able to give to.

具体的には、1〜mビット目(mは1からnまでの任意の整数)までの下位ビ
ットのデジタルビデオ信号をラッチ(A)102−2に書き込むためのタイミン
グ信号だけがラッチ(A)102−2に入力しないように、スタートパルス信号
制御回路108によってスタートパルス信号の代わりに一定の電位(固定電位)
を一定の期間シフトレジスタ102−1に与えるようにした。よってソース信号
線駆動回路102の外部から入力されたデジタルビデオ信号nビットのうち、(
m+1)ビット目からnビット目までの上位ビットのデジタルビデオ信号のみを
ラッチ(A)102−2に書き込むことができる。
Specifically, only the timing signal for writing the digital video signal of the lower bits from the 1st to mth bits (m is an arbitrary integer from 1 to n) to the latch (A) 102-2 is latched (A). A constant potential (fixed potential) is used instead of the start pulse signal by the start pulse signal control circuit 108 so that it is not input to 102-2.
Is supplied to the shift register 102-1 for a certain period. Therefore, of the n bits of the digital video signal input from the outside of the source signal line driver circuit 102, (
Only the digital video signals of the upper bits from the (m + 1) th bit to the nth bit can be written to the latch (A) 102-2.

なお本実施の形態において固定電位は、シフトレジスタ102−1からタイミ
ング信号が出力されないような電位であることが必要である。
Note that in this embodiment mode, the fixed potential needs to be a potential at which a timing signal is not output from the shift register 102-1.

本実施の形態では、デジタル駆動の時分割階調表示を行う発光装置において、
発光装置が有するソース信号線駆動回路に入力されたデジタルビデオ信号を、そ
のビット数を落としてから画素部に入力している。具体的には、最下位ビットの
デジタルビデオ信号から順に切り捨てることによって、画素部に入力されるデジ
タルビデオ信号のビット数を落としてゆく。
In this embodiment mode, in a light-emitting device that performs digital-driven time-division gradation display,
The digital video signal input to the source signal line driver circuit included in the light emitting device is input to the pixel portion after the number of bits is reduced. Specifically, the number of bits of the digital video signal input to the pixel portion is decreased by sequentially discarding the digital video signal of the least significant bit.

上記構成によって、画素に入力されるデジタルビデオ信号のビット数が少なく
なるので、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路によってデジタルビ
デオ信号が画素に書き込まれる回数が少なくなる。そのためソース信号線駆動回
路及びゲート信号線駆動回路の消費電力を抑えることができ、発光装置の消費電
力も抑えることができる。
With the above structure, the number of bits of the digital video signal input to the pixel is reduced, so that the number of times the digital video signal is written to the pixel by the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit is reduced. Therefore, power consumption of the source signal line driver circuit and the gate signal line driver circuit can be suppressed, and power consumption of the light-emitting device can also be suppressed.

なお本実施の形態において、スタートパルス信号制御回路108は、画素部1
01と同じ基板上に形成されていても良いし、ICチップ上に形成されていても
良い。
Note that in this embodiment, the start pulse signal control circuit 108 includes the pixel portion 1
It may be formed on the same substrate as 01, or may be formed on an IC chip.

(実施の形態5)
次に、本発明の第3の構成について図5を用いて説明する。501は電源供給
線を示している。なお本明細書において電源供給線は、ソース信号線に入力され
るデジタルビデオ信号によって画素部の発光素子が有する画素電極に所定の電位
を与えるための配線である。本明細書では電源供給線の電位を電源電位と呼ぶ。
(Embodiment 5)
Next, a third configuration of the present invention will be described with reference to FIG. Reference numeral 501 denotes a power supply line. Note that in this specification, a power supply line is a wiring for applying a predetermined potential to a pixel electrode included in a light-emitting element of a pixel portion by a digital video signal input to a source signal line. In this specification, the potential of the power supply line is referred to as a power supply potential.

502はバッファアンプ(緩衝増幅器)であり、503はモニター用発光素子
、504は定電流源である。モニター用発光素子503の一方の電極は定電流源
504に接続されており、モニター用発光素子503には常に一定の電流が流れ
ている。そして発光素子が有する有機化合物層の温度が変化すると、モニター用
発光素子503を流れる電流の大きさが変化しないかわりに、定電流源504に
接続されているモニター用発光素子503の電極の電位が変化する。
Reference numeral 502 denotes a buffer amplifier (buffer amplifier), reference numeral 503 denotes a monitor light emitting element, and reference numeral 504 denotes a constant current source. One electrode of the monitor light emitting element 503 is connected to a constant current source 504, and a constant current always flows through the monitor light emitting element 503. When the temperature of the organic compound layer included in the light emitting element is changed, the potential of the electrode of the monitoring light emitting element 503 connected to the constant current source 504 is changed, instead of the magnitude of the current flowing through the monitoring light emitting element 503 being changed. Change.

一方バッファアンプ502は2つの入力端子と1つの出力端子とを有しており
、2つの入力端子のうち一方は非反転入力端子(+)、もう一方は反転入力端子
(−)である。モニター用発光素子503の一方の電極の電位は、バッファアン
プ502の非反転入力端子に与えられる。
On the other hand, the buffer amplifier 502 has two input terminals and one output terminal. One of the two input terminals is a non-inverting input terminal (+) and the other is an inverting input terminal (−). The potential of one electrode of the monitoring light emitting element 503 is applied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 502.

バッファアンプ502は、定電流源504に接続されたモニター用発光素子5
03の画素電極の電位が、電源供給線501の配線容量等の負荷によって変化す
るのを防ぐ回路である。よってバッファアンプ502の非反転入力端子に与えら
れた電位は、電源供給線501の配線容量等の負荷によって変化することなく出
力端子から出力され、電源電位として電源供給線に与えられる。
The buffer amplifier 502 includes the monitor light emitting element 5 connected to the constant current source 504.
This is a circuit that prevents the potential of the pixel electrode 03 from being changed by a load such as a wiring capacity of the power supply line 501. Therefore, the potential applied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 502 is output from the output terminal without being changed by a load such as the wiring capacity of the power supply line 501 and is applied to the power supply line as a power supply potential.

よって、環境温度の変化により、モニター用発光素子503または画素部の発
光素子の有機化合物層の温度が変化しても、発光素子に一定の電流が流れるよう
に電源電位が変化する。よって発光装置の環境温度が上昇しても、発光装置の消
費電力が大きくなるのを抑えることができる。
Therefore, even if the temperature of the organic light emitting element 503 or the organic compound layer of the light emitting element of the pixel portion changes due to the change of the environmental temperature, the power supply potential changes so that a constant current flows through the light emitting element. Therefore, increase in power consumption of the light emitting device can be suppressed even if the environmental temperature of the light emitting device is increased.

なお本実施の形態において、バッファアンプ502、モニター用発光素子50
3、定電流源504は、画素部と同じ基板上に形成されていても良いし、ICチ
ップ上に形成されていても良い。またモニター用発光素子503は画素部の中に
含まれていても良いし、画素部とは別個に設けても良い。
In this embodiment, the buffer amplifier 502 and the monitor light emitting element 50 are used.
3. The constant current source 504 may be formed on the same substrate as the pixel portion, or may be formed on an IC chip. The monitor light emitting element 503 may be included in the pixel portion or may be provided separately from the pixel portion.

本発明は上述した第1から第3の構成によって、発光装置及び該発光装置を用
いた電子機器の消費電力を抑えることが可能である。なお本発明は、第1から第
3の構成のいずれか1つを有していればよい。また第1から第3の構成のうちの
複数の構成を有していても良いし、全てを有していても良い。
According to the first to third configurations of the present invention, the power consumption of the light emitting device and the electronic device using the light emitting device can be suppressed. Note that the present invention only needs to have one of the first to third configurations. Moreover, you may have a some structure of 1st to 3rd structures, and may have all.

本発明は上記3つの構成によって、発光装置の消費電力を抑えることが可能に
なる。
According to the present invention, the power consumption of the light emitting device can be suppressed by the above three configurations.

以下に、本発明の実施例について説明する。   Examples of the present invention will be described below.

(実施例1)
本実施例では、本発明の発光装置の画素部の構造とその駆動方法について説明
する。
Example 1
In this embodiment, a structure of a pixel portion of a light emitting device of the present invention and a driving method thereof will be described.

本実施例の発光装置の画素部301の拡大図を図6に示す。ソース信号線(S
1〜Sx)、電源供給線(V1〜Vx)、ゲート信号線(G1〜Gy)が画素部
301に設けられている。
An enlarged view of the pixel portion 301 of the light emitting device of this embodiment is shown in FIG. Source signal line (S
1 to Sx), power supply lines (V1 to Vx), and gate signal lines (G1 to Gy) are provided in the pixel portion 301.

本実例の場合、ソース信号線(S1〜Sx)と、電源供給線(V1〜Vx)と
、ゲート信号線(G1〜Gy)とを1つずつ備えた領域が画素304である。画
素部301にはマトリクス状に複数の画素304が配置されることになる。
In this example, the pixel 304 is a region provided with one source signal line (S1 to Sx), one power supply line (V1 to Vx), and one gate signal line (G1 to Gy). A plurality of pixels 304 are arranged in a matrix in the pixel portion 301.

画素304の拡大図を図7に示す。図7において、305はスイッチング用T
FTである。スイッチング用TFT305のゲート電極は、ゲート信号線G(G
1〜Gx)に接続されている。スイッチング用TFT305のソース領域とドレ
イン領域は、一方がソース信号線S(S1〜Sx)に、もう一方が電流制御用T
FT306のゲート電極、各画素が有するコンデンサ308にそれぞれ接続され
ている。
An enlarged view of the pixel 304 is shown in FIG. In FIG. 7, reference numeral 305 denotes a switching T.
FT. The gate electrode of the switching TFT 305 is a gate signal line G (G
1 to Gx). One of the source region and the drain region of the switching TFT 305 is the source signal line S (S1 to Sx), and the other is the current control T.
The gate electrode of the FT 306 is connected to the capacitor 308 included in each pixel.

コンデンサ308はスイッチング用TFT305が非選択状態(オフ状態)に
ある時、電流制御用TFT306のゲート電圧(ゲート電極とソース領域間の電
位差)を保持するために設けられている。なお本実施の形態ではコンデンサ30
8を設ける構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、コンデンサ308
を設けない構成にしても良い。
The capacitor 308 is provided to hold the gate voltage (potential difference between the gate electrode and the source region) of the current control TFT 306 when the switching TFT 305 is in a non-selected state (off state). In this embodiment, the capacitor 30
However, the present invention is not limited to this configuration, and the capacitor 308 is provided.
It is also possible to adopt a configuration in which no is provided.

また、電流制御用TFT306のソース領域とドレイン領域は、一方が電源供
給線V(V1〜Vx)に接続され、もう一方は発光素子307に接続される。電
源供給線Vはコンデンサ308に接続されている。
One of the source region and the drain region of the current control TFT 306 is connected to the power supply line V (V1 to Vx), and the other is connected to the light emitting element 307. The power supply line V is connected to the capacitor 308.

発光素子307は陽極と陰極と、陽極と陰極との間に設けられた有機化合物層
とからなる。陽極が電流制御用TFT306のソース領域またはドレイン領域と
接続している場合、陽極が画素電極、陰極が対向電極となる。逆に陰極が電流制
御用TFT306のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、陰極が
画素電極、陽極が対向電極となる。
The light emitting element 307 includes an anode, a cathode, and an organic compound layer provided between the anode and the cathode. When the anode is connected to the source region or drain region of the current control TFT 306, the anode serves as a pixel electrode and the cathode serves as a counter electrode. Conversely, when the cathode is connected to the source region or drain region of the current control TFT 306, the cathode serves as the pixel electrode and the anode serves as the counter electrode.

発光素子307の対向電極には対向電位が与えられている。また電源供給線V
は電源電位が与えられている。電源電位と対向電位は、本発明の発光装置に、外
付けのIC等により設けられた電源によって与えられる。
A counter potential is applied to the counter electrode of the light emitting element 307. Power supply line V
Is supplied with a power supply potential. The power source potential and the counter potential are supplied to the light emitting device of the present invention by a power source provided by an external IC or the like.

スイッチング用TFT305、電流制御用TFT306は、nチャネル型TF
Tでもpチャネル型TFTでもどちらでも用いることができる。ただし電流制御
用TFT306のソース領域またはドレイン領域が発光素子307の陽極と接続
されている場合、電流制御用TFT306はpチャネル型TFTであることが望
ましい。また、電流制御用TFT306のソース領域またはドレイン領域が発光
素子307の陰極と接続されている場合、電流制御用TFT306はnチャネル
型TFTであることが望ましい。
The switching TFT 305 and the current control TFT 306 are n-channel type TF.
Either T or p-channel TFT can be used. However, when the source region or drain region of the current control TFT 306 is connected to the anode of the light emitting element 307, the current control TFT 306 is preferably a p-channel TFT. In addition, when the source region or the drain region of the current control TFT 306 is connected to the cathode of the light emitting element 307, the current control TFT 306 is preferably an n-channel TFT.

またスイッチング用TFT305、電流制御用TFT306は、シングルゲー
ト構造ではなく、ダブルゲート構造、やトリプルゲート構造などのマルチゲート
構造を有していても良い。
Further, the switching TFT 305 and the current control TFT 306 may have a multi-gate structure such as a double gate structure or a triple gate structure instead of a single gate structure.

次に上述した構成を有する本発明の発光装置の駆動方法について、図8を用い
て説明する。
Next, a driving method of the light emitting device of the present invention having the above-described configuration will be described with reference to FIG.

まず、電源供給線の電源電位は発光素子の対向電極の電位と同じになる。そし
てゲート信号線G1に、ゲート信号線駆動回路からゲート信号が入力される。そ
の結果、ゲート信号線G1に接続されている全ての画素(1ライン目の画素)の
スイッチング用TFT305がオンの状態になる。
First, the power supply potential of the power supply line is the same as the potential of the counter electrode of the light emitting element. A gate signal is input to the gate signal line G1 from the gate signal line driving circuit. As a result, the switching TFTs 305 of all the pixels (pixels on the first line) connected to the gate signal line G1 are turned on.

そして同時に、ソース信号線(S1〜Sx)にソース信号線駆動回路から、1
ビット目のデジタルビデオ信号が入力される。デジタルビデオ信号はスイッチン
グ用TFT305を介して電流制御用TFT306のゲート電極に入力される。
At the same time, the source signal lines (S1 to Sx) 1
The bit-th digital video signal is input. The digital video signal is input to the gate electrode of the current control TFT 306 via the switching TFT 305.

次にG1へのゲート信号の入力が終了すると同時に、ゲート信号線G2に同様
にゲート信号が入力される。そしてゲート信号線G2に接続されている全ての画
素のスイッチング用TFT305がオンの状態になり、2ライン目の画素にソー
ス信号線(S1〜Sx)から1ビット目のデジタルビデオ信号が入力される。
Next, at the same time as the input of the gate signal to G1, the gate signal is similarly input to the gate signal line G2. Then, the switching TFTs 305 of all the pixels connected to the gate signal line G2 are turned on, and the digital video signal of the first bit is input from the source signal lines (S1 to Sx) to the pixels of the second line. .

そして順に、全てのゲート信号線(G1〜Gx)にゲート信号が入力されてい
く。全てのゲート信号線(G1〜Gx)が選択され、全てのラインの画素に1ビ
ット目のデジタルビデオ信号が入力されるまでの期間が書き込み期間Ta1であ
る。
In turn, gate signals are inputted to all the gate signal lines (G1 to Gx). The period until all the gate signal lines (G1 to Gx) are selected and the digital video signal of the first bit is input to the pixels of all the lines is the writing period Ta1.

書込期間Ta1が終了すると次に発光期間Tr1になる。発光期間Tr1では
、電源供給線の電源電位は、電源電位が発光素子の画素電極に与えられたときに
発光素子が発光する程度に、対向電極との間に電位差を有する電位になる。
When the writing period Ta1 ends, the light emission period Tr1 is reached next. In the light emission period Tr1, the power supply potential of the power supply line is a potential having a potential difference with the counter electrode to the extent that the light emitting element emits light when the power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element.

そして本実施例では、デジタルビデオ信号が「0」の情報を有していた場合、
電流制御用TFT306はオフの状態となっている。よって発光素子307の画
素電極には電源電位は与えられない。その結果、「0」の情報を有するデジタル
ビデオ信号が入力された画素が有する発光素子307は発光しない。
In this embodiment, when the digital video signal has information “0”,
The current control TFT 306 is off. Therefore, no power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element 307. As a result, the light-emitting element 307 included in the pixel to which the digital video signal having the information “0” is input does not emit light.

逆に、「1」の情報を有していた場合、電流制御用TFT306はオンの状態
となっている。よって発光素子307の画素電極には電源電位が与えられる。そ
の結果、「1」の情報を有するデジタルビデオ信号が入力された画素が有する発
光素子307は発光する。
On the other hand, when the information “1” is included, the current control TFT 306 is in an on state. Accordingly, a power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element 307. As a result, the light emitting element 307 included in the pixel to which the digital video signal having the information “1” is input emits light.

このように、表示期間Tr1では発光素子307が発光、または非発光の状態
になり、全ての画素は表示を行う。画素が表示を行っている期間を表示期間Tr
と呼ぶ。特に1ビット目のデジタルビデオ信号が画素に入力されたことで開始す
る表示期間をTr1と呼ぶ。図8では説明を簡便にするために、特に1ライン目
の画素の表示期間についてのみ示す。全てのラインの表示期間が開始されるタイ
ミングは同じである。
Thus, in the display period Tr1, the light emitting element 307 emits light or does not emit light, and all the pixels perform display. The period during which the pixel is displaying is the display period Tr
Call it. In particular, a display period that starts when a digital video signal of the first bit is input to the pixel is referred to as Tr1. In FIG. 8, only the display period of the pixels in the first line is shown for the sake of simplicity. The timing at which the display period of all lines is started is the same.

表示期間Tr1が終了すると書込期間Ta2となり、電源供給線の電源電位は
発光素子の対向電極の電位と同じになる。そして書込期間Ta1の場合と同様に
順に全てのゲート信号線が選択され、2ビット目のデジタルビデオ信号が全ての
画素に入力される。全てのラインの画素に2ビット目のデジタルビデオ信号が入
力し終わるまでの期間を、書き込み期間Ta2と呼ぶ。
When the display period Tr1 ends, the writing period Ta2 starts, and the power supply potential of the power supply line becomes the same as the potential of the counter electrode of the light emitting element. In the same manner as in the writing period Ta1, all the gate signal lines are sequentially selected, and the second bit digital video signal is input to all the pixels. A period until the second bit digital video signal is completely input to the pixels of all the lines is referred to as a writing period Ta2.

書込期間Ta2が終了すると表示期間Tr2になり、電源供給線の電源電位は
、電源電位が発光素子の画素電極に与えられたときに発光素子が発光する程度に
、対向電極との間に電位差を有する電位になる。そして全ての画素が表示を行う
When the writing period Ta2 ends, the display period Tr2 starts. The power supply potential of the power supply line is different from that of the counter electrode so that the light emitting element emits light when the power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element. It becomes the electric potential which has. All pixels display.

上述した動作はnビット目のデジタルビデオ信号が画素に入力されるまで繰り
返し行われ、書込期間Taと表示期間Trとが繰り返し出現する。全ての表示期
間(Tr1〜Trn)が終了すると1つの画像を表示することができる。本発明
の駆動方法において、1つの画像を表示する期間を1フレーム期間(F)と呼ぶ
。1フレーム期間が終了すると次のフレーム期間が開始される。そして再び書込
期間Ta1が出現し、上述した動作を繰り返す。
The above-described operation is repeated until the n-th digital video signal is input to the pixel, and the writing period Ta and the display period Tr appear repeatedly. When all the display periods (Tr1 to Trn) are completed, one image can be displayed. In the driving method of the present invention, a period for displaying one image is referred to as one frame period (F). When one frame period ends, the next frame period starts. Then, the writing period Ta1 appears again, and the above-described operation is repeated.

通常の発光装置では1秒間に60以上のフレーム期間を設けることが好ましい
。1秒間に表示される画像の数が60より少なくなると、視覚的に画像のちらつ
きが目立ち始めることがある。
In a normal light emitting device, it is preferable to provide 60 or more frame periods per second. When the number of images displayed per second is less than 60, flickering of images may start to be noticeable visually.

本実施例では、全ての書き込み期間の長さの和が1フレーム期間よりも短く、
なおかつ表示期間の長さ比は、Tr1:Tr2:Tr3:…:Tr(n−1):
Trn=20:21:22:…:2(n-2):2(n-1)となるようにすることが必要で
ある。この表示期間の組み合わせで2n階調のうち所望の階調表示を行うことが
できる。
In this embodiment, the sum of the lengths of all writing periods is shorter than one frame period,
In addition, the length ratio of the display periods is Tr1: Tr2: Tr3:...: Tr (n-1):
It is necessary that Trn = 2 0 : 2 1 : 2 2 :...: 2 (n−2) : 2 (n−1) . A desired gradation display among 2 n gradations can be performed by combining the display periods.

1フレーム期間中に発光素子が発光した表示期間の長さの総和を求めることに
よって、当該フレーム期間におけるその画素の表示した階調がきまる。例えば、
n=8のとき、全部の表示期間で画素が発光した場合の輝度を100%とすると
、Tr1とTr2において画素が発光した場合には1%の輝度が表現でき、Tr
3とTr5とTr8を選択した場合には60%の輝度が表現できる。
By obtaining the sum of the lengths of the display periods during which the light emitting element emits light during one frame period, the gradation displayed by the pixel in the frame period is determined. For example,
When n = 8 and the luminance when the pixel emits light in the entire display period is 100%, the luminance of 1% can be expressed when the pixel emits light in Tr1 and Tr2.
When 3 and Tr5 and Tr8 are selected, 60% luminance can be expressed.

また表示期間Tr1〜Trnは、どのような順序で出現させても良い。例えば
1フレーム期間中において、Tr1の次にTr3、Tr5、Tr2、…という順
序で表示期間を出現させることも可能である。
The display periods Tr1 to Trn may appear in any order. For example, in one frame period, it is possible to cause the display period to appear in the order of Tr3, Tr5, Tr2,.

なお本実施例では、電源供給線の電源電位の高さを書込期間と表示期間とで変
化させていたが、本発明はこれに限定されない。電源電位が発光素子の画素電極
に与えられたときに発光素子が発光する程度の電位差を、電源電位と対向電極の
電位との間に常に有するようにしても良い。その場合、書込期間においても発光
素子を発光させることが可能になる。よって、当該フレーム期間において画素が
表示する階調は、1フレーム期間中に発光素子が発光した書込期間と表示期間の
長さの総和によって決まる。なおこの場合、各ビットのデジタルビデオ信号に対
応する書込期間と表示期間の長さの和の比が、(Ta1+Tr1):(Ta2+
Tr2):(Ta3+Tr3):…:(Ta(n−1)+Tr(n−1)):(
Tan+Trn)=20:21:22:…:2(n-2):2(n-1)となることが必要で
ある。
In this embodiment, the power supply potential of the power supply line is changed between the writing period and the display period. However, the present invention is not limited to this. A potential difference such that the light emitting element emits light when the power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element may be always present between the power supply potential and the potential of the counter electrode. In that case, the light-emitting element can emit light even in the writing period. Therefore, the gray level displayed by the pixel in the frame period is determined by the sum of the length of the writing period and the display period during which the light emitting element emits light during one frame period. In this case, the ratio of the sum of the length of the writing period and the display period corresponding to the digital video signal of each bit is (Ta1 + Tr1) :( Ta2 +
Tr2) :( Ta3 + Tr3): ... :( Ta (n-1) + Tr (n-1)) :(
Tan + Trn) = 2 0 : 2 1 : 2 2 :...: 2 (n−2) : 2 (n−1) .

(実施例2)
本実施例では、本発明の発光装置の画素部の構造とその駆動方法について、実
施例1とは異なる例について説明する。
(Example 2)
In this embodiment, an example different from the first embodiment will be described with respect to the structure of the pixel portion of the light emitting device of the present invention and the driving method thereof.

図9に本実施例の発光装置のブロック図の一例を示す。図9の発光装置は、基
板上に形成されたTFTによって画素部901、画素部の周辺に配置されたソー
ス信号側駆動回路902、書き込み用ゲート信号側駆動回路(第1ゲート信号線
駆動回路)903a、消去用ゲート信号線駆動回路(第2ゲート信号線駆動回路
)903bを有している。なお、本実施例で発光装置はソース信号側駆動回路を
1つ有しているが、本実施例においてソース信号側駆動回路は2つあってもよい
FIG. 9 shows an example of a block diagram of the light emitting device of this embodiment. The light-emitting device of FIG. 9 includes a pixel portion 901, a source signal side driver circuit 902 disposed around the pixel portion, and a writing gate signal side driver circuit (first gate signal line driver circuit) by TFTs formed on a substrate. 903a and an erasing gate signal line driver circuit (second gate signal line driver circuit) 903b. In this embodiment, the light emitting device has one source signal side driver circuit. However, in this embodiment, there may be two source signal side driver circuits.

ソース信号側駆動回路902は本発明の第1から第3の構成のうち、少なくと
も1つを有している。
The source signal side drive circuit 902 has at least one of the first to third configurations of the present invention.

なお本実施例において、ソース信号線駆動回路902と書き込み用ゲート信号
側駆動回路903aと消去用ゲート信号線駆動回路903bとは、画素部901
と同じ基板上に形成されていても良いし、ICチップ上に形成してFPC、TA
B等のコネクターを介して画素部901と接続されていても良い。
Note that in this embodiment, the source signal line driver circuit 902, the write gate signal side driver circuit 903a, and the erase gate signal line driver circuit 903b include a pixel portion 901.
May be formed on the same substrate as the FPC, TA
The pixel unit 901 may be connected via a connector such as B.

画素部901の拡大図を図10に示す。ソース信号線(S1〜Sx)、電源供
給線(V1〜Vx)、書き込み用ゲート信号線(第1ゲート信号線)(Ga1〜
Gay)、消去用ゲート信号線(第2ゲート信号線)(Ge1〜Gey)が画素
部901に設けられている。
An enlarged view of the pixel portion 901 is shown in FIG. Source signal lines (S1 to Sx), power supply lines (V1 to Vx), write gate signal lines (first gate signal lines) (Ga1
Gay) and an erasing gate signal line (second gate signal line) (Ge1 to Gey) are provided in the pixel portion 901.

ソース信号線(S1〜Sx)と、電源供給線(V1〜Vx)と、書き込み用ゲ
ート信号線(Ga1〜Gay)と、消去用ゲート信号線(Ge1〜Gey)とを
それぞれ少なくとも1つ備えた領域が画素904である。画素部901にはマト
リクス状に複数の画素904が配列されることになる。
At least one source signal line (S1 to Sx), a power supply line (V1 to Vx), a write gate signal line (Ga1 to Gay), and an erase gate signal line (Ge1 to Gey) are provided. The area is a pixel 904. In the pixel portion 901, a plurality of pixels 904 are arranged in a matrix.

画素904の拡大図を図11に示す。図11において、907はスイッチング
用TFTである。スイッチング用TFT907のゲート電極は、書き込み用ゲー
ト信号線Ga(Ga1〜Gay)に接続されている。スイッチング用TFT90
7のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線S(S1〜Sx)に、も
う一方が電流制御用TFT908のゲート電極、各画素が有するコンデンサ91
2及び消去用TFT909のソース領域又はドレイン領域にそれぞれ接続されて
いる。
An enlarged view of the pixel 904 is shown in FIG. In FIG. 11, reference numeral 907 denotes a switching TFT. The gate electrode of the switching TFT 907 is connected to the write gate signal line Ga (Ga1 to Gay). Switching TFT90
7, one of the source region and the drain region is the source signal line S (S1 to Sx), the other is the gate electrode of the current control TFT 908, and the capacitor 91 included in each pixel.
2 and the source region or drain region of the erasing TFT 909.

コンデンサ912はスイッチング用TFT907が非選択状態(オフ状態)に
ある時、電流制御用TFT908のゲート電圧を保持するために設けられている
。なお本実施例ではコンデンサ912を設ける構成を示したが、本実施例はこの
構成に限定されず、コンデンサ912を設けない構成にしても良い。
The capacitor 912 is provided to hold the gate voltage of the current control TFT 908 when the switching TFT 907 is in a non-selected state (off state). Note that although a configuration in which the capacitor 912 is provided is shown in this embodiment, the present embodiment is not limited to this configuration, and a configuration without the capacitor 912 may be employed.

また、電流制御用TFT908のソース領域とドレイン領域は、一方が電源供
給線V(V1〜Vx)に接続され、もう一方は発光素子910に接続される。電
源供給線Vはコンデンサ912に接続されている。
One of the source region and the drain region of the current control TFT 908 is connected to the power supply line V (V 1 to Vx), and the other is connected to the light emitting element 910. The power supply line V is connected to the capacitor 912.

また消去用TFT909のソース領域とドレイン領域のうち、スイッチング用
TFT907のソース領域またはドレイン領域に接続されていない方は、電源供
給線Vに接続されている。そして消去用TFT909のゲート電極は、消去用ゲ
ート信号線Geに接続されている。
Of the source region and drain region of the erasing TFT 909, the one not connected to the source region or drain region of the switching TFT 907 is connected to the power supply line V. The gate electrode of the erasing TFT 909 is connected to the erasing gate signal line Ge.

発光素子910は陽極と陰極と、陽極と陰極との間に設けられた有機化合物層
とからなる。陽極が電流制御用TFT908のソース領域またはドレイン領域と
接続している場合、陽極が画素電極、陰極が対向電極となる。逆に陰極が電流制
御用TFT908のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、陰極が
画素電極、陽極が対向電極となる。
The light-emitting element 910 includes an anode, a cathode, and an organic compound layer provided between the anode and the cathode. When the anode is connected to the source region or drain region of the current control TFT 908, the anode serves as a pixel electrode and the cathode serves as a counter electrode. Conversely, when the cathode is connected to the source region or drain region of the current control TFT 908, the cathode serves as the pixel electrode and the anode serves as the counter electrode.

発光素子910の対向電極911には対向電位が与えられている。また電源供
給線Vは電源電位が与えられている。そして対向電位と電源電位の電位差は、電
源電位が画素電極に与えられたときに発光素子が発光する程度の電位差に常に保
たれている。電源電位と対向電位は、本発明の発光装置に、外付けのIC等によ
り設けられた電源によって与えられる。
A counter potential is applied to the counter electrode 911 of the light emitting element 910. The power supply line V is given a power supply potential. The potential difference between the counter potential and the power supply potential is always kept at such a potential difference that the light emitting element emits light when the power supply potential is applied to the pixel electrode. The power source potential and the counter potential are supplied to the light emitting device of the present invention by a power source provided by an external IC or the like.

現在の典型的な発光装置には、画素の発光する面積あたりの発光量が200c
d/m2の場合、画素部の面積あたりの電流が数mA/cm2程度必要となる。そ
のため特に画面サイズが大きくなると、ICに設けられた電源から与えられる電
位の高さをスイッチで制御することが難しくなっていく。本実施例においては、
電源電位と対向電位は常に一定に保たれており、ICに設けられた電源から与え
られる電位の高さをスイッチで制御する必要がないので、より大きな画面サイズ
のパネルの実現に有用である。
The current typical light emitting device has a light emission amount of 200 c per pixel emitting area.
In the case of d / m 2 , the current per area of the pixel portion needs to be about several mA / cm 2 . Therefore, especially when the screen size is increased, it becomes difficult to control the height of the potential applied from the power source provided in the IC with a switch. In this example,
The power supply potential and the counter potential are always kept constant, and it is not necessary to control the height of the potential supplied from the power supply provided in the IC with a switch, which is useful for realizing a panel with a larger screen size.

スイッチング用TFT907、電流制御用TFT908、消去用TFT909
は、nチャネル型TFTでもpチャネル型TFTでもどちらでも用いることがで
きる。ただし電流制御用TFT908のソース領域またはドレイン領域が発光素
子910の陽極と接続されている場合、電流制御用TFT908はpチャネル型
TFTであることが望ましい。また、電流制御用TFT908のソース領域また
はドレイン領域が発光素子910の陰極と接続されている場合、電流制御用TF
T908はnチャネル型TFTであることが望ましい。
Switching TFT 907, current control TFT 908, erasing TFT 909
Either an n-channel TFT or a p-channel TFT can be used. However, when the source region or the drain region of the current control TFT 908 is connected to the anode of the light emitting element 910, the current control TFT 908 is preferably a p-channel TFT. Further, when the source region or the drain region of the current control TFT 908 is connected to the cathode of the light emitting element 910, the current control TF
T908 is preferably an n-channel TFT.

またスイッチング用TFT907、電流制御用TFT908、消去用TFT9
09は、シングルゲート構造ではなく、ダブルゲート構造、やトリプルゲート構
造などのマルチゲート構造を有していても良い。
Also, a switching TFT 907, a current control TFT 908, an erasing TFT 9
09 may not have a single gate structure but may have a multi-gate structure such as a double gate structure or a triple gate structure.

次に上述した構成を有する本発明の発光装置の駆動方法について、図12を用
いて説明する。
Next, a method for driving the light emitting device of the present invention having the above-described configuration will be described with reference to FIG.

はじめに書き込み用ゲート信号線駆動回路903aから書き込み用ゲート信号
線Ga1に入力される書き込み用ゲート信号によって、書き込み用ゲート信号線
Ga1に接続されている全ての画素(1ライン目の画素)のスイッチング用TF
T907がオンの状態になる。なお本明細書において信号線にゲート電極が接続
されたTFTが全てオンの状態になることを、該配線が選択されたと呼ぶ。よっ
てこの場合、書き込み用ゲート信号線Ga1が選択されていることになる。
First, for switching all the pixels (pixels in the first line) connected to the write gate signal line Ga1 by the write gate signal input to the write gate signal line Ga1 from the write gate signal line drive circuit 903a. TF
T907 is turned on. In this specification, the fact that all TFTs whose gate electrodes are connected to signal lines is turned on is referred to as selection of the wiring. Therefore, in this case, the write gate signal line Ga1 is selected.

そして同時に、ソース信号線(S1〜Sx)にソース信号線駆動回路902か
ら、1ビット目のデジタルビデオ信号が1ライン目の画素に入力される。具体的
にはデジタルビデオ信号はスイッチング用TFT907を介して電流制御用TF
T908のゲート電極に入力される。
At the same time, the digital video signal of the first bit is input to the pixels of the first line from the source signal line driver circuit 902 to the source signal lines (S1 to Sx). Specifically, the digital video signal is sent to the current control TF via the switching TFT 907.
Input to the gate electrode of T908.

本実施例では、デジタルビデオ信号が「0」の情報を有していた場合、電流制
御用TFT908はオフの状態となる。よって発光素子910の画素電極には電
源電位は与えられない。その結果、「0」の情報を有するデジタルビデオ信号が
入力された画素が有する発光素子910は発光しない。
In this embodiment, when the digital video signal has information of “0”, the current control TFT 908 is turned off. Therefore, no power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element 910. As a result, the light-emitting element 910 included in the pixel to which the digital video signal having the information “0” is input does not emit light.

逆に、「1」の情報を有していた場合、電流制御用TFT908はオンの状態
となる。よって発光素子910の画素電極には電源電位が与えられる。その結果
、「1」の情報を有するデジタルビデオ信号が入力された画素が有する発光素子
910は発光する。
On the contrary, when the information “1” is included, the current control TFT 908 is turned on. Accordingly, a power supply potential is applied to the pixel electrode of the light emitting element 910. As a result, the light-emitting element 910 included in the pixel to which the digital video signal having the information “1” is input emits light.

このように、1ライン目の画素にデジタルビデオ信号が入力されると同時に、
発光素子910が発光、または非発光の状態になり、1ライン目の画素は表示を
行う。画素が表示を行っている期間を表示期間Trと呼ぶ。特に1ビット目のデ
ジタルビデオ信号が画素に入力されたことで開始する表示期間をTr1と呼ぶ。
図12では説明を簡便にするために、特に1ライン目の画素の表示期間について
のみ示す。各ラインの表示期間が開始されるタイミングはそれぞれ時間差を有し
ている。
In this way, the digital video signal is input to the pixels on the first line,
The light emitting element 910 emits light or does not emit light, and the pixels on the first line perform display. A period during which the pixels are displaying is referred to as a display period Tr. In particular, a display period that starts when a digital video signal of the first bit is input to the pixel is referred to as Tr1.
In FIG. 12, only the display period of the pixels in the first line is shown for the sake of simplicity. The timing at which the display period of each line is started has a time difference.

次にGa1の選択が終了すると同時に、書き込み用ゲート信号線Ga2が書き
込み用ゲート信号によって選択される。そして書き込み用ゲート信号線Ga2に
接続されている全ての画素のスイッチング用TFT907がオンの状態になり、
2ライン目の画素にソース信号線(S1〜Sx)から1ビット目のデジタルビデ
オ信号が入力される。
Next, simultaneously with the selection of Ga1, the write gate signal line Ga2 is selected by the write gate signal. Then, the switching TFTs 907 of all the pixels connected to the writing gate signal line Ga2 are turned on,
A digital video signal of the first bit is input from the source signal lines (S1 to Sx) to the pixels of the second line.

そして順に、全ての書き込み用ゲート信号線(Ga1〜Gax)が選択されて
いく。全ての書き込み用ゲート信号線(Ga1〜Gax)が選択され、全てのラ
インの画素に1ビット目のデジタルビデオ信号が入力されるまでの期間が書き込
み期間Ta1である。
In turn, all the write gate signal lines (Ga1 to Gax) are selected. A period until all the gate signal lines for writing (Ga1 to Gax) are selected and the digital video signal of the first bit is input to the pixels of all the lines is a writing period Ta1.

一方、全てのラインの画素に1ビット目のデジタルビデオ信号が入力される前
、言い換えると書き込み期間Ta1が終了する前に、画素への1ビット目のデジ
タルビデオ信号の入力と並行して、消去用ゲート信号線駆動回路903bから入
力される消去用ゲート信号によって、消去用ゲート信号線Ge1の選択が行われ
る。
On the other hand, before the first bit digital video signal is input to the pixels of all the lines, in other words, before the writing period Ta1 ends, in parallel with the input of the first bit digital video signal to the pixels. The erase gate signal line Ge1 is selected by the erase gate signal input from the gate signal line drive circuit 903b.

消去用ゲート信号線Ge1が選択されると、消去用ゲート信号線Ge1に接続
されている全ての画素(1ライン目の画素)の消去用TFT909がオンの状態
になる。そして電源供給線(V1〜Vx)の電源電位が消去用TFT909を介
して1ライン目の画素の電流制御用TFT908のゲート電極に与えられる。
When the erasing gate signal line Ge1 is selected, the erasing TFTs 909 of all the pixels (pixels in the first line) connected to the erasing gate signal line Ge1 are turned on. The power supply potential of the power supply lines (V1 to Vx) is applied to the gate electrode of the current control TFT 908 of the pixel on the first line via the erasing TFT 909.

電源電位が電流制御用TFT908のゲート電極に与えられると、電流制御用
TFT908はオフの状態となる。よって電源電位は発光素子910の画素電極
に与えられなくなり、1ライン目の画素が有する発光素子は全て非発光の状態に
なり、1ライン目の画素が表示を行わなくなる。つまり、書き込み用ゲート信号
線Ga1が選択されたときから電流制御用TFTのゲート電極が保持していたデ
ジタルビデオ信号は、電流制御用TFTのゲート電極に電源電位が与えられるこ
とで消去される。よって1ライン目の画素が表示を行わなくなる。
When the power supply potential is applied to the gate electrode of the current control TFT 908, the current control TFT 908 is turned off. Accordingly, the power supply potential is not applied to the pixel electrode of the light emitting element 910, and all the light emitting elements included in the pixels on the first line are in a non-light emitting state, and the pixels on the first line do not display. That is, the digital video signal held by the gate electrode of the current control TFT from when the write gate signal line Ga1 is selected is erased by applying the power supply potential to the gate electrode of the current control TFT. Therefore, the pixels on the first line do not display.

画素が表示を行わない期間を非表示期間Tdと呼ぶ。1ライン目の画素は、消
去用ゲート信号線Ge1に消去用ゲート信号が入力されると同時に表示期間Tr
1が終了し、非表示期間Td1となる。
A period in which the pixels do not display is called a non-display period Td. The pixels on the first line display the display period Tr at the same time as the erase gate signal is input to the erase gate signal line Ge1.
1 ends and the non-display period Td1 is reached.

図12では説明を簡便にするために、特に1ライン目の画素の非表示期間につ
いてのみ示す。表示期間と同様に、各ラインの非表示期間が開始されるタイミン
グはそれぞれ時間差を有している。
In FIG. 12, only the non-display period of the pixels on the first line is shown for the sake of simplicity. Similar to the display period, the timing at which the non-display period of each line is started has a time difference.

そしてGe1の選択が終了すると同時に、消去用ゲート信号によって消去用ゲ
ート信号線Ge2が選択され、消去用ゲート信号線Ge2に接続されている全て
の画素(2ライン目の画素)の消去用TFT909がオンの状態になる。そして
電源供給線(V1〜Vx)の電源電位が消去用TFT909を介して電流制御用
TFT908のゲート電極に与えられる。電源電位が電流制御用TFT908の
ゲート電極に与えられると、電流制御用TFT908はオフの状態となる。よっ
て電源電位は発光素子910の画素電極に与えられなくなる。その結果2ライン
目の画素が有する発光素子は全て非発光の状態になり、2ライン目の画素が表示
を行わなくなり、非表示の状態となる。
At the same time as the selection of Ge1, the erasing gate signal line Ge2 is selected by the erasing gate signal, and the erasing TFTs 909 of all the pixels (second line pixels) connected to the erasing gate signal line Ge2 are selected. Turns on. The power supply potential of the power supply lines (V1 to Vx) is applied to the gate electrode of the current control TFT 908 via the erasing TFT 909. When the power supply potential is applied to the gate electrode of the current control TFT 908, the current control TFT 908 is turned off. Accordingly, the power supply potential is not applied to the pixel electrode of the light emitting element 910. As a result, all the light-emitting elements included in the pixels on the second line are in a non-light emitting state, and the pixels on the second line are not displayed and are not displayed.

そして順に、消去用ゲート信号によって全ての消去用ゲート信号線が選択され
ていく。全ての消去用ゲート信号線(Ga1〜Gax)が選択され、全てのライ
ンの画素が保持している1ビット目のデジタルビデオ信号が消去されるまでの期
間が消去期間Te1である。
In turn, all the erase gate signal lines are selected by the erase gate signal. An erasing period Te1 is a period until all the erasing gate signal lines (Ga1 to Gax) are selected and the first bit digital video signals held in the pixels of all the lines are erased.

一方、全てのラインの画素が保持している1ビット目のデジタルビデオ信号が
消去される前、言い換えると消去期間Te1が終了する前に、画素への1ビット
目のデジタルビデオ信号の消去と並行して、再び書き込み用ゲート信号線Ga1
の選択が行われる。その結果、1ライン目の画素は再び表示を行うので、非表示
期間Td1が終了して表示期間Tr2となる。
On the other hand, before the first bit digital video signal held by the pixels of all the lines is erased, in other words, before the erase period Te1 ends, in parallel with the erase of the first bit digital video signal to the pixels. Then, the write gate signal line Ga1 again
Is selected. As a result, the pixels on the first line perform display again, so the non-display period Td1 ends and the display period Tr2 starts.

そして同様に、順に全ての書き込み用ゲート信号線が選択され、2ビット目の
デジタルビデオ信号が全ての画素に入力される。全てのラインの画素に2ビット
目のデジタルビデオ信号が入力し終わるまでの期間を、書き込み期間Ta2と呼
ぶ。
Similarly, all the gate signal lines for writing are sequentially selected, and the second bit digital video signal is input to all the pixels. A period until the second bit digital video signal is completely input to the pixels of all the lines is referred to as a writing period Ta2.

そして一方、全てのラインの画素に2ビット目のデジタルビデオ信号が入力さ
れる前、言い換えると書き込み期間Ta2が終了する前に、画素への2ビット目
のデジタルビデオ信号の入力と並行して、消去用ゲート信号線Ge2の選択が行
われる。よって1ライン目の画素が有する発光素子は全て非発光の状態になり、
1ライン目の画素が表示を行わなくなる。よって1ライン目の画素において表示
期間Tr2は終了し、非表示期間Td2となる。
On the other hand, before the second bit digital video signal is input to the pixels of all lines, in other words, before the writing period Ta2 ends, in parallel with the input of the second bit digital video signal to the pixels, The erase gate signal line Ge2 is selected. Therefore, all the light emitting elements included in the pixels on the first line are in a non-light emitting state,
The pixels on the first line do not display. Therefore, the display period Tr2 ends in the pixels on the first line, and becomes a non-display period Td2.

そして順に、全ての消去用ゲート信号線が選択される。全ての消去用ゲート信
号線(Ga1〜Gax)が選択され、全てのラインの画素が保持している2ビッ
ト目のデジタルビデオ信号が消去されるまでの期間が消去期間Te2である。
In turn, all the erasing gate signal lines are selected. An erasing period Te2 is a period until all the erasing gate signal lines (Ga1 to Gax) are selected and the second bit digital video signals held by the pixels of all the lines are erased.

上述した動作はmビット目のデジタルビデオ信号が画素に入力されるまで繰り
返し行われ、表示期間Trと非表示期間Tdとが繰り返し出現する。表示期間T
r1は、書き込み期間Ta1が開始されてから消去期間Te1が開始されるまで
の期間である。また非表示期間Td1は、消去期間Te1が開始されてから表示
期間Tr2が開始されるまでの期間である。そして表示期間Tr2、Tr3、…
、Tr(m−1)と非表示期間Td2、Td3、…、Td(m−1)も、表示期
間Tr1と非表示期間Td1と同様に、それぞれ書き込み期間Ta1、Ta2、
…、Tamと消去期間Te1、Te2、…、Te(m−1)とによって、その期
間が定められる。
The above-described operation is repeated until the m-bit digital video signal is input to the pixel, and the display period Tr and the non-display period Td appear repeatedly. Display period T
r1 is a period from the start of the writing period Ta1 to the start of the erasing period Te1. The non-display period Td1 is a period from the start of the erase period Te1 to the start of the display period Tr2. And the display periods Tr2, Tr3,.
, Tr (m−1) and non-display periods Td2, Td3,..., Td (m−1) are also written periods Ta1, Ta2, and Td (m−1), respectively, similarly to the display period Tr1 and the non-display period Td1.
..., Tam and erase periods Te1, Te2, ..., Te (m-1) define the period.

そしてmビット目のデジタルビデオ信号が1ライン目の画素に入力された後は
、消去用ゲート信号線Ge1は選択されない。説明を簡便にするために、本実施
例ではm=n−2の場合を例にとって説明するが、本発明はこれに限定されない
のは言うまでもない。本発明においてmは、2からnまでの値を任意に選択する
ことが可能である。
After the m-bit digital video signal is input to the pixels on the first line, the erasing gate signal line Ge1 is not selected. In order to simplify the explanation, the present embodiment will be described by taking the case of m = n−2 as an example, but it goes without saying that the present invention is not limited to this. In the present invention, m can be arbitrarily selected from 2 to n.

(n−2)ビット目のデジタルビデオ信号が1ライン目の画素に入力されると
、1ライン目の画素は表示期間Tr(n−2)となり表示を行う。そして次のビ
ットのデジタルビデオ信号が入力されるまで、(n−2)ビット目のデジタルビ
デオ信号は画素に保持される。
When the digital video signal of the (n-2) th bit is input to the pixels on the first line, the pixels on the first line are displayed during the display period Tr (n-2). Until the next bit digital video signal is input, the digital video signal of the (n-2) th bit is held in the pixel.

そして次に(n−1)ビット目のデジタルビデオ信号が1ライン目の画素に入
力されると、画素に保持されていた(n−2)ビット目のデジタルビデオ信号は
、(n−1)ビット目のデジタルビデオ信号に書き換えられる。そして1ライン
目の画素は表示期間Tr(n−1)となり、表示を行う。(n−2)ビット目の
デジタルビデオ信号は、次のビットのデジタルビデオ信号が入力されるまで画素
に保持される。
Then, when the (n-1) -bit digital video signal is input to the pixel on the first line, the (n-2) -bit digital video signal held in the pixel is (n-1) It is rewritten to the digital video signal of the bit. The pixels on the first line enter the display period Tr (n−1) and display is performed. The digital video signal of the (n-2) th bit is held in the pixel until the digital video signal of the next bit is input.

上述した動作をnビット目のデジタルビデオ信号が画素に入力されるまで繰り
返し行われる。表示期間Tr(n−2)は、書き込み期間Ta(n−2)が開始
されてから、書き込み期間Ta(n−1)が開始されるまでの期間である。そし
て表示期間(Tr(n−1)、Trn)も表示期間Tr(n−2)と同様に、書
き込み期間Taによって、その期間が定められる。
The above-described operation is repeated until the n-th digital video signal is input to the pixel. The display period Tr (n-2) is a period from the start of the writing period Ta (n-2) to the start of the writing period Ta (n-1). The display period (Tr (n−1), Trn) is determined by the writing period Ta in the same manner as the display period Tr (n−2).

なお本実施例では、全ての書き込み期間の長さの和が1フレーム期間よりも短
く、なおかつ表示期間の長さをTr1:Tr2:Tr3:…:Tr(n−1):
Trn=20:21:22:…:2(n-2):2(n-1)とすることが必要である。この
表示期間の組み合わせで2n階調のうち所望の階調表示を行うことができる。
In this embodiment, the sum of the lengths of all the writing periods is shorter than one frame period, and the length of the display period is Tr1: Tr2: Tr3:...: Tr (n−1):
Trn = 2 0 : 2 1 : 2 2 :...: 2 (n−2) : 2 (n−1) is required. A desired gradation display among 2 n gradations can be performed by combining the display periods.

全ての表示期間(Tr1〜Trn)が終了すると、1つの画像を表示すること
ができる。本発明の駆動方法において、1つの画像を表示する期間を1フレーム
期間(F)と呼ぶ。
When all the display periods (Tr1 to Trn) are completed, one image can be displayed. In the driving method of the present invention, a period for displaying one image is referred to as one frame period (F).

そして1フレーム期間終了後は、再び1ビット目のデジタルビデオ信号が画素
に入力され、1ライン目の画素が再び表示期間Tr1となる。そして再び上述し
た動作を繰り返す。
After the end of one frame period, the digital video signal of the first bit is input again to the pixels, and the pixels on the first line again become the display period Tr1. Then, the above-described operation is repeated again.

通常の発光装置では1秒間に60以上のフレーム期間を設けることが好ましい
。1秒間に表示される画像の数が60より少なくなると、視覚的に画像のちらつ
きが目立ち始めることがある。
In a normal light emitting device, it is preferable to provide 60 or more frame periods per second. When the number of images displayed per second is less than 60, flickering of images may start to be noticeable visually.

1フレーム期間中に発光素子が発光した表示期間の長さの総和を求めることに
よって、当該フレーム期間におけるその画素の表示した階調がきまる。例えば、
n=8のとき、全部の表示期間で画素が発光した場合の輝度を100%とすると
、Tr1とTr2において画素が発光した場合には1%の輝度が表現でき、Tr
3とTr5とTr8を選択した場合には60%の輝度が表現できる。
By obtaining the sum of the lengths of the display periods during which the light emitting element emits light during one frame period, the gradation displayed by the pixel in the frame period is determined. For example,
When n = 8 and the luminance when the pixel emits light in the entire display period is 100%, the luminance of 1% can be expressed when the pixel emits light in Tr1 and Tr2.
When 3 and Tr5 and Tr8 are selected, 60% luminance can be expressed.

mビット目のデジタルビデオ信号が画素に書き込まれる書き込み期間Tamは
、表示期間Trmの長さよりも短いことが肝要である。よってビット数mの値は
、1〜nのうち、書き込み期間Tamが表示期間Trmの長さよりも短くなるよ
うな値であることが必要である。
It is important that the writing period Tam in which the m-bit digital video signal is written to the pixel is shorter than the length of the display period Trm. Therefore, the value of the number of bits m needs to be a value from 1 to n such that the writing period Tam is shorter than the length of the display period Trm.

また表示期間(Tr1〜Trn)は、どのような順序で出現させても良い。例
えば1フレーム期間中において、Tr1の次にTr4、Tr3、Tr2、…とい
う順序で表示期間を出現させることも可能である。ただし、消去期間(Te1〜
Ten)が互いに重ならない順序の方がより好ましい。
The display periods (Tr1 to Trn) may appear in any order. For example, in one frame period, it is possible to cause the display period to appear in the order of Tr4, Tr3, Tr2,. However, the erasing period (Te1
The order in which Ten) does not overlap each other is more preferred.

なお本実施例においては、表示期間Trと書き込み期間Taとが一部重なって
いる。言い換えると書き込み期間においても画素を表示させることが可能である
。そのため、1フレーム期間における表示期間の長さの総和の割合(デューティ
ー比)が、書き込み期間の長さによってのみ決定されない。
In this embodiment, the display period Tr and the writing period Ta partially overlap. In other words, it is possible to display pixels even in the writing period. Therefore, the ratio (duty ratio) of the total length of the display periods in one frame period is not determined only by the length of the writing period.

(実施例3)
本実施例では、実施の形態1で示した発光装置が有するソース信号線駆動回路
の詳しい構成について説明する。図13に本実施例のソース信号線駆動回路の回
路図を示す。なお図1で示したものと同一のものは、同じ符号で示す。
(Example 3)
In this example, a detailed structure of a source signal line driver circuit included in the light-emitting device described in Embodiment Mode 1 will be described. FIG. 13 shows a circuit diagram of the source signal line driving circuit of this embodiment. In addition, the same thing as what was shown in FIG. 1 is shown with the same code | symbol.

102−1はシフトレジスタであり、クロック信号(CLK)、クロック信号
の極性が反転した信号(CLKB)、スタートパルス信号(SP)、双方向切り
替え信号(SL/R)が、図に示した配線からそれぞれ入力されている。
Reference numeral 102-1 denotes a shift register, in which the clock signal (CLK), the signal (CLKB) in which the polarity of the clock signal is inverted, the start pulse signal (SP), and the bidirectional switching signal (SL / R) are shown in the diagram. Each is input from.

102−2はラッチ(A)であり、102−3はラッチ(B)である。なお本
実施例では、1組のラッチ(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が
、4本のソース信号線に対応している。しかし本実施例において、1組のラッチ
(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が対応しているソース信号線
の数はこれに限定されない。また本実施例では信号が有する電圧の振幅の幅を変
えるレベルシフトを設けなかったが、設計者が適宜設けるようにしても良い。
Reference numeral 102-2 denotes a latch (A), and reference numeral 102-3 denotes a latch (B). In this embodiment, one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 correspond to four source signal lines. However, in this embodiment, the number of source signal lines corresponding to one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 is not limited to this. In this embodiment, the level shift for changing the amplitude range of the voltage of the signal is not provided. However, the designer may appropriately provide it.

またソース信号線駆動回路の外部から入力されるデジタルビデオ信号(DV)
は、図に示した配線からラッチ(A)102−2に入力される。ラッチ信号S_
LAT、S_LATの極性が反転した信号S_LATbはそれぞれ図に示した配
線からラッチ(B)102−3に入力される。
Digital video signals (DV) input from outside the source signal line driver circuit
Is input to the latch (A) 102-2 from the wiring shown in the drawing. Latch signal S_
A signal S_LATb in which the polarities of LAT and S_LAT are inverted is input to the latch (B) 102-3 from the wiring shown in the drawing.

ラッチ(A)102−2の詳しい構成について、ラッチ(A)102−2の一
部801を例にとって説明する。ラッチ(A)102−2の一部801は2つの
クロックドインバータと2つのインバーターを有している。
A detailed configuration of the latch (A) 102-2 will be described by taking a part 801 of the latch (A) 102-2 as an example. A part 801 of the latch (A) 102-2 has two clocked inverters and two inverters.

ラッチ(A)102−2の一部801の上面図を図14に示す。831a、8
31bはそれぞれ、ラッチ(A)102−2の一部801が有するインバーター
の1つを形成するTFTの活性層であり、836は該インバータの1つを形成す
るTFTの共通のゲート電極である。また832a、832bはそれぞれ、ラッ
チ(A)102−2の一部801が有するもう1つのインバーターを形成するT
FTの活性層であり、837a、837bは活性層832a、832b上にそれ
ぞれ設けられたゲート電極である。なおゲート電極837a、837bは電気的
に接続されている。
A top view of a part 801 of the latch (A) 102-2 is shown in FIG. 831a, 8
Reference numeral 31b denotes an active layer of a TFT that forms one of the inverters included in a part 801 of the latch (A) 102-2. Reference numeral 836 denotes a common gate electrode of the TFTs that form one of the inverters. Each of 832a and 832b forms another inverter included in a part 801 of the latch (A) 102-2.
FT active layers 837a and 837b are gate electrodes provided on the active layers 832a and 832b, respectively. Note that the gate electrodes 837a and 837b are electrically connected.

833a、833bはそれぞれ、ラッチ(A)102−2の一部801が有す
るクロックドインバータの1つを形成するTFTの活性層である。活性層833
a上にはゲート電極838a、838bが設けられており、ダブルゲート構造と
なっている。また活性層833b上にはゲート電極838b、839が設けられ
ており、ダブルゲート構造となっている。
Reference numerals 833a and 833b denote active layers of TFTs that form one of the clocked inverters included in the part 801 of the latch (A) 102-2. Active layer 833
Gate electrodes 838a and 838b are provided on a and have a double gate structure. Gate electrodes 838b and 839 are provided on the active layer 833b to form a double gate structure.

834a、834bはそれぞれ、ラッチ(A)102−2の一部801が有す
るもう1つのクロックドインバータを形成するTFTの活性層である。活性層8
34a上にはゲート電極839、840が設けられており、ダブルゲート構造と
なっている。また活性層834b上にはゲート電極840、841が設けられて
おり、ダブルゲート構造となっている。
Reference numerals 834a and 834b denote active layers of TFTs that form another clocked inverter included in the part 801 of the latch (A) 102-2. Active layer 8
Gate electrodes 839 and 840 are provided on 34a to form a double gate structure. Further, gate electrodes 840 and 841 are provided on the active layer 834b to form a double gate structure.

また102−4は切り替え回路である。図15(A)と図15(B)に本実施
例の切り替え回路の回路図を示す。
Reference numeral 102-4 denotes a switching circuit. FIGS. 15A and 15B are circuit diagrams of the switching circuit of this embodiment.

図15(A)に示す本実施例の切り替え回路102−4は、インバーター85
1と、第1のアナログスイッチ852と、第2のアナログスイッチ853とを有
している。また図に示す配線から切り替え信号SSと切り替え信号の極性を反転
させた信号SSBが入力される。
The switching circuit 102-4 of this embodiment shown in FIG.
1, a first analog switch 852, and a second analog switch 853. A switching signal SS and a signal SSB in which the polarity of the switching signal is inverted are input from the wiring shown in the drawing.

第1及び第2のアナログスイッチ852、853の等価回路図を図16に示す
。第1及び第2のアナログスイッチ852、853はnチャネル型TFTとpチ
ャネル型TFTとを有している。第1の制御入力端子(Vin)または第2の制
御入力端子(Vinb)から入力される信号によって入力端子(IN)から入力
される信号がサンプリングされ、出力端子(OUT)から出力される。
An equivalent circuit diagram of the first and second analog switches 852 and 853 is shown in FIG. The first and second analog switches 852 and 853 have an n-channel TFT and a p-channel TFT. A signal input from the input terminal (IN) is sampled by a signal input from the first control input terminal (Vin) or the second control input terminal (Vinb), and is output from the output terminal (OUT).

ラッチ(B)102−3からのデジタルビデオ信号は、インバーター851を
介して第1のアナログスイッチ852に入力端子(IN)から入力する。また同
時に、ラッチ(B)102−3からのデジタルビデオ信号は第2のアナログスイ
ッチ853に入力端子(IN)から入力する。
The digital video signal from the latch (B) 102-3 is input from the input terminal (IN) to the first analog switch 852 via the inverter 851. At the same time, the digital video signal from the latch (B) 102-3 is input to the second analog switch 853 from the input terminal (IN).

そして切り替え信号SSと切り替え信号の極性を反転させた信号SSBとが、
第1のアナログスイッチ852と第2のアナログスイッチ853に、第1の制御
入力端子(Vin)または第2の制御入力端子(Vinb)からそれぞれ入力さ
れる。この切り替え信号SSによってデジタルビデオ信号がサンプリングされ、
第1のアナログスイッチ852と第2のアナログスイッチ853の出力端子(O
UT)からサンプリングされたデジタルビデオ信号が出力される。
The switching signal SS and the signal SSB obtained by inverting the polarity of the switching signal are
The first analog switch 852 and the second analog switch 853 are input from the first control input terminal (Vin) or the second control input terminal (Vinb), respectively. The digital video signal is sampled by this switching signal SS,
The output terminals (O of the first analog switch 852 and the second analog switch 853
A digital video signal sampled from (UT) is output.

切り替え回路102−4に入力されたデジタルビデオ信号は、そのまま、もし
くはその極性を反転させられて、切り替え回路102−4から出力される。切り
替え回路102−4においてデジタルビデオ信号の極性が反転するかしないかは
、切り替え信号SSによって選択される。
The digital video signal input to the switching circuit 102-4 is output from the switching circuit 102-4 as it is or with its polarity inverted. Whether or not the polarity of the digital video signal is inverted in the switching circuit 102-4 is selected by the switching signal SS.

図15(B)に示す本実施例の切り替え回路102−4は、インバーター86
1と、第1のNAND862と、第2のNAND863と、NOR864とを有
している。また図に示す配線から切り替え信号SSと切り替え信号の極性を反転
させた信号SSBが入力される。
The switching circuit 102-4 of this embodiment shown in FIG.
1, a first NAND 862, a second NAND 863, and a NOR 864. A switching signal SS and a signal SSB in which the polarity of the switching signal is inverted are input from the wiring shown in the drawing.

ラッチ(B)102−3からのデジタルビデオ信号は、インバーター861を
介してする。そして同時に切り替え信号SSの極性を反転させた信号SSBも第
1のNAND862に入力される。
The digital video signal from the latch (B) 102-3 is sent through the inverter 861. At the same time, a signal SSB obtained by inverting the polarity of the switching signal SS is also input to the first NAND 862.

またデジタルビデオ信号がインバーター861を介して第1のNAND862
に入力されるのと同時に、デジタルビデオ信号が第2のNAND863に入力さ
れる。そして同時に切り替え信号SSも第2のNAND863に入力される。
In addition, the digital video signal is transmitted through the inverter 861 to the first NAND 862.
At the same time, a digital video signal is input to the second NAND 863. At the same time, the switching signal SS is also input to the second NAND 863.

第1及び第2のNAND862、863から出力された信号は、同時にNOR
864に入力される。NOR864から出力された信号はソース信号線に入力す
る。
The signals output from the first and second NANDs 862 and 863 are simultaneously NOR.
864. The signal output from NOR864 is input to the source signal line.

切り替え回路102−4に入力されたデジタルビデオ信号は、そのまま、もし
くはその極性を反転させられて、切り替え回路102−4から出力される。切り
替え回路102−4においてデジタルビデオ信号の極性が反転するかしないかは
、切り替え信号SSによって選択される。
The digital video signal input to the switching circuit 102-4 is output from the switching circuit 102-4 as it is or with its polarity inverted. Whether or not the polarity of the digital video signal is inverted in the switching circuit 102-4 is selected by the switching signal SS.

なお切り替え回路は図15に示した構成に限定されない。入力したデジタルビ
デオ信号を、そのまま、もしくはその極性を反転させて出力することができるな
ら、切り替え回路はどの様な構成を有していても良い。
The switching circuit is not limited to the configuration shown in FIG. The switching circuit may have any configuration as long as the input digital video signal can be output as it is or with its polarity inverted.

なお本実施例は、実施例1または2と自由に組み合わせて実施することが可能
である。
Note that this embodiment can be implemented by being freely combined with Embodiment 1 or 2.

(実施例4)
本実施例では、実施の形態2で示した発光装置が有するソース信号線駆動回路
の詳しい構成について説明する。図17に本実施例のソース信号線駆動回路の回
路図を示す。なお図1で示したものと同一のものは、同じ符号で示す。
Example 4
In this example, a detailed structure of a source signal line driver circuit included in the light-emitting device described in Embodiment Mode 2 will be described. FIG. 17 shows a circuit diagram of the source signal line driver circuit of this embodiment. In addition, the same thing as what was shown in FIG. 1 is shown with the same code | symbol.

102−1はシフトレジスタであり、クロック信号(CLK)、クロック信号
の極性が反転した信号(CLKB)、スタートパルス信号(SP)、双方向切り
替え信号(SL/R)が、図に示した配線からそれぞれ入力されている。
Reference numeral 102-1 denotes a shift register, in which the clock signal (CLK), the signal (CLKB) in which the polarity of the clock signal is inverted, the start pulse signal (SP), and the bidirectional switching signal (SL / R) are shown in the diagram. Each is input from.

102−2はラッチ(A)であり、102−3はラッチ(B)である。なお本
実施例では、1組のラッチ(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が
、4本のソース信号線に対応している。しかし本実施例において、1組のラッチ
(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が対応しているソース信号線
の数はこれに限定されない。また本実施例では信号が有する電圧の振幅の幅を変
えるレベルシフトを設けなかったが、設計者が適宜設けるようにしても良い。
Reference numeral 102-2 denotes a latch (A), and reference numeral 102-3 denotes a latch (B). In this embodiment, one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 correspond to four source signal lines. However, in this embodiment, the number of source signal lines corresponding to one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 is not limited to this. In this embodiment, the level shift for changing the amplitude range of the voltage of the signal is not provided. However, the designer may appropriately provide it.

またソース信号線駆動回路の外部から入力されるデジタルビデオ信号(DV)
は、図に示した配線からラッチ(A)102−2に入力される。ラッチ信号S_
LAT、S_LATの極性が反転した信号S_LATbはそれぞれ図に示した配
線からラッチ(B)102−3に入力される。
Digital video signals (DV) input from outside the source signal line driver circuit
Is input to the latch (A) 102-2 from the wiring shown in the drawing. Latch signal S_
A signal S_LATb in which the polarities of LAT and S_LAT are inverted is input to the latch (B) 102-3 from the wiring shown in the drawing.

ラッチ(A)102−2の詳しい構成については、図14に示したものと同じ
であるため、ここでは省略する。
The detailed configuration of the latch (A) 102-2 is the same as that shown in FIG.

106はクロック信号制御回路であり、一定の期間クロック信号(CLK)の
代わりに、一定の電位(固定電位)をシフトレジスタ102−1に与えることが
できる。
A clock signal control circuit 106 can supply a constant potential (fixed potential) to the shift register 102-1 instead of the clock signal (CLK) for a certain period.

具体的には、1〜mビット目までの下位ビットのデジタルビデオ信号をラッチ
(A)102−2に書き込むためのタイミング信号だけがラッチ(A)102−
2に入力しないように、一定の期間クロック信号制御回路106によってクロッ
ク信号の代わりに、一定の電位(固定電位)をシフトレジスタ102−1に入力
させるようにした。よってソース信号線駆動回路の外部から入力されたデジタル
ビデオ信号nビットのうち、(m+1)ビット目からnビット目までの上位ビッ
トのデジタルビデオ信号のみをラッチ(A)102−2に書き込むことができる
Specifically, only the timing signal for writing the low-order bit digital video signals from the 1st to m-th bits into the latch (A) 102-2 is latched (A) 102-.
The clock signal control circuit 106 inputs a constant potential (fixed potential) to the shift register 102-1 instead of the clock signal so that it is not input to 2. Therefore, among the n bits of the digital video signal input from the outside of the source signal line driver circuit, only the upper bit digital video signal from the (m + 1) th bit to the nth bit can be written to the latch (A) 102-2. it can.

図18(A)(B)に本実施例のクロック信号制御回路106の詳しい回路図
を示す。
18A and 18B are detailed circuit diagrams of the clock signal control circuit 106 of this embodiment.

図18(A)に示す本実施例のクロック信号制御回路106は、NAND18
01と、インバーター1802を有している。また図に示す配線から選択信号が
入力される。
The clock signal control circuit 106 of this embodiment shown in FIG.
01 and an inverter 1802. A selection signal is input from the wiring shown in the figure.

ソース信号線駆動回路の外部から入力されるクロック信号は入力端子(IN)
からNAND1801に入力される。また同時に選択信号もNAND1801に
入力される。そしてNAND1801から出力された信号は、インバーター18
02によってその極性が反転されて出力端子(OUT)から出力され、シフトレ
ジスタ102−1に入力される。
The clock signal input from the outside of the source signal line driver circuit is input terminal (IN)
Are input to the NAND 1801. At the same time, a selection signal is also input to the NAND 1801. The signal output from the NAND 1801 is the inverter 18.
The polarity is inverted by 02, output from the output terminal (OUT), and input to the shift register 102-1.

選択信号によって、シフトレジスタ102−1にクロック信号が入力されるか
、一定の電位(固定電位)が与えられるかが選択される。
A selection signal selects whether a clock signal is input to the shift register 102-1 or a constant potential (fixed potential) is applied.

図18(B)に示す本実施例のクロック信号制御回路106は、第1のアナロ
グスイッチ1811と、第2のアナログスイッチ1812と、インバーター18
13とを有している。また図に示す配線から選択信号が入力される。
The clock signal control circuit 106 of this embodiment shown in FIG. 18B includes a first analog switch 1811, a second analog switch 1812, and an inverter 18.
13. A selection signal is input from the wiring shown in the figure.

第1及び第2のアナログスイッチ1811、1812の等価回路図は図16に
示したものと同じである。第1及び第2のアナログスイッチ1811、1812
はnチャネル型TFTとpチャネル型TFTとを有している。第1の制御入力端
子(Vin)または第2の制御入力端子(Vinb)から入力される信号によっ
て入力端子(IN)から入力される信号がサンプリングされ、出力端子(OUT
)から出力される。
The equivalent circuit diagram of the first and second analog switches 1811 and 1812 is the same as that shown in FIG. First and second analog switches 1811 and 1812
Has an n-channel TFT and a p-channel TFT. A signal input from the input terminal (IN) is sampled by a signal input from the first control input terminal (Vin) or the second control input terminal (Vinb), and the output terminal (OUT
) Is output.

選択信号が第1及び第2のアナログスイッチ1811、1812に第1の制御
入力端子(Vin)から入力され、同時にインバーター1813によってその極
性が反転された選択信号が第1及び第2のアナログスイッチ1811、1812
に第2の制御入力端子(Vinb)から入力される。またさらに同時に、ソース
信号線駆動回路の外部から入力されるクロック信号CLKは、第1のアナログス
イッチ1811に入力端子(IN)から入力する。第2のアナログスイッチ18
12に入力端子(IN)から一定の電位(固定電位)が与えられている。
A selection signal is input from the first control input terminal (Vin) to the first and second analog switches 1811 and 1812, and at the same time, the selection signal whose polarity is inverted by the inverter 1813 is the first and second analog switches 1811. , 1812
Are input from the second control input terminal (Vinb). At the same time, the clock signal CLK input from the outside of the source signal line driver circuit is input to the first analog switch 1811 from the input terminal (IN). Second analog switch 18
12, a constant potential (fixed potential) is applied from the input terminal (IN).

第1及び第2のアナログスイッチ1811、1812の出力端子(OUT)か
ら出力される信号は、共にクロック信号制御回路106の出力端子(OUT)か
ら出力される。
Signals output from the output terminals (OUT) of the first and second analog switches 1811 and 1812 are both output from the output terminal (OUT) of the clock signal control circuit 106.

選択信号によって、シフトレジスタ102−1にクロック信号が入力されるか
、一定の電位(固定電位)が与えられるかが選択される。
A selection signal selects whether a clock signal is input to the shift register 102-1 or a constant potential (fixed potential) is applied.

なおクロック信号制御回路は図18に示した構成に限定されない。   The clock signal control circuit is not limited to the configuration shown in FIG.

なお本実施例は、実施例1〜3と自由に組み合わせて実施することが可能であ
る。
In addition, a present Example can be implemented combining freely with Examples 1-3.

(実施例5)
本実施例では、実施の形態3で示した発光装置が有するソース信号線駆動回路
の詳しい構成について説明する。図19に本実施例のソース信号線駆動回路の回
路図を示す。なお図1で示したものと同一のものは、同じ符号で示す。
(Example 5)
In this example, a detailed structure of a source signal line driver circuit included in the light-emitting device described in Embodiment Mode 3 will be described. FIG. 19 shows a circuit diagram of the source signal line driving circuit of this embodiment. In addition, the same thing as what was shown in FIG. 1 is shown with the same code | symbol.

102−1はシフトレジスタであり、クロック信号(CLK)、クロック信号
の極性が反転した信号(CLKB)、スタートパルス信号(SP)、双方向切り
替え信号(SL/R)が、図に示した配線からそれぞれ入力されている。
Reference numeral 102-1 denotes a shift register, in which the clock signal (CLK), the signal (CLKB) in which the polarity of the clock signal is inverted, the start pulse signal (SP), and the bidirectional switching signal (SL / R) are shown in the diagram. Each is input from.

102−2はラッチ(A)であり、102−3はラッチ(B)である。なお本
実施例では、1組のラッチ(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が
、4本のソース信号線に対応している。しかし本実施例において、1組のラッチ
(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が対応しているソース信号線
の数はこれに限定されない。また本実施例では信号が有する電圧の振幅の幅を変
えるレベルシフトを設けなかったが、設計者が適宜設けるようにしても良い。
Reference numeral 102-2 denotes a latch (A), and reference numeral 102-3 denotes a latch (B). In this embodiment, one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 correspond to four source signal lines. However, in this embodiment, the number of source signal lines corresponding to one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 is not limited to this. In this embodiment, the level shift for changing the amplitude range of the voltage of the signal is not provided. However, the designer may appropriately provide it.

またソース信号線駆動回路の外部から入力されるデジタルビデオ信号(DV)
は、図に示した配線からラッチ(A)102−2に入力される。ラッチ信号S_
LAT、S_LATの極性が反転した信号S_LATbはそれぞれ図に示した配
線からラッチ(B)102−3に入力される。
Digital video signals (DV) input from outside the source signal line driver circuit
Is input to the latch (A) 102-2 from the wiring shown in the drawing. Latch signal S_
A signal S_LATb in which the polarities of LAT and S_LAT are inverted is input to the latch (B) 102-3 from the wiring shown in the drawing.

ラッチ(A)102−2の詳しい構成については、図14に示したものと同じ
であるため、ここでは省略する。
The detailed configuration of the latch (A) 102-2 is the same as that shown in FIG.

107は、タイミング信号制御回路であり、一定の期間タイミング信号の代わ
りに、一定の電位(固定電位)をラッチ(A)102−2に与えることができる
Reference numeral 107 denotes a timing signal control circuit, which can supply a constant potential (fixed potential) to the latch (A) 102-2 instead of a timing signal for a fixed period.

具体的には、1〜mビット目までの下位ビットのデジタルビデオ信号をラッチ(
A)102−2に書き込むためのタイミング信号だけがラッチ(A)102−2
に入力しないように、一定の期間タイミング信号制御回路107によってシフト
レジスタ102−1から出力されるタイミング信号の代わりに、一定の電位(固
定電位)をラッチ(A)102−2に与えるようにした。よってソース信号線駆
動回路102の外部から入力されたデジタルビデオ信号nビットのうち、(m+
1)ビット目からnビット目までの上位ビットのデジタルビデオ信号のみをラッ
チ(A)102−2に書き込むことができる。
Specifically, digital video signals of lower bits from the 1st to mth bits are latched (
A) Only the timing signal for writing to 102-2 is latched (A) 102-2
So that a constant potential (fixed potential) is applied to the latch (A) 102-2 instead of the timing signal output from the shift register 102-1 by the timing signal control circuit 107 for a certain period. . Therefore, of the n bits of the digital video signal input from the outside of the source signal line driver circuit 102, (m +
1) Only the high-order digital video signals from the bit to the n-th bit can be written to the latch (A) 102-2.

なお本実施例のタイミング信号制御回路107の構成は、図18(A)(B)
に示したものと同じであるので、タイミング信号制御回路107の構成について
の詳しい説明は実施例4を参照する。ただし本実施例では、図18(A)(B)
に示した回路の入力端子(IN)にシフトレジスタ102−1からのタイミング
信号が入力される。そして図18(A)(B)に示した回路の出力端子(OUT
)から出力される信号は、ラッチ(A)102−2に入力される。そして選択信
号によって、ラッチ(A)102−2にタイミング信号が入力されるか、一定の
電位(固定電位)が与えられるかが選択される。
Note that the configuration of the timing signal control circuit 107 of this embodiment is shown in FIGS.
Therefore, the fourth embodiment is referred to for a detailed description of the configuration of the timing signal control circuit 107. However, in this embodiment, FIGS. 18 (A) and 18 (B)
The timing signal from the shift register 102-1 is input to the input terminal (IN) of the circuit shown in FIG. The output terminals (OUT) of the circuit shown in FIGS.
) Is input to the latch (A) 102-2. The selection signal selects whether a timing signal is input to the latch (A) 102-2 or a constant potential (fixed potential) is applied.

なおタイミング信号制御回路は図18に示した構成に限定されない。   The timing signal control circuit is not limited to the configuration shown in FIG.

なお本実施例は、実施例1〜3と自由に組み合わせて実施することが可能であ
る。
In addition, a present Example can be implemented combining freely with Examples 1-3.

(実施例6)
本実施例では、実施の形態4で示した発光装置が有するソース信号線駆動回路
の詳しい構成について説明する。図20に本実施例のソース信号線駆動回路の回
路図を示す。なお図1で示したものと同一のものは、同じ符号で示す。
(Example 6)
In this example, a detailed structure of a source signal line driver circuit included in the light-emitting device described in Embodiment Mode 4 will be described. FIG. 20 shows a circuit diagram of the source signal line driving circuit of this embodiment. In addition, the same thing as what was shown in FIG. 1 is shown with the same code | symbol.

102−1はシフトレジスタであり、クロック信号(CLK)、クロック信号
の極性が反転した信号(CLKB)、スタートパルス信号(SP)、双方向切り
替え信号(SL/R)が、図に示した配線からそれぞれ入力されている。
Reference numeral 102-1 denotes a shift register, in which the clock signal (CLK), the signal (CLKB) in which the polarity of the clock signal is inverted, the start pulse signal (SP), and the bidirectional switching signal (SL / R) are shown in the diagram. Each is input from.

102−2はラッチ(A)であり、102−3はラッチ(B)である。なお本
実施例では、1組のラッチ(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が
、4本のソース信号線に対応している。しかし本実施例において、1組のラッチ
(A)102−2と1組のラッチ(B)102−3が対応しているソース信号線
の数はこれに限定されない。また本実施例では信号が有する電圧の振幅の幅を変
えるレベルシフトを設けなかったが、設計者が適宜設けるようにしても良い。
Reference numeral 102-2 denotes a latch (A), and reference numeral 102-3 denotes a latch (B). In this embodiment, one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 correspond to four source signal lines. However, in this embodiment, the number of source signal lines corresponding to one set of latches (A) 102-2 and one set of latches (B) 102-3 is not limited to this. In this embodiment, the level shift for changing the amplitude range of the voltage of the signal is not provided. However, the designer may appropriately provide it.

またソース信号線駆動回路の外部から入力されるデジタルビデオ信号(DV)
は、図に示した配線からラッチ(A)102−2に入力される。ラッチ信号S_
LAT、S_LATの極性が反転した信号S_LATbはそれぞれ図に示した配
線からラッチ(B)102−3に入力される。
Digital video signals (DV) input from outside the source signal line driver circuit
Is input to the latch (A) 102-2 from the wiring shown in the drawing. Latch signal S_
A signal S_LATb in which the polarities of LAT and S_LAT are inverted is input to the latch (B) 102-3 from the wiring shown in the drawing.

ラッチ(A)102−2の詳しい構成については、図14に示したものと同じ
であるため、ここでは省略する。
The detailed configuration of the latch (A) 102-2 is the same as that shown in FIG.

108は、スタートパルス信号制御回路であり、一定の期間スタートパルス信
号(SP)の代わりに、一定の電位(固定電位)をシフトレジスタ102−1に
与えることができる。
Reference numeral 108 denotes a start pulse signal control circuit, which can supply a constant potential (fixed potential) to the shift register 102-1 instead of the start pulse signal (SP) for a certain period.

具体的には、1〜mビット目までの下位ビットのデジタルビデオ信号をラッチ
(A)102−2に書き込むためのタイミング信号だけがラッチ(A)102−
2に入力しないように、一定の期間スタートパルス信号制御回路108によって
スタートパルス信号の代わりに一定の電位(固定電位)をシフトレジスタ102
−1に与えるようにした。よってソース信号線駆動回路102の外部から入力さ
れたデジタルビデオ信号nビットのうち、(m+1)ビット目からnビット目ま
での上位ビットのデジタルビデオ信号のみをラッチ(A)102−2に書き込む
ことができる。
Specifically, only the timing signal for writing the low-order bit digital video signals from the 1st to m-th bits into the latch (A) 102-2 is latched (A) 102-.
2, a constant potential (fixed potential) is applied instead of the start pulse signal by the start pulse signal control circuit 108 for a certain period so as not to input to the shift register 102
−1. Therefore, of the digital video signal n bits input from the outside of the source signal line driver circuit 102, only the higher-order digital video signal from the (m + 1) th bit to the nth bit is written to the latch (A) 102-2. Can do.

なお本実施例のスタートパルス信号制御回路108の構成は、図18(A)(
B)に示したものと同じであるので、スタートパルス信号制御回路108の構成
についての詳しい説明は実施例4を参照する。ただし本実施例では、図18(A
)(B)に示した回路の入力端子(IN)にスタートパルス信号が入力される。
そして図18(A)(B)に示した回路の出力端子(OUT)から出力される信
号は、シフトレジスタ102−1に入力される。そして選択信号によって、シフ
トレジスタ102−1にスタートパルス信号が入力されるか、一定の電位(固定
電位)が与えられるかが選択される。
Note that the configuration of the start pulse signal control circuit 108 of this embodiment is shown in FIG.
Since it is the same as that shown in B), the fourth embodiment is referred to for a detailed description of the configuration of the start pulse signal control circuit 108. However, in this embodiment, FIG.
) A start pulse signal is input to the input terminal (IN) of the circuit shown in (B).
A signal output from the output terminal (OUT) of the circuit illustrated in FIGS. 18A and 18B is input to the shift register 102-1. The selection signal selects whether a start pulse signal is input to the shift register 102-1 or a constant potential (fixed potential) is applied.

なおタイミング信号制御回路は図18に示した構成に限定されない。   The timing signal control circuit is not limited to the configuration shown in FIG.

なお本実施例は、実施例1〜3と自由に組み合わせて実施することが可能であ
る。
In addition, a present Example can be implemented combining freely with Examples 1-3.

(実施例7)
本実施例では、本発明の第3の構成の、実施の形態5で示した構成とは異なる
例について、図21を用いて説明する。なお図21において、なお図5で示した
ものと同一のものは同じ符号で示す。
(Example 7)
In this example, an example of the third configuration of the present invention that is different from the configuration shown in Embodiment Mode 5 will be described with reference to FIG. In FIG. 21, the same components as those shown in FIG.

501は電源供給線であり、502はバッファアンプ(緩衝増幅器)、503
はモニター用発光素子、504は定電流源、505は加算回路である。モニター
用発光素子503の一方の電極は定電流源504に接続されており、モニター用
発光素子503には常に一定の電流が流れている。そして発光素子が有する有機
化合物層の温度が変化すると、モニター用発光素子503を流れる電流の大きさ
が変化しないかわりに、定電流源504に接続されているモニター用発光素子5
03の電極の電位が変化する。
501 is a power supply line, 502 is a buffer amplifier (buffer amplifier), 503
Is a light emitting element for monitoring, 504 is a constant current source, and 505 is an adding circuit. One electrode of the monitor light emitting element 503 is connected to a constant current source 504, and a constant current always flows through the monitor light emitting element 503. When the temperature of the organic compound layer of the light emitting element changes, the magnitude of the current flowing through the monitoring light emitting element 503 does not change, but the monitoring light emitting element 5 connected to the constant current source 504 is changed.
The potential of the electrode 03 changes.

一方バッファアンプ502は2つの入力端子と1つの出力端子とを有しており
、2つの入力端子のうち一方は非反転入力端子(+)、もう一方は反転入力端子
(−)である。モニター用発光素子503の一方の電極の電位は、バッファアン
プ502の非反転入力端子に与えられる。
On the other hand, the buffer amplifier 502 has two input terminals and one output terminal. One of the two input terminals is a non-inverting input terminal (+) and the other is an inverting input terminal (−). The potential of one electrode of the monitoring light emitting element 503 is applied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 502.

バッファアンプは、定電流源504に接続されたモニター用発光素子503の
電極の電位が、電源供給線501の配線容量等の負荷によって変化するのを防ぐ
回路である。よってバッファアンプ502の非反転入力端子に与えられた電位は
、電源供給線501や加算回路505の配線容量等の負荷によって変化すること
なく出力端子から出力され、加算回路505に与えられる。
The buffer amplifier is a circuit that prevents the potential of the electrode of the monitor light emitting element 503 connected to the constant current source 504 from changing due to a load such as a wiring capacity of the power supply line 501. Therefore, the potential applied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 502 is output from the output terminal without being changed by a load such as the wiring capacity of the power supply line 501 or the addition circuit 505 and is applied to the addition circuit 505.

加算回路505に与えられたバッファアンプ502の出力端子の電位は、ある
一定の電位差が加えられるか差し引かれるかした後、電源電位として電源供給線
501に与えられる。
The potential of the output terminal of the buffer amplifier 502 applied to the adder circuit 505 is applied to the power supply line 501 as a power supply potential after a certain potential difference is added or subtracted.

図22に本実施例の加算回路の詳しい回路図を示す。加算回路505は第1の
抵抗521と、第2の抵抗522と、加算回路用電源525と、非反転増幅回路
520とを有している。非反転増幅回路520は第3の抵抗523と、第4の抵
抗524と、非反転増幅回路用電源526と、アンプ527とを有している。
FIG. 22 shows a detailed circuit diagram of the adder circuit of this embodiment. The adder circuit 505 includes a first resistor 521, a second resistor 522, an adder circuit power supply 525, and a non-inverting amplifier circuit 520. The non-inverting amplifier circuit 520 includes a third resistor 523, a fourth resistor 524, a non-inverting amplifier circuit power source 526, and an amplifier 527.

第1の抵抗521の一方の端子は加算回路の入力端子(IN)である。そして
、第1の抵抗521のもう一方の端子は第2の抵抗522の一方の端子に接続さ
れている。第2の抵抗522のもう一方の端子は加算回路用電源525に接続さ
れている。第1の抵抗521と第2の抵抗522の間からの出力は、非反転増幅
回路520のアンプ527の非反転入力端子(+)に入力される。
One terminal of the first resistor 521 is an input terminal (IN) of the adder circuit. The other terminal of the first resistor 521 is connected to one terminal of the second resistor 522. The other terminal of the second resistor 522 is connected to the adding circuit power source 525. An output from between the first resistor 521 and the second resistor 522 is input to the non-inverting input terminal (+) of the amplifier 527 of the non-inverting amplifier circuit 520.

第3の抵抗523の一方の端子はアンプ527の出力端子に、第3の抵抗52
3のもう一方の端子はアンプ527の反転入力端子に接続されている。第3の抵
抗523とアンプ527の反転入力端子との間からの出力は第4の抵抗524の
一方の端子に入力されている。第4の抵抗524のもう一方の端子は非反転増幅
回路用電源526と接続されている。第3の抵抗523とアンプ527の出力端
子との間からの出力は加算回路505の出力端子(OUT)から出力される。
One terminal of the third resistor 523 is connected to the output terminal of the amplifier 527, and the third resistor 52
The other terminal of 3 is connected to the inverting input terminal of the amplifier 527. An output from between the third resistor 523 and the inverting input terminal of the amplifier 527 is input to one terminal of the fourth resistor 524. The other terminal of the fourth resistor 524 is connected to the non-inverting amplifier circuit power source 526. An output from between the third resistor 523 and the output terminal of the amplifier 527 is output from the output terminal (OUT) of the adder circuit 505.

上記構成によって、環境温度の変化により、モニター用発光素子503または
画素部の発光素子の有機化合物層の温度が変化しても、発光素子に一定の電流が
流れるように電源電位が変化する。よって発光装置の環境温度が上昇しても、発
光装置の消費電力が大きくなるのを抑えることができ、かつ発光素子の輝度を一
定に保つことができる。そしてなおかつ加算回路505を設けることで、電源供
給線501の電位を、モニター用発光素子503の定電流源504に接続されて
いる電極の電位と同じにする必要がなくなる。よってバッファアンプ502、モ
ニター用発光素子503、定電流源504に流れる電流の大きさを抑えることが
でき、その結果、消費電力を抑えることができる。
With the above structure, the power supply potential changes so that a constant current flows through the light emitting element even when the temperature of the organic compound layer of the light emitting element for monitoring 503 or the light emitting element of the pixel portion changes due to a change in environmental temperature. Therefore, even when the environmental temperature of the light emitting device rises, the power consumption of the light emitting device can be suppressed and the luminance of the light emitting element can be kept constant. Further, by providing the addition circuit 505, the potential of the power supply line 501 does not need to be the same as the potential of the electrode connected to the constant current source 504 of the monitor light emitting element 503. Therefore, the magnitude of current flowing through the buffer amplifier 502, the monitor light emitting element 503, and the constant current source 504 can be suppressed, and as a result, power consumption can be suppressed.

なお加算回路505は図22に示した構成に限定されない。   The adding circuit 505 is not limited to the configuration shown in FIG.

また本実施例は、実施例1〜6と自由に組み合わせて実施することが可能であ
る。
In addition, this embodiment can be implemented in combination with Embodiments 1 to 6.

(実施例8)
本実施例では、同一基板上に画素部と、画素部の周辺の駆動回路のTFT(n
チャネル型TFT及びpチャネル型TFT)を同時に作製する方法について詳細
に説明する。
(Example 8)
In this embodiment, the TFT (n) of the pixel portion and the driving circuit around the pixel portion on the same substrate.
A method for simultaneously manufacturing a channel type TFT and a p-channel type TFT will be described in detail.

まず、図23(A)に示すように、コーニング社の#7059ガラスや#17
37ガラスなどに代表されるバリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガ
ラスなどのガラス、または石英基板から成る基板400上に酸化シリコン膜、窒
化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成る下地膜401を形
成する。例えば、プラズマCVD法でSiH4、NH3、N2Oから作製される酸
化窒化シリコン膜を10〜200nm(好ましくは50〜100nm)形成し、同様
にSiH4、N2Oから作製される酸化窒化水素化シリコン膜を50〜200nm
(好ましくは100〜150nm)の厚さに積層形成する。なお図23(A)では
下地膜を1つの層で示した。本実施例では下地膜401を2層構造として示した
が、前記絶縁膜の単層膜または2層以上積層させた構造として形成しても良い。
First, as shown in FIG. 23A, Corning # 7059 glass or # 17
A base film 401 made of an insulating film such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film over a substrate 400 made of glass such as barium borosilicate glass or alumino borosilicate glass typified by 37 glass. Form. For example, a silicon oxynitride film formed from SiH 4 , NH 3 , and N 2 O by plasma CVD is formed to a thickness of 10 to 200 nm (preferably 50 to 100 nm), and similarly oxidized from SiH 4 and N 2 O. 50 to 200 nm of hydrogenated silicon nitride film
The layers are formed to have a thickness (preferably 100 to 150 nm). Note that in FIG. 23A, the base film is shown as one layer. In this embodiment, the base film 401 is shown as a two-layer structure;

半導体層402〜405は、非晶質構造を有する半導体膜をレーザー結晶化法
や公知の熱結晶化法を用いて作製した結晶質半導体膜で形成する。この半導体層
402〜405の厚さは25〜80nm(好ましくは30〜60nm)の厚さで
形成する。結晶質半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコンまたはシ
リコンゲルマニウム(SiGe)合金などで形成すると良い。
The semiconductor layers 402 to 405 are formed using a crystalline semiconductor film in which a semiconductor film having an amorphous structure is formed using a laser crystallization method or a known thermal crystallization method. The semiconductor layers 402 to 405 are formed to a thickness of 25 to 80 nm (preferably 30 to 60 nm). There is no limitation on the material of the crystalline semiconductor film, but the crystalline semiconductor film is preferably formed of silicon or a silicon germanium (SiGe) alloy.

公知の結晶化方法としては、電熱炉を使用した熱結晶化方法、レーザー光を用
いたレーザーアニール結晶化法、赤外光を用いたランプアニール結晶化法、触媒
金属を用いた結晶化法がある。
Known crystallization methods include a thermal crystallization method using an electric furnace, a laser annealing crystallization method using laser light, a lamp annealing crystallization method using infrared light, and a crystallization method using a catalytic metal. is there.

レーザー結晶化法で結晶質半導体膜を作製するには、パルス発振型または連続
発光型のエキシマレーザーやYAGレーザー、YVO4レーザーを用いる。これ
らのレーザーを用いる場合には、レーザー発振器から放射されたレーザー光を光
学系で線状に集光し半導体膜に照射する方法を用いると良い。結晶化の条件は実
施者が適宣選択するものであるが、エキシマレーザーを用いる場合はパルス発振
周波数300Hzとし、レーザーエネルギー密度を100〜400mJ/cm2(代表
的には200〜300mJ/cm2)とする。また、YAGレーザーを用いる場合には
その第2高調波を用いパルス発振周波数30〜300kHzとし、レーザーエネ
ルギー密度を300〜600mJ/cm2(代表的には350〜500mJ/cm2)とすると
良い。そして幅100〜1000μm、例えば400μmで線状に集光したレー
ザー光を基板全面に渡って照射し、この時の線状レーザー光の重ね合わせ率(オ
ーバーラップ率)を50〜90%として行う。
In order to manufacture a crystalline semiconductor film by a laser crystallization method, a pulse oscillation type or continuous emission type excimer laser, YAG laser, or YVO 4 laser is used. When these lasers are used, it is preferable to use a method in which laser light emitted from a laser oscillator is linearly collected by an optical system and irradiated onto a semiconductor film. The conditions for crystallization are appropriately selected by the practitioner. When an excimer laser is used, the pulse oscillation frequency is 300 Hz and the laser energy density is 100 to 400 mJ / cm 2 (typically 200 to 300 mJ / cm 2). ). When a YAG laser is used, the second harmonic is used and the pulse oscillation frequency is 30 to 300 kHz, and the laser energy density is preferably 300 to 600 mJ / cm 2 (typically 350 to 500 mJ / cm 2 ). Then, a laser beam condensed in a linear shape with a width of 100 to 1000 μm, for example, 400 μm is irradiated over the entire surface of the substrate, and the superposition rate (overlap rate) of the linear laser beam at this time is set to 50 to 90%.

次いで、半導体層402〜405を覆うゲート絶縁膜406を形成する。ゲー
ト絶縁膜406はプラズマCVD法またはスパッタ法を用い、厚さを40〜15
0nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。本実施例では、120nmの厚
さで酸化窒化シリコン膜で形成する。勿論、ゲート絶縁膜406はこのような酸
化窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層ま
たは積層構造として用いても良い。例えば、酸化シリコン膜を用いる場合には、
プラズマCVD法でTEOS(Tetraethyl Orthosilicate)とO2とを混合し、
反応圧力40Pa、基板温度300〜400℃とし、高周波(13.56MHz)電
力密度0.5〜0.8W/cm2で放電させて形成することができる。このようにし
て作製される酸化シリコン膜は、その後400〜500℃の熱アニールによりゲ
ート絶縁膜として良好な特性を得ることができる。
Next, a gate insulating film 406 that covers the semiconductor layers 402 to 405 is formed. The gate insulating film 406 is formed by plasma CVD or sputtering, and has a thickness of 40-15.
The insulating film containing silicon is formed to have a thickness of 0 nm. In this embodiment, a silicon oxynitride film is formed with a thickness of 120 nm. Needless to say, the gate insulating film 406 is not limited to such a silicon oxynitride film, and another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure. For example, when using a silicon oxide film,
TEOS (Tetraethyl Orthosilicate) and O 2 are mixed by plasma CVD,
It can be formed by discharging at a reaction pressure of 40 Pa, a substrate temperature of 300 to 400 ° C., and a high frequency (13.56 MHz) power density of 0.5 to 0.8 W / cm 2 . The silicon oxide film thus manufactured can obtain good characteristics as a gate insulating film by subsequent thermal annealing at 400 to 500 ° C.

そして、ゲート絶縁膜406上にゲート電極を形成するための第1の導電膜4
07と第2の導電膜408とを形成する。本実施例では、第1の導電膜407を
Taで50〜100nmの厚さに形成し、第2の導電膜408をWで100〜3
00nmの厚さに形成する。
Then, the first conductive film 4 for forming a gate electrode on the gate insulating film 406 is formed.
07 and a second conductive film 408 are formed. In this embodiment, the first conductive film 407 is made of Ta to a thickness of 50 to 100 nm, and the second conductive film 408 is made of W to 100 to 3 nm.
It is formed to a thickness of 00 nm.

Ta膜はスパッタ法で形成し、TaのターゲットをArでスパッタする。この
場合、Arに適量のXeやKrを加えると、Ta膜の内部応力を緩和して膜の剥
離を防止することができる。また、α相のTa膜の抵抗率は20μΩcm程度であ
りゲート電極に使用することができるが、β相のTa膜の抵抗率は180μΩcm
程度でありゲート電極とするには不向きである。α相のTa膜を形成するために
、Taのα相に近い結晶構造をもつ窒化タンタルを10〜50nm程度の厚さで
Taの下地に形成しておくとα相のTa膜を容易に得ることができる。
The Ta film is formed by sputtering, and a Ta target is sputtered with Ar. In this case, when an appropriate amount of Xe or Kr is added to Ar, the internal stress of the Ta film can be relieved and peeling of the film can be prevented. The resistivity of the α-phase Ta film is about 20 μΩcm and can be used as a gate electrode, but the resistivity of the β-phase Ta film is 180 μΩcm.
This is not suitable for a gate electrode. In order to form an α-phase Ta film, tantalum nitride having a crystal structure close to Ta's α-phase is formed on a Ta base with a thickness of about 10 to 50 nm, so that an α-phase Ta film can be easily obtained. be able to.

W膜を形成する場合には、Wをターゲットとしたスパッタ法で形成する。その
他に6フッ化タングステン(WF6)を用いる熱CVD法で形成することもでき
る。いずれにしてもゲート電極として使用するためには低抵抗化を図る必要があ
り、W膜の抵抗率は20μΩcm以下にすることが望ましい。W膜は結晶粒を大
きくすることで低抵抗率化を図ることができるが、W膜中に酸素などの不純物元
素が多い場合には結晶化が阻害され高抵抗化する。このことより、スパッタ法に
よる場合、純度99.99%または99.9999%のWターゲットを用い、さ
らに成膜時に気相中からの不純物の混入がないように十分配慮してW膜を形成す
ることにより、抵抗率9〜20μΩcmを実現することができる。
When forming a W film, it is formed by sputtering using W as a target. In addition, it can be formed by a thermal CVD method using tungsten hexafluoride (WF 6 ). In any case, in order to use as a gate electrode, it is necessary to reduce the resistance, and the resistivity of the W film is desirably 20 μΩcm or less. The resistivity of the W film can be reduced by increasing the crystal grains. However, when there are many impurity elements such as oxygen in the W film, the crystallization is hindered and the resistance is increased. Therefore, when sputtering is used, a W target having a purity of 99.99% or 99.9999% is used, and a W film is formed with sufficient consideration so that impurities are not mixed in the gas phase during film formation. Thus, a resistivity of 9 to 20 μΩcm can be realized.

なお、本実施例では、第1の導電膜407をTa、第2の導電膜408をWと
したが、特に限定されず、いずれもTa、W、Ti、Mo、Al、Cuから選ば
れた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料で形成し
てもよい。また、リン等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表
される半導体膜を用いてもよい。本実施例以外の他の組み合わせの一例は、第1
の導電膜を窒化タンタル(TaN)で形成し、第2の導電膜をWとする組み合わ
せ、第1の導電膜を窒化タンタル(TaN)で形成し、第2の導電膜をAlとす
る組み合わせ、第1の導電膜を窒化タンタル(TaN)で形成し、第2の導電膜
をCuとする組み合わせで形成することが好ましい。(図23(B))
In this embodiment, the first conductive film 407 is Ta and the second conductive film 408 is W. However, the present invention is not particularly limited, and any of these is selected from Ta, W, Ti, Mo, Al, and Cu. You may form with an element or the alloy material or compound material which has the said element as a main component. Alternatively, a semiconductor film typified by a polycrystalline silicon film doped with an impurity element such as phosphorus may be used. An example of another combination other than the present embodiment is the first
A combination of forming the first conductive film with tantalum nitride (TaN) and forming the second conductive film with Al. It is preferable that the first conductive film is formed using tantalum nitride (TaN) and the second conductive film is formed using Cu. (FIG. 23 (B))

次に、レジストによるマスク409〜412を形成し、電極及び配線を形成す
るための第1のエッチング処理を行う。本実施例ではICP(Inductively Coup
led Plasma:誘導結合型プラズマ)エッチング法を用い、エッチング用ガスにC
4とCl2を混合し、1Paの圧力でコイル型の電極に500WのRF(13.56MHz
)電力を投入してプラズマを生成して行う。基板側(試料ステージ)にも100
WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する
。CF4とCl2を混合した場合にはW膜及びTa膜とも同程度にエッチングされ
る。
Next, resist masks 409 to 412 are formed, and a first etching process is performed to form electrodes and wirings. In this embodiment, ICP (Inductively Coup
led Plasma: Inductively coupled plasma) Etching method and etching gas C
F 4 and Cl 2 are mixed, and 500 W RF (13.56 MHz) is applied to the coil type electrode at a pressure of 1 Pa.
) Power is applied to generate plasma. 100 on the substrate side (sample stage)
Apply RF (13.56 MHz) power of W and apply a substantially negative self-bias voltage. When CF 4 and Cl 2 are mixed, the W film and the Ta film are etched to the same extent.

なお図23(C)では図示しなかったが、上記エッチング条件では、レジスト
によるマスクの形状を適したものとすることにより、基板側に印加するバイアス
電圧の効果により第1の導電層及び第2の導電層の端部がテーパー形状となる。
テーパー部の角度は15〜45°となる。ゲート絶縁膜上に残渣を残すことなく
エッチングするためには、10〜20%程度の割合でエッチング時間を増加させ
ると良い。W膜に対する酸化窒化シリコン膜の選択比は2〜4(代表的には3)
であるので、オーバーエッチング処理により、酸化窒化シリコン膜が露出した面
は20〜50nm程度エッチングされることになる。また図23(C)では図示し
なかったが、ゲート絶縁膜406は、上記エッチングによって第1の形状の導電
層414〜417で覆われない領域が20〜50nm程度エッチングされ薄くなっ
た。
Although not shown in FIG. 23C, the first conductive layer and the second conductive layer are formed by the effect of the bias voltage applied to the substrate side by making the shape of the resist mask suitable under the above etching conditions. The end portion of the conductive layer is tapered.
The angle of the tapered portion is 15 to 45 °. In order to perform etching without leaving a residue on the gate insulating film, it is preferable to increase the etching time at a rate of about 10 to 20%. Selectivity ratio of silicon oxynitride film to W film is 2-4 (typically 3)
Therefore, the surface where the silicon oxynitride film is exposed is etched by about 20 to 50 nm by the over-etching process. Although not shown in FIG. 23C, the gate insulating film 406 is thinned by etching about 20 to 50 nm in a region not covered with the first shape conductive layers 414 to 417 by the etching.

こうして、第1のエッチング処理により第1の導電層と第2の導電層から成る
第1の形状の導電層414〜417(第1の導電層414a〜417aと第2の
導電層414b〜417b)を形成する。
Thus, the first shape conductive layers 414 to 417 (first conductive layers 414 a to 417 a and second conductive layers 414 b to 417 b) composed of the first conductive layer and the second conductive layer by the first etching treatment. Form.

次に、図23(D)に示すように第2のエッチング処理を行う。同様にICP
エッチング法を用い、エッチングガスにCF4とCl2とO2を混合して、1Paの
圧力でコイル型の電極に500WのRF電力(13.56MHz)を供給し、プラズマを生
成して行う。基板側(試料ステージ)には50WのRF(13.56MHz)電力を投入
し、第1のエッチング処理に比べ低い自己バイアス電圧を印加する。このような
条件によりW膜を異方性エッチングし、かつ、それより遅いエッチング速度で第
1の導電層であるTaを異方性エッチングして第2の形状の導電層419〜42
2(第1の導電層419a〜422aと第2の導電層419b〜422b)を形
成する。また図23(D)では図示しなかったが、ゲート絶縁膜406は、上記
エッチングによって第2の形状の導電層419〜422で覆われない領域がさら
に20〜50nm程度エッチングされ薄くなった。
Next, a second etching process is performed as shown in FIG. Similarly ICP
Using an etching method, CF 4 , Cl 2, and O 2 are mixed in an etching gas, and 500 W of RF power (13.56 MHz) is supplied to a coil-type electrode at a pressure of 1 Pa to generate plasma. 50 W RF (13.56 MHz) power is applied to the substrate side (sample stage), and a lower self-bias voltage is applied than in the first etching process. Under such conditions, the W film is anisotropically etched, and Ta, which is the first conductive layer, is anisotropically etched at a slower etching rate to form the second shape conductive layers 419 to 42.
2 (first conductive layers 419a to 422a and second conductive layers 419b to 422b) are formed. Although not shown in FIG. 23D, the gate insulating film 406 is thinned by further etching about 20 to 50 nm in a region not covered with the second shape conductive layers 419 to 422 by the above etching.

W膜やTa膜のCF4とCl2の混合ガスによるエッチング反応は、生成される
ラジカルまたはイオン種と反応生成物の蒸気圧から推測することができる。Wと
Taのフッ化物と塩化物の蒸気圧を比較すると、Wのフッ化物であるWF6が極
端に高く、その他のWCl5、TaF5、TaCl5は同程度である。従って、C
4とCl2の混合ガスではW膜及びTa膜共にエッチングされる。しかし、この
混合ガスに適量のO2を添加するとCF4とO2が反応してCOとFになり、Fラ
ジカルまたはFイオンが多量に発生する。その結果、フッ化物の蒸気圧が高いW
膜のエッチング速度が増大する。一方、TaはFが増大しても相対的にエッチン
グ速度の増加は少ない。また、TaはWに比較して酸化されやすいので、O2
添加することでTaの表面が酸化される。Taの酸化物はフッ素や塩素と反応し
ないためさらにTa膜のエッチング速度は低下する。従って、W膜とTa膜との
エッチング速度に差を作ることが可能となりW膜のエッチング速度をTa膜より
も大きくすることが可能となる。
The etching reaction of the W film or Ta film with the mixed gas of CF 4 and Cl 2 can be estimated from the generated radical or ion species and the vapor pressure of the reaction product. When the vapor pressures of W and Ta fluorides and chlorides are compared, WF 6 which is a fluoride of W is extremely high, and other WCl 5 , TaF 5 and TaCl 5 are similar. Therefore, C
Both the W film and the Ta film are etched with a mixed gas of F 4 and Cl 2 . However, when an appropriate amount of O 2 is added to this mixed gas, CF 4 and O 2 react to form CO and F, and a large amount of F radicals or F ions are generated. As a result, W has a high vapor pressure of fluoride.
The etching rate of the film is increased. On the other hand, the increase in etching rate of Ta is relatively small even when F increases. Further, since Ta is more easily oxidized than W, the surface of Ta is oxidized by adding O 2 . Since the Ta oxide does not react with fluorine or chlorine, the etching rate of the Ta film further decreases. Therefore, it is possible to make a difference in the etching rate between the W film and the Ta film, and the etching rate of the W film can be made larger than that of the Ta film.

そして、マスク409a〜マスク412aを除去し、図24(A)に示すよう
に第1のドーピング処理を行い、n型を付与する不純物元素を添加する。例えば
、加速電圧を70〜120keVとし、1×1013/cm2のドーズ量で行う。ドー
ピングは、第2の形状の導電層419〜422を不純物元素に対するマスクとし
て用い、第2の導電層419a〜422aの下側の領域にも不純物元素が添加さ
れるようにドーピングする。こうして、第2の導電層419a〜422aと重な
る第1の不純物領域425〜428と、第1の不純物領域よりも不純物の濃度が
高い第2の不純物領域429〜432とが形成される。なお本実施例ではマスク
409a〜412aを除去してからn型を付与する不純物元素を添加したが、本
発明はこれに限定されない。図24(A)の工程においてn型を付与する不純物
元素を添加してからマスク409a〜マスク412aを除去しても良い。
Then, the masks 409a to 412a are removed, and first doping treatment is performed as shown in FIG. 24A to add an impurity element imparting n-type conductivity. For example, the acceleration voltage is 70 to 120 keV, and the dose is 1 × 10 13 / cm 2 . Doping is performed using the second shape conductive layers 419 to 422 as masks against the impurity elements so that the impurity elements are also added to the lower regions of the second conductive layers 419 a to 422 a. Thus, first impurity regions 425 to 428 overlapping with the second conductive layers 419a to 422a and second impurity regions 429 to 432 having a higher impurity concentration than the first impurity regions are formed. Note that although the impurity element imparting n-type conductivity is added after removing the masks 409a to 412a in this embodiment, the present invention is not limited to this. In the step of FIG. 24A, the mask element 409a to the mask 412a may be removed after an impurity element imparting n-type conductivity is added.

次に第2の導電層421a、421bを覆うように半導体層404上にレジス
トからなるマスク433を形成する。マスク433はゲート絶縁膜406を間に
挟んで第2の不純物領域431と一部重なっている。そして第2のドーピング処
理を行いn型を付与する不純物元素を添加する。この場合、第1のドーピング処
理よりもドーズ量を上げて低い加速電圧の条件としてn型を付与する不純物元素
をドーピングする。(図24(B))ドーピングの方法はイオンドープ法若しく
はイオン注入法で行えば良い。イオンドープ法の条件はドーズ量を1×1013
5×1014atoms/cm2とし、加速電圧を60〜100keVとして行う。n型を
付与する不純物元素として15族に属する元素、典型的にはリン(P)または砒
素(As)を用いるが、ここではリン(P)を用いる。この場合、第2の形状の
導電層419〜422がn型を付与する不純物元素に対するマスクとなり、自己
整合的にソース領域434〜437、ドレイン領域438〜441、Lov領域
442〜445が形成される。またマスク433によってLoff領域446が
形成される。ソース領域434〜437、ドレイン領域438〜441には1×
1020〜1×1021atomic/cm3の濃度範囲でn型を付与する不純物元素を添加す
る。
Next, a mask 433 made of a resist is formed over the semiconductor layer 404 so as to cover the second conductive layers 421a and 421b. The mask 433 partially overlaps with the second impurity region 431 with the gate insulating film 406 interposed therebetween. Then, an impurity element imparting n-type is added by performing a second doping process. In this case, an impurity element imparting n-type conductivity is doped as a condition of a low acceleration voltage by raising the dose amount compared to the first doping treatment. (FIG. 24B) The doping may be performed by ion doping or ion implantation. The condition of the ion doping method is that the dose is 1 × 10 13 to
5 × 10 14 atoms / cm 2 and an acceleration voltage of 60 to 100 keV. As an impurity element imparting n-type, an element belonging to Group 15, typically phosphorus (P) or arsenic (As), is used here, but phosphorus (P) is used. In this case, the second shape conductive layers 419 to 422 serve as a mask for the impurity element imparting n-type, and source regions 434 to 437, drain regions 438 to 441, and Lov regions 442 to 445 are formed in a self-aligned manner. . Further, a Loff region 446 is formed by the mask 433. The source regions 434 to 437 and the drain regions 438 to 441 have 1 ×
An impurity element imparting n-type conductivity is added in a concentration range of 10 20 to 1 × 10 21 atomic / cm 3 .

本実施例はマスク433のサイズを制御することで、Loff領域446の長
さを自由に設定することが可能である。
In this embodiment, the length of the Loff region 446 can be freely set by controlling the size of the mask 433.

なお本明細書において、ゲート絶縁膜を介してゲート電極と重なるLDD領域
をLov領域と呼ぶ。またゲート絶縁膜を介してゲート電極と重ならないLDD
領域をLoff領域と呼ぶ。
Note that in this specification, an LDD region overlapping with a gate electrode through a gate insulating film is referred to as a Lov region. LDD that does not overlap the gate electrode through the gate insulating film
The region is called a Loff region.

n型を付与する不純物元素は、Loff領域で1×1017〜1×1019atoms/cm
3の濃度となるようにし、Lov領域で1×1016〜1×1018atoms/cm3の濃度
となるようにする。
An impurity element imparting n-type conductivity is 1 × 10 17 to 1 × 10 19 atoms / cm in the Loff region.
The concentration is 3 and the concentration is 1 × 10 16 to 1 × 10 18 atoms / cm 3 in the Lov region.

なお図24(B)において、上述したような条件でn型を付与する不純物元素
をドーピングする前または後に、半導体層404上にマスク433を形成した状
態で加速電圧を70〜120keVとしn型を付与する不純物元素をドーピング
しても良い。上記工程によって、スイッチング用TFTのLoff領域となる部
分446のn型を付与する不純物元素の濃度を抑えつつ、駆動回路に用いられる
TFTのLov領域となる部分442、443のn型を付与する不純物元素の濃
度を高めることができる。スイッチング用TFTのLoff領域となる部分44
6のn型を付与する不純物元素の濃度を抑えることで、スイッチング用TFTの
オフ電流を提言することが可能である。また駆動回路に用いられるnチャネル型
TFTのLov領域となる部分443のn型を付与する不純物元素の濃度を高め
ることで、ホットキャリア効果による、ドレイン近傍の高電界によって発生した
ホットキャリアが劣化現象を引き起こすのを防ぐことができる。
Note that in FIG. 24B, before or after doping the impurity element imparting n-type under the above-described conditions, the acceleration voltage is set to 70 to 120 keV and the n-type is changed with the mask 433 formed over the semiconductor layer 404. An impurity element to be added may be doped. Impurities imparting the n-type of the portions 442 and 443 that serve as the Lov regions of the TFTs used in the driver circuit while suppressing the concentration of the impurity element that imparts the n-type of the portion 446 serving as the Loff region of the switching TFT by the above process. The concentration of the element can be increased. A portion 44 to be a Loff region of the switching TFT
By suppressing the concentration of the impurity element imparting n-type 6, it is possible to propose an off-current of the switching TFT. In addition, by increasing the concentration of an impurity element imparting n-type conductivity in the portion 443 serving as the Lov region of the n-channel TFT used in the driver circuit, hot carriers generated by a high electric field near the drain due to the hot carrier effect are deteriorated. Can be prevented.

そして、マスク453を除去した後、図24(C)に示すように、pチャネル
型TFTを形成する半導体層402、405に一導電型とは逆の導電型のソース
領域447、448と、ドレイン領域449、450と、Lov領域451、4
52を形成する。第2の形状を有する導電層419、422を不純物元素に対す
るマスクとして用い、自己整合的に不純物領域を形成する。このとき、nチャネ
ル型TFTを形成する半導体層402、403はレジストマスク453で全面を
被覆しておく。ソース領域447、448及びドレイン領域449、450と、
Lov領域451、452とにはそれぞれ異なる濃度でリンが添加されているが
、ジボラン(B26)を用いたイオンドープ法で形成し、そのいずれの領域にお
いても不純物濃度を2×1020〜2×1021atoms/cm3となるようにする。
After the mask 453 is removed, as shown in FIG. 24C, the semiconductor layers 402 and 405 for forming the p-channel TFT have source regions 447 and 448 having a conductivity type opposite to the one conductivity type, and drains. Regions 449 and 450 and Lov regions 451 and 4
52 is formed. Using the conductive layers 419 and 422 having the second shape as masks against the impurity element, impurity regions are formed in a self-aligning manner. At this time, the semiconductor layers 402 and 403 forming the n-channel TFT are entirely covered with a resist mask 453. Source regions 447 and 448 and drain regions 449 and 450;
Phosphorus is added to the Lov regions 451 and 452 at different concentrations, but they are formed by ion doping using diborane (B 2 H 6 ), and the impurity concentration in each region is 2 × 10 20. ˜2 × 10 21 atoms / cm 3 .

以上までの工程でそれぞれの半導体層402〜405に不純物領域(ソース領
域、ドレイン領域、Lov領域、Loff領域)が形成される。半導体層と重な
る第2の導電層419〜422がゲート電極として機能する。
Through the above steps, impurity regions (source region, drain region, Lov region, Loff region) are formed in each of the semiconductor layers 402 to 405. The second conductive layers 419 to 422 overlapping with the semiconductor layer function as gate electrodes.

こうして導電型の制御を目的として、それぞれの半導体層に添加された不純物
元素を活性化する工程を行う。この工程はファーネスアニール炉を用いる熱アニ
ール法で行う。その他に、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニー
ル法(RTA法)を適用することができる。熱アニール法では酸素濃度が1pp
m以下、好ましくは0.1ppm以下の窒素雰囲気中で400〜700℃、代表
的には500〜600℃で行うものであり、本実施例では500℃で4時間の熱
処理を行う。ただし、419〜422に用いた配線材料が熱に弱い場合には、配
線等を保護するため層間絶縁膜(シリコンを主成分とする)を形成した後で活性
化を行うことが好ましい。
Thus, for the purpose of controlling the conductivity type, a step of activating the impurity element added to each semiconductor layer is performed. This step is performed by a thermal annealing method using a furnace annealing furnace. In addition, a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method) can be applied. In the thermal annealing method, the oxygen concentration is 1pp
m or less, preferably in a nitrogen atmosphere of 0.1 ppm or less at 400 to 700 ° C., typically 500 to 600 ° C. In this embodiment, heat treatment is performed at 500 ° C. for 4 hours. However, when the wiring material used for 419 to 422 is weak against heat, activation is preferably performed after an interlayer insulating film (mainly composed of silicon) is formed in order to protect the wiring and the like.

さらに、3〜100%の水素を含む雰囲気中で、300〜450℃で1〜12
時間の熱処理を行い、半導体層を水素化する工程を行う。この工程は熱的に励起
された水素により半導体層のダングリングボンドを終端する工程である。水素化
の他の手段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起された水素を用いる)
を行っても良い。
Furthermore, in an atmosphere containing 3 to 100% hydrogen, 1 to 12 at 300 to 450 ° C.
A process of hydrogenating the semiconductor layer is performed by performing heat treatment for a period of time. This step is a step of terminating dangling bonds in the semiconductor layer with thermally excited hydrogen. Plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma) as another means of hydrogenation
May be performed.

次いで、第1の層間絶縁膜455は酸化窒化シリコン膜から100〜200n
mの厚さで形成する。(図25(A))その上に有機絶縁物材料から成る第2の
層間絶縁膜458を形成する。
Next, the first interlayer insulating film 455 is formed from a silicon oxynitride film to 100 to 200 n.
It is formed with a thickness of m. (FIG. 25A) A second interlayer insulating film 458 made of an organic insulating material is formed thereon.

そして、ゲート絶縁膜406、第1の層間絶縁膜455、第2の層間絶縁膜4
58にコンタクトホールを形成し、該コンタクトホールを介して、ソース領域4
47、435、436、448と接するようにソース配線459〜462を形成
した。また同様に、ドレイン領域449、439、440、450と接するドレ
イン配線463〜465を形成する(図25(B))。
Then, the gate insulating film 406, the first interlayer insulating film 455, the second interlayer insulating film 4
58, a contact hole is formed, and the source region 4 is formed through the contact hole.
Source wirings 459 to 462 were formed so as to be in contact with 47, 435, 436, and 448. Similarly, drain wirings 463 to 465 in contact with the drain regions 449, 439, 440, and 450 are formed (FIG. 25B).

なお、ゲート絶縁膜406、第1の層間絶縁膜455、第2の層間絶縁膜45
8がSiO2膜またはSiON膜の場合、CF4とO2とを用いたドライエッチン
グでコンタクトホールを形成するのが好ましい。またゲート絶縁膜406、第1
の層間絶縁膜455、第2の層間絶縁膜458が有機樹脂膜の場合、CHF3
用いたドライエッチング、またはBHF(緩衝フッ酸:HF+NH4F)でコン
タクトホールを形成するのが好ましい。またゲート絶縁膜406、第1の層間絶
縁膜455、第2の層間絶縁膜458が異なる材料で形成されている場合、膜ご
とにエッチングの方法及び用いるエッチャントやエッチングガスの種類を変える
ことが好ましいが、エッチングの方法及び用いるエッチャントやエッチングガス
を全て同じにしてコンタクトホールを形成しても良い。
The gate insulating film 406, the first interlayer insulating film 455, and the second interlayer insulating film 45
When 8 is a SiO 2 film or a SiON film, the contact hole is preferably formed by dry etching using CF 4 and O 2 . In addition, the gate insulating film 406, the first
When the interlayer insulating film 455 and the second interlayer insulating film 458 are organic resin films, contact holes are preferably formed by dry etching using CHF 3 or BHF (buffered hydrofluoric acid: HF + NH 4 F). In the case where the gate insulating film 406, the first interlayer insulating film 455, and the second interlayer insulating film 458 are formed using different materials, it is preferable to change the etching method and the type of etchant or etching gas used for each film. However, the contact hole may be formed by using the same etching method and the same etchant and etching gas.

次に、有機樹脂からなる第3層間絶縁膜467を形成する。有機樹脂としては
ポリイミド、ポリアミド、アクリル、BCB(ベンゾシクロブテン)等を使用す
ることができる。特に、第3層間絶縁膜467は平坦化の意味合いが強いので、
平坦性に優れたアクリルが好ましい。本実施例ではTFTによって形成される段
差を十分に平坦化しうる膜厚でアクリル膜を形成する。好ましくは1〜5μm(
さらに好ましくは2〜4μm)とすれば良い。
Next, a third interlayer insulating film 467 made of an organic resin is formed. As the organic resin, polyimide, polyamide, acrylic, BCB (benzocyclobutene), or the like can be used. In particular, since the third interlayer insulating film 467 has a strong meaning of planarization,
Acrylic having excellent flatness is preferred. In this embodiment, the acrylic film is formed with a film thickness that can sufficiently flatten the step formed by the TFT. Preferably 1-5 μm (
More preferably, the thickness may be 2 to 4 μm.

次に第3層間絶縁膜467に、ドレイン配線465に達するコンタクトホール
を形成し、画素電極468を形成する。本実施例では酸化インジウム・スズ(I
TO)膜を110nmの厚さに形成し、パターニングを行って画素電極468を
形成する。また、酸化インジウムに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合した
透明導電膜を用いても良い。この画素電極468が発光素子の陽極となる。(図
25(C))
Next, a contact hole reaching the drain wiring 465 is formed in the third interlayer insulating film 467, and a pixel electrode 468 is formed. In this example, indium tin oxide (I
(TO) film is formed to a thickness of 110 nm, and patterning is performed to form a pixel electrode 468. Alternatively, a transparent conductive film in which 2 to 20% zinc oxide (ZnO) is mixed with indium oxide may be used. This pixel electrode 468 becomes the anode of the light emitting element. (Fig. 25 (C))

次に、樹脂材料でなる第1バンク469及び第2バンク470を形成する。第
1バンク469及び第2バンク470は後に形成される有機化合物層及び陰極を
隣り合う画素間で分離するために設けられる。よって第1バンク469よりも第
2バンク470の方が横に張り出している構成にすることが望ましい。なお第1
バンク469と第2バンク470とを合わせた厚さは1〜2μm程度であること
が好ましいが、後に形成される有機化合物層及び陰極を隣り合う画素間で分離す
ることができるならこの厚さに限らない。また第1バンク469及び第2バンク
470は絶縁膜で形成されることが必要であり、例えば酸化物、樹脂等で形成す
ることが可能である。そして第1バンク469と第2バンク470は互いに同じ
材料で形成されていても、異なる材料で形成されていてもどちらでも良い。第1
バンク469及び第2バンク470は画素と画素との間にストライプ状に形成さ
れる。第1バンク469及び第2バンク470はソース配線(ソース信号線)上
に沿って形成しても良いし、ゲート配線(ゲート信号線)上に沿って形成しても
良い。なお第1バンク469及び第2バンク470を樹脂に顔料等を混ぜたもの
で形成しても良い。(図26(A))
Next, a first bank 469 and a second bank 470 made of a resin material are formed. The first bank 469 and the second bank 470 are provided to separate an organic compound layer and a cathode to be formed later between adjacent pixels. Therefore, it is desirable that the second bank 470 protrude laterally than the first bank 469. First
The total thickness of the bank 469 and the second bank 470 is preferably about 1 to 2 μm. However, if the organic compound layer and the cathode to be formed later can be separated between adjacent pixels, this thickness is set. Not exclusively. The first bank 469 and the second bank 470 need to be formed of an insulating film, and can be formed of an oxide, a resin, or the like, for example. The first bank 469 and the second bank 470 may be formed of the same material or different materials. First
The bank 469 and the second bank 470 are formed in a stripe shape between pixels. The first bank 469 and the second bank 470 may be formed along the source wiring (source signal line) or may be formed along the gate wiring (gate signal line). Note that the first bank 469 and the second bank 470 may be formed of a resin mixed with a pigment or the like. (FIG. 26 (A))

次に、有機化合物層471及び陰極(MgAg電極)472を、真空蒸着法を
用いて大気解放しないで連続形成する。なお、有機化合物層471の膜厚は80
0〜200nm(典型的には100〜120nm)、陰極472の厚さは180
〜300nm(典型的には200〜250nm)とすれば良い。なお、本実施例
では一画素しか図示されていないが、このとき同時に赤色に発光する有機化合物
層、緑色に発光する有機化合物層及び青色に発光する有機化合物層が形成される
。なおバンク470上に有機化合物層と陰極を形成する材料が一部積層されるが
、本明細書ではこれらを有機化合物層471と陰極472に含めない。
Next, the organic compound layer 471 and the cathode (MgAg electrode) 472 are continuously formed using a vacuum deposition method without being released to the atmosphere. Note that the thickness of the organic compound layer 471 is 80.
0 to 200 nm (typically 100 to 120 nm), the thickness of the cathode 472 is 180
It may be set to ˜300 nm (typically 200 to 250 nm). Although only one pixel is shown in this embodiment, an organic compound layer that emits red light, an organic compound layer that emits green light, and an organic compound layer that emits blue light are formed at the same time. Note that a part of the material for forming the organic compound layer and the cathode is stacked over the bank 470, but these are not included in the organic compound layer 471 and the cathode 472 in this specification.

この工程では、赤色に対応する画素、緑色に対応する画素及び青色に対応する
画素に対して順次有機化合物層471及び陰極472を形成する。但し、有機化
合物層471は溶液に対する耐性に乏しいためフォトリソグラフィ技術を用いず
に各色個別に形成しなくてはならない。そこでメタルマスクを用いて所望の画素
以外を隠し、必要箇所だけ選択的に有機化合物層471及び陰極472を形成す
るのが好ましい。
In this step, the organic compound layer 471 and the cathode 472 are sequentially formed for the pixel corresponding to red, the pixel corresponding to green, and the pixel corresponding to blue. However, since the organic compound layer 471 has poor resistance to a solution, it must be formed for each color individually without using a photolithography technique. Therefore, it is preferable to hide other than the desired pixels using a metal mask and selectively form the organic compound layer 471 and the cathode 472 only at necessary portions.

即ち、まず赤色に対応する画素以外を全て隠すマスクをセットし、そのマスク
を用いて赤色発光の有機化合物層を選択的に形成する。次いで、緑色に対応する
画素以外を全て隠すマスクをセットし、そのマスクを用いて緑色発光の有機化合
物層を選択的に形成する。次いで、同様に青色に対応する画素以外を全て隠すマ
スクをセットし、そのマスクを用いて青色発光の有機化合物層を選択的に形成す
る。なお、ここでは全て異なるマスクを用いるように記載しているが、同じマス
クを使いまわしても構わない。また、全画素に有機化合物層及び陰極を形成する
まで真空を破らずに処理することが好ましい。
That is, first, a mask that hides all pixels other than those corresponding to red is set, and an organic compound layer that emits red light is selectively formed using the mask. Next, a mask that hides all pixels other than those corresponding to green is set, and an organic compound layer that emits green light is selectively formed using the mask. Next, similarly, a mask for hiding all but the pixels corresponding to blue is set, and a blue light-emitting organic compound layer is selectively formed using the mask. Note that although all the different masks are described here, the same mask may be used. Moreover, it is preferable to process without breaking a vacuum until an organic compound layer and a cathode are formed on all pixels.

なお、本実施例では有機化合物層471を発光層のみからなる単層構造とする
が、有機化合物層は発光層の他に正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注
入層等を有していても構わない。このように組み合わせは既に様々な例が報告さ
れており、そのいずれの構成を用いても構わない。有機化合物層471としては
公知の材料を用いることができる。公知の材料としては、発光素子の駆動電圧を
考慮すると有機材料を用いるのが好ましい。
In this embodiment, the organic compound layer 471 has a single-layer structure composed of only a light emitting layer. The organic compound layer includes a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, an electron injection layer, etc. in addition to the light emitting layer. You may have. As described above, various examples of combinations have already been reported, and any of the configurations may be used. A known material can be used for the organic compound layer 471. As the known material, an organic material is preferably used in consideration of the driving voltage of the light emitting element.

次に陰極472を形成する。本実施例では発光素子の陰極としてMgAg電極
を用いた例を示すが、公知の他の材料を用いることが可能である。
Next, a cathode 472 is formed. In this embodiment, an example in which an MgAg electrode is used as a cathode of a light emitting element is shown, but other known materials can be used.

こうして図26(B)に示すような構造のアクティブマトリクス基板が完成す
る。なお、第1バンク469と第2バンク470を形成した後、陰極472を形
成するまでの工程をマルチチャンバー方式(またはインライン方式)の薄膜形成
装置を用いて、大気解放せずに連続的に処理することは有効である。
Thus, an active matrix substrate having a structure as shown in FIG. 26B is completed. Note that the processes from the formation of the first bank 469 and the second bank 470 to the formation of the cathode 472 are continuously performed using a multi-chamber type (or in-line type) thin film forming apparatus without releasing the atmosphere. It is effective to do.

本実施例において、スイッチング用TFT501の半導体層は、ソース領域5
04、ドレイン領域505、Loff領域506、Lov領域507、チャネル
形成領域508を含んでいる。Loff領域506はゲート絶縁膜406を介し
てゲート電極421と重ならないように設けられている。またLov領域507
はゲート絶縁膜406を介してゲート電極421と重なるように設けられている
。このような構造はオフ電流を低減する上で非常に効果的である。
In this embodiment, the semiconductor layer of the switching TFT 501 is the source region 5.
04, a drain region 505, a Loff region 506, a Lov region 507, and a channel formation region 508. The Loff region 506 is provided so as not to overlap with the gate electrode 421 with the gate insulating film 406 interposed therebetween. Also, the Lov area 507
Is provided so as to overlap with the gate electrode 421 with the gate insulating film 406 interposed therebetween. Such a structure is very effective in reducing off current.

また、本実施例ではスイッチング用TFT501はシングルゲート構造として
いるが、本発明ではスイッチング用TFTはダブルゲート構造やその他のマルチ
ゲート構造を有していても良い。ダブルゲート構造とすることで実質的に二つの
TFTが直列された構造となり、オフ電流をさらに低減することができるという
利点がある。
In this embodiment, the switching TFT 501 has a single gate structure. However, in the present invention, the switching TFT may have a double gate structure or another multi-gate structure. The double gate structure has a structure in which two TFTs are substantially connected in series, and there is an advantage that the off-current can be further reduced.

また本実施例ではスイッチング用TFT501はnチャネル型TFTであるが
、pチャネル型TFTであってもかまわない。
In this embodiment, the switching TFT 501 is an n-channel TFT, but may be a p-channel TFT.

電流制御用TFT502の半導体層は、ソース領域510、ドレイン領域51
1、Lov領域512、チャネル形成領域513を含んでいる。Lov領域51
2はゲート絶縁膜406を介してゲート電極422と重なるように設けられてい
る。なお本実施例において電流制御用TFT502はLoff領域を有していな
いが、Loff領域を有する構成にしても良い。
The semiconductor layer of the current control TFT 502 includes a source region 510 and a drain region 51.
1, a Lov region 512, and a channel formation region 513. Lov area 51
2 is provided so as to overlap the gate electrode 422 with the gate insulating film 406 interposed therebetween. In this embodiment, the current control TFT 502 does not have a Loff region, but may have a structure having a Loff region.

また本実施例では電流制御用TFT502はpチャネル型TFTであるが、n
チャネル型TFTであってもかまわない。
In this embodiment, the current control TFT 502 is a p-channel TFT.
A channel type TFT may also be used.

なお、本実施例のアクティブマトリクス基板は、画素部だけでなく駆動回路部
にも最適な構造のTFTを配置することにより、非常に高い信頼性を示し、動作
特性も向上しうる。
Note that the active matrix substrate of this embodiment can exhibit extremely high reliability and improve operating characteristics by arranging TFTs having an optimal structure not only in the pixel portion but also in the drive circuit portion.

まず、極力動作速度を落とさないようにホットキャリア注入を低減させる構造
を有するTFTを、駆動回路部を形成するCMOS回路のnチャネル型TFT5
03として用いる。なお、ここでいう駆動回路としては、シフトレジスタ、バッ
ファ、レベルシフタ、サンプリング回路(サンプル及びホールド回路)などが含
まれる。デジタル駆動を行う場合には、D/Aコンバータなどの信号変換回路も
含まれ得る。
First, a TFT having a structure for reducing hot carrier injection so as not to reduce the operating speed as much as possible is replaced with an n-channel TFT 5 of a CMOS circuit forming a drive circuit portion.
Used as 03. Note that the drive circuit here includes a shift register, a buffer, a level shifter, a sampling circuit (sample and hold circuit), and the like. In the case of performing digital driving, a signal conversion circuit such as a D / A converter may be included.

本実施例の場合、CMOS回路のnチャネル型TFT503の半導体層は、ソ
ース領域521、ドレイン領域522、Lov領域523及びチャネル形成領域
524を含んでいる。
In this embodiment, the semiconductor layer of the n-channel TFT 503 of the CMOS circuit includes a source region 521, a drain region 522, a Lov region 523, and a channel formation region 524.

また本実施例の場合、CMOS回路のpチャネル型TFT504の半導体層は
、ソース領域531、ドレイン領域532、Lov領域533及びチャネル形成
領域534を含んでいる。
In this embodiment, the semiconductor layer of the p-channel TFT 504 of the CMOS circuit includes a source region 531, a drain region 532, a Lov region 533, and a channel formation region 534.

なお、実際には図26(B)まで完成したら、さらに外気に曝されないように
気密性が高く、脱ガスの少ない保護フィルム(ラミネートフィルム、紫外線硬化
樹脂フィルム等)や透光性のシーリング材でパッケージング(封入)することが
好ましい。その際、シーリング材の内部を不活性雰囲気にしたり、内部に吸湿性
材料(例えば酸化バリウム)を配置したりすると発光素子の信頼性が向上する。
In fact, when completed up to FIG. 26 (B), a protective film (laminate film, ultraviolet curable resin film, etc.) or a light-transmitting sealing material that is highly airtight and less degassed so as not to be exposed to the outside air. It is preferable to package (enclose). At that time, if the inside of the sealing material is made an inert atmosphere or a hygroscopic material (for example, barium oxide) is arranged inside, the reliability of the light emitting element is improved.

また、パッケージング等の処理により気密性を高めたら、基板上に形成された
素子又は回路から引き回された端子と外部信号端子とを接続するためのコネクタ
ー(フレキシブルプリントサーキット:FPC)を取り付けて製品として完成す
る。このような出荷できるまでした状態を本明細書中では発光装置という。
In addition, when the airtightness is improved by processing such as packaging, a connector (flexible printed circuit: FPC) for connecting the terminal routed from the element or circuit formed on the substrate and the external signal terminal is attached. Completed as a product. In this specification, such a state that can be shipped is referred to as a light emitting device.

上述したように本実施例の作製行程では、ゲート電極のチャネル長方向の長さ
(以下単にゲート電極の幅と呼ぶ)が異なっているため、ゲート電極をマスクと
してイオン注入を行うことにより、ゲート電極の厚さが異なることによるイオン
の侵入深さの違いを利用して、第1のゲート電極の下に位置する半導体層中のイ
オン濃度を、第1のゲート電極の下に位置しない半導体層中のイオン濃度より低
くすることが可能である。
As described above, since the length of the gate electrode in the channel length direction (hereinafter simply referred to as the width of the gate electrode) is different in the manufacturing process of this embodiment, ion implantation is performed using the gate electrode as a mask. A semiconductor layer that is not located under the first gate electrode by using the difference in ion penetration depth due to the difference in electrode thickness to change the ion concentration in the semiconductor layer located under the first gate electrode. It is possible to make it lower than the ion concentration inside.

またマスクを用いてLoff領域を形成するために、エッチングで制御しなく
てはならないのはLov領域の幅のみであり、Loff領域とLov領域の位置
の制御が容易である。
Further, since the Loff region is formed using the mask, only the width of the Lov region has to be controlled by etching, and the positions of the Loff region and the Lov region can be easily controlled.

なお本実施例では有機化合物層から発せられる光が基板側に向いている例につ
いて説明したが、本発明はこれに限定されず、有機化合物層から発せられる光が
基板の上に向いているような構成であっても良い。この場合発光素子の陰極が画
素電極となり、電流制御用TFTはnチャネル型TFTであることが望ましい。
In this embodiment, the example in which the light emitted from the organic compound layer is directed toward the substrate has been described. However, the present invention is not limited to this, and the light emitted from the organic compound layer is directed toward the substrate. It may be a simple configuration. In this case, it is desirable that the cathode of the light emitting element is a pixel electrode, and the current control TFT is an n-channel TFT.

なお本実施例では画素がスイッチング用TFTと電流制御用TFTの2つのT
FTを有している場合について説明した。しかし本実施例はこれに限定されない
。画素が3つ以上TFTを有している場合でも、本実施例を適用することは可能
である。
In this embodiment, the pixel has two Ts, a switching TFT and a current control TFT.
The case where it has FT was demonstrated. However, the present embodiment is not limited to this. Even when a pixel has three or more TFTs, this embodiment can be applied.

本発明の発光装置の作製方法は、本実施例において示した作製方法に限定され
ることはなく、他のあらゆる作製方法を用いることが可能である。
The manufacturing method of the light-emitting device of the present invention is not limited to the manufacturing method shown in this embodiment, and any other manufacturing method can be used.

また本実施例は、実施例1〜7と自由に組み合わせて実施することが可能であ
る。
In addition, this embodiment can be implemented by freely combining with Embodiments 1 to 7.

(実施例9)
本発明を実施して形成された発光装置は、自発光型であるため液晶表示装置に
比べて明るい場所での視認性に優れ、しかも視野角が広い。従って、様々な電子
機器の表示部に用いることができる。例えば、TV放送等を大画面で鑑賞するに
は対角30インチ以上(典型的には40インチ以上)の発光装置を筐体に組み込
んだ表示装置の表示部として本発明の発光装置を用いるとよい。本発明の発光装
置は様々な電子機器の表示部として用いることができる。
Example 9
A light-emitting device formed by implementing the present invention is a self-luminous type, so that it has excellent visibility in a bright place as compared with a liquid crystal display device and has a wide viewing angle. Therefore, it can be used for display portions of various electronic devices. For example, when viewing a TV broadcast or the like on a large screen, the light emitting device of the present invention is used as a display unit of a display device in which a light emitting device having a diagonal size of 30 inches or more (typically 40 inches or more) is incorporated in a housing. Good. The light emitting device of the present invention can be used as a display portion of various electronic devices.

その様な本発明の電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグ
ル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、
音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、ノート型パーソナルコ
ンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携
帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的には
デジタルビデオディスク(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しう
るディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。特に、斜め方向から見ること
の多い携帯情報端末は視野角の広さが重要視されるため、発光装置を用いること
が望ましい。それら電子機器の具体例を図27、図28に示す。
Such an electronic device of the present invention includes a video camera, a digital camera, a goggle type display (head mounted display), a navigation system,
Sound playback device (car audio, audio component, etc.), notebook personal computer, game machine, portable information terminal (mobile computer, mobile phone, portable game machine, electronic book, etc.), image playback device (specific) Specifically, a device equipped with a display capable of reproducing a recording medium such as a digital video disc (DVD) and displaying the image thereof) may be used. In particular, a portable information terminal that is often viewed from an oblique direction emphasizes the wide viewing angle, and thus it is desirable to use a light emitting device. Specific examples of these electronic devices are shown in FIGS.

図27(A)は携帯情報端末であり、2701は表示用パネル、2702は操
作用パネルである。表示用パネル2701と操作用パネル2702とは接続部2
703において接続されている。そして接続部2703における、表示用パネル
2701の表示部2704が設けられている面と操作用パネル2702の操作キ
ー2706が設けられている面との角度θは、任意に変えることができる。
FIG. 27A shows a portable information terminal, 2701 is a display panel, and 2702 is an operation panel. The display panel 2701 and the operation panel 2702 are connected to the connection portion 2.
Connected at 703. In the connection portion 2703, the angle θ between the surface of the display panel 2701 on which the display portion 2704 is provided and the surface of the operation panel 2702 on which the operation key 2706 is provided can be arbitrarily changed.

表示用パネル2701は表示部2704を有している。また図27(A)に示
した携帯情報端末は電話としての機能を有しており、表示用パネル2701は音
声出力部2705を有しており、音声が音声出力部2705から出力される。そ
して本発明の発光装置は表示部2704に用いられている。
The display panel 2701 has a display portion 2704. The portable information terminal shown in FIG. 27A has a function as a telephone, the display panel 2701 has an audio output unit 2705, and audio is output from the audio output unit 2705. The light emitting device of the present invention is used for the display portion 2704.

操作用パネル2702は操作キー2706、電源スイッチ2707、音声入力
部2708、CCD受光部2709を有している。なお図27(A)では操作キ
ー2706と電源スイッチ2707とを別個に設けたが、操作キー2706の中
に電源スイッチ2707が含まれる構成にしても良い。
The operation panel 2702 has operation keys 2706, a power switch 2707, a voice input unit 2708, and a CCD light receiving unit 2709. Note that although the operation key 2706 and the power switch 2707 are provided separately in FIG. 27A, the operation key 2706 may include the power switch 2707.

音声入力部2707において、音声が入力される。CCD受光部2709にお
いて入力された画像が電子データとして携帯情報端末に取り込まれる。
The voice input unit 2707 inputs voice. An image input in the CCD light receiving unit 2709 is taken into the portable information terminal as electronic data.

なお図27(A)では表示用パネル2701が音声出力部2705を有し、操
作用パネルが音声入力部2708を有しているが、本実施例はこの構成に限定さ
れない。表示用パネル2701が音声入力部2708を有し、操作用パネルが音
声出力部2705を有していても良い。また音声出力部2705と音声入力部2
708とが共に表示用パネル2701に設けられていても良いし、音声出力部2
705と音声入力部2708とが共に操作用パネル2702に設けられていても
良い。
In FIG. 27A, the display panel 2701 has an audio output unit 2705 and the operation panel has an audio input unit 2708; however, this embodiment is not limited to this configuration. The display panel 2701 may have a voice input unit 2708 and the operation panel may have a voice output unit 2705. Also, an audio output unit 2705 and an audio input unit 2
708 may be provided on the display panel 2701 or the audio output unit 2.
705 and the voice input unit 2708 may both be provided on the operation panel 2702.

なお図27(A)では携帯情報端末はアンテナを有していないが、必要に応じ
てアンテナを設けても良い。
Note that although the portable information terminal does not include an antenna in FIG. 27A, an antenna may be provided as necessary.

図27(B)は携帯電話であり、本体2601、音声出力部2602、音声入
力部2603、表示部2604、操作スイッチ2605、アンテナ2606を含
む。本発明の発光装置は表示部2604に用いることができる。なお、表示部2
604は黒色の背景に白色の文字を表示することで携帯電話の消費電力を抑える
ことができる。
FIG. 27B illustrates a mobile phone, which includes a main body 2601, an audio output portion 2602, an audio input portion 2603, a display portion 2604, operation switches 2605, and an antenna 2606. The light-emitting device of the present invention can be used for the display portion 2604. Display unit 2
By displaying white characters on a black background 604, power consumption of the mobile phone can be suppressed.

本発明の発光装置は消費電力を抑えることが可能なので、携帯型の電子機器に
おいて特に有効である。
Since the light-emitting device of the present invention can reduce power consumption, it is particularly effective for portable electronic devices.

図28(A)は発光装置を有する表示装置であり、筐体2001、支持台20
02、表示部2003等を含む。本発明の発光装置は表示部2003に用いるこ
とができる。発光装置は自発光型であるためバックライトが必要なく、液晶表示
装置よりも薄い表示部とすることができる。
FIG. 28A illustrates a display device including a light-emitting device, which includes a housing 2001 and a support base 20.
02, a display unit 2003, and the like. The light emitting device of the present invention can be used for the display portion 2003. Since the light-emitting device is a self-luminous type, a backlight is not necessary and a display portion thinner than a liquid crystal display device can be obtained.

図28(B)はビデオカメラであり、本体2101、表示部2102、音声入
力部2103、操作スイッチ2104、バッテリー2105、受像部2106等
を含む。本発明の発光装置は表示部2102に用いることができる。
FIG. 28B illustrates a video camera, which includes a main body 2101, a display portion 2102, an audio input portion 2103, operation switches 2104, a battery 2105, an image receiving portion 2106, and the like. The light emitting device of the present invention can be used for the display portion 2102.

図28(C)は頭部取り付け型の電子機器の一部(右片側)であり、本体22
01、信号ケーブル2202、頭部固定バンド2203、スクリーン部2204
、光学系2205、表示部2206等を含む。本発明の発光装置は表示部220
6に用いることができる。
FIG. 28C shows a part of the head-mounted electronic device (on the right side).
01, signal cable 2202, head fixing band 2203, screen portion 2204
, An optical system 2205, a display unit 2206, and the like. The light emitting device of the present invention includes the display unit 220.
6 can be used.

図28(D)は記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)
であり、本体2301、記録媒体(DVD等)2302、操作スイッチ2303
、表示部(a)2304、表示部(b)2305等を含む。表示部(a)230
4は主として画像情報を表示し、表示部(b)2305は主として文字情報を表
示するが、本発明の発光装置はこれら表示部(a)、(b)2304、2305
に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム
機器なども含まれる。
FIG. 28D shows an image reproducing apparatus (specifically, a DVD reproducing apparatus) provided with a recording medium.
A main body 2301, a recording medium (DVD or the like) 2302, and an operation switch 2303.
, Display unit (a) 2304, display unit (b) 2305, and the like. Display unit (a) 230
Reference numeral 4 mainly displays image information, and the display unit (b) 2305 mainly displays character information. The light emitting device of the present invention has these display units (a), (b) 2304, 2305.
Can be used. Note that an image reproducing device provided with a recording medium includes a home game machine and the like.

図28(E)はゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)であ
り、本体2401、表示部2402、アーム部2403を含む。本発明の発光装
置は表示部2402に用いることができる。
FIG. 28E illustrates a goggle type display (head mounted display), which includes a main body 2401, a display portion 2402, and an arm portion 2403. The light emitting device of the present invention can be used for the display portion 2402.

図28(F)はパーソナルコンピュータであり、本体2501、筐体2502
、表示部2503、キーボード2504等を含む。本発明の発光装置は表示部2
503に用いることができる。
FIG. 28F illustrates a personal computer, which includes a main body 2501 and a housing 2502.
, A display portion 2503, a keyboard 2504, and the like. The light emitting device of the present invention has a display unit 2
503 can be used.

なお、将来的に有機材料の発光輝度が高くなれば、出力した画像情報を含む光
をレンズ等で拡大投影してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用いる
ことも可能となる。
If the emission luminance of the organic material is increased in the future, the light including the output image information can be enlarged and projected by a lens or the like and used for a front type or rear type projector.

また、上記電子機器はインターネットやCATV(ケーブルテレビ)などの電
子通信回線を通じて配信された情報を表示することが多くなり、特に動画情報を
表示する機会が増してきている。有機材料の応答速度は非常に高いため、発光装
置は動画表示に好ましい。
In addition, the electronic devices often display information distributed through electronic communication lines such as the Internet and CATV (cable television), and in particular, opportunities to display moving image information are increasing. Since the response speed of the organic material is very high, the light-emitting device is preferable for displaying moving images.

また、発光装置は発光している部分が電力を消費するため、発光部分が極力少
なくなるように情報を表示することが望ましい。従って、携帯情報端末、特に携
帯電話や音響再生装置のような文字情報を主とする表示部に発光装置を用いる場
合には、非発光部分を背景として文字情報を発光部分で形成するように駆動する
ことが望ましい。
In addition, since the light emitting device consumes power in the light emitting portion, it is desirable to display information so that the light emitting portion is minimized. Therefore, when a light emitting device is used for a display unit mainly including character information, such as a portable information terminal, particularly a mobile phone or a sound reproduction device, it is driven so that character information is formed by the light emitting part with the non-light emitting part as the background It is desirable to do.

以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に用い
ることが可能である。また本実施例は、実施例1〜8と自由に組み合わせて実施
することが可能である。
As described above, the applicable range of the present invention is so wide that it can be used for electronic devices in various fields. In addition, this embodiment can be implemented in combination with Embodiments 1-8.

(実施例10)
本実施例では、本発明の第3の構成のより具体的な構成と、温度による輝度の
変化を実測値に基づいて説明する。
(Example 10)
In the present embodiment, a more specific configuration of the third configuration of the present invention and a change in luminance due to temperature will be described based on actually measured values.

図29(A)に、本実施例の発光装置が有する、モニター用発光素子の接続の
様子を示す。701は電源供給線、702はバッファアンプ、703はモニター
用発光素子、704は定電流源、705は画素部の発光素子の1つを示している
FIG. 29A shows a connection state of a monitor light-emitting element included in the light-emitting device of this example. Reference numeral 701 denotes a power supply line, 702 denotes a buffer amplifier, 703 denotes a light emitting element for monitoring, 704 denotes a constant current source, and 705 denotes one of the light emitting elements in the pixel portion.

なお、図29では、画素部の駆動用TFTがオンの状態にある場合を示してお
り、駆動用TFTは図示しておらず、画素部の発光素子705の画素電極と、電
源供給線701とを直接接続している。
Note that FIG. 29 illustrates the case where the driving TFT in the pixel portion is in an on state, and the driving TFT is not illustrated, and the pixel electrode of the light emitting element 705 in the pixel portion, the power supply line 701, and the like. Are connected directly.

また、図29(A)では、画素部の発光素子705の陽極を画素電極として用
いているが、本実施例はこの構成に限定されない。陰極を画素電極として用いて
いても良い。
In FIG. 29A, the anode of the light-emitting element 705 in the pixel portion is used as a pixel electrode; however, this embodiment is not limited to this structure. The cathode may be used as the pixel electrode.

本実施例の定電流源704は、アンプと、可変抵抗と、バイポーラトランジス
タを有している。V1とV2は所定の電圧の印加を意味しており、アノードに印
加される電圧<V2<V1の関係を満たしている。なお、アノードに印加される
電圧と、V2と、V1の関係は、画素電極に陽極を用いるか陰極を用いるかで変
わってくる。発光素子に順バイアスの電流が流れるように、アノードに印加され
る電圧と、V2と、V1の関係を適宜設定する。また、定電流源704は、図2
9(A)に示した構成に限定されず、公知の定電流源を用いることができる。
The constant current source 704 of this embodiment includes an amplifier, a variable resistor, and a bipolar transistor. V1 and V2 mean application of a predetermined voltage, and satisfies the relationship of voltage <V2 <V1 applied to the anode. Note that the relationship between the voltage applied to the anode and V2 and V1 varies depending on whether an anode or a cathode is used for the pixel electrode. The relationship between the voltage applied to the anode, V2, and V1 is set as appropriate so that a forward bias current flows through the light emitting element. Further, the constant current source 704 is the same as that shown in FIG.
It is not limited to the structure shown to 9 (A), A well-known constant current source can be used.

定電流源704の出力端子は、モニター用発光素子703の画素電極に接続さ
れている。なお画素部の発光素子705において陽極を画素電極として用いてい
る場合、モニター用発光素子703においても陽極を画素電極として用いる。逆
に、画素部の発光素子705において陰極を画素電極として用いている場合、モ
ニター用発光素子703においても陰極を画素電極として用いる。図29(A)
では、モニター用発光素子703において、陽極を画素電極として用いる。
The output terminal of the constant current source 704 is connected to the pixel electrode of the monitor light emitting element 703. Note that when the anode is used as the pixel electrode in the light-emitting element 705 of the pixel portion, the anode is also used as the pixel electrode in the monitor light-emitting element 703. Conversely, when the cathode is used as the pixel electrode in the light emitting element 705 in the pixel portion, the cathode is also used as the pixel electrode in the monitor light emitting element 703. FIG. 29 (A)
Then, in the monitor light emitting element 703, the anode is used as the pixel electrode.

定電流源704の出力端子が、モニター用発光素子703の画素電極に接続さ
れることで、モニター用発光素子703に電流が流れる場合、その値は常に一定
に保たれることになる。また、そして発光素子が有する有機化合物層の温度が変
化すると、モニター用発光素子703を流れる電流の大きさが変化しないかわり
に、定電流源704に接続されているモニター用発光素子703の画素電極の電
位が変化する。
By connecting the output terminal of the constant current source 704 to the pixel electrode of the monitor light emitting element 703, when a current flows through the monitor light emitting element 703, the value is always kept constant. In addition, when the temperature of the organic compound layer included in the light emitting element changes, the pixel electrode of the monitoring light emitting element 703 connected to the constant current source 704 is not changed, although the magnitude of the current flowing through the monitoring light emitting element 703 does not change. The potential of changes.

一方バッファアンプ702は2つの入力端子と1つの出力端子とを有しており
、2つの入力端子のうち一方は非反転入力端子(+)、もう一方は反転入力端子
(−)である。モニター用発光素子703の画素電極の電位は、バッファアンプ
702の非反転入力端子に与えられる。
On the other hand, the buffer amplifier 702 has two input terminals and one output terminal. One of the two input terminals is a non-inverting input terminal (+) and the other is an inverting input terminal (−). The potential of the pixel electrode of the monitor light emitting element 703 is supplied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 702.

バッファアンプ702は、定電流源704に接続されたモニター用発光素子7
03の画素電極の電位が、電源供給線701の配線容量等の負荷によって変化す
るのを防ぐ回路である。よってバッファアンプ702の非反転入力端子に与えら
れた電位は、電源供給線701の配線容量等の負荷によって変化することなく出
力端子から出力され、画素部の発光素子705の画素電極に与えられる。よって
、モニター用発光素子703に流れる電流と、画素部の発光素子705に流れる
電流は等しくなる。
The buffer amplifier 702 includes the monitor light emitting element 7 connected to the constant current source 704.
This is a circuit that prevents the potential of the pixel electrode 03 from being changed by a load such as a wiring capacity of the power supply line 701. Therefore, the potential applied to the non-inverting input terminal of the buffer amplifier 702 is output from the output terminal without being changed by a load such as the wiring capacity of the power supply line 701 and is applied to the pixel electrode of the light emitting element 705 in the pixel portion. Therefore, the current flowing through the monitoring light emitting element 703 is equal to the current flowing through the light emitting element 705 in the pixel portion.

そして、環境温度の変化により、モニター用発光素子703または画素部の発
光素子705の有機化合物層の温度が変化しても、各発光素子に一定の電流が流
れるようになる。よって発光装置の環境温度が上昇しても、発光装置の消費電力
が大きくなるのを抑えることができる。
Even if the temperature of the organic compound layer of the monitor light emitting element 703 or the light emitting element 705 in the pixel portion is changed due to the change in environmental temperature, a constant current flows through each light emitting element. Therefore, increase in power consumption of the light emitting device can be suppressed even if the environmental temperature of the light emitting device is increased.

図29(A)に示した構成を有する発光装置が有する、画素部の発光素子70
5の、温度による輝度の変化の測定値を図29(B)に示す。なお、補正ありの
グラフが本発明の発光装置の測定値であり、補正なしのグラフは、本発明の第3
の構成を有さない発光装置の測定値である。
The light-emitting element 70 in the pixel portion included in the light-emitting device having the structure illustrated in FIG.
FIG. 29B shows the measured value of the change in luminance due to temperature in FIG. The graph with correction is the measured value of the light emitting device of the present invention, and the graph without correction is the third value of the present invention.
It is the measured value of the light-emitting device which does not have the structure of.

図29(A)から明らかなように、補正なしのグラフでは温度の上昇と共に輝
度が高くなっている。しかし補正ありのグラフでは、温度が上昇しても輝度がほ
ぼ一定に保たれている。電流と輝度は比例関係にあるので、本発明の発光装置で
は、温度が上昇しても電流を一定に保つことができ、消費電力を抑えることがで
きることがわかる。
As is clear from FIG. 29A, in the graph without correction, the luminance increases as the temperature increases. However, in the corrected graph, the brightness is kept almost constant even when the temperature rises. Since the current and the luminance are in a proportional relationship, it can be seen that the light emitting device of the present invention can keep the current constant even when the temperature rises and can suppress power consumption.

また、発光素子は、有機発光層の劣化により輝度の低下が引き起こされるが、
同じ程度劣化していても、陰極と陽極の間に流れる電流を一定に保っていたほう
が、陰極と陽極の間にかかる電圧を一定に保っているよりも、輝度の低下が小さ
い。よって本発明の発光装置は発光素子に流れる電流を一定に保つことが可能で
あるので、劣化による輝度の低下を抑えることができるといえる。
Moreover, although the light emitting element causes a decrease in luminance due to deterioration of the organic light emitting layer,
Even with the same degree of deterioration, the brightness decrease is smaller when the current flowing between the cathode and the anode is kept constant than when the voltage applied between the cathode and the anode is kept constant. Therefore, since the light-emitting device of the present invention can keep the current flowing through the light-emitting element constant, it can be said that a reduction in luminance due to deterioration can be suppressed.

本実施例は、実施例1〜9の構成と、自由に組み合わせて実施することが可能
である。
The present embodiment can be implemented by freely combining with the configurations of the first to ninth embodiments.

本発明の発光装置のブロック図。1 is a block diagram of a light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置のブロック図。1 is a block diagram of a light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置のブロック図。1 is a block diagram of a light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置のブロック図。1 is a block diagram of a light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の電源供給線とモニター用発光素子の接続の様子を示す図。FIG. 6 shows a state of connection between a power supply line of a light emitting device of the present invention and a monitor light emitting element. 本発明の発光装置の画素部を示す図。FIG. 9 illustrates a pixel portion of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の画素の拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a pixel of the light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の駆動方法を示す図。4A and 4B illustrate a driving method of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置のブロック図。1 is a block diagram of a light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の画素部を示す図。FIG. 9 illustrates a pixel portion of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の画素の拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a pixel of the light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の駆動方法を示す図。4A and 4B illustrate a driving method of a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置のソース信号線駆動回路の回路図。3 is a circuit diagram of a source signal line driver circuit of a light emitting device of the present invention. FIG. ラッチ(A)の一部の上面図。The top view of a part of latch (A). 切り変え回路の回路図。The circuit diagram of a switching circuit. アナログスイッチの等価回路図。The equivalent circuit diagram of an analog switch. 本発明の発光装置のソース信号線駆動回路の回路図。3 is a circuit diagram of a source signal line driver circuit of a light emitting device of the present invention. FIG. クロック信号制御回路、タイミング信号制御回路、スタートパルス信号制御回路の回路図。The circuit diagram of a clock signal control circuit, a timing signal control circuit, and a start pulse signal control circuit. 本発明の発光装置のソース信号線駆動回路の回路図。3 is a circuit diagram of a source signal line driver circuit of a light emitting device of the present invention. FIG. 本発明の発光装置のソース信号線駆動回路の回路図。3 is a circuit diagram of a source signal line driver circuit of a light emitting device of the present invention. FIG. 本発明の発光装置の電源供給線とモニター用発光素子の接続の様子を示す図。FIG. 6 shows a state of connection between a power supply line of a light emitting device of the present invention and a monitor light emitting element. 加算回路の回路図。The circuit diagram of an addition circuit. 発光装置の作製方法を示す図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting device. 発光装置の作製方法を示す図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting device. 発光装置の作製方法を示す図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting device. 発光装置の作製方法を示す図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting device. 本発明の発光装置を用いた電子機器の図。FIG. 14 is a diagram of an electronic device using the light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置を用いた電子機器の図。FIG. 14 is a diagram of an electronic device using the light-emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の電源供給線とモニター用発光素子の接続の様子を示す図と、発光素子の温度による輝度の特性を示すグラフ。5A and 5B are a diagram illustrating a state of connection between a power supply line of a light emitting device of the present invention and a monitor light emitting element, and a graph illustrating luminance characteristics depending on the temperature of the light emitting element.

Claims (5)

複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有し、
前記複数の画素は、陽極と、陰極と、前記陽極及び前記陰極の間に挟まれた有機化合物を含む層とを有する発光素子をそれぞれ有し、
前記ソース信号線駆動回路は、切り替え回路を有し、
前記切り替え回路は、インバーターと、第1のNANDと、第2のNANDと、NORとを有し、
デジタルビデオ信号は、前記インバーターを介して前記第1のNANDに入力され、
前記デジタルビデオ信号は、前記第2のNANDに入力され、
切り替え信号は、前記第1のNANDに入力され、
前記切り替え信号の極性を反転させた信号は、前記第2のNANDに入力され、
前記第1のNANDから出力された信号と、前記第2のNANDから出力された信号とが前記NORに入力され、
前記NORから出力された信号は、前記複数の画素に入力され、
1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの平均が、1フレーム期間中における前記発光素子の発光する期間の長さの最大値の半分よりも長い場合、前記切り替え回路によって前記デジタルビデオ信号の極性が反転され、当該反転したデジタルビデオ信号が前記複数の画素に入力され、
1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの平均が、1フレーム期間中における前記発光素子の発光する期間の長さの最大値の半分よりも短い場合、前記切り替え回路によって前記デジタルビデオ信号の極性が反転されないまま、当該デジタルビデオ信号が前記複数の画素に入力されることを特徴とする表示装置。
A pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit;
Each of the plurality of pixels has a light emitting element having an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound sandwiched between the anode and the cathode,
The source signal line driving circuit has a switching circuit,
The switching circuit includes an inverter, a first NAND, a second NAND, and a NOR,
The digital video signal is input to the first NAND through the inverter,
The digital video signal is input to the second NAND,
The switching signal is input to the first NAND,
A signal obtained by inverting the polarity of the switching signal is input to the second NAND,
The signal output from the first NAND and the signal output from the second NAND are input to the NOR,
The signal output from the NOR is input to the plurality of pixels,
When the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is longer than half the maximum value of the length of the light emitting elements in one frame period, the switching circuit The polarity of the digital video signal is inverted, and the inverted digital video signal is input to the plurality of pixels,
When the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is shorter than half the maximum value of the length of the light emitting elements in one frame period, the switching circuit The display device, wherein the digital video signal is input to the plurality of pixels without inverting the polarity of the digital video signal.
複数の画素を有する画素部と、ソース信号線駆動回路とを有し、
前記複数の画素は、陽極と、陰極と、前記陽極及び前記陰極の間に挟まれた有機化合物を含む層とを有する発光素子をそれぞれ有し、
前記ソース信号線駆動回路は、シフトレジスタと、第1のラッチと、第2のラッチと、切り替え回路とを有し、
前記シフトレジスタの出力と前記第1のラッチの入力とが電気的に接続され、
前記第1のラッチの出力と前記第2のラッチの入力とが電気的に接続され、
前記第2のラッチの出力と前記切り替え回路の入力とが電気的に接続され、
前記切り替え回路は、インバーターと、第1のNANDと、第2のNANDと、NORとを有し、
前記第2のラッチから出力されたデジタルビデオ信号は、前記インバーターを介して前記第1のNANDに入力され、
前記デジタルビデオ信号は、前記第2のNANDに入力され、
切り替え信号は、前記第1のNANDに入力され、
前記切り替え信号の極性を反転させた信号は、前記第2のNANDに入力され、
前記第1のNANDから出力された信号と、前記第2のNANDから出力された信号とが前記NORに入力され、
前記NORから出力された信号は、前記複数の画素に入力され、
1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの平均が、1フレーム期間中における前記発光素子の発光する期間の長さの最大値の半分よりも長い場合、前記切り替え回路によって前記デジタルビデオ信号の極性が反転され、当該反転したデジタルビデオ信号が前記複数の画素に入力され、
1フレーム期間中における全ての前記発光素子の発光する期間の長さの平均が、1フレーム期間中における前記発光素子の発光する期間の長さの最大値の半分よりも短い場合、前記切り替え回路によって前記デジタルビデオ信号の極性が反転されないまま、当該デジタルビデオ信号が前記複数の画素に入力されることを特徴とする表示装置。
A pixel portion having a plurality of pixels and a source signal line driver circuit;
Each of the plurality of pixels has a light emitting element having an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound sandwiched between the anode and the cathode,
The source signal line driver circuit includes a shift register, a first latch, a second latch, and a switching circuit,
The output of the shift register and the input of the first latch are electrically connected,
An output of the first latch and an input of the second latch are electrically connected;
An output of the second latch and an input of the switching circuit are electrically connected;
The switching circuit includes an inverter, a first NAND, a second NAND, and a NOR,
The digital video signal output from the second latch is input to the first NAND through the inverter,
The digital video signal is input to the second NAND,
The switching signal is input to the first NAND,
A signal obtained by inverting the polarity of the switching signal is input to the second NAND,
The signal output from the first NAND and the signal output from the second NAND are input to the NOR,
The signal output from the NOR is input to the plurality of pixels,
When the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is longer than half the maximum value of the length of the light emitting elements in one frame period, the switching circuit The polarity of the digital video signal is inverted, and the inverted digital video signal is input to the plurality of pixels,
When the average length of the light emitting periods of all the light emitting elements in one frame period is shorter than half the maximum value of the length of the light emitting elements in one frame period, the switching circuit The display device, wherein the digital video signal is input to the plurality of pixels without inverting the polarity of the digital video signal.
請求項1または請求項2において、
定電流源と、
入力された電位と等しい電位を出力する回路と、
二つの電極を有し、該二つの電極のうちの一方の電極が前記定電流源の出力及び前記入力された電位と等しい電位を出力する回路の入力に電気的に接続されるモニター用の発光素子とを有し、
前記発光素子は、前記陽極、前記陰極のうちの一方が前記入力された電位と等しい電位を出力する回路の出力に電気的に接続されることを特徴とする表示装置。
In claim 1 or claim 2 ,
A constant current source;
A circuit that outputs a potential equal to the input potential;
Light emission for monitoring, which has two electrodes, and one of the two electrodes is electrically connected to the output of the constant current source and the input of a circuit that outputs a potential equal to the input potential Having an element,
The display device, wherein one of the anode and the cathode is electrically connected to an output of a circuit that outputs a potential equal to the input potential.
請求項1または請求項2において、
定電流源と、
入力された電位と等しい電位を出力する回路と、
二つの電極を有し、該二つの電極のうちの一方の電極が前記定電流源の出力及び前記入力された電位と等しい電位を出力する回路の入力に電気的に接続されるモニター用の発光素子とを有し、
前記発光素子は、前記陽極、前記陰極のうちの一方に前記入力された電位と等しい電位を出力する回路の出力の電位が与えられることを特徴とする表示装置。
In claim 1 or claim 2 ,
A constant current source;
A circuit that outputs a potential equal to the input potential;
Light emission for monitoring, which has two electrodes, and one of the two electrodes is electrically connected to the output of the constant current source and the input of a circuit that outputs a potential equal to the input potential Having an element,
The display device according to claim 1, wherein the light emitting element is provided with an output potential of a circuit that outputs a potential equal to the input potential to one of the anode and the cathode.
請求項または請求項4において、
前記モニター用の発光素子は、前記画素部が形成された基板と同じ基板上に形成されていることを特徴とする表示装置。
In claim 3 or claim 4 ,
The display device, wherein the light emitting element for monitoring is formed on the same substrate as the substrate on which the pixel portion is formed.
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