JP4729008B2 - Temperature control device - Google Patents
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Description
本発明は、ヒータにより加熱炉内の温度を変化させる際のヒータによる加熱炉内の加熱温度を制御する温度制御装置に関する。 The present invention relates to a temperature control device for controlling a heating temperature in a heating furnace by a heater when the temperature in the heating furnace is changed by the heater.
温度制御の分野においては、2自由度PID制御が広く用いられている。ここで、通常のPID制御(1自由度PID制御)においては、非特許文献1に記載されているように、同一の調整部において目標値応答と外乱応答との両方を制御しているため、目標値応答を重視すると外乱応答が遅くなってしまい、外乱応答を重視すると目標値応答が振動的になる(オーバーシュートが発生する)。これに対して、2自由度PID制御においては、非特許文献1に記載されているように、外乱応答に対してはPID部において対応するとともに、目標値応答に対してはPID部及びフィードフォワード部の両方により対応することとなり、これにより、外乱応答と目標値応答とに独立して対応することができる。
In the field of temperature control, two-degree-of-freedom PID control is widely used. Here, in the normal PID control (one-degree-of-freedom PID control), as described in
より詳細には、非特許文献1に記載されている2自由度PID制御においては、PID部のパラメータを外乱応答用に調整しておき、PID部からの出力をフィードフォワード部からの出力によって抑えることにより、オーバーシュートが発生しないようにしている。これにより、フィードフォワード部のパラメータを調整することにより、外乱応答に影響を与えることなく目標値応答を自由に設定することができる。
More specifically, in the two-degree-of-freedom PID control described in
さらに、非特許文献1の図9には、フィードフォワード部のパラメータα、βとオーバーシュート温度との関係が記載されており、この関係から、αが0.65程度、βが1.0程度のときに、オーバーシュート温度を最小限に抑えることができることが分かる。
Further, FIG. 9 of
ここで、非特許文献1のフィードフォワード部からの出力は、目標値に対して比例動作及び微分動作が作用したものである。そして、フィードフォワード部からの出力はαの値が大きくβの値が相対的に小さいほど比例動作の影響が大きなものとなり、αの値が小さくβの値が相対的に大きいほど、微分動作の影響が大きなものとなる。
Here, the output from the feedforward unit of Non-Patent
また、2自由度PID制御による温度制御として、例えば、液晶パネル用ガラス基板焼成炉(加熱炉)などにおいては、ヒータによる焼成炉の加熱温度を制御することにより、焼成炉の温度を、一定の割合で、所定の最終目標時間で所定の最終目標温度まで上昇させ、最終目標温度で保持するような制御(ランプ制御)が広く行われている。そして、このようなランプ制御においては、温度の変化の割合を一定にするために、制御を開始してから目標時間が経過するまで間の複数の時刻に対してそれぞれ目標温度(以下途中目標温度とする)を設定し、各時刻において加熱炉の温度が対応する途中目標温度となるようにヒータによる加熱温度が制御される。 In addition, as temperature control by two-degree-of-freedom PID control, for example, in a glass substrate firing furnace (heating furnace) for a liquid crystal panel, by controlling the heating temperature of the firing furnace with a heater, the temperature of the firing furnace is kept constant. Control (ramp control) is generally performed in which the temperature is raised to a predetermined final target temperature at a predetermined final target time and held at the final target temperature. In such ramp control, in order to make the rate of temperature change constant, each of the target temperatures (hereinafter referred to as target temperature on the way) is determined for a plurality of times from the start of control until the target time elapses. And the heating temperature by the heater is controlled so that the temperature of the heating furnace becomes a corresponding intermediate target temperature at each time.
したがって、上述したようなランプ制御を2自由度PID制御により行う場合には、時間の経過とともに途中目標温度が頻繁に変更されるため、αの値が大きく(例えば、0.65)βの値が相対的に小さいと、フィードフォワード部からの出力は、途中目標温度の時間変化(途中目標温度の微分)に対する影響が小さなものとなる、すなわち、途中目標温度の変化に対する追従性が低いものとなる。その結果、加熱炉内の温度は、各時刻から遅れて対応する途中目標温度に到達することとなってしまう。 Therefore, when the lamp control as described above is performed by the two-degree-of-freedom PID control, the target temperature is frequently changed as time passes, so that the value of α is large (for example, 0.65) and the value of β Is relatively small, the output from the feedforward unit has a small effect on the temporal change in the target temperature during the course (differentiation of the target temperature in the middle), that is, the followability to the change in the target temperature is low. Become. As a result, the temperature in the heating furnace reaches the corresponding intermediate target temperature with a delay from each time.
逆に、αの値が小さく(例えば、0.1)βの値が相対的に大きいと、フィードフォワード部からの出力は、途中目標温度の時間変化に対する影響が大きなものとなる、すなわち、途中目標温度に対する追従性が高くなる。しかしながら、この場合には、非特許文献1の図9の記載から分かるようにオーバーシュートが大きくなってしまう。 On the contrary, if the value of α is small (for example, 0.1) and the value of β is relatively large, the output from the feedforward unit has a large influence on the time change of the target temperature on the way. Followability to the target temperature is improved. However, in this case, as can be seen from the description of FIG.
本発明の目的は、2自由度PID制御を用いて加熱炉の温度を制御する際に、ランプ制御における、各時刻における途中目標温度に対する追従性が高く、且つ、最終目標温度に到達した後にオーバーシュートが生じないような、温度制御装置を提供することである。 The object of the present invention is to control the temperature of the heating furnace using the two-degree-of-freedom PID control, and the lamp control has high followability with respect to the target temperature on the way at each time and is over after reaching the final target temperature. It is to provide a temperature control device that does not cause a chute.
本発明の温度制御装置は、ヒータにより加熱炉内を加熱することで、前記加熱炉内の温度を所定の最終目標時間で所定の最終目標温度まで上昇させ、前記最終目標温度で保持する際に、制御を開始してから前記最終目標時間が経過するまでの間の複数の時刻に対して、それぞれ、前記最終目標温度に到達するまでの前記加熱炉内の温度の変化が一定となるように途中目標温度を設定し、各時刻において前記加熱炉が対応する前記途中目標温度となるように、ヒータによる加熱温度の制御を、PID動作および比例要素と微分要素とを用いるフィードフォワード動作を含む目標値フィードフォワード型2自由度PID制御によって行う温度制御装置である。そして、前記最終目標温度及び前記最終目標時間から、前記最終目標温度に比例するとともに、前記最終目標時間に反比例するオーバーシュート抑制温度を算出するオーバーシュート抑制温度算出手段と、前記加熱炉の温度を検出する温度検出手段と、前記比例要素の係数αの値を決定する決定手段と、前記目標値フィードフォワード型2自由度PID制御により、前記ヒータによる加熱温度を制御する加熱温度制御手段とを備えている。前記決定手段は、前記温度検出手段において検出した前記加熱炉内の温度が、前記最終目標温度よりも前記オーバーシュート抑制温度だけ低い切り替え温度以下のときに、前記αの値を所定の第1の値に決定し、前記温度検出手段において検出した前記加熱炉内の温度が、前記切り替え温度よりも高いときに、前記αの値を前記第1の値よりも大きな第2の値に決定する(請求項1)。 The temperature control apparatus of the present invention increases the temperature in the heating furnace to a predetermined final target temperature in a predetermined final target time by heating the inside of the heating furnace with a heater, and maintains the final target temperature. The change in temperature in the heating furnace until reaching the final target temperature is constant for a plurality of times from when control is started until the final target time elapses. A target temperature including a feed forward operation using a PID operation and a proportional element and a differential element is used to control the heating temperature by a heater so that a target temperature is set on the way and the heating furnace becomes the corresponding intermediate target temperature at each time. This is a temperature control device that performs value feed forward two-degree-of-freedom PID control. Then, from the final target temperature and the final target time, overshoot suppression temperature calculation means for calculating an overshoot suppression temperature that is proportional to the final target temperature and inversely proportional to the final target time, and the temperature of the heating furnace Temperature detecting means for detecting, determining means for determining the value of the coefficient α of the proportional element, and heating temperature control means for controlling the heating temperature by the heater by the target value feedforward two-degree-of-freedom PID control. ing. The determining means sets the value of α to a predetermined first value when the temperature in the heating furnace detected by the temperature detecting means is equal to or lower than a switching temperature lower than the final target temperature by the overshoot suppression temperature. When the temperature in the heating furnace detected by the temperature detection means is higher than the switching temperature, the value of α is determined to be a second value larger than the first value ( Claim 1).
これによると、加熱炉の温度が最終目標温度よりもオーバーシュート抑制温度だけ低い温度以下のときには、αの値を所定の第1の値とすることにより、加熱炉の途中目標温度に対する追従性を向上させることができる。さらに、加熱炉の温度が最終目標温度よりもオーバーシュート抑制温度だけ低い温度よりも高くなったときにαの値を第1の値よりも大きい第2の値とすることにより、加熱炉の温度が最終目標温度に到達したときに、オーバーシュートが生じにくくなる。 According to this, when the temperature of the heating furnace is equal to or lower than the final target temperature by an overshoot suppression temperature, the value of α is set to a predetermined first value, whereby the followability to the intermediate target temperature of the heating furnace is improved. Can be improved. Furthermore, when the temperature of the heating furnace becomes higher than the temperature lower than the final target temperature by the overshoot suppression temperature, the value of α is set to a second value that is larger than the first value. When the final target temperature is reached, overshoot is less likely to occur.
また、本発明の温度制御装置においては、前記オーバーシュート抑制温度算出手段が、前記最終目標温度に比例するとともに、前記最終目標時間に反比例する値となるように、前記オーバーシュート抑制温度を算出することが好ましい(請求項2)。これによると、オーバーシュート抑制温度をこのように決定することにより、加熱炉の途中目標温度に対する追従性が確実に高くなるとともに、最終目標温度に到達した後、オーバーシュートが確実に発生しにくくなる。 In the temperature control device of the present invention, the overshoot suppression temperature calculation means calculates the overshoot suppression temperature so that the overshoot suppression temperature is a value proportional to the final target temperature and inversely proportional to the final target time. (Claim 2). According to this, by determining the overshoot suppression temperature in this way, the followability to the target temperature during the heating furnace is reliably increased, and overshoot is not easily generated after reaching the final target temperature. .
以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
図1は、本実施の形態に係る温度制御システムの概略構成図である。図1に示すように、温度制御システム1は、加熱炉2及び制御装置3を備えている。温度制御システム1においては、ユーザによって入力された、加熱炉2内の最終的な目標温度である最終目標温度nx、及び、制御を開始してから最終目標温度nxに到達するまでの最終目標時間tに基づき、一定の割合で加熱炉2内の温度を上昇させ、最終目標時間tで加熱炉2内を最終目標温度nxにするような制御を行っている(ランプ制御)。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a temperature control system according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the
より詳細には、温度上昇の割合が一定となるように、制御を開始してから最終目標時間が経過するまでの間の複数の時刻t1〜t4(図4参照)に対して、それぞれ途中目標温度n1〜n4(図4参照)を設定し、各時刻t1〜t4において対応する途中目標温度n1〜n4となるように後述するヒータ12による加熱温度の制御を行っている。
More specifically, for each of a plurality of times t 1 to t 4 (see FIG. 4) from the start of control until the final target time elapses so that the rate of temperature rise is constant. The intermediate target temperatures n 1 to n 4 (see FIG. 4) are set, and the heating temperature is controlled by the
加熱炉2は、加熱室11、ヒータ12、温度センサ(温度検出手段)13、送風機14、冷却ファン15、排気弁16、棚17及び隔壁18を有している。加熱室11は、断熱材からなる外壁19によって囲まれた空間である。ヒータ12は加熱室11内を加熱する。温度センサ13は加熱室11内(加熱炉2内)の温度を検出する。送風機14は加熱室11内の空気を循環させることにより、加熱室11内の空気の温度を均一にする。
The
冷却ファン15は、外壁19の図1における右下端部付近に形成された吸気口19aに設けられており、冷却ファン15を動作させることにより加熱室11に外部から空気が導入される。排気弁16は、外壁19の図1における左下端部付近に形成された排気口19bに設けられており、その上端の支持部16aを中心として回動する。冷却ファン15が動作していないときには、排気弁16は、図1の実線で示すように排気口19bを塞いでいる。そして、冷却ファン15を動作させる際には、図1の一点鎖線で示すように排気弁16を、支持部16aを中心として回動させることによって排気口19bを開放する。これにより、吸気口19aから加熱室11内に外部の空気が導入されるとともに、加熱室11内の空気が外部に排出され、加熱室11内が冷却される。
The
棚17は、図中上下方向に沿って配列されており、各棚17に、例えば、液晶パネル用ガラス基板のような試料Pが配置される。隔壁18は、ヒータ12と棚17との間に配置されており、ヒータ12の熱が直接棚17に配置された試料Pに伝播し、試料Pの温度が急激に上昇するのを防止している。
The
図2は、図1の制御装置3のブロック図である。図2に示すように、制御装置3は、オーバーシュート抑制温度算出部21、α決定部22、加熱温度制御部23、冷却ファン制御部24及び送風機制御部25を有している。
FIG. 2 is a block diagram of the
オーバーシュート抑制温度算出部21は、ユーザにより入力された最終目標温度nxに比例するとともに最終目標時間tに反比例する、所定のオーバーシュート抑制温度nを算出する。具体的には、n=(nx/t)・Aの計算を行うことにより、オーバーシュート抑制温度nを算出する。ここで、Aは、1<A<2程度の定数である。
Overshoot suppression
α決定部22は、オーバーシュート抑制温度算出部21において算出されたオーバーシュート抑制温度n及び温度センサ13において検出された加熱室11の温度から、加熱温度制御部23の、後述する2自由度PID制御におけるパラメータであるαの値を決定する。具体的には、加熱室11内の温度が最終目標温度nxよりもオーバーシュート抑制温度nだけ低い切り替え温度nx−n以下のときには、αの値を設定可能な範囲における最小値(例えば、0、第1の値)に決定し、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−nよりも高いときにはαの値を0.65(第1の値よりも大きな第2の値)に決定する。
The
加熱温度制御部23は、ユーザによって入力された最終目標温度nx、最終目標時間t及び温度センサ13において検出された加熱室11内の温度に基づいて、後述するように、ヒータ12による加熱室11の加熱温度を制御する。また、冷却ファン制御部24は、加熱処理が終了した後、加熱室11内を冷却する際の冷却ファン15の動作を制御する。送風機制御部25は、送風機14の動作を制御する。
The
図3は、図2の加熱温度制御部23による制御を示すブロック線図である。図3に示すように、加熱温度制御部23は、ブロック線図で表した場合、PID部31、フィードフォワード部32、減算器33、比例ゲイン部34、加算器35、制御対象36、減算器37によって構成されている。
FIG. 3 is a block diagram showing control by the heating
PID部31は、減算器37から入力される、最終目標温度nxの値と現在の温度センサ13によって検出された加熱室11内の温度の値との差に、「1+[1/T1s)]+T0s」を乗じた値を出力する。ここで、T0、T1は2自由度PID制御におけるパラメータであり、予め設定されている。また、sはラプラス変換における複素変数である。
フィードフォワード部32は、ユーザによって入力された目標温度(途中目標温度n1〜n4、最終目標温度nx)の値に「α+βT0s」を乗じた値を出力する。すなわち、目標温度に対して比例動作及び微分動作を作用させたものを出力する。ここで、α、βは2自由度PID制御におけるパラメータであり、αの値は、後述するように、温度センサ13において検出された加熱室11内の温度に応じてα決定部22において決定され、βの値は予め設定されている。
The
減算器33は、PID部31から出力された値と、フィードフォワード部32から出力された値との差を比例ゲイン部34に出力する。比例ゲイン部34は、入力された値にKpを乗じた値を出力する。ここで、Kpは、2自由度PID制御におけるパラメータであり、予め設定されている。
The
加算器35は、比例ゲイン部34からの出力の値と、外乱の値σとの和を制御対象に出力する。なお、加算器35からの出力が、ヒータ12による加熱温度の操作量を示している。
The
制御対象36は、図1におけるヒータ12及び温度センサ13に対応しており、加算器35から入力された値に応じてヒータ12の加熱温度を変化させたときに、温度センサ13において検出された温度を出力する。制御対象36から出力された加熱室11内の温度は、減算器37に出力される(フィードバックされる)。
The
次に、本実施の形態において加熱室11内の温度を制御する方法について説明する。図4は、図1に示す温度制御システム1における途中目標温度の変化を示す図である。温度制御システム1においては、加熱室11内の温度を、最終目標時間tの間に一定の割合で最終目標温度nxまで変化させるために、図4に示すように、制御を開始してから最終目標時間tが経過するまでの間の複数の時刻t1〜t4に対して、それぞれ途中目標温度n1〜n4を設定し、時間の経過とともに、図3における目標温度を変更する。具体的には、図3の目標温度として、時刻t1までは温度n1、時刻t1〜t2の間は温度n2、時刻t2〜t3の間は温度n3、時刻t3〜t4の間は温度n4、t4以降は温度nxをそれぞれ入力する。これにより、各時刻t1〜t4において、加熱室11内の温度が、それぞれ対応する途中目標温度n1〜n4となるように、ヒータ12による加熱温度が制御される。なお、図4では、途中目標温度が4つ存在する場合を例に挙げて説明したが、途中目標温度の数はこれには限られない。
Next, a method for controlling the temperature in the
図5は、図1に示す温度制御システム1において加熱炉2内の温度を制御したときの、加熱炉2内の温度の時間変化を示す図であり、(a)がαの値を0.65に固定した場合、(b)がαの値を最小値(例えば、0.1)に固定した場合、(c)が本実施の形態の場合を示している。なお、以下では、一例として、定数Aを1.37とし、ランプ制御により加熱室11内の温度を80分(最終目標時間t)で、400℃(最終目標温度nx)まで上昇させる場合を例に挙げて説明する。この場合、オーバーシュート抑制温度nは、
n=(400/80)・1.37=6.85(℃)
と算出される。
FIG. 5 is a diagram showing a change over time of the temperature in the
n = (400/80) · 1.37 = 6.85 (° C.)
Is calculated.
上述したように2自由度PID制御により加熱室11内の温度を制御する場合、フィードフォワード部32におけるαの値が一定であると、αの値が大きく(例えば、0.65程度)βの値が相対的に小さい場合には、フィードフォワード部32からの出力は、目標温度の微分(目標温度の時間変化)の影響が小さなものとなる、すなわち、目標温度の変化に対する追従性が低いものとなる。その結果、図4に示すように、時間の経過とともに途中目標温度が頻繁に変化する場合、図5(a)に示すように、加熱室11内の温度が最終目標温度nxに到達した後、さらに温度が上昇するオーバーシュートは発生しにくいが、最終目標温度nxに到達するまでの各時刻における途中目標温度に対する追従性は低下してしまう(各時刻t1〜t4から遅れて対応する途中目標温度n1〜n4に到達する)。
As described above, when the temperature in the
逆に、αの値が小さくβの値が相対的に大きい場合には、フィードフォワード部32からの出力は、目標温度の時間変化に対する影響が大きなものとなる、すなわち、目標温度の時間変化に対する追従性が高いものとなる。その結果、図5(b)に示すように、最終目標温度nxに到達するまでの各時刻における途中目標温度n1〜n4に対する追従性は高くなるが、最終目標温度nxに到達した後にさらに温度が上昇するオーバーシュートが発生してしまう。
Conversely, when the value of α is small and the value of β is relatively large, the output from the
これに対して、本実施の形態では、図5(c)に示すように、加熱室11内の温度が最終目標温度よりもオーバーシュート抑制温度nだけ低い切り替え温度nx−n(上記例では、393.15℃)以下のときには、αの値を設定可能な範囲で最小値(例えば、0.1)に設定する。これにより、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−n(上記例では393.15℃)に到達するまでの各時刻における途中目標温度n1〜n4に対する追従性は高くなる。このとき、加熱室11内の温度は最終目標温度nxには到達していないので、最終目標温度nxよりもさらに温度が上昇するオーバーシュートが生じることはない。
In contrast, in the present embodiment, as shown in FIG. 5 (c), in the overshoot suppressing temperature n by low switching temperature n x -n (above example than the temperature in the
一方、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−n(上記例では393.15℃)よりも高くなったときには、αの値を0.65に切り替える。これにより、これ以降、加熱室11内の温度の最終目標温度nxに対する追従性が低くなり、加熱室11内の温度が最終目標温度nxに到達したときにさらに温度が上昇するオーバーシュートが起こりにくい。
On the other hand, when the temperature in the
ここで、加熱室11内の温度が、ヒータ12による加熱前の温度よりも最終目標温度nxに近い切り替え温度nx−nとなったときに、αの値を増加させているので、この後、加熱室11内の温度の各時刻における途中目標温度に対する追従性が低いとしても、最終目標温度nxに到達するまでの間に、加熱室11内の温度が各途中目標温度から大きくずれてしまうことはない。
The temperature in the
以上に説明した実施の形態によると、加熱室11内の温度が、最終目標温度nxよりもオーバーシュート抑制温度nだけ低い切り替え温度nx−n以下のときには、αの値を設定可能な範囲で最小値とすることにより、加熱室11内の温度の、途中目標温度の変化に対する追従性が低くなるとともに、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−nよりも高くなったときにαの値を増加させることにより、加熱室11内の温度の最終目標温度nxに対する追従性が低くなるため、加熱室11内が最終目標温度nx到達した後、さらに温度が上昇するオーバーシュートが生じにくくなる。したがって、加熱室11内の温度を、ランプ制御の最終目標温度及び途中目標温度に対して精度よく制御することができる。
According to the embodiment described above, the temperature of the
また、オーバーシュート抑制温度算出部21において、最終目標温度nxに比例するとともに、最終目標時間tに反比例する値となるように、オーバーシュート抑制温度nを算出することにより、加熱室11内の温度のランプ制御における最終目標温度及び途中目標温度に対する追従性を確実に高くすることができる。
Further, the overshoot suppressing
次に、本実施の形態に変更を加えた変形例について説明する。 Next, a modified example in which this embodiment is modified will be described.
本実施の形態においては、オーバーシュート抑制温度nを、最終目標温度nxに比例し、最終目標時間tに反比例する値となるように決定したが、オーバーシュート抑制温度nの決定方法はこれには限られず、最終目標温度nxと最終目標時間tに応じて他の方法によって決定してもよい。 In this embodiment, the overshoot suppressing temperature n, proportional to the final target temperature n x, although the final target time was determined as a value that is inversely proportional to t, the method for determining the overshoot suppression temperature n in this Is not limited, and may be determined by another method according to the final target temperature nx and the final target time t.
また、本実施の形態では、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−n以下のときにαの値を設定可能な範囲で最小値とし、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−nよりも高くなったときにαの値を0.65に決定したが、加熱室11内の温度が切り替え温度nx−nよりも高いときのαの値(第2の値)が、加熱炉2内の温度が切り替え温度nx−n以下のときのαの値(第1の値)よりも大きければ、αの値を他の値にしてもよい。
Further, in the present embodiment, when the temperature in the
1 温度制御システム
2 加熱炉
3 制御装置
11 加熱室
12 ヒータ
13 温度センサ
21 オーバーシュート抑制温度算出部
22 α決定部
23 加熱温度制御部
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記最終目標温度及び前記最終目標時間から、前記最終目標温度に比例するとともに、前記最終目標時間に反比例するオーバーシュート抑制温度を算出するオーバーシュート抑制温度算出手段と、
前記加熱炉の温度を検出する温度検出手段と、
前記比例要素の係数αの値を決定する決定手段と、
前記目標値フィードフォワード型2自由度PID制御により、前記ヒータによる加熱温度を制御する加熱温度制御手段とを備えており、
前記決定手段は、
前記温度検出手段において検出した前記加熱炉内の温度が、前記最終目標温度よりも前記オーバーシュート抑制温度だけ低い切り替え温度以下のときに、前記αの値を所定の第1の値に決定し、
前記温度検出手段において検出した前記加熱炉内の温度が、前記切り替え温度よりも高いときに、前記αの値を前記第1の値よりも大きな第2の値に決定することを特徴とする温度制御装置。 By heating the inside of the heating furnace with a heater, the temperature in the heating furnace is increased to a predetermined final target temperature in a predetermined final target time, and when the temperature is held at the final target temperature, the control is started and the For each of a plurality of times until the final target time elapses, the target temperature is set halfway so that the change in temperature in the heating furnace until reaching the final target temperature is constant, Control of the heating temperature by the heater so that the heating furnace reaches the corresponding target temperature at the time, the target value feedforward type two-degree-of-freedom PID including the PID operation and the feedforward operation using the proportional element and the differential element A temperature control device controlled by control,
From the final target temperature and the final target time, an overshoot suppression temperature calculation means that calculates an overshoot suppression temperature that is proportional to the final target temperature and inversely proportional to the final target time ;
Temperature detecting means for detecting the temperature of the heating furnace;
Determining means for determining a value of the coefficient α of the proportional element ;
A heating temperature control means for controlling the heating temperature by the heater by the target value feedforward type two-degree-of-freedom PID control ,
The determining means includes
When the temperature in the heating furnace detected by the temperature detection means is equal to or lower than the switching temperature lower than the final target temperature by the overshoot suppression temperature, the value of α is determined to be a predetermined first value,
When the temperature in the heating furnace detected by the temperature detection means is higher than the switching temperature, the value of α is determined to be a second value larger than the first value. Control device.
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