JP4727360B2 - Gate circuit of insulated gate semiconductor device - Google Patents
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Description
本発明は、絶縁ゲート型半導体素子の改良されたゲート回路に関する。 The present invention relates to an improved gate circuit of an insulated gate semiconductor device.
MOS型ゲート構造を有する絶縁ゲート型半導体素子には、たとえばMOSFET、IGBT、IEGT(Injection Enhanced Gate Transistor)などがある。 Insulated gate semiconductor elements having a MOS gate structure include, for example, MOSFETs, IGBTs, and IEGTs (Injection Enhanced Gate Transistors).
これら絶縁ゲート型半導体素子は、電圧駆動型であり、ゲート・エミッタ間の容量を充電、放電する電流がオン・オフ切り替え時に短時間流れるだけで、定常時にはゲート電流が流れない。したがって、絶縁ゲート型半導体素子のゲートパワーはパイポーラ素子に比べ非常に小さくできる利点がある。また、絶縁ゲート型半導体素子は、MOS型ゲート構造特有の高速動作が可能である。 These insulated gate type semiconductor elements are voltage-driven, and the current for charging and discharging the gate-emitter capacitance flows for a short time when switching on / off, and does not flow during steady state. Therefore, there is an advantage that the gate power of the insulated gate semiconductor element can be made very small as compared with the bipolar element. Further, the insulated gate semiconductor element can operate at a high speed peculiar to the MOS gate structure.
このような絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路にとって重要なことは、絶縁ゲート型半導体素子を確実にオン・オフ動作させ、誤動作による短絡などを防止することである。この確実なオン・オフ動作は、制御用の直流電源が必要なだけ供給されてはじめて成り立つのが通常であるが、制御電源電圧が低下したときにも絶縁ゲート型半導体素子の誤動作、特に誤オン動作を防止するニーズは従来からあった。 What is important for the gate circuit of such an insulated gate semiconductor element is to reliably turn on and off the insulated gate semiconductor element and prevent a short circuit due to a malfunction. This reliable on / off operation is normally only possible when a control DC power supply is supplied as much as necessary. However, even when the control power supply voltage drops, the insulated gate semiconductor device malfunctions, There has been a need for preventing operation.
例えば、制御電源電圧が所定値以下となったとき、ゲート回路を駆動するシンク用トランジスタのコレクタ・ベース間を短絡し、絶縁ゲート型半導体素子がオンしようとしてもシンク用トランジスタの動作によって誤オンすることを阻止するゲート回路が提案されている(例えば特許文献1参照。)。
特許文献1で示された方法は、制御電源が単一電源の場合であり、絶縁ゲート型半導体素子のバイアスは順(正)バイアスのみを印加している。しかるに大容量の絶縁ゲート型半導体素子を使用する場合は、逆バイアスの印加も必要になる場合がある。
The method disclosed in
順バイアス、逆バイアスの両電源をもったゲート駆動回路の逆バイアス電源のみが単一故障を引き起こすと、順バイアス電源のみが供給される。そのときにゲート制御用ICが動作可能範囲内であれば絶縁ゲート型半導体素子へのゲート信号は出力可能であるが、本来設計していた逆バイアス電圧とゲート抵抗によるゲートキャリアの引き抜き時間が遅くなり、結果として絶縁ゲート型半導体素子のターンオフ損失の増加、過熱、破損等の要因となる。また、本来意図していた逆バイアスの目的となるノイズによる誤オン防止の役目を果たせず、誤オンしてアーム短絡を発生させ破損させる原因にもなる。 If only the reverse bias power source of the gate drive circuit having both forward bias and reverse bias power sources causes a single failure, only the forward bias power source is supplied. At that time, if the gate control IC is within the operable range, a gate signal can be output to the insulated gate type semiconductor device, but the gate carrier extraction time due to the originally designed reverse bias voltage and gate resistance is slow. As a result, this causes an increase in turn-off loss, overheating, damage, etc. of the insulated gate semiconductor device. In addition, it does not serve to prevent erroneous ON due to the noise intended for reverse bias, which was originally intended, and it may be erroneously turned ON, causing an arm short circuit and damage.
本発明は以上のような問題点を解消するためになされたもので、逆バイアス制御電源の故障が発生した場合でも、絶縁ゲート型半導体素子が誤オン動作しないような安全な絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a safe insulated gate semiconductor device that prevents the insulated gate semiconductor device from erroneously turning on even when a reverse bias control power supply fails. An object of the present invention is to provide a gate circuit.
上記目的を達成するため、本発明の第1の発明である絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路は、ソース電極が正側電源の正極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたPチャネルFETと、ソース電極が前記正側電源と直列に接続された負側電源の負極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたNチャネルFETと、前記正側電源の正極と前記負側電源の負極から制御電圧の供給を受け、指令に従って前記制御電圧の振幅を持つゲート制御パルスを出力するゲート制御パルス発生手段と、前記ゲート制御パルス発生手段の出力と前記PチャネルFETのゲート電極間に設けられアノードが前記ゲート制御パルス発生手段の出力側に接続された第1のツェナーダイオードと第1の抵抗から成る第1の直列回路と、前記ゲート制御パルス発生手段の出力と前記NチャネルFETのゲート電極間に設けられ、カソードが前記ゲート制御パルス発生手段の出力側に接続された第2のツェナーダイオードと第2の抵抗から成る第2の直列回路とを具備し、前記第1のツェナーダイオードの降伏電圧は、前記正側電源の電圧から前記PチャネルFETのゲートしきい値電圧を減算した値より大きく選定し、前記第2のツェナーダイオードの降伏電圧は、前記負正電源の電圧から前記NチャネルFETのゲートしきい値電圧を減算した値より小さく選定するようにしたことを特徴としている。 In order to achieve the above object, the gate circuit of the insulated gate semiconductor device according to the first invention of the present invention has a source electrode connected to the positive electrode of the positive power supply and a drain electrode connected to the gate electrode of the insulated gate semiconductor device. A connected P-channel FET, a source electrode connected to the negative electrode of a negative power source connected in series with the positive power source, and a drain electrode connected to the gate electrode of an insulated gate semiconductor device; A gate control pulse generating means for receiving a control voltage from a positive electrode of the positive power source and a negative electrode of the negative power source and outputting a gate control pulse having an amplitude of the control voltage in accordance with a command; and first zener diode having an anode provided between the gate electrode of the output and the P-channel FET is connected to the output side of the gating pulse generating means When a first series circuit comprising a first resistor provided between the gate electrode of the output and the N-channel FET of the gating pulse generating means, a cathode connected to the output side of the gating pulse generating means A second series circuit comprising a second Zener diode and a second resistor, and the breakdown voltage of the first Zener diode is determined from the voltage of the positive power supply to the gate threshold voltage of the P-channel FET. The breakdown voltage of the second Zener diode is selected to be smaller than the value obtained by subtracting the gate threshold voltage of the N-channel FET from the voltage of the negative and positive power supply. It is a feature.
また、本発明の第2の発明である絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路は、ソース電極が正側電源の正極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたPチャネルFETと、ソース電極が前記正側電源と直列に接続された負側電源の負極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたNチャネルFETと、入力端と前記PチャネルFETのゲート電極間に設けられ、アノードが前記入力端側に接続された第1のツェナーダイオードと第1の抵抗から成る第1の直列回路と、前記入力端と前記NチャネルFETのゲート電極間に設けられ、カソードが前記入力端側に接続された第2のツェナーダイオードと第2の抵抗から成る第2の直列回路とから成るトーテムポール型増幅回路複数個と、前記正側電源の正極と前記負側電源の負極から制御電圧の供給を受け、指令に従って前記制御電圧の振幅を持つゲート制御パルスを出力して各々の前記トーテムポール型増幅回路の入力端に供給するゲート制御パルス発生手段とを具備し、前記複数個のトーテムポール型増幅回路の少なくとも1つに当該トーテムポール型増幅回路を構成する前記NチャネルFETのゲート電極にカソードを、ソース電極にアノードを接続した第3のツェナーダイオードと、当該NチャネルFETのゲート電極と前記正側電源の正極間に接続された第3の抵抗とを設けたことを特徴としている。
The gate circuit of the insulated gate semiconductor device according to the second aspect of the present invention is a P-channel having a source electrode connected to the positive electrode of the positive power supply and a drain electrode connected to the gate electrode of the insulated gate semiconductor device. An FET, a source electrode connected to a negative electrode of a negative power supply connected in series with the positive power supply, a drain electrode connected to a gate electrode of an insulated gate semiconductor element, an input terminal, and the P A first series circuit including a first Zener diode and a first resistor provided between the gate electrodes of the channel FET and having an anode connected to the input end side ; the input end; and the gate electrode of the N channel FET It is provided between the cathode and the second Zener diode and totem pole amplifier times consisting of a second series circuit comprising a second resistor connected to the input end The control voltage is supplied from the positive electrode of the positive power source and the negative electrode of the negative power source, and a gate control pulse having the amplitude of the control voltage is output in accordance with a command to output each of the totem pole amplifier circuits. Gate control pulse generating means for supplying to the input terminal, and at least one of the plurality of totem pole type amplifier circuits has a cathode as a gate electrode of the N channel FET constituting the totem pole type amplifier circuit, and a source A third Zener diode having an anode connected to the electrode and a third resistor connected between the gate electrode of the N-channel FET and the positive electrode of the positive power supply are provided.
本発明によれば、逆バイアス制御電源の故障が発生した場合でも、絶縁ゲート型半導体素子が誤オン動作しないような安全な絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a safe gate circuit for an insulated gate semiconductor device that prevents the insulated gate semiconductor device from being erroneously turned on even when a reverse bias control power supply fails.
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は本発明の実施例1に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図である。図1において、ゲート回路1には正側の制御電源2A及びこれと直列に接続された負側の制御電源2Bから正及び負の制御電圧が夫々供給されている。ゲート回路1はその出力によってフライホイールダイオード4を逆並列に接続した絶縁ゲート型半導体素子であるIGBT3のゲートを駆動している。IGBT3のエミッタは制御電源2Aと制御電源2Bの中点に接続されている。ここでIGBT3は、例えばブリッジ接続して構成されたインバータ回路の1アームを形成している。以下にゲート回路1の内部構成について説明する。
1 is a circuit configuration diagram of a gate circuit of an insulated gate semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, positive and negative control voltages are respectively supplied to the
制御用IC11のVCC端子には制御電源2Aの正極が、またGND端子には制御電源2Bの負極が夫々接続されている。この制御用IC11のIN端子に所定周波数のパルス信号が指令として入力されると、DR端子から所定の出力信号が出力される。
The positive terminal of the
そのソース端子が制御電源2Aの正極に接続されているPチャネルFET12Aのドレイン端子は、抵抗13Aを介してIGBT3のゲートに接続されている。同様に、そのソース端子が制御電源2Bの負極に接続されているNチャネルFET12Bのドレイン端子は、抵抗13Bを介してIGBT3のゲートに接続されている。従って、PチャネルFET12A、抵抗13A、抵抗13B及びNチャネルFET12Bで構成される直列回路は所謂トーテムポール接続されている。
The drain terminal of the P-
制御用IC11のDR端子は、抵抗14Aとツェナーダイオード15Aの直列接続体を介してPチャネルFET12Aのゲート端子に接続されている。同様に、制御用IC11のDR端子は、抵抗14Bとツェナーダイオード15Bの直列接続体を介してNチャネルFET12Bのゲート端子に接続されている。PチャネルFET12A及びNチャネルFET12Bに逆並列接続されている破線で示したダイオードはFETの寄生ダイオードを示している。また、破線で示したツェナーダイオード16がNチャネルFET12Bのゲート端子とソース端子間に接続されている。
The DR terminal of the control IC 11 is connected to the gate terminal of the P-
次に以上の構成におけるゲート回路1の動作について説明する。
Next, the operation of the
制御用IC11はそのIN端子に与えられた入力信号に応答してDR端子から、VCC端子とGND端子間の電圧振幅を有するパルスを出力する。PチャネルFET12A及びNチャネルFET12Bから成るトーテムポール回路は制御用IC11のDR端子からのゲート制御出力信号を増幅し、抵抗13A、13Bを介してIGBT3のゲートを充放電する。抵抗13A及び13Bを設けているのは、IGBT3のゲートの充電と放電を独立に制御するためであるが、充電時間と放電時間が同等で良い場合は抵抗13A及び13Bを省略可能である。
The control IC 11 outputs a pulse having a voltage amplitude between the VCC terminal and the GND terminal from the DR terminal in response to the input signal applied to the IN terminal. A totem pole circuit composed of a P-
抵抗14AはPチャネルFET12Aのゲート抵抗となり、抵抗14BはNチャネルFET12Bのゲート抵抗となる。またツェナーダイオード15A及び15Bがない場合、制御電源2A及び2Bの直列回路の電圧が、たとえば15V+15V=30Vとすると、PチャネルFET12AとNチャネルFET12Bのゲート電圧は30Vまで上昇する。通常FETのゲート−ソース間電圧定格は±20V程度が適切であるので、ツェナーダイオード15A及び15Bによって電圧制限を行う。このとき(ツェナーダイオード15Aの降伏電圧)>(順バイアス電圧−PチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧)となるようにツェナーダイオード15Aの降伏電圧を選定する。
The
例えば、制御電源2Aが15V、制御電源2Bも15Vで、PチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧が2Vとすると、ツェナーダイオード15Aの降伏電圧の選定は15V−2V=13V以上となる。これを例えば14Vに選定したとき、制御電源2A及び2Bの両方が正常の場合はPチャネルFET12Aを駆動する電圧は30V−14V=16Vとなる。
For example, if the
制御電源2Bが喪失した場合、PチャネルFET12Aを駆動する電圧は15V−14V=1Vとなり、これはPチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧2Vより小さくなるため、PチャネルFET12Aは駆動できなくなる。
When the
このようにツェナーダイオード15Aの降伏電圧を適切に選定すると、制御電源2Bによる逆バイアス電圧が喪失したとき、制御用IC11の出力は制御電源2Aによる順バイアス電圧の範囲となるため、PチャネルFET12Aの出力を停止させることができる。
When the breakdown voltage of the Zener
また同様に、(ツェナーダイオード15Bの降伏電圧)<(順バイアス電圧−NチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧)となるようにツェナーダイオード15Bの降伏電圧を選定する。
Similarly, the breakdown voltage of the
制御電源2Aが15V、制御電源2Bが15Vで、NチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧が2Vとすると、ツェナーダイオード15Bの降伏電圧の選定は15V−2V=13V以下となる。これを例えば12Vに選定したとき、制御電源2A及び2Bの両方が正常の場合はNチャネルFET12Aを駆動する電圧は30V−12V=18Vとなる。
When the
制御電源2Bが喪失した場合、NチャネルFET12Bを駆動する電圧は15V−12V=3Vとなり、これはNチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧2V以上となるため、NチャネルFET12Bは駆動可能となる。
When the
このようにツェナーダイオード15Bの降伏電圧を適切に選定することにより、制御電源2Bによる逆バイアス電圧が喪失したとき、制御用IC11の出力は制御電源2Aによる順バイアス電圧の範囲となるが、上記理由によりNチャネルFET12Bの出力は可能な状態に保たれる。
By appropriately selecting the breakdown voltage of the Zener
以上述べたように、制御電源2Bによる逆バイアス電圧が喪失しても、IGBT3に対して順バイアス電圧を印加することを阻止し、逆バイアス電圧なしではあるがNチャネルFET12BによりIGBT3のゲート−エミッタ間はパルス状に低インピーダンスに保つことが可能となる。
As described above, even if the reverse bias voltage from the
また、前述の説明で、制御電源2Aと2Bが正常である場合に、PチャネルFET12Aのゲート駆動電圧が定格に対してマージンが少なくなると考えられる場合は、ツェナーダイオード15Aの降伏電圧を更に高く選定する。同様にNチャネルFET12Bのゲート駆動電圧が定格に対してマージンが少なくなる場合は、図1に破線で示したツェナーダイオード16によってNチャネルFET12Bのゲート電圧をクランプさせるようにすれば、抵抗14Bに発生するロスは若干増加するが、FET駆動の定格電圧に対するマージンを確保することが可能となる。
Further, in the above description, when the
また、NチャネルFET12Bのゲート駆動電圧をクランプするツェナーダイオード16を設けない別の方法としては、IGBT3に対する逆バイアス電圧を順バイアス電圧に対して小さめに設定するようにすれば良い。例えば制御電源2Aの電圧が15V、制御電源2Bの電圧が10Vであれば、NチャネルFET12Bを駆動する電圧は25V−12V=13Vとなるので、ゲート駆動定格電圧に対してマージンが生まれる。
As another method not providing the
尚、PチャネルFET12Aはツェナーダイオード15Aの降伏電圧の選定によって動作電圧範囲が決定されるので、従来のように制御電圧2A及び2Bの電圧が異常に低くなった場合を考慮して制御用IC11の低電圧動作保証を行なう必要はない。従って、制御用IC11は、IN端子に与えられた入力信号に応答してそのDR端子をVCC端子とGND端子との電圧の間でスイッチングすることができるような構成の、例えばNPNトランジスタとPNPトランジスタを組み合わせたトーテムポール回路などが適用できる。
Since the operating voltage range of the P-
図2は本発明の実施例2に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図である。この実施例2の各部について、図1の実施例1に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図の各部と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。この実施例2が実施例1と異なる点は、制御電源2Bの電圧を検出する電圧検出器17、この電圧検出器17で検出された電圧が基準値以下であれば、制御用IC11の出力が常時オフとなるようなOFF指令を出力する比較回路18を設けた点である。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram of a gate circuit of an insulated gate semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the same parts as those in the circuit configuration diagram of the gate circuit of the insulated gate semiconductor device according to the first embodiment shown in FIG. The difference between the second embodiment and the first embodiment is that the
このように制御電源2Bの電圧監視を行い、電圧が基準値以下になったとき、制御用IC11のDR端子の出力を常時オフ状態に保持すれば、前述のパルス状の低インピーダンス状態は連続的な低インピーダンス状態となるので、より信頼性高くIGBT3をオフに保つことが可能となる。
If the voltage of the
図3は本発明の実施例3に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図である。この実施例3の各部について、図1の実施例1に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図の各部と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。この実施例3が実施例1と異なる点は、NチャネルFET12Bのゲート端子と制御電源2Aの正極間に抵抗19を設けるようにした点、またNチャネルFET12Bのゲート−ソース間に接続されたツェナーダイオード16は本実施例では必要となるので実線記載とした点である。
3 is a circuit configuration diagram of a gate circuit of an insulated gate semiconductor device according to a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the same parts as those in the circuit configuration diagram of the gate circuit of the insulated gate semiconductor device according to the first embodiment shown in FIG. The third embodiment differs from the first embodiment in that a
次に動作について説明する。実施例1の場合と同様に制御用IC11はそのIN端子に与えられた入力信号に応答してそのDR端子をVCC端子とGND端子との電圧の間でスイッチングする。PチャネルFET12AとNチャネルFET12Bからなるトーテムポール型回路は制御用IC11のDR端子からの出力信号を増幅し、抵抗13A及び13Bを介してIGBT3のゲートを充放電する。実施例1の場合と同様に抵抗14AはPチャネルFET12Aのゲート抵抗となり、抵抗14BはNチャネルFET12Bのゲート抵抗となる。またツェナーダイオード15A及び15BはFETのゲート−ソース間電圧を制限する。この実施例2においても(ツェナーダイオード15Aの降伏電圧)>(順バイアス電圧−PチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧)と設定する。
Next, the operation will be described. As in the case of the first embodiment, the control IC 11 switches its DR terminal between the voltages of the VCC terminal and the GND terminal in response to an input signal applied to its IN terminal. A totem pole type circuit composed of a P-
制御電源2Aが15V、制御電源2Bが15Vで、PチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧が2Vとすると、ツェナーダイオード15Aの選定は15V−2V=13V以上となる。これを14Vとすれば、制御電源2A及び2Bの両方が正常の場合はPチャネルFET12Aを駆動する電圧は30V−14V=16Vとなり、この電圧で駆動可能となる。
Assuming that the
制御電源2Bが喪失した場合、PチャネルFET12Aを駆動する電圧は15V−14V=1V<PチャネルFET12Aのゲートしきい値電圧となるために、PチャネルFET12Aは駆動できなくなる。
When the
このようにツェナーダイオード15Aを選定することにより、実施例1の場合と同様に制御電源2Bによる逆バイアス電圧が喪失したとき、制御用IC11の出力は制御電源2Aによる順バイアス電圧の範囲となり、PチャネルFET12Aの出力を停止させることができる。
By selecting the
本実施例においてもツェナーダイオード14Bの降伏電圧の設定は実施例1ほど厳密でなくてよく、例えばツェナーダイオード14Bの降伏電圧をツェナーダイオード14Aのそれと合わせ14Vとしておく。
Also in this embodiment, the setting of the breakdown voltage of the
制御電源2Aが15V、制御電源2Bが15Vで、NチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧が2Vとすると、制御電源2Aと2Bの両方が正常の場合はNチャネルFET12Bの駆動電圧は30V−14V=16Vとなり、この電圧で駆動可能となる。
If the
抵抗19は抵抗14Bに比べて十分に高抵抗(例えば抵抗14A及び14Bは数十Ω〜数百Ωに対し、抵抗19は数kΩ〜数十kΩとする。)に選定しておくと、制御IC11のDR端子でのスイッチングがGND出力を出している場合でも十分にNチャネルFET12Bのオフ動作が可能となる。また制御電源2Aの正極の電位までNチャネルFET12Bのゲートが上昇するので、NチャネルFET12Bのゲート電圧をツェナーダイオード16でクランプする。これによりNチャネルFET12Bのゲート駆動電圧の最終値はツェナーダイオード16の降伏電圧となる。従って、例えばツェーダイオード16の降伏電圧をツェーダイオード15A、15Bと同じとすることによって部品の共通化を図ることが可能になる。
If the
制御電源2Bが喪失した場合、ツェナーダイオード15Bの降伏電圧とツェナーダイオード15Aの降伏電圧が等しければ、NチャネルFET12Bを駆動する電圧は、15V−14V=1V<NチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧となるために、制御用IC11より供給される電圧ではNチャネルFET12Bは駆動できなくなるが、抵抗19によって制御電源2A側の正電圧が供給されるため、NチャネルFET12Bは駆動可能となる。
When the
よって、制御電源2Bによる逆バイアス電圧が喪失しても、制御用IC11の出力に拘わらずNチャネルFET12Bの出力が可能であるため、IGBT3に対して順バイアスを印加することを阻止し、逆バイアス電圧なしではあるがNチャネルFET12BによりIGBT3のゲート−エミッタ間を連続的に低インピーダンスに保つことが可能となる。
Therefore, even if the reverse bias voltage from the
更に、制御電源2Aと2Bの両者が喪失したとき、IGBT3の主電源が生きていれば、IGBT3のコレクタ−ゲート間の寄生容量によりゲート電圧が上昇するようになるが、抵抗13A−PチャネルFET12Aのドレイン−ソース間の寄生ダイオード−抵抗19のルートでNチャネルFET12Bのゲートにも電圧が印加されるようになるため、IGBT3のゲート−エミッタ間電圧はNチャネルFET12Bのゲートしきい値電圧(2V)+PチャネルFET12Aの寄生ダイオードのVF(0.6V)=2.6V程度でクランプされる。
Further, when both the
また、制御用IC11のVCC端子−GND端子間にIGBT3のゲート−エミッタ間電圧が印加され、DR端子からの出力がオン信号に切り換わっても、PチャネルFET12Aはツェナーダイオード15Aで切り離されているために、誤オンを出力することはない。更に、NチャネルFET12Bの駆動電圧を供給するルートを形成するためにPチャネルFET12Aの寄生ダイオードを使用するが、通常FETの寄生ダイオードの順電流はFETの順方向オン電流と同等の電流耐量を保持しているため、パルス電流を出力するPチャネルFET12B用に新たなダイオードを付加する必要はなく、低コストでIGBT3の誤点弧防止が達成できる。
Even when the gate-emitter voltage of the
また制御IC11は、IN端子に与えられた入力信号に応答してそのDR端子をVCC端子とGND端子との電圧の間でスイッチングすることができるような構成の例えばNPNトランジスタとPNPトランジスタを組み合わせたトーテムポール回路などが適用できることは実施例1の場合と同様である。 In addition, the control IC 11 combines, for example, an NPN transistor and a PNP transistor configured to be able to switch the DR terminal between the voltage of the VCC terminal and the GND terminal in response to the input signal applied to the IN terminal. As in the case of the first embodiment, a totem pole circuit can be applied.
図4は本発明の実施例4に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図である。この実施例4の各部について、図3の実施例3に係る絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路の回路構成図の各部と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。この実施例4が実施例3と異なる点は、ゲート回路1の出力側にトーテムポール型増幅回路1Aを設け、ゲート回路1はこのトーテムポール型増幅回路1Aと並列にIGBT3を駆動するように構成した点である。
FIG. 4 is a circuit configuration diagram of a gate circuit of an insulated gate semiconductor device according to the fourth embodiment of the present invention. In the fourth embodiment, the same parts as those in the circuit configuration diagram of the gate circuit of the insulated gate semiconductor device according to the third embodiment shown in FIG. The fourth embodiment is different from the third embodiment in that a totem pole type amplifier circuit 1A is provided on the output side of the
トーテムポール型増幅回路1Aの内部構成は次の通りである。 The internal configuration of the totem pole type amplifier circuit 1A is as follows.
PチャネルFET12Cのソース端子は制御電源2Aの正極に接続され、ドレイン端子は、抵抗13Cを介してIGBT3のゲートに接続されている。同様に、NチャネルFET12Dのソース端子は制御電源2Bの負極に接続され、ドレイン端子は、抵抗13Dを介してIGBT3のゲートに接続されている。従って、PチャネルFET12C、抵抗13C、抵抗13D及びNチャネルFET12Dで構成される直列回路はトーテムポール接続されている。
The source terminal of the P-channel FET 12C is connected to the positive electrode of the
制御用IC11のDR端子は、抵抗14Cとツェナーダイオード15Cの直列接続体を介してPチャネルFET12Cのゲート端子に接続されている。この直列接続体に並列に、PチャネルFET12Cのゲート端子に電流を流す方向にダイオード20Aが接続されている。同様に、制御用IC11のDR端子は、抵抗14Dとツェナーダイオード15Dの直列接続体を介してNチャネルFET12Dのゲート端子に接続されている。この直列接続体に並列に、NチャネルFET12Dのゲート端子から電流が流れ出す方向にダイオード20Bが接続されている。PチャネルFET12CA及びNチャネルFET12Dに逆並列接続されている破線で示したダイオードはFETの寄生ダイオードである。また、破線で示したツェナーダイオード16AがNチャネルFET12Bのゲート端子とソース端子間に、抵抗19AがNチャネルFET12Bのゲート端子と制御電源2Aの正極間に夫々接続されている。
The DR terminal of the control IC 11 is connected to the gate terminal of the P-channel FET 12C via a series connection body of a
次に動作について説明する。実施例3の場合と同様、制御用IC11はそのIN端子に与えられた入力信号に応答してDR端子から、VCC端子とGND端子間の電圧振幅を有するパルスを出力する。PチャネルFET12C及びNチャネルFET12Dから成るトーテムポール回路は制御用IC11のDR端子からの出力信号を増幅し、抵抗13C及び13Dを介してIGBT3のゲートを充放電する。
Next, the operation will be described. As in the case of the third embodiment, the control IC 11 outputs a pulse having a voltage amplitude between the VCC terminal and the GND terminal from the DR terminal in response to the input signal applied to the IN terminal. A totem pole circuit composed of a P-channel FET 12C and an N-
トーテムポール型増幅回路1Aの動作において、抵抗14C>抵抗14Aとなるように選定すれば、PチャネルFET12Cの動作タイミングをPチャネルFET12Aの動作より遅らせ、抵抗13A>抵抗13Cと選定することによりIGBT3のターンオンタイミングにおいて、IGBT3のしきい値電圧を超えてターンオンするまでは緩やかなゲート充電を行いターンオン時IGBT3の主電流変化率(di/dt)を緩やかにして、その後は低インピーダンスで順方向電圧にゲート−エミッタ間電圧を固定するような動作を行わせることができる。
In the operation of the totem pole type amplifier circuit 1A, if the
ターンオフ時には、抵抗14C>抵抗14AであるためPチャネルFET12Cのゲート放電が遅くなるのを防ぐ目的でダイオード20Aが挿入されている。また抵抗14D>抵抗14Bと選定すれば、NチャネルFET12Dの動作タイミングをNチャネルFET12Bの動作より遅らせ、抵抗13B>抵抗13DとすることでIGBT3のターンオフタイミングでのIGBT3Aのしきい値電圧を超えてターンオフするまでは緩やかなゲート放電を行いターンオフ時IGBT3の主電圧変化率(dv/dt)を緩やかにして、その後は低インピーダンスで逆方向電圧にゲート−エミッタ間電圧を固定するような動作を行わせることができる。またターンオン時には抵抗R14D>R14BであるためNチャネルFET12Dのゲート放電が遅くなるのを防ぐ目的でダイオード20Bが挿入されている。
At the time of turn-off, since the
尚、図4においては、ゲート回路1の出力で直接IGBT3のゲートを駆動するようにしているが、抵抗13Aと13Bのバランスによって充放電時間を決定しにくい場合があるので、その場合はゲート抵抗を介してIGBT3を駆動するようにすれば良い。
In FIG. 4, the gate of the
ここで、トーテムポール型増幅回路1Aにおけるツェナーダイオードの降伏電圧の設定は、実施例1の場合と同様に(ツェナーダイオード15Cの降伏電圧)>(順バイアス電圧−PチャネルFET12Cのゲートしきい値電圧)、(ツェナーダイオード15Dの降伏電圧)>(順バイアス電圧−PチャネルFET12Cのゲートしきい値電圧)とする。 Here, the breakdown voltage of the Zener diode in the totem pole type amplifier circuit 1A is set in the same manner as in the first embodiment (the breakdown voltage of the Zener diode 15C)> (forward bias voltage−gate threshold voltage of the P-channel FET 12C). ), (Breakdown voltage of Zener diode 15D)> (forward bias voltage−gate threshold voltage of P-channel FET 12C).
また、実施例3の場合と同様に抵抗19は抵抗14Bより十分に高抵抗(抵抗14Aと14Bは数十Ω〜数百Ωに対して抵抗19は数kΩ〜数十kΩ)を選定しておけば、制御IC11のDR端子でのスイッチングがGND出力を出している場合でも十分にNチャネルFET12Bのオフ動作が可能となる。また制御電源2Aの正極の電位までNチャネルFET12Bのゲート電位が上昇するので、NチャネルFET12Bのゲート電圧をツェナーダイオード16でクランプする。よってNチャネルFET12Bのゲート駆動電圧の最終値はツェナーダイオード16の降伏電圧となる。
Similarly to the case of the third embodiment, the
上記の構成において、制御電源2Bが喪失した場合、実施例3で説明したとおり、制御用IC11より供給される電圧ではNチャネルFET12Bは駆動できなくなるが、抵抗19より制御電圧2A側の電圧が供給されるため、NチャネルFET12Bは駆動可能となる。
In the above configuration, when the
更に制御電源2A及び2Bの両方が喪失した場合においても、IGBT3の主電源が生きている場合には、抵抗13A−PチャネルFET12Aのドレイン−ソース間の寄生ダイオード−抵抗19のルートでNチャネルFET12Bのゲートにも電圧が印加されるようになるために、IGBT3のゲート−エミッタ間電圧を2.6V程度でクランプ可能となることは実施例3の場合と同様である。
Further, even when both of the
トーテムポール型増幅回路1Aにおける抵抗19Aとツェナーダイオード16Aは破線で記載しているが、これを併用する場合は抵抗19Aの抵抗値と抵抗19の抵抗値を等しくし、ツェナーダイオード16Aの降伏電圧とツェナーダイオード16の降伏電圧を等しくしておけば、連続的に更に信頼性高くIGBT3のゲート−エミッタ間を低インピーダンスに保つ効果が得られる。
The
尚、ゲート回路1における抵抗19とツェナーダイオード16による効果はトーテムポール型増幅回路1Aにおける抵抗19Aとツェナーダイオード16Aの効果と同等であるので、図4の回路構成において、抵抗19とツェナーダイオード16を省き、抵抗19Aとツェナーダイオード16Aによって上述したようにIGBT3のゲート−エミッタ間を低インピーダンスに保つようにしても良い。
Since the effect of the
図4は所謂2段ゲートのゲート回路を示しているが、ゲートの段数が3段になっても、何れかの段のNチャネルFETのゲートをツェナーダイオードで電圧クランプし、また、正側電源の正極に抵抗を介して接続するようにすれば、同様にIGBT3のゲート−エミッタ間を低インピーダンスに保つことが可能になる。
FIG. 4 shows a so-called two-stage gate circuit. Even if the number of gate stages is three, the gate of the N-channel FET of any stage is voltage clamped with a Zener diode, and the positive power supply Similarly, it is possible to maintain a low impedance between the gate and the emitter of the
以上説明した実施例1乃至実施例4においては、IGBT3の主回路構成をブリッジ接続と例示したが、ハーフブリッジ型でインバータを構成しても、3相ブリッジ構成でも同様に適用することができ同等の効果を得ることができる。また、直列接続などを行うブリッジ構成でもまったく同様に適用することができ同等の効果を得ることができる。また、上記実施例では制御対象をIGBTとしたが、同様なMOSゲート入力のパワーデバイスに対しても同様に適用することができ同等の効果を奏する。従って、本願明細書におけるIGBTは、これと同様に動作する絶縁ゲート型半導体素子を全て含むものとする。
In the first to fourth embodiments described above, the main circuit configuration of the
1 ゲート回路
1A トーテムポール型増幅回路
2A、2B 制御電源
3 IGBT
4 フライホイールダイオード
11 制御用IC
12A、12C PチャネルFET
12B、12D NチャネルFET
13A、13B、13C、13D 抵抗
14A、14B、14C、14D 抵抗
15A、15B、15C、15D ツェナーダイオード
16、16A ツェナーダイオード
17 電圧検出器
18 比較回路
19、19A 抵抗
DESCRIPTION OF
4 Flywheel diode 11 Control IC
12A, 12C P-channel FET
12B, 12D N-channel FET
13A, 13B, 13C,
Claims (5)
ソース電極が前記正側電源と直列に接続された負側電源の負極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたNチャネルFETと、
前記正側電源の正極と前記負側電源の負極から制御電圧の供給を受け、指令に従って前記制御電圧の振幅を持つゲート制御パルスを出力するゲート制御パルス発生手段と、
前記ゲート制御パルス発生手段の出力と前記PチャネルFETのゲート電極間に設けられ、アノードが前記ゲート制御パルス発生手段の出力側に接続された第1のツェナーダイオードと第1の抵抗から成る第1の直列回路と、
前記ゲート制御パルス発生手段の出力と前記NチャネルFETのゲート電極間に設けられ、カソードが前記ゲート制御パルス発生手段の出力側に接続された第2のツェナーダイオードと第2の抵抗から成る第2の直列回路と
を具備し、
前記第1のツェナーダイオードの降伏電圧は、前記正側電源の電圧から前記PチャネルFETのゲートしきい値電圧を減算した値より大きく選定し、
前記第2のツェナーダイオードの降伏電圧は、前記負正電源の電圧から前記NチャネルFETのゲートしきい値電圧を減算した値より小さく選定するようにしたことを特徴とする絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路。 A P-channel FET having a source electrode connected to the positive electrode of the positive power supply and a drain electrode connected to the gate electrode of the insulated gate semiconductor element;
An N-channel FET having a source electrode connected to a negative electrode of a negative power source connected in series with the positive power source, and a drain electrode connected to a gate electrode of an insulated gate semiconductor element;
A gate control pulse generating means for receiving a control voltage from a positive electrode of the positive power source and a negative electrode of the negative power source and outputting a gate control pulse having an amplitude of the control voltage according to a command;
A first Zener diode, which is provided between the output of the gate control pulse generating means and the gate electrode of the P-channel FET and whose anode is connected to the output side of the gate control pulse generating means, and a first resistor. A series circuit of
A second Zener diode is provided between the output of the gate control pulse generating means and the gate electrode of the N-channel FET and has a cathode connected to the output side of the gate control pulse generating means and a second resistor. A series circuit of
The breakdown voltage of the first Zener diode is selected to be larger than the value obtained by subtracting the gate threshold voltage of the P-channel FET from the voltage of the positive power supply,
The breakdown voltage of the second Zener diode is selected to be smaller than a value obtained by subtracting the gate threshold voltage of the N-channel FET from the voltage of the negative and positive power supply. Gate circuit.
前記NチャネルFETのゲート電極と前記正側電源の正極間に接続された第3の抵抗と
を備えたことを特徴とする請求項1に記載の絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路。 A third Zener diode having a cathode connected to the gate electrode of the N-channel FET and an anode connected to the source electrode;
2. The gate circuit for an insulated gate semiconductor device according to claim 1, further comprising a third resistor connected between a gate electrode of the N-channel FET and a positive electrode of the positive power supply.
且つ前記正側及び負側電源の喪失時に、前記絶縁ゲート型半導体素子のゲート−エミッタ間をゲートしきい値電圧以下にクランプ可能となるように前記第3の抵抗の値及び前記第3のツェナーダイオードの降伏電圧を選定したことを特徴とする請求項3に記載の絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路。 When the voltage of the negative power supply is lost, the gate-emitter of the insulated gate semiconductor device is continuously set to low impedance,
In addition, when the positive and negative power supplies are lost, the value of the third resistor and the third Zener so that the gate-emitter of the insulated gate semiconductor element can be clamped to a gate threshold voltage or less. 4. The gate circuit for an insulated gate semiconductor device according to claim 3, wherein a breakdown voltage of the diode is selected.
ソース電極が前記正側電源と直列に接続された負側電源の負極に接続され、ドレイン電極が絶縁ゲート型半導体素子のゲート電極に接続されたNチャネルFETと、
入力端と前記PチャネルFETのゲート電極間に設けられ、アノードが前記入力端側に接続された第1のツェナーダイオードと第1の抵抗から成る第1の直列回路と、
前記入力端と前記NチャネルFETのゲート電極間に設けられ、カソードが前記入力端側に接続された第2のツェナーダイオードと第2の抵抗から成る第2の直列回路と
から成るトーテムポール型増幅回路複数個と、
前記正側電源の正極と前記負側電源の負極から制御電圧の供給を受け、指令に従って前記制御電圧の振幅を持つゲート制御パルスを出力して各々の前記トーテムポール型増幅回路の入力端に供給するゲート制御パルス発生手段と
を具備し、
前記複数個のトーテムポール型増幅回路の少なくとも1つに
当該トーテムポール型増幅回路を構成する前記NチャネルFETのゲート電極にカソードを、ソース電極にアノードを接続した第3のツェナーダイオードと、
当該NチャネルFETのゲート電極と前記正側電源の正極間に接続された第3の抵抗と
を設けたことを特徴とする絶縁ゲート型半導体素子のゲート回路。 A P-channel FET having a source electrode connected to the positive electrode of the positive power supply and a drain electrode connected to the gate electrode of the insulated gate semiconductor element;
An N-channel FET having a source electrode connected to a negative electrode of a negative power source connected in series with the positive power source, and a drain electrode connected to a gate electrode of an insulated gate semiconductor element;
A first series circuit including a first Zener diode and a first resistor provided between an input terminal and a gate electrode of the P-channel FET and having an anode connected to the input terminal side ;
A totem pole type amplifier comprising a second Zener diode provided between the input terminal and the gate electrode of the N-channel FET and having a cathode connected to the input terminal side and a second series circuit composed of a second resistor. Multiple circuits,
The control voltage is supplied from the positive electrode of the positive power source and the negative electrode of the negative power source, and a gate control pulse having the amplitude of the control voltage is output according to the command and supplied to the input terminal of each totem pole type amplifier circuit And a gate control pulse generating means for
A third Zener diode having a cathode connected to a gate electrode and an anode connected to a source electrode of the N-channel FET constituting the totem pole amplifier circuit in at least one of the plurality of totem pole amplifier circuits;
A gate circuit for an insulated gate semiconductor element, comprising: a third resistor connected between a gate electrode of the N-channel FET and a positive electrode of the positive power supply.
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