JP4723066B2 - 強化された診断機能付き低電力レーダー式レベル装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
発明の背景
プロセス制御産業では、化学品、パルプ、石油、薬品、食品、およびその他の処理装置内での、固体、スラリー、流体、蒸気、および気体などの物質に関するプロセス変数を監視するために、プロセス変数伝送器が使用される。プロセス変数は、圧力、温度、流量、レベル（表面の高さ）、濁度、密度、濃度、化学組成、およびその他の諸特性を含む。プロセス変数伝送器が、感知されたプロセス変数に関する出力をプロセス制御ループを介して制御室に提供することによって、プロセス処理が監視・制御されることができる。
【０００２】
プロセス制御ループは、プロセス情報に関する信号を通過させることができる、１つあるいはそれ以上の導体の任意の構成であってよい。例えば、プロセス制御ループは、２線式、４−２０ｍＡプロセス制御ループであってよい。このようなプロセス制御ループに接続されたプロセス変数伝送器は、ループを流れている電流の総量を制御するので、電流はプロセス変数に対応する。あるプロセス制御ループの実施例では、励起エネルギレベルが十分に低いので、たとえ故障状態でも、一般的には、ループは放電を生ずる程の電気的エネルギを保有しない。このことは、１９８８年１０月に公表された、分類番号３６１０（CLASS NUMBER 3610）、「I、II、およびIII類、危険区分１（に分類される）配置で使用するための、本質的に安全な装置および関連装置の認可標準（APPROVAL STANDARD INTRINSICALLY SAFE APPARATUS AND ASSOCIATED APPARATUS FOR USE IN CLASS I, II, AND III, DIVISION 1 HAZARDOUS (CLASSIFIED) LOCATION）」と題する工場相互認可基準（Factory Mutual Approval Standard）に示される、本質的に安全な仕様を満たすことを容易にする。このような仕様の充足によって非常に低い電力レベルが確実となるので、所望しない放電を生ずる可能性が低減されるという理由で、本質的な安全を満たすことは、引火性の環境で特に好適である。低電力プロセス変数伝送器は、非常に低いエネルギレベルで作動することができるので、４−２０ｍＡプロセス制御ループから必要とされる全電力を受け取ることができる。プロセス制御ループはまた、ＨＡＲＴ（登録商標）デジタル・プロトコルなどのプロセス産業標準プロトコルによって、ループ上にデジタル信号を重畳させることもできる。
【０００３】
貯蔵容器内の製品（流体あるいは固体のどちらも）のレベル（高さ）を測定するために、これまで低電力時間領域反射レーダー（Low Power Time Domain Reflectometry Radar：ＬＰＴＤＲＲ）装置が用いられてきた。時間領域反射では、マイクロ波導波管（成端としても既知の）を介して、電磁エネルギが発生源から送出されて、不連続面で反射される。受信されたエネルギの進行（伝送）時間は、それが伝送される長さばかりでなく、それが通過する媒体にも依存する。ローレンス・リバーモア・ナショナル・ラボラトリー（Lawrence Livermore National Laboratory）が開発した超低電力インパルスレーダー（Micropower Impulse Radar：ＭＩＲ）がＬＰＴＤＲＲの一つの様式として知られている。
【０００４】
レーダー式レベル伝送器のような、産業市場で用いられる低電力レーダー式レベル装置は、多くの過酷な環境条件に遭遇する。ある設備では、伝送器は、振動および／あるいは極度の温度変動を受けやすい。このような条件は、マイクロ波発生回路と導波管との間の物理的結合に悪影響を及ぼすことがある。結合が弱まるか、または遮断されると、伝送器がプロセス製品レベルの示数を提供する能力に悪影響が及ぼされる。さらに、導波管がプロセス製品内に埋没されると、レベル出力に誤差が誘発されることがある。
【０００５】
プロセス製品レベル測定技術が進歩するにつれて、レベル出力の正確さおよび精度が低下した状態を確認できるレーダー式レベル測定装置を提供することが必要となる。誤ったレベル出力を発生するのではなく、装置の故障状態が迅速に確認・補修されるので、このような装置によってプロセスの制御と維持が強化されであろう。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
発明の概要
強化された診断機能を有する低電力レーダー式レベル装置が開示される。マイクロ波トランシーバがマイクロ波信号を発生し、該マイクロ波信号は、基準インピーダンス不連続面を介して、成端（termination）に沿って進行し、プロセス製品の界面内に到達する。信号の第１部分が基準インピーダンス不連続面によって反射され、第２部分がプロセス製品の界面によって反射される。診断信号が、第１反射部分の特性に基づいて提供される。レベル出力が、第１および第２反射部分に基づいて提供される。
【０００７】
本発明の特徴は、当該技術水準を超えて重大な利点を提供する。低電力レーダー式レベル装置は、現在は、プロセス製品内に延在する成端に関する診断法を提供することができる。このような診断情報が、より効果的なシステムの維持ばかりでなくより正確なプロセスの制御を促進する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
好ましい実施例の詳細な説明
本発明を、診断が実行される低電力レーダー式レベル伝送器および方法を参照して説明するが、添付の請求項によって定義される本発明の精神や範囲を逸脱することなく、詳細や形式上の変更が可能なことを当業者は理解するであろう。
【０００９】
図１は、プロセス製品１４、１８、および２１をそれぞれ含む１２、１３、および１７に組込まれた環境で作動する低電力レーダー式レベル伝送器１００を示す。低電力レーダー式伝送器のように、伝送器１００は、４−２０ｍＡプロセス制御ループを介して受け取られたエネルギで完全に給電されることができる。
【００１０】
レベル伝送器１００はハウジング１６および成端１１０を含む。伝送器１００は、図１に示されるような様々な形態でプロセス制御ループ２０に接続される。伝送器１００は、プロセス制御ループ２０を介して、プロセス制御ループ２０に接続された制御室３０（電源および抵抗として模式的に示される）あるいは他のデバイス（図示されず）に、プロセス製品の（表面）高さに関する情報を伝送する。ループ２０は、伝送器１００用の電源であり、４−２０ｍＡ、プロフィバス（Profibus）、ハイウェイ・アドレサブル・リモート・トランスデューサ（Highway Addressable Remote Transducer：ＨＡＲＴ：登録商標）、あるいはＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮ（登録商標）フィールドバスなど任意の産業標準通信プロトコルを用いることができる。
【００１１】
ＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮ（登録商標）フィールドバスは、現場装置とプロセス制御システム内のその他のプロセスデバイスとを接続することを目的とする多分岐デジタル通信プロトコルである。ＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮ（登録商標）フィールドバスプロトコルの物理的層は、米国器械協会（Instrument Society of America）標準ＩＳＡ―Ｓ５０．０２―１９９２、および１９９５年に拡張された、その草案２によって定義される。
【００１２】
図１は、レーダー式レベル伝送器が有効となる、様々な用法を示す。例えば、タンク１２内のプロセス製品１４は、その上方に空気が充満された流体であるが、一方タンク１３内のプロセス製品１８は固体である（静止状態で、ある一定角度を有するように示される）。タンク１７内のプロセス製品２１は流体であり、その高さ（レベル）は、成端１１０の１つがその内部へ延長しているチューブ２３に伝えられる。タンク１２、１３、および１７が図１に示されるが、実施例は、レーク（lake）あるいは貯槽部などのように、タンクなしの場合にも適応されることができる。
【００１３】
図２は、プロセス制御ループ２０を介して制御室３０に接続された低電力レーダー式レベル伝送器１００のブロック図である。伝送器１００のハウジング１６内に搭載される電子回路は、コントローラ１３０、低電力マイクロ波トランシーバ１４０、ループ通信手段１４３、および電源モジュール４０を含む。伝送器１００はまた、タンク１２内に含まれるプロセス製品１４内に延在する成端１１０をも含む。伝送器１００の電子部品についての追加情報、さらにそれらの電子部品間の様々な相互作用については、１９９９年５月２７に出願された「低減されたグランド・ループ・エラー（Ground Loop Errors）を有する低電力レーダー式レベル伝送器」と題する、本発明の譲受人に譲渡された、出願中の米国特許出願番号０９／３２１，１４３を参照されたい。
【００１４】
成端１１０は、タンク１２内のプロセス製品１４にまで延伸可能である。このような形態（ここでは、成端がプロセス製品に実際に接する）は、接触式レベル測定として既知である。成端１１０は、レベル伝送器技術において既知であり、任意の適当な伝送線、導波管あるいはアンテナであることができる。成端１１０はまた、接触プローブ、あるいは単なるプローブなどと呼ばれることもある。伝送線は、１つの場所から他の場所への連続経路を形成する物質境界面（material boundaries）システムであり、この経路に沿って電磁エネルギの伝送を管理することができる。ある実施例では、成端１１０は、底部１２５で接続され、タンク１２内の製品１４内にまで伸張できるリード線あるいは導線１１５および１２０を有する双リード線アンテナであり、任意的に、放射プレート１５５を有することができる。成端１１０はまた、任意の適当な数のリード線を有する単極、同軸、２線、単線、あるいはマイクロストリップ式の成端であってもよい。
【００１５】
低電力マイクロ波トランシーバ（送受信器）１４０が、成端１１０に作動的に接続される。トランシーバ１４０は、低電力レーダー式レベル伝送器１００の電力制限内で作動可能な、任意の低電力マイクロ波トランシーバであってよい。例えば、トランシーバ１４０は、トーマス，イー．マクエワン（Thomas E. McEwan）に付与された２つの米国特許、すなわち「電子多目的物質レベルセンサ」と題する米国特許番号５，６０９，０５９号、および「高精度電子物質レベルセンサ」と題する米国特許番号５，６１０，６１１号、のどちらにも詳細に説明される様式の超低電力インパルスレーダー（Micropower Impulse Radar：ＭＩＲ）式トランシーバであってよい。
【００１６】
トランシーバ１４０は、成端１１０に沿って導かれるマイクロ波信号を発生し、基準インピーダンス不連続面（放射プレート１５５のような）から反射されるマイクロ波信号を受信するように適応される。基準インピーダンス不連続面は、周辺のそれとは段階的に異なる局所インピーダンスを有する被伝送マイクロ波信号の通路内に配置された任意の部品（component）である。このような不連続面の例は、放射プレート１５５、コンデンサの組、あるいはその他の適当な部品である。伝送信号は、例えば、約２５０ＭＨｚと約２０ＧＨｚかそれ以上の周波数との間の任意の広い周波数レンジのものであってよい。
【００１７】
１つの実施例では、伝送信号の周波数は約２ＧＨｚである。他の実施例では、伝送信号のパルスの幅は、約５００ＭＨｚから５ＧＨｚの間の周波数におおよそ対応する、約２００ピコ秒から約２ナノ秒の間である。界面１２７は、典型的には、空気と製品との界面であるが、互いに異なる誘電定数を有する２つの物質間の任意の境界面であってもよい。このように、界面１２７は、空気と製品との界面、あるいは一方の製品が他方の製品の頂部上に収納された、製品と製品との界面であってよい。
【００１８】
コントローラ１３０は、マイクロ波トランシーバ１４０に接続され、反射マイクロ波信号に基づいてプロセス製品の高さを計算するように適応される。コントローラ１３０はまた、基準不連続面で反射された第１反射信号の特性に基づいて診断信号を提供することもできる。ある実施例では、診断信号は、第１反射信号の振幅に依存する。コントローラ１３０は、反射パルスからデータを導き出すための既知の数学的関数を用いる。このような数学的関数は、例えば、パルス信号の振幅、持続（flight）時間、パルススロープ（傾斜）、およびパルス面積について演算することができる。コントローラ１３０は、反射信号の持続時間の関数としてプロセス製品１４の高さを計算する。
【００１９】
ループ通信手段１４３は、コントローラ１３０に接続されると共に、端子４１を介してプロセス制御ループ２０に接続されることができる。ループ通信手段１４３は、プロセス製品の高さに関する情報ばかりでなく診断情報をも、プロセス制御ループ２０を介して伝送するように適応される。このような情報は、ループ通信手段１４３によって、既知のユニバーサル非同期レシーバ伝送器（Universal Asynchronous Receiver Transmitter：ＵＡＲＴ）（図示されず）のような任意の適当な回路を用いて、２線式ループ２０を介して、デジタル的に伝送されることができる。その代わりに、ループ通信手段１４３は、デジタル／アナログ変換器あるいはその他の適当なデバイスを用いて、例えば４ｍＡと２０ｍＡの間にループ電流レベルを制御することができる。この方法によって、伝送器１００は、制御室３０、あるいはプロセス制御ループ２０に接続された、その他のコントローラまたはデバイスに、製品の高さ情報および診断情報を伝送することができる。
【００２０】
電源モジュール４０は、低電力マイクロ波トランシーバ１４０、コントローラ１３０、およびループ通信手段１４３に接続される。電源モジュール４０はプロセス制御ループ２０に接続されてループ２０から電力を受け取り、受け取った電力を低電力マイクロ波トランシーバ１４０、コントローラ１３０、およびループ通信手段１４３に供給する。電源モジュール４０はまた、受け取った電力を、トランシーバ１４０、コントローラ１３０、およびループ通信手段１４３用に適合させることもできる。
【００２１】
動作中、トランシーバ１４０は、成端１１０に提供されるマイクロ波信号を発生する。当該技術で既知のように、第１反射部分が基準インピーダンス不連続面（放射プレート１５５のような）で反射され、第２反射部分が製品１４と空気との間の界面１２７（あるいは、異なる誘電定数を有する任意の２つの物質間の界面）で反射される。反射された第１および第２部分は、成端１１０のリード線１１５および１２０を逆方向に進行し、トランシーバ１４０によって受信される。反射された第１部分はまた、基準パルスとしても既知である。
【００２２】
不連続面１５５で、マイクロ波信号の第１反射（基準パルス）が発生することによって、適当な基準が、界面１２７で反射された信号が受信される時間との比較のために有効にされる。典型的には、反射された第１部分（すなわち、基準パルス）の到達と反射された第２部分の到達との時間間隔が測定され、それはプロセス製品レベルに関連する。この伝播時間は、マイクロ波が進行した距離を表し、結局はタンク１２内のプロセス製品１４のレベルを表す。前記伝播の距離と時間との関係が式１に示される。
【００２３】
Ｄ＝（１／√ε_R）Ｃ（Ｔ／２） 式１
ここで、
Ｔ／２はマイクロ波パルスの進行時間（マイクロ波パルスがプローブに沿って界面まで進行するのに必要とされる進行時間）の２分の１、
ε_Rはマイクロ波パルスが伝播する媒体の誘電定数（空気の場合は、ε_R＝１）、
Ｃは光速であり、また
Ｄはプローブの頂部から界面までの進行距離である。
【００２４】
様々な実施例の１つの特徴は、反射された第１部分から成端に関する診断信号を得ることができることである。例えば、現時点で測定された基準パルスの振幅と正常状態で測定された基準パルスの振幅との比較が、特定の診断情報を生ずる。
【００２５】
図３Ａ〜３Ｃは、本発明の実施例による低電力レーダー式レベル装置の異なる動作状態を示す信号図である。
【００２６】
図３Ａは、正常状態で反射されたマイクロ波伝送信号の信号図である。反射信号は第１反射部分すなわち基準パルス１６０、および第２反射部分１６２を含む。前述のように、部分１６０と１６２との間隔は、プロセス製品の高さを表す。パルス１６０が、上限１６６と下限１６８との間に存在する局所的な極小、すなわちパルスの谷１６４を含むことも、図から理解されるであろう。限界１６６および１６８は、典型的には、伝送器１００の設定動作（comissioned）中、あるいは較正中などのような、既知の正常動作中に設定される。したがって、前記谷１６４が限界１６６と１６８との間にあることが観測される時は、伝送器１００が適正に機能していること、およびレベル情報が信頼できるものであることを示す診断出力が提供される。
【００２７】
図３Ｂは、成端１１０がプロセス製品によって完全に埋没された時の、反射されたマイクロ波伝送信号の信号図である。基準インピーダンス不連続面１５５にプロセス製品が接触してしまい、プロセス製品が不連続面１５５を埋没してしまうと、基準パルスの反射が著しく変化するので、そのことによって、埋没された状態が診断されることができる。このように、基準パルス１６０の谷１６４が上限１６６よりも大きい時、成端が埋没されたことを表す診断情報が提供されることができる。
【００２８】
診断情報は、警報の形式か、レベル情報の信頼性を表すようなその他の適切な形式であってよい。この診断情報は、プローブが完全に埋没されるか、または基準不連続面付近にエアギャップ（air gap）を有することができるような、変位式ケージ（displacer cage）の実施例（図１のタンク２１を参照のこと）において特に有効である。エアギャップは、空気と液体との誘電定数の違いによって、レベル情報に不正確さ（誤差）を誘起することがある。このように、様々な実施例によるレベル計測器は、エアギャップが存在するか否かを計算し、プロセス製品のレベルの計算のために適当な誘電定数を選択することができる。
【００２９】
図３Ｃは、成端１１０とトランシーバ１４０との間の接続が遮断されるか、またはそうでなければ不良（degraded）になった時に反射される、マイクロ波伝送信号の信号図である。図に見られるように、パルス１６０の谷１６４は、下限閾値１６８より下に位置する。この信号は、成端１１０とトランシーバ１４０との間の遮断に起因する。本質的には、基準インピーダンス不連続面は、ケーブルと空気との不連続面に置き換えられる。このような置き換えによって、パルス１６０の振幅が大きくなるか、または飽和してしまう。伝送器１００はこのような状態を認識し、適切な診断情報を提供する。
【００３０】
診断機能付き低電力レーダー式レベル（計測）装置の実施例を、上限および下限値１６６、１６８に関して説明してきたが、単一の限界値に関しても、この実施例が実行可能なことが特筆されなければならない。例えば、成端の埋没を表す診断情報が所望される全てである場合は、単一の閾値が用いられることができる。このうように、パルスの谷１６４と単一の閾値との比較は、所望の診断情報を提供するであろう。
【００３１】
図４は、本発明の実施例による方法を示すブロック図である。この方法は、マイクロ波信号が発生され、基準インピーダンス不連続面を介して、前記マイクロ波信号がマイクロ波成端に沿って指向されるブロック２５０で開始する。ブロック２５２で、マイクロ波信号の第１部分が基準インピーダンス不連続面で反射され、受信される。ブロック２５４で、第１反射部分の特性に基づいて、診断情報が計算される。診断情報は、第１反射部分の振幅に依存し、正常作動状態、成端が埋没された状態、または成端が遮断された状態を表すものであることができる。任意的なブロック２５６で、第１部分の受信、およびプロセス製品の界面から反射された第２部分の受信に基づいて、プロセス製品の高さが計算されることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例による低電力レーダー式レベル装置の環境の概略図である。
【図２】 本発明の実施例の回路を示すブッロク図である。
【図３Ａ】 本発明の実施例による低電力レーダー式レベル装置の異なる動作状態を示す信号図である。
【図３Ｂ】 本発明の実施例による低電力レーダー式レベル装置の異なる動作状態を示す信号図である。
【図３Ｃ】 本発明の実施例による低電力レーダー式レベル装置の異なる動作状態を示す信号図である。
【図４】 本発明の実施例による診断出力の提供方法を示すシステムブロック図である。
【符号の説明】
１２、１３、１７……貯蔵タンク、１４、１８、２１……プロセス製品、１６……ハウジング、２０……プロセス制御ループ、３０……制御室、４０……電源モジュール、４１……端子、１００……低電力レーダー式レベル伝送器、１１０……成端、１１５、１２０……リード線、１２５……底部、１２７……界面、１３０……コントローラ、１４０……マイクロ波トランシーバ、１４３……ループ通信手段、１５５……放射プレート

Claims (15)

1. 強化された診断機能を有する低電力レーダー式レベル装置であって、
   プロセス製品の高さを測定するための基準となり且つプロセス製品に埋没しうる位置にある基準インピーダンス不連続面を有し、プロセス製品の界面を介してプロセス製品内に延在することができるプローブ、
   前記プローブに接続されて、前記プローブに沿ってプロセス製品内に伝送されるマイクロ波伝送パルスを生ずるように構成されたトランシーバであって、前記伝送パルスの第１部分が基準インピーダンス不連続面で反射されて第１反射波パルスを形成し、前記伝送パルスの第２部分が製品の界面で反射されて第２反射波パルスを形成し、前記反射された第１および第２部分を受信するように構成されたトランシーバ、および
   前記トランシーバに接続されて、前記反射された第１部分の振幅の関数として診断信号を提供するように構成され、また前記反射された第２部分の到達と前記反射された第１部分の到達との時間間隔に基づいて、前記プロセス製品の高さを表すレベル出力を提供するように構成されたプロセッサを含み、
   前記診断信号が表す状態に、前記プローブがプロセス製品によって完全に埋没された状態と、前記プローブが前記レベル装置から遮断された状態と、が含まれ、
   前記プローブが、前記プロセス製品の高さがその内部に伝わるチューブの内部に配置されていることを特徴とするレベル装置。
2. 前記基準インピーダンス不連続面が放射プレートを含む請求項１のレベル装置。
3. 前記トランシーバがマイクロ波インパルスレーダー式トランシーバである請求項１のレベル装置。
4. 前記レベル装置が、プロセス制御ループに接続されたレーダー式レベル伝送器であり、プロセス制御ループ上にレベル出力を伝送するように構成された請求項１のレベル装置。
5. 前記レベル装置が、さらにプロセス産業標準プロトコルによってレベル出力を伝送するように構成されたループ通信手段を含む請求項４のレベル装置。
6. 前記プロトコルが、ハイウェイ・アドレサブル・リモート・トランスデューザ、およびＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮフィールドバスからなるグループから選択された請求項５のレベル装置。
7. 前記プロセス制御ループが４−２０ｍＡプロセス制御ループである請求項４のレベル装置。
8. 前記伝送器が前記プロセス制御ループによって完全に給電される請求項４のレベル装置。
9. 前記マイクロ波伝送パルスの幅が、約２００ピコ秒から約２ナノ秒の範囲である請求項１のレベル装置。
10. 前記診断出力が、反射された第１部分の振幅と、少なくとも１つの予め選択された限界との比較に基づく請求項１のレベル装置。
11. 前記少なくとも１つの予め選択された限界が、上限および下限の少なくとも１つを含む請求項１０のレベル装置。
12. 強化された診断機能を有する低電力レーダー式レベル装置であって、
    マイクロ波エネルギを、プロセス製品の高さを測定するための基準となり且つプロセス製品に埋没しうる位置にある基準インピーダンス不連続面を介して導き、さらにプロセス製品の界面を通過してプロセス製品内まで到達させる導波手段、
    前記導波手段に沿って伝送されるマイクロ波伝送パルスの発生手段であって、前記伝送パルスの第１部分が前記基準インピーダンス不連続面で反射されて第１反射波パルスを形成し、前記伝送パルスの第２部分が製品の界面で反射されて第２反射波パルスを形成する手段、
    前記反射波パルスの受信手段、および
    前記反射された第１部分の振幅の関数として診断信号を提供するように構成され、かつ前記反射された第２部分の第２部分の到達と前記反射された第１部分の到達との時間間隔に基づいて、プロセス製品の高さを表すレベル出力を提供するように構成された手段とを含み、
    前記診断信号が表す状態に、前記導波手段がプロセス製品によって完全に埋没された状態と、前記導波手段が前記レベル装置から遮断された状態と、が含まれ、
    前記導波手段が、前記プロセス製品の高さがその内部に伝わるチューブの内部に配置されていることを特徴とするレベル装置。
13. 低電力レーダー式レベル装置に関して、強化された診断法を提供する方法であって、
    マイクロ波伝送パルスを発生し、プロセス製品のレベルを測定するための基準となり且つプロセス製品に埋没しうる位置にある基準インピーダンス不連続面を介して前記伝送パルスを指向すること、
    前記基準インピーダンス不連続面からの第１反射波パルスを受信すること、
    前記第１反射波の振幅に基づいて診断出力を提供すること、
    前記マイクロ波伝送パルスをプロセス製品の界面へ指向すること、
    前記プロセス製品の界面からの第２反射波部分を受信すること、および
    前記第１反射波部分の受信と前記第２反射波部分の受信とに基づいて、プロセス製品のレベル出力を提供することを含み、
    前記診断出力の表す状態に、前記基準不連続面が少なくとも部分的にプロセス製品内に埋没されたかどうかと、マイクロ波導波管の電気的遮断と、が含まれ、
    前記マイクロ波導波管が、前記プロセス製品の高さがその内部に伝わるチューブの内部に配置されていることを特徴とする方法。
14. 前記診断出力を提供することが、第１反射波の振幅と少なくとも１つの予め選択された限界との比較を含む請求項１３の方法。
15. 低電力レーダー式レベル装置と結合させられたプロセッサ上で実行するための命令が記憶された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、
    導波管に沿って伝送されるマイクロ波伝送パルスを低電力マイクロ波レベル装置に発生させる命令であって、前記伝送パルスの第１部分がプロセス製品の高さを出力するための基準となり且つプロセス製品に埋没しうる位置にある基準インピーダンス不連続面で反射されて第１反射波パルスを形成し、かつ前記伝送パルスの第２部分が製品の界面で反射されて第２反射波パルスを形成する命令、
    前記反射波パルスを受信する命令、
    および前記反射された第１部分の振幅の関数として診断信号を発生し、前記反射された第１部分の到達と前記反射された第２部分の到達との時間間隔に基づいて、プロセス製品の高さを表すレベル出力を発生する命令とを含み、
    前記診断信号が表す状態に、前記導波管がプロセス製品によって完全に埋没された状態と、前記導波管が前記レベル装置から遮断された状態と、が含まれ、
    前記導波管が、前記プロセス製品の高さがその内部に伝わるチューブの内部に配置されていることを特徴とする記憶媒体。

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