JP4722566B2 - LCD panel - Google Patents

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Description

本発明は、画素電極を駆動する薄膜トランジスタ上でゲート信号線とドレイン信号線とが直交する薄膜トランジスタ基板を有する液晶表示パネルに関する。   The present invention relates to a liquid crystal display panel having a thin film transistor substrate in which a gate signal line and a drain signal line are orthogonal to each other on a thin film transistor for driving a pixel electrode.

現在、液晶表示パネルにおいて、パッシブマトリクス型液晶表示パネル、及び、アクティブマトリクス型液晶表示パネルの2つの種類が存在している。この中でも、応答速度、視野角、及び、コントラストが改善されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルが主流となっている。このアクティブマトリクス型液晶表示パネルは、画素毎に着色樹脂が形成された光透過性のカラーフィルタ基板と、画素毎に薄膜トランジスタ、もしくは、非線形素子が形成された光透過性の薄膜トランジスタ基板とが、液晶層を挟持して形成されている。   Currently, there are two types of liquid crystal display panels: passive matrix liquid crystal display panels and active matrix liquid crystal display panels. Among these, active matrix liquid crystal display panels with improved response speed, viewing angle, and contrast are the mainstream. This active matrix liquid crystal display panel includes a light transmissive color filter substrate in which a colored resin is formed for each pixel, and a light transmissive thin film transistor substrate in which a thin film transistor or a nonlinear element is formed in each pixel. It is formed by sandwiching layers.

この液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板には、フォトリソグラフィにより、複数の薄膜トランジスタが形成されている。その複数の薄膜トランジスタにおいて、液晶表示パネルの表示ムラを抑えて液晶表示パネルの品質を向上し、液晶表示パネルの歩留まりを向上させるために、各薄膜トランジスタの特性が同一の特性になるように様々な工夫がなされている。   A plurality of thin film transistors are formed on the thin film transistor substrate of the liquid crystal display panel by photolithography. In order to improve the quality of the liquid crystal display panel by suppressing display unevenness of the liquid crystal display panel and to improve the yield of the liquid crystal display panel in the plurality of thin film transistors, various measures are taken so that the characteristics of each thin film transistor become the same characteristics. Has been made.

なお、1つの画素に対して2つの薄膜トランジスタを設けることで、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタにおける特性をほぼ同一とする技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   A technique has been proposed in which two thin film transistors are provided for one pixel so that the characteristics of the thin film transistors on the thin film transistor substrate are substantially the same (for example, see Patent Document 1).

また、外部からのゲート信号線に接続されたゲート電極、及び、外部からのソース信号線に接続されたソース電極が互いに直交し、各薄膜トランジスタをソース信号線に対して1行毎に左右交互に形成することで、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタにおける特性をほぼ同一とする技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開平05−251700号公報 特開平10−090718号公報
In addition, the gate electrode connected to the external gate signal line and the source electrode connected to the external source signal line are orthogonal to each other, and each thin film transistor is alternately arranged on the left and right in each row with respect to the source signal line. A technique has been proposed in which the characteristics of the thin film transistors on the thin film transistor substrate are made substantially the same (see, for example, Patent Document 2).
JP 05-251700 A JP-A-10-090718

ところで、フォトリソグラフィによった製造過程のゴミにより、局所的に薄膜トランジスタのパターンがずれてしまう。薄膜トランジスタのパターンがずれた場合、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタにおける寄生容量等の特性が局所的に急峻に変動し、液晶表示パネルに表示ムラが発生してしまう。   By the way, the pattern of the thin film transistor is locally shifted due to dust in the manufacturing process by photolithography. When the pattern of the thin film transistor is deviated, characteristics such as parasitic capacitance in each thin film transistor of the thin film transistor substrate are locally abruptly changed, and display unevenness occurs in the liquid crystal display panel.

本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタにおける寄生容量がほぼ同一である液晶表示パネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel in which the parasitic capacitances of the thin film transistors of the thin film transistor substrate are substantially the same.

本発明では、上記課題を解決するために、図2に例示するように、画素電極を駆動する薄膜トランジスタ10上でゲート信号線11とドレイン信号線13とが直交する薄膜トランジスタ基板を有する液晶表示パネルにおいて、ゲート電極12上のドレイン電極14は、ドレイン信号線13に接続されている第1のドレイン電極部分14aと外側方向に伸びている第2のドレイン電極部分14bとを有し、ゲート電極12上の第1のドレイン電極部分14aとゲート電極12上の第2のドレイン電極部分14bとが、薄膜トランジスタ10の中心から点対称であることを特徴とする液晶表示パネルが提供される。   In the present invention, in order to solve the above problems, as illustrated in FIG. 2, in a liquid crystal display panel having a thin film transistor substrate in which a gate signal line 11 and a drain signal line 13 are orthogonal to each other on a thin film transistor 10 for driving a pixel electrode. The drain electrode 14 on the gate electrode 12 has a first drain electrode portion 14 a connected to the drain signal line 13 and a second drain electrode portion 14 b extending in the outward direction. A liquid crystal display panel is provided in which the first drain electrode portion 14 a and the second drain electrode portion 14 b on the gate electrode 12 are point-symmetric from the center of the thin film transistor 10.

このような液晶表示パネルによると、ゲート電極12がずれて形成され、もしくは、ドレイン電極14及びソース電極15がずれて形成されても、各薄膜トランジスタ10のゲート電極12とドレイン電極14とによった寄生容量は変化しないので、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタ10における寄生容量をほぼ同一とすることができる。   According to such a liquid crystal display panel, even if the gate electrode 12 is formed in a shifted manner, or the drain electrode 14 and the source electrode 15 are formed in a shifted manner, it depends on the gate electrode 12 and the drain electrode 14 of each thin film transistor 10. Since the parasitic capacitance does not change, the parasitic capacitance in each thin film transistor 10 of the thin film transistor substrate can be made substantially the same.

本発明では、ゲート電極上におけるドレイン信号線に接続されている第1のドレイン電極部分、及び、ゲート電極上における外側方向に伸びている第2のドレイン電極部分が、薄膜トランジスタの中心から点対称となるようにする。   In the present invention, the first drain electrode portion connected to the drain signal line on the gate electrode and the second drain electrode portion extending outwardly on the gate electrode are point-symmetric from the center of the thin film transistor. To be.

このようにすると、ゲート電極がずれて形成され、もしくは、ドレイン電極及びソース電極がずれて形成されても、各薄膜トランジスタのゲート電極とドレイン電極とによった寄生容量は変化しないので、薄膜トランジスタ基板の各薄膜トランジスタにおける寄生容量をほぼ同一とすることができる。よって、液晶表示パネルの表示ムラを抑えることができる。   In this way, even if the gate electrode is formed in a shifted manner or the drain electrode and the source electrode are formed in a displaced manner, the parasitic capacitance due to the gate electrode and the drain electrode of each thin film transistor does not change. The parasitic capacitance in each thin film transistor can be made substantially the same. Therefore, display unevenness of the liquid crystal display panel can be suppressed.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
まず、本発明の実施の形態の液晶表示パネルについて説明する。図1は、液晶表示パネルを示す図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a diagram showing a liquid crystal display panel.

液晶表示パネルは、画素毎に薄膜トランジスタ(図示せず)が形成された薄膜トランジスタ基板1と、画素毎に着色樹脂が形成されたカラーフィルタ基板3とが、液晶層2を挟持して形成されている。   In the liquid crystal display panel, a thin film transistor substrate 1 in which a thin film transistor (not shown) is formed for each pixel and a color filter substrate 3 in which a colored resin is formed for each pixel are formed with a liquid crystal layer 2 interposed therebetween. .

画素毎に薄膜トランジスタ(図示せず)を有する薄膜トランジスタ基板1は、各画素に対応するカラーフィルタ基板3の透明電極(図示せず)と薄膜トランジスタ基板1の透明電極(図示せず)とを駆動することで、各画素の明るさを調節する。   The thin film transistor substrate 1 having a thin film transistor (not shown) for each pixel drives a transparent electrode (not shown) of the color filter substrate 3 and a transparent electrode (not shown) of the thin film transistor substrate 1 corresponding to each pixel. To adjust the brightness of each pixel.

複数の液晶分子(図示せず)を有する液晶層2は、カラーフィルタ基板3の透明電極と薄膜トランジスタ基板1の透明電極との電圧差に応じ、バックライトユニット(図示せず)から照射された光をカラーフィルタ基板3に通過させるか否かを決定する。例えば、所定の電圧差以上である場合、液晶分子が応答してバックライトユニットから照射された光をカラーフィルタ基板3に通過させる。また、所定の電圧差より小さい場合、液晶分子が応答しないでバックライトユニットから照射された光をカラーフィルタ基板3に通過させない。   The liquid crystal layer 2 having a plurality of liquid crystal molecules (not shown) is irradiated with light from a backlight unit (not shown) according to the voltage difference between the transparent electrode of the color filter substrate 3 and the transparent electrode of the thin film transistor substrate 1. Whether to pass through the color filter substrate 3 is determined. For example, when the voltage difference is equal to or larger than a predetermined voltage difference, the light irradiated from the backlight unit in response to the liquid crystal molecules passes through the color filter substrate 3. If the voltage difference is smaller than the predetermined voltage difference, the liquid crystal molecules do not respond and the light irradiated from the backlight unit is not passed through the color filter substrate 3.

画素毎に着色樹脂を有するカラーフィルタ基板3は、光の3原色の組み合わせにより、様々な色の表示を可能とする。複数の画素の着色樹脂による各原色の明るさを調整することで様々な色の表示を可能とし、カラーフィルタの役割を果たす。   The color filter substrate 3 having a colored resin for each pixel enables display of various colors by combining the three primary colors of light. By adjusting the brightness of each primary color by the colored resin of a plurality of pixels, it is possible to display various colors and serve as a color filter.

このような液晶表示パネルにおいて、画素毎の薄膜トランジスタにより、各画素に対応するカラーフィルタ基板3の透明電極と薄膜トランジスタ基板1の透明電極とが駆動される。各透明電極が駆動されたことによった電圧差に応じ、画素毎の液晶分子により、バックライトユニットから照射された光をカラーフィルタ基板3に通過させるか否かが決定され、各画素の明るさが調節される。これらの複数の画素の着色樹脂によった光の3原色の組み合わせにより、所定の場所の色が決定され、それらが集まって様々な画像の表示が可能とされる。   In such a liquid crystal display panel, the transparent electrode of the color filter substrate 3 and the transparent electrode of the thin film transistor substrate 1 corresponding to each pixel are driven by the thin film transistor for each pixel. Depending on the voltage difference resulting from the driving of each transparent electrode, whether or not the light emitted from the backlight unit is allowed to pass through the color filter substrate 3 is determined by the liquid crystal molecules for each pixel. Is adjusted. The combination of the three primary colors of light using the colored resin of the plurality of pixels determines the color at a predetermined location, and these can be collected to display various images.

次に、薄膜トランジスタ基板1に複数個形成された薄膜トランジスタについて説明する。図2は、薄膜トランジスタを示す図である。
ゲート信号線11に接続されたゲート電極12は、チャネル16に接している。このチャネル16を、ドレイン信号線13に接続されたドレイン電極14と透明電極(図示せず)に接続されたソース電極15とが挟持している。このドレイン電極14は、ドレイン信号線13に接続されている第1のドレイン電極部分14aと外側方向に伸びている第2のドレイン電極部分14bとを有している。ゲート信号線11、及び、ドレイン信号線13は、薄膜トランジスタ10がマトリクス状に形成されていない領域で、それぞれ、ゲートドライバ回路(図示せず)、及び、ドレインドライバ回路(図示せず)に接続されている。
Next, a plurality of thin film transistors formed on the thin film transistor substrate 1 will be described. FIG. 2 shows a thin film transistor.
The gate electrode 12 connected to the gate signal line 11 is in contact with the channel 16. The channel 16 is sandwiched between a drain electrode 14 connected to the drain signal line 13 and a source electrode 15 connected to a transparent electrode (not shown). The drain electrode 14 has a first drain electrode portion 14 a connected to the drain signal line 13 and a second drain electrode portion 14 b extending outward. The gate signal line 11 and the drain signal line 13 are connected to a gate driver circuit (not shown) and a drain driver circuit (not shown), respectively, in regions where the thin film transistors 10 are not formed in a matrix. ing.

薄膜トランジスタ10は、Al、及び、Mo等を用いたフォトリソグラフィにより、透明基板である薄膜トランジスタ基板1に対し、ゲート信号線11、ゲート電極12、ゲート絶縁膜(図示せず)、チャネル16、ドレイン信号線13、ドレイン電極14、ソース電極15、絶縁膜(図示せず)、及び、透明電極の順に形成される。ゲート信号線11、及び、ゲート電極12は同時に同一の材料で形成され、ドレイン信号線13、ドレイン電極14、及び、ソース電極15も同時に同一の材料で形成される。この薄膜トランジスタ10は、マトリクス状に複数個形成される。   The thin film transistor 10 includes a gate signal line 11, a gate electrode 12, a gate insulating film (not shown), a channel 16, and a drain signal with respect to the thin film transistor substrate 1, which is a transparent substrate, by photolithography using Al, Mo, or the like. A line 13, a drain electrode 14, a source electrode 15, an insulating film (not shown), and a transparent electrode are formed in this order. The gate signal line 11 and the gate electrode 12 are simultaneously formed of the same material, and the drain signal line 13, the drain electrode 14 and the source electrode 15 are simultaneously formed of the same material. A plurality of thin film transistors 10 are formed in a matrix.

ここで、第1のドレイン電極部分14aとゲート電極12とが重なり合い、寄生容量CGD1を形成し、その寄生容量CGD1は、重なり合う面積に比例している。同様に、第2のドレイン電極部分14bとゲート電極12とが重なり合い、寄生容量CGD2を形成し、その寄生容量CGD2は、重なり合う面積に比例している。これらの寄生容量CGD1、及び、寄生容量CGD2の合計の寄生容量CGDは、ゲート電極12に対するノイズとしてのゲート信号電位の急峻な立上りと立下りとの電位変動を、ドレイン電極14に伝達している。そのノイズの存在により、ソース電極15に書き込まれるドレイン信号電位が電位変動し、書き込まれたソース信号電位と書き込まれるドレイン信号電位とが異なっている。   Here, the first drain electrode portion 14a and the gate electrode 12 overlap to form a parasitic capacitance CGD1, and the parasitic capacitance CGD1 is proportional to the overlapping area. Similarly, the second drain electrode portion 14b and the gate electrode 12 overlap to form a parasitic capacitance CGD2, and the parasitic capacitance CGD2 is proportional to the overlapping area. The total parasitic capacitance CGD of the parasitic capacitance CGD1 and the parasitic capacitance CGD2 transmits to the drain electrode 14 the potential fluctuation between the sharp rise and fall of the gate signal potential as noise with respect to the gate electrode 12. . Due to the presence of the noise, the drain signal potential written to the source electrode 15 fluctuates, and the written source signal potential differs from the written drain signal potential.

ドレイン電極14の冗長部分である第2のドレイン電極部分14bは、ドレイン電極14の冗長性を高くし、薄膜トランジスタ10のパターンがずれても、薄膜トランジスタ基板1の各薄膜トランジスタ10におけるゲート電極12とドレイン電極14とが重なり合う面積に応じた寄生容量CGDがほぼ同一となるようにしている。具体的には、長さが5μmの第2のドレイン電極部分14bは、ゲート電極12が約5/√2μmずれて形成され、もしくは、ドレイン電極14及びソース電極15が約5/√2μmずれて形成されても、薄膜トランジスタ基板1の各薄膜トランジスタ10における寄生容量CGDがほぼ同一となるようにしている。つまり、第2のドレイン電極部分14bは、各薄膜トランジスタ10において、ソース電極15に書き込まれるドレイン信号電位のゲート電極12によった電位変動が、ほぼ同一に電位変動するようにしている。   The second drain electrode portion 14b, which is a redundant portion of the drain electrode 14, increases the redundancy of the drain electrode 14, and even if the pattern of the thin film transistor 10 is shifted, the gate electrode 12 and the drain electrode in each thin film transistor 10 of the thin film transistor substrate 1 The parasitic capacitances CGD corresponding to the area where 14 and 14 overlap are substantially the same. Specifically, in the second drain electrode portion 14b having a length of 5 μm, the gate electrode 12 is formed with a shift of about 5 / √2 μm, or the drain electrode 14 and the source electrode 15 are shifted by about 5 / √2 μm. Even if formed, the parasitic capacitance CGD in each thin film transistor 10 of the thin film transistor substrate 1 is made substantially the same. That is, in the second drain electrode portion 14b, in each thin film transistor 10, the potential variation caused by the gate electrode 12 of the drain signal potential written to the source electrode 15 varies substantially the same.

次に、薄膜トランジスタ10のパターンがずれた場合について説明する。図3は、パターンがずれた薄膜トランジスタを示す図である。
ここで、液晶表示パネルの製造過程において、フォトステージ上に直径数十μmのゴミが乗り、さらに、その上に薄膜トランジスタ基板1が乗ったとする。
Next, a case where the pattern of the thin film transistor 10 is shifted will be described. FIG. 3 is a diagram illustrating a thin film transistor having a shifted pattern.
Here, it is assumed that in the manufacturing process of the liquid crystal display panel, dust having a diameter of several tens of μm is placed on the photostage, and further, the thin film transistor substrate 1 is placed thereon.

その薄膜トランジスタ基板1のゴミに対応する部分は、局部的にたわんで盛り上がる。このように局部的にたわんだ薄膜トランジスタ基板1に対してフォトリソグラフィを実行して複数の薄膜トランジスタ10を形成すると、そのたわんだ部分に対応する薄膜トランジスタ10において、図2の斜線部分と図3の斜線部分とに例示するように、ゲート電極12が約2μm〜3μmずれて形成され、もしくは、ドレイン電極14及びソース電極15が約2μm〜3μmずれて形成される。   The portion of the thin film transistor substrate 1 corresponding to dust is bent and rises locally. When a plurality of thin film transistors 10 are formed by performing photolithography on the thin film transistor substrate 1 that is locally bent in this manner, the hatched portion in FIG. 2 and the hatched portion in FIG. 3 in the thin film transistor 10 corresponding to the bent portion. And the gate electrode 12 is formed with a shift of about 2 μm to 3 μm, or the drain electrode 14 and the source electrode 15 are formed with a shift of about 2 μm to 3 μm.

複数の薄膜トランジスタ10を有する薄膜トランジスタ基板1は、各薄膜トランジスタ10がほぼ均一にパターニングされることが望ましく、各薄膜トランジスタ10における寄生容量CGDがほぼ同一となることが望ましい。この場合、各薄膜トランジスタ10において、ソース電極15に書き込まれるドレイン信号電位のゲート電極12によった電位変動が、ほぼ同一に電位変動し、ソース信号電位のゲート電極12によった電位変動も、ほぼ同一に電位変動する。   In the thin film transistor substrate 1 having a plurality of thin film transistors 10, it is desirable that each thin film transistor 10 is patterned almost uniformly, and it is desirable that the parasitic capacitance CGD in each thin film transistor 10 is substantially the same. In this case, in each thin film transistor 10, the potential fluctuation caused by the gate electrode 12 of the drain signal potential written to the source electrode 15 varies substantially the same, and the potential fluctuation caused by the gate electrode 12 of the source signal potential is also almost equal. The potential fluctuates the same.

パターンがずれた薄膜トランジスタ10において、薄膜トランジスタ10のドレイン電極14は、ドレイン信号線13に接続されている第1のドレイン電極部分14aと外側方向に伸びている第2のドレイン電極部分14bとを有し、それらの部分は薄膜トランジスタ10の中心から点対称である。そのため、ゲート電極12がずれた場合、ドレイン電極14の冗長部分である第2のドレイン電極部分14bにより、寄生容量CGD1が減少してもその分寄生容量CGD2が増加し、寄生容量CGD1が増加してもその分寄生容量CGD2が減少する。よって、薄膜トランジスタ10において、ゲート電極12がずれても、寄生容量CGD1、及び、寄生容量CGD2の合計の寄生容量CGDは変化しない。同様に、ドレイン電極14及びソース電極15がずれた場合、第2のドレイン電極部分14bにより、寄生容量CGD1が減少してもその分寄生容量CGD2が増加し、寄生容量CGD1が増加してもその分寄生容量CGD2が減少する。よって、薄膜トランジスタ10において、ドレイン電極14及びソース電極15がずれても、寄生容量CGD1、及び、寄生容量CGD2の合計の寄生容量CGDは変化しない。   In the thin film transistor 10 in which the pattern is shifted, the drain electrode 14 of the thin film transistor 10 has a first drain electrode portion 14 a connected to the drain signal line 13 and a second drain electrode portion 14 b extending outward. These portions are point-symmetric from the center of the thin film transistor 10. Therefore, when the gate electrode 12 is shifted, the second drain electrode portion 14b which is a redundant portion of the drain electrode 14 increases the parasitic capacitance CGD2 and increases the parasitic capacitance CGD1 even if the parasitic capacitance CGD1 decreases. However, the parasitic capacitance CGD2 decreases accordingly. Therefore, even if the gate electrode 12 is shifted in the thin film transistor 10, the total parasitic capacitance CGD of the parasitic capacitance CGD1 and the parasitic capacitance CGD2 does not change. Similarly, when the drain electrode 14 and the source electrode 15 are displaced, even if the parasitic capacitance CGD1 is decreased by the second drain electrode portion 14b, the parasitic capacitance CGD2 is increased correspondingly, and the parasitic capacitance CGD1 is increased accordingly. The parasitic capacitance CGD2 decreases. Therefore, even if the drain electrode 14 and the source electrode 15 are displaced in the thin film transistor 10, the total parasitic capacitance CGD of the parasitic capacitance CGD1 and the parasitic capacitance CGD2 does not change.

このようにすると、ゴミによって薄膜トランジスタ基板1のたわんだ部分において、ゲート電極12が約2μm〜3μmずれて形成され、もしくは、ドレイン電極14及びソース電極15が約2μm〜3μmずれて形成されても、各薄膜トランジスタ10の寄生容量CGD1、及び、寄生容量CGD2の合計の寄生容量CGDは変化しないので、薄膜トランジスタ基板1の各薄膜トランジスタ10における寄生容量CGDがほぼ同一となり、各薄膜トランジスタ10のソース電極15のソース信号電位の変動をほぼ同一とすることができる。よって、液晶表示パネルの表示ムラを抑えることができ、液晶表示パネルの品質を向上することができる。   In this way, even if the gate electrode 12 is formed with a deviation of about 2 μm to 3 μm in the bent portion of the thin film transistor substrate 1 due to dust, or the drain electrode 14 and the source electrode 15 are formed with a deviation of about 2 μm to 3 μm, Since the total parasitic capacitance CGD of the parasitic capacitance CGD1 and the parasitic capacitance CGD2 of each thin film transistor 10 does not change, the parasitic capacitance CGD in each thin film transistor 10 of the thin film transistor substrate 1 becomes almost the same, and the source signal of the source electrode 15 of each thin film transistor 10 The potential variation can be made substantially the same. Therefore, display unevenness of the liquid crystal display panel can be suppressed, and the quality of the liquid crystal display panel can be improved.

また、ゴミによって薄膜トランジスタ基板1のたわんだ部分において、ゲート電極12が約2μm〜3μmずれて形成され、もしくは、ドレイン電極14及びソース電極15が約2μm〜3μmずれて形成されても、各薄膜トランジスタ10の寄生容量CGDは変化しないので、フォトリソグラフィによった製造過程のゴミが、液晶表示パネルの歩留まり低下の原因とならない。   Even if the gate electrode 12 is formed with a deviation of about 2 μm to 3 μm or the drain electrode 14 and the source electrode 15 are formed with a deviation of about 2 μm to 3 μm in the bent portion of the thin film transistor substrate 1 due to dust, each thin film transistor 10 Since the parasitic capacitance CGD does not change, dust in the manufacturing process by photolithography does not cause a decrease in the yield of the liquid crystal display panel.

液晶表示パネルを示す図である。It is a figure which shows a liquid crystal display panel. 薄膜トランジスタを示す図である。It is a figure which shows a thin-film transistor. パターンがずれた薄膜トランジスタを示す図である。It is a figure which shows the thin-film transistor from which the pattern shifted | deviated.

符号の説明Explanation of symbols

10 薄膜トランジスタ
11 ゲート信号線
12 ゲート電極
13 ドレイン信号線
14 ドレイン電極
14a 第1のドレイン電極部分
14b 第2のドレイン電極部分
15 ソース電極
16 チャネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Thin-film transistor 11 Gate signal line 12 Gate electrode 13 Drain signal line 14 Drain electrode 14a 1st drain electrode part 14b 2nd drain electrode part 15 Source electrode 16 Channel

Claims (5)

画素電極を駆動する薄膜トランジスタ上でゲート信号線とドレイン信号線とが直交する薄膜トランジスタ基板を有する液晶表示パネルにおいて、
ゲート電極は、前記ゲート信号線と前記ドレイン信号線との交点近傍において、前記ゲート信号線に対して直角方向で、且つ、前記ゲート信号線から互いに反対方向に突出した2つの等脚台形状突出部を有する8角形状とされており、
前記ゲート電極上のドレイン電極は、ドレイン信号線に接続されている第1のドレイン電極部分と前記ゲート電極の領域を越えてゲート電極の外側方向に伸びている第2のドレイン電極部分とを有し、
前記ゲート電極上の前記第1のドレイン電極部分と前記ゲート電極上の前記第2のドレイン電極部分とが、薄膜トランジスタの中心から点対称であって、前記ゲート電極を構成する前記2つの等脚台形状突出部の相対する脚部分をそれぞれ横断して設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
In a liquid crystal display panel having a thin film transistor substrate in which a gate signal line and a drain signal line are orthogonal to each other on a thin film transistor that drives a pixel electrode,
The gate electrode has two isosceles trapezoidal projections projecting in a direction perpendicular to the gate signal line and in an opposite direction from the gate signal line in the vicinity of the intersection of the gate signal line and the drain signal line It has an octagon shape with a part,
Drain electrode on the gate electrode, it has a second drain electrode portion extending outwardly of the gate electrode over the first drain electrode portion connected to the drain signal line area of the gate electrode And
The two isosceles bases constituting the gate electrode, wherein the first drain electrode part on the gate electrode and the second drain electrode part on the gate electrode are point-symmetric from the center of the thin film transistor. A liquid crystal display panel, characterized in that the liquid crystal display panel is provided across the opposing leg portions of the shape protrusions .
前記ゲート電極上の前記第1のドレイン電極部分と前記ゲート電極上の前記第2のドレイン電極部分との長さは、5μm以上であることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a length of the first drain electrode portion on the gate electrode and the second drain electrode portion on the gate electrode is 5 μm or more. 請求項1または請求項2に記載の液晶表示パネルを用いたことを特徴とするテレビジョン受像装置。 A television receiver using the liquid crystal display panel according to claim 1 . 請求項1または請求項2に記載の液晶表示パネルを用いたことを特徴とするコンピュータ。 A computer using the liquid crystal display panel according to claim 1 . 請求項1または請求項2に記載の液晶表示パネルを用いたことを特徴とする携帯電話装置。 A cellular phone device using the liquid crystal display panel according to claim 1 .
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