JP4711046B2 - Sealing structure - Google Patents
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Description
本発明は、対向する二部材間に介在されてその隙間を密封する構造であって、例えば真空チャンバ等、減圧空間の密封に適した密封構造に関する。 The present invention relates to a sealing structure that is interposed between two opposing members and seals the gap, and is suitable for sealing a decompression space such as a vacuum chamber.
図7は、半導体ウエハや液晶デバイス等の製造において、ドライエッチングやスパッタリング等の工程で使用される真空チャンバを概略的に示す断面図で、この真空チャンバは、排気ポート101aを有するチャンバ本体101と、その側壁上端に開閉可能に設けられる蓋体102とからなり、チャンバ本体101と蓋体102の対向端部間は、シールリング303によって密封され、排気ポート101aからの強制排気によって、内部空間Sが真空状態に維持されるものである。参照符号Wは、この真空チャンバの内部空間Sに収容された加工処理対象のワーク(半導体ウエハあるいは液晶デバイス等)を示している。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a vacuum chamber used in processes such as dry etching and sputtering in the manufacture of semiconductor wafers and liquid crystal devices. This vacuum chamber includes a
図8は、従来技術による密封構造として、図7の一部を拡大して示す断面図である。すなわち、シールリング303は、ゴム状弾性材料からなるものであって、図示の例ではチャンバ本体101の側壁101bの上端に周設された蟻溝状のシール装着溝101cに嵌め込まれ、このシール装着溝101cから突出した部分が、蓋体102の端部102aに密接される。そして真空チャンバの内部空間Sを真空にすることによって、大気の圧力Pが、チャンバ本体101及び蓋体102に対してシールリング303を圧縮するように作用し、内部空間Sを真空状態に確保するのに必要な密封性を得る(例えば特許文献1,2参照)。
ここで、半導体ウエハあるいは液晶デバイス等の製造においては、僅かな塵埃も嫌うため、チャンバ本体101の側壁101bの上端と蓋体102の端部102aとの金属接触による金属パーティクルの発生は避けなければならない。したがってシールリング303は、その圧縮反力によって、チャンバ本体101の側壁101bの上端と蓋体102の端部102aとの間に適当な隙間Gを維持する機能も要求されている。しかしながら、シールリング303はゴム状弾性材料からなるものであるため、次のような問題が指摘される。
Here, in manufacturing a semiconductor wafer, a liquid crystal device, or the like, a slight amount of dust is also avoided. Therefore, generation of metal particles due to metal contact between the upper end of the
まず、ゴム状弾性材料で成形されたシールリング303は、継続使用によって経時的に永久圧縮歪(ヘタリ)を起こすため、チャンバ本体101の側壁101bの上端と蓋体102との隙間Gも経時的に減少し、金属接触してしまう可能性がある。
First, since the
また、特許文献2のように、シール装着溝101cにおけるシールリング303の充填率を大きくして、シールリング303を過圧縮状態となるように用いることによって、所要の隙間Gを維持することはできるが、この場合、圧縮を受けるシールリング303の一部は、逃げ場を失ってシール装着溝101cの溝肩から膨れてはみ出し、この溝肩と蓋体102との間に噛み込まれて破損したり、摩耗による発塵が起こるおそれがある。
Further, as in
更に、近年は液晶テレビ用モニタ等、液晶画面のサイズ拡大に伴って、液晶デバイス製造装置における真空チャンバのサイズも拡大しており、したがってシールリング303が支持しなければならない荷重は増大する一方である。例えばシールリング303による密封部の平面形状が、一辺が2.5〜3mの正方形である場合、真空チャンバの内部空間Sが真空の時にシールリング303に作用する圧縮荷重は約70トンに達する。したがって、このような大きな荷重を支持して隙間Gを維持するには、シールリング303に断面積の大きなものを用いる必要があり、これに伴い、シール装着溝101cの幅及び深さも拡大する必要があり、その結果、真空チャンバ自体のサイズをますます大きくせざるを得ない。
Furthermore, in recent years, the size of the vacuum chamber in the liquid crystal device manufacturing apparatus has also increased with the increase in the size of the liquid crystal screen, such as a liquid crystal television monitor, and therefore the load that the
しかも、シールリング303を、脱落防止のために図8のような蟻溝状のシール装着溝101cに装着する場合、シールリング303及びシール装着溝101cの断面積を大きくするほど、シールリング303の装着が困難になる問題も指摘される。
Moreover, when the
本発明は、以上のような点に鑑みてなされたものであって、その技術的課題は、密封対象空間への発塵や、シールリングの過圧縮による破損を有効に防止することの可能な密封構造を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above points, and its technical problem is that it is possible to effectively prevent the generation of dust into the space to be sealed and the damage caused by over-compression of the seal ring. It is to provide a sealing structure.
上述した技術的課題を有効に解決するための手段として、請求項1の発明に係る密封構造は、互いに対向して真空チャンバの開閉部を構成する二部材のうち一方に形成された蟻溝状のシール装着溝に嵌め込まれて他方と密接され、強制排気により減圧された真空チャンバの内部空間を密封するゴム状弾性材料からなるシールリングと、このシールリングに対して前記内部空間と反対側に配置されて前記二部材のうち一方又は他方に保持され前記シールリングより剛性の大きなスペーサとを備え、前記二部材間への前記スペーサの突出高さが、非圧縮時における前記シールリングの前記シール装着溝からの突出高さよりも低く、前記スペーサが前記シールリングと共に前記シール装着溝に保持され、前記シール装着溝の傾斜した内側面と嵌合する形状をなすものである。
As a means for effectively solving the technical problem described above, the sealing structure according to the invention of
上記構成において、互いに対向して真空チャンバの開閉部を構成する二部材のうち一方に形成されたシール装着溝に嵌め込まれたシールリングは、他方の部材との間で圧縮されることにより密封機能を発揮する。そして、前記二部材に作用する荷重によるシールリングの圧縮は、スペーサによって制限され、すなわち前記二部材間の隙間の減少は、前記スペーサの突出高さによって制限される。また、スペーサはシールリングに対して内部空間と反対側に配置されるので、前記二部材とスペーサとの接触により発生する微塵は、強制排気により減圧された内部空間への侵入をシールリングにより遮断される。
In the above configuration, the seal ring fitted in the seal mounting groove formed in one of the two members that are opposed to each other and constitute the opening / closing part of the vacuum chamber is sealed by being compressed with the other member Demonstrate. The compression of the seal ring due to the load acting on the two members is limited by the spacer, that is, the reduction of the gap between the two members is limited by the protruding height of the spacer. In addition, since the spacer is arranged on the opposite side of the inner space with respect to the seal ring , the dust generated by the contact between the two members and the spacer blocks the intrusion into the inner space reduced by forced exhaust by the seal ring. Is done.
請求項2の発明に係る密封構造は、請求項1に記載の構成において、スペーサのシールリング側を向いた内側面がシール装着溝への挿入端部側ほど大きく溝内へ張り出すように傾斜したものである。
The sealing structure according to a second aspect of the present invention is the structure according to the first aspect, wherein the inner side surface of the spacer facing the seal ring side is inclined so that the insertion end portion side into the seal mounting groove protrudes into the groove. It is a thing.
請求項1〜2の発明に係る密封構造によれば、互いに対向して真空チャンバの開閉部を構成する二部材に作用する荷重による前記二部材間の隙間の減少がスペーサによって制限されるので、この二部材の接触によるパーティクルの発生が防止され、シールリングの過圧縮による噛み込みや破損も防止される。また、シールリング自体は、二部材間に所要の隙間を確保するための支持機能が不要であるので、その断面積を大きくする必要がない。更に、スペーサはシールリングの外側に配置されるので、スペーサから発生する微塵は、強制排気により減圧された内部空間への侵入をシールリングにより遮断される。このため、パーティクル等の微塵の侵入を嫌う空間の密封手段として、優れた効果を奏し、しかもシール装着溝からのシールリング及びスペーサの脱落を有効に防止することができる。
According to the sealing structure according to the invention of
請求項2の発明に係る密封構造によれば、シール装着溝にスペーサを挿入した後でのシールリングの挿入を容易にすることができ、しかもシールリングに圧縮荷重が加わった時に、スペーサの傾斜面との圧接による圧縮反力が大きくなって他方の部材に対するシールリングの密接力を高めるので、密封性を向上することができる。
According to the sealing structure of the second aspect of the present invention, it is possible to facilitate the insertion of the seal ring after the spacer is inserted into the seal mounting groove, and when the compression load is applied to the seal ring, the inclination of the spacer Since the compression reaction force due to the pressure contact with the surface is increased and the close contact force of the seal ring to the other member is increased, the sealing performance can be improved.
以下、本発明に係る密封構造の好ましい実施の形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明に係る密封構造の第一の形態を、真空チャンバと共に概略的に示す断面図、図2は、図1におけるII−II線上の平面図、図3は、第一の形態による密封構造を示す開放状態の断面図、図4及び図5は、第一の形態による密封構造を示す密封状態の断面図である。
Hereinafter, preferred embodiments of a sealing structure according to the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of a sealing structure according to the present invention together with a vacuum chamber , FIG. 2 is a plan view on line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is a first embodiment. FIG. 4 and FIG. 5 are sectional views of the sealed state showing the sealing structure according to the first embodiment.
まず図1に示される真空チャンバは、半導体ウエハや液晶デバイス等の製造において、ドライエッチングやスパッタリング等の工程で使用されるものであり、排気ポート1aを有するチャンバ本体1と、その上端開放部に開閉可能に設けられる蓋体2とからなる。なお、チャンバ本体1は請求項1に記載の互いに対向して真空チャンバの開閉部を構成する二部材のうちの一方に相当し、蓋体2は前記二部材のうちの他方に相当する。
First, the vacuum chamber shown in FIG. 1 is used in processes such as dry etching and sputtering in the manufacture of semiconductor wafers, liquid crystal devices, etc., and has a
チャンバ本体1と蓋体2の対向端部間は、シールリング3によって密封され、排気ポート1aからの強制排気によって、内部空間Sが真空状態に維持されるようになっている。参照符号Wは、内部空間Sに収容された加工処理対象のワーク(半導体ウエハあるいは液晶デバイス等)を示している。
A space between the opposed end portions of the
シールリング3は、ゴム状弾性材料で成形されたものであって、発塵しにくいものであれば、特にその断面形状は問わないが、例えば断面形状が円形のOリングが用いられる。そしてこのシールリング3は、図3に示されるように、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aに沿って無端状に形成されたシール装着溝12に、スペーサ4と共に半挿入状態に保持される。
The
なお、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aは、図2に示されるように、平面形状が、角を丸めた略正方形をなしており、したがって、シール装着溝12も、これと相似の形状をなして延びている。
As shown in FIG. 2, the
シール装着溝12は蟻溝状に形成され、すなわち溝幅方向に対向する内側面121,122が、溝底面123側で溝幅を拡大するように傾斜しており、したがって、溝底面123の幅よりも、溝肩121a,122a間の幅が狭くなっている。スペーサ4は、シールリング3のゴム状弾性材料よりも剛性が大きく、しかも耐摩耗性に優れた、例えばPTFE等の合成樹脂材料からなるものであって、断面がシール装着溝12の傾斜した内側面122と嵌合する形状をなし、シールリング3側を向いた内側面41がシール装着溝12の溝底面123に対して垂直に立ち上がっており、その反対側の外側面42が、シール装着溝12における内側面122と対応する傾斜面をなしている。したがって、このスペーサ4は、突出端部4aから挿入端部4bへ向けて漸次肉厚が増大しており、平面形状が角を丸めた略正方形状をなすシール装着溝12の直線状に延びる部分(4箇所)に、それぞれシールリング3の外側(内部空間Sと反対側)に位置して保持されている。
The
また、図3に示されるように、このスペーサ4は、チャンバ本体1と蓋体2の対向方向に対する長さLが、非圧縮状態でのシールリング3の断面径φ3よりも小さく、シール装着溝12の溝深さdよりも大きい。したがって、スペーサ4はシール装着溝12から高さh4だけ突出しており、この突出高さh4は、非圧縮時におけるシールリング3のシール装着溝12からの突出高さh3よりも低いものとなっている。
Further, as shown in FIG. 3, the
なお、シール装着溝12からのスペーサ4の突出高さh4は、シールリング3の最大圧縮率(許容圧縮率)を考慮して設定される。すなわち、シールリング3は、圧縮し過ぎると割れを発生してしまうので、シール装着溝12の溝底面123と、蓋体2の下面21aとの間でのシールリング3の圧縮量が前記最大圧縮率を超えず、かつチャンバ本体1と蓋体2の対向面11a,21aが金属接触しないように、前記突出高さh4を設定する必要がある。Oリングの場合、一般に、最大圧縮率を30%として推奨しており、したがって、シールリング3にOリングを用いた図示の形態では、チャンバ本体1と蓋体2の対向方向に対するスペーサ4の長さLを、シールリング3の断面径φ3の70%以上とすることが好ましい。
The protrusion height h 4 of the
シールリング3は、その断面の中心が溝肩121a,122aより溝内に位置するように、シール装着溝12に嵌め込まれており、スペーサ4は、その外側面42がシール装着溝12における内側面122と傾斜面同士で嵌合すると共に、内側面41が、シールリング3における外周面32に密接されている。
The
以上の構成において、図1に示されるように、チャンバ本体1の側壁11の上端開放部を蓋体2で閉塞した状態で、排気ポート1aから強制排気することによって、内部空間Sを真空にすると、大気の圧力が、チャンバ本体1及び蓋体2を互いに接近させるように作用する。このため、図4に示されるように、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aに形成されたシール装着溝12の溝底面123と、蓋体2の端部21の下面21aとの間でシールリング3が圧縮され、その圧縮反力によって、内部空間Sを真空状態に維持するのに必要な密封性を確保することができる。
In the above configuration, as shown in FIG. 1, when the internal space S is evacuated by forcibly exhausting from the
このとき、シールリング3の長期使用による永久圧縮歪(ヘタリ)や、真空チャンバのサイズの大型化に起因する大気の圧力による蓋体2からの荷重の増大によって、図4に示される状態から更にシールリング3の圧縮を伴いながら、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aに対して蓋体2の端部21が近接して行くと、図5に示されるように、蓋体2の端部21の下面21aがスペーサ4の突出端部4aに当接して支持される。そして、スペーサ4は、シールリング3に比較して十分に剛性が大きいPTFE等の合成樹脂材料からなるため、チャンバ本体1と蓋体2の対向面11a,21a間の隙間Gは、図3に示されるスペーサ4の突出高さh4よりも小さくなることはなく、シールリング3の圧縮は、スペーサ4によって最大圧縮率以下に制限される。また、内部空間Sを真空状態に維持するのに必要なシールリング3の圧縮量は、当然確保される。
At this time, permanent compression strain (sagging) due to long-term use of the
このため、チャンバ本体1と蓋体2の対向端部11,21の金属接触による金属パーティクルの発生が防止され、しかも、スペーサ4は、シールリング3の外側に位置するため、このスペーサ4が蓋体2の端部21と接触することにより発生したパーティクルは、シールリング3によって、チャンバの内部空間Sへの侵入が遮断される。したがって、図1及び図2に示される半導体ウエハあるいは液晶デバイス等のワークWが、パーティクルによる悪影響を受けるのを有効に防止することができる。
For this reason, generation of metal particles due to metal contact between the
また、図4又は図5に示される密封状態において、シールリング3がゴム状弾性材料の粘着性によって、蓋体2の端部21の内側面と粘着した場合は、チャンバの内部空間Sの真空状態を解除して、蓋体2をチャンバ本体1から開放動作させる際に、この蓋体2の動作に追随してシールリング3がシール装着溝12から飛び出そうとする。しかしながら、図3に示されるように、シールリング3は、その断面の中心Oが溝肩121a,122aより溝内に位置するようにシール装着溝12に嵌め込まれているため、このシールリング3の内周面31のうち、断面の中心Oよりも溝外部側に位置する部分31aが、シール装着溝12における内部空間S側の傾斜した内側面121(溝肩121a)に密接することによって係止され、すなわち、シールリング3の断面径φ3が、溝肩121aとスペーサ4の内側面41との間の幅よりも大きいため、シール装着溝12からの飛び出しが有効に防止される。
Further, in the sealed state shown in FIG. 4 or FIG. 5, when the
更に、この形態によれば、スペーサ4がシールリング3と共にシール装着溝12に保持されるため、装着スペースを小さく抑えることができる。
Furthermore, according to this embodiment, since the
しかも、スペーサ4は、その外側面42がシール装着溝12における内側面122と傾斜面同士で嵌合しているため、シール装着溝12からシールリング3と共に飛び出そうとすると、このシールリング3をシール装着溝12の内側面121へ押し付けることになり、したがって、このことも、シール装着溝12からの飛び出し防止に寄与する。
Moreover, since the
そして上述のように、シールリング3及びスペーサ4がシール装着溝12から飛び出しにくくなっているにも拘らず、シール装着溝12への装着の際には、先にスペーサ4を挿入してから、シールリング3を挿入することによって、容易に装着することができる。
As described above, although the
更に、この形態によれば、スペーサ4がシールリング3と共にシール装着溝12に保持されているため、装着スペースを小さく抑えることができると共に、突出端部4aから挿入端部4bへ向けて漸次肉厚を増大する形状であるため、高い剛性を得ることができる。
Further, according to this embodiment, since the
次に、図6は、本発明の第二の形態による密封構造を示す密封状態の断面図である。この第二の形態は、第一の形態と同様、シール装着溝12が蟻溝状に形成され、スペーサ4がシール装着溝12の傾斜した内側面122と嵌合する形状をなしている。第一の形態と異なるところは、シールリング3の外周面32と密接されるスペーサ4の内側面41が、シール装着溝12への挿入端部4b側ほど大きく溝内へ張り出すように傾斜している。
Next, FIG. 6 is a sectional view in a sealed state showing a sealing structure according to the second embodiment of the present invention. As in the first embodiment , the second configuration is such that the
以上の構成を備える第二の形態も、第一の形態と同様に、チャンバ本体1の上端開放部を蓋体2で閉塞した状態で、内部空間Sを真空にすると、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aに形成されたシール装着溝12の溝底面123と、蓋体2の端部21との間でシールリング3が圧縮され、その圧縮反力によって、内部空間Sを真空状態に維持するのに必要な密封性が確保される。
Similarly to the first embodiment , in the second embodiment having the above configuration, when the internal space S is evacuated in a state where the upper end open portion of the
しかも、スペーサ4の内側面41が、挿入端部4b側ほど大きく溝内へ張り出すように傾斜しているため、シールリング3が圧縮によって溝内へ変位するのに伴ってスペーサ4の内側面41との圧接力も増大し、その反力が、蓋体2の内側面との密接力を増大するように作用するので、一層優れた密封性を奏する。
In addition, since the
また、シールリング3の永久圧縮歪や、真空チャンバのサイズの大型化に起因する荷重の増大によって、チャンバ本体1の側壁11の上端面11aに対して更に蓋体2の端部21が近接して行った場合は、蓋体2の下面21aがスペーサ4の突出端部4aに当接して図6の状態となる。したがって、チャンバ本体1と蓋体2の対向面11a,21aの金属接触による金属パーティクルの発生が防止され、スペーサ4が蓋体2の下面21aと接触することにより発生するパーティクルのチャンバ内部空間Sへの侵入は、シールリング3によって遮断され、更にシールリング3の圧縮が、スペーサ4によって最大圧縮率以下に制限される。
Further, the
また、シールリング3は、その断面の中心が溝肩121a,122aより溝内に位置しているため、このシールリング3の内周面31のうち、断面の中心よりも溝外部側に位置する部分31aが、シール装着溝12における内部空間S側の傾斜した内側面121(溝肩121a)に密接することによって係止され、シール装着溝12からの飛び出しが有効に防止される。
Further, since the center of the cross section of the
しかも、スペーサ4は、その外側面42がシール装着溝12における内側面122と傾斜面同士で嵌合すると共に、シールリング3と密接された内側面41が、挿入端部4b側ほど大きく張り出すように傾斜しているため、シール装着溝12からシールリング3と共に飛び出そうとすると、傾斜した内側面41が、シールリング3をシール装着溝12の内側面121へ押し付けるように作用する。したがって、このことも、シール装着溝12からの飛び出し防止に寄与する。
Moreover, the
そして、シール装着溝12を蟻溝状とすることによって、シールリング3及びスペーサ4を飛び出しにくくしたにも拘らず、シール装着溝12への装着の際には、先にスペーサ4を挿入してから、シールリング3を挿入することによって、容易に装着することができる。これは、スペーサ4の内側面41がシール装着溝12の内側面121の倒れ込み方向へ開くように傾斜していることによって、シール装着溝12内における実質的なシールリング挿入空間が、溝入口側で狭まらない形状となっており、しかもシールリング3をシール装着溝12へ挿入する際に、このシールリング3が、スペーサ4の内側面41によって図6における左側へ案内されるからである。
Although the
更に、この形態によれば、第一の形態と同様、装着スペースを小さく抑えることができると共に、突出端部4aから挿入端部4bへ向けて漸次肉厚を増大する形状であるため、高い剛性を得ることができる。
Furthermore, according to this embodiment, as in the first embodiment , the mounting space can be kept small, and the thickness gradually increases from the
なお、図示の形態はいずれも、シール装着溝12がチャンバ本体1の側壁11の上端面11aに形成され、すなわちシールリング3及びスペーサ4がチャンバ本体1側に装着されているが、逆に、シール装着溝12を蓋体2側に形成し、すなわちシールリング3及び(又は)スペーサ4を蓋体2側に保持した構成とすることもできる。
In each of the illustrated forms, the
1 チャンバ本体(二部材のうち一方の部材)
1a 排気ポート
11 側壁
11a 上端面
12 シール装着溝
121,122 内側面
121a,122a 溝肩
123 溝底面
13 スペーサ装着溝
2 蓋体(二部材のうち他方の部材)
21 端部
21a 下面
3 シールリング
31 内周面
32 外周面
4 スペーサ
4a 突出端部
4b 挿入端部
41 内側面
42 外側面
S 内部空間
W ワーク
1 Chamber body (one of two members)
DESCRIPTION OF
21
Claims (2)
The inner surface (41) facing the seal ring (3) side of the spacer (4) is inclined so that it protrudes into the groove as far as the insertion end (4b) side into the seal mounting groove (12). The sealing structure according to claim 1.
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