JP4706552B2 - 表面分析装置 - Google Patents
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Description
a)1枚の表面画像の取得の前及び途中に、前記励起線の照射に応じて試料から得られる所定の粒子による前記第1信号に比べて強い第2信号を検出し、該第2信号に基づいて前記所定範囲に対応する補正用画像をそれぞれ作成する補正用画像取得手段と、
b)前記補正用画像取得手段により異なる時点で得られた複数の補正用画像に対し、画像パターンを比較して並進対称性を有するか否かを判断する並進対称性検出手段と、
c)並進対称性が有ると判断された場合、複数の補正用画像に対する二次元的な画像マッチングにより求まる位置ずれ情報と、並進対称性がみられる方向に限定した一次元的な画像マッチングにより求まる位置ずれ情報とにより、位置ずれの量及び方向を算出する一方、並進対称性が無いと判断された場合には、複数の補正用画像に対する二次元的な画像マッチングによる位置ずれ情報のみを算出する位置ずれ情報算出手段と、
d)前記1枚の表面画像の取得のための二次元走査に際し、前記位置ずれ情報に基づく各画素の位置ずれを補正するように試料の移動及び/又は励起線の偏向を微調整しながら走査を実行する制御手段と、
を備えることを特徴としている。
C2[f,g](x,y)=Σf(x’−x,y'−y)g(x’,y’)
=F2 −1{F2[f](−u,−v)F2[g](u,v)}(x,y) …(1)
のピークの位置を求めることによって行われる。但し、(1)式でΣはx’,y’についての総和、F2、F2 −1はそれぞれ二次元離散フーリエ変換とその逆変換である。そこでSEM画像U1、U2に対応する二次元画像h1、h2の二次元的な相互相関関数をC2[h1;h2]で表す。
C1[f,g;α2↑](t)=Σ{ΣR[f;Li](t’−t)R[g;Li](t’)}
=Σ{F1 −1{F1[R[f;Li]](−u)F1[R[g;Li]](u)}(t)} …(2)
但し、(2)式で1つ目のΣはiについての総和、2つ目のΣはt’についての総和、F1、F1 −1はそれぞれ一次元離散フーリエ変換とその逆変換である。
g0:=g; d0↑=0
とし、収束するまでn=0,1,2,…について、(1)式に基づきC2[f,gn]を最大化するα2↑方向へのずれベクトルλn↑を求める。
gn * :=S[gn;λn↑]
dn *↑ :=dn↑+λn↑
これにより上記ステップS3における二次元的な画像マッチングによる位置ずれ情報が求まる。次いで、(2)式に基づきC1[f,g*;α2↑]を最大化するα2↑方向へのずれ量tnを求める。
gn+1 :=S[gn *;tnαn↑]
dn+1↑ :=dn *↑+tnαn↑
これにより上記ステップS4における一次元的な画像マッチングによるずれ量が求まるとともにステップS5におけるずれ量の修正が達成される。
2…偏向コイル
3…対物レンズ
4…試料ステージ
5…ステージ駆動部
6…X線検出器
7…電子検出器
E…電子線
10…PC
11…中央制御部
12…データ処理部
13…補正演算処理部
14…操作部
15…表示部
16…画像信号処理部
18…偏向コイル制御部
19…試料ステージ制御部
Claims (1)
- 励起線を試料に照射する励起線照射部と、該励起線の照射によって試料から放出された特性X線や所定の粒子による第1信号を検出する検出部と、を含み、前記励起線の照射位置を試料面上の所定範囲で移動するように試料と励起線との相対位置関係を二次元走査することにより前記所定範囲に対応する試料の表面画像を取得する表面分析装置において、
a)1枚の表面画像の取得の前及び途中に、前記励起線の照射に応じて試料から得られる所定の粒子による前記第1信号に比べて強い第2信号を検出し、該第2信号に基づいて前記所定範囲に対応する補正用画像をそれぞれ作成する補正用画像取得手段と、
b)前記補正用画像取得手段により異なる時点で得られた複数の補正用画像に対し、画像パターンを比較して並進対称性を有するか否かを判断する並進対称性検出手段と、
c)並進対称性が有ると判断された場合、複数の補正用画像に対する二次元的な画像マッチングにより求まる位置ずれ情報と、並進対称性がみられる方向に限定した一次元的な画像マッチングにより求まる位置ずれ情報とにより、位置ずれの量及び方向を算出する一方、並進対称性が無いと判断された場合には、複数の補正用画像に対する二次元的な画像マッチングによる位置ずれ情報のみを算出する位置ずれ情報算出手段と、
d)前記1枚の表面画像の取得のための二次元走査に際し、前記位置ずれ情報に基づく各画素の位置ずれを補正するように試料の移動及び/又は励起線の偏向を微調整しながら走査を実行する制御手段と、
を備えることを特徴とする表面分析装置。
Priority Applications (1)
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JP2006131285A JP4706552B2 (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 表面分析装置 |
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JP2006131285A JP4706552B2 (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 表面分析装置 |
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