JP4693436B2 - Organic EL display device - Google Patents

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本発明は、有機物のエレクトロルミネッセンス(EL)を利用してディスプレイを構成する有機EL表示装置に関する。さらに詳しくは、表示パネルの正面全体に亘って、表示画像が暗色の背景にコントラストよく表示され、表示画像の中に光の抜けが生じないようにして表示品位の低下を防止し得る構造の有機EL表示装置に関する。   The present invention relates to an organic EL display device that constitutes a display using organic electroluminescence (EL). In more detail, the display image is displayed on the dark background with good contrast over the entire front surface of the display panel, and the organic structure has a structure capable of preventing the deterioration of display quality by preventing light from being lost in the display image. The present invention relates to an EL display device.

有機物質を使用したEL素子は、固体発光型の安価な表示素子として開発が行われている。従来の有機EL表示装置は、たとえば図3に示されるように、ガラスなどの透明基板62の一面上に、ITOなどからなる帯状の陽極電極63が複数個並列して設けられ、その間隙部および帯状に形成されたITO膜63上の発光させない(画素とならない)領域に、たとえばポジ型のフォトレジストなどからなる絶縁膜64をフォトリソグラフィ技術により形成し、さらにその表面に、たとえばネガ型のフォトレジストなどの塗布とパターニングにより、陽極電極63と直角方向に隔壁65が複数個並列して形成されている。そして、真空蒸着装置内で、有機層66が成膜され、その表面に、たとえばアルミニウム(Al)を真空蒸着装置で0.1μm程度の厚さ蒸着させることにより、陰極電極67がITOからなる陽極電極63と直交する方向に帯状に形成されている。この有機層66は、湿気や酸素などにより劣化しやすいため、ガラスやステンレスなどの封止部材68により被覆され、内部に吸湿剤69が設けられている。そして、透明基板62の他面側に円偏光板60(直線偏光板と1/4波長板の組合せたもの)が設けられている。   An EL element using an organic substance has been developed as an inexpensive display element of a solid light emitting type. For example, as shown in FIG. 3, a conventional organic EL display device includes a plurality of strip-like anode electrodes 63 made of ITO or the like provided in parallel on one surface of a transparent substrate 62 such as glass. An insulating film 64 made of, for example, a positive type photoresist is formed on the band-shaped ITO film 63 where light is not emitted (will not be a pixel) by a photolithography technique, and further on the surface thereof, for example, a negative type photo A plurality of partition walls 65 are formed in parallel with the anode electrode 63 in a direction perpendicular to the anode electrode 63 by application of resist or the like and patterning. Then, the organic layer 66 is formed in a vacuum deposition apparatus, and aluminum (Al) is deposited on the surface thereof to a thickness of about 0.1 μm by the vacuum deposition apparatus, whereby the cathode electrode 67 is an anode made of ITO. It is formed in a strip shape in a direction orthogonal to the electrode 63. Since the organic layer 66 is easily deteriorated by moisture, oxygen, or the like, it is covered with a sealing member 68 such as glass or stainless steel, and a moisture absorbent 69 is provided inside. A circularly polarizing plate 60 (a combination of a linearly polarizing plate and a quarter wavelength plate) is provided on the other surface side of the transparent substrate 62.

この円偏光板60は、透明基板62側から入射する外光Pが、陰極電極67のAlにより反射して表示面側に出てくると、有機層で発光する画像の光に外光が映りこんで画像が見にくくなるため、金属膜で反射した光は円偏光の回転方向が逆になり、位相が反転した光が打ち消し合い、円偏光板を透過できないという特性を利用して、背景を暗く(黒く)し、表示画像とのコントラスト比を大きくして、周囲の映り込みを防止し、表示品位を向上させるためである(たとえば特許文献1参照)。   In this circularly polarizing plate 60, when the external light P incident from the transparent substrate 62 side is reflected by Al of the cathode electrode 67 and comes out to the display surface side, the external light is reflected in the light of the image emitted from the organic layer. This makes it difficult to see the image, and the light reflected by the metal film reverses the direction of rotation of the circularly polarized light, cancels out the light whose phases are reversed, and makes it impossible to transmit the circularly polarizing plate to darken the background. This is because the contrast ratio with the display image is increased to prevent surrounding reflections and improve display quality (for example, see Patent Document 1).

この構成で、直交する陽極電極63と陰極電極67とが交差する部分が画素となり、両電極により選択される画素のみに電圧が印加され、所望の画素を点灯させ、透明基板62の他面側から照射されることにより画像を表示させる。なお、前述の例では、画素間に隔壁65が形成され、その隔壁65上にもAlの蒸着が行われることにより、表示領域のほぼ全面に亘って前述の円偏光板により外光の映り込みを防止しているが、電極の間隔が非常に狭く、10μm程度以下の間隔で電極配線を形成する場合には、このような隔壁65を形成しなくても、電極間から光が漏れることは殆ど起こらない。   In this configuration, a portion where the orthogonal anode electrode 63 and the cathode electrode 67 intersect becomes a pixel, a voltage is applied only to the pixel selected by both electrodes, the desired pixel is turned on, and the other surface side of the transparent substrate 62 The image is displayed by being irradiated from. In the above-described example, partition walls 65 are formed between the pixels, and Al is also deposited on the partition walls 65, so that external light is reflected by the above-described circularly polarizing plate over almost the entire display area. However, when the electrode wiring is formed at an interval of about 10 μm or less, the light leaks from between the electrodes without forming such a partition wall 65. It hardly happens.

しかし、たとえば図4に、表示パネルの正面の概略図が示されるように、表示領域Aに形成される電極71は、表示領域Aの外側に形成される配線パターン72により透明基板の一辺側または対向する両辺側に引き出され、表示データの入力が行われるようになっている。この配線パターン72は抵抗成分を小さくするため、少なくとも金属膜が設けられることにより形成されるが、その厚さは薄く、また、幅も狭いため、抵抗を完全になくすることはできない。一方、電極によって抵抗が異なると電流駆動である有機EL表示装置では、画素により明るさが変化して表示品位を低下させる。そのため、どの電極に対してもほぼ同程度の抵抗になるように、その配線パターン72の幅は制限される。
特開2000−3793号公報
However, for example, as shown in a schematic diagram of the front of the display panel in FIG. 4, the electrode 71 formed in the display area A is connected to one side of the transparent substrate by the wiring pattern 72 formed outside the display area A. The display data is input by being drawn out to the opposite sides. The wiring pattern 72 is formed by providing at least a metal film in order to reduce the resistance component. However, since the thickness is thin and the width is narrow, the resistance cannot be completely eliminated. On the other hand, in the organic EL display device that is current-driven when the resistance varies depending on the electrode, the brightness changes depending on the pixel, thereby degrading the display quality. Therefore, the width of the wiring pattern 72 is limited so that the resistance is almost the same for any electrode.
JP 2000-3793 A

前述のように、画素を構成する陰極電極には金属膜が用いられると共に、画像が表示される領域の画素間は、隔壁上の金属膜または画素電極の間隔を小さくすることにより画像の中に外光が映り込むということは殆どなくきれいな画像を表示することができる。しかしながら、実際の表示パネルでは、画素が形成された表示領域A以外でも、図4にBで示される有効表示エリアが表示パネルの正面に露出する。その結果、配線パターン72の形成される領域も有効表示エリアB内となり、この部分で外光の映り込みがあると、表示画像の視認特性を低下させる。しかし、実際には配線パターン72の太さ(幅)は、前述のように、各画素でその抵抗値が等しくなるように形成される必要があるため、たとえば図4にCで示されるように、配線パターンの間隔が広いところが出てくる。そのため、表示画像そのものに外光の映り込みがなくても、視認特性が低下するという問題がある。   As described above, a metal film is used for the cathode electrode constituting the pixel, and between the pixels in the area where the image is displayed, the distance between the metal film on the partition wall or the pixel electrode is reduced in the image. There is almost no reflection of outside light, and a clear image can be displayed. However, in the actual display panel, the effective display area indicated by B in FIG. 4 is exposed on the front surface of the display panel other than the display area A where the pixels are formed. As a result, the area where the wiring pattern 72 is formed is also within the effective display area B. If external light is reflected in this area, the visual characteristics of the display image are degraded. However, since the thickness (width) of the wiring pattern 72 actually needs to be formed so that the resistance value is equal in each pixel as described above, for example, as shown by C in FIG. There are some areas where the wiring pattern spacing is wide. For this reason, there is a problem that the visual characteristics are deteriorated even when the display image itself does not include external light.

本発明は、このような状況に鑑みてなされたもので、有効表示エリア内(画素部分以外の領域を含む表示画面として露出する領域)の全体で暗い背景とし、暗い背景内に表示画像を表示させ、表示品位を向上させることができる構造の有機EL表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such a situation, and displays a display image in a dark background with a dark background in the entire effective display area (an area exposed as a display screen including an area other than a pixel portion). An organic EL display device having a structure capable of improving display quality is provided.

本発明による有機EL表示装置は、透光性の第1基板と、該第1基板の一面で、画素が形成される表示領域内で縦方向延出して形成される複数の第1電極と、該複数の第1電極上に積層される有機層と、該有機層上で、前記第1電極と直交する方向である横方向に設けられる複数の第2電極と、前記第1基板の表示領域外の前記一面に少なくとも金属膜を有する導電膜で形成され、前記複数の第1電極および第2電極のそれぞれと接続される複数の第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンと、前記第1基板上の前記第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンおよび前記有機層が設けられた部分を被覆するように設けられる第2基板と、前記第1基板の他面側に設けられる円偏光板とからなり、前記複数の第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンの端子の全てが、前記第1電極の一端部側である前記第1基板の一辺側に導出される有機EL表示装置であって、表示パネルの正面に表示エリアとして露出する有効表示エリアで、少なくとも前記複数の第1電極用配線パターンのグループおよび前記複数の第2電極用配線パターンのグループの境界の間隙部に第1のダミーパターンが、前記複数の第2電極用配線パターンのうち、前記一辺側から一番遠い位置の前記第2電極用配線パターンと前記有効表示エリアの前記第1電極と平行な端部との間隙部に第2のダミーパターンが、さらに前記第1電極の他端部と有効表示エリアの前記一辺側と対向する側の端部との間隙部に第3のダミーパターンが、それぞれ前記複数の第1電極用および第2電極用の配線パターン、ならびに前記複数の第1電極および第2電極と電気的に分離して金属膜により形成されている。 An organic EL display device according to the present invention includes a translucent first substrate and a plurality of first electrodes formed on one surface of the first substrate so as to extend in a vertical direction within a display region where pixels are formed. an organic layer formed on said plurality of first electrodes, said organic layer, and a plurality of second electrodes provided in the lateral direction is a direction orthogonal to the first electrode, the display of the first substrate A plurality of first electrode wiring patterns and second electrode wiring patterns formed of a conductive film having at least a metal film on the one surface outside the region and connected to each of the plurality of first electrodes and second electrodes ; a second substrate provided so as to cover the first for the first electrode on the substrate wiring pattern and the second electrode wiring pattern and the organic layer is provided partially, on the other side of the first substrate consists of a provided circularly polarizing plate, before the first electrostatic number of Kifuku All of use wiring pattern and the second electrode wiring pattern terminals, an organic EL display device is led out to one side of the first substrate which is one end portion side of the first electrode, in front of the display panel In the effective display area exposed as a display area , at least a first dummy pattern is formed in a gap between boundaries of the plurality of first electrode wiring pattern groups and the plurality of second electrode wiring pattern groups . of the second electrode wiring pattern, the second dummy gap between the first electrode and the parallel end portion of the effective display area and the second electrode wiring pattern of the farthest position from the one side end pattern further third dummy pattern in the gap portion of the other end portion and the one side end and the opposite side of the end portion of the effective display area of the first electrode, and a second for each of the plurality of first electrode Wiring patterns for electrodes, and said plurality of first electrode and second electrode and electrically isolated have been made Rikatachi by the metal film.

ここに光の透過が目立つ領域とは、外光が表示パネルの表示画面内に映り込み、視認特性を低下させる程度の光の漏れがある領域を意味し、また、第1基板と第2基板との間のいずれかの層とは、たとえば第1基板の一面、第1基板上に積層される有機層表面、第2基板の内面などの第1基板と第2基板との間のいずれかの層を意味する。さらに、第2基板とは、有機層などを第1基板と共に封止する部材を意味し、ガラスなどの板状体に限定されるものではなく、CVD法などにより成膜される絶縁膜なども含む意味である。   Here, the region where light transmission is conspicuous means a region where light leaks to such an extent that external light is reflected in the display screen of the display panel and deteriorates the visual recognition characteristics, and the first substrate and the second substrate. Between the first substrate and the second substrate such as one surface of the first substrate, the surface of the organic layer laminated on the first substrate, and the inner surface of the second substrate. Means the layer. Furthermore, the second substrate means a member that seals the organic layer and the like together with the first substrate, and is not limited to a plate-like body such as glass, but includes an insulating film formed by a CVD method or the like. Including meaning.

前記第1ないし第3のダミーパターンは、前記第1基板の一面に、前記配線パターンの形成と同時に同じ材料で形成されてよいし、前記第2電極が形成される有機層表面に、該第2電極の形成と同時に同じ材料で形成されてよい。また、第2基板の一面に形成することもできる。この場合、光の透過が目立つ領域のみならず、広い範囲にダミーパターンが形成されても差し支えはない。 The first to third dummy patterns may be formed on one surface of the first substrate with the same material as the wiring pattern, and on the surface of the organic layer on which the second electrode is formed. It may be formed of the same material simultaneously with the formation of the two electrodes. It can also be formed on one surface of the second substrate. In this case, there is no problem even if a dummy pattern is formed in a wide range as well as a region where light transmission is conspicuous.

この構造にすることにより、たとえば第1基板の配線パターンの隙間にダミーパターンを形成する場合には、配線パターンを形成する際のパターニングの際に、ダミーパターンが残るようにパターニングをしてエッチングするだけで形成することができ、また、有機層表面にダミーパターンを形成する場合には、陰極電極を蒸着法などにより形成する際に、同様に蒸着の際のマスクに、ダミーパターンの形状に合せて開口部を形成しておくだけで、何らの特別な工数や材料を必要とすることなく、簡単に形成することができる。しかも、この金属膜が配線パターンの隙間など、外光が映り込む部分に形成されることにより、外光が入射しても第1基板の他面側に設けられた円偏光板により外光は円偏光となり、その円偏光は金属膜による反射によりその回転方向が反転して円偏光板を透過することができなくなるため、表示パネルの観察者の目には入らない。一方、配線パターンや陰極電極の形成されている部分には、金属膜が形成されているため、入射した外光は同様に円偏光の回転方向が反転して再度円偏光板を透過することができなくなる。その結果、表示パネルの表示画面全体において、外光が入り込んでもその光がさらに反射して表示パネルの観察者側に戻ることはなく、暗色となり、その暗色内に有機EL発光部による発光色が観察され、非常に視認特性の優れた表示画面となる。   With this structure, for example, when a dummy pattern is formed in the gap between the wiring patterns of the first substrate, patterning is performed so that the dummy pattern remains when the wiring pattern is formed, and etching is performed. In addition, when forming a dummy pattern on the surface of the organic layer, when forming the cathode electrode by vapor deposition or the like, similarly to the mask for vapor deposition, match the shape of the dummy pattern. By simply forming the opening, it can be easily formed without requiring any special man-hours or materials. In addition, since the metal film is formed in a portion where the external light is reflected, such as a gap in the wiring pattern, the external light is reflected by the circularly polarizing plate provided on the other surface side of the first substrate even if the external light is incident. The circularly polarized light becomes circularly polarized light, and the direction of rotation of the circularly polarized light is reversed by the reflection of the metal film and cannot be transmitted through the circularly polarizing plate. On the other hand, since the metal film is formed on the part where the wiring pattern and the cathode electrode are formed, the incident external light can be similarly transmitted through the circularly polarizing plate again with the rotation direction of the circularly polarized light reversed. become unable. As a result, even if outside light enters the entire display screen of the display panel, the light is not further reflected and returned to the viewer side of the display panel, but becomes dark, and the light emission color by the organic EL light emitting unit is within the dark color. The display screen is observed and has very good visual characteristics.

つぎに、本発明の有機EL表示装置について、図面を参照しながら説明をする。本発明の有機EL表示装置は、その一実施形態の断面説明図および第1基板の電極および配線パターンが形成された状態の概略平面説明図がそれぞれ図1に示されるように、透光性の第1基板1の一面で、画素が形成される表示領域A内に第1電極(たとえば陽極電極)2が複数本縦方向に形成され、その陽極電極2上に有機層3が積層され、さらにその有機層3上に第2電極(たとえば陰極電極)4が第1電極2と直交する方向に帯状に形成されることにより有機EL発光部10が形成されている。そして、第1基板1の表示領域A外で第1電極2が形成された一面に少なくとも金属膜51を有し、第1電極2および第2電極4と接続される配線パターン5(5a、5b)が形成されている。そして、第1基板1上の配線パターン5および有機層3が設けられた部分を被覆するように第2基板(封止層)7が設けられ、第1基板1の他面側に直線偏光板と1/4波長位相差板からなる円偏光板8が設けられている。本発明では、図1(b)に第1基板1の平面概略説明図が示されるように、表示パネルの正面に露出する部分の配線パターン5の間隙部および第2電極4も配線パターン5も設けられないで、光の透過が目立つ領域の第1基板1と第2基板7との間のいずれかの層に、配線パターン5、第1電極2および第2電極4と電気的に分離して金属膜によりダミーパターン9(9a、9b、9c)が形成されていることに特徴がある。   Next, the organic EL display device of the present invention will be described with reference to the drawings. The organic EL display device of the present invention has a translucent explanatory view of one embodiment thereof and a schematic plan explanatory view of a state in which an electrode and a wiring pattern of a first substrate are formed as shown in FIG. On one surface of the first substrate 1, a plurality of first electrodes (for example, anode electrodes) 2 are formed in a vertical direction in a display area A where pixels are formed, an organic layer 3 is laminated on the anode electrode 2, and A second electrode (for example, a cathode electrode) 4 is formed on the organic layer 3 in a strip shape in a direction orthogonal to the first electrode 2, thereby forming the organic EL light emitting unit 10. And the wiring pattern 5 (5a, 5b) which has at least the metal film 51 on one surface where the first electrode 2 is formed outside the display area A of the first substrate 1 and is connected to the first electrode 2 and the second electrode 4. ) Is formed. And the 2nd board | substrate (sealing layer) 7 is provided so that the part in which the wiring pattern 5 and the organic layer 3 on the 1st board | substrate 1 were provided may be provided, and a linearly-polarizing plate is provided on the other surface side of the 1st board | substrate 1. And a circularly polarizing plate 8 made of a quarter-wave retardation plate. In the present invention, as shown in a schematic plan view of the first substrate 1 in FIG. 1 (b), the gap portion of the wiring pattern 5 exposed on the front surface of the display panel and the second electrode 4 and the wiring pattern 5 are both The wiring pattern 5, the first electrode 2, and the second electrode 4 are electrically separated in any layer between the first substrate 1 and the second substrate 7 in a region where light transmission is conspicuous without being provided. The dummy pattern 9 (9a, 9b, 9c) is formed by the metal film.

図1に示される例では、第1基板1の一面に配線パターン5の形成と同時にダミーパターン9が形成されている。すなわち、配線パターン5は、第1電極2および第2電極4の端子を表示パネルの端部に引き出して、信号を印加できるようにするため形成されており、図1に示される例では、第1電極(陽極電極)用配線パターン5aが第1基板1の下側に第1電極2と連続して形成されており、第2電極4と接続するための第2電極(陰極電極)用配線パターン5bが第1基板1の左右両側から下側にかけて形成されている。第1電極2は、この第1基板1の他面側から表示画像を観察するため、光を透過させる必要があり、透明電極、すなわちITOまたは酸化インジウム、酸化スズなどにより形成されている。しかし、配線パターン5(5a、5b)は画素ではないため、光を透過させる必要はなく、むしろ細くしながら低抵抗で信号を伝達する必要があるため、金属膜で形成する必要があり、図1に示される例では、第1電極2と同時にITOなどの透明導電膜52により形成された後、さらにその表面にモリブデン(Mo)などの金属膜51により形成されている。しかし、金属膜51だけで形成されてもよい。なお、配線パターン5a、5bの端部で有効表示エリアBの外側に位置する部分は、回路基板などの配線と接続する端子部5cで、金属膜51は設けられないで、ITO膜52のみからなっている。   In the example shown in FIG. 1, a dummy pattern 9 is formed on one surface of the first substrate 1 simultaneously with the formation of the wiring pattern 5. That is, the wiring pattern 5 is formed so that the terminals of the first electrode 2 and the second electrode 4 can be drawn to the end of the display panel so that a signal can be applied. In the example shown in FIG. A wiring pattern 5a for one electrode (anode electrode) is continuously formed on the lower side of the first substrate 1 with the first electrode 2, and wiring for a second electrode (cathode electrode) for connection to the second electrode 4 is provided. A pattern 5b is formed from the left and right sides of the first substrate 1 to the lower side. The first electrode 2 needs to transmit light in order to observe a display image from the other surface side of the first substrate 1, and is formed of a transparent electrode, that is, ITO, indium oxide, tin oxide, or the like. However, since the wiring pattern 5 (5a, 5b) is not a pixel, it is not necessary to transmit light, but rather it is necessary to transmit a signal with low resistance while being thinned. In the example shown in FIG. 1, after being formed simultaneously with the first electrode 2 by a transparent conductive film 52 such as ITO, a metal film 51 such as molybdenum (Mo) is further formed on the surface thereof. However, it may be formed only by the metal film 51. In addition, the part located outside the effective display area B at the end portions of the wiring patterns 5a and 5b is a terminal portion 5c connected to a wiring such as a circuit board. The metal film 51 is not provided, and only from the ITO film 52. It has become.

この第2電極用配線パターン5bは、後述する第1電極2上に有機層3および第2電極4が形成される際に、第2電極4が接続領域6上まで延びて形成されることにより、第2電極用配線パターン5bの一端部である接続領域6で、第2電極4と接続され、第1電極2の左右両側部から下端部にかけて形成されている。そして、第1基板1の下端部に両電極の端子部5cが全て整列されているが、第1基板1の一辺側に揃える必要はなく、上下両端部側に引き出してもよく、左右両辺を使用することもできる。   The second electrode wiring pattern 5b is formed by extending the second electrode 4 to the connection region 6 when the organic layer 3 and the second electrode 4 are formed on the first electrode 2 described later. In the connection region 6 which is one end portion of the second electrode wiring pattern 5b, it is connected to the second electrode 4 and formed from the left and right side portions to the lower end portion of the first electrode 2. The terminal portions 5c of both electrodes are all aligned at the lower end portion of the first substrate 1, but it is not necessary to align them on one side of the first substrate 1, and they may be drawn out to both the upper and lower end portions. It can also be used.

図1に示される例では、第1基板1の一辺側にすべての電極2、4の端子が配線パターン5aおよび5bにより引き出されているため、第1電極用配線パター5aのグループと第2電極用配線パターン5bのグループとの間に隙間が形成され、第1のダミーパターン9aが形成され、第2電極用配線パターン5bの上部側は配線パターンが少なくなるため、配線パターン9のない隙間が形成され、その隙間に第2のダミーパターン9bが形成されている。さらに、図1に示される例では、配線パターン9が全て第1基板1の下側に引き出されていることにも起因して、第1基板1の上側にも隙間が形成されており、その隙間に第3のダミーパターン9cが形成されている。すなわち、第1基板1の一面では、表示領域(画素の形成される領域)A以外の有効表示エリアB(枠体で覆われないで表示パネルの正面に出る領域)は、ほぼ全域に亘って、10μm以下程度の間隙部があるだけで、それ以外は金属膜(配線パターン5および第2電極4)により被覆されている。   In the example shown in FIG. 1, since the terminals of all the electrodes 2 and 4 are drawn out by the wiring patterns 5a and 5b on one side of the first substrate 1, the group of the first electrode wiring pattern 5a and the second electrode A gap is formed with the group of wiring patterns 5b, the first dummy pattern 9a is formed, and the number of wiring patterns on the upper side of the second electrode wiring pattern 5b is reduced. The second dummy pattern 9b is formed in the gap. Further, in the example shown in FIG. 1, a gap is also formed on the upper side of the first substrate 1 due to the fact that all the wiring patterns 9 are drawn to the lower side of the first substrate 1. A third dummy pattern 9c is formed in the gap. That is, on one surface of the first substrate 1, the effective display area B (the area that is not covered by the frame and that faces the front of the display panel) other than the display area (the area where the pixels are formed) A substantially covers the entire area. There are only gaps of about 10 μm or less, and the other portions are covered with a metal film (wiring pattern 5 and second electrode 4).

図1に示される例では、ダミーパターン9がいずれも第1基板1に形成されていたが、たとえば第3のダミーパターン9cや第2のダミーパターン9bであれば、第2電極4を形成する際に、有機層3の表面に形成することもできる。また、後述するように、第2基板7の内面などに予め形成しておくことができる。すなわち、第1基板1と第2基板7との間のいずれかの層上に形成されていればよい。このような有機層3上や第2基板7などに設ける場合には、配線パターン5との接触を心配する必要がないため、大きめのパターンで形成しておくこともできる。   In the example shown in FIG. 1, the dummy patterns 9 are all formed on the first substrate 1, but the second electrode 4 is formed in the case of the third dummy pattern 9c or the second dummy pattern 9b, for example. In this case, it can be formed on the surface of the organic layer 3. Further, as will be described later, it can be formed in advance on the inner surface of the second substrate 7 or the like. In other words, it may be formed on any layer between the first substrate 1 and the second substrate 7. When it is provided on such an organic layer 3 or the second substrate 7, it is not necessary to worry about contact with the wiring pattern 5, so it can be formed in a larger pattern.

透明基板1としては、ガラス、およびポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリフェニレンスルフィド膜、ポリパラキシレン膜などの各種絶縁性プラスティックなどの透明基板を用いることができる。大きさは、表示デバイスの所望の大きさに合せて自由に設定することができるが、たとえば25mm×20mm程度で、0.7mm厚程度のガラス基板が用いられる。   As the transparent substrate 1, transparent substrates such as glass and various insulating plastics such as a polyimide film, a polyester film, a polyethylene film, a polyphenylene sulfide film, and a polyparaxylene film can be used. The size can be freely set according to the desired size of the display device. For example, a glass substrate of about 25 mm × 20 mm and a thickness of about 0.7 mm is used.

有機EL発光部10は、第1電極2、有機層3、第2電極4からなっており、第1電極2は、たとえばITOを全面に真空蒸着などにより形成した後にフォトリソ工程でパターニングすることにより、数μm〜数十μm程度間隔で、たとえば150μm程度の幅の帯状電極を、たとえば横に96本程度形成されている。その上に有機層3が全面に形成され、その上にメタルマスクを用いてAlなどの金属膜を真空蒸着で形成し、第1電極2と直交する方向に64本程度の第2電極4を数μm〜数十μm程度の間隔で、150μm程度の幅に形成されている。ただし、陰極(第2電極)の間隔は、あまり広くなると外光の映り込みが目立ちやすくなるため、10μm程度以下にすることが好ましい。   The organic EL light emitting unit 10 includes a first electrode 2, an organic layer 3, and a second electrode 4. The first electrode 2 is formed, for example, by forming ITO on the entire surface by vacuum deposition or the like and then patterning it by a photolithography process. For example, about 96 strip electrodes having a width of, for example, about 150 μm are formed at intervals of about several μm to several tens of μm. An organic layer 3 is formed on the entire surface, and a metal film such as Al is formed thereon by vacuum deposition using a metal mask. About 64 second electrodes 4 are formed in a direction perpendicular to the first electrodes 2. They are formed with a width of about 150 μm at intervals of about several μm to several tens of μm. However, the interval between the cathodes (second electrodes) is preferably about 10 μm or less because the reflection of external light becomes conspicuous if the distance becomes too large.

有機層3は、たとえば第1電極2が陽極電極の場合、たとえば図2に示されるように、正孔輸送層31、発光層32および電子輸送層33からなる構造に形成され、さらに第2電極(陰極電極)4との間に電子注入層4aが形成されているが、有機層3は、この3層構造に制限されるものではなく、少なくとも発光層が形成されていればよく、また、それぞれの層もさらに複層にすることもできる。また、陽極と陰極が上下逆になる場合には、有機層3の積層構造も逆になる。   For example, when the first electrode 2 is an anode electrode, the organic layer 3 is formed in a structure including a hole transport layer 31, a light emitting layer 32, and an electron transport layer 33 as shown in FIG. The electron injection layer 4a is formed between the (cathode electrode) 4 and the organic layer 3 is not limited to this three-layer structure, as long as at least a light emitting layer is formed, Each layer can also be made into multiple layers. Further, when the anode and the cathode are turned upside down, the laminated structure of the organic layer 3 is also reversed.

正孔輸送層31は、一般的には発光層32への正孔注入性の向上と正孔の安定な輸送向上のため、イオン化エネルギーがある程度小さく、発光層32への電子の閉込め(エネルギー障壁)が可能であることを求められており、アミン系の材料、たとえばトリフェニルジアミン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族縮合環をもつアミン誘導体などが用いられ、10〜100nm、好ましくは20〜50nm程度の厚さに設けられる。また、図には示されていないが、正孔輸送層31と陽極電極3との間に正孔注入層を設け、正孔輸送層31へのキャリアの注入性をさらに向上させることも行われる。この場合も、陽極電極2からの正孔の注入性を向上させるため、イオン化エネルギーの整合性の良い材料が用いられ、代表例として、アミン系やフタロシアニン系が用いられる。図2に示される例では、正孔輸送層41として、NPBが35nmの厚さに設けられている。   The hole transport layer 31 generally has a small ionization energy to improve the hole injection property to the light emitting layer 32 and improve the stable transport of holes, and confine electrons (energy) to the light emitting layer 32. And an amine-based material such as a triphenyldiamine derivative, a styrylamine derivative, an amine derivative having an aromatic condensed ring, and the like is used, and it is 10 to 100 nm, preferably 20 to 50 nm. Provided to a thickness of about. Although not shown in the figure, a hole injection layer is provided between the hole transport layer 31 and the anode electrode 3 to further improve the carrier injection property to the hole transport layer 31. . Also in this case, in order to improve the injectability of holes from the anode electrode 2, a material having good ionization energy consistency is used, and as a typical example, an amine or phthalocyanine is used. In the example shown in FIG. 2, NPB is provided as a hole transport layer 41 with a thickness of 35 nm.

発光層32としては、発光波長に応じて選択されるが、たとえば青色系の材料として、DSA系などの材料が用いられ、緑色および赤色の発光材料として、Alqなどが用いられ、35nm程度の厚さに設けられる。この発光層32は、有機物蛍光材料をドーピングすることにより、ドーピング材料固有の発光色を得ることができ、また、発光効率や安定性を向上させることができる。このドーピングは、発光材料に対して数重量(wt)%程度(0.1〜20wt%)で行われる。   The light emitting layer 32 is selected according to the emission wavelength. For example, a DSA-based material is used as a blue material, Alq is used as a green and red light-emitting material, and the thickness is about 35 nm. Is provided. The light emitting layer 32 can obtain an emission color unique to the doping material by doping an organic fluorescent material, and can improve the light emission efficiency and stability. This doping is performed at about several weight (wt)% (0.1 to 20 wt%) with respect to the light emitting material.

蛍光性物質としては、キナクリドン、ルブレン、スチリル系色素などを用いることができる。また、キノリン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、コロネン、12−フタロペリノン誘導体、フェニルアントラセン誘導体、テトラアリールエテン誘導体などを用いることができる。また、それ自体で発光が可能なホスト物質と組み合せて使用することが好ましく、ホスト物質としては、キノリノラト錯体が好ましく、8−キノリノールまたはその誘導体を配位子とするアルミニウム錯体が好ましく、その他に、フェニルアントラセン誘導体やテトラアリールエテン誘導体などを用いることができる。   As the fluorescent substance, quinacridone, rubrene, styryl dyes and the like can be used. Alternatively, quinoline derivatives, tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, 12-phthaloperinone derivatives, phenylanthracene derivatives, tetraarylethene derivatives, and the like can be used. Further, it is preferably used in combination with a host material capable of emitting light by itself, and as the host material, a quinolinolato complex is preferable, an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand is preferable, A phenylanthracene derivative, a tetraarylethene derivative, or the like can be used.

電子輸送層33は、陰極電極4からの電子の注入性を向上させる機能および電子を安定に輸送する機能を有するもので、図2に示される例では、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)が25nmの厚さに設けられている。この層が余り厚くなると、発光層ではなくこの層で発光するため、余り厚くはしないで、通常は10〜80nm、好ましくは2〜50nm程度の厚さに設けられる。電子輸送層33としては、上記材料の他に、キノリン誘導体、8−キノリノールないしその誘導体を配位子とする金属錯体、フェニルアントラセン誘導体、テトラアリールエテン誘導体などを用いることができる。この電子輸送層33と陰極電極4との間でギャップが大きい場合には、正孔側と同様に、LiFなどからなる電子注入層4aが設けられる。   The electron transport layer 33 has a function of improving the injectability of electrons from the cathode electrode 4 and a function of stably transporting electrons. In the example shown in FIG. 2, Alq3 (tris (8-quinolinolato) aluminum) Is provided with a thickness of 25 nm. When this layer becomes too thick, light is emitted from this layer instead of the light emitting layer. Therefore, the layer is not made too thick, and is usually provided in a thickness of about 10 to 80 nm, preferably about 2 to 50 nm. As the electron transport layer 33, in addition to the above materials, a quinoline derivative, a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, a phenylanthracene derivative, a tetraarylethene derivative, or the like can be used. When the gap between the electron transport layer 33 and the cathode electrode 4 is large, an electron injection layer 4a made of LiF or the like is provided similarly to the hole side.

陰極電極とする第2電極4としては、電子注入性を向上させるため、仕事関数の小さい金属が主に用いられる。代表例としては、Mg、K、Li、Na、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zrなどが一般には用いられる。また、酸化インジウムのような透明膜を用いることもできる。これらの金属の酸化などを防止して安定化させるため、他の金属との合金化をさせることが多く、図2に示される例も、LiF層4aを介してAl層が110nm程度成膜されることにより、陰極電極4が形成されている。   As the second electrode 4 serving as the cathode electrode, a metal having a small work function is mainly used in order to improve the electron injection property. As typical examples, Mg, K, Li, Na, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Zn, Zr and the like are generally used. A transparent film such as indium oxide can also be used. In order to prevent and stabilize the oxidation of these metals, alloying with other metals is often performed. In the example shown in FIG. 2, an Al layer is formed to a thickness of about 110 nm via the LiF layer 4a. Thus, the cathode electrode 4 is formed.

第2基板7は、有機層3や電極パターン5などを保護するもので、封止部材ということもできる。この第2基板に前述のダミーパターン9を形成することもできる。この第2基板7により被覆されることにより、水分や酸素に弱い有機層3が、空気中の水蒸気や酸素などから保護される。第2基板7としては、ステンレスなどによりキャンタイプにプレス加工されたキャップが第1基板1に貼り付けられる場合もあるが、一般的には、ガラス板などの非金属板に、たとえばサンドブラストなどによりザグリ穴が設けられ、そのザグリ穴内に前述の有機EL発光部10などが収まるように透明基板1の一面側に貼着されている。また、第2基板7としては、有機EL発光部10を外気から遮断できればよいため、キャップやガラス板でなくても、表面全体に、たとえばSixyなどのパシベーション膜(封止膜)がCVD法などにより被膜される構造のものでもよい。 The 2nd board | substrate 7 protects the organic layer 3, the electrode pattern 5, etc., and can also be called a sealing member. The aforementioned dummy pattern 9 can also be formed on this second substrate. By being covered with the second substrate 7, the organic layer 3 that is weak against moisture and oxygen is protected from water vapor and oxygen in the air. As the second substrate 7, a cap pressed into a can type with stainless steel or the like may be attached to the first substrate 1, but in general, a non-metal plate such as a glass plate is used, for example, by sandblasting or the like. A counterbore hole is provided, and is attached to one surface side of the transparent substrate 1 so that the above-described organic EL light emitting unit 10 and the like are accommodated in the counterbore hole. Further, since the second substrate 7 only needs to be able to block the organic EL light emitting unit 10 from the outside air, even if it is not a cap or a glass plate, a passivation film (sealing film) such as Si x N y is formed on the entire surface. It may have a structure coated by a CVD method or the like.

円偏光板8は、振動方向がランダムな光を一定方向の振動方向のみの光にする直線偏光板と、光軸を直線偏光板の偏光軸と45°の角度をなすように設定された1/4波長の位相差板とを貼り合せることにより形成されたもので、金属膜により反射した円偏光は、偏光方向が反転し、位相が反対の光となって打ち消し合うことにより、反射した光が円偏光板を透過して戻らなくなるという性質を利用するものである。   The circularly polarizing plate 8 is a linearly polarizing plate that changes light whose vibration direction is random to light only in a certain vibration direction, and is set so that the optical axis forms an angle of 45 ° with the polarizing axis of the linearly polarizing plate. The circularly polarized light reflected by the metal film is formed by pasting together a / 4 wavelength phase difference plate, and the reflected light is reversed when the polarization direction is reversed and cancels out in opposite phases. Utilizes the property that it does not return through the circularly polarizing plate.

本発明によれば、配線パターンの隙間や画素電極のない部分にダミーパターンが形成されており、しかも表地面側に円偏光板が設けられているため、外光の反射は封じ込められ、表示画面内に外光の映り込みが生じない。そのため、背景は暗色となり、その暗色内に有機EL部で発光する画素により形成される画像が映し出され、暗色(黒色)の背景に、表示画像のみが鮮明に表示され、コントラスト比が高く、表示品位が非常に向上して視認特性の優れた有機EL表示装置が得られる。   According to the present invention, since the dummy pattern is formed in the part where there is no gap or pixel electrode in the wiring pattern and the circularly polarizing plate is provided on the surface side, the reflection of external light is confined, and the display screen There is no reflection of external light inside. Therefore, the background is dark, and the image formed by the pixels that emit light in the organic EL section is displayed in the dark color. Only the display image is clearly displayed on the dark (black) background, and the contrast ratio is high. An organic EL display device with very high quality and excellent visual characteristics can be obtained.

本発明による有機EL表示装置の一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one Embodiment of the organic electroluminescent display apparatus by this invention. 図1の有機EL発光部の構造例を示す断面説明図である。FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view illustrating a structural example of the organic EL light emitting unit in FIG. 1. 従来の有機EL表示装置の一例を示す一部断面説明図である。It is a partial cross section explanatory view showing an example of the conventional organic EL display. 従来の有機EL表示装置の一例の電極および配線パターンの配置例を示す平面説明図である。It is plane explanatory drawing which shows the example of arrangement | positioning of the electrode and wiring pattern of an example of the conventional organic electroluminescence display.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1基板
2 第1電極
3 有機層
4 第2電極
5 配線パターン
6 接続領域
7 第2基板
8 円偏光板
9 ダミーパターン
10 有機EL発光部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate 2 1st electrode 3 Organic layer 4 2nd electrode 5 Wiring pattern 6 Connection area | region 7 2nd board | substrate 8 Circularly-polarizing plate 9 Dummy pattern 10 Organic electroluminescent light emission part

Claims (3)

透光性の第1基板と、該第1基板の一面で、画素が形成される表示領域内で縦方向延出して形成される複数の第1電極と、該複数の第1電極上に積層される有機層と、該有機層上で、前記第1電極と直交する方向である横方向に設けられる複数の第2電極と、前記第1基板の表示領域外の前記一面に少なくとも金属膜を有する導電膜で形成され、前記複数の第1電極および第2電極のそれぞれと接続される複数の第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンと、前記第1基板上の前記第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンおよび前記有機層が設けられた部分を被覆するように設けられる第2基板と、前記第1基板の他面側に設けられる円偏光板とからなり、前記複数の第1電極用配線パターンおよび第2電極用配線パターンの端子の全てが、前記第1電極の一端部側である前記第1基板の一辺側に導出される有機EL表示装置であって、表示パネルの正面に表示エリアとして露出する有効表示エリアで、少なくとも前記複数の第1電極用配線パターンのグループおよび前記複数の第2電極用配線パターンのグループの境界の間隙部に第1のダミーパターンが、前記複数の第2電極用配線パターンのうち、前記一辺側から一番遠い位置の前記第2電極用配線パターンと前記有効表示エリアの前記第1電極と平行な端部との間隙部に第2のダミーパターンが、さらに前記第1電極の他端部と有効表示エリアの前記一辺側と対向する側の端部との間隙部に第3のダミーパターンが、それぞれ前記複数の第1電極用および第2電極用の配線パターン、ならびに前記複数の第1電極および第2電極と電気的に分離して金属膜により形成されてなる有機EL表示装置。 A first light-transmitting substrate, at one surface of the first substrate, a plurality of first electrode which is formed so as to extend longitudinally within the display region where the pixel is formed, on said plurality of first electrode An organic layer to be laminated; a plurality of second electrodes provided on the organic layer in a lateral direction orthogonal to the first electrode; and at least a metal film on the one surface outside the display area of the first substrate A plurality of first electrode wiring patterns and second electrode wiring patterns connected to each of the plurality of first electrodes and second electrodes, and the first electrode on the first substrate . consists a second substrate electrode wiring pattern and the second electrode wiring pattern and the organic layer is provided so as to cover the portion provided, the circularly polarizing plate provided on the other surface of the first substrate, for the first electrode wiring pattern and the second electrode before Kifuku number Effective display area all the line patterns terminals, an organic EL display device is led out to one side of the first substrate which is one end portion side of the first electrode, which is exposed as a display area in front of the display panel The first dummy pattern is at least a gap between the plurality of first electrode wiring pattern groups and the plurality of second electrode wiring pattern groups , out of the plurality of second electrode wiring patterns. a second dummy pattern in the gap portion between the first electrode and the parallel end portion of the effective display area and the second electrode wiring pattern of the farthest position from the one side end further the first electrode the third dummy pattern in the gap portion of the other end portion and the one side end and the opposite side of the end portion of the effective display area, each of the plurality of wiring patterns for the first electrode and the second electrode, and Serial plurality of first electrode and second electrode electrically separated to an organic EL display device in which made Rikatachi by the metal film. 前記第1ないし第3のダミーパターンが、前記第1基板の一面に、前記配線パターンの形成と同時に同じ材料で形成されてなる請求項1記載の有機EL表示装置。 2. The organic EL display device according to claim 1, wherein the first to third dummy patterns are formed on the one surface of the first substrate with the same material at the same time as the wiring pattern is formed. 前記第1ないし第3のダミーパターンが、前記第2電極が形成される有機層表面に、該第2電極の形成と同時に同じ材料で形成されてなる請求項1記載の有機EL表示装置。 2. The organic EL display device according to claim 1, wherein the first to third dummy patterns are formed of the same material on the surface of the organic layer where the second electrode is formed simultaneously with the formation of the second electrode.
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