JP4670589B2 - X線回折装置 - Google Patents
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Description
I=Im・Kf …(1)
ここで、Kfは補正係数であり、
Kf=−Rθ・In(ΔRI)/[1−(ΔRI)Rθ] …(2)
であり、(2)式中のΔRI、Rθは
ΔRI=IZn/I’Zn
Rθ=sinθZn/sinθm
但し、θZn:基底板13の材料である亜鉛の回折角、θm:試料の回折角である。
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材にあって少なくとも前記回折面の表面には、前記所定の金属の溶射による層が形成されていることを特徴としている。
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材にあって少なくとも前記回折面の表面に、前記所定の金属の微粒子が溶剤中に分散された塗料の吹き付け又は塗布による層が形成されていることを特徴としている。
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材は、前記所定の金属の粉体をプレス成形して形成されたものであることを特徴としている。
(1)通常の亜鉛又はアルミニウムの加工面の上にそれぞれ亜鉛又はアルミニウムを溶射する。
(2)通常の亜鉛又はアルミニウムの加工面の上に、それぞれ亜鉛又はアルミニウムの微粒子を溶剤中に分散された液体を塗布又は吹き付け、溶剤を揮発させることで亜鉛又はアルミニウムの層を残す。特に、亜鉛ではいわゆる亜鉛スプレーと呼ばれるものが低価格で市販されているので、この方法が採りやすい。
(3)基底板13全体を亜鉛又はアルミニウムの粉末をプレス成形することにより形成する。なお、この方法では、層16のみならず基底板13全体が配向を有しない状態となる。
2…ゴニオメータ
4…スリット
5…X線検出器
10…試料ホルダ
11…枠体
12…マスク板
13…基底板
13a…凹部
14…フィルタ
15…板バネ
16…層
20…試料
Claims (3)
- 試料にX線を照射し該試料で回折された回折X線を検出するX線回折装置であって、試料の背後に配置した基底標準試料の回折X線強度の試料の有無に対応した差に基づいて試料中の共存成分による吸収の影響を補正する基底標準吸収補正法を用いたX線回折定量分析を行うX線回折装置において、
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材にあって少なくとも前記回折面の表面には、前記所定の金属の溶射による層が形成されていることを特徴とするX線回折装置。 - 試料にX線を照射し該試料で回折された回折X線を検出するX線回折装置であって、試料の背後に配置した基底標準試料の回折X線強度の試料の有無に対応した差に基づいて試料中の共存成分による吸収の影響を補正する基底標準吸収補正法を用いたX線回折定量分析を行うX線回折装置において、
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材にあって少なくとも前記回折面の表面に、前記所定の金属の微粒子が溶剤中に分散された塗料の吹き付け又は塗布による層が形成されていることを特徴とするX線回折装置。 - 試料にX線を照射し該試料で回折された回折X線を検出するX線回折装置であって、試料の背後に配置した基底標準試料の回折X線強度の試料の有無に対応した差に基づいて試料中の共存成分による吸収の影響を補正する基底標準吸収補正法を用いたX線回折定量分析を行うX線回折装置において、
前記基底標準試料である所定の金属から成る基底部材と、
該基底部材の回折面に接触して配置され、分析対象である試料がその前記回折面との接触面と反対側の面に装荷されるフィルタと、
を含む試料ホルダを有し、前記基底部材は、前記所定の金属の粉体をプレス成形して形成されたものであることを特徴とするX線回折装置。
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JP2005315230A JP4670589B2 (ja) | 2005-10-28 | 2005-10-28 | X線回折装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005315230A JP4670589B2 (ja) | 2005-10-28 | 2005-10-28 | X線回折装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP4670589B2 true JP4670589B2 (ja) | 2011-04-13 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005315230A Active JP4670589B2 (ja) | 2005-10-28 | 2005-10-28 | X線回折装置 |
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- 2005-10-28 JP JP2005315230A patent/JP4670589B2/ja active Active
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