JP4667928B2 - Level conversion circuit and semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、電源電圧の異なる回路相互間の接続に用いられるレベルコンバート回路およびレベルコンバート回路が構成される半導体装置に関する。   The present invention relates to a level conversion circuit used for connection between circuits having different power supply voltages and a semiconductor device including the level conversion circuit.

電源電圧の異なる回路相互間を接続する場合、例えば、高電源電圧側の回路の入力に対して、低電源電圧側の回路から信号を出力する場合には、低電源電圧側の回路における出力の振幅レベルを高電源電圧側の回路における入力の振幅レベルに変換するレベルコンバート回路が利用されている。   When connecting between circuits with different power supply voltages, for example, when outputting a signal from a circuit on the low power supply voltage side to an input of the circuit on the high power supply voltage side, A level conversion circuit that converts an amplitude level into an input amplitude level in a circuit on the high power supply voltage side is used.

レベルコンバート回路の一例として、特許文献1の図2のレベルコンバート回路が挙げられる。このレベルコンバート回路は、高電源電圧及び接地電位の経路間に直列接続された二組のNMOSトランジスタ及びPMOSトランジスタからなる。各組のNMOSトランジスタのゲートには、入力信号及び反転入力信号がそれぞれ接続され、各組のNMOSトランジスタ及びPMOSトランジスタが接続される接続点から、反転出力信号及び出力信号が取り出されている。また、各組のPMOSトランジスタのゲートは互いに他方の組の接続点にクロスカップル接続されている。例えば、入力信号により、一方の組のNMOSトランジスタが導通すると、クロスカップル接続により、他方の組のPMOSトランジスタも導通する。このとき、他方の組のNMOSトランジスタは、非導通のため、他方の組の接続点から高電源電圧をハイレベルとする信号が出力される。
このようにして、このレベルコンバート回路では、低電源電圧の回路からの入力信号及び反転入力信号に応じて、高電源電圧側の回路の入力の振幅レベルに変換された出力信号及び反転出力信号が出力される。
An example of the level conversion circuit is the level conversion circuit shown in FIG. This level conversion circuit includes two sets of NMOS transistors and PMOS transistors connected in series between paths of a high power supply voltage and a ground potential. An input signal and an inverted input signal are respectively connected to the gates of the NMOS transistors of each set, and an inverted output signal and an output signal are taken out from a connection point where the NMOS transistor and the PMOS transistor of each set are connected. The gates of the PMOS transistors in each set are cross-coupled to the other set of connection points. For example, when one set of NMOS transistors is turned on by an input signal, the other set of PMOS transistors is turned on by cross-couple connection. At this time, since the other set of NMOS transistors is non-conductive, a signal for setting the high power supply voltage to a high level is output from the connection point of the other set.
In this way, in this level conversion circuit, the output signal and the inverted output signal converted into the amplitude level of the input of the circuit on the high power supply voltage side according to the input signal and the inverted input signal from the circuit of the low power supply voltage are received. Is output.

このタイプのレベルコンバート回路は、半導体集積装置において、外部回路とのインターフェース回路として利用される機会が増えている。近年の半導体集積装置の低電源電圧化に伴い、上述した特許文献1の図2に示される回路において、半導体集積装置側からの出力が、NMOSトランジスタを導通するに足りない電圧レベルとなる場合が生じるようになった。この場合には、出力信号におけるローレベルの電位が接地電位まで下がらない、あるいは、出力信号の遷移時間が長くなり問題であった。   This type of level conversion circuit is increasingly used as an interface circuit with an external circuit in a semiconductor integrated device. With the recent reduction in power supply voltage of semiconductor integrated devices, in the circuit shown in FIG. 2 of Patent Document 1 described above, the output from the semiconductor integrated device side may be at a voltage level that is insufficient to conduct the NMOS transistor. It came to occur. In this case, the low level potential in the output signal does not drop to the ground potential, or the transition time of the output signal becomes long.

このような問題を解決するために、特許文献1の図1に示されるレベルシフタ回路が提案されている。このレベルシフタ回路は、特許文献1の図1に示される回路に加えて、アノードが第1NMOSトランジスタのバックゲートに接続され、カソードが出力信号に接続される第1ダイオードと、アノードが第2NMOSトランジスタのバックゲートに接続され、カソードが反転出力信号に接続される第2ダイオードとを備えることを特徴としている。
例えば、入力信号がローレベル、反転入力信号がハイレベルの状態から、入力信号がハイレベル、反転入力信号がローレベルの状態に遷移すると、第1NMOSトランジスタが導通制御されて、ドレインの電位が下がり始める。これにより、クロスカップル接続された第2PMOSトランジスタが導通制御されて、出力信号の電位が上がり始める。すると、第1ダイオードのバイアスが逆方向になるため、寄生容量が発生する。さらに、この寄生容量による容量結合により、第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧が上昇し、第1NMOSトランジスタの閾値電圧が下降する。閾値電圧が下降すると、第1NMOSトランジスタの導通コンダクタンスが上昇し、ドレインの電位はさらに下がることになる。このような一連のフィードバックにより、出力電圧の遷移が迅速に行われ、ひいては、所定のレベルに遷移することになる。このため、バックゲートバイアス電圧が接地電位である通常時において、入力信号及び反転入力信号が第1NMOSトランジスタの導通制御を行うのに十分な振幅レベルを持たない場合であっても、出力信号の電位を少しでも変化させることができれば、迅速に、かつ、確実に出力信号の状態を遷移させることができる。
In order to solve such a problem, a level shifter circuit shown in FIG. 1 of Patent Document 1 has been proposed. This level shifter circuit includes, in addition to the circuit shown in FIG. 1 of Patent Document 1, a first diode whose anode is connected to the back gate of the first NMOS transistor and whose cathode is connected to the output signal, and whose anode is the second NMOS transistor. And a second diode connected to the back gate and having a cathode connected to the inverted output signal.
For example, when the input signal transitions from the low level and the inverted input signal to the high level, the first NMOS transistor is turned on and the drain potential decreases when the input signal transitions to the high level and the inverted input signal to the low level. start. As a result, the second PMOS transistor connected in a cross-coupled state is subjected to conduction control, and the potential of the output signal starts to rise. Then, since the bias of the first diode is reversed, a parasitic capacitance is generated. Further, due to the capacitive coupling due to the parasitic capacitance, the back gate bias voltage of the first NMOS transistor rises and the threshold voltage of the first NMOS transistor falls. When the threshold voltage decreases, the conduction conductance of the first NMOS transistor increases and the drain potential further decreases. By such a series of feedback, the output voltage transitions quickly, and eventually transitions to a predetermined level. For this reason, even when the input signal and the inverted input signal do not have sufficient amplitude levels to control the conduction of the first NMOS transistor in the normal time when the back gate bias voltage is the ground potential, the potential of the output signal Can be changed as soon as possible, the state of the output signal can be changed quickly and reliably.

また、特許文献2の図1に開示されるレベルシフト回路は、特許文献1の図13に示される回路に加えて、ソース、ドレインがそれぞれ入力信号、第1NMOSトランジスタに、ゲートが出力信号に接続された第3PMOSトランジスタ及びソース、ドレインがそれぞれ入力信号、第2NMOSトランジスタに、ゲートが反転出力信号に接続された第4PMOSトランジスタを備えることを特徴としている。
例えば、入力信号がローレベル、反転入力信号がハイレベルの場合には、第3PMOSトランジスタは導通状態、第4PMOSトランジスタは非導通状態となる。次に入力信号がハイレベルに、反転入力信号がローレベルに遷移すると、第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧も入力信号に応じて上昇し、第1NMOSトランジスタの導通制御の閾値が下がることとなる。このため、バックゲートバイアス電圧が接地電位である通常時において、入力信号及び反転入力信号が第1NMOSトランジスタの導通制御を行うのに十分な振幅レベルを持たない場合であっても、迅速に、かつ、確実に出力信号の状態を遷移させることができる。
特開2003−143004号公報(図1、図2) 特開2003−283326号公報(図1)
In addition to the circuit shown in FIG. 13 of Patent Document 1, the level shift circuit disclosed in FIG. 1 of Patent Document 2 has a source and a drain connected to the input signal, the first NMOS transistor, and a gate connected to the output signal, respectively. The third PMOS transistor includes a fourth PMOS transistor having a source and a drain connected to an input signal, a second NMOS transistor, and a gate connected to an inverted output signal, respectively.
For example, when the input signal is at a low level and the inverted input signal is at a high level, the third PMOS transistor is turned on and the fourth PMOS transistor is turned off. Next, when the input signal transitions to the high level and the inverted input signal transitions to the low level, the back gate bias voltage of the first NMOS transistor also rises according to the input signal, and the threshold value for the conduction control of the first NMOS transistor falls. Therefore, even when the input signal and the inverted input signal do not have an amplitude level sufficient to control the conduction of the first NMOS transistor in the normal time when the back gate bias voltage is the ground potential, The state of the output signal can be reliably shifted.
JP 2003-143004 A (FIGS. 1 and 2) Japanese Patent Laying-Open No. 2003-283326 (FIG. 1)

しかしながら、特許文献1の図1のレベルシフト回路において、例えば、入力信号のハイレベルの電圧がNMOSトランジスタを導通するのに十分ではない場合には、第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を変化させることができないため、出力信号の状態を遷移させることができず問題である。   However, in the level shift circuit of FIG. 1 of Patent Document 1, for example, when the high level voltage of the input signal is not sufficient to turn on the NMOS transistor, the back gate bias voltage of the first NMOS transistor is changed. This is a problem because the state of the output signal cannot be changed.

一方、特許文献2の図1のレベルシフト回路では、例えば、入力信号がハイレベルに遷移する際、第1NMOSトランジスタのバックゲート電圧も同時に上昇するため、確実に第1NMOSトランジスタの閾値を下げることができる。しかしながら、第1NMOSトランジスタのバックゲートに電圧を印加すると、バックゲートからソースに至る経路が順方向接続となり、大きな順方向の定常電流が流れることになる。すなわち、入力信号及び反転入力信号から大きな電流が流れることになり、消費電流が増大すると共に、入力信号及び反転入力信号を出力する回路側にも影響が及ぶこととなり問題である。
また、特許文献1及び特許文献2のレベルシフト回路では、出力信号に応じてバックゲートバイアス電圧を変化させているため、出力信号が不安定な場合(例えば、中間電位になったり、ハイインピーダンス状態になったりする場合)には、バックゲートバイアス電圧を正常に変化させることができない虞が生じる。
On the other hand, in the level shift circuit of FIG. 1 of Patent Document 2, for example, when the input signal transitions to a high level, the back gate voltage of the first NMOS transistor also increases at the same time. it can. However, when a voltage is applied to the back gate of the first NMOS transistor, the path from the back gate to the source is connected in the forward direction, and a large forward current flows. That is, a large current flows from the input signal and the inverted input signal, which increases current consumption and affects the circuit side that outputs the input signal and the inverted input signal.
In the level shift circuits of Patent Document 1 and Patent Document 2, since the back gate bias voltage is changed according to the output signal, the output signal is unstable (for example, an intermediate potential or a high impedance state). In the case where the back gate bias voltage is not changed normally, the back gate bias voltage may not be changed normally.

本発明は前記背景技術の課題の少なくとも一つを解決するためになされたものであり、電源電圧の異なる回路相互間の振幅レベルの変換を迅速に、かつ、確実に行い、低消費電流で動作するレベルコンバート回路及びレベルコンバート回路が構成される半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve at least one of the above-mentioned problems of the background art, and can quickly and reliably convert amplitude levels between circuits having different power supply voltages, and operates with low current consumption. An object of the present invention is to provide a level converting circuit and a semiconductor device in which the level converting circuit is configured.

前記目的を達成するための本発明にかかる解決手段は、電源電圧が異なる回路相互間の接続に利用されるレベルコンバート回路であり、一方の回路から出力され、互いに反転する第1入力信号及び第2入力信号を入力とし、他方の回路の入力レベルに基づき振幅レベルが変換された第1出力信号及び第2出力信号を出力するレベルコンバート回路であって、前記第1入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第1出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第1NMOSトランジスタと、前記第2入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第2出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第2NMOSトランジスタと、容量結合により、前記第1入力信号のハイレベルへの遷移を前記第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第1キャパシタと、容量結合により、前記第2入力信号のハイレベルへの遷移を前記第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第2キャパシタと、を備えるレベルコンバート回路である。
また、第1キャパシタまたは第2キャパシタの容量結合により伝達された後の第1NMOSトランジスタまたは第2MOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を第1電圧とするとき、第1入力信号のローレベルへの遷移に応じて、第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を第1電圧より低電圧側の第2電圧に導通する第1スイッチ部と、第2入力信号のローレベルへの遷移に応じて、第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を第2電圧に導通する第2スイッチ部と、を備える。
In order to achieve the above object, a solution means according to the present invention is a level conversion circuit used for connection between circuits having different power supply voltages, and outputs a first input signal and a first input signal which are output from one circuit and are inverted from each other. A level conversion circuit that receives two input signals and outputs a first output signal and a second output signal whose amplitude levels are converted based on the input level of the other circuit, wherein the first input signal is converted to a high level. In response to the transition, the first NMOS transistor that conducts and controls the path from the output point of the first output signal to the ground point, and the output of the second output signal in response to the transition of the second input signal to the high level. A second NMOS transistor that conducts and controls a path from a point to a ground point, and a transition to the high level of the first input signal due to capacitive coupling. A level conversion circuit comprising: a first capacitor for transmitting a back gate bias voltage; and a second capacitor for transmitting a transition of the second input signal to a high level to the back gate bias voltage of the second NMOS transistor by capacitive coupling. It is.
Further, when the back gate bias voltage of the first NMOS transistor or the second MOS transistor after being transmitted by capacitive coupling of the first capacitor or the second capacitor is the first voltage, the first input signal is changed according to the transition to the low level. A first switch unit that conducts the back gate bias voltage of the first NMOS transistor to a second voltage lower than the first voltage, and the back of the second NMOS transistor according to the transition of the second input signal to a low level. And a second switch unit that conducts the gate bias voltage to the second voltage.

本発明のレベルコンバート回路は、容量結合により、第1入力信号のハイレベルへの遷移を第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第1キャパシタと、容量結合により、第2入力信号のハイレベルへの遷移を第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第2キャパシタと、を備えることを特徴としている。例えば、第1入力信号がハイレベルに遷移すると、容量結合により、第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧が上昇し、第1NMOSトランジスタの閾値が下がる。すなわち、出力信号のフィードバックを利用していないため、第1入力信号のハイレベルへの遷移に応じてのみ、バックゲートバイアス電圧を上昇させている。このため、バックゲートバイアス電圧を接地電位とする通常時において、第1入力信号が第1NMOSトランジスタの導通制御を行うのに十分な振幅レベルを持たない場合であっても、迅速に、かつ、確実に出力信号の状態を遷移させることができる。   The level conversion circuit of the present invention includes a first capacitor that transmits a transition of a first input signal to a high level to the back gate bias voltage of the first NMOS transistor by capacitive coupling, and a high level of the second input signal by capacitive coupling. And a second capacitor for transmitting the transition to the back gate bias voltage of the second NMOS transistor. For example, when the first input signal transitions to a high level, the back gate bias voltage of the first NMOS transistor increases due to capacitive coupling, and the threshold value of the first NMOS transistor decreases. That is, since feedback of the output signal is not used, the back gate bias voltage is increased only in response to the transition of the first input signal to the high level. Therefore, even when the first input signal does not have an amplitude level sufficient to control the conduction of the first NMOS transistor at the normal time when the back gate bias voltage is the ground potential, it can be performed quickly and reliably. The state of the output signal can be transitioned to.

また、本発明のレベルコンバート回路では、第1キャパシタ及び第2キャパシタの容量結合により、第1入力信号及び第2入力信号が、第1NMOSトランジスタ及び第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達されている。このため、第1入力信号及び第2入力信号からの定常的な電流が流れることはない。従って、低消費電力で、第1入力信号及び第2入力信号の出力回路に負担を掛けないレベルコンバート回路となし得る。   In the level conversion circuit of the present invention, the first input signal and the second input signal are transmitted to the back gate bias voltages of the first NMOS transistor and the second NMOS transistor by capacitive coupling of the first capacitor and the second capacitor. . For this reason, the stationary current from the first input signal and the second input signal does not flow. Therefore, a level conversion circuit that consumes less power and does not place a burden on the output circuit of the first input signal and the second input signal can be obtained.

第1(第2)キャパシタとしては、第1(第2)入力信号のハイレベルへの遷移を容量結合により、第1(第2)NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達できればいずれのものであってもよい。例えば、具体的には、通常の容量素子や逆方向接続されたダイオードなどを用いることができる。また、このレベルコンバート回路が集積回路で構成される場合には、MOSトランジスタのゲート酸化膜を介して得られるゲート容量や、p型及びn型の拡散層の接合により発生する寄生ダイオードに対し、逆方向バイアス電圧を印加して得られる拡散容量を用いて、第1(第2)キャパシタを構成することもできる。   As the first (second) capacitor, any capacitor can be used as long as the transition to the high level of the first (second) input signal can be transmitted to the back gate bias voltage of the first (second) NMOS transistor by capacitive coupling. May be. For example, specifically, a normal capacitive element or a diode connected in the reverse direction can be used. In addition, when this level conversion circuit is configured by an integrated circuit, for the gate capacitance obtained through the gate oxide film of the MOS transistor and the parasitic diode generated by the junction of the p-type and n-type diffusion layers, The first (second) capacitor can also be configured using a diffusion capacitance obtained by applying a reverse bias voltage.

本発明の適用により、電源電圧の異なる回路相互間のレベル変換を迅速に、かつ、確実に行い、低消費電力で動作するレベルコンバート回路及びレベルコンバート回路が構成される半導体装置を提供することができる。   By applying the present invention, it is possible to provide a level conversion circuit that performs level conversion between circuits having different power supply voltages quickly and reliably and operates with low power consumption, and a semiconductor device including the level conversion circuit. it can.

以下、本発明の実施にかかるレベルコンバート回路について具体化した実施形態を図1〜図6を参照しつつ詳細に説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a level conversion circuit according to an embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIGS.

(第1実施形態)
第1実施形態にかかるレベルコンバート回路100について、図1〜図3を参照して説明する。
レベルコンバート回路100は、図1に示すように、第1,第2PMOSトランジスタTP1,TP2と、第1〜第4NMOSトランジスタTN1〜TN4と、第1,第2キャパシタC1,C2とを備えている。また、図1には図示しない低電圧電源である第1電源で駆動されるインバータINV1,INV2が含まれる。インバータINV1は、第1入力信号VIを論理反転し、第2入力信号VIXを出力する。また、インバータINV2は、第2入力信号VIXをさらに論理反転し、第1入力信号VIと同相の入力信号VI2を出力する。
なお、第3NMOSトランジスタTN3は、請求項2における第1スイッチ部をなし、第4NMOSトランジスタTN4は、請求項2における第2スイッチ部をなしている。
(First embodiment)
The level conversion circuit 100 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the level conversion circuit 100 includes first and second PMOS transistors TP1 and TP2, first to fourth NMOS transistors TN1 to TN4, and first and second capacitors C1 and C2. FIG. 1 also includes inverters INV1 and INV2 that are driven by a first power source that is a low-voltage power source (not shown). The inverter INV1 logically inverts the first input signal VI and outputs a second input signal VIX. The inverter INV2 further inverts the logic of the second input signal VIX and outputs an input signal VI2 having the same phase as the first input signal VI.
The third NMOS transistor TN3 constitutes the first switch part in claim 2, and the fourth NMOS transistor TN4 constitutes the second switch part in claim 2.

第1NMOSトランジスタTN1は、ゲートが入力信号VI2に接続されている。この第1NMOSトランジスタTN1及び第1PMOSトランジスタTP1は、高電圧電源である第2電源VD2及び接地点GNDの間に直列接続されている。また、第1PMOSトランジスタTP1及び第1NMOSトランジスタTN1の接続点から、第1出力信号V1Oが取り出されている。
一方、第2NMOSトランジスタTN2は、ゲートが第2入力信号VIXに接続されている。この第2NMOSトランジスタTN2及び第2PMOSトランジスタTP2についても第2電源VD2及び接地点GNDの間に直列接続されている。また、第2NMOSトランジスタTN2及び第2PMOSトランジスタTP2の接続点から第2出力信号V1OXが取り出されている。
なお、第1出力信号V1Oは、第2PMOSトランジスタTP2のゲートに、第2出力信号V1OXは、第1PMOSトランジスタTP1のゲートに接続され、いわゆるクロスカップル接続をなしている。
The first NMOS transistor TN1 has a gate connected to the input signal VI2. The first NMOS transistor TN1 and the first PMOS transistor TP1 are connected in series between a second power source VD2 that is a high voltage power source and a ground point GND. A first output signal V1O is taken out from a connection point between the first PMOS transistor TP1 and the first NMOS transistor TN1.
On the other hand, the gate of the second NMOS transistor TN2 is connected to the second input signal VIX. The second NMOS transistor TN2 and the second PMOS transistor TP2 are also connected in series between the second power supply VD2 and the ground point GND. Further, the second output signal V1OX is extracted from the connection point between the second NMOS transistor TN2 and the second PMOS transistor TP2.
The first output signal V1O is connected to the gate of the second PMOS transistor TP2, and the second output signal V1OX is connected to the gate of the first PMOS transistor TP1, thereby forming a so-called cross-couple connection.

一方、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートには、他端が入力信号VI2に接続された第1キャパシタC1と、第3NMOSトランジスタTN3のドレインが接続されている。また、第2NMOSトランジスタTN2、第2キャパシタC2及び第4NMOSトランジスタTN4についても同様の関係で接続されている。このうち第3NMOSトランジスタTN3については、ゲートが第2入力信号VIXに接続され、ソースが接地点GNDに接続されている。また、第4NMOSトランジスタTN4については、ゲートが第1入力信号VIに接続され、ソースが接地点GNDに接続されている。   On the other hand, the back gate of the first NMOS transistor TN1 is connected to the first capacitor C1 whose other end is connected to the input signal VI2 and the drain of the third NMOS transistor TN3. The second NMOS transistor TN2, the second capacitor C2, and the fourth NMOS transistor TN4 are also connected in the same relationship. Among these, the third NMOS transistor TN3 has a gate connected to the second input signal VIX and a source connected to the ground point GND. The fourth NMOS transistor TN4 has a gate connected to the first input signal VI and a source connected to the ground point GND.

次いで、図2を参照して、レベルコンバート回路100の動作について説明する。図2には、第1入力信号VIがハイレベルの期間T11及び第1入力信号VIがローレベルの期間T12における各部の動作波形が示されている。   Next, the operation of the level conversion circuit 100 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows operation waveforms of respective parts in the period T11 in which the first input signal VI is at a high level and the period T12 in which the first input signal VI is at a low level.

期間T11において、第1入力信号VIがハイレベルに遷移すると、第2入力信号VIXがローレベルに遷移する。さらに、第2入力信号VIXがローレーベルに遷移すると、入力信号VI2がハイレベルに遷移する。すなわち、第1入力信号VIの変化に対して、第2入力信号VIXの変化はインバータINV1の遅延が生じ、第2入力信号VIXに対して入力信号VI2は、インバータINV2の遅延が生じている。
ここで、第2入力信号VIXがローレベルに遷移する際、ゲートが第2入力信号VIXに接続された第3NMOSトランジスタTN3は非導通状態となる。次いで、入力信号VI2がハイレベルに遷移すると、第1キャパシタC1の容量結合により、バックゲート電圧VBG11がピーク電圧Vcpまで上昇する。これと共に、第1NMOSトランジスタTN1は導通状態に遷移する。また、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートからソースに向って順方向電流が流れるため、バックゲート電圧VBG11は、その後、順方向電圧Vthに遷移する。このようなバックゲート電圧VBG11の変化により、第1NMOSトランジスタTN1には、バックゲートバイアス効果が生じて、閾値電圧が下がり、その導通状態への推移が加速される。
また、第1キャパシタC1の容量結合に先立ち、第3NMOSトランジスタTN3が非導通制御されるため、確実にバックゲート電圧VBG11の電圧を上昇することができる。
In the period T11, when the first input signal VI transitions to a high level, the second input signal VIX transitions to a low level. Furthermore, when the second input signal VIX transitions to a low label, the input signal VI2 transitions to a high level. That is, a change in the second input signal VIX causes a delay of the inverter INV1 with respect to a change in the first input signal VI, and a delay of the inverter INV2 occurs in the input signal VI2 with respect to the second input signal VIX.
Here, when the second input signal VIX transitions to a low level, the third NMOS transistor TN3 whose gate is connected to the second input signal VIX is turned off. Next, when the input signal VI2 transits to a high level, the back gate voltage VBG11 rises to the peak voltage Vcp due to capacitive coupling of the first capacitor C1. At the same time, the first NMOS transistor TN1 transitions to a conductive state. Further, since a forward current flows from the back gate to the source of the first NMOS transistor TN1, the back gate voltage VBG11 subsequently changes to the forward voltage Vth. Such a change in the back gate voltage VBG11 causes a back gate bias effect in the first NMOS transistor TN1, lowers the threshold voltage, and accelerates the transition to the conductive state.
Further, since the third NMOS transistor TN3 is controlled to be non-conductive prior to the capacitive coupling of the first capacitor C1, the voltage of the back gate voltage VBG11 can be reliably increased.

第1NMOSトランジスタTN1が導通状態に推移していくと、第1出力信号V1Oの電位が低電圧側に変化するため、第2PMOSトランジスタTP2が導通状態に推移する。また、第2NMOSトランジスタTN2は、第2入力信号VIXがゲートに入力されているため、非導通状態に推移する。これにより、第2出力信号V1OXの電位は、第2電源VD2の電位に向って遷移することになる。また、ゲートに第2出力信号V1OXが入力される第1PMOSトランジスタTP1が非導通状態に推移するため、第1出力信号V1Oの電位は、接地点GNDの電位に向って迅速に遷移することになる。   As the first NMOS transistor TN1 changes to the conductive state, the potential of the first output signal V1O changes to the low voltage side, and thus the second PMOS transistor TP2 changes to the conductive state. Further, the second NMOS transistor TN2 transitions to a non-conductive state because the second input signal VIX is input to the gate. As a result, the potential of the second output signal V1OX changes toward the potential of the second power supply VD2. In addition, since the first PMOS transistor TP1 to which the second output signal V1OX is input to the gate transitions to the non-conductive state, the potential of the first output signal V1O quickly transitions toward the potential of the ground point GND. .

また、第1入力信号VIがゲートに入力される第4NMOSトランジスタTN4は、導通制御される。これにより、第2NMOSトランジスタTN2では、バックゲート電圧VBG12が接地点GNDの電位となり、閾値電圧が通常の状態になるため、その非導通状態におけるコンダクタンスが低くなる。従って、レベルコンバート回路100では、第2PMOSトランジスタTP2及び第2NMOSトランジスタTN2を介する貫通電流を抑制することができる。   The fourth NMOS transistor TN4, to which the first input signal VI is input to the gate, is controlled for conduction. Thereby, in the second NMOS transistor TN2, the back gate voltage VBG12 becomes the potential of the ground point GND, and the threshold voltage becomes a normal state, so that the conductance in the non-conduction state is lowered. Therefore, in the level conversion circuit 100, it is possible to suppress a through current through the second PMOS transistor TP2 and the second NMOS transistor TN2.

期間T12において、第1入力信号VIがローレベルに遷移し、第2入力信号VIXがハイレベルに遷移する。また、第2入力信号VIXがハイレベルに遷移すると、入力信号VI2がローレベルに遷移する。期間T11の場合と同様に、第1入力信号VIがローレベルに遷移する際、ゲートが第1入力信号VIに接続された第4NMOSトランジスタTN4は非導通状態となる。次いで、第2入力信号VIXがハイレベルに遷移すると、第2キャパシタC2の容量結合により、バックゲート電圧VBG12がピーク電圧Vcpまで上昇し、順方向電圧Vthに遷移する。これと共に、第2NMOSトランジスタTN2は導通状態に遷移する。また、第2NMOSトランジスタTN2においても、バックゲートバイアス効果が生じて、閾値電圧が下がり、その導通状態への遷移が高速に行われることとなる。その後は、期間T11の場合と同様に、クロスカップル接続による作用により、第1出力信号V1Oの電位は、第2電源VD2に向って遷移し、第2出力信号V1OXの電位は、接地点GNDの電位に向って迅速に遷移することとなる。
また、期間T11の場合と同様に、第2キャパシタC2の容量結合に先立ち、第4NMOSトランジスタTN4が非導通制御されるため、確実にバックゲート電圧VBG12の電圧を上昇することができる。
In the period T12, the first input signal VI transitions to a low level, and the second input signal VIX transitions to a high level. When the second input signal VIX transitions to a high level, the input signal VI2 transitions to a low level. As in the case of the period T11, when the first input signal VI transitions to a low level, the fourth NMOS transistor TN4 whose gate is connected to the first input signal VI is turned off. Next, when the second input signal VIX transitions to a high level, the back gate voltage VBG12 rises to the peak voltage Vcp due to capacitive coupling of the second capacitor C2, and transitions to the forward voltage Vth. At the same time, the second NMOS transistor TN2 transitions to a conductive state. Also in the second NMOS transistor TN2, a back gate bias effect occurs, the threshold voltage decreases, and the transition to the conductive state is performed at high speed. After that, as in the case of the period T11, the potential of the first output signal V1O transitions toward the second power supply VD2 due to the action of the cross-couple connection, and the potential of the second output signal V1OX changes from the ground point GND. It will make a rapid transition toward the potential.
Similarly to the period T11, the fourth NMOS transistor TN4 is controlled to be non-conductive prior to the capacitive coupling of the second capacitor C2, so that the voltage of the back gate voltage VBG12 can be reliably increased.

また、期間T11の場合と同様に、第3NMOSトランジスタTN3により、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲート電圧VBG11が接地点GNDの電位にされる。従って、レベルコンバート回路100では、第1PMOSトランジスタTP1及び第1NMOSトランジスタTN1を介する貫通電流を抑制することができる。   Similarly to the period T11, the back gate voltage VBG11 of the first NMOS transistor TN1 is set to the potential of the ground point GND by the third NMOS transistor TN3. Therefore, in the level conversion circuit 100, a through current through the first PMOS transistor TP1 and the first NMOS transistor TN1 can be suppressed.

以上により、本実施例1にかかるレベルコンバート回路100では、第1入力信号VI及び第2入力信号VIXの変化に応じて、バックゲート電圧VBG11,VBG12を変化させることで、低電源電圧側の回路における出力の振幅レベルから、高電源電圧側の回路における入力の振幅レベルへの変換が、迅速、かつ、確実に行われる。
また、第1入力信号VI及び第2入力信号VIXの遷移を、第1キャパシタC1及び第2キャパシタC2の容量結合を利用して、第1NMOSトランジスタTN1及び第2NMOSトランジスタTN2に伝達している。このため、第1入力信号VI及び第2入力信号VIXからの定常電流が流れ込まないため、低消費電力で動作させることができ、第1入力信号VI及び第2入力信号VIXを発生する回路側にも悪影響を及ぼす虞がない。
As described above, in the level conversion circuit 100 according to the first embodiment, the back gate voltages VBG11 and VBG12 are changed in accordance with changes in the first input signal VI and the second input signal VIX, so that the circuit on the low power supply voltage side The conversion from the output amplitude level to the input amplitude level in the circuit on the high power supply voltage side is performed quickly and reliably.
In addition, the transition of the first input signal VI and the second input signal VIX is transmitted to the first NMOS transistor TN1 and the second NMOS transistor TN2 using the capacitive coupling of the first capacitor C1 and the second capacitor C2. For this reason, since a steady current from the first input signal VI and the second input signal VIX does not flow, the operation can be performed with low power consumption, and the circuit that generates the first input signal VI and the second input signal VIX is provided. There is no risk of adverse effects.

次いで、本実施例1にかかるレベルコンバート回路100が構成される半導体装置100Aのレイアウト構造を図3(A)及び(B)に示す。ここで(A)は平面図であり、(B)は(A)のAA断面模式図である。   3A and 3B show the layout structure of the semiconductor device 100A in which the level conversion circuit 100 according to the first embodiment is configured. Here, (A) is a plan view, and (B) is an AA cross-sectional schematic diagram of (A).

レベルコンバート回路100が構成される半導体装置100Aでは、P基板PSにはN−層からなるNウエルNWが形成され、このNウエルNWには互いに分離するP−層からなる第1PウエルPW1及び同じくP−層からなる第2PウエルPW2が形成されている。すなわち、P基板PS、NウエルNW及び第1PウエルPW1または第2PウエルPW2は、トリプルウエル構造を構成している。
なお、P基板PSには、第3NMOSトランジスタTN3及び第4NMOSトランジスタTN4が構成され、NウエルNWには、第1PMOSトランジスタTP1及び第2PMOSトランジスタTP2が構成されている。
In the semiconductor device 100A in which the level conversion circuit 100 is configured, an N well NW composed of an N− layer is formed on a P substrate PS. The N well NW includes a first P well PW1 composed of P− layers separated from each other and the same. A second P well PW2 made of a P− layer is formed. That is, the P substrate PS, the N well NW, and the first P well PW1 or the second P well PW2 form a triple well structure.
The P substrate PS includes a third NMOS transistor TN3 and a fourth NMOS transistor TN4, and the N well NW includes a first PMOS transistor TP1 and a second PMOS transistor TP2.

また、NウエルNWに形成されたPウエルのうち、一方の第1PウエルPW1には、第1NMOSトランジスタTN1及び第1キャパシタC1(NMOSトランジスタTNC1)が形成されている。   Of the P wells formed in the N well NW, one first P well PW1 includes a first NMOS transistor TN1 and a first capacitor C1 (NMOS transistor TNC1).

このうち第1NMOSトランジスタTN1は、P−層からなる第1PウエルPW1をバックゲートとし、2つのN+領域n1,n2をそれぞれドレイン,ソースとし、第1PウエルPW1の上方に、ゲート酸化膜GSTを介して形成されるポリシリコンPTをゲートとして形成されている。このうち、ドレインには第2出力信号V1OXが、ソースには接地点GNDが、ゲートには第1入力信号VIが、それぞれコンタクトを介してアルミ配線で接続されている。   The first NMOS transistor TN1 includes a P-layer first P well PW1 as a back gate, two N + regions n1 and n2 as drains and sources, and a gate oxide film GST above the first P well PW1. Polysilicon PT formed in this way is used as a gate. Among these, the second output signal V1OX is connected to the drain, the ground point GND is connected to the source, and the first input signal VI is connected to the gate via an aluminum wiring via a contact.

また、NMOSトランジスタTNC1は、第1PウエルPW1をバックゲートとし、2つのN+領域n3,n4をそれぞれドレイン,ソースとし、第1PウエルPW1の上方にゲート酸化膜GSTを介して形成されるポリシリコンPTをゲートとしている。このうち、ドレイン,ソース,バックゲートには、第3NMOSトランジスタTN3のドレインが、コンタクトを介してアルミ配線で接続されている。すなわち、このNMOSトランジスタTNC1は、第1PウエルPW1を一端とし、第1PウエルPW1の上方に、ゲート酸化膜GSCを介して形成されるポリシリコンPCを他端とする第1キャパシタC1を形成している。   The NMOS transistor TNC1 has a first P well PW1 as a back gate, two N + regions n3 and n4 as a drain and a source, respectively, and a polysilicon PT formed above the first P well PW1 via a gate oxide film GST. The gate. Among these, the drain of the third NMOS transistor TN3 is connected to the drain, source, and back gate by an aluminum wiring through a contact. That is, the NMOS transistor TNC1 includes a first capacitor C1 having one end of the first P well PW1 and the other end of a polysilicon PC formed via the gate oxide film GSC above the first P well PW1. Yes.

このレベルコンバート回路100が構成される半導体装置100Aでは、第1キャパシタC1の一端及び第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートが同一の第1PウエルPW1に形成されている。従って、これらを接続するためのコンタクトや配線が不要となる。また、第2キャパシタC2及び第2NMOSトランジスタTN2についても同様である。従って、レベルコンバート回路100が構成される半導体装置100Aでは、キャパシタとNMOSトランジスタを異なる基板上に形成する場合に比して、レイアウト面積を小さくすることができる。   In the semiconductor device 100A in which the level conversion circuit 100 is configured, one end of the first capacitor C1 and the back gate of the first NMOS transistor TN1 are formed in the same first P well PW1. Therefore, no contact or wiring for connecting them is required. The same applies to the second capacitor C2 and the second NMOS transistor TN2. Therefore, in the semiconductor device 100A in which the level conversion circuit 100 is configured, the layout area can be reduced as compared with the case where the capacitor and the NMOS transistor are formed on different substrates.

なお、本実施形態では、NMOSトランジスタTNC1及びNMOSトランジスタTNC2を形成し、それらのバックゲート及びゲート間に生じる寄生容量を、第1キャパシタC1及び第2キャパシタC2として利用した。本発明は、このレイアウト構造に限定されるものではない。例えば、第1PウエルPW1において、N+領域n3,n4の形成を省略して、第1PウエルPW1を一端とし、第1PウエルPW1の上方に、ゲート酸化膜GSCを介して形成されるポリシリコンPCを他端とする第1キャパシタC1を形成してもよい。   In the present embodiment, the NMOS transistor TNC1 and the NMOS transistor TNC2 are formed, and the parasitic capacitance generated between the back gate and the gate is used as the first capacitor C1 and the second capacitor C2. The present invention is not limited to this layout structure. For example, in the first P well PW1, the formation of the N + regions n3 and n4 is omitted, and the polysilicon PC formed via the gate oxide film GSC is formed above the first P well PW1 with the first P well PW1 as one end. A first capacitor C1 serving as the other end may be formed.

(第2実施形態)
次いで、第2実施形態にかかるレベルコンバート回路200について、図4〜図6を参照して説明する。
なお、レベルコンバート回路200は、レベルコンバート回路100における第1キャパシタC1及び第2キャパシタC2に代えて、第1ダイオードD1及び第2ダイオードD2を用いる点でのみ異なる。従って、以下の説明は異なる部分を中心に行い、同様な部分の説明については、簡略化あるいは省略する。
(Second Embodiment)
Next, a level conversion circuit 200 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.
The level converting circuit 200 is different only in that the first diode D1 and the second diode D2 are used instead of the first capacitor C1 and the second capacitor C2 in the level converting circuit 100. Accordingly, the following description will be focused on different parts, and description of similar parts will be simplified or omitted.

図4に示すとおり、レベルコンバート回路200は、第1,第2PMOSトランジスタTP1,TP2と、第1〜第4NMOSトランジスタTN1〜TN4と、を備えている。これらは、互いにレベルコンバート回路100と同様に接続されている。また、図4に示されているインバータINVについて、第1入力信号VIを論理反転し、第2入力信号VIXを出力することも同様である。   As shown in FIG. 4, the level conversion circuit 200 includes first and second PMOS transistors TP1 and TP2 and first to fourth NMOS transistors TN1 to TN4. These are connected to each other in the same manner as the level conversion circuit 100. The same applies to the inverter INV shown in FIG. 4 where the first input signal VI is logically inverted and the second input signal VIX is output.

第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートには、レベルコンバート回路100における第1キャパシタC1に代わり、他端が第1入力信号VIに接続された第1ダイオードD1が接続されている。従って、第1入力信号VIがローレベルからハイレベルに遷移する際、逆方向に接続された第1ダイオードD1の寄生容量による容量結合が生じ、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートの電位が上昇する。また、第2NMOSトランジスタTN2のバックゲートには、他端が第2入力信号VIXに接続された第2ダイオードD2が接続されている。従って、同様に、第2入力信号VIXがローレベルからハイレベルに遷移する際、逆方向に接続された第2ダイオードD2の寄生容量による容量結合が生じ、第2NMOSトランジスタTN2のバックゲートの電位が上昇する。   Instead of the first capacitor C1 in the level conversion circuit 100, a first diode D1 whose other end is connected to the first input signal VI is connected to the back gate of the first NMOS transistor TN1. Accordingly, when the first input signal VI transitions from the low level to the high level, capacitive coupling due to the parasitic capacitance of the first diode D1 connected in the reverse direction occurs, and the potential of the back gate of the first NMOS transistor TN1 rises. Further, a second diode D2 having the other end connected to the second input signal VIX is connected to the back gate of the second NMOS transistor TN2. Accordingly, similarly, when the second input signal VIX transitions from the low level to the high level, capacitive coupling due to the parasitic capacitance of the second diode D2 connected in the reverse direction occurs, and the potential of the back gate of the second NMOS transistor TN2 is To rise.

次いで、図5を参照して、レベルコンバート回路200の動作について説明する。図5には、第1入力信号VIがハイレベルの期間T21及び第1入力信号VIがローレベルの期間T22における各部の動作波形が示されている。   Next, the operation of the level conversion circuit 200 will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows operation waveforms of the respective parts in the period T21 in which the first input signal VI is at a high level and the period T22 in which the first input signal VI is at a low level.

期間T21において、第1入力信号VIがハイレベルに遷移すると、第1ダイオードD1には、逆方向バイアスによる寄生容量が発生する。この寄生容量の容量結合により、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲート電圧VBG11が、ピーク電圧Vcpまで上昇する。以降は、各部が第1実施形態と同様に作用し、第1出力電圧V2O及び第2出力電圧V2OXの電位は、それぞれ、接地点GND及び第2電源VD2に向って、迅速に遷移することになる。   In the period T21, when the first input signal VI transitions to a high level, a parasitic capacitance due to a reverse bias is generated in the first diode D1. Due to the capacitive coupling of the parasitic capacitance, the back gate voltage VBG11 of the first NMOS transistor TN1 rises to the peak voltage Vcp. Thereafter, each part operates in the same manner as in the first embodiment, and the potentials of the first output voltage V2O and the second output voltage V2OX are quickly shifted toward the ground point GND and the second power supply VD2, respectively. Become.

また、レベルコンバート回路200においても、レベルコンバート回路100と同様に、第4NMOSトランジスタTN4により、バックゲート電圧VBG12が接地点GNDの電位にされ、非導通状態におけるコンダクタンスが低くされる。従って、レベルコンバート回路200においても、第2PMOSトランジスタTP2及び第2NMOSトランジスタTN2を介する貫通電流を抑制することができる。   Also in the level conversion circuit 200, as with the level conversion circuit 100, the back gate voltage VBG12 is set to the potential of the ground point GND by the fourth NMOS transistor TN4, and the conductance in the non-conduction state is lowered. Therefore, also in the level conversion circuit 200, it is possible to suppress a through current through the second PMOS transistor TP2 and the second NMOS transistor TN2.

なお、第2NMOSトランジスタTN2では、第2出力電圧V2OXの電位、すなわちドレインの電位の上昇と共に、ドレイン及びバックゲート間の容量結合により、バックゲートの電位が上昇する。第2入力信号VIXがローレベルに遷移して、第2ダイオードD2は順方向バイアスとなり、バックゲートから第2入力信号VIXに向う電流が流れて、上述の第4NMOSトランジスタTN4の作用と共に、バックゲートの電位の上昇が抑制される。また、第2ダイオードD2の作用は、第2入力信号VIXの遷移に応じてなされる第4NMOSトランジスタTN4の導通制御よりも早い時点でなされる。このため、レベルコンバート回路200では、第2PMOSトランジスタTP2及び第2NMOSトランジスタTN2を介する第2電源VD2から接地点GNDへの貫通電流をより確実に抑制することができる。   In the second NMOS transistor TN2, as the potential of the second output voltage V2OX, that is, the drain potential increases, the potential of the back gate increases due to capacitive coupling between the drain and the back gate. When the second input signal VIX transitions to a low level, the second diode D2 becomes forward biased, a current flows from the back gate toward the second input signal VIX, and together with the operation of the fourth NMOS transistor TN4 described above, the back gate The rise in the potential of is suppressed. The action of the second diode D2 is performed earlier than the conduction control of the fourth NMOS transistor TN4 that is performed in response to the transition of the second input signal VIX. For this reason, in the level conversion circuit 200, the through current from the second power supply VD2 to the ground point GND via the second PMOS transistor TP2 and the second NMOS transistor TN2 can be more reliably suppressed.

なお、期間T22では、第1入力信号VIがローレベルに、第2入力信号VIXがハイレベルにそれぞれ遷移することとなる。このことにより、第1ダイオードD1に代わり、第2ダイオードD2が同様の作用を奏することとなり、以後は同様の動作となるため、説明を省略する。すなわち、第1出力電圧V2O及び第2出力電圧V2OXの電位が、それぞれ、第2電源VD2及び接地点GNDに向って、迅速に遷移することになる。   Note that in the period T22, the first input signal VI transitions to a low level, and the second input signal VIX transitions to a high level. As a result, instead of the first diode D1, the second diode D2 performs the same operation, and thereafter the same operation is performed, so that the description thereof is omitted. That is, the potentials of the first output voltage V2O and the second output voltage V2OX quickly transition toward the second power supply VD2 and the ground point GND, respectively.

また、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートの電位についても、第3NMOSトランジスタTN3及び第1ダイオードD1の作用により、第1PMOSトランジスタTP1及び第1NMOSトランジスタTN1を介する第2電源VD2から接地点GNDへの貫通電流をより確実に抑制する点についても同様である。   The potential of the back gate of the first NMOS transistor TN1 is also a through current from the second power supply VD2 to the ground point GND via the first PMOS transistor TP1 and the first NMOS transistor TN1 due to the action of the third NMOS transistor TN3 and the first diode D1. This also applies to the point of more reliably suppressing.

なお、第1入力信号VI及び第2入力信号VIXのローレベルの電位を接地点GNDの電位よりも低い電位とすることにより、第1NMOSトランジスタTN1及び第2NMOSトランジスタTN2のバックゲートの電位をより低いものとすることができる。   Note that by setting the low-level potentials of the first input signal VI and the second input signal VIX to a potential lower than the potential of the ground point GND, the potentials of the back gates of the first NMOS transistor TN1 and the second NMOS transistor TN2 are made lower. Can be.

次いで、本実施例2にかかるレベルコンバート回路200が構成される半導体装置200Aのレイアウト構造を図6(A)及び(B)に示す。ここで(A)は平面図であり、(B)は(A)のBB断面模式図である。   Next, FIGS. 6A and 6B show a layout structure of the semiconductor device 200A in which the level conversion circuit 200 according to the second embodiment is configured. Here, (A) is a plan view, and (B) is a schematic BB cross-sectional view of (A).

レベルコンバート回路200が構成される半導体装置200Aは、第一実施形態における半導体装置100Aと同様に、P基板PS、NウエルNW、第1PウエルPW1及び第2PウエルPW2からなるトリプルウエル構造で構成されている。
また、P基板PSに第3NMOSトランジスタTN3及び第4NMOSトランジスタTN4が、NウエルNWに第1PMOSトランジスタTP1及び第2PMOSトランジスタTP2が、それぞれ形成される点も同様である。
Similar to the semiconductor device 100A in the first embodiment, the semiconductor device 200A in which the level conversion circuit 200 is configured has a triple well structure including a P substrate PS, an N well NW, a first P well PW1, and a second P well PW2. ing.
Similarly, the third NMOS transistor TN3 and the fourth NMOS transistor TN4 are formed on the P substrate PS, and the first PMOS transistor TP1 and the second PMOS transistor TP2 are formed on the N well NW, respectively.

NウエルNWに形成されたPウエルのうち、一方の第1PウエルPW1には、第一実施形態における第1キャパシタC1に代わり、第1ダイオードD1が第1NMOSトランジスタTN1と共に形成されている。
このうち第1NMOSトランジスタTN1は、第一実施形態と同様に、P−層からなる第1PウエルPW1をバックゲートとし、2つのN+領域n1,n2をそれぞれドレイン,ソースとし、第1PウエルPW1の上方に、ゲート酸化膜GSTを介して形成されるポリシリコンPTをゲートとして形成されている。
Of the P wells formed in the N well NW, in one of the first P wells PW1, a first diode D1 is formed together with the first NMOS transistor TN1 instead of the first capacitor C1 in the first embodiment.
Among these, the first NMOS transistor TN1 has a P-layer first P well PW1 as a back gate, two N + regions n1 and n2 respectively as a drain and a source, and the upper portion of the first P well PW1 as in the first embodiment. In addition, polysilicon PT formed through the gate oxide film GST is used as a gate.

また、第1ダイオードD1は、第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートと同一の第1PウエルPW1をアノードAとし、第1PウエルPW1に設けられたN+領域ndをカソードKとして形成されている。すなわち、第1ダイオードD1は、第1PウエルPW1と、N+領域ndの接合により発生する寄生ダイオードを利用して形成されている。そして、第1ダイオードD1のカソードKをなすN+領域ndは、第1入力信号VIに、第1PウエルPW1は、第3NMOSトランジスタTN3のドレインに、それぞれ、コンタクトを介してアルミ配線で接続されている。   The first diode D1 is formed with the first P well PW1 identical to the back gate of the first NMOS transistor TN1 as the anode A and the N + region nd provided in the first P well PW1 as the cathode K. That is, the first diode D1 is formed using a parasitic diode generated by the junction of the first P well PW1 and the N + region nd. The N + region nd forming the cathode K of the first diode D1 is connected to the first input signal VI, and the first P well PW1 is connected to the drain of the third NMOS transistor TN3 via an aluminum wire via a contact. .

以上、NウエルNWに形成されたPウエルのうち、一方の第1PウエルPW1に形成された第1NMOSトランジスタTN1及び第1ダイオードD1のレイアウト構造について説明したが、他方の第2PウエルPW2に形成された第2NMOSトランジスタTN2及び第2ダイオードD2のレイアウト構造も同様であるので、その説明を省略する。   The layout structure of the first NMOS transistor TN1 and the first diode D1 formed in one first P well PW1 among the P wells formed in the N well NW has been described above. However, the layout structure is formed in the other second P well PW2. Since the layout structure of the second NMOS transistor TN2 and the second diode D2 is the same, the description thereof is omitted.

このレベルコンバート回路200を構成する半導体装置200Aのレイアウト構造では、第1ダイオードD1の一端及び第1NMOSトランジスタTN1のバックゲートが同一の第1PウエルPW1に形成されている。従って、これらを接続するためのコンタクトや配線が不要となる。また、第2ダイオードD2及び第2NMOSトランジスタTN2についても同様である。また、第1ダイオードD1及び第2ダイオードD2は拡散層により形成されているため、ゲート酸化膜を利用して容量を形成する場合に比して、面積あたりの容量値を大きくすることができる。
従って、レベルコンバート回路200が構成される半導体装置200Aでは、所定の容量値で容量を形成する際、ゲート酸化膜を利用して容量を形成する場合よりも、レイアウト面積を小さくすることができる。
In the layout structure of the semiconductor device 200A constituting the level conversion circuit 200, one end of the first diode D1 and the back gate of the first NMOS transistor TN1 are formed in the same first P well PW1. Therefore, no contact or wiring for connecting them is required. The same applies to the second diode D2 and the second NMOS transistor TN2. Further, since the first diode D1 and the second diode D2 are formed of a diffusion layer, the capacitance value per area can be increased as compared with the case where the capacitance is formed using the gate oxide film.
Therefore, in the semiconductor device 200A in which the level conversion circuit 200 is configured, when the capacitance is formed with a predetermined capacitance value, the layout area can be made smaller than when the capacitance is formed using the gate oxide film.

なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることは言うまでもない。
例えば、第一実施形態及び第二実施形態では、NMOSトランジスタが非導通の状態の際に、バックゲートバイアス電圧を接地電位に接続するNMOSトランジスタを用いた例を示したが、制御信号に応じてスイッチング動作をする素子であればよく、バイポーラ素子やガリウム砒素素子などを用いることもできる。あるいは、このスイッチング用のNMOSトランジスタを省略して構成することもできる。
また、第一実施形態及び第二実施形態では、半導体装置に構成されたレベルコンバート回路について例示したが、個別の素子で構成されたレベルコンバート回路についても本発明は適用される。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the first embodiment and the second embodiment, the example in which the NMOS transistor that connects the back gate bias voltage to the ground potential when the NMOS transistor is in the non-conductive state is shown, but depending on the control signal Any element that performs a switching operation may be used, and a bipolar element, a gallium arsenide element, or the like can also be used. Alternatively, it is also Rukoto forming structure by omitting the NMOS transistor for the switching.
In the first embodiment and the second embodiment, the level conversion circuit configured in the semiconductor device has been exemplified. However, the present invention is also applied to the level conversion circuit configured by individual elements.

ここで、本発明の技術思想により、背景技術における課題を解決するための手段を以下に列記する。
(付記1) 電源電圧が異なる回路相互間の接続に利用されるレベルコンバート回路であり、一方の回路から出力され、互いに反転する第1入力信号及び第2入力信号を入力とし、他方の回路の入力レベルに基づき振幅レベルが変換された第1出力信号及び第2出力信号を出力するレベルコンバート回路であって、前記第1入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第1出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第1NMOSトランジスタと、前記第2入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第2出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第2NMOSトランジスタと、容量結合により、前記第1入力信号のハイレベルへの遷移を前記第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第1キャパシタと、容量結合により、前記第2入力信号のハイレベルへの遷移を前記第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第2キャパシタと、を備えるレベルコンバート回路。
(付記2) 付記1に記載のレベルコンバート回路であって、前記第1キャパシタまたは前記第2キャパシタの容量結合により伝達された後の前記第1NMOSトランジスタまたは前記第2MOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を第1電圧とするとき、前記第1NMOSトランジスタが非導通状態である場合に、前記第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を前記第1電圧より低電圧側の第2電圧にする第1スイッチ部と、前記第2NMOSトランジスタが非導通状態である場合に、前記第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を前記第2電圧にする第2スイッチ部と、を備えるレベルコンバート回路。
(付記3) 付記2に記載のレベルコンバート回路であって、前記第2電圧は、接地電位であるレベルコンバート回路。
(付記4) 付記2に記載のレベルコンバート回路であって、前記第1スイッチ部は、第3NMOSトランジスタを含み、前記第2スイッチ部は、第4NMOSトランジスタを含むレベルコンバート回路。
(付記5) 付記2に記載のレベルコンバート回路であって、前記第1NMOSトランジスタのバックゲートに対する容量結合による前記第1入力信号のハイレベルへの遷移の伝達に先立ち、前記第1スイッチ部が非導通制御され、前記第2NMOSトランジスタのバックゲートに対する容量結合による前記第2入力信号のハイレベルへの遷移の伝達に先立ち、前記第2スイッチ部が非導通制御されるレベルコンバート回路。
(付記6) 付記1に記載のレベルコンバート回路であって、前記第1キャパシタは、前記第1NMOSトランジスタのバックゲートから前記第1入力信号に至る経路に順方向に接続される第1ダイオードを含み、前記第2キャパシタは、前記第2NMOSトランジスタのバックゲートから前記第2入力信号に至る経路に順方向に接続される第2ダイオードを含むレベルコンバート回路。
(付記7) 付記1に記載のレベルコンバート回路が構成される半導体集積装置であって、前記第1キャパシタは、一端が前記第1NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第1Pウエルに形成され、他端がゲート酸化膜を介して形成されてなり、前記第2キャパシタは、一端が前記第2NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第2Pウエルに形成され、他端がゲート酸化膜を介して形成されてなる半導体集積装置。
(付記8) 付記5に記載のレベルコンバート回路が構成される半導体集積装置であって、前記第1ダイオードは、アノードが前記第1NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第1Pウエルに形成され、カソードが前記第1Pウエルに設けられたn型領域に形成されてなり、前記第2ダイオードは、アノードが前記第2NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第2Pウエル部に形成され、カソードが前記第2Pウエルに設けられたn型領域に形成されてなる半導体集積装置。
Here, the means for solving the problems in the background art according to the technical idea of the present invention are listed below.
(Supplementary note 1) A level conversion circuit used for connection between circuits having different power supply voltages. The first input signal and the second input signal which are output from one circuit and are inverted from each other are input to the other circuit. A level conversion circuit that outputs a first output signal and a second output signal, the amplitude level of which is converted based on an input level, in response to a transition of the first input signal to a high level. The first NMOS transistor that controls conduction from the output point to the ground point, and the path from the output point of the second output signal to the ground point according to the transition of the second input signal to the high level. A first NMOS for transmitting a transition of the first input signal to a high level to a back gate bias voltage of the first NMOS transistor by capacitive coupling with the second NMOS transistor. A level conversion circuit comprising: a capacitor; and a second capacitor for transmitting a transition to a high level of the second input signal to a back gate bias voltage of the second NMOS transistor by capacitive coupling.
(Supplementary note 2) The level conversion circuit according to supplementary note 1, wherein a back gate bias voltage of the first NMOS transistor or the second MOS transistor after being transmitted by capacitive coupling of the first capacitor or the second capacitor A first switch unit for setting a back gate bias voltage of the first NMOS transistor to a second voltage lower than the first voltage when the first NMOS transistor is in a non-conducting state, A level conversion circuit comprising: a second switch unit that sets a back gate bias voltage of the second NMOS transistor to the second voltage when the second NMOS transistor is non-conductive.
(Supplementary Note 3) The level conversion circuit according to Supplementary Note 2, wherein the second voltage is a ground potential.
(Supplementary note 4) The level conversion circuit according to supplementary note 2, wherein the first switch unit includes a third NMOS transistor, and the second switch unit includes a fourth NMOS transistor.
(Supplementary Note 5) In the level conversion circuit according to Supplementary Note 2, prior to transmission of a transition of the first input signal to a high level by capacitive coupling with a back gate of the first NMOS transistor, the first switch unit is not turned on. A level conversion circuit in which conduction is controlled and the second switch unit is controlled to be non-conducting prior to transmission of a transition of the second input signal to a high level by capacitive coupling to the back gate of the second NMOS transistor.
(Supplementary note 6) The level conversion circuit according to supplementary note 1, wherein the first capacitor includes a first diode connected in a forward direction to a path from a back gate of the first NMOS transistor to the first input signal. The second capacitor includes a second diode connected in a forward direction to a path from the back gate of the second NMOS transistor to the second input signal.
(Supplementary note 7) The semiconductor integrated device having the level conversion circuit according to supplementary note 1, wherein one end of the first capacitor is formed in a first P well that is the same as the back gate of the first NMOS transistor, and the other end. Is formed through a gate oxide film, one end of the second capacitor is formed in the same second P well as the back gate of the second NMOS transistor, and the other end is formed through a gate oxide film. Semiconductor integrated device.
(Supplementary Note 8) In the semiconductor integrated device in which the level conversion circuit according to Supplementary Note 5 is configured, the first diode has an anode formed in the same first P well as a back gate of the first NMOS transistor, and a cathode. The second diode is formed in an n-type region provided in the first P well. The second diode has an anode formed in the same second P well portion as a back gate of the second NMOS transistor, and a cathode formed in the second P well. A semiconductor integrated device formed in an n-type region provided.

第一実施形態の回路図である。It is a circuit diagram of a first embodiment. 第一実施形態の動作を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows operation | movement of 1st embodiment. 第一実施形態のレイアウト構造を示すレイアウト図である。(A)は平面図、(B)はAA断面の模式図である。It is a layout figure which shows the layout structure of 1st embodiment. (A) is a top view, (B) is a schematic diagram of an AA cross section. 第二実施形態の回路図である。It is a circuit diagram of a second embodiment. 第二実施形態の動作を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows operation | movement of 2nd embodiment. 第二実施形態のレイアウト構造を示すレイアウト図である。(A)は平面図、(B)はBB断面の模式図である。It is a layout figure which shows the layout structure of 2nd embodiment. (A) is a top view, (B) is a schematic diagram of a BB cross section.

100 レベルコンバート回路
100A (レベルコンバート回路100が構成される)半導体装置
200 レベルコンバート回路
200A (レベルコンバート回路200が構成される)半導体装置
C1 第1キャパシタ
C2 第2キャパシタ
D1 第1ダイオード
D2 第2ダイオード
GSC、GST ゲート酸化膜
NW Nウエル
PS P基板
PW1 第1Pウエル
PW2 第2Pウエル
TN1 第1NMOSトランジスタ
TN2 第2NMOSトランジスタ
TN3 第3NMOSトランジスタ(第1スイッチ部)
TN4 第4NMOSトランジスタ(第2スイッチ部)
TP1 第1PMOSトランジスタ
TP2 第2PMOSトランジスタ
VBG11 バックゲート電圧
VBG12 バックゲート電圧
VD2 第2電源
100 level conversion circuit 100A (constitutes level conversion circuit 100) semiconductor device 200 level conversion circuit 200A (contains level conversion circuit 200) semiconductor device C1 first capacitor C2 second capacitor D1 first diode D2 second diode GSC, GST Gate oxide film NW N well PS P substrate PW1 First P well PW2 Second P well TN1 First NMOS transistor TN2 Second NMOS transistor TN3 Third NMOS transistor (first switch part)
TN4 Fourth NMOS transistor (second switch part)
TP1 First PMOS transistor TP2 Second PMOS transistor VBG11 Back gate voltage VBG12 Back gate voltage VD2 Second power supply

Claims (4)

電源電圧が異なる回路相互間の接続に利用されるレベルコンバート回路であり、一方の回路から出力され、互いに反転する第1入力信号及び第2入力信号を入力とし、他方の回路の入力レベルに基づき振幅レベルが変換された第1出力信号及び第2出力信号を出力するレベルコンバート回路であって、
前記第1入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第1出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第1NMOSトランジスタと、
前記第2入力信号のハイレベルへの遷移に応じて、前記第2出力信号の出力点から接地点に至る経路を導通制御する第2NMOSトランジスタと、
容量結合により、前記第1入力信号のハイレベルへの遷移を前記第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第1キャパシタと、
容量結合により、前記第2入力信号のハイレベルへの遷移を前記第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧に伝達する第2キャパシタと、
前記第1キャパシタまたは前記第2キャパシタの容量結合により伝達された後の前記第1NMOSトランジスタまたは前記第2MOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を第1電圧とするとき、
前記第1入力信号のローレベルへの遷移に応じて、前記第1NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を前記第1電圧より低電圧側の第2電圧に導通する第1スイッチ部と、
前記第2入力信号のローレベルへの遷移に応じて、前記第2NMOSトランジスタのバックゲートバイアス電圧を前記第2電圧に導通する第2スイッチ部と、
を備えるレベルコンバート回路。
This is a level conversion circuit used for connection between circuits having different power supply voltages. The first input signal and the second input signal that are output from one circuit and are inverted from each other are input and based on the input level of the other circuit. A level conversion circuit for outputting a first output signal and a second output signal whose amplitude levels have been converted,
A first NMOS transistor for controlling conduction of a path from an output point of the first output signal to a ground point in response to a transition of the first input signal to a high level;
A second NMOS transistor for controlling conduction of a path from an output point of the second output signal to a ground point in response to a transition of the second input signal to a high level;
A first capacitor for transmitting a transition to a high level of the first input signal to a back gate bias voltage of the first NMOS transistor by capacitive coupling;
A second capacitor for transmitting a transition to a high level of the second input signal to a back gate bias voltage of the second NMOS transistor by capacitive coupling;
When the back gate bias voltage of the first NMOS transistor or the second MOS transistor after being transmitted by capacitive coupling of the first capacitor or the second capacitor is a first voltage,
A first switch unit for conducting a back gate bias voltage of the first NMOS transistor to a second voltage lower than the first voltage in response to a transition of the first input signal to a low level;
A second switch unit for conducting a back gate bias voltage of the second NMOS transistor to the second voltage in response to a transition of the second input signal to a low level;
A level conversion circuit comprising:
請求項1に記載のレベルコンバート回路であって、
前記第1キャパシタは、前記第1NMOSトランジスタのバックゲートから前記第1入力信号に至る経路に順方向に接続される第1ダイオードを含み、
前記第2キャパシタは、前記第2NMOSトランジスタのバックゲートから前記第2入力信号に至る経路に順方向に接続される第2ダイオードを含む
レベルコンバート回路。
The level conversion circuit according to claim 1, wherein
The first capacitor includes a first diode connected in a forward direction to a path from a back gate of the first NMOS transistor to the first input signal;
The second capacitor is a level conversion circuit including a second diode connected in a forward direction to a path from the back gate of the second NMOS transistor to the second input signal.
請求項1に記載のレベルコンバート回路が構成される半導体集積装置であって、
前記第1キャパシタは、一端が前記第1NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第1Pウエルに形成され、他端がゲート酸化膜を介して形成されてなり、
前記第2キャパシタは、一端が前記第2NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第2Pウエルに形成され、他端がゲート酸化膜を介して形成されてなる
半導体集積装置。
A semiconductor integrated device in which the level conversion circuit according to claim 1 is configured,
The first capacitor has one end formed in the same first P well as the back gate of the first NMOS transistor and the other end formed through a gate oxide film.
A semiconductor integrated device in which one end of the second capacitor is formed in the same second P well as the back gate of the second NMOS transistor, and the other end is formed through a gate oxide film.
請求項に記載のレベルコンバート回路が構成される半導体集積装置であって、
前記第1ダイオードは、アノードが前記第1NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第1Pウエルに形成され、カソードが前記第1Pウエルに設けられたn型領域に形成されてなり、
前記第2ダイオードは、アノードが前記第2NMOSトランジスタのバックゲートと同一の第2Pウエル部に形成され、カソードが前記第2Pウエルに設けられたn型領域に形成されてなる
半導体集積装置。
A semiconductor integrated device in which the level conversion circuit according to claim 2 is configured,
The first diode has an anode formed in the same first P well as the back gate of the first NMOS transistor, and a cathode formed in an n-type region provided in the first P well,
The semiconductor integrated device, wherein the second diode has an anode formed in a second P well portion that is the same as the back gate of the second NMOS transistor, and a cathode formed in an n-type region provided in the second P well.
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