JP4662750B2 - Dip coater - Google Patents
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Description
この発明は、ディップコータに関するものである。 The present invention relates to a dip coater.
回路基板の製造工程において、ディップコータが一般に使用されている。たとえば、特開平10−335793号公報(特許文献1)に記載されているものがそれである。 In a circuit board manufacturing process, a dip coater is generally used. For example, what is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-335793 (Patent Document 1).
同公報の装置では、タンクに処理液が充填される。さらに、ハンガにチャックが設けられ、チャックに回路基板がチャッキングされ、吊り下げられる。その後、タンクの上方において、アクチュエータによってハンガが下降および上昇し、回路基板が塗布液に浸漬され、その液面から引き上げられ、回路基板に塗布膜が形成される。その後、乾燥装置によって回路基板が乾燥される。 In the apparatus disclosed in the publication, a tank is filled with a processing liquid. Further, the hanger is provided with a chuck, and the circuit board is chucked and hung on the chuck. Thereafter, the hanger is lowered and raised by the actuator above the tank, the circuit board is immersed in the coating liquid, and is pulled up from the liquid surface, thereby forming a coating film on the circuit board. Thereafter, the circuit board is dried by a drying device.
さらに、同公報の装置は横型のもので、大型であり、タンクおよび乾燥装置は水平方向に並列される。そして、塗布膜の形成後、ハンガが水平方向に移動し、回路基板が乾燥装置に送られる。これによって回路基板が乾燥されるものである。 Furthermore, the apparatus of the publication is of a horizontal type and large, and the tank and the drying apparatus are arranged in parallel in the horizontal direction. And after formation of a coating film, a hanger moves to a horizontal direction and a circuit board is sent to a drying apparatus. As a result, the circuit board is dried.
ところで、最近、特殊用途部品の開発にあたって、試料に塗布膜を形成することが企図されている。そして、ディップコータによってそれを達成することが要望されているが、この場合、スペース上の問題があり、ディップコータを大幅にコンパクト化する必要がある。さらに、試料を塗布液に浸漬し、その液面から引き上げ、試料に塗布膜を形成し、乾燥装置によってそれを乾燥するだけではなく、その浸漬および乾燥を数回繰り返し、塗布膜を複数層形成することも要求され、それに適したディップコータの提供が要望されている。 By the way, recently, in developing special-purpose parts, it is contemplated to form a coating film on a sample. In addition, there is a demand for achieving this with a dip coater. In this case, however, there is a problem in space, and the dip coater needs to be greatly downsized. Furthermore, the sample is immersed in the coating liquid, pulled up from the liquid surface, and a coating film is formed on the sample. The coating film is not only dried by a drying device, but also repeatedly dipped and dried several times to form a plurality of coating films. Therefore, there is a demand for providing a dip coater suitable for this.
したがって、この発明の目的は、試料を塗布液に浸漬し、その液面から引き上げ、試料に塗布膜を形成し、乾燥装置によって試料を乾燥するディップコータにおいて、全体を大幅にコンパクト化することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to greatly reduce the overall size of a dip coater in which a sample is immersed in a coating liquid, pulled up from the liquid surface, a coating film is formed on the sample, and the sample is dried by a drying apparatus. is there.
他の目的は、試料の浸漬および乾燥を数回繰り返し、塗布膜を複数層形成することができるようにすることにある。
この発明によれば、タンクに塗布液が充填され、乾燥装置として乾燥炉が使用され、これがタンクの上方に配置される。乾燥炉は筒状のもので、上下方向にのびる。さらに、ロッドが乾燥炉を貫通し、吊り下げ手段がロッドの下端に設けられ、吊り下げ手段に試料が吊り下げられる。ロッドは中空のものである。試料は筒状のもので、多孔体であり、多数の極小孔をもつ。そして、試料の上端において、ロッドが試料に連通し、ロッドおよび試料内において、真空ポンプによってロッドが真空排気され、試料が真空排気される。さらに、乾燥炉の上方において、アクチュエータがロッドの上端に連結される。乾燥炉は試料よりも長い。そして、アクチュエータによってロッドが下降および上昇し、試料が塗布液に浸漬され、その液面から引き上げられ、試料の極小孔に塗布液が吸入され、塗布膜が形成される。その後、試料が乾燥炉に導入され、乾燥炉によって試料が乾燥される。さらに、乾燥後、ロッドが再度下降および上昇する。したがって、試料が塗布液に浸漬され、その液面から引き上げられ、試料が再度乾燥され、浸漬および乾燥が数回繰り返され、塗布膜が複数層形成され、これによって試料の極小孔が縮小される。 According to the present invention, the tank is filled with the coating liquid, and the drying furnace is used as a drying device, which is disposed above the tank. The drying furnace is cylindrical and extends vertically. Further, the rod penetrates the drying furnace, the suspension means is provided at the lower end of the rod, and the sample is suspended by the suspension means. The rod is hollow. The sample has a cylindrical shape, is a porous body, and has a large number of micropores. The rod communicates with the sample at the upper end of the sample, and the rod is evacuated by a vacuum pump in the rod and the sample, and the sample is evacuated. Furthermore, an actuator is connected to the upper end of the rod above the drying oven. The drying oven is longer than the sample. Then, the rod is lowered and raised by the actuator, the sample is immersed in the coating liquid, pulled up from the liquid surface, and the coating liquid is sucked into the microscopic hole of the sample to form a coating film. Thereafter, the sample is introduced into a drying furnace, and the sample is dried by the drying furnace. Furthermore, after drying, the rod is lowered and raised again. Therefore, the sample is immersed in the coating liquid , pulled up from the liquid surface, the sample is dried again, the immersion and drying are repeated several times, and a plurality of coating films are formed , thereby reducing the minimum pores of the sample. .
好ましい実施例では、制御装置がアクチュエータに接続され、制御装置にプログラムが組み込まれ、そのプログラムにおいて、第1および第2速度が互いに独立し、あらかじめ設定される。そして、試料を液面から引き上げるとき、制御装置によってアクチュエータがプログラム制御され、ロッドが第1速度で上昇する。さらに、試料を乾燥炉に導入し、乾燥炉によって試料を乾燥するとき、制御装置によってアクチュエータがプログラム制御され、ロッドが第2速度で上昇する。 In a preferred embodiment, a control device is connected to the actuator and a program is incorporated into the control device, in which the first and second velocities are preset independently of each other. When the sample is pulled up from the liquid level, the actuator is program-controlled by the control device, and the rod is raised at the first speed. Further, when the sample is introduced into the drying furnace and the sample is dried by the drying furnace, the actuator is program-controlled by the controller, and the rod is raised at the second speed.
以下、この発明の実施例を説明する。 Examples of the present invention will be described below.
図1はこの発明にかかるディップコータを示す。このディップコータでは、タンク1に塗布液2が充填される。タンク1は試験管状のもので、開口上端を有し、恒温槽3に収容され、支持されており、上下方向にのびる。さらに、チューブなどの接続手段4によって循環装置5と恒温槽3が接続されており、水またはシリコンオイル6を循環装置5から供給し、恒温層3に導入および排出し、循環させることができ、タンク1を定温、高温または低温に保つことができる。
FIG. 1 shows a dip coater according to the present invention. In this dip coater, the
さらに、乾燥炉7がタンク1の上方に配置され、支持されている。乾燥炉7は筒状のもので、電熱式または熱風式であり、上下方向にのびる。さらに、ロッド8が乾燥炉7を貫通し、吊り下げ手段がロッド8の下端に設けられており、吊り下げ手段に試料9が吊り下げられる。たとえば、吊り下げ手段としてボルトが使用され、ボルトによって試料9とロッド8が固定され、これによって試料9が吊り下げられる。吊り下げ手段にチャックを使用し、チャックによって試料9をチャッキングし、吊り下げることも考えられる。
Further, a
さらに、この実施例では、図2に示すように、内管10が乾燥炉7に収容され、支持され、二重筒状に配置されており、ロッド8は内管10に挿入され、乾燥炉7および内管10を貫通する。さらに、窒素導入管11が内管10に接続されており、窒素ガスを内管10に導入し、内管10内に窒素ガス雰囲気を生じさせることができる。内管10は石英ガラス製のものである。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 2, the
さらに、このディップコータでは、乾燥炉7の上方において、アクチュエータがロッド8の上端に連結されている。アクチュエータは駆動モータ12からなり、送りねじ13に連結されている。この実施例では、駆動モータ12にサーボモータまたはステッピングモータが使用され、これが送りねじ13に直結されている。送りねじ13はボールねじからなり、上下方向にのびる。さらに、ロッド8の上端において、ロッド8がキャリジ14に取り付けられ、キャリジ14はLMガイド15に支持され、案内されており、下降および上昇可能である。そして、送りねじ13がキャリジ14にねじ合わされている。したがって、送りねじ13およびキャリジ14によって駆動モータ12とロッド8が連結されているものであり、駆動モータ12によって送りねじ13を回転させ、送りねじ13によってキャリジ14およびロッド8を下降および上昇させることができる。
Further, in this dip coater, the actuator is connected to the upper end of the
さらに、制御装置16が駆動モータ12に接続されている。制御装置15は駆動モータ12をプログラム制御するためのものである。
Further, the
したがって、このディップコータにおいて、駆動モータ12および送りねじ13によってキャリジ14およびロッド8を下降および上昇させると、試料9を塗布液2に浸漬し、その液面から引き上げ、試料9に塗布膜を形成することができる。さらに、その後、駆動モータ12および送りねじ13によってキャリジ14およびロッド8を上昇させ、試料9を内管10に導入し、乾燥炉7に導入することができ、乾燥炉7によって試料9を乾燥することができる。
Therefore, in this dip coater, when the
このディップコータの場合、乾燥炉7がタンク1の上方に配置されることは前述したとおりである。したがって、特開平10−335793号公報のものと異なり、このディップコータは横型ではなく、縦型であり、タンクおよび乾燥装置を水平方向に並列する必要はない。しかも、ロッド8を下降および上昇させるだけで、試料9を塗布液2に浸漬し、その液面から引き上げ、試料9に塗布膜を形成し、その後、試料9を乾燥炉7に導入し、乾燥炉7によって試料9を乾燥することができ、その構成は簡単である。したがって、全体を大幅にコンパクト化することができ、スペース上の問題はない。
In the case of this dip coater, the
試料9を乾燥するとき、乾燥炉7からゴミが発生しても、内管10によって試料9および塗布膜を保護することができ、試料9および塗布膜にゴミが付着するおそれはない。内管10内に窒素ガス雰囲気を生じさせ、試料9および塗布膜が化学変化しないようにすることもできる。
When the
さらに、試料9の乾燥後、ロッド8を再度下降および上昇させると、試料9を塗布液2に浸漬し、その液面から引き上げ、その後、試料9を再度乾燥することもできる。したがって、浸漬および乾燥を数回繰り返し、塗布膜を複数層形成することもできる。
Further, when the
この結果、特殊用途部品の開発にあたって、試料9に塗布膜を形成するとき、ディップコータによってそれを達成することができる。たとえば、図3に示すように、試料9に筒状のものが使用される。試料9は特定の元素分子を分離させるためのもので、多孔体であり、多数の極小孔をもつ。そして、ロッド8の下端において、ボルトによって試料9とロッド8が固定される。さらに、試料9に開口上端および閉口下端が形成され、ロッド8に中空のものが使用され、試料9の上端において、ロッド8が試料9に連通する。さらに、ロッド8の上端において、チューブ17によって真空調整器18とロッド8が接続され、調整器18が真空ポンプ19に接続されており、ロッド8および試料9内において、真空ポンプ19によってロッド8が真空排気され、試料9が真空排気される。
As a result, in the development of a special-purpose part, when a coating film is formed on the
そして、試料9が塗布液2に浸漬し、その液面から引き上げられる。したがって、試料9の極小孔において、極小孔に塗布液が吸入され、塗布膜が形成される。その後、乾燥炉7によって試料9が乾燥される。さらに、浸漬および乾燥が数回繰り返され、塗布膜が複数層形成され、これによって極小孔が縮小される。極小孔は数nmの直径に縮小される。したがって、その後、試料9を元素分離装置に使用し、特定の元素分子だけを極小孔に通し、これによって特定の元素分子を分離させることができる。
And the
フォトニクス結晶などの試料において、塗布膜を複数層形成することもできる。 A plurality of coating films can be formed on a sample such as a photonics crystal.
さらに、このディップコータでは、制御装置16にプログラムが組み込まれ、そのプログラムにおいて、第1および第2速度が互いに独立し、あらかじめ設定されている。そして、試料9を液面から引き上げるとき、制御装置16によって駆動モータ12がプログラム制御され、ロッド8が第1速度で上昇する。さらに、その後、試料9を乾燥炉7に導入し、乾燥炉7によって試料9を乾燥するとき、制御装置16によって駆動モータ12がプログラム制御され、ロッド8が第2速度で上昇する。その理由は次のとおりである。
Further, in this dip coater, a program is incorporated in the
ディップコータにおいて、試料9を塗布液2に浸漬し、その液面から引き上げると、試料9に塗布膜が形成されるが、試料9が液面から引き上げられるとき、その引き上げ速度が塗布膜の厚さに関係する。引き上げ速度が低いほど、塗布膜の厚さは小さいことは一般に知られているところであるが、このディップコータでは、第1速度をあらかじめ設定することができ、試料9を液面から引き上げるとき、制御装置16によって駆動モータ12をプログラム制御し、ロッド8を第1速度で上昇させることができる。したがって、第1速度が試料9の引き上げ速度であり、たとえば、これを5mm/secの速度に保ち、塗布膜の厚さを適正厚さに保つことができる。
In the dip coater, when the
一方、試料9を乾燥炉7に導入し、乾燥炉7によって試料9を乾燥するとき、その乾燥時間が問題である。試料9を的確に乾燥するには、これを適正時間をもって乾燥する必要があるが、このディップコータでは、第2速度を第1速度から独立させ、あらかじめ設定することができ、試料9を乾燥炉7に導入し、乾燥炉7によって試料9を乾燥するとき、制御装置16によって駆動モータ12をプログラム制御し、ロッド8を第2速度で上昇させることができる。したがって、その上昇速度によって乾燥時間を調節することができ、たとえば、上昇速度を0.1mm/secの速度に保ち、試料9を適正時間をもって乾燥することができる。したがって、乾燥炉7の長さに関係なく、試料9を的確に乾燥することができる。乾燥炉7を任意に短縮することもできる。
On the other hand, when the
第2速度については、これを一定に保つこともでき、速度曲線に沿って変化させることもできる。 The second speed can be kept constant or can be varied along the speed curve.
1 タンク
2 塗布液
7 乾燥炉
8 ロッド
9 試料
12 駆動モータ
13 送りねじ
16 制御装置
DESCRIPTION OF
Claims (2)
上下方向にのび、前記タンクの上方に配置された筒状の乾燥炉と、
前記乾燥炉を貫通する中空のロッドと、
多孔体であり、多数の極小孔をもつ筒状の試料と、
前記ロッドの下端に設けられ、前記試料を吊り下げ、前記試料の上端において、前記ロッドを前記試料に連通させる吊り下げ手段と、
前記ロッドおよび試料内において、前記ロッドを真空排気し、前記試料を真空排気する真空ポンプと、
前記乾燥炉の上方において、前記ロッドの上端に連結され、前記ロッドを下降および上昇させるアクチュエータとからなり、
前記乾燥炉は前記試料よりも長く、
前記アクチュエータによって前記ロッドを下降および上昇させ、前記試料を前記塗布液に浸漬し、その液面から引き上げ、前記試料の極小孔に前記塗布液を吸入し、塗布膜を形成し、その後、前記試料を前記乾燥炉に導入し、前記乾燥炉によって前記試料を乾燥し、乾燥後、前記ロッドを再度下降および上昇させ、前記試料を前記塗布液に浸漬し、その液面から引き上げ、前記試料を再度乾燥し、浸漬および乾燥を数回繰り返し、塗布膜を複数層形成し、これによって前記試料の極小孔を縮小させるようにしたことを特徴とするディップコータ。 A tank filled with a coating solution;
A cylindrical drying furnace extending in the vertical direction and disposed above the tank;
A hollow rod penetrating the drying oven;
A cylindrical sample having a large number of extremely small holes,
A suspension means provided at a lower end of the rod, suspending the sample, and communicating the rod with the sample at an upper end of the sample ;
A vacuum pump for evacuating the rod and evacuating the sample in the rod and the sample;
Above the drying oven, connected to the upper end of the rod, comprising an actuator for lowering and raising the rod,
The drying oven is longer than the sample,
The rod is lowered and raised by the actuator, the sample is immersed in the coating liquid, pulled up from the liquid surface, and the coating liquid is sucked into a small hole of the sample to form a coating film, and then the sample Is introduced into the drying furnace, the sample is dried by the drying furnace, and after drying, the rod is lowered and raised again, the sample is immersed in the coating liquid, pulled up from the liquid surface, and the sample is again removed. dried, repeated several times dipping and drying, a dip coater coating film multiple layer formation, thereby characterized in that the so that to reduce the minimum bore of the sample.
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