JP4660940B2 - Reduction-resistant dielectric ceramic, method for manufacturing the same, and multilayer ceramic capacitor using the same - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気製品、特にACアダプター、スイッチング電源回路、DC−DCコンバータで使用される中高圧用の積層セラミックコンデンサ、特に、内部電極が卑金属から成る中高圧積層セラミックコンデンサに用いられる耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法、それを用いた積層セラミックコンデンサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、ノート型パソコン、携帯電話等に代表される様に電子機器の軽薄短小化に伴いそれに使用される重要な受動部品の1つであるセラミックコンデンサも従来の円板型から積層型への移行が急速に進み、スイッチング電源回路やDC−DCコンバータ回路、バッテリーチャージャーの小型化及び樹脂モールド化に寄与している。また、信用調査機関のデータによると西暦2005年にはセラミックコンデンサの積層化率は90%を超える事が確実であり、低定格電圧品のみならず中高圧品、更には安全規格品の領域にまで積層化が波及するのは時間の問題である。
【0003】
例えば、スイッチング電源回路の1次側スナバ用としては定格電圧が630VDCでJIS規格B特性或いはEIA規格X7R特性を満足する中高圧用積層セラミックコンデンサが多数使用されている。さらに、高周波が負荷される部分においては低発熱のSL特性の高耐圧の積層セラミックコンデンサが使用され、一大市場を形成しつつある。積層セラミックコンデンサは面実装が可能であり、低ESRで半永久的に使用できるため、寿命やESRに問題のある電解コンデンサや面実装ができないフィルムコンデンサに置き換わると思われる。そのため、中高圧で使用される積層セラミックコンデンサの需用はますます伸びると予想される。
【0004】
この積層セラミックコンデンサは、セラミック誘電体層と内部電極層が交互に複数積層され、その積層構造の上下に全体の寸法調整と内部気密封止の為の誘電体層が設けられている。内部電極層の電気的接続は、それらの終端部分が露出した両端面に端子電極を設けることによって行い、これら端子電極表面には半田付け実装を容易に且つ支障なく行える様に、Ni鍍金の上にSn鍍金又はSn−Pb系の半田鍍金が層状に施された構造となっている。
【0005】
従来から、この様な積層セラミックコンデンサに使用される誘電体組成物は、主成分であるBaTiO3に数種類の添加物を加えたものが主流であり、例えば特公平3−23504号公報にはBaTiO3にNb25とCoOを加えた組成物が開示されており、これによるとNb25とCoOが静電容量の温度変化率を平坦化する成分として作用し、EIA規格X7R特性を満足することが記載されている。同じく、特公平3−61287号公報にはBaTiO3にNb25、CoO、CeO2及びZnOを加えた組成物が開示されており、Nb25とCoOが静電容量の温度変化率を平坦化し、CeO2は焼成温度を低下し、ZnOは電気特性を改善することが記載されている。しかしながら、上記誘電体組成物は、内部電極としてPd系貴金属の使用を前提としたものであり、特に高積層数高静電容量の品種において原材料コストの面で問題があった。
【0006】
これを解決する方法として、Pd系の貴金属に代わりコストの安いNiあるいはNiを主成分とする合金を使用することが公知であり、積層セラミックコンデンサに占める卑金属内部電極品の割合は急増している。Niは卑金属であるので、従来の貴金属の積層セラミックコンデンサの様に酸素雰囲気中で焼成する事は不可能で、低酸素分圧雰囲気中においてNiが酸化されないように焼成しなければならない。セラミックコンデンサ用として公知であるBaTiO3に代表されるペロブスカイト酸化物は、1000℃以上の高温においてNiの酸化還元平衡酸素分圧以下の雰囲気に晒されると還元され、絶縁抵抗値が低下したり、電界を印加した状態での信頼性試験、いわゆる負荷寿命での不良率が増大し、コンデンサ用誘電体としての機能を果たさなくなる。
【0007】
この課題に対し、これらペロブスカイト酸化物が、AサイトとBサイトに存在するイオンの化学量論比を変化させたり、あるいは結晶格子中にドナーとなって固溶しうる、例えば遷移金属イオン等を添加したりすることによって、前述のような熱処理を行っても還元されにくくなる性質を利用して、ペロブスカイト酸化物と微量の添加物から構成される多くの耐還元性誘電体組成物が考案され、開示されている。以前の耐還元性誘電体組成物は、静電容量の温度変化率が大きいJIS規格F特性が主流であったが、近年積極的な材料開発が行われ、温度変化率が小さいJIS規格B特性或いはEIA規格X7R特性が薄層大容量積層セラミックコンデンサに適用されている。例えば特開平8−124784号公報には主成分としてBaTiO3を副成分としてMgO、Y23、BaO及びCaOから選ばれる少なくとも1種とSiO2とを含有するNi及びNi系合金等の卑金属が使用可能な耐還元性誘電体組成物が開示されている。
【0008】
また、特開平9−171938号公報にはBaTiO3系の主成分に対して、副成分としてMgO、及び焼結助剤成分としてLi2O−B23−(Si,Ti)O2系の酸化物を含有した耐還元性誘電体組成物が開示されている。これにより、静電容量の温度変化率が小さく、しかも安価なNi系の内部電極を使用した大容量の積層セラミックコンデンサが主として16〜50VDCの低定格電圧品を中心に商品化されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の耐還元性誘電体組成物は還元雰囲気中で焼成するために、主成分であるペロブスカイト酸化物が酸素欠陥を作りやすいという欠点があった。そのため、誘電体の絶縁抵抗が低くなり、CR積が小さくなる傾向にあった。また、同じ焼成炉、同じ焼成条件においてロット内及びロット間での絶縁抵抗のバラツキが大きく、絶縁抵抗の不良が大で量産性が悪かった。このように、絶縁抵抗が低いために沿面でのリークが発生しやすく、寿命試験での劣化が著しかった。
【0010】
そこで本発明は以上のような課題を解決し、絶縁抵抗が高く、CR積が大きい耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法を提供すると共に、その耐還元性誘電体セラミックを積層セラミックコンデンサに用いて、絶縁抵抗及び耐久信頼性等のばらつきが小さく、中高圧用として優れた特性を有する積層セラミックコンデンサを提供することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の耐還元性誘電体セラミックは、主成分がチタン酸バリウム又はチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムで、表面にSiO 2 −CaO−BaO又はSiO 2 −CaO−SrOを主成分とする20μm〜200μmのガラス相の斑点を有することとしたものである。
【0012】
また、その製造方法は、チタン酸バリウムまたはチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムの主成分粉末に、Ca,BaまたはSr,Siを含有する焼結助剤の粒子径を調整して、混合し、焼成して、表面にシリカを主成分とするガラス相の20μm〜200μmの斑点を析出させることしたものである。
【0013】
更に、本発明の積層セラミックコンデンサは、セラミック誘電体層間に内部電極層を備えた基体と、基体の両端部に設けられ、内部電極層と電気的に接続された一対の外部電極とを備えた積層セラミックコンデンサであって、内部電極層が卑金属で構成されると共に、前記セラミック誘電体層が本発明の耐還元性誘電体セラミックで構成されたこととしたものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
請求項1記載の発明は、主成分がチタン酸バリウム又はチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムで、表面にSiO 2 −CaO−BaO又はSiO 2 −CaO−SrOを主成分とする20μm〜200μmのガラス相の斑点を有することを特徴とする耐還元性誘電体セラミックであって、絶縁抵抗が高く、CR積が大きく、耐久信頼性及び安全性に優れた耐還元性誘電体セラミックが得られると言う作用を有する。
【0024】
請求項記載の発明は、主成分のチタン酸バリウム粉末に、Ca,Ba,Siを含有する焼結助剤の粒子径を調整して、混合し、焼成して、表面にシリカを主成分とするガラス相の20μm〜200μmの斑点を析出させることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、焼成温度を低下させることができ、高い絶縁抵抗を安定して維持でき、強度も維持可能な耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0025】
請求項記載の発明は、請求項において、主成分のチタン酸バリウム粉末に、添加剤としてDy23,MgO,Mn34から選ばれる少なくとも1種以上の粉末を混合することを特徴とする記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、温度特性や寿命特性が良好な耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0026】
請求項記載の発明は、請求項において、焼結助剤はコロイド状懸濁液として、主成分粉末に混合されることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、Ca,Ba,Siを含有する焼結助剤が、主成分のチタン酸バリウム粉末粒子の周囲に均一に分散されて混合でき、焼成時に局部的な異常反応もなく、緻密な構造の耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0027】
請求項記載の発明は、請求項において、コロイド状懸濁液は、Ca,Baの酢酸塩水溶液と、Siの金属アルコキシエタノール溶液とを攪拌混合しながらアンモニア水を滴下して作製されることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、Ca,Ba,Siを含有する焼結助剤を微細な水酸化物として形成することができると言う作用を有する。
【0028】
請求項記載の発明は、請求項において、アンモニア水の濃度によって、コロイド状懸濁液のコロイドの粒子径を調整することを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、簡単な方法でコロイドの粒子径を調整できると言う作用を有する。
【0029】
請求項記載の発明は、主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末に、Ca,Sr,Siを含有する焼結助剤の粒子径を調整して、混合し、焼成して、表面にシリカを主成分とするガラス相の20μm〜200μmの斑点を析出させることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、焼成温度を低下させることができ、高い絶縁抵抗を安定して維持でき、強度も維持可能な耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0030】
請求項記載の発明は、請求項において、主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末に、添加剤としてZrO2,CoO,Mn34から選ばれる少なくとも1種以上の粉末を混合することを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、温度特性や寿命特性が良好な耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0031】
請求項記載の発明は、請求項において、焼結助剤はコロイド状懸濁液として、主成分粉末に混合されることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、Ca,Sr,Siを含有する焼結助剤が、主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末粒子の周囲に均一に分散されて混合でき、焼成時に局部的な異常反応もなく、緻密な構造の耐還元性誘電体セラミックを得ることができると言う作用を有する。
【0032】
請求項10記載の発明は、請求項において、コロイド状懸濁液は、Ca,Srの酢酸塩水溶液と、Siの金属アルコキシエタノール溶液とを攪拌混合しながらアンモニア水を滴下して作製されることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、Ca,Sr,Siを含有する焼結助剤を微細な水酸化物として形成することができると言う作用を有する。
【0033】
請求項11記載の発明は、請求項10において、アンモニア水の濃度によって、コロイド状懸濁液のコロイドの粒子径を調整することを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法であって、簡単な方法でコロイドの粒子径を調整できると言う作用を有する。
【0034】
請求項12記載の発明は、セラミック誘電体層間に内部電極層を備えた基体と、基体の両端部に設けられ、内部電極層と電気的に接続された一対の外部電極とを備えた積層セラミックコンデンサであって、内部電極層が卑金属で構成されると共に、セラミック誘電体層が請求項1記載の耐還元性誘電体セラミックで構成されたことを特徴とする積層セラミックコンデンサであって、絶縁抵抗が高いために、沿面リークせず、破壊電圧が高く、寿命テストに優れ、耐久信頼性及び安全性に優れた積層セラミックコンデンサを実現できると言う作用を有する。
【0038】
このような本発明の耐還元性誘電体セラミックを構成する各材料や製造方法について説明する。
【0039】
耐還元性誘電体セラミックは、耐還元性誘電体組成物を焼成することにより得られるものである。本発明に用いられる還元性誘電体組成物は、チタン酸バリウム(BaTiO3)、チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム(SrTiO3−CaTiO3)等の主成分に、Dy23,MgO,Mn34,ZrO2,CoO,Mn34等の添加剤を適宜添加し、Ca,Ba,Sr,Si成分等の焼結助剤を混合するものである。
【0040】
本発明に用いられる耐還元性誘電体組成物の主成分について説明すると、高誘電率系の材料としてチタン酸バリウム、低発熱材料としてチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムを用いることができる。ここで、チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムは、0.61SrTiO3−0.39CaTiO3であることが好ましい。また、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム等の主成分の粉末は、平均粒子径と粒子径分布の幅が小さいものが好ましい。また、反応性についてはそれが小さい方がB特性あるいはX7R特性の発現が容易であるので、結晶化度の高い粉末を使用するのが好ましい。なお、チタン酸バリウム粉末を製造する工程において混入する不純物には、バリウム以外のアルカリ土類金属や鉄、珪素及びアルミニウム等があるが、これら不純物は数千ppmのオーダで含有されていても特に支障はない。また、更に、主成分としては、これらチタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム以外の材料を用いてもよい。
【0041】
また、本発明に用いられる耐還元性誘電体組成物の添加剤としては、Dy23,MgO,Mn34,ZrO2,CoO,Mn34等である。特に、主成分をチタン酸バリウムとする場合には、Dy23、MgOやMn23等を添加し、主成分をチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムとする場合には、ZrO2、CoOやMn23等を添加することによって、温度特性や寿命特性を良化させることができる。
【0042】
即ち、本発明ではチタン酸バリウムに耐還元性を持たせ、温度特性や寿命特性を良化させるために、Dy23、MgOやMn23等を微量添加し、また、低発熱材料のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムに耐還元性を持たせ、温度特性や寿命特性を良化させるために、ZrO2、CoOやMn23等を微量添加することが好ましい。
【0043】
また、焼結助剤としては、Ca,Ba,Sr,Siの酸化物があげられるが、これら焼結助剤は、主成分と添加剤を混合した粉末に添加される。そして、主成分チタン酸バリウム粉末には、Ca,Ba,Siを焼結助剤とし、主成分チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末には、Ca,Sr,Siを焼結助剤とすることが好ましい。また、焼結助剤の主成分、添加剤混合粉末への添加方法としては、焼結助剤をコロイド状懸濁液の状態で添加することが好ましい。
【0044】
このコロイド状懸濁液の添加について、主成分チタン酸バリウム粉末に、Ca,Ba,Siの焼結助剤を添加する場合で説明すると、Ca及びBaの酢酸塩水溶液とSiの金属アルコキシドエタノール溶液を攪拌混合しながら、濃度を変化させたアンモニア水等の共沈剤を滴下してCa、Ba及びSi成分を含む凝集コロイド状の溶液を作製し、コロイド状懸濁液のコロイドを熟成させ、これを主成分のチタン酸バリウム粉末及びDy23、MgOやMn23等の微量の添加剤と共に混合し、乾燥して、耐還元性誘電体組成物粉末を作製する。
【0045】
このようにコロイド状懸濁液として添加することによって、Ca、Ba及びSiを含有する微粒子が適度に分散され、主成分であるチタン酸バリウム粒子の周辺に適度にこの成分が存在するため、焼成時にシリカ主成分とするガラス相の斑点が析出し、絶縁抵抗の高い耐還元性誘電体セラミックが得られる。
【0046】
更に具体的に説明すると、誘電体組成物の主成分・添加剤混合粉末と混合するコロイド状懸濁液の出発材料であるCa、Ba及びSrの酢酸塩及びSiのアルコキシドは一般的市販品が使用可能である。なお、これらに含有される不純物は似通った化学的性質を有する金属であるため、前述のチタン酸バリウムと同様に数千ppmのオーダで含有されていても特に支障はない。また、アルコキシドを溶解させるエタノールも一般的な市販品が使用できる。
【0047】
これら酢酸塩やアルコキシドは水ーエタノール溶液中で水和したイオンとして存在し、後のアンモニア水の滴下によって微細な水酸化物をコロイド状懸濁液の形で生成し、これを主成分のチタン酸バリウム等と混合するものである。
【0048】
また、コロイドの粒子径を調整するために、アンモニア水の濃度を1〜10モル/リットルの間でコントロールする。これによって、焼成時にシリカを主成分とするガラス相の斑点の大きさをコントロールすることが可能である。
【0049】
また、焼結助剤の添加量は、Ca、Ba(或いはSr)に関しては、チタン酸バリウム(或いはチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム)100モルに対しCa、Ba(或いはSr)成分の内少なくとも1種が1.5モルを超えると誘電率が低下すると共に高温負荷寿命が劣化し、また0.5モル未満になると焼結助剤としての効果が得られず、焼成による緻密化が不完全となり最適焼成温度が高くなる。Si成分に関しても同様に、3.0モルを超えると誘電率が低下すると共に高温負荷寿命が劣化し、また1.0モル未満になると焼結助剤としての効果が得られず、焼成による緻密化が不完全となる。
【0050】
よって、本発明の焼結助剤の添加量としては、誘電体組成物の主成分に対してCa、Ba及びSr成分は1.2モル、Si成分も1.2モルとすることが好ましい。
【0051】
なお、焼結助剤はコロイド状懸濁液の形で生成し、これを主成分等の粉末と混合した場合で説明したが、コロイド状懸濁液とせず、各成分の焼結助剤を粉体そして主成分等の粉末と混合する方法でもよい。その場合には、焼成時にシリカを主成分とするガラス相の斑点の大きさをコントロールするため、混合する焼結助剤粉体を適宜分級して調整する。しかし、焼結助剤を粉体で主成分等と混合する場合、主成分粉末粒子の周囲に適度に分散させることは、コロイド状懸濁液を用いる場合に比べ容易ではないので、コロイド状懸濁液を用いる事が好ましい。
【0052】
次に、耐還元性誘電体セラミックの表面に析出するシリカを主成分とするガラス相の斑点について説明する。このガラス相の斑点は、平均径が20〜200μmの範囲内にあるものである。また、この斑点の平均径は40〜180μmが更に好ましい。そして、20μm以下では絶縁抵抗が低くなり、200μm以上では素子の強度が弱くなる。なお、本発明における斑点の平均径は、斑点の最大径と最小径をたして2で割った値である。更に、このシリカを主成分とするガラス相は、チタン酸バリウムを主成分とし、焼結助剤にCa、Ba、Si成分を用いた場合では、SiO2−CaO−BaOである。また、チタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムを主成分とし、焼結助剤成分としてCa,Sr,Siを用いた場合は、ガラス相は、SiO2−CaO−SrOである。
【0053】
そして、本発明の耐還元性誘電体セラミックは、表面に析出するシリカ主成分とするガラス相の斑点を有することにより、絶縁抵抗の高い成分の斑点が適度に分散されることにより、誘電体の絶縁抵抗が高くなり、積層セラミックコンデンサに電圧を印加した際に、沿面開始電圧が高くなった。それに伴い、空気中の絶縁破壊電圧も向上した。
【0054】
また、本発明の耐還元性誘電体セラミックを用いた積層セラミックコンデンサは、そのセラミック誘電体層が、上述した耐還元性誘電体セラミックで構成されるものである。
【0055】
以下、本発明の積層セラミックコンデンサについて、図面を参照しながら詳しく説明する。
【0056】
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1における積層セラミックコンデンサの斜視図であり、図2は本発明の実施の形態1における積層セラミックコンデンサを示す断面図である。図1,2において、1は基体、2はセラミック誘電体層、3はガラス相の斑点、4は内部電極層、5は下層外部電極、6は上層外部電極である。100は積層セラミックコンデンサを示す。
【0057】
図1に示すように、積層セラミックコンデンサ100は、基体1のセラミック誘電体層2の表面にガラス相の斑点3を有するものである。また、図2に示すように、基体1は、セラミック誘電体層2間に内部電極層4を備えた積層体であり、積層体である基体1の両端部に、内部電極層4と電気的に接続された一対の下層外部電極5を備えている。更に、下層外部電極5の上には上層外部電極6が形成されている。
【0058】
セラミック誘電体層2は、上述した耐還元性誘電体セラミックが用いられる。そして、ガラス相の斑点3も上述したように、シリカを主成分とし、平均径が20〜200μmの範囲内にあるものである。
【0059】
内部電極層4は、Ag、Pd等の貴金属ではなく、卑金属で構成され、Cu、Ni等も用いることができ、NiまたはNi合金であることが好ましい。また、下層外部電極5もNiまたはNi合金であることが好ましい。上層外部電極6はAgが好ましく、更に、この上層外部電極6の上に、Ni、Snを順次鍍金して積層してもよい。
【0060】
(実施の形態2)
図3は本発明の実施の形態2におけるモールド型の積層セラミックコンデンサの断面図であり、7は外装材、8は端子である。また、200はモールド型の積層セラミックコンデンサである。なお、本実施の形態2においては、実施の形態1で説明した部分には同様の符号を付しており、説明を省略する。
【0061】
図3に示すように、モールド型の積層セラミックコンデンサ200では、チップ型の積層セラミックコンデンサ100の上層外部電極6に端子8が接続され、更に、積層セラミックコンデンサ100と端子8の一部が、熱硬化型樹脂等で構成された外装材7に埋設された構成となっている。
【0062】
即ち、外装材7に埋込まれた積層セラミックコンデンサ100の両端部から導電性の端子8が引出され、端子8を介して回路基板に表面実装できるように構成される。そして、モールド型の積層セラミックコンデンサ200のように、外装材7で埋込みモールド型にすることによって、高い信頼性と優れた表面実装性を実現することができる。
【0063】
(実施の形態3)
図4は本発明の実施の形態3におけるリード型の積層セラミックコンデンサの断面図であり、9はリード線、10は半田である。また、300はリード型の積層セラミックコンデンサである。なお、本実施の形態3においても、実施の形態1で説明した部分には同様の符号を付しており、説明を省略する。
【0064】
図4に示したように、リード型の積層セラミックコンデンサ300では、チップ型の積層セラミックコンデンサ100の上層外部電極6にリード線9が半田10で接続され、更に、積層セラミックコンデンサ100とリード線9の一部が、外装材7に埋設された構成となっている。
【0065】
即ち、外装材7に埋込まれた積層セラミックコンデンサ100の両端部から導電性のリード線9が引出され、リード線9を介して回路基板に半田付けできるように構成されている。そして、リード型の積層セラミックコンデンサ300は、回路基板にはリード線9が半田付けされるため、耐基板曲げ等の機械的応力が一切印加されず、回路設計上優位性のあるものとなる。
【0066】
【実施例】
次に、実施例により本発明を詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例等により、なんら限定されるものではない。
【0067】
(実施例1)
はじめに主成分のチタン酸バリウム粉末と添加剤であるDy23と、MgOと、Mn34との配合物と、Ca,Ba及びSiより成る焼結助剤成分のコロイド状懸濁液をボールミルで混合して各々の出発原料粉末を作製する。
【0068】
次に、作製した粉末を使用して、形状が3216サイズで定格電圧が630VDCを保証し10000PFの静電容量値が取得可能な積層セラミックコンデンサを試作して総合評価する。
【0069】
以下に積層セラミックコンデンサの詳細な試作手順と評価方法について説明する。
【0070】
主成分である平均粒子径0.3μmチタン酸バリウム粉末(100モル)に対して、添加剤であるDy23(0.5モル)、MgO(0.01モル)及びMn34(0.01モル)の各粉末を電子天秤で所定量を秤量し、5mmφのZrO2質ボールが350g入った内容積が600CCのポリエチレン製ポットミル中に投入する。
【0071】
次にBa、Caの酢酸塩及びTEOS(テトラエトキシシラン)の所定量を電子天秤で秤量した後、酢酸塩は100CCの純水に、またTEOSは150CCのエタノールに別々に溶解させる。
【0072】
そして、該水溶液をエタノール溶液中に投入して攪拌を続けながら1〜10規定のアンモニア水を所定量滴下し、撹はん時間を変化させて、焼結助剤成分(ガラス相)より成る8種類のコロイド状懸濁液を得た。この時、アンモニア水の濃度を上記した範囲で変化させることによって、コロイド粒子の粒径を調整する。
【0073】
次に、該コロイド状懸濁液を上記ボールミル中に投入し100rpmの回転速度で20時間混合した。混合物は150メッシュのシルクスクリーンで濾過して、テフロンシートを敷いたステンレスバット中に投入し、ドラフト中で加温しながらエタノール分を揮発させ、アルミ泊で蓋をして150℃の温度で乾燥した。
【0074】
乾燥した塊状物はアルミナ乳鉢中で解砕した後、32メッシュのナイロン篩を通過してアルミナ製坩堝に入れて400℃/2時間(昇降温速度:200℃/H)の条件で熱処理してスラリー用粉末とした。
【0075】
次に、内容積が600CCのポリエチレン製ポットミル中にスラリー用粉末100gと、溶剤として作用する酢酸ブチル、2−n−ブトキシエタノール及びエタノールさらに可塑剤として作用するブチルベンジルフタレートをそれぞれ所定量投入し、10mmφZrO2ボール440gを用いて100rpmの回転速度で6時間混合することにより湿潤した。6時間湿潤後、スラリーをスポイドで平滑なガラス板上に滴下して、成膜し、光学顕微鏡で分散状態を観察して凝集がないことを確認した。そして、湿潤が完了した上記ボールミルに、ポリビニルブチラール樹脂より成るビヒクルを50g投入し100rpmの回転速度で12時間混合してシート成形用スラリーとした。ここで、ポリビニルブチラール樹脂と可塑剤としてのブチルベンジルフタレートの合計比率は粉末に対して9〜18重量%の範囲内であれば後の積層工程で良好な転写性が得られる。
【0076】
次に、該スラリーを150メッシュのシルクスクリーンで濾過した後、75μmの基体上に成膜して20〜25μmの厚みを有するセラミック生シートを得た。そして、該セラミック生シートと、Niペーストより作製した内部電極シートを用いて転写工法により所定の層数に積層した後、切断してグリーンチップを得た。ここで、セラミック生シートの厚みは10〜60μmの範囲内であれば工程管理上差し支えない。また、使用するNiペースト中のNiは気相法若しくは液相法により合成されたもの、或いは両方法により合成されたものの混合物を使用できる。
【0077】
次に、湿式法で得られたグリーンチップの面取りを実施した。まず、可塑剤であるブチルベンジルフタレートを揮発させる為にグリーンチップを160〜200℃の温度で、重量減少率が4〜8%の範囲内になる様に熱処理した。そして、このグリーンチップを400CCの純水と専用のメディアと共に面取り専用のポットに投入し、205rpmで4〜7分間回転した後、該グリーンチップを120℃で乾燥した。なお、純水中での面取りでグリーンチップに不具合が生じる場合は、例えばグリーンチップの重量減少率が1〜4%の範囲内になる様に熱処理した後、専用のメディアと共にZrO2質ポット中に投入して所定の回転速度で回転するいわゆる乾式法を採用する。
【0078】
面取りしたグリーンチップの両端面にNi外電ペーストを塗布し120℃で10分間乾燥して脱脂した。脱脂は、該グリーンチップをAS−2100ジルコニア粉末を敷いた焼成専用のジルコニアコートさや中に投入して、N2ガス中で400℃で4時間保持して実施した。そして、回転式雰囲気炉により還元雰囲気焼成を実施した。グリーンガス、CO2及びN2により調整したNiの平衡酸素分圧よりも2桁低い酸素分圧雰囲気中で1250℃の温度で2時間保持した。なお、グリーンチップの両端面に塗布するNiペーストは該チップとの良好な密着性を確保する為、チップを形成しているセラミックと同材質のセラミック粉末を10〜20重量%含有させても差し支えない。
【0079】
そして、焼成したチップの両端面にAgを塗布して大気中600℃の温度で焼き付けた後、Ni鍍金を施し、更にその上にSn鍍金を施して積層セラミックコンデンサを完成させた。また、外部電極としてCuを使用することも可能で、この場合Cuペーストを塗布し、N2雰囲気中900℃で約つけた後、Agの時と同様に鍍金を施こせばよい。
【0080】
次に、試作した積層セラミックコンデンサの電気特性を評価した。静電容量(Cap)と誘電体損失(tanδ)はYHP製LCRメータ4284Aを使用して1V/1KHzの信号電圧下で測定した。絶縁抵抗値(IR)はアドバンテスト社製絶縁抵抗計R8340Aを使用して500VDCを1分間印加して測定した。絶縁破壊電圧(BDV)は菊水電子製耐圧計を使用して空気中で直流破壊電圧を測定した。静電容量と誘電体損失は各々20個測定に供し、絶縁抵抗値と絶縁破壊電圧は各々10個測定し、平均値を算出してそれらの結果を(表1)に示した。さらに、表面に析出した斑点の成分の定性をEPMA(X線マイクロアナライザー)を用いて行ったところ、SiとCaとBaが検出された。
【0081】
【表1】

Figure 0004660940
【0082】
(表1)より明らかな様に、斑点の平均径が20μmよりしたになると絶縁抵抗が低く、破壊電圧が低くなった。このとき沿面放電も発生した。斑点の平均径が200μmより大きくなると素子の三点曲げ強度が著しく低くなり、破壊電圧も低くなった。ちなみに、斑点径225μmのものは撓み試験を実施したところ規格値以下で容量ダウン(破壊)した。このことから、斑点のガラス相がSiO2−CaO−BaOガラス相の斑点が絶縁抵抗良化に寄与することは明らかである。
【0083】
以上のことから、この斑点の平均径が20〜200μm、好ましくは40〜180μmであることが望ましい。この斑点径の範囲で作られた積層セラミックコンデンサは良好な焼結性と電気特性とを有し、またEIA規格X7R特性及びJIS規格B特性を満足し、形状が3216サイズで定格電圧が630VDCを保証し、10000PFの静電容量値を有する中高圧用積層セラミックコンデンサとして使用可能なものであった。
【0084】
以上のように、本発明の耐還元性誘電体セラミックは、良好な焼結性と電気特性を有し、内部電極としてNiを用いた中高圧用積層セラミックコンデンサを実現することができる。
【0085】
(実施例2)
実施例1と同様にして主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末と添加剤であるZrO2とMn34との配合物と、Ca,Sr及びSiより成る焼結助剤成分のコロイド状懸濁液をボールミルで混合して各々の出発原料粉末を作製する。
【0086】
次に、作製した粉末を使用して、形状が3216サイズで定格電圧が630VDCを保証し22PFの静電容量値が取得可能な積層セラミックコンデンサを試作して総合評価する。
【0087】
以下に積層セラミックコンデンサの詳細な試作手順と評価方法について説明する。
【0088】
主成分である平均粒子径0.3μmのチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム(0.61SrTiO3−0.39CaTiO3)粉末(100モル)に対して、添加剤であるZrO2(0.5モル)、Mn34(0.01モル)の各粉末を電子天秤で所定量を秤量し、5mmφのZrO2質ボールが350g入った内容積が600CCのポリエチレン製ポットミル中に投入する。次にSr、Caの酢酸塩及びTEOS(テトラエトキシシラン)の所定量を電子天秤で秤量した後、酢酸塩は100CCの純水に、またTEOSは150CCのエタノールに別々に溶解させる。そして、該水溶液をエタノール溶液中に投入して攪拌を続けながら1〜10規定のアンモニア水を所定量滴下し、撹はん時間を変化させて、焼結助剤成分(ガラス相)より成る8種類のコロイド状懸濁液を得た。
【0089】
次に、該コロイド状懸濁液を上記ボールミル中に投入し100rpmの回転速度で20時間混合した。混合物は150メッシュのシルクスクリーンで濾過して、テフロンシートを敷いたステンレスバット中に投入し、ドラフト中で加温しながらエタノール分を揮発させ、アルミ泊で蓋をして150℃の温度で乾燥した。乾燥した塊状物はアルミナ乳鉢中で解砕した後、32メッシュのナイロン篩を通過してアルミナ製坩堝に入れて400℃/2時間(昇降温速度:200℃/H)の条件で熱処理してスラリー用粉末とした。
【0090】
次に、内容積が600CCのポリエチレン製ポットミル中にスラリー用粉末100gと、溶剤として作用する酢酸ブチル、2−n−ブトキシエタノール及びエタノールさらに可塑剤として作用するブチルベンジルフタレートをそれぞれ所定量投入し、10mmφZrO2ボール440gを用いて100rpmの回転速度で6時間混合することにより湿潤した。6時間湿潤後、スラリーをスポイドで平滑なガラス板上に滴下して、成膜し、光学顕微鏡で分散状態を観察して凝集がないことを確認した。そして、湿潤が完了した上記ボールミルに、ポリビニルブチラール樹脂より成るビヒクルを50g投入し100rpmの回転速度で12時間混合してシート成形用スラリーとした。ここで、ポリビニルブチラール樹脂と可塑剤としてのブチルベンジルフタレートの合計比率は粉末に対して9〜18重量%の範囲内であれば後の積層工程で良好な転写性が得られる。
【0091】
次に、該スラリーを150メッシュのシルクスクリーンで濾過した後、75μmの基体上に成膜して20〜25μmの厚みを有するセラミック生シートを得た。そして、該セラミック生シートと、Niペーストより作製した内部電極シートを用いて転写工法により所定の層数に積層した後、切断してグリーンチップを得た。ここで、セラミック生シートの厚みは10〜60μmの範囲内であれば工程管理上差し支えない。また、使用するNiペースト中のNiは気相法若しくは液相法により合成されたもの、或いは両方法により合成されたものの混合物を使用できる。
【0092】
次に、湿式法で得られたグリーンチップの面取りを実施した。まず、可塑剤であるブチルベンジルフタレートを揮発させる為にグリーンチップを160〜200℃の温度で、重量減少率が4〜8%の範囲内になる様に熱処理した。そして、このグリーンチップを400CCの純水と専用のメディアと共に面取り専用のポットに投入し、205rpmで4〜7分間回転した後、該グリーンチップを120℃で乾燥した。なお、純水中での面取りでグリーンチップに不具合が生じる場合は、例えばグリーンチップの重量減少率が1〜4%の範囲内になる様に熱処理した後、専用のメディアと共にZrO2質ポット中に投入して所定の回転速度で回転するいわゆる乾式法を採用する。
【0093】
面取りしたグリーンチップの両端面にNi外電ペーストを塗布し120℃で10分間乾燥して脱脂した。脱脂は、該グリーンチップをAS−2100ジルコニア粉末を敷いた焼成専用のジルコニアコートさや中に投入して、N2ガス中で400℃で4時間保持して実施した。そして、回転式雰囲気炉により還元雰囲気焼成を実施した。グリーンガス、CO2及びN2により調整したNiの平衡酸素分圧よりも2桁低い酸素分圧雰囲気中で1250℃の温度で2時間保持した。なお、グリーンチップの両端面に塗布するNiペーストは該チップとの良好な密着性を確保する為、チップを形成しているセラミックと同材質のセラミック粉末を10〜20重量%含有させても差し支えない。
【0094】
そして、焼成したチップの両端面にAgを塗布して大気中600℃の温度で焼き付けた後、Ni鍍金を施し、更にその上にSn鍍金を施して積層セラミックコンデンサを完成させた。また、外部電極としてCuを使用することも可能で、この場合Cuペーストを塗布し、N2雰囲気中900℃で焼き付けた後、Agの時と同様に鍍金を施こせばよい。
【0095】
次に、試作した積層セラミックコンデンサの電気特性を評価した。静電容量(Cap)と誘電体損失(tanδ)はYHP製LCRメータ4284Aを使用して1V/1KHzの信号電圧下で測定した。絶縁抵抗値(IR)はアドバンテスト社製絶縁抵抗計R8340Aを使用して500VDCを1分間印加して測定した。絶縁破壊電圧(BDV)は菊水電子製耐圧計を使用して空気中で直流破壊電圧を測定した。静電容量と誘電体損失は各々20個測定に供し、絶縁抵抗値と絶縁破壊電圧は各々10個、温度変化率は2個測定し、平均値を算出してそれらの結果を(表2)に示した。さらに、表面に析出した斑点の成分の定性をEPMA(X線マイクロアナライザー)を用いて行ったところ、SiとCaとSrが検出された。
【0096】
【表2】
Figure 0004660940
【0097】
(表2)より明らかな様に、実施例1と同様な結果が得られた。斑点の平均径が20μmよりしたになると絶縁抵抗が低く、破壊電圧が低くなった。このとき沿面放電も発生した。斑点の平均径が200μmより大きくなると素子の三点曲げ強度が著しく低くなり、破壊電圧も低くなった。ちなみに、斑点径226μmのものは撓み試験を実施したところ規格値以下で容量ダウン(破壊)した。このことから、斑点のガラス相がSiO2−CaO−SrOガラス相の斑点が絶縁抵抗良化に寄与することは明らかである。以上のことから、この斑点の平均径は20〜200μm、好ましくは40〜180μmであることが望ましい。この斑点径の範囲で作られた積層セラミックコンデンサは良好な焼結性と電気特性とを有し、またEIA規格X7R特性及びJIS規格B特性を満足し、形状が3216サイズで定格電圧が630VDCを保証し、22PFの静電容量値を有する低発熱用中高圧用積層セラミックコンデンサとして使用可能なものであった。
【0098】
以上のように、本発明の耐還元性誘電体セラミックは、良好な焼結性と電気特性を有し、内部電極としてNiを用いた低発熱用中高圧用積層セラミックコンデンサを実現することができる。
【0099】
【発明の効果】
以上の様に本発明によれば、セラミック誘電体層の表面にシリカを主成分とするガラス相の平均径20〜200μmの斑点が析出しているために、このセラミック誘電体を使用した中高圧用積層セラミックコンデンサは絶縁抵抗や破壊電圧が高く沿面放電しない。このため、電気的特性、耐久信頼性及び安全性に優れた中高圧用積層セラミックコンデンサが得られる。
【0100】
更に、絶縁抵抗が高く、CR積が大きい耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法を提供できると共に、その耐還元性誘電体セラミックを積層セラミックコンデンサに用いて、絶縁抵抗及び耐久信頼性等のばらつきが小さく、中高圧用として優れた特性を有する積層セラミックコンデンサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1における積層セラミックコンデンサの斜視図
【図2】本発明の実施の形態1における積層セラミックコンデンサを示す断面図
【図3】本発明の実施の形態2におけるモールド型の積層セラミックコンデンサの断面図
【図4】本発明の実施の形態3におけるリード型の積層セラミックコンデンサの断面図
【符号の説明】
1 基体
2 セラミック誘電体層
3 ガラス相の斑点
4 内部電極層
5 下層外部電極
6 上層外部電極
7 外装材
8 端子
9 リード線
10 半田
100 積層セラミックコンデンサ
200 モールド型の積層セラミックコンデンサ
300 リード型の積層セラミックコンデンサ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to reduction resistance for use in electrical products, in particular, medium- and high-voltage multilayer ceramic capacitors used in AC adapters, switching power supply circuits, and DC-DC converters, in particular, medium- and high-voltage multilayer ceramic capacitors whose internal electrodes are made of a base metal. The present invention relates to a dielectric ceramic, a manufacturing method thereof, and a multilayer ceramic capacitor using the dielectric ceramic.
[0002]
[Prior art]
In recent years, ceramic capacitors, which are one of the important passive components used in electronic devices, have become more and more compact, as represented by notebook computers and mobile phones. Has rapidly progressed, contributing to the miniaturization and resin molding of switching power supply circuits, DC-DC converter circuits, and battery chargers. In addition, according to the data of the credit bureau, it is certain that the lamination rate of ceramic capacitors will exceed 90% in the year 2005, and not only low rated voltage products but also medium and high voltage products, as well as safety standard products. It is a matter of time for the lamination to spread.
[0003]
For example, for the primary side snubber of the switching power supply circuit, many medium- and high-voltage multilayer ceramic capacitors having a rated voltage of 630 VDC and satisfying JIS standard B characteristics or EIA standard X7R characteristics are used. Further, high voltage multilayer ceramic capacitors with low heat generation and SL characteristics are used in the portions where high frequency is loaded, and this is forming a huge market. Since the multilayer ceramic capacitor can be surface-mounted and can be used semipermanently with low ESR, it is considered to be replaced by an electrolytic capacitor having a problem in life or ESR or a film capacitor that cannot be surface-mounted. Therefore, the demand for monolithic ceramic capacitors used at medium and high pressures is expected to increase.
[0004]
In this multilayer ceramic capacitor, a plurality of ceramic dielectric layers and internal electrode layers are alternately stacked, and dielectric layers for overall dimension adjustment and internal hermetic sealing are provided above and below the multilayer structure. The internal electrode layers are electrically connected by providing terminal electrodes on both end faces where the end portions are exposed, and the surface of these terminal electrodes is coated with Ni plating so that it can be easily soldered and mounted. Further, Sn plating or Sn-Pb solder plating is applied in layers.
[0005]
Conventionally, the dielectric composition used for such a multilayer ceramic capacitor has been BaTiO, which is the main component.ThreeIn addition, several types of additives are added to the mainstream. For example, Japanese Patent Publication No. 3-23504 discloses BaTiO.ThreeNb2OFiveAnd a composition containing CoO are disclosed, according to which Nb2OFiveAnd CoO act as a component for flattening the rate of change in capacitance with temperature, and satisfy EIA standard X7R characteristics. Similarly, Japanese Patent Publication No. 3-61287 discloses BaTiO.ThreeNb2OFive, CoO, CeO2And ZnO are disclosed, and Nb is disclosed.2OFiveAnd CoO flatten the rate of change in capacitance temperature, and CeO2Reduces the firing temperature, and ZnO is described to improve electrical properties. However, the above-described dielectric composition is premised on the use of a Pd-based noble metal as an internal electrode, and there is a problem in terms of raw material costs particularly in a variety having a high stacking number and a high capacitance.
[0006]
As a method for solving this problem, it is known to use low-cost Ni or an alloy containing Ni as a main component instead of Pd-based precious metals, and the proportion of base metal internal electrode products in the multilayer ceramic capacitor is rapidly increasing. . Since Ni is a base metal, it cannot be fired in an oxygen atmosphere like a conventional noble metal multilayer ceramic capacitor, and must be fired so that Ni is not oxidized in a low oxygen partial pressure atmosphere. BaTiO, which is well-known for ceramic capacitorsThreePerovskite oxides represented by the above are reduced when exposed to an atmosphere below the Ni redox equilibrium oxygen partial pressure at a high temperature of 1000 ° C. or higher, resulting in a decrease in insulation resistance or reliability in an electric field applied state. The defect rate in the test, the so-called load life, increases, and the function as a capacitor dielectric is not fulfilled.
[0007]
In response to this problem, these perovskite oxides can change the stoichiometric ratio of ions existing at the A site and the B site, or can dissolve as a donor in the crystal lattice, such as transition metal ions. Many reduction-resistant dielectric compositions composed of perovskite oxides and a small amount of additives have been devised by utilizing the property of being difficult to be reduced even by heat treatment as described above. Are disclosed. Previous reduction-resistant dielectric compositions were mainly JIS standard F characteristics with a large capacitance temperature change rate, but in recent years aggressive material development has been carried out, and JIS standard B characteristics with a low temperature change rate. Alternatively, the EIA standard X7R characteristic is applied to a thin layer large capacity multilayer ceramic capacitor. For example, JP-A-8-124784 discloses BaTiO as a main component.ThreeMgO, Y2OThree, At least one selected from BaO and CaO and SiO2A reduction-resistant dielectric composition is disclosed in which base metals such as Ni and Ni-based alloys containing N can be used.
[0008]
Japanese Patent Laid-Open No. 9-17138 discloses BaTiO.ThreeMgO as a subsidiary component and Li as a sintering aid component with respect to the main component of the system2OB2OThree-(Si, Ti) O2A reduction resistant dielectric composition containing an oxide of the system is disclosed. As a result, large-capacity monolithic ceramic capacitors using low-cost Ni-based internal electrodes with a low capacitance temperature change rate have been commercialized mainly for low rated voltage products of 16 to 50 VDC.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the conventional reduction-resistant dielectric composition is fired in a reducing atmosphere, the perovskite oxide, which is the main component, has a drawback that oxygen defects are easily generated. For this reason, the insulation resistance of the dielectric tends to decrease and the CR product tends to decrease. In addition, the variation in insulation resistance within and between lots was the same in the same firing furnace and the same firing conditions, resulting in large insulation resistance and poor mass productivity. Thus, since the insulation resistance is low, leakage along the surface tends to occur, and the deterioration in the life test is remarkable.
[0010]
Accordingly, the present invention solves the above problems, provides a reduction-resistant dielectric ceramic having a high insulation resistance and a large CR product, and a method for manufacturing the same, and uses the reduction-resistant dielectric ceramic in a multilayer ceramic capacitor. Thus, an object of the present invention is to provide a multilayer ceramic capacitor having small characteristics such as insulation resistance and durability reliability and having excellent characteristics for medium and high pressure.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
  In order to solve the above problems, the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention is:The main component is barium titanate or strontium titanate-calcium titanate,On the surfaceSiO 2 -CaO-BaO or SiO 2 -CaO-SrOAs the main component20 μm to 200 μmIt has glass phase spots.
[0012]
Moreover, the manufacturing method adjusts the particle diameter of the sintering aid containing Ca, Ba or Sr, Si to the main component powder of barium titanate or strontium titanate-calcium titanate, and mixes and fires. Then, spots of 20 μm to 200 μm of the glass phase mainly composed of silica are deposited on the surface.
[0013]
Furthermore, the multilayer ceramic capacitor of the present invention includes a base body having an internal electrode layer between ceramic dielectric layers, and a pair of external electrodes provided at both ends of the base body and electrically connected to the internal electrode layer. In the multilayer ceramic capacitor, the internal electrode layer is made of a base metal, and the ceramic dielectric layer is made of the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  The invention described in claim 1The main component is barium titanate or strontium titanate-calcium titanate,On the surfaceSiO 2 -CaO-BaO or SiO 2 -CaO-SrOAs the main component20 μm to 200 μmA reduction-resistant dielectric ceramic characterized by having speckles of glass phase,High insulation resistance, large CR product, excellent durability reliability and safetyWhen a reduction-resistant dielectric ceramic is obtainedTo tellHas an effect.
[0024]
  Claim2The invention described is a glass mainly composed of silica on the surface, adjusted to the particle size of a sintering aid containing Ca, Ba and Si, mixed and fired with the main component barium titanate powder. A method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic characterized by depositing spots of 20 μm to 200 μm in phase, which can reduce the firing temperature, stably maintain high insulation resistance, and maintain strength A possible reduction-resistant dielectric ceramicTo tellHas an effect.
[0025]
  Claim3The described invention is claimed.2In Dy as an additive to the main component barium titanate powder2OThree, MgO, MnThreeOFourA method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic according to claim 1, wherein at least one powder selected from the group consisting of powders is mixed, and a reduction-resistant dielectric ceramic having good temperature characteristics and life characteristics can be obtained. If possibleTo tellHas an effect.
[0026]
  Claim4The described invention is claimed.2,3In this method, the sintering aid is mixed with the main component powder as a colloidal suspension, which is a method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic, which contains Ca, Ba, and Si. The agent can be uniformly dispersed and mixed around the main component barium titanate powder particles, there is no local abnormal reaction during firing, and a reduction-resistant dielectric ceramic with a dense structure can be obtained.To tellHas an effect.
[0027]
  Claim5The described invention is claimed.4The colloidal suspension is produced by dropping ammonia water while stirring and mixing an aqueous solution of Ca and Ba acetate and a metal alkoxyethanol solution of Si. In which the sintering aid containing Ca, Ba and Si can be formed as a fine hydroxide.
[0028]
  Claim6The described invention is claimed.5Is a method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic characterized in that the colloidal particle size of the colloidal suspension is adjusted by the concentration of aqueous ammonia, and the colloidal particle size can be adjusted by a simple method It has the action.
[0029]
  Claim7In the described invention, the strontium titanate-calcium titanate powder as a main component is mixed with a sintering aid containing Ca, Sr, Si, mixed, fired, and silica on the surface. A method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic characterized by depositing spots of 20 μm to 200 μm of a glass phase as a component, which can lower the firing temperature and stably maintain a high insulation resistance. If we can obtain a reduction-resistant dielectric ceramic that can maintain strengthTo tellHas an effect.
[0030]
  Claim8The described invention is claimed.7In addition, ZrO as an additive to the main component strontium titanate-calcium titanate powder2, CoO, MnThreeOFourA method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic comprising mixing at least one powder selected from the group consisting of: a reduction-resistant dielectric ceramic having good temperature characteristics and life characteristics;To tellHas an effect.
[0031]
  Claim9The described invention is claimed.7,8In this method, the sintering aid is mixed with the main component powder as a colloidal suspension, which is a method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic, which contains Ca, Sr, Si. The agent can be uniformly dispersed and mixed around the main component strontium titanate-calcium titanate powder particles, there is no local abnormal reaction during firing, and a reduction-resistant dielectric ceramic having a dense structure can be obtained. If possibleTo tellHas an effect.
[0032]
  Claim10The described invention is claimed.9The colloidal suspension is prepared by dropping ammonia water while stirring and mixing an aqueous solution of Ca, Sr acetate and a metal alkoxyethanol solution of Si. In which the sintering aid containing Ca, Sr, and Si can be formed as a fine hydroxide.
[0033]
  Claim11The described invention is claimed.10Is a method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic characterized in that the colloidal particle size of the colloidal suspension is adjusted by the concentration of aqueous ammonia, and the colloidal particle size can be adjusted by a simple method It has the action.
[0034]
  Claim12The invention described is a multilayer ceramic capacitor comprising a base body having an internal electrode layer between ceramic dielectric layers, and a pair of external electrodes provided at both ends of the base body and electrically connected to the internal electrode layer. The internal electrode layer is made of a base metal and the ceramic dielectric layerClaim 1A monolithic ceramic capacitor characterized by being composed of a reduction-resistant dielectric ceramic, and because of its high insulation resistance, there is no creeping leakage, high breakdown voltage, and excellent life testExcellent durability, reliability and safetyIf we can realize a multilayer ceramic capacitorTo tellHas an effect.
[0038]
Each material and manufacturing method which comprise such a reduction-resistant dielectric ceramic of this invention are demonstrated.
[0039]
The reduction resistant dielectric ceramic is obtained by firing a reduction resistant dielectric composition. The reducing dielectric composition used in the present invention is composed of barium titanate (BaTiO 3).Three), Strontium titanate-calcium titanate (SrTiO)Three-CaTiOThree) Etc., Dy2OThree, MgO, MnThreeOFour, ZrO2, CoO, MnThreeOFourSuch additives as appropriate are added and sintering aids such as Ca, Ba, Sr, and Si components are mixed.
[0040]
The main components of the reduction-resistant dielectric composition used in the present invention will be described. Barium titanate can be used as a high dielectric constant material, and strontium titanate-calcium titanate can be used as a low heat generation material. Here, strontium titanate-calcium titanate is 0.61 SrTiO.Three-0.39CaTiOThreeIt is preferable that Further, the main component powders such as barium titanate and strontium titanate-calcium titanate preferably have a small average particle size and a narrow particle size distribution. In addition, the smaller the reactivity, the easier it is to express the B characteristic or the X7R characteristic. Therefore, it is preferable to use a powder having a high crystallinity. The impurities mixed in the process of producing the barium titanate powder include alkaline earth metals other than barium, iron, silicon, and aluminum, and these impurities are particularly contained even in the order of several thousand ppm. There is no hindrance. Furthermore, as a main component, materials other than these barium titanate and strontium titanate-calcium titanate may be used.
[0041]
Further, as an additive of the reduction-resistant dielectric composition used in the present invention, Dy2OThree, MgO, MnThreeOFour, ZrO2, CoO, MnThreeOFourEtc. In particular, when the main component is barium titanate, Dy2OThree, MgO and Mn2OThreeEtc., and when the main component is strontium titanate-calcium titanate, ZrO2, CoO and Mn2OThreeEtc. can improve temperature characteristics and life characteristics.
[0042]
That is, in the present invention, in order to give barium titanate resistance to reduction and improve temperature characteristics and life characteristics, Dy2OThree, MgO and Mn2OThreeIn addition, ZrO is added in order to improve the temperature characteristics and life characteristics by adding a reduction resistance to the low heat generation material strontium titanate-calcium titanate.2, CoO and Mn2OThreeEtc. are preferably added in a trace amount.
[0043]
Further, examples of the sintering aid include Ca, Ba, Sr, and Si oxides, and these sintering aids are added to the powder in which the main component and the additive are mixed. Then, Ca, Ba, Si may be used as a sintering aid for the main component barium titanate powder, and Ca, Sr, Si may be used as a sintering aid for the main component strontium titanate-calcium titanate powder. preferable. Further, as a method for adding the sintering aid to the main component and additive mixed powder, it is preferable to add the sintering aid in the form of a colloidal suspension.
[0044]
The addition of the colloidal suspension will be described in the case where a sintering aid of Ca, Ba, Si is added to the main component barium titanate powder. An aqueous solution of Ca and Ba acetate and a metal alkoxide ethanol solution of Si Agitation colloidal solution containing Ca, Ba and Si components by dripping a coprecipitation agent such as ammonia water whose concentration was changed while stirring and mixing, and aging the colloid of the colloidal suspension, This is mainly composed of barium titanate powder and Dy.2OThree, MgO and Mn2OThreeThe mixture is mixed with a trace amount of additives such as the above, and dried to produce a reduction-resistant dielectric composition powder.
[0045]
By adding as a colloidal suspension in this manner, fine particles containing Ca, Ba and Si are appropriately dispersed, and this component is present in the vicinity of the main component barium titanate particles. Sometimes spots of the glass phase mainly composed of silica are deposited, and a reduction-resistant dielectric ceramic having a high insulation resistance is obtained.
[0046]
More specifically, acetates of Ca, Ba and Sr and alkoxides of Si, which are starting materials of a colloidal suspension mixed with the main component / additive powder of the dielectric composition, are generally commercially available products. It can be used. In addition, since the impurities contained in these are metals having similar chemical properties, there is no particular problem even if they are contained in the order of several thousand ppm, similar to the aforementioned barium titanate. Moreover, a general commercial item can also be used for ethanol in which the alkoxide is dissolved.
[0047]
These acetates and alkoxides exist as hydrated ions in a water-ethanol solution, and a fine hydroxide is formed in the form of a colloidal suspension by the subsequent dropwise addition of ammonia water. It is mixed with barium or the like.
[0048]
In order to adjust the particle size of the colloid, the concentration of aqueous ammonia is controlled between 1 and 10 mol / liter. Thereby, it is possible to control the size of speckles in the glass phase mainly composed of silica during firing.
[0049]
In addition, with respect to Ca and Ba (or Sr), the additive amount of the sintering aid is at least one of Ca and Ba (or Sr) components per 100 moles of barium titanate (or strontium titanate-calcium titanate). If the seed exceeds 1.5 mol, the dielectric constant decreases and the high temperature load life deteriorates. If the seed is less than 0.5 mol, the effect as a sintering aid cannot be obtained, and densification by firing becomes incomplete. The optimum firing temperature is increased. Similarly, when the Si component exceeds 3.0 mol, the dielectric constant decreases and the high temperature load life deteriorates. When the Si component is less than 1.0 mol, the effect as a sintering aid cannot be obtained. Conversion becomes incomplete.
[0050]
Therefore, the addition amount of the sintering aid of the present invention is preferably 1.2 mol for the Ca, Ba and Sr components and 1.2 mol for the Si component with respect to the main component of the dielectric composition.
[0051]
Although the sintering aid is produced in the form of a colloidal suspension and mixed with powders of the main components, etc., the sintering aid is not a colloidal suspension. The method of mixing with powder and powders of a main component, etc. may be used. In that case, the sintering aid powder to be mixed is appropriately classified and adjusted in order to control the size of speckles in the glass phase mainly composed of silica during firing. However, when the sintering aid is mixed with the main component in powder form, it is not easy to disperse appropriately around the main component powder particles, as compared with the case of using a colloidal suspension. It is preferable to use a suspension.
[0052]
Next, the spots of the glass phase mainly composed of silica deposited on the surface of the reduction-resistant dielectric ceramic will be described. The spots of the glass phase have an average diameter in the range of 20 to 200 μm. The average diameter of the spots is more preferably 40 to 180 μm. When the thickness is 20 μm or less, the insulation resistance is low, and when the thickness is 200 μm or more, the strength of the element is weak. In addition, the average diameter of the spots in the present invention is a value obtained by dividing the maximum diameter and the minimum diameter of the spots by two. Further, the glass phase mainly composed of silica is composed of barium titanate as a main component, and when a Ca, Ba, Si component is used as a sintering aid, SiO 22-CaO-BaO. In addition, when strontium titanate-calcium titanate is a main component and Ca, Sr, Si is used as a sintering aid component, the glass phase is SiO.2-CaO-SrO.
[0053]
And the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention has spots of the glass phase mainly composed of silica deposited on the surface, so that the spots of the component having high insulation resistance are appropriately dispersed, so that The insulation resistance increased, and the creeping start voltage increased when a voltage was applied to the multilayer ceramic capacitor. Along with this, the breakdown voltage in the air also improved.
[0054]
In the multilayer ceramic capacitor using the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention, the ceramic dielectric layer is composed of the above-described reduction-resistant dielectric ceramic.
[0055]
Hereinafter, the multilayer ceramic capacitor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0056]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view of a multilayer ceramic capacitor according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the multilayer ceramic capacitor according to Embodiment 1 of the present invention. In FIGS. 1 and 2, 1 is a substrate, 2 is a ceramic dielectric layer, 3 is a glass phase spot, 4 is an internal electrode layer, 5 is a lower external electrode, and 6 is an upper external electrode. Reference numeral 100 denotes a multilayer ceramic capacitor.
[0057]
As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 100 has glass phase spots 3 on the surface of a ceramic dielectric layer 2 of a substrate 1. Further, as shown in FIG. 2, the base 1 is a laminated body having an internal electrode layer 4 between the ceramic dielectric layers 2 and is electrically connected to the internal electrode layer 4 at both ends of the base 1 that is the laminated body. And a pair of lower external electrodes 5 connected to each other. Further, an upper external electrode 6 is formed on the lower external electrode 5.
[0058]
As the ceramic dielectric layer 2, the above-described reduction-resistant dielectric ceramic is used. As described above, the glass phase spots 3 are mainly composed of silica and have an average diameter in the range of 20 to 200 μm.
[0059]
The internal electrode layer 4 is made of a base metal instead of a noble metal such as Ag or Pd, Cu, Ni or the like can also be used, and Ni or a Ni alloy is preferable. The lower external electrode 5 is also preferably Ni or Ni alloy. The upper external electrode 6 is preferably Ag. Further, Ni and Sn may be sequentially plated on the upper external electrode 6 and laminated.
[0060]
(Embodiment 2)
FIG. 3 is a cross-sectional view of a mold type multilayer ceramic capacitor according to Embodiment 2 of the present invention, 7 is an exterior material, and 8 is a terminal. Reference numeral 200 denotes a mold type multilayer ceramic capacitor. In the second embodiment, the same reference numerals are given to the portions described in the first embodiment, and the description thereof is omitted.
[0061]
As shown in FIG. 3, in the mold type multilayer ceramic capacitor 200, the terminal 8 is connected to the upper external electrode 6 of the chip type multilayer ceramic capacitor 100, and the multilayer ceramic capacitor 100 and a part of the terminal 8 are heated. It is the structure embed | buried in the exterior material 7 comprised with curable resin etc.
[0062]
That is, the conductive terminals 8 are drawn out from both end portions of the multilayer ceramic capacitor 100 embedded in the outer packaging material 7 and can be surface-mounted on the circuit board via the terminals 8. Then, as in the case of the mold-type multilayer ceramic capacitor 200, by using an embedded mold type with the exterior material 7, high reliability and excellent surface mountability can be realized.
[0063]
(Embodiment 3)
FIG. 4 is a cross-sectional view of a lead type multilayer ceramic capacitor according to Embodiment 3 of the present invention, in which 9 is a lead wire and 10 is solder. Reference numeral 300 denotes a lead type multilayer ceramic capacitor. In the third embodiment, the same reference numerals are given to the portions described in the first embodiment, and the description thereof is omitted.
[0064]
As shown in FIG. 4, in the lead type multilayer ceramic capacitor 300, the lead wire 9 is connected to the upper external electrode 6 of the chip type multilayer ceramic capacitor 100 with solder 10, and the multilayer ceramic capacitor 100 and the lead wire 9 are further connected. Is partially embedded in the exterior material 7.
[0065]
That is, the conductive lead wire 9 is drawn out from both ends of the multilayer ceramic capacitor 100 embedded in the exterior material 7 and can be soldered to the circuit board via the lead wire 9. In the lead type multilayer ceramic capacitor 300, since the lead wire 9 is soldered to the circuit board, no mechanical stress such as bending of the substrate is applied, and the circuit design is superior.
[0066]
【Example】
Next, the present invention will be described in detail by way of examples. In addition, this invention is not limited at all by the following examples.
[0067]
Example 1
Introduction Barium titanate powder as main component and Dy as additive2OThreeMgO and MnThreeOFourAnd a colloidal suspension of sintering aid components composed of Ca, Ba, and Si are mixed by a ball mill to prepare respective starting material powders.
[0068]
Next, using the produced powder, a multilayer ceramic capacitor that can guarantee a rated voltage of 630 VDC and obtain a capacitance value of 10000 PF with a shape of 3216 size is comprehensively evaluated.
[0069]
The detailed trial procedure and evaluation method of the multilayer ceramic capacitor will be described below.
[0070]
Dy which is an additive for barium titanate powder (100 mol) having an average particle diameter of 0.3 μm as a main component2OThree(0.5 mol), MgO (0.01 mol) and MnThreeOFourA predetermined amount of each powder (0.01 mol) was weighed with an electronic balance, and 5 mmφ ZrO2It is put into a polyethylene pot mill with an internal volume of 600 CC containing 350 g of quality balls.
[0071]
Next, a predetermined amount of Ba, Ca acetate and TEOS (tetraethoxysilane) are weighed with an electronic balance, and then acetate is dissolved in 100 CC pure water and TEOS is dissolved separately in 150 CC ethanol.
[0072]
Then, a predetermined amount of 1 to 10 N ammonia water is dropped while the stirring is continued by adding the aqueous solution into the ethanol solution, and the stirring time is changed to change the stirring time component 8 (glass phase). Different types of colloidal suspensions were obtained. At this time, the particle diameter of the colloidal particles is adjusted by changing the concentration of the ammonia water within the above range.
[0073]
Next, the colloidal suspension was put into the ball mill and mixed for 20 hours at a rotation speed of 100 rpm. The mixture is filtered through a 150 mesh silk screen, put into a stainless steel vat with a Teflon sheet, ethanol is volatilized while heating in a fume hood, covered with aluminum, and dried at a temperature of 150 ° C. did.
[0074]
The dried lump is crushed in an alumina mortar, passed through a 32 mesh nylon sieve, put in an alumina crucible, and heat treated under conditions of 400 ° C./2 hours (heating rate: 200 ° C./H). A powder for slurry was obtained.
[0075]
Next, 100 g of slurry powder, butyl acetate acting as a solvent, 2-n-butoxyethanol and ethanol, and a predetermined amount of butylbenzyl phthalate acting as a plasticizer are put into a polyethylene pot mill having an internal volume of 600 CC, 10mmφZrO2Wetting was performed by mixing for 6 hours at a rotation speed of 100 rpm using 440 g of balls. After wetting for 6 hours, the slurry was dropped onto a smooth glass plate with a dropoid, formed into a film, and the dispersion state was observed with an optical microscope to confirm that there was no aggregation. Then, 50 g of a vehicle made of polyvinyl butyral resin was added to the ball mill which had been wetted, and mixed at a rotational speed of 100 rpm for 12 hours to obtain a sheet forming slurry. Here, if the total ratio of the polyvinyl butyral resin and butylbenzyl phthalate as a plasticizer is in the range of 9 to 18% by weight with respect to the powder, good transferability can be obtained in the subsequent lamination step.
[0076]
Next, the slurry was filtered through a 150 mesh silk screen, and then formed on a 75 μm substrate to obtain a ceramic raw sheet having a thickness of 20 to 25 μm. Then, the ceramic raw sheet and an internal electrode sheet made of Ni paste were used to laminate a predetermined number of layers by a transfer method, and then cut to obtain a green chip. Here, if the thickness of the ceramic raw sheet is in the range of 10 to 60 μm, there is no problem in process control. Further, Ni in the Ni paste to be used can be synthesized by a vapor phase method or a liquid phase method, or a mixture of those synthesized by both methods.
[0077]
Next, chamfering of the green chip obtained by the wet method was performed. First, in order to volatilize the plasticizer butylbenzyl phthalate, the green chip was heat-treated at a temperature of 160 to 200 ° C. so that the weight reduction rate was in the range of 4 to 8%. And this green chip | tip was put into the pot only for chamfering with the pure water of 400CC and a special medium, and after rotating for 4 to 7 minutes at 205 rpm, this green chip | tip was dried at 120 degreeC. In addition, when a problem occurs in the green chip due to chamfering in pure water, for example, after heat treatment so that the weight reduction rate of the green chip is in the range of 1 to 4%, the ZrO together with the dedicated media is used.2A so-called dry method is adopted in which the material is put into a quality pot and rotated at a predetermined rotational speed.
[0078]
Ni external electric paste was applied to both end faces of the chamfered green chip, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and degreased. For degreasing, the green chip is put into a zirconia-coated sheath dedicated to firing with AS-2100 zirconia powder, and N2The reaction was carried out in gas at 400 ° C. for 4 hours. And reduction atmosphere baking was implemented with the rotary atmosphere furnace. Green gas, CO2And N2Was maintained for 2 hours at a temperature of 1250 ° C. in an oxygen partial pressure atmosphere two orders of magnitude lower than the equilibrium oxygen partial pressure of Ni adjusted by the above. The Ni paste applied to both end faces of the green chip may contain 10 to 20% by weight of ceramic powder of the same material as the ceramic forming the chip in order to ensure good adhesion to the chip. Absent.
[0079]
And Ag was apply | coated to the both end surfaces of the baked chip | tip, and it baked at the temperature of 600 degreeC in air | atmosphere, Then, Ni plating was given, and also Sn plating was given on it, and the multilayer ceramic capacitor was completed. It is also possible to use Cu as the external electrode. In this case, Cu paste is applied and N2After applying at about 900 ° C. in the atmosphere, plating may be applied as in the case of Ag.
[0080]
Next, the electrical characteristics of the prototype multilayer ceramic capacitor were evaluated. Capacitance (Cap) and dielectric loss (tan δ) were measured using a YHP LCR meter 4284A under a signal voltage of 1 V / 1 KHz. The insulation resistance value (IR) was measured by applying 500 VDC for 1 minute using an insulation resistance meter R8340A manufactured by Advantest Corporation. With respect to the dielectric breakdown voltage (BDV), a DC breakdown voltage was measured in air using a pressure gauge made by Kikusui Electronics. The capacitance and dielectric loss were each measured for 20 pieces, the insulation resistance value and the dielectric breakdown voltage were measured for 10 pieces, the average value was calculated, and the results are shown in Table 1. Furthermore, when qualitative analysis of the spot component deposited on the surface was performed using EPMA (X-ray microanalyzer), Si, Ca and Ba were detected.
[0081]
[Table 1]
Figure 0004660940
[0082]
As is clear from (Table 1), when the average diameter of the spots was 20 μm, the insulation resistance was low and the breakdown voltage was low. At this time, creeping discharge also occurred. When the average diameter of the spots was larger than 200 μm, the three-point bending strength of the device was remarkably lowered, and the breakdown voltage was also lowered. By the way, when the spot diameter was 225 μm, the capacity was reduced (destructed) below the standard value when the bending test was performed. From this, the speckled glass phase is SiO2It is clear that the spots of the —CaO—BaO glass phase contribute to the improvement of the insulation resistance.
[0083]
From the above, it is desirable that the average diameter of the spots is 20 to 200 μm, preferably 40 to 180 μm. Multilayer ceramic capacitors made in this spot diameter range have good sinterability and electrical characteristics, satisfy EIA standard X7R characteristics and JIS standard B characteristics, have a shape of 3216 size and a rated voltage of 630 VDC. It was guaranteed and could be used as a multilayer ceramic capacitor for medium to high pressure having a capacitance value of 10,000 PF.
[0084]
As described above, the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention has good sinterability and electrical characteristics, and can realize a multilayer ceramic capacitor for medium and high pressure using Ni as an internal electrode.
[0085]
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, the main component strontium titanate-calcium titanate powder and the additive ZrO2And MnThreeOFourAnd a colloidal suspension of Ca, Sr and Si sintering aid components are mixed by a ball mill to prepare each starting material powder.
[0086]
Next, using the produced powder, a multilayer ceramic capacitor that can be obtained with a 3216 size, a rated voltage of 630 VDC, and capable of obtaining a capacitance value of 22 PF is comprehensively evaluated.
[0087]
The detailed trial procedure and evaluation method of the multilayer ceramic capacitor will be described below.
[0088]
Strontium titanate-calcium titanate (0.61 SrTiO) with an average particle size of 0.3 μm as the main componentThree-0.39CaTiOThree) ZrO, an additive, with respect to the powder (100 mol)2(0.5 mol), MnThreeOFourA predetermined amount of each powder (0.01 mol) was weighed with an electronic balance, and 5 mmφ ZrO2It is put into a polyethylene pot mill with an internal volume of 600 CC containing 350 g of quality balls. Next, after predetermined amounts of Sr, Ca acetate and TEOS (tetraethoxysilane) are weighed with an electronic balance, acetate is dissolved in 100 CC pure water and TEOS is separately dissolved in 150 CC ethanol. Then, a predetermined amount of 1 to 10 N ammonia water is dropped while the stirring is continued by adding the aqueous solution into the ethanol solution, and the stirring time is changed to change the stirring time component 8 (glass phase). Different types of colloidal suspensions were obtained.
[0089]
Next, the colloidal suspension was put into the ball mill and mixed for 20 hours at a rotation speed of 100 rpm. The mixture is filtered through a 150 mesh silk screen, put into a stainless steel vat with a Teflon sheet, ethanol is volatilized while heating in a fume hood, covered with aluminum, and dried at a temperature of 150 ° C. did. The dried lump is crushed in an alumina mortar, passed through a 32 mesh nylon sieve, put in an alumina crucible, and heat treated under conditions of 400 ° C./2 hours (heating rate: 200 ° C./H). A powder for slurry was obtained.
[0090]
Next, 100 g of slurry powder, butyl acetate acting as a solvent, 2-n-butoxyethanol and ethanol, and a predetermined amount of butylbenzyl phthalate acting as a plasticizer are put into a polyethylene pot mill having an internal volume of 600 CC, 10mmφZrO2Wetting was performed by mixing for 6 hours at a rotation speed of 100 rpm using 440 g of balls. After wetting for 6 hours, the slurry was dropped onto a smooth glass plate with a dropoid, formed into a film, and the dispersion state was observed with an optical microscope to confirm that there was no aggregation. Then, 50 g of a vehicle made of polyvinyl butyral resin was added to the ball mill which had been wetted, and mixed at a rotational speed of 100 rpm for 12 hours to obtain a sheet forming slurry. Here, if the total ratio of the polyvinyl butyral resin and butylbenzyl phthalate as a plasticizer is in the range of 9 to 18% by weight with respect to the powder, good transferability can be obtained in the subsequent lamination step.
[0091]
Next, the slurry was filtered through a 150 mesh silk screen, and then formed on a 75 μm substrate to obtain a ceramic raw sheet having a thickness of 20 to 25 μm. Then, the ceramic raw sheet and an internal electrode sheet made of Ni paste were used to laminate a predetermined number of layers by a transfer method, and then cut to obtain a green chip. Here, if the thickness of the ceramic raw sheet is in the range of 10 to 60 μm, there is no problem in process control. Further, Ni in the Ni paste to be used can be synthesized by a vapor phase method or a liquid phase method, or a mixture of those synthesized by both methods.
[0092]
Next, chamfering of the green chip obtained by the wet method was performed. First, in order to volatilize the plasticizer butylbenzyl phthalate, the green chip was heat-treated at a temperature of 160 to 200 ° C. so that the weight reduction rate was in the range of 4 to 8%. And this green chip | tip was put into the pot only for chamfering with the pure water of 400CC and a special medium, and after rotating for 4 to 7 minutes at 205 rpm, this green chip | tip was dried at 120 degreeC. In addition, when a problem occurs in the green chip due to chamfering in pure water, for example, after heat treatment so that the weight reduction rate of the green chip is in the range of 1 to 4%, the ZrO together with the dedicated media is used.2A so-called dry method is adopted in which the material is put into a quality pot and rotated at a predetermined rotational speed.
[0093]
Ni external electric paste was applied to both end faces of the chamfered green chip, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and degreased. For degreasing, the green chip is put into a zirconia-coated sheath dedicated to firing with AS-2100 zirconia powder, and N2The reaction was carried out in gas at 400 ° C. for 4 hours. And reduction atmosphere baking was implemented with the rotary atmosphere furnace. Green gas, CO2And N2Was maintained for 2 hours at a temperature of 1250 ° C. in an oxygen partial pressure atmosphere two orders of magnitude lower than the equilibrium oxygen partial pressure of Ni adjusted by the above. The Ni paste applied to both end faces of the green chip may contain 10 to 20% by weight of ceramic powder of the same material as the ceramic forming the chip in order to ensure good adhesion to the chip. Absent.
[0094]
And Ag was apply | coated to the both end surfaces of the baked chip | tip, and it baked at the temperature of 600 degreeC in air | atmosphere, Then, Ni plating was given, and also Sn plating was given on it, and the multilayer ceramic capacitor was completed. It is also possible to use Cu as the external electrode. In this case, Cu paste is applied and N2After baking at 900 ° C. in the atmosphere, plating may be applied in the same manner as Ag.
[0095]
Next, the electrical characteristics of the prototype multilayer ceramic capacitor were evaluated. Capacitance (Cap) and dielectric loss (tan δ) were measured using a YHP LCR meter 4284A under a signal voltage of 1 V / 1 KHz. The insulation resistance value (IR) was measured by applying 500 VDC for 1 minute using an insulation resistance meter R8340A manufactured by Advantest Corporation. With respect to the dielectric breakdown voltage (BDV), a DC breakdown voltage was measured in air using a pressure gauge made by Kikusui Electronics. Capacitance and dielectric loss are each measured for 20 pieces, insulation resistance value and dielectric breakdown voltage are measured for each 10 pieces, temperature change rate is measured for 2 pieces, and the average value is calculated (Table 2). It was shown to. Furthermore, when qualitative analysis of the spot component deposited on the surface was performed using EPMA (X-ray microanalyzer), Si, Ca and Sr were detected.
[0096]
[Table 2]
Figure 0004660940
[0097]
As is clear from (Table 2), the same results as in Example 1 were obtained. When the average diameter of the spots was greater than 20 μm, the insulation resistance was low and the breakdown voltage was low. At this time, creeping discharge also occurred. When the average diameter of the spots was larger than 200 μm, the three-point bending strength of the device was remarkably lowered, and the breakdown voltage was also lowered. By the way, when the spot size was 226 μm, the capacity was reduced (destructed) below the standard value when the bending test was performed. From this, the speckled glass phase is SiO2It is clear that the spots of the —CaO—SrO glass phase contribute to the improvement of the insulation resistance. From the above, the average diameter of the spots is 20 to 200 μm, and preferably 40 to 180 μm. Multilayer ceramic capacitors made in this spot diameter range have good sinterability and electrical characteristics, satisfy EIA standard X7R characteristics and JIS standard B characteristics, have a shape of 3216 size and a rated voltage of 630 VDC. It was guaranteed and could be used as a low-heat generation medium-high pressure multilayer ceramic capacitor having a capacitance value of 22 PF.
[0098]
As described above, the reduction-resistant dielectric ceramic of the present invention has good sinterability and electrical characteristics, and can realize a low-heat generation medium- and high-pressure multilayer ceramic capacitor using Ni as an internal electrode. .
[0099]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, spots with an average diameter of 20 to 200 μm of the glass phase mainly composed of silica are deposited on the surface of the ceramic dielectric layer. Multilayer ceramic capacitors have high insulation resistance and breakdown voltage and do not cause creeping discharge. For this reason, a monolithic ceramic capacitor for medium and high voltage excellent in electrical characteristics, durability reliability and safety can be obtained.
[0100]
Further, it is possible to provide a reduction-resistant dielectric ceramic having a high insulation resistance and a large CR product and a method for manufacturing the same, and using the reduction-resistant dielectric ceramic in a multilayer ceramic capacitor, variation in insulation resistance, durability reliability, etc. Therefore, it is possible to provide a multilayer ceramic capacitor having a small size and excellent characteristics for medium and high pressure.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view of a multilayer ceramic capacitor according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the multilayer ceramic capacitor according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a mold type multilayer ceramic capacitor according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a lead type multilayer ceramic capacitor according to a third embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Base
2 Ceramic dielectric layer
3 Spots in the glass phase
4 Internal electrode layer
5 Lower external electrode
6 Upper external electrode
7 Exterior materials
8 terminals
9 Lead wire
10 Solder
100 Multilayer ceramic capacitor
200 Mold Type Multilayer Ceramic Capacitor
300 Lead type multilayer ceramic capacitor

Claims (12)

主成分がチタン酸バリウム又はチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウムで、表面にSiO 2 −CaO−BaO又はSiO 2 −CaO−SrOを主成分とする20μm〜200μmのガラス相の斑点を有することを特徴とする耐還元性誘電体セラミック。 Main component barium titanate or strontium titanate - calcium titanate, and wherein a spot of glass phase 20μm~200μm composed mainly of SiO 2 -CaO-BaO or SiO 2 -CaO-SrO on the surface Reduction-resistant dielectric ceramic. 主成分のチタン酸バリウム粉末に、Ca,Ba,Siを含有する焼結助剤の粒子径を調整して、混合し、焼成して、表面にシリカを主成分とするガラス相の20μm〜200μmの斑点を析出させることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法。The particle size of a sintering aid containing Ca, Ba, Si is adjusted to the main component barium titanate powder, mixed, fired, and 20 μm to 200 μm of the glass phase mainly containing silica on the surface. A method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic, characterized by depositing spots. 主成分のチタン酸バリウム粉末に、添加剤としてDy23,MgO,Mn34から選ばれる少なくとも1種以上の粉末を混合することを特徴とする請求項記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。 3. The reduction-resistant dielectric material according to claim 2, wherein at least one powder selected from Dy 2 O 3 , MgO, and Mn 3 O 4 as an additive is mixed into the main component barium titanate powder. Manufacturing method of ceramic. 前記焼結助剤はコロイド状懸濁液として、前記主成分粉末に混合されることを特徴とする請求項いずれか1記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。The sintering aid as a colloidal suspension, claim 2, 3 reduction resistant dielectric ceramic manufacturing method of any one, wherein a is mixed in the main component powder. 前記コロイド状懸濁液は、Ca,Baの酢酸塩水溶液と、Siの金属アルコキシエタノール溶液とを攪拌混合しながらアンモニア水を滴下して作製されることを特徴とする請求項記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。5. The reduction resistance according to claim 4 , wherein the colloidal suspension is prepared by dropping ammonia water while stirring and mixing a Ca, Ba acetate aqueous solution and a Si metal alkoxyethanol solution. Of producing a dielectric ceramic. 前記アンモニア水の濃度によって、前記コロイド状懸濁液のコロイドの粒子径を調整することを特徴とする請求項記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。6. The method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic according to claim 5 , wherein the colloidal particle diameter of the colloidal suspension is adjusted by the concentration of the ammonia water. 主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末に、Ca,Sr,Siを含有する焼結助剤の粒子径を調整して、混合し、焼成して、表面にシリカを主成分とするガラス相の20μm〜200μmの斑点を析出させることを特徴とする耐還元性誘電体セラミックの製造方法。Adjusting the particle size of the sintering aid containing Ca, Sr, and Si to the main component strontium titanate-calcium titanate powder, mixing, firing, and the glass phase mainly containing silica on the surface A method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic, characterized by depositing spots of 20 μm to 200 μm. 前記主成分のチタン酸ストロンチウム−チタン酸カルシウム粉末に、添加剤としてZrO2,CoO,Mn34から選ばれる少なくとも1種以上の粉末を混合することを特徴とする請求項記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。8. The reduction resistance according to claim 7, wherein at least one powder selected from ZrO 2 , CoO, and Mn 3 O 4 as an additive is mixed with the main component strontium titanate-calcium titanate powder. 9. Of producing a dielectric ceramic. 前記焼結助剤はコロイド状懸濁液として、前記主成分粉末に混合されることを特徴とする請求項いずれか1記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。The sintering aid as a colloidal suspension, according to claim 7, 8 a reduction resistant dielectric ceramic manufacturing method of any one, wherein a is mixed in the main component powder. 前記コロイド状懸濁液は、Ca,Srの酢酸塩水溶液と、Siの金属アルコキシエタノール溶液とを攪拌混合しながらアンモニア水を滴下して作製されることを特徴とする請求項記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。10. The reduction resistance according to claim 9 , wherein the colloidal suspension is prepared by dropping ammonia water while stirring and mixing an aqueous solution of Ca and Sr acetate and a metal alkoxyethanol solution of Si. Of producing a dielectric ceramic. 前記アンモニア水の濃度によって、前記コロイド状懸濁液のコロイドの粒子径を調整することを特徴とする請求項10記載の耐還元性誘電体セラミックの製造方法。The method for producing a reduction-resistant dielectric ceramic according to claim 10 , wherein the particle diameter of the colloid of the colloidal suspension is adjusted according to the concentration of the ammonia water. セラミック誘電体層間に内部電極層を備えた基体と、前記基体の両端部に設けられ、前記内部電極層と電気的に接続された一対の外部電極とを備えた積層セラミックコンデンサであって、前記内部電極層が卑金属で構成されると共に、前記セラミック誘電体層が請求項1記載の耐還元性誘電体セラミックで構成されたことを特徴とする積層セラミックコンデンサ。A multilayer ceramic capacitor comprising a base body having an internal electrode layer between ceramic dielectric layers, and a pair of external electrodes provided at both ends of the base body and electrically connected to the internal electrode layer, 2. A multilayer ceramic capacitor comprising an internal electrode layer made of a base metal and the ceramic dielectric layer made of a reduction-resistant dielectric ceramic according to claim 1 .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10843972B2 (en) 2017-09-07 2020-11-24 Taiyo Yuden Co., Ltd. Ceramic electronic device, testing device of ceramic electronic device, testing method of ceramic electronic device and manufacturing method of ceramic electronic device

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1860569A (en) * 2003-09-30 2006-11-08 Tdk株式会社 Method for producing conductive paste for internal electrode of multilayer ceramic electronic component
JP4674438B2 (en) * 2004-02-02 2011-04-20 パナソニック株式会社 Ceramic electronic components
JP2007261913A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Tdk Corp Dielectric porcelain composition, electronic part and multilayer ceramic capacitor

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000044353A (en) * 1998-07-27 2000-02-15 Taiyo Yuden Co Ltd Production of ceramic powder
JP2000103668A (en) * 1998-09-28 2000-04-11 Murata Mfg Co Ltd Dielectric ceramic composition and laminated ceramic capacitor

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH667643A5 (en) * 1986-04-03 1988-10-31 Battelle Memorial Institute High dielectric internal grain boundary insulating layer ceramic
JPS63178409A (en) * 1987-06-26 1988-07-22 ティーディーケイ株式会社 Semiconductor ceramic composition
JPH04352408A (en) * 1991-05-30 1992-12-07 Rohm Co Ltd Terminal electrode for electronic component with leads
JP3094375B2 (en) * 1992-05-11 2000-10-03 日本電気硝子株式会社 Natural marble-like crystallized glass and glass body for producing natural marble-like crystallized glass
JP3185528B2 (en) * 1994-03-29 2001-07-11 株式会社住友金属エレクトロデバイス Dielectric porcelain composition and method for producing the same
JP2970405B2 (en) * 1994-05-20 1999-11-02 住友金属工業株式会社 Grain boundary insulating semiconductor porcelain composition and method for producing the same
JP3130214B2 (en) * 1994-10-19 2001-01-31 ティーディーケイ株式会社 Multilayer ceramic chip capacitors
JPH08167504A (en) * 1994-12-13 1996-06-25 Sumitomo Metal Ind Ltd Chip varistor and its manufacture
AU2564797A (en) * 1996-04-02 1997-10-22 Dening Yang Stereo ceramic granite and marble
JP3220846B2 (en) * 1996-08-08 2001-10-22 太陽誘電株式会社 Semiconductor porcelain and method of manufacturing semiconductor porcelain electronic component
JPH1064704A (en) * 1996-08-21 1998-03-06 Sumitomo Metal Ind Ltd Multilayer chip electronic component
JPH10139553A (en) * 1996-11-13 1998-05-26 Murata Mfg Co Ltd Production of powdery ceramic stock
JP3887908B2 (en) * 1997-09-18 2007-02-28 株式会社村田製作所 Sintering aid for ceramic

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000044353A (en) * 1998-07-27 2000-02-15 Taiyo Yuden Co Ltd Production of ceramic powder
JP2000103668A (en) * 1998-09-28 2000-04-11 Murata Mfg Co Ltd Dielectric ceramic composition and laminated ceramic capacitor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10843972B2 (en) 2017-09-07 2020-11-24 Taiyo Yuden Co., Ltd. Ceramic electronic device, testing device of ceramic electronic device, testing method of ceramic electronic device and manufacturing method of ceramic electronic device

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