JP4644382B2 - Exposure system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carrying and inverting device which have simple structure, eliminates the need to roughly position a substrate again after inverting it, has a small number of driving sources, and needs not move together with an air pipe, etc., and to provide an exposure system using the device. SOLUTION: An inversion part 30 is provided with a carrier A2 which rotates by 90 deg. while moving the substrate and a carrier B1 which receives the substrate from the carrier A2 and rotates by 90 deg. while moving. Further, a carrier A2 and a carrier B2 which move the substrate are also included; and the carriers are provided with energizing springs A1-3, A2-3, B1-3, and B2-3 which energize holding parts that the carriers have upward and the holding parts are lowered by cylinders 11, 21, 41, and 52.

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種の製造ライン中で、一つの工程から次工程に移るときに、基板の表裏面を反転させる搬送反転装置を用いて基板の両面に原版フィルムを密着して露光する露光システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、この種の装置について、各種の提案が行われている。
例えば、特許第2897073号公報には、基板を保持する保持部の移動と回転を同一の駆動源で行う反転装置が記載されている。
しかし、上記公報に記載の反転装置では、露光システムに用いる場合、反転後に再度粗位置決めを行う必要があった。
また、特開平7−251921号公報には、反転後に粗位置決めが不要な反転装置が記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前述した従来の装置は、いずれも反転動作を独立して行うので、反転に必要な動作時間が露光システム全体の処理時間を長くする原因となるという問題があった。
また、特開平7−251921号公報に記載の反転装置では、装置が複雑であった。
【0004】
本発明の課題は、反転後に基板の粗位置決めを再度行わなくてもよく、駆動源が少なく、エアー(空気)配管等を連れ回して移動することもなく、構造が簡単な露光システムを提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない
【0008】
請求項1の発明は、感光性を有する基板(K)の両面に露光を行う露光システムであって、搬入された基板を粗位置決めする粗位置決め部(10)と、前記粗位置決め部によって粗位置決めされた前記基板を精密位置決めして、前記基板の第1の面(KA)を露光する第1の露光部(20)と、前記第1の露光部により露光された前記基板を反転させる反転部(30)と、前記反転部により反転された前記基板を精密位置決めして、前記基板の第2の面(KB)を露光する第2の露光部(40)と、を備え、前記反転部の搬送反転装置は、基板の第1の面を保持し、第1の移動手段により移動される第1の保持手段と、前記第1の移動手段による移動位置に応じて、前記第1の保持手段の保持面を略垂直位置と略水平位置との間で回転させる第1の回転手段と、第1の付勢手段と、を有する第1のユニットと、前記基板の第2の面を保持し、第2の移動手段により移動される第2の保持手段と、前記第2の移動手段による移動位置に応じて、前記第2の保持手段の保持面を略垂直位置と略水平位置との間で回転させる第2の回転手段と、第2の付勢手段と、を有する第2のユニットと、前記第1の保持手段の保持面及び前記第2の保持手段の保持面が略垂直位置にある状態であって、前記基板の第1の面と第2の面とがそれぞれ前記第1の保持手段の保持面と前記第2の保持手段の保持面とに密着しているときに、前記基板の保持を前記第1の保持手段から前記第2の保持手段に切り替えるように前記第1及び第2のユニットを制御する制御部と、前記第1及び第2の回転手段は、前記第1及び第2のユニットの移動方向に沿って設けられた第1及び第2のラックギヤとかみ合い、前記第1及び第2の移動手段によって移動されることにより得た回転を、前記第1及び第2の保持手段に伝える段ギアを備えるものであって、前記第1の露光部は、前記基板の第1の面を露光するための第1の露光テーブルと、光源と、第1のアクチュエータとを備え、前記第1の保持手段に露光を完了した前記基板を渡す基板渡し部であって、前記第2の露光部は、前記基板の第2の面を露光するための第2の露光テーブルと、光源と、第2のアクチュエータとを備え、前記第2の保持手段から露光を完了した前記基板を受け取る基板受取部であって、前記第1及び第2の付勢手段は、略水平位置にあるときの前記第1及び第2の保持部の保持面を、前記第1及び第2の基板露光テーブルから所定距離離れた位置にあるように付勢するものであって、前記第1及び第2のアクチュエータは、それぞれ前記第1及び第2の付勢手段に抗して前記第1及び第2の保持部の保持面を前記第1及び第2の基板露光テーブルに接する方向に駆動するものである、こと特徴とする露光システムである。
【0010】
請求項2の発明は、請求項1に記載の露光システムにおいて、前記基板の第1の面(KA)を保持する第3の保持手段(A1−6)を有し、第3の移動手段により前記粗位置決め部(10)から前記第1の露光部(20)へ移動する第3のユニット(A1)と、前記基板の第2の面(KB)を保持する第4の保持手段(B2−6)を有し、第4の移動手段により前記第2の露光部(40)から搬出部(50)へ移動する第4のユニット(B2)と、を備え、前記第1及び第2のユニット(A2,B1)は、前記第1の露光部と前記第2の露光部との間に設けられていること、を特徴とする露光システムである。
【0011】
請求項3の発明は、請求項2に記載の露光システムにおいて、前記第3及び第4のユニット(A1,B2)は、前記第3及び第4の保持手段(A1−6,B2−6)の保持面を、前記第1及び第2の基板露光テーブル(22,42)から所定距離離れた位置にあるように付勢する第3及び第4の付勢手段(A1−3,B2−3)を備え、前記第1及び第2のアクチュエータ(21,41)は、それぞれ前記第3及び第4の付勢手段に抗して前記第3及び第4の保持部の保持面を前記第1及び第2の基板露光テーブルに接する方向への駆動も行うこと、を特徴とする露光システムである。
【0012】
請求項4の発明は、請求項3に記載の露光システムにおいて、前記粗位置決め部(10)及び前記搬出部(50)には、それぞれ前記第3及び第4の付勢手段(A1−3,B2−3)に抗して前記第3及び第4の保持手段(A1−6,B2−6)の保持面を駆動する第3及び第4のアクチュエータ(11,51)が固定されていること、を特徴とする露光システムである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面等を参照しながら、本発明の実施の形態について、更に詳しく説明する。
(第1実施形態)
図1及び図2は、本発明による搬送反転装置(反転部)と、この搬送反転装置を含む露光システムの第1実施形態の動作を説明する図である。
本実施形態における露光システムは、粗位置決め部10,A面露光部20,反転部30,B面露光部40,搬出部50を備えている。
【0014】
粗位置決め部10は、図示しない前工程から受け台12上に投入された基板K(図中には、基板K1〜K4を示すが、総じて基板Kとする)を粗位置決めする(概ねの位置に位置決めする)部分であり、図示しない複数のピンに基板Kの端面を突き当てる等して、位置決めを行う。粗位置決め部10には、シリンダ11(第3のアクチュエータ)が設けられているが、これについての説明は、他のシリンダ21(第1のアクチュエータ),41(第2のアクチュエータ),51(第4のアクチュエータ)と併せて後に行う。
【0015】
A面露光部20は、シリンダ21,露光テーブル(第1の基板台)22,原版フィルム23,光源24を備え、露光テーブル22に空気吸引により吸着された基板Kを原版フィルム23に対して精密位置決め(以下、整合)した後に、基板KのA面(第1の面)に原版フィルム23を密着してA面を光源24により露光する第1の露光部(基板渡し部)である。
【0016】
粗位置決め部10とA面露光部20との間には、キャリアA1が両者の間を往復可能に設けられている。キャリアA1は、基板Kを保持部A1−6により保持して粗位置決め部10からA面露光部20へ移動するユニット(第3のユニット)である。
【0017】
反転部30は、ラックギア31,32と、キャリアA2,B1を備え、基板Kの表裏を反転する搬送反転装置である。
図3は、キャリアA2を拡大した図である。
図4は、キャリアA2を図3中の矢印X方向から見た図である。
キャリアA2は、ベース部A2−1,上下可動部A2−2,付勢ばねA2−3,第1ギヤA2−4,第2ギヤA2−5,保持部A2−6を備えたユニット(第1のユニット)である。
ベース部A2−1は、レール60によりガイドされ、図示しない駆動部(第1の移動手段)によりレール60に沿った方向に移動する。
上下可動部A2−2は、ベース部1に対して上下方向(図3及び図4においての上下とする。以下、本実施形態の説明中において、同様に使用する)に移動可能に設けられた部材であり、付勢ばねA2−3によって上方向に付勢され、付勢ばねA2−3による付勢力以外の外力を受けない場合には、ベース部A2−1に対して所定の位置に規制されている。
第1ギヤA2−4は、大歯車がラック31とかみ合う位置に設けられ、小歯車に第2ギヤA2−5がかみ合っている段ギヤである。
保持部A2−6は、基板Kを空気の負圧により吸引して保持する部分であり、第2ギヤA2−5の回転軸に対して一体で回転するように保持されている。
なお、上記各部は、図4に示すように、保持部6を中心にして、両側に同様な形態で設けられている。
【0018】
ここで、キャリアA2の基本的な動作について説明する。
図3(a)と図4は、A面露光部20にキャリアA2がある状態を示しており、シリンダ21と露光テーブル22を併せて示している。なお、位置関係が明確になるように、図4には、ラックギヤ31も併せて示しているが、図1〜図3に示すように、ラックギヤ31は、反転部30に設けられている。
露光を終えた基板Kを反転部30へ移動するときには、キャリアA2がA面露光部20に移動し、シリンダ21の先端部が上下可動部A2−2の作用部A2−2aを引き下げ、付勢ばねA2−3の付勢力に抗して上下可動部A2−2を下降させる。上下可動部A2−2が下降すると、保持部A2−6も同時に下降し、基板KのA面KAに保持面A2−6aが接する〔図3(a)の状態〕。この状態で保持部A2−6の空気吸引を開始して、基板Kを保持部A2−6に吸着し、露光テーブル22側の吸引を解除する。そして、シリンダ21を上昇させてやることにより、基板Kは、保持部A2−6に保持されたまま上昇し、キャリアAにより移動可能になる。
【0019】
基板Kを保持したキャリアA2は、図示しない駆動部により駆動力を得て図1中右方向に移動を行う。移動開始直後の第1ギヤA2−4は、ラックギヤ31とかみ合う位置にないので、保持部A2−6は、略水平を保ったまま移動する(図1におけるT1)。そのまま移動を続けると、第1ギヤA2−4がラックギヤ31とかみ合う位置に到達し、第1ギヤA2−4が回転を開始する(図1におけるT2)。図3(b)には、保持部A2−6が移動しながら回転する状態を示した(6−1〜6−5)。保持部A2−6の回転は、ラックギヤ31と第1ギヤA2−4がかみ合う範囲で90度回転するようにラックギヤ31,第1ギヤA2−4,第2ギヤA2−5の歯数が設定されている。したがって、保持部A2−6は、略水平状態から略垂直状態まで回転する。
なお、キャリアA2は、第1ギヤA2−4とラックギヤ31とのかみ合いが外れた後も、わずかな距離だけ移動を行う。このとき、保持部A2−6は、略垂直状態のまま移動する。
【0020】
キャリアB1は、キャリアA2と同様な形態のユニット(第2のユニット)であり、保持部B1−6の保持面B1−6aがキャリアA2の保持面A2−6aと対面可能な向きに回転するように設けられており、その他のベース部B1−1,上下可動部B1−2,付勢ばねB1−3,第1ギヤB1−4,第2ギヤB1−5は、キャリアA2と同様に設けられている。
基板Kを反転するときには、キャリアA2によって90度回転した基板Kを、略垂直状態でキャリアB1の保持面B1−6aに密着させて(図1におけるT2〜T3)、キャリアB1側で保持させる。つぎに、キャリアA2側による保持を解除し、その後に、キャリアB1が図1中左方向に移動することにより、基板Kは、更に90度回転する。以上のようにして、基板Kは、キャリアA2及びキャリアB1により合計180度回転して表裏の反転が行われる。
【0021】
B面露光部40は、シリンダ41,露光テーブル(第2の基板台)42,原版フィルム43,光源44を備え、露光テーブル42に空気吸引により吸着された基板Kを原版フィルム43に対して整合した後に、基板KのB面(第2の面)に原版フィルム43を密着してB面を光源44により露光する第2の露光部(基板受取部)である。
【0022】
搬出部50は、両面の露光が完了した基板Kをつぎの工程に搬出する部分であり、シリンダ51を有している。
B面露光部40と搬出部50との間には、キャリアB2が両者の間を往復可能に設けられている。キャリアB2は、基板Kを保持部B2−6により保持してB面露光部40から搬出部50へ移動するユニット(第4のユニット)である。
【0023】
キャリアA1及びキャリアB2は、ほぼ同様な形態のユニットであり、キャリアA2の保持部A2−6を回転する機構を省いた構造であり、それぞれベース部A1−1,B2−1,上下可動部A1−2,B2−2,付勢ばねA1−3,B2−3を備えている。よって、キャリアA2,B1と同様にして、キャリアA1は、シリンダ11,21により保持部A1−6が上下し、キャリアB2は、シリンダ41,51により保持部B2−6が上下する。
【0024】
上述のキャリアA1,A2,B1,B2は、各々独立して移動するので、それぞれが独立した不図示の移動手段(第1〜4の移動手段)により移動される。本実施形態では、リニアモータを4つ設けている。
また、キャリアA1,A2,B1,B2及び粗位置決め部10,A面露光部20,反転部30,B面露光部40,搬出部50の動作は、図示しない制御部により一括して制御されている。
【0025】
図5は、本実施形態における露光システムの各部の動作を時間毎に示す図である。図5におけるT1〜T5は、図1,2におけるT1〜T5にそれぞれ対応している。
以下、T1〜T5の時間毎に、本実施形態における露光システム全体の動作について説明する。
【0026】
(T1)
粗位置決め部10:キャリアA1が基板K3を保持して粗位置決め部10からA面露光部20へ移動する。
A面露光部20:キャリアA2が基板K2を保持してA面露光部20反転部30へ移動する。
反転部30:キャリアB1が保持面B1−6aを垂直にして待機中。
B面露光部40:基板K1と原版フィルム43との密着を確認する。
搬出部50:キャリアB2が待機中。
【0027】
(T2)
粗位置決め部10:キャリアA1が基板K3をA面露光部20において保持を解除した後、空のキャリアA1がA面露光部20から粗位置決め部10へ戻る。
A面露光部20:基板K3をキャリアA1から受け取り、保持する。
反転部30:キャリアA2が基板K2を保持したまま、移動を継続する。この途中で、ラックギヤ31と第1ギヤA2−4とがかみ合い、基板K2を保持する保持部A2−6が回転する。
B面露光部40:基板K1のB面を露光する。
搬出部50:キャリアB2が待機中。
【0028】
(T2〜T3)
粗位置決め部10:キャリアA1が待機中。
A面露光部20:基板K3を保持中。
反転部30:基板K2がキャリアA2の保持部A2−6に保持されたまま、キャリアB1の保持面B1−6aに密着して保持され、その後に、保持部A2−6による保持が解除される。これにより、基板K2がキャリアA2からキャリアB1に受け渡される。
B面露光部40:基板K1のB面の露光が完了する。
搬出部50:キャリアB2が待機中。
【0029】
(T3)
粗位置決め部10:キャリアA1が待機中。基板K4が新たに投入され、粗位置決めを開始する。
A面露光部20:基板K3を整合する。
反転部30:空のキャリアA2は、戻りながら、保持部A2−6が垂直から水平へ回転する。同時に、基板K2を保持したキャリアB1は、移動しながら、保持部B1−6が垂直から水平へ回転する。
B面露光部40:キャリアB2が搬出部から移動してきて、基板K1を保持する。
搬出部50:待機中。
【0030】
(T4)
粗位置決め部10:基板K4の粗位置決め中。
A面露光部20:基板K3と原版フィルム23との密着を確認する。
反転部30:キャリアA2は、A面露光部20に戻る手前で停止し、待機する。
B面露光部40:キャリアB1から基板K2を受け取る。キャリアB2は、基板K1を搬出部へ移動する。
搬出部50:待機中。
【0031】
(T5)
粗位置決め部10:基板K4の粗位置決め中。
A面露光部20:基板K3のA面を露光する。
反転部30:キャリアA2は、待機中。キャリアB1は、B面露光部40から戻り移動を行う。
B面露光部40:基板K2を保持して待機中。
搬出部50:基板K1を搬出する。
【0032】
(T6)
粗位置決め部10:基板K4の粗位置決め中。
A面露光部20:キャリアA2が反転部30から移動してきて、基板K3を保持する。
反転部30:キャリアB1が保持部B1−6を水平から垂直へ回転しながら戻る。
B面露光部40:基板K2の整合を行う。
搬出部50:待機中。
【0033】
T6の後には、T1からの動作を繰り返す。このように、本実施形態における露光システムは、T1〜T6を1つの節(タクト)として繰り返し、複数の基板Kに対して同時に処理を行う。本実施形態では、この1つのタクトに要する時間(タクトタイム)は、12秒であった。
【0034】
(比較例)
本実施形態と比較するために、移動しながらの反転を行わない従来の手法を用いた場合のタクトタイムを求めた。
図6は、比較例とした露光システムの反転動作を説明する図である。
比較例では、キャリアA1が基板を保持して反転部のキャリアB1上に移動してくると、キャリアA1が下降して基板をキャリアA2とキャリアB1とにより両側から保持する。そして、そのまま180度回転して基板の表裏を反転させる。その後に、キャリアB1が基板を保持して上昇し、移動を行う。
【0035】
図7は、比較例における露光システムの各部の動作を時間毎に示す図である。
図7に示すように、反転に要する時間が長くなり、A面露光とB面露光の後に、待機している時間が発生しており、タクトタイムは、18秒となっており、本実施形態のタクトタイム12秒に比べて、5割も長く掛かっている。
【0036】
本実施形態によれば、キャリアA2,B1が回転しながら移動を行い、反転動作を2つのキャリアに分担させたので、反転動作に要する時間を短くすることができる。
また、キャリアA1,A2,B1,B2の保持部の上下動作を行うシリンダを粗位置決め部10,A面露光部20,B面露光部40,搬出部50に設けたので、各キャリアに保持部を上下動作用のアクチュエータを設ける必要が無く、各キャリアを駆動するときに必要な駆動力を小さくすることができると共に、保持部に必要な空気配管のみ行えばよいので、シリンダ用の配管が移動する空間が不要であり、空間を有効に利用することができ、配置の自由度を高くすることができる。
各キャリアは、独立して移動するので、キャリアの駆動源は、4つ必要であることから、各キャリアを駆動するときに必要な駆動力を小さくすることにより得られる効果は大きく、小型で低出力の駆動源を使用することにより、システム全体を小さくすることができ、必要な消費電力等も少なくすることができる。
更に、反転を行うときに、基板を吸着したまま行うので、基板の位置が安定しており、反転後に粗位置決めを行う必要もない。
【0037】
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
例えば、本実施形態では、第1ギヤA2−4、第2ギヤA2−5を用いて、減速を行う例を示したが、これに限らず、例えば、減速を行わなくてもよいし、更にギヤを追加して、減速してもよい。
また、キャリアA2,B1の保持部の回転は、ラックとギヤの組合わせにより行う例を示したが、これに限らず、例えば、キャリアA2,B1の移動に応じて、保持部が所定位置に回転移動するように、斜面や溝等及び係合部を有する案内部により回転させてもよいし、別途駆動源としてモータ等をキャリアA2,B1に設けてもよい。
更に、本実施形態では、搬送反転装置を露光システムに使用した例を示したが、これに限らず、搬送反転装置は、基板の反転が必要な各種システムに使用してもよい。
【0038】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、請求項1の発明によれば、基板の第1の面を保持し、第1の回転手段を有する第1のユニットと、基板の第2の面を保持し、第2の回転手段を有する第2のユニットと、基板の保持を第1の保持手段から第2の保持手段に切り替えるように第1及び第2のユニットを制御する制御部とを備えたので、反転動作を分担して行うことができ、反転に要する動作時間を短くすることができる。
【0039】
請求項2の発明によれば、第1及び/又は第2の回転手段は、第1及び/又は第2のラックギヤとかみ合い、回転を第1及び/又は第2の保持手段に伝えるギヤ部材を備えるので、回転専用の駆動源を設けなくてもよくすることができる。また、駆動源を第1及び第2のユニットと共に移動する必要もないので、第1及び第2のユニットの移動に必要な駆動力を小さくすることができる。
【0040】
請求項3の発明によれば、第1及び第2のユニットは、第1及び第2の付勢手段を備え、基板渡し部及び基板受取部には、第1及び第2のアクチュエータが固定されているので、保持面の動作に必要な駆動源を移動する必要が無く、第1及び第2のユニットの移動を小さい駆動力で行うことができる。また、第1及び第2のアクチュエータに接続される動力伝達部材も移動する必要がないので、空間を有効に利用することができる。
【0041】
請求項4の発明によれば、第1の露光部により露光された基板を反転させる請求項1又は請求項2に記載の搬送反転装置を有する反転部を備える露光システムであるので、反転部によって反転された基板について、再度の粗位置決めを省略することができる。
【0042】
請求項5の発明によれば、第1及び第2のユニットは、第1及び第2の付勢手段を備え、第1及び第2の露光部には、第1及び第2のアクチュエータが固定されているので、保持面の動作に必要な駆動源を移動する必要が無く、第1及び第2のユニットの移動を小さい駆動力で行うことができる。また、第1及び第2のアクチュエータに接続される動力伝達部材も移動する必要がないので、空間を有効に利用することができる。
【0043】
請求項6の発明によれば、第3のユニットと第4のユニットとを備え、第1及び第2のユニットは、第1の露光部と第2の露光部との間に設けられているので、複数の基板の処理を同時に行うことができ、効率よく処理を行うことができる。
【0044】
請求項7の発明によれば、第3及び第4のユニットは、第3及び第4の付勢手段を備え、第1及び第2のアクチュエータは、それぞれ第3及び第4の付勢手段に抗して第3及び第4の保持部の駆動も行うので、第3及び第4のユニット専用のアクチュエータを設ける必要が無く、露光システムを小型で安価にすることができる。
【0045】
請求項8の発明によれば、粗位置決め部及び搬出部には、第3及び第4の保持手段を駆動する第3及び第4のアクチュエータが固定されているので、粗位置決め部及び搬出部を簡単な構成とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による搬送反転装置(反転部)と、この搬送反転装置を含む露光システムの第1実施形態の動作を説明する図である。
【図2】本発明による搬送反転装置(反転部)と、この搬送反転装置を含む露光システムの第1実施形態の動作を説明する図である。
【図3】キャリアA2を拡大した図である。
【図4】キャリアA2を図3中の矢印X方向から見た図である。
【図5】本実施形態における露光システムの各部の動作を時間毎に示す図である。
【図6】比較例とした露光システムの反転動作を説明する図である。
【図7】比較例における露光システムの各部の動作を時間毎に示す図である。
【符号の説明】
10 粗位置決め部
11 シリンダ(第3のアクチュエータ)
20 A面露光部
21 シリンダ(第1のアクチュエータ)
30 反転部
40 B面露光部
41 シリンダ(第2のアクチュエータ)
50 搬出部
51 シリンダ(第3のアクチュエータ)
A1 キャリア(第3のユニット)
A1−6 保持部
A2 キャリア(第1のユニット)
A2−6 保持部
B1 キャリア(第2のユニット)
B1−6 保持部
B2 キャリア(第4のユニット)
B2−6 保持部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The invention, in various production lines, when moving from one step to the next step, the exposure of the exposure in close contact with an original film on both surfaces of a substrate using a conveyance reversing device Ru reverses the front and back surfaces of the substrate It is about the system.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, various proposals have been made for this type of apparatus.
For example, Japanese Patent No. 2897073 describes a reversing device that moves and rotates a holding unit that holds a substrate with the same drive source.
However, in the reversing device described in the above publication, when used in an exposure system, it is necessary to perform coarse positioning again after reversing.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-251921 describes a reversing device that does not require rough positioning after reversing.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the conventional apparatuses described above all perform the reversal operation independently, there is a problem that the operation time required for the reversal causes the processing time of the entire exposure system to be increased.
Further, the reversing device described in Japanese Patent Laid-Open No. 7-251921 is complicated.
[0004]
An object of the present invention, provided it is not necessary again performed coarse positioning of the substrate after inversion, the drive source is small, air (air) that no moving co-rotation of the pipe or the like, the structure is simple EXPOSURE system It is to be.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present invention solves the above problems by the following means. In addition, in order to make an understanding easy, although the code | symbol corresponding to embodiment of this invention is attached | subjected and demonstrated, it is not limited to this .
[0008]
The invention according to claim 1 is an exposure system that performs exposure on both sides of a photosensitive substrate (K), the coarse positioning unit (10) for roughly positioning the loaded substrate, and the rough positioning unit for rough positioning. has been in the substrate and precise positioning, the first exposure portion for exposing the first surface of the substrate (KA) and (20), Ru is inverted the substrate that has been exposed by the first exposure portion anti A reversing unit (30); and a second exposure unit (40) for precisely positioning the substrate reversed by the reversing unit to expose the second surface (KB) of the substrate, and the reversing The transfer reversing device of the section holds the first surface of the substrate and moves the first holding means moved by the first moving means, and the first moving means according to the movement position by the first moving means. Rotate the holding surface of the holding means between a substantially vertical position and a substantially horizontal position. A first unit having one rotating means, a first urging means, a second holding means that holds the second surface of the substrate and is moved by a second moving means, A second rotating means for rotating the holding surface of the second holding means between a substantially vertical position and a substantially horizontal position in accordance with a movement position by the second moving means; a second urging means; A first unit and a second surface of the substrate, wherein the first holding unit and the holding surface of the first holding unit and the holding surface of the second holding unit are in a substantially vertical position. Are in close contact with the holding surface of the first holding means and the holding surface of the second holding means, respectively, to hold the substrate from the first holding means to the second holding means. A controller that controls the first and second units to switch, and the first and second rotating means, The first and second rack gears provided along the moving direction of the first and second units mesh with the first and second moving means, and the rotation obtained by moving by the first and second moving means is the first rotation. And a stepped gear for transmitting to the second holding means, wherein the first exposure unit includes a first exposure table for exposing the first surface of the substrate, a light source, and a first light source. An actuator, and a substrate transfer unit that transfers the substrate that has been exposed to the first holding means, wherein the second exposure unit exposes a second surface of the substrate to the second surface. A substrate receiving section that includes an exposure table, a light source, and a second actuator, and that receives the substrate that has been exposed from the second holding means, wherein the first and second biasing means are substantially When the first and second holding portions are in the horizontal position, The holding surface is urged so as to be at a predetermined distance from the first and second substrate exposure tables, and the first and second actuators are respectively the first and second actuators. An exposure system characterized in that the holding surfaces of the first and second holding portions are driven against the urging means in a direction in contact with the first and second substrate exposure tables .
[0010]
A second aspect of the present invention, in an exposure system of claim 1, the third has a holding means (A1-6), the third moving means for holding a first surface of said substrate (KA) A third unit (A1) that moves from the rough positioning unit (10) to the first exposure unit (20) and a fourth holding unit (B2-) that holds the second surface (KB) of the substrate. 6), and a fourth unit (B2) that moves from the second exposure unit (40) to the carry-out unit (50) by a fourth moving means, and the first and second units (A2, B1) is an exposure system characterized in that it is provided between the first exposure unit and the second exposure unit.
[0011]
According to a third aspect of the present invention, in the exposure system according to the second aspect , the third and fourth units (A1, B2) include the third and fourth holding means (A1-6, B2-6). The third and fourth urging means (A1-3, B2-3) for urging the holding surface of the first and second substrate exposure tables (22, 42) so as to be located at a predetermined distance from each other. ), And the first and second actuators (21, 41) have the holding surfaces of the third and fourth holding portions against the first and second urging means, respectively, against the first and second urging means. The exposure system is also characterized in that it is driven in a direction in contact with the second substrate exposure table.
[0012]
According to a fourth aspect of the present invention, in the exposure system according to the third aspect , the rough positioning portion (10) and the carry-out portion (50) are respectively provided with the third and fourth urging means (A1-3, A1-3). The third and fourth actuators (11, 51) for driving the holding surfaces of the third and fourth holding means (A1-6, B2-6) against B2-3) are fixed. The exposure system characterized by the above.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 and FIG. 2 are diagrams for explaining the operation of the first embodiment of the transport reversing device (reversing unit) and the exposure system including this transport reversing device according to the present invention.
The exposure system in the present embodiment includes a rough positioning unit 10, an A surface exposure unit 20, a reversing unit 30, a B surface exposure unit 40, and a carry-out unit 50.
[0014]
The coarse positioning unit 10 roughly positions a substrate K (on the figure, the substrates K1 to K4 are generally shown as the substrate K) placed on the cradle 12 from a previous process (not shown). Positioning is performed by abutting the end face of the substrate K against a plurality of pins (not shown). The coarse positioning unit 10 is provided with a cylinder 11 (third actuator). The description of this will be given by the other cylinders 21 (first actuator), 41 (second actuator), 51 (first actuator). 4) and later.
[0015]
The A-side exposure unit 20 includes a cylinder 21, an exposure table (first substrate table) 22, an original film 23, and a light source 24, and the substrate K adsorbed on the exposure table 22 by air suction is precisely applied to the original film 23. After the positioning (hereinafter referred to as alignment), the original film 23 is brought into close contact with the A surface (first surface) of the substrate K, and the A surface is exposed by the light source 24.
[0016]
A carrier A1 is provided between the rough positioning unit 10 and the A-side exposure unit 20 so as to be able to reciprocate between the two. The carrier A1 is a unit (third unit) that holds the substrate K by the holding unit A1-6 and moves from the rough positioning unit 10 to the A-side exposure unit 20.
[0017]
The reversing unit 30 is a transport reversing device that includes rack gears 31 and 32 and carriers A2 and B1 and reverses the front and back of the substrate K.
FIG. 3 is an enlarged view of the carrier A2.
4 is a view of the carrier A2 as seen from the direction of the arrow X in FIG.
The carrier A2 includes a base unit A2-1, a vertically movable unit A2-2, a biasing spring A2-3, a first gear A2-4, a second gear A2-5, and a holding unit A2-6 (first unit). Unit).
The base portion A2-1 is guided by the rail 60, and moves in a direction along the rail 60 by a driving unit (first moving means) (not shown).
The vertically movable portion A2-2 is provided so as to be movable in the up and down direction (the top and bottom in FIGS. 3 and 4 are used in the following description of the present embodiment) with respect to the base portion 1. This is a member that is urged upward by the urging spring A2-3 and receives no external force other than the urging force by the urging spring A2-3, and is restricted to a predetermined position with respect to the base portion A2-1. Has been.
The first gear A2-4 is a step gear that is provided at a position where the large gear meshes with the rack 31, and the second gear A2-5 meshes with the small gear.
The holding portion A2-6 is a portion that sucks and holds the substrate K by the negative pressure of air, and is held so as to rotate integrally with the rotation shaft of the second gear A2-5.
In addition, as shown in FIG. 4, each said part is provided in the same form on both sides centering on the holding | maintenance part 6. As shown in FIG.
[0018]
Here, the basic operation of the carrier A2 will be described.
3A and 4 show a state in which the carrier A2 is present in the A-side exposure unit 20, and the cylinder 21 and the exposure table 22 are shown together. Note that the rack gear 31 is also shown in FIG. 4 so that the positional relationship is clear, but the rack gear 31 is provided in the reversing unit 30 as shown in FIGS.
When the exposed substrate K is moved to the reversing unit 30, the carrier A2 moves to the A-side exposure unit 20, and the tip of the cylinder 21 pulls down the action portion A2-2a of the up and down movable unit A2-2 to bias it. The vertically movable portion A2-2 is lowered against the urging force of the spring A2-3. When the vertically movable portion A2-2 is lowered, the holding portion A2-6 is also lowered at the same time, and the holding surface A2-6a is in contact with the A surface KA of the substrate K (state shown in FIG. 3A). In this state, air suction of the holding unit A2-6 is started, the substrate K is sucked to the holding unit A2-6, and suction on the exposure table 22 side is released. Then, by raising the cylinder 21, the substrate K rises while being held by the holding portion A2-6 and can be moved by the carrier A.
[0019]
The carrier A2 holding the substrate K obtains a driving force from a driving unit (not shown) and moves to the right in FIG. Since the first gear A2-4 immediately after the start of movement is not in a position that meshes with the rack gear 31, the holding portion A2-6 moves while maintaining substantially horizontal (T1 in FIG. 1). If the movement is continued as it is, the first gear A2-4 reaches a position where it engages with the rack gear 31, and the first gear A2-4 starts to rotate (T2 in FIG. 1). FIG. 3B shows a state where the holding portion A2-6 rotates while moving (6-1 to 6-5). The number of teeth of the rack gear 31, the first gear A2-4, and the second gear A2-5 is set so that the holding portion A2-6 rotates 90 degrees within a range in which the rack gear 31 and the first gear A2-4 are engaged. ing. Accordingly, the holding portion A2-6 rotates from a substantially horizontal state to a substantially vertical state.
Note that the carrier A2 moves only a short distance after the first gear A2-4 and the rack gear 31 are disengaged. At this time, the holding part A2-6 moves in a substantially vertical state.
[0020]
The carrier B1 is a unit (second unit) having the same form as the carrier A2, and the holding surface B1-6a of the holding part B1-6 rotates in a direction that can face the holding surface A2-6a of the carrier A2. The other base part B1-1, vertical movable part B1-2, urging spring B1-3, first gear B1-4, and second gear B1-5 are provided in the same manner as the carrier A2. ing.
When the substrate K is inverted, the substrate K rotated 90 degrees by the carrier A2 is brought into close contact with the holding surface B1-6a of the carrier B1 in a substantially vertical state (T2 to T3 in FIG. 1) and held on the carrier B1 side. Next, the holding by the carrier A2 side is released, and then the carrier B1 moves leftward in FIG. 1, whereby the substrate K further rotates 90 degrees. As described above, the substrate K is rotated 180 degrees in total by the carrier A2 and the carrier B1 and the front and back are reversed.
[0021]
The B-side exposure unit 40 includes a cylinder 41, an exposure table (second substrate stage) 42, an original film 43, and a light source 44, and aligns the substrate K adsorbed on the exposure table 42 by air suction with respect to the original film 43. Then, the original film 43 is brought into close contact with the B surface (second surface) of the substrate K, and the B surface is exposed by the light source 44 to be a second exposure unit (substrate receiving unit).
[0022]
The carry-out unit 50 is a part for carrying out the substrate K on which both-side exposure has been completed to the next process, and has a cylinder 51.
A carrier B2 is provided between the B-side exposure unit 40 and the carry-out unit 50 so as to be able to reciprocate between the two. The carrier B2 is a unit (fourth unit) that holds the substrate K by the holding unit B2-6 and moves from the B-side exposure unit 40 to the carry-out unit 50.
[0023]
The carrier A1 and the carrier B2 are substantially similar units, and have a structure in which a mechanism for rotating the holding portion A2-6 of the carrier A2 is omitted, and the base portions A1-1 and B2-1 and the vertically movable portion A1 are respectively provided. -2, B2-2, and urging springs A1-3 and B2-3 are provided. Therefore, similarly to the carriers A2 and B1, the carrier A1 is moved up and down by the cylinders 11 and 21, and the carrier B2 is moved up and down by the cylinders 41 and 51.
[0024]
Since the above-described carriers A1, A2, B1, and B2 move independently from each other, they are moved by independent moving means (first to fourth moving means) that are not shown. In this embodiment, four linear motors are provided.
The operations of the carriers A1, A2, B1, and B2, the rough positioning unit 10, the A surface exposure unit 20, the reversing unit 30, the B surface exposure unit 40, and the unloading unit 50 are collectively controlled by a control unit (not shown). Yes.
[0025]
FIG. 5 is a diagram showing the operation of each part of the exposure system in this embodiment for each time. T1 to T5 in FIG. 5 correspond to T1 to T5 in FIGS.
Hereinafter, the operation of the entire exposure system in the present embodiment will be described for each time of T1 to T5.
[0026]
(T1)
Rough positioning unit 10: The carrier A1 holds the substrate K3 and moves from the rough positioning unit 10 to the A-side exposure unit 20.
A-side exposure unit 20: The carrier A2 holds the substrate K2 and moves to the A-side exposure unit 20 reversing unit 30.
Reversing unit 30: The carrier B1 is waiting with the holding surface B1-6a vertical.
B-side exposure unit 40: Checks adhesion between the substrate K1 and the original film 43.
Unloading unit 50: Carrier B2 is waiting.
[0027]
(T2)
Coarse positioning unit 10: After the carrier A1 releases the substrate K3 from the A-side exposure unit 20, the empty carrier A1 returns from the A-side exposure unit 20 to the coarse positioning unit 10.
A-side exposure unit 20: Receives and holds the substrate K3 from the carrier A1.
Inversion unit 30: The carrier A2 continues to move while holding the substrate K2. In the middle of this, the rack gear 31 and the first gear A2-4 mesh with each other, and the holding portion A2-6 that holds the substrate K2 rotates.
B surface exposure unit 40: Exposes the B surface of the substrate K1.
Unloading unit 50: Carrier B2 is waiting.
[0028]
(T2-T3)
Coarse positioning unit 10: Carrier A1 is waiting.
A surface exposure part 20: Holding substrate K3.
Inversion unit 30: The substrate K2 is held in close contact with the holding surface B1-6a of the carrier B1 while being held by the holding unit A2-6 of the carrier A2, and thereafter the holding by the holding unit A2-6 is released. . As a result, the substrate K2 is transferred from the carrier A2 to the carrier B1.
B side exposure unit 40: The exposure of the B side of the substrate K1 is completed.
Unloading unit 50: Carrier B2 is waiting.
[0029]
(T3)
Coarse positioning unit 10: Carrier A1 is waiting. Substrate K4 is newly loaded and coarse positioning is started.
A-side exposure unit 20: aligns the substrate K3.
Reversing unit 30: While the empty carrier A2 returns, the holding unit A2-6 rotates from vertical to horizontal. At the same time, while the carrier B1 holding the substrate K2 moves, the holding part B1-6 rotates from vertical to horizontal.
B-side exposure unit 40: The carrier B2 moves from the carry-out unit and holds the substrate K1.
Unloading unit 50: Waiting.
[0030]
(T4)
Coarse positioning unit 10: During coarse positioning of the substrate K4.
A-side exposure unit 20: Checks adhesion between the substrate K3 and the original film 23.
Reversing unit 30: The carrier A2 stops before returning to the A-side exposure unit 20 and stands by.
B-side exposure unit 40: receives the substrate K2 from the carrier B1. The carrier B2 moves the substrate K1 to the carry-out unit.
Unloading unit 50: Waiting.
[0031]
(T5)
Coarse positioning unit 10: During coarse positioning of the substrate K4.
A-side exposure unit 20: Exposes the A-side of the substrate K3.
Inversion unit 30: Carrier A2 is on standby. The carrier B1 moves back from the B-side exposure unit 40.
B-side exposure unit 40: Standing by holding the substrate K2.
Unloading unit 50: Unloads the substrate K1.
[0032]
(T6)
Coarse positioning unit 10: During coarse positioning of the substrate K4.
A-side exposure unit 20: The carrier A2 moves from the reversing unit 30 and holds the substrate K3.
Inversion part 30: The carrier B1 returns while rotating the holding part B1-6 from horizontal to vertical.
B-side exposure unit 40: aligns the substrate K2.
Unloading unit 50: Waiting.
[0033]
After T6, the operation from T1 is repeated. As described above, the exposure system according to the present embodiment repeats T1 to T6 as one node (tact), and processes a plurality of substrates K simultaneously. In this embodiment, the time required for one tact (tact time) is 12 seconds.
[0034]
(Comparative example)
In order to compare with the present embodiment, the tact time in the case of using a conventional method that does not perform reversal while moving was obtained.
FIG. 6 is a view for explaining the inversion operation of the exposure system as a comparative example.
In the comparative example, when the carrier A1 holds the substrate and moves onto the carrier B1 of the reversal unit, the carrier A1 descends and holds the substrate from both sides by the carrier A2 and the carrier B1. And it rotates 180 degree | times as it is, and the front and back of a board | substrate is reversed. Thereafter, the carrier B1 moves upward while holding the substrate.
[0035]
FIG. 7 is a diagram showing the operation of each part of the exposure system in the comparative example for each time.
As shown in FIG. 7, the time required for inversion becomes longer, the waiting time occurs after the A-side exposure and the B-side exposure, and the tact time is 18 seconds. It takes 50% longer than the tact time of 12 seconds.
[0036]
According to the present embodiment, since the carriers A2 and B1 move while rotating and the reversing operation is shared by the two carriers, the time required for the reversing operation can be shortened.
Further, since the cylinders that perform the vertical movements of the holding parts of the carriers A1, A2, B1, and B2 are provided in the rough positioning part 10, the A-side exposure part 20, the B-side exposure part 40, and the carry-out part 50, the holding parts are provided in each carrier. It is not necessary to provide an actuator for vertical movement, and the driving force required to drive each carrier can be reduced, and only the air piping required for the holding part needs to be provided, so the cylinder piping moves. The space to be used is unnecessary, the space can be used effectively, and the degree of freedom in arrangement can be increased.
Since each carrier moves independently, four carrier driving sources are required. Therefore, the effect obtained by reducing the driving force required to drive each carrier is large, and the size is small and low. By using the output drive source, the entire system can be reduced, and the necessary power consumption can be reduced.
Furthermore, since the substrate is attracted when reversing, the position of the substrate is stable, and it is not necessary to perform rough positioning after reversing.
[0037]
(Deformation)
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications and changes are possible, and these are also within the equivalent scope of the present invention.
For example, in this embodiment, although the example which performs deceleration using 1st gear A2-4 and 2nd gear A2-5 was shown, it is not restricted to this, For example, it is not necessary to perform deceleration, You may slow down by adding gears.
Moreover, although the example which performs rotation of the holding | maintenance part of carrier A2, B1 by the combination of a rack and a gear was shown, it does not restrict to this, For example, according to the movement of carrier A2, B1, a holding | maintenance part will be in a predetermined position. It may be rotated by a guide portion having an inclined surface, a groove or the like and an engaging portion so as to rotate, or a motor or the like may be provided on the carriers A2 and B1 as a separate drive source.
Furthermore, in the present embodiment, an example in which the transport reversing device is used in the exposure system has been described. However, the present invention is not limited to this, and the transport reversing device may be used in various systems that require the substrate to be reversed.
[0038]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the first aspect of the invention, the first surface of the substrate is held, the first unit having the first rotating means, the second surface of the substrate is held, Since the second unit having two rotating means and the control unit for controlling the first and second units so as to switch the holding of the substrate from the first holding means to the second holding means, the inversion is provided. The operation can be shared and the operation time required for inversion can be shortened.
[0039]
According to the invention of claim 2, the first and / or second rotating means meshes with the first and / or second rack gear, and the gear member for transmitting the rotation to the first and / or second holding means. Since it is provided, it is not necessary to provide a drive source dedicated to rotation. In addition, since it is not necessary to move the driving source together with the first and second units, the driving force required to move the first and second units can be reduced.
[0040]
According to a third aspect of the present invention, the first and second units include first and second urging means, and the first and second actuators are fixed to the substrate transfer portion and the substrate receiving portion. Therefore, it is not necessary to move the driving source necessary for the operation of the holding surface, and the first and second units can be moved with a small driving force. Further, since the power transmission member connected to the first and second actuators does not need to move, the space can be used effectively.
[0041]
According to invention of Claim 4, since it is an exposure system provided with the inversion part which has the conveyance inversion apparatus of Claim 1 or Claim 2 which inverts the board | substrate exposed by the 1st exposure part, By an inversion part The rough positioning again can be omitted for the inverted substrate.
[0042]
According to the invention of claim 5, the first and second units include first and second urging means, and the first and second actuators are fixed to the first and second exposure sections. Therefore, it is not necessary to move the driving source necessary for the operation of the holding surface, and the first and second units can be moved with a small driving force. Further, since the power transmission member connected to the first and second actuators does not need to move, the space can be used effectively.
[0043]
According to the sixth aspect of the present invention, the third unit and the fourth unit are provided, and the first and second units are provided between the first exposure unit and the second exposure unit. Therefore, a plurality of substrates can be processed at the same time, and the processing can be performed efficiently.
[0044]
According to the seventh aspect of the present invention, the third and fourth units include third and fourth urging means, and the first and second actuators are provided as the third and fourth urging means, respectively. In contrast, since the third and fourth holding units are also driven, there is no need to provide actuators dedicated to the third and fourth units, and the exposure system can be made small and inexpensive.
[0045]
According to invention of Claim 8, since the 3rd and 4th actuator which drives the 3rd and 4th holding means is being fixed to the rough positioning part and the carrying-out part, the rough positioning part and the carrying-out part are A simple configuration can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view for explaining the operation of a first embodiment of a transport reversing device (reversing unit) and an exposure system including the transport reversing device according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of a first embodiment of a transport reversing device (reversing unit) and an exposure system including the transport reversing device according to the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of a carrier A2.
4 is a view of carrier A2 as seen from the direction of arrow X in FIG.
FIG. 5 is a view showing the operation of each part of the exposure system in this embodiment for each time.
FIG. 6 is a view for explaining a reversal operation of an exposure system as a comparative example.
FIG. 7 is a diagram showing the operation of each part of the exposure system in the comparative example for each time.
[Explanation of symbols]
10 Coarse positioning part 11 Cylinder (third actuator)
20 A-side exposure unit 21 Cylinder (first actuator)
30 Reversing unit 40 B-side exposure unit 41 Cylinder (second actuator)
50 Unloading part 51 Cylinder (third actuator)
A1 carrier (third unit)
A1-6 holder A2 carrier (first unit)
A2-6 Holding part B1 Carrier (second unit)
B1-6 holder B2 carrier (fourth unit)
B2-6 Holding part

Claims (4)

感光性を有する基板の両面に露光を行う露光システムであって、
搬入された基板を粗位置決めする粗位置決め部と、
前記粗位置決め部によって粗位置決めされた前記基板を精密位置決めして、前記基板の第1の面を露光する第1の露光部と、
前記第1の露光部により露光された前記基板を反転させる反転部と、
前記反転部により反転された前記基板を精密位置決めして、前記基板の第2の面を露光する第2の露光部と、を備え
前記反転部の搬送反転装置は、
基板の第1の面を保持し、第1の移動手段により移動される第1の保持手段と、前記第1の移動手段による移動位置に応じて、前記第1の保持手段の保持面を略垂直位置と略水平位置との間で回転させる第1の回転手段と、第1の付勢手段と、を有する第1のユニットと、
前記基板の第2の面を保持し、第2の移動手段により移動される第2の保持手段と、前記第2の移動手段による移動位置に応じて、前記第2の保持手段の保持面を略垂直位置と略水平位置との間で回転させる第2の回転手段と、第2の付勢手段と、を有する第2のユニットと、
前記第1の保持手段の保持面及び前記第2の保持手段の保持面が略垂直位置にある状態であって、前記基板の第1の面と第2の面とがそれぞれ前記第1の保持手段の保持面と前記第2の保持手段の保持面とに密着しているときに、前記基板の保持を前記第1の保持手段から前記第2の保持手段に切り替えるように前記第1及び第2のユニットを制御する制御部と、
前記第1及び第2の回転手段は、前記第1及び第2のユニットの移動方向に沿って設けられた第1及び第2のラックギヤとかみ合い、前記第1及び第2の移動手段によって移動されることにより得た回転を、前記第1及び第2の保持手段に伝える段ギアを備えるものであって、
前記第1の露光部は、前記基板の第1の面を露光するための第1の露光テーブルと、光源と、第1のアクチュエータとを備え、前記第1の保持手段に露光を完了した前記基板を渡す基板渡し部であって、
前記第2の露光部は、前記基板の第2の面を露光するための第2の露光テーブルと、光源と、第2のアクチュエータとを備え、前記第2の保持手段から露光を完了した前記基板を受け取る基板受取部であって、
前記第1及び第2の付勢手段は、略水平位置にあるときの前記第1及び第2の保持部の保持面を、前記第1及び第2の基板露光テーブルから所定距離離れた位置にあるように付勢するものであって、
前記第1及び第2のアクチュエータは、それぞれ前記第1及び第2の付勢手段に抗して前記第1及び第2の保持部の保持面を前記第1及び第2の基板露光テーブルに接する方向に駆動するものである、
こと特徴とする露光システム
An exposure system that exposes both sides of a photosensitive substrate,
A coarse positioning unit for coarsely positioning the loaded substrate;
A first exposure unit that precisely positions the substrate roughly positioned by the rough positioning unit and exposes a first surface of the substrate;
A reversal portion that inverts the substrate that has been exposed by the first exposure unit,
A second exposure unit that precisely positions the substrate inverted by the inversion unit and exposes the second surface of the substrate ;
The conveyance reversing device of the reversing unit is
The first holding means that holds the first surface of the substrate and is moved by the first moving means, and the holding surface of the first holding means is substantially corresponding to the movement position by the first moving means. A first unit having a first rotating means for rotating between a vertical position and a substantially horizontal position; and a first biasing means;
The second holding means that holds the second surface of the substrate and is moved by the second moving means, and the holding surface of the second holding means is changed according to the movement position by the second moving means. A second unit having a second rotating means for rotating between a substantially vertical position and a substantially horizontal position; and a second urging means;
The holding surface of the first holding means and the holding surface of the second holding means are in a substantially vertical position, and the first surface and the second surface of the substrate are respectively in the first holding state. The first and second holding means for switching the holding of the substrate from the first holding means to the second holding means when in close contact with the holding surface of the means and the holding surface of the second holding means. A control unit for controlling the two units;
The first and second rotating means mesh with first and second rack gears provided along the moving direction of the first and second units, and are moved by the first and second moving means. A step gear for transmitting the rotation obtained by the above to the first and second holding means,
The first exposure unit includes a first exposure table for exposing the first surface of the substrate, a light source, and a first actuator, and the first holding unit has completed exposure. A board transfer section for transferring a board;
The second exposure unit includes a second exposure table for exposing the second surface of the substrate, a light source, and a second actuator, and has completed exposure from the second holding unit. A board receiving part for receiving a board;
The first and second urging means place the holding surfaces of the first and second holding portions when they are in a substantially horizontal position at a position away from the first and second substrate exposure tables by a predetermined distance. It is energized as it is,
The first and second actuators contact the holding surfaces of the first and second holding portions against the first and second substrate exposure tables, respectively, against the first and second urging means. Drive in the direction,
An exposure system characterized by that .
請求項1に記載の露光システムにおいて、
前記基板の第1の面を保持する第3の保持手段を有し、
第3の移動手段により前記粗位置決め部から前記第1の露光部へ移動する第3のユニットと、
前記基板の第2の面を保持する第4の保持手段を有し、第4の移動手段により前記第2の露光部から搬出部へ移動する第4のユニットと、を備え、
前記第1及び第2のユニットは、前記第1の露光部と前記第2の露光部との間に設けられていること、
を特徴とする露光システム。
The exposure system according to claim 1 ,
Third holding means for holding the first surface of the substrate;
A third unit that moves from the rough positioning portion to the first exposure portion by a third moving means;
A fourth unit having a fourth holding means for holding the second surface of the substrate and moving from the second exposure unit to the carry-out unit by a fourth moving unit;
The first and second units are provided between the first exposure unit and the second exposure unit;
An exposure system characterized by this.
請求項2に記載の露光システムにおいて、
前記第3及び第4のユニットは、前記第3及び第4の保持部の保持面を、前記第1及び第2の基板露光テーブルから所定距離離れた位置にあるように付勢する第3及び第4の付勢手段を備え、
前記第1及び第2のアクチュエータは、それぞれ前記第3及び第4の付勢手段に抗して前記第3及び第4の保持手段の保持面を前記第1及び第2の基板露光テーブルに接する方向への駆動も行うこと、
を特徴とする露光システム。
The exposure system according to claim 2 , wherein
The third and fourth units urge the holding surfaces of the third and fourth holding portions so as to be located at a predetermined distance from the first and second substrate exposure tables. Comprising a fourth biasing means;
The first and second actuators contact the holding surfaces of the third and fourth holding means against the first and second substrate exposure tables, respectively, against the third and fourth biasing means. Driving in the direction,
An exposure system characterized by this.
請求項3に記載の露光システムにおいて、
前記粗位置決め部及び前記搬出部には、それぞれ前記第3及び第4の付勢手段に抗して前記第3及び第4の保持手段の保持面を駆動する第3及び第4のアクチュエータが固定されていること、
を特徴とする露光システム。
The exposure system according to claim 3 , wherein
Third and fourth actuators for driving the holding surfaces of the third and fourth holding means against the third and fourth urging means are fixed to the rough positioning portion and the carry-out portion, respectively. is being done,
An exposure system characterized by this.
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