JP4644000B2 - Indentation processing method - Google Patents
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Description
本発明は、被加工材に圧痕形状を付与する圧痕加工装置及び圧痕加工方法に関する。 The present invention relates to an indentation processing apparatus and an indentation processing method for imparting an indentation shape to a workpiece.
例えば、表面に数μm〜数百μmの微細な凹部又は凸部を多数形成した金属薄膜は、入射した光を効率的に反射させることができるので、液晶表示装置の反射膜として利用されている。このような反射膜は、微細な凹部又は凸部を形成したローラ状の母型を回転させて樹脂層上に押し付け、微細な凹部又は凸部が転写された樹脂層上に金属薄膜を積層して作られる。こうした微細な凹部又は凸部を形成したローラ状の母型を作製する際には、ローラ状の被加工材を回転させつつ、先端が尖った加工部材(圧子)を断続的にこの被加工材に押し付けて圧痕加工して、被加工材の表面にサブミクロンオーダーの制御がなされた微細な凹部又は凸部を形成する。 For example, a metal thin film having a large number of fine concave portions or convex portions of several μm to several hundred μm formed on the surface can efficiently reflect incident light, and thus is used as a reflective film for a liquid crystal display device. . Such a reflective film is formed by laminating a roller-shaped matrix on which fine concave portions or convex portions are formed and pressing them onto the resin layer, and laminating a metal thin film on the resin layer onto which the fine concave portions or convex portions are transferred. Made. When producing such a roller-shaped master having a concave or convex portion, while rotating the roller-shaped workpiece, a workpiece (indenter) with a sharp tip is intermittently moved to the workpiece. To form a concave or convex portion with submicron-order control on the surface of the workpiece.
この被加工材は、例えば直径が10mmφで長さが200mmのような長尺体であり、このような形状の被加工材を作製すると、必ず表面にミクロンオーダーのうねりが生じる。サブミクロンオーダーの精度で凹部又は凸部を形成する際に、被加工材の表面にミクロンオーダーのうねりがあると、正確に被加工材に圧痕加工を施すことができない。したがって、本発明者は、被加工材にうねりがあったとしても正確に圧痕加工を施すために、被加工材の表面を検出した後に圧痕加工を施す発明をした(特許文献1)。 This workpiece is, for example, a long body having a diameter of 10 mmφ and a length of 200 mm. When a workpiece having such a shape is produced, undulation on the order of microns is always generated on the surface. When forming concave or convex portions with submicron order accuracy, if the surface of the workpiece has undulations on the micron order, the workpiece cannot be accurately indented. Therefore, the present inventor has invented the indentation processing after detecting the surface of the workpiece in order to accurately perform the indentation processing even if the workpiece has waviness (Patent Document 1).
しかしながら、被加工材を、例えば液晶表示装置の反射膜を製造するための微細な凹部又は凸部を形成するマスター型として使用する場合には、被加工材に非常に多くの凹部又は凸部を形成する必要があり、この凹部又は凸部形成のための1回の圧痕加工毎に被加工材の表面を検出すると、被加工材全体の圧痕加工に非常に長時間を要してしまう。 However, when the workpiece is used as a master mold for forming fine concave portions or convex portions for manufacturing a reflective film of a liquid crystal display device, for example, a very large number of concave portions or convex portions are formed on the workpiece. If the surface of the workpiece is detected for each indentation processing for forming the concave portion or the convex portion, it takes a very long time to indent the entire workpiece.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、加工速度を向上させた状態で、被加工材の表面位置を正確に検出して圧痕加工を行う圧痕加工方法を提供することを目的する。 The present invention has been made in view of the foregoing, an object in a state with improved machining speed, to provide an accurately detect and cormorants line indentations machining pressure trace processing method of the surface position of the workpiece To do.
本発明の圧痕加工方法は、被加工材に圧痕形状を付与する加工部材を前記被加工材に対して進出させて、特定の圧痕位置において前記加工部材が前記被加工材に接触したことを検出する工程と、前記特定の圧痕位置における前記加工部材と前記被加工材との間の検出された距離を格納する工程と、前記距離を用いて補間処理を行って前記特定の圧痕位置以外の圧痕位置における前記距離を求める工程と、前記検出された距離及び前記求められた距離に基づいて前記被加工材に圧痕を付与するための前記加工部材の駆動を制御する工程と、を少なくとも具備することを特徴とする。 According to the indentation processing method of the present invention, a processing member that imparts an indentation shape to a workpiece is advanced with respect to the workpiece, and it is detected that the processing member has contacted the workpiece at a specific indentation position. A step of storing, a step of storing a detected distance between the workpiece and the workpiece at the specific indentation position, and an indentation other than the specific indentation position by performing an interpolation process using the distance At least a step of obtaining the distance at a position, and a step of controlling driving of the processing member for imparting an impression to the workpiece based on the detected distance and the obtained distance. It is characterized by.
この方法によれば、すべての圧痕位置について表面位置検出を行わないで、特定の圧痕位置の情報から補間処理により全圧痕位置の制御量を求めるので、加工速度を向上させることができ、しかも被加工材の表面位置を正確に検出して圧痕加工を行うことが可能となる。 According to this method, since the surface position detection is not performed for all the indentation positions, the control amount of the entire indentation position is obtained by interpolation processing from the information on the specific indentation position, so that the processing speed can be improved and the covered position It is possible to accurately detect the surface position of the workpiece and perform indentation processing.
本発明の圧痕加工方法においては、前記加工部材の駆動を制御する工程において、前記加工部材を前記被加工材近傍まで進める速度よりも前記被加工材に前記加工部材で圧痕加工する際の速度を遅くする制御を行うことが好ましい。 In the indentation processing method of the present invention, in the step of controlling the drive of the processing member, the speed at which the processing member indents the workpiece with the processing member rather than the speed at which the processing member is advanced to the vicinity of the processing material. It is preferable to perform the control for delaying.
この方法によれば、加工部材の先端が被加工材の表面に接触する直前までの速度を速くし、接触直後の速度を遅くすることにより、加工時間のさらなる短縮を図ることができると共に、加工部材の損傷を少なくすることができ、加工部材の寿命を長くすることができる。さらに、圧痕加工をゆっくり行うことにより、加工部材の形状を被加工材に正確に付与することができるので、その微細な凹凸を転写した製品は所望の特性を発揮することが可能となる。 According to this method, the processing time can be further shortened by increasing the speed until immediately before the tip of the processing member contacts the surface of the workpiece, and by decreasing the speed immediately after the contact. The damage to the member can be reduced, and the life of the processed member can be extended. Furthermore, since the shape of the processed member can be accurately given to the workpiece by slowly performing the indent processing, the product having the fine irregularities transferred thereon can exhibit desired characteristics.
本発明の圧痕加工方法においては、前記検出手段として圧電素子を用い、前記検出手段を前記加工部材に取り付けた状態で、前記加工部材を前記被加工材に対して進出させて前記加工部材が前記被加工材に接触したときに前記加工部材と前記被加工材との間の距離を求めることが好ましい。 In the indentation processing method of the present invention, a piezoelectric element is used as the detection unit, and the processing member is advanced with respect to the workpiece while the detection unit is attached to the processing member. It is preferable to obtain a distance between the workpiece and the workpiece when contacting the workpiece.
この方法によれば、検出手段が加工部材に設けられていることにより、加工部材の先端が被加工材の表面に接触したときに検出手段である圧電素子が電圧を発生するので、加工部材の先端が被加工材の表面に接触した時点を正確に検出することができる。 According to this method, since the detecting means is provided on the processing member, the piezoelectric element as the detecting means generates a voltage when the tip of the processing member contacts the surface of the workpiece. It is possible to accurately detect when the tip contacts the surface of the workpiece.
本発明の圧痕加工においては、被加工材に圧痕形状を付与する加工部材を被加工材に対して進出させて、特定の圧痕位置において加工部材が被加工材に接触したことを検出し、この特定の圧痕位置における加工部材と被加工材との間の距離を格納し、格納した距離を用いて補間処理を行って特定の圧痕位置以外の圧痕位置における距離を求め、格納した距離及び求められた距離に基づいて被加工材に圧痕を付与するための加工部材の駆動を制御するので、加工速度を向上させた状態で、被加工材の表面位置を正確に検出して圧痕加工を行うことが可能となる。 In the indentation processing of the present invention, a processing member that imparts an indentation shape to the workpiece is advanced with respect to the workpiece, and it is detected that the processing member has contacted the workpiece at a specific indentation position. The distance between the workpiece and the workpiece at a specific indentation position is stored, and interpolation processing is performed using the stored distance to obtain a distance at an indentation position other than the specific indentation position. Because it controls the drive of the processing member to give indentation to the workpiece based on the measured distance, it can accurately detect the surface position of the workpiece and perform indentation processing while improving the processing speed Is possible.
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態に係る圧痕加工装置の概略構成を示す図である。圧痕加工装置10は、被加工材9に加工を施す加工部11と、この加工部11を制御する制御部12とを有する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an indentation processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The
加工部11においては、駆動ユニット19を有する移動体14を水平方向(図中X方向)に移動させる移動装置15を有する。移動装置15は水平方向に延在する案内軸13を有しており、その案内軸13には、案内軸13の囲繞するように設けられた移動体14が摺動可能に取り付けられている。この移動体14に駆動ユニット19を上下動させるためのステッピングモータ(あるいはサーボモータ)(図示せず)にて駆動される駆動部18が取り付けられ、この駆動部18上に駆動ユニット19が取り付けられている。
The
駆動ユニット19は、加工部材駆動手段である駆動用圧電素子21と、被加工材9の表面を検出する検出用圧電素子22と、被加工材9に圧痕形状を付与する加工部材23とから主に構成される。すなわち、移動体14に取り付けられたステッピングモータにて駆動される駆動部18には、駆動用圧電素子21が取り付けられており、この駆動用圧電素子21は、電圧を印加することにより鉛直方向(図中X方向と直交する方向)に伸縮するようになっている。駆動用圧電素子21の下面には、検出用圧電素子22が取り付けられており、この検出用圧電素子22も、電圧を印加することにより鉛直方向(図中X方向と直交する方向)に伸縮するようになっている。検出用圧電素子22の下面には、加工部材23が取り付けられている。このような構成において、駆動用圧電素子21は、加工部材23を被加工材9に対して進退させ、検出用圧電素子22は、加工部材23が被加工材9に接触したことを検出する。
The
駆動ユニット19は、ステッピングモータ(あるいはサーボモータ)にて駆動される駆動部18に取り付けられている。ステッピングモータは駆動ユニット19を上下動させて、大まかな位置決めを行う(粗動位置決め装置)。移動体14の一端には原点標識25が形成されると共に、この原点標識25を検出するX軸原点センサ26が形成されている。この原点標識25及びX軸原点センサ26を用いることにより、移動体14を移動装置15の原点位置に戻すことができる。
The
移動装置15の下方には、長尺体である被加工材9を保持する回転チャック16を回転させる回転装置17が配設されている。回転装置17の回転チャック16は被加工材9の一端を保持する。回転チャック16に保持された被加工材9は、回転装置17により図中θ方向に回転する。回転装置17の一端には原点標識27が設けられると共に、この原点標識27を検出するθ軸原点センサ28が設けられている。この原点標識27及びθ軸原点センサ28により、回転チャック16を回転装置17の原点位置に戻すことができる。もしくは、被加工材9の特定箇所につけたマークを、例えばCCDカメラなどで認識し、原点センサとしても良い。
A rotating
制御部12は、圧痕加工装置10全体を制御するパーソナルコンピュータ(PC)31と、信号変換装置、例えばデジタル−アナログ変換部(D/A変換部)32と、信号変換装置、例えばアナログ−デジタル変換部(A/D変換部)33を有するコントローラ45と、移動装置15を駆動する移動装置ドライバ34と、回転装置17を駆動する回転装置ドライバ35と、圧電素子21を駆動する圧電素子ドライバ38と、駆動ユニット19の概ねの位置を制御する粗動位置決め装置ドライバ39とから主に構成されている。
The
D/A変換部32は、駆動用圧電素子21に制御信号を送出する。A/D変換部33は、被加工材表面の検出用圧電素子22から出力された検出信号をD/A変換部32にフィードバックする。移動装置ドライバ34、回転装置ドライバ35、及び粗動位置決め装置ドライバ39は、パーソナルコンピュータ(PC)31からの指示に応じて移動装置15、回転装置17、及びステッピングモータ(粗動位置決め装置)をそれぞれ制御する。なお、図1ではPC31からD/A変換部32、A/D変換部33を有するコントローラ45、移動装置ドライバ34、及び回転装置ドライバ35、粗動位置決め装置ドライバ39を制御する場合について示しているが、制御信号のやり取りを高速化するために、移動装置ドライバ34及び回転装置ドライバ35をマイクロコンピュータ付きの基板として一体に構成しても良い。
The D /
図2は、圧痕加工装置10の駆動ユニット19を示す拡大図である。加工部材23を被加工材9に対して進退させる(本実施の形態においては加工部材23を昇降させる)駆動用圧電素子21は、電圧を付与するとピエゾ効果によりその長さが伸長する。すなわち、図2(a)に示す状態において、駆動用圧電素子21に電圧を印加すると、その長さが伸びて、図2(b)に示すように、加工部材23が被加工材9に接触する。このような駆動用圧電素子21は、例えば圧電材料で構成した薄い膜を多数積層して形成した積層型圧電素子であり、それぞれの膜に電圧を印加することにより、素子全体で、例えばフルストローク10〜100μm程度の伸縮を行う。
FIG. 2 is an enlarged view showing the
駆動ユニット19において、駆動用圧電素子21の下面には、接着剤のような接続部材41を介して検出用圧電素子22が取り付けられている。検出用圧電素子22は、歪みが生じるとピエゾ効果により電圧が発生する。すなわち、加工部材23が被加工材9に接触して検出用圧電素子22が歪むと電圧が発生する。したがって、検出用圧電素子22の電圧変化を監視することにより、加工部材23が被加工材9の表面9aに接したことを検出することができる。被加工材9の表面9aが検出されると、それがトリガとなり、駆動用圧電素子21の下降、すなわち伸長が停止する。このときに駆動用圧電素子21に印加した電圧は、圧痕位置における加工部材23と被加工材9との間の距離に対応するので、駆動ユニット19の加工部材23の高さ(距離)情報としてこの電圧値を格納する。
In the
このような検出用圧電素子22は、例えば圧電材料で構成した薄い膜を多数積層して形成した積層型圧電素子であり、素子全体として数十nm〜数百nmの圧縮で微小電圧変化を観察することが可能である。
Such a detecting
検出用圧電素子22の下面には、例えばチャック治具又は接着剤などの接続部材42を介して加工部材23が取り付けられている。加工部材23は、その先端23aの形状が被加工材9の表面9aに形成される微細な凹部又は凸部に対応しており、加工部材23全体はダイヤモンドや硬質な金属などで構成される。なお、加工部材23の先端23aは、検出用圧電素子22の軸上に位置することが好ましい。これにより、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接した瞬間を検出用圧電素子22により確実に検出することが可能になる。
A processing
圧電素子21に制御信号を送出するコントローラ45は、図3に示すように、検出された電圧値を格納するメモリ451と、パーソナルコンピュータ(PC)31内の波形作成部313で作成された電圧波形に基づいて圧電素子21の駆動制御を行う駆動制御部452とを有する。パーソナルコンピュータ(PC)31は、コントローラ45内メモリ451に格納された電圧値を格納するメモリ311と、格納された電圧値を用いて検出を行わない圧痕位置の電圧値を補間処理して求める補間演算部312と、格納された電圧値及び補間された電圧値を用いて圧痕位置での圧痕加工の際に圧電素子21に与える電圧波形を作成する波形作成部313とを有する。また、このコントローラ45内のメモリ451はパーソナルコンピュータ(PC)31内のメモリ311のみでもよい。このパーソナルコンピュータ(PC)31は、検出用圧電素子22を用いて検出された、特定の圧痕位置における加工部材23と被加工材9との間の距離(電圧値)を格納し、その電圧値を用いて補間処理を行って特定の圧痕位置以外の圧痕位置における距離(電圧値)を求め、格納された電圧値及び求められた距離(電圧値)に基づいて被加工材9に圧痕を付与するための加工部材23の駆動を制御する。
As shown in FIG. 3, the
次に、上記構成を有する圧痕加工装置10の動作について説明する。ここでは、図2(a)に示すように、被加工材9の表面9aに深さd、例えば1μmの微細な凹部又は凸部(ディンプル)43を形成する場合について説明する。なお、被加工材9としては、例えば反射型液晶表示装置などに用いられる反射膜の表面加工に用いられる母型が挙げられる。この反射膜は、反射型液晶表示装置の画素よりも小さい、極めて微細な凹部又は凸部を表面に多数有するものである。
Next, operation | movement of the
このような反射膜を形成する凹部又は凸部は、例えば幅が数百μm〜数μm程度であり、深さは数百nm〜数μm程度の断面略円形あるいは楕円形もしくは任意の2〜10程度の局面の集合体であっても良く、その一部に平面を有するものであっても良い、微細な窪みである。このような凹部又は凸部を多数形成することによって、反射膜は入射した光を効率良く拡散あるいは集光することができる。被加工材9は、このような反射膜の製造において、反射膜に凹部又は凸部を与える樹脂膜を形成する際に、樹脂膜にこの被加工材9を押し当てて樹脂膜の表面に凹凸を形成するために用いられる。
The concave portion or the convex portion forming such a reflective film has, for example, a width of about several hundred μm to several μm, and a depth of about several hundred nm to several μm. It is a fine depression that may be an assembly of a certain degree of phase or may have a flat surface in a part thereof. By forming a large number of such concave portions or convex portions, the reflective film can efficiently diffuse or condense incident light. In the production of such a reflective film, the
本発明に係る圧痕加工方法においては、被加工材9に圧痕形状を付与する加工部材23を被加工材9に対して進出させて、特定の圧痕位置において加工部材23が被加工材9に接触したことを検出し、この特定の圧痕位置における加工部材23と被加工材9との間の距離を格納し、格納した距離を用いて補間処理を行って特定の圧痕位置以外の圧痕位置における距離を求め、格納した距離及び求められた距離に基づいて被加工材9に圧痕を付与するための加工部材23の駆動を制御する。
In the indentation processing method according to the present invention, the processing
まず、被加工材9への圧痕加工を開始するにあたって、回転チャック16に被加工材9を固定する。次いで、パーソナルコンピュータ(PC)31から圧痕加工が指示されると、移動装置15は、X軸原点センサ26が原点標識25を検出するまで移動体14を動かして、移動体14を原点位置にセットする。また、回転装置17は、θ軸原点センサ28が原点標識27を検出するまで回転チャック16を回転させて、回転チャック16を原点位置にセットする。なお、被加工材9としては、例えば円筒形の長尺の金属材などを用いる。
First, the
回転チャック16に被加工材9がセットされた状態で、移動体14及び回転チャック16がそれぞれ原点位置に戻った後、図2(a)に示すように、粗動位置決め装置ドライバ39をPC31もしくは手動で操作し、ステッピングモータ18を動かして、駆動ユニット19を被加工材9に向けて緩やかに降下させる。そして、図2(b)に示すように、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接すると、検出用圧電素子22は僅かに圧縮され、ピエゾ効果により電圧値が変化する。このようにして被加工材9の表面位置を検出し、ステッピングモータを停止する。その後、ステッピングモータ18は駆動ユニット19を上昇させ、加工部材23の先端23aと被加工材9の表面9aとの間にクリアランスを設ける。このクリアランスは、例えば数μm〜10数μm程度である。
In a state where the
ここで、図4を用いて被加工材9の表面位置の検出について詳細に説明する。図4は、本発明の実施の形態に係る圧痕加工装置における被加工材の表面位置検出及び圧痕加工の際の時間変化を示す図であり、(a)は駆動用圧電素子に印加する電圧(伸びに相当する)を示し、(b)は検出用圧電素子に発生する電圧を示し、(c)は加工部材と被加工材の表面との間のクリアランスを示し、(d)は加工部材の変位を示す。まず、図2(a)に示す状態(図4のA状態)から駆動用圧電素子21に電圧を印加していくと、ピエゾ効果により駆動用圧電素子21は伸長する。そして、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触して図2(b)に示す状態(図4のB状態)になると、検出用圧電素子22は、その上面で駆動用圧電素子21から下方向の力を受け、その下面で被加工材9からの反力を受ける。これにより、検出用圧電素子22は、上下方向から力を受けて歪み、その歪みによるピエゾ効果で、図4(b)に示すように、電圧が発生する。このように、検出用圧電素子22が駆動用圧電素子21と加工部材23との間に設けられていることにより、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触したときに検出用圧電素子22が電圧を発生するので、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触した時点を正確に検出することができる。
Here, the detection of the surface position of the
検出用圧電素子22の電圧値の変化は、加工部材23の先端23aの接地信号としてA/D変換部33に出力される。A/D変換部33に検出用圧電素子22から接地信号が入力されると、コントローラ45は直ちにD/A変換部32に駆動用圧電素子21の伸長の停止を要求する。これにより、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに僅かに接した後に駆動用圧電素子21を停止することができる(図2(b)、図4(b))。このときに駆動用圧電素子21に印加した電圧の値は、圧痕位置における加工部材23の先端23aと被加工材9の表面9aとの間の距離に対応する。この電圧値は、検出位置である特定の圧痕位置(図5の参照符号50a〜50c)の位置情報(座標)と共に、コントローラ45のメモリ451に格納される。
The change in the voltage value of the
このような動作を図5に示すような特定の圧痕位置50a〜50cについて繰り返して被加工材9の軸方向及び周方向にわたって表面位置検出を行う。この場合、PC31は、回転装置ドライバ35により回転装置17を制御して、回転チャック16及びそれに取り付けられた加工部材9を図1のθ方向に所定のピッチで回転させる。そして、周方向にわたって表面位置検出を行った後に、移動装置ドライバ34により移動装置15を制御して、移動体14をX方向に所定の間隔(特定の圧痕位置の間隔)で移動させて表面位置検出を行う。なお、表面位置検出する際の特定の圧痕位置の設定(数や間隔など)については、特に制限はなく、適宜変更することができる。
Such an operation is repeated for
次いで、このようにメモリ451に格納した(検出された)特定の圧痕位置における距離の情報(電圧値)及びその位置情報はPC31内の補間演算部313に送られる。補間演算部313では、検出された特定の圧痕位置の電圧値を用いて、特定の圧痕位置以外の圧痕位置における距離の情報(電圧値)を補間処理により求める。補間方法としては、通常補間演算に用いられる3次元補間方法を用いることができる。圧痕位置の位置情報については、予め設定しておき、PC31から適宜補間演算部313に送られる。これにより、被加工材9全体の圧痕位置について電圧値が求められる。この被加工材9全体の圧痕位置についての電圧値は波形作成部314に送られる。
Next, the distance information (voltage value) at the specific indentation position (detected) stored in the
波形作成部314では、各圧痕位置において圧痕加工する際に必要となる電圧値に凹部43の深さdに対応する電圧値を付加して1回の圧痕加工に必要なストロークに対応する電圧波形を作成する。すなわち、図6(a)に示すように、それぞれの圧痕位置において圧痕加工する際に必要となる電圧値V1に、圧痕加工に対応する、すなわち凹部43の深さdに対応する電圧値V2を付加して電圧値V1+V2でストロークを決定する。凹部43の深さdを一定とするのであれば電圧値V2はほぼ変わらないが、電圧値V1は被加工材9のうねりに応じて変化する。このように、圧痕位置における各ストロークに対応する電圧波形は、駆動制御部452に送られる。ここでは、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触するまで加工部材23を被加工材9に対して進める速度と、被加工材9に対して加工部材23で圧痕加工する際(図4のC状態)の速度とが同じである。すなわち、図6(a)に示すように、駆動用圧電素子21の伸び(電圧)の速度が1回の圧痕加工終了(図4のD状態)まで同じ(同一速度勾配G1)である。
The waveform creation unit 314 adds a voltage value corresponding to the depth d of the
駆動制御部452は、圧痕位置における各ストロークに対応する電圧波形にしたがって圧電駆動ドライバ38を介して駆動用圧電素子21に電圧を印加する。これにより、被加工材9の圧痕位置に圧痕加工を施すことができる。このような動作を被加工材9の予め決められた圧痕位置に繰り返して行う。この場合、PC31は、回転装置ドライバ35により回転装置17を制御して、回転チャック16を図1のθ方向に所定のピッチで回転させる。そして、周方向にわたって圧痕加工を行った後に、移動装置ドライバ34により移動装置15を制御して、移動体14をX方向に所定の間隔(特定の圧痕位置の間隔)で移動させて圧痕加工を行う。
The
なお、PC31には、凹部43を形成する際のX軸、θ軸それぞれの駆動ピッチや駆動速度、そのタイミングや回数などのパラメータをメモリしておき、コントローラ45、移動装置ドライバ34、及び回転装置ドライバ35をそれぞれ同期させて駆動できるようにする。その他、圧痕加工装置については、特開2004−344916号公報に開示されており、この内容はすべてここに含める。
The
このように、本実施の形態の圧痕加工においては、被加工材9に圧痕形状を付与する加工部材23を被加工材9に対して進出させて、特定の圧痕位置において加工部材23が被加工材9に接触したことを検出し、この特定の圧痕位置における加工部材23と被加工材9との間の距離を格納し、格納した距離を用いて補間処理を行って特定の圧痕位置以外の圧痕位置における距離を求め、格納した距離及び求められた距離に基づいて被加工材9に圧痕を付与するための加工部材23の駆動を制御するので、すべての圧痕位置について表面位置検出を行わないで、特定の圧痕位置の情報から補間処理により全圧痕位置の制御量を求めることができる。したがって、加工速度を向上させることができ、しかも被加工材の表面位置を正確に検出して圧痕加工を行うことが可能となる。加工速度を向上させた状態で、被加工材の表面位置を正確に検出して圧痕加工を行うことが可能となる。
As described above, in the indentation processing of the present embodiment, the processing
また、本実施の形態に係る圧痕加工によれば、直径が長手方向にわたって同じ被加工材だけでなく、一方の端部から他方の端部に向って拡径又は縮径する被加工材に対しても正確に圧痕加工を施すことができる。高低差が大きい領域を有する被加工材に圧痕加工を施す場合には、粗動位置決め装置を用いてある程度の昇降動作を行って、その後に圧電素子の伸長を用いることが望ましい。このように粗動位置決め装置を用いることにより、圧電素子のヒステリシスにおける直線部分で圧電素子の伸長制御を行うことができるので、正確に圧痕加工を行うことができる。また、ある程度の高さまで粗動位置決め装置を用いることにより、1回のストロークに要する時間を短縮することもできるので加工時間の短縮を図ることも可能となる。 In addition, according to the indentation processing according to the present embodiment, not only the workpiece having the same diameter in the longitudinal direction, but also the workpiece that expands or contracts from one end to the other end. However, the indentation can be accurately performed. When performing indentation processing on a workpiece having a region with a large difference in elevation, it is desirable to perform a certain degree of up-and-down movement using a coarse positioning device and then use expansion of a piezoelectric element. By using the coarse motion positioning device in this way, it is possible to control the expansion of the piezoelectric element at the linear portion in the hysteresis of the piezoelectric element, so that the indentation can be accurately performed. Further, by using the coarse positioning device up to a certain height, the time required for one stroke can be shortened, so that the machining time can be shortened.
(実施の形態2)
本実施の形態においては、加工部材を被加工材近傍まで進める速度よりも被加工材に加工部材で圧痕加工する際の速度を遅くする制御を行う場合について説明する。圧痕加工装置の構成については、実施の形態1と同様である。本実施の形態においては、PC31の波形作成部314において、図6(b)に示すような電圧波形を作成する。図6(b)に示すように、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触するまで加工部材23を被加工材9に対して進める速度よりも、被加工材9に対して加工部材23で圧痕加工する際(図4のC状態)の速度を遅くする。すなわち、図6(b)に示すように、駆動用圧電素子21の伸び(電圧)の速度は、加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触する直前まで速度勾配G2であり、圧痕加工において速度勾配G3である。このとき、速度勾配と速度勾配の切り替えタイミングは任意に設定できる。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, a case will be described in which control is performed such that the speed at which the workpiece is indented with the workpiece is slower than the speed at which the workpiece is advanced to the vicinity of the workpiece. The configuration of the indentation processing apparatus is the same as that of the first embodiment. In the present embodiment, the waveform generator 314 of the
このように加工部材23の先端23aが被加工材9の表面9aに接触する直前の速度を速くし、そこからの速度を遅くすることにより、加工時間のさらなる短縮を図ることができると共に、加工部材23の損傷を少なくすることができ、加工部材23の寿命を長くすることができる。さらに、圧痕加工をゆっくり行うことにより、加工部材23の形状を被加工材9に正確に付与することができるので、その微細な凹凸を転写した反射膜は所望の反射特性を発揮することが可能となる。また、本実施の形態に係る圧痕加工においても、実施の形態1と同様な効果を発揮することができる。
Thus, by increasing the speed immediately before the
上記実施の形態1,2においては、検出手段である検出用圧電素子22が駆動用圧電素子21に取り付けられている場合について説明されているが、本発明においては、図7に示すように、駆動ユニット19において、圧痕加工する部材70と検出手段71とが離間して配置されていても良い。この場合には、検出手段としては光学式変位センサや静電容量式変位センサを用いることができる。この場合においては、加工部材72の先端と検出手段71の下面との間の距離αや、部材70と検出手段71との間の距離Lに起因するオフセットを検出値(距離)zに付加する必要がある。このオフセットは、事前測定などにより求めることが望ましい。
In the first and second embodiments, the case where the detecting
本発明は上記実施の形態1,2に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態1,2においては、各圧痕位置において圧痕加工する際に必要となる電圧値に圧痕加工に対応する電圧値を付加して1回の圧痕加工に必要なストロークに対応する電圧波形を作成する場合について説明しているが、本発明においては、補間演算部において、予め各圧痕位置において圧痕加工する際に必要となる電圧値に圧痕加工に対応する電圧値を付加して1回の圧痕加工に必要なストロークに対応する電圧値を求めておき、その電圧値に基づいて波形作成部で電圧波形を作成するようにしても良い。また、上記実施の形態1,2においては、加工部材23の先端23aと被加工材9の表面9aとの間の距離を電圧値に置き換えて演算した場合について説明しているが、本発明においては、加工部材23の先端23aと被加工材9の表面9aとの間の距離を求めて演算を行っても良い。また、上記実施の形態1,2において、距離とは、距離の実測値及びそれに相当する信号振幅を意味しており、制御において、距離の実測値で処理を行っても良く、距離に相当する信号振幅を用いて処理を行っても良い。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
The present invention is not limited to
9 被加工材
10 圧痕加工装置
11 加工部
12 制御部
13 案内軸
14 移動体
15 移動装置
16 回転チャック
17 回転装置
18 駆動部
19 駆動ユニット
21 駆動用圧電素子
22 検出用圧電素子
23 加工部材
34 移動装置ドライバ
35 回転装置ドライバ
38 圧電素子ドライバ
39 粗動位置決め装置ドライバ
311,451 メモリ
312 補間演算部
313 波形作成部
452 駆動制御部
DESCRIPTION OF
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005031556A JP4644000B2 (en) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | Indentation processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005031556A JP4644000B2 (en) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | Indentation processing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006218481A JP2006218481A (en) | 2006-08-24 |
JP4644000B2 true JP4644000B2 (en) | 2011-03-02 |
Family
ID=36981132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005031556A Expired - Fee Related JP4644000B2 (en) | 2005-02-08 | 2005-02-08 | Indentation processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4644000B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5517423B2 (en) * | 2008-08-26 | 2014-06-11 | キヤノン株式会社 | Imprint apparatus and imprint method |
JP5745129B2 (en) * | 2014-04-02 | 2015-07-08 | キヤノン株式会社 | Imprint apparatus and imprint method |
JP2015135975A (en) * | 2015-02-23 | 2015-07-27 | キヤノン株式会社 | Imprint device and imprint method |
CN115046084B (en) * | 2022-05-27 | 2023-04-25 | 中国石油大学(华东) | Indentation instrument fixing mechanism and method for detecting mechanical property of inner wall of pressure equipment |
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-
2005
- 2005-02-08 JP JP2005031556A patent/JP4644000B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006218481A (en) | 2006-08-24 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070926 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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