JP4642030B2 - Semiconductor device and control method thereof - Google Patents

Semiconductor device and control method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP4642030B2
JP4642030B2 JP2006539081A JP2006539081A JP4642030B2 JP 4642030 B2 JP4642030 B2 JP 4642030B2 JP 2006539081 A JP2006539081 A JP 2006539081A JP 2006539081 A JP2006539081 A JP 2006539081A JP 4642030 B2 JP4642030 B2 JP 4642030B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
read
banks
bank
write
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006539081A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2006038249A1 (en
Inventor
和宏 北崎
Original Assignee
スパンション エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by スパンション エルエルシー filed Critical スパンション エルエルシー
Publication of JPWO2006038249A1 publication Critical patent/JPWO2006038249A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4642030B2 publication Critical patent/JP4642030B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/3454Arrangements for verifying correct programming or for detecting overprogrammed cells
    • G11C16/3459Circuits or methods to verify correct programming of nonvolatile memory cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2216/00Indexing scheme relating to G11C16/00 and subgroups, for features not directly covered by these groups
    • G11C2216/12Reading and writing aspects of erasable programmable read-only memories
    • G11C2216/22Nonvolatile memory in which reading can be carried out from one memory bank or array whilst a word or sector in another bank or array is being erased or programmed simultaneously

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

本発明は半導体装置に関し、より詳細には、デュアルオペレーション機能を有する半導体メモリの高速動作および充分な動作マージンの確保を可能とする技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a technique that enables a high-speed operation and a sufficient operation margin of a semiconductor memory having a dual operation function.

フラッシュメモリは電気的な書換えが可能な半導体記憶装置として近年急速に普及しており、メモリカードに代表されるようなデータストレージに使用されるNAND型とプログラムを格納して電子機器に内蔵されるNOR型とに分類される。代表的なNOR型フラッシュメモリでは、フローティングゲート内に電荷が蓄積されているか否かによってデータ(“1”か“0”か)を記憶する。このようなNOR型フラッシュメモリの単位セルは1個のMOSトランジスタで構成されており、コントロールゲート(上のゲート)とフローティングゲート(下のゲート)を備えている。   Flash memory has been rapidly spreading in recent years as an electrically rewritable semiconductor memory device, and stores NAND type and programs used for data storage represented by memory cards and is built into electronic devices. It is classified as NOR type. In a typical NOR flash memory, data (“1” or “0”) is stored depending on whether or not charges are accumulated in the floating gate. A unit cell of such a NOR flash memory is composed of one MOS transistor, and includes a control gate (upper gate) and a floating gate (lower gate).

特定のメモリセルからデータを読み出す(リード)動作の際には、選択したメモリセルのコントロールゲートに正のバイアス(例えば5V)が与えられ、ドレインには1V程度のバイアスがセンスアンプから与えられる。フローティングゲート内に電荷がある場合は、フローティングゲートに蓄積された電荷によってコントロールゲートに印加されたバイアスが打ち消されてメモリセルはセル電流を流さず(非導通)データ“0”をリードする。逆に、フローティングゲート内に電荷がない場合は、コントロールゲートに印加されたバイアスの打ち消しが生じないためメモリセルがセル電流を流し(導通)、データ“1”をリードする。センスアンプはこれらのセル電流を読み取り、データの“0”または“1”を電圧として出力する。このとき、データ“1”の時のセル電流Ic1とデータ“0”の時のセル電流Ic0の差が大きいほどセンスアンプがリードを行い易くなり、高速動作や動作マージンの拡大が可能となる。In an operation of reading (reading) data from a specific memory cell, a positive bias (for example, 5 V) is applied to the control gate of the selected memory cell, and a bias of about 1 V is applied to the drain from the sense amplifier. When there is an electric charge in the floating gate, the bias applied to the control gate is canceled by the electric charge accumulated in the floating gate, and the memory cell does not pass a cell current (non-conducting) and reads data “0”. Conversely, when there is no charge in the floating gate, the bias applied to the control gate does not cancel out, so that the memory cell passes a cell current (conduction) and reads data “1”. The sense amplifier reads these cell currents and outputs data “0” or “1” as a voltage. At this time, the larger the difference between the cell current I c1 at the time of data “1” and the cell current I c0 at the time of data “0”, the easier it is for the sense amplifier to read, and it is possible to increase the operation speed and the operation margin. Become.

図1は、センスアンプの構成を説明するためのブロック図で、選択されたメモリセル11aはデコーダ12aを介してセンスアンプ13aに接続されている。一方、データ参照用のリファレンスセル11bはデコーダ12bを介してセンスアンプ13bに接続され、センスアンプ13aとセンスアンプ13bとがディファレンシャルセンスアンプ17と接続されることで、メモリセル11aがリファレンスセル11bに接続されている。なお、この図において、14aおよび14b、15aおよび15b、ならびに16aおよび16bは、それぞれメモリセル11aおよびリファレンスセル11bに接続されるソーススイッチ、寄生抵抗、ならびにグランド(GND)である。   FIG. 1 is a block diagram for explaining the configuration of a sense amplifier. A selected memory cell 11a is connected to a sense amplifier 13a via a decoder 12a. On the other hand, the reference cell 11b for data reference is connected to the sense amplifier 13b via the decoder 12b, and the sense amplifier 13a and the sense amplifier 13b are connected to the differential sense amplifier 17, so that the memory cell 11a becomes the reference cell 11b. It is connected. In this figure, 14a and 14b, 15a and 15b, and 16a and 16b are a source switch, parasitic resistance, and ground (GND) connected to the memory cell 11a and the reference cell 11b, respectively.

ここで、メモリセル11aとGND16aまでの間には、配線などによる寄生抵抗15aが存在している。この寄生抵抗15aにセル電流Iが流れると、メモリセル11aに接続されているソーススイッチ14aの電位(すなわちソース電位)はGNDレベルではなく、寄生抵抗値Rとセル電流Iとの積で与えられるV(=I・R)をもつようになる。一般的には、メモリセルはnチャンネルトランジスタとされるので、セル電流Iは、I=β・Vds(Vgs−V−Vds/2)で与えられる。ここで、βは比例定数、Vgsはゲート-ソース間電圧、Vdsはドレイン-ソース間電圧、そしてVは閾値電圧である。上式によれば、ソース電位Vが上昇するとゲート-ソース間電圧Vgsとドレイン-ソース間電圧Vdsが減少するため、セル電流Iが減少することがわかる。デバイスの微細化に伴ってセル電流Iは必然的に減少することとなるため、リード動作に対してソース電位Vの変動が与える影響は素子の微細化とともに次第に大きくなることになる。Here, a parasitic resistance 15a due to wiring or the like exists between the memory cell 11a and the GND 16a. When the cell current I c in the parasitic resistance 15a flows, the potential of the source switch 14a that is connected to the memory cell 11a (i.e., the source potential) rather than the GND level, the product of the parasitic resistance value R and the cell current I c It has a given V s (= I c · R). In general, since the memory cell is an n-channel transistor, the cell current I c is given by I c = β · V ds (V gs −V t −V ds / 2). Here, β is a proportional constant, V gs is a gate-source voltage, V ds is a drain-source voltage, and V t is a threshold voltage. According to the above equation, it can be understood that when the source potential V s increases, the cell-current I c decreases because the gate-source voltage V gs and the drain-source voltage V ds decrease. Since the cell current I c with miniaturization of the device so that the inevitably reduced, impact of variation of the source potential V s will be gradually increased along with the miniaturization of elements with respect to the read operation.

ところで、従来のフラッシュメモリでは、書込操作や消去操作の進行中はプロセッサによる読出操作が実行不能であり、フラッシュメモリに対する読出操作を開始するに先立ってフラッシュメモリの状態レジスタを周期的にポーリングして書込操作または消去操作の終了を検出しなければならないなどの理由により、データの書き換えがDRAMやSRAMなどのメモリに比較して極めて遅く使い勝手が悪いという問題があった。この問題を緩和するために、データをプログラムまたは消去(書換え)しながら他のデータを読み出すことができるデュアルオペレーション機能が導入されている。   By the way, in the conventional flash memory, the read operation by the processor cannot be executed while the write operation or the erase operation is in progress, and the flash memory status register is periodically polled before the read operation to the flash memory is started. For example, the end of the writing operation or the erasing operation must be detected, so that there has been a problem that data rewriting is extremely slow and unusable compared to a memory such as a DRAM or SRAM. In order to alleviate this problem, a dual operation function has been introduced in which other data can be read while data is programmed or erased (rewritten).

図2は、上記の同時操作を可能とするデュアルオペレーション機能を備えている従来のフラッシュメモリの内部構成例を説明するためのブロック図である。この構成では、メモリセルアレイを幾つかのバンク(図2では4つ)に区切っておき、あるバンクがデータを書き換えている期間中に他のバンクのデータをリードすることを可能としたものである。   FIG. 2 is a block diagram for explaining an internal configuration example of a conventional flash memory having a dual operation function that enables the above-described simultaneous operation. In this configuration, the memory cell array is divided into several banks (four in FIG. 2), and data from another bank can be read while one bank is rewriting data. .

このメモリセルアレイ200は、0番バンク201、1番バンク202、2番バンク203、3番バンク204のメモリセルの4つのバンクと、それぞれのバンクに設けられたアドレス読出(AR)用およびアドレス書込(AW)用のリードアドレススイッチおよびライトアドレススイッチ(AR0〜AR3およびAW0〜AW3)ならびにデータ読出(DR)用およびデータライト(DW)用のリードデータスイッチおよびライトデータスイッチ(DR0〜DR3およびDW0〜DW3)と、上記4つのバンクをリードリファレンス205および/またはライトリファレンス206と接続するために個々のバンクに対応付けて設けられグランド端子212に接続されるソーススイッチS0〜S3と、データ読出用センスアンプ207aと出力回路207bとを有しリードリファレンス205に接続されたデータ読出用センスアンプブロック207と、ライト用センスアンプ208aと書込回路208bと消去回路208cとを有しライトリファレンス206に接続されたデータライト用センスアンプブロック208と、アドレス端子211を備え4つのバンクに接続可能なアドレスバッファ209と、データ読出用センスアンプブロック207およびデータライト用センスアンプブロック208ならびにアドレスバッファ209に接続されるコントローラ210と、データ読出用センスアンプブロック207に備えられた出力回路207bおよびデータライト用センスアンプブロック208に備えられた書込回路208bと接続されるI/O端子213と、を備えている。   This memory cell array 200 includes four banks of memory cells of the 0th bank 201, the 1st bank 202, the 2nd bank 203, and the 3rd bank 204, and for address reading (AR) and address writing provided in each bank. Read address switch and write address switch (AR0 to AR3 and AW0 to AW3) for read-in (AW) and read data switch and write data switch (DR0 to DR3 and DW0) for data read (DR) and data write (DW) To DW3), source switches S0 to S3 provided in association with individual banks for connecting the four banks to the read reference 205 and / or the write reference 206, and connected to the ground terminal 212, and for data reading Sense amplifier 207a and output A data read sense amplifier block 207 having a circuit 207b and connected to the read reference 205, a write sense amplifier 208a, a write circuit 208b, and an erasing circuit 208c and having a circuit connected to the write reference 206. A sense amplifier block 208, an address buffer 209 having an address terminal 211 and connectable to four banks, a data read sense amplifier block 207, a data write sense amplifier block 208, and a controller 210 connected to the address buffer 209; An output circuit 207b provided in the data read sense amplifier block 207 and an I / O terminal 213 connected to the write circuit 208b provided in the data write sense amplifier block 208 are provided.

すなわち、このメモリセルアレイ200は、データをプログラムまたは消去(書換え)をしながら他のデータを読み出すことができるデュアルオペレーション機能を実現するために、各バンク201〜204についてデータ読出しを行うリード用回路かデータ書き換えを行うライト用回路のどちらか一方を接続できる構成になっており、リードを行うバンクのみリード用回路が接続される一方、ライトを行うバンクのみにライト用回路が接続される。これによりライト動作中のリード動作の同時実行が可能となる。   That is, the memory cell array 200 is a read circuit that reads data from each bank 201 to 204 in order to realize a dual operation function in which other data can be read while programming or erasing (rewriting) data. One of the write circuits for performing data rewriting can be connected, and the read circuit is connected only to the bank that performs read, while the write circuit is connected only to the bank that performs write. As a result, the read operation during the write operation can be executed simultaneously.

ここでライト動作には、書き込みや消去が所定のレベルまでできたかどうかを検証するベリファイ動作が含まれ、これは本質的にリード動作と同じである。ベリファイ動作中にリード動作が行われる場合も生じるが、図2に示した構成のようにグランド配線がリードとライトで共通に使用される構成では、リードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中の時よりもグランド配線に流れる電流が増えることになり、寄生抵抗による電圧降下も増大する。このためリードやライトで選択しているそれぞれのメモリセルのソース電位が、リードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中の時よりも上昇し、セル電流の減少を招く。その結果、前述のようにリードやベリファイ動作の読み出しスピードの低下やマージンの減少が発生してしまう。   Here, the write operation includes a verify operation for verifying whether writing or erasing has been performed to a predetermined level, which is essentially the same as the read operation. Although the read operation may be performed during the verify operation, in the configuration in which the ground wiring is commonly used for the read and write as in the configuration illustrated in FIG. 2, only one of the read and the verify is being executed. As a result, the current flowing in the ground wiring increases more than the time, and the voltage drop due to the parasitic resistance also increases. For this reason, the source potential of each memory cell selected by reading or writing rises more than when only one of reading or verifying is being executed, leading to a decrease in cell current. As a result, as described above, the read speed of the read or verify operation decreases and the margin decreases.

本発明は、デュアルオペレーション機能を備えている従来のフラッシュメモリの上述したような不都合を解消し、デュアルオペレーション動作か否かとは無関係に、高速動作および充分な動作マージンの確保を可能とする技術を提供することを目的とする。   The present invention eliminates the above-mentioned disadvantages of a conventional flash memory having a dual operation function, and enables a high-speed operation and a sufficient operation margin regardless of whether or not the dual operation operation is performed. The purpose is to provide.

本発明は、かかる課題を解決するために、本発明はデータ読み出しモード及びベリファイモードで同時に動作可能な半導体装置であって、データ読み出しモードにおいて半導体装置の内部回路を接地する第1のグランド配線と、第2の動作モードにおいて前記内部回路を接地する第2のグランド配線とを独立に設けた半導体装置である。内部回路は複数のバンクを含み、第1及び第2のグランド配線は互いに独立に複数のバンクに共通に設けられる。複数のバンクの1つの第1のバンクがデータ読み出しモードで動作し、並行して複数のバンクの第2のバンクがライトモードで動作する。第1のバンクが第1のグランド配線に接続され、第2のバンクがライトモードのベリファイモード時に第2のグランド配線に接続される。 In order to solve such a problem, the present invention provides a semiconductor device operable simultaneously in a data read mode and a verify mode , and a first ground wiring for grounding an internal circuit of the semiconductor device in the data read mode . In the second operation mode, the semiconductor device is independently provided with a second ground wiring for grounding the internal circuit. The internal circuit includes a plurality of banks, and the first and second ground lines are provided in common to the plurality of banks independently of each other. One first bank of the plurality of banks operates in the data read mode, and in parallel, the second bank of the plurality of banks operates in the write mode. The first bank is connected to the first ground wiring, and the second bank is connected to the second ground wiring in the verify mode of the write mode.

この半導体装置において、前記第1のグランド配線に接続された第1のグランド端子と、前記第2のグランド配線に接続された第2のグランド端子とを有する構成とすることができる。   This semiconductor device can have a configuration having a first ground terminal connected to the first ground wiring and a second ground terminal connected to the second ground wiring.

上記半導体装置において、前記第1のグランド配線と前記第2のグランド配線とは略等しい長さとすることができる。   In the semiconductor device, the first ground wiring and the second ground wiring may have substantially the same length.

記半導体装置は、前記複数のバンクを選択的に前記第1及び第2のグランド配線に接続するスイッチを有する構成とすることができる。 Before Symbol semiconductor device may be configured to have a switch for connecting said plurality of banks to selectively said first and second ground wiring.

上記半導体装置において、前記複数のバンクはそれぞれ、複数の不揮発性メモリセルを含む構成とすることができる。   In the semiconductor device, each of the plurality of banks may include a plurality of nonvolatile memory cells.

上記半導体装置において、前記半導体装置は例えば不揮発性半導体記憶装置である。   In the semiconductor device, the semiconductor device is, for example, a nonvolatile semiconductor memory device.

本発明はまた、複数のバンクを含みデータ読み出しモード及びベリファイモードを含むライトモードで同時に動作可能な半導体装置の制御方法であって、データ読み出しモードにおいて複数のバンクの1つの第1のバンクを複数のバンクに対して共通に設けられる第1のグランド配線を介して接地するステップと、ライトモードにおけるベリファイモードにおいて複数のバンクの第2のバンクを、複数のバンクに共通にかつ第1のグランド配線と独立に設けられた第2のグランド配線を介して接地するステップとを有する方法である。 The present invention also relates to a method for controlling a semiconductor device including a plurality of banks and capable of simultaneously operating in a write mode including a data read mode and a verify mode, wherein a plurality of first banks are provided in the data read mode. in the step of grounding through the first ground wiring provided commonly for the banks, the second bank of Oite plurality of banks in verify mode in the write mode, common and first into a plurality of banks And grounding via a second ground wiring provided independently of the ground wiring.

本発明の半導体記憶装置では、リード用グランドとベリファイ用のライト用グランドとを独立に設けることとしたので、リードとベリファイ動作が同時実行されてもメモリセルのソース電位をリードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中のときの電位と等しくすることが可能となり、デュアルオペレーション動作か否かに関わらず高速かつマージンの増大による安定したリード動作が実現される。   In the semiconductor memory device of the present invention, since the read ground and the write write ground are provided independently, the source potential of the memory cell is either read or verified even if the read and verify operations are performed simultaneously. Only one of the potentials can be made equal to the potential during execution, and a stable read operation can be realized at a high speed and with an increased margin regardless of whether or not the operation is a dual operation.

センスアンプの構成を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the structure of a sense amplifier. 同時操作を可能とするデュアルオペレーション機能を備えている従来のフラッシュメモリの内部構成例を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the example of an internal structure of the conventional flash memory provided with the dual operation function which enables simultaneous operation. 本発明のフラッシュメモリの内部構成例を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the internal structural example of the flash memory of this invention. (a)及び(b)は図2および図3に示す構成のフラッシュメモリにおいて、2番バンクが書込動作中であるときに1番バンクに読出動作を実行させた場合の各スイッチの状態を説明するための図である。(A) and (b) show the state of each switch when the first bank is caused to perform a read operation when the second bank is in a write operation in the flash memory having the configuration shown in FIGS. It is a figure for demonstrating. (a)及び(b)は第3のバンクが書込動作中であるときに第2のバンクに読出動作を実行させた場合のソース電位の様子を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the mode of the source potential at the time of making a 2nd bank perform read-out operation when the 3rd bank is performing write-in operation | movement.

以下に、図面を参照して、本発明の半導体記憶装置について説明する。なお、以降の説明においては、半導体記憶装置をNOR型のフラッシュメモリであるものとして説明する。   The semiconductor memory device of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, the semiconductor memory device is assumed to be a NOR flash memory.

図3は、本発明のフラッシュメモリの内部構成例を説明するためのブロック図で、このフラッシュメモリでは、リード用グランド312aとベリファイ用のライト用グランド312bとを独立に設けている。これにより、リードとベリファイ動作が同時実行されてもメモリセルのソース電位をリードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中のときの電位と等しくすることが可能となり、デュアルオペレーション動作か否かに関わらず高速かつマージンの増大による安定したリード動作が実現される。   FIG. 3 is a block diagram for explaining an internal configuration example of the flash memory according to the present invention. In this flash memory, a read ground 312a and a verify write ground 312b are provided independently. As a result, even if the read and verify operations are performed simultaneously, the source potential of the memory cell can be made equal to the potential when only one of the read and verify operations is being performed. Therefore, a stable read operation can be realized at a high speed by increasing the margin.

図3を参照すると、メモリセルアレイ300は、0番バンク301、1番バンク302、2番バンク303、3番バンク304のメモリセルの4つのバンクと、それぞれのバンクに設けられたアドレス読出(AR)用およびアドレス書込(AW)用のリードアドレススイッチおよびライトアドレススイッチ(AR0〜AR3およびAW0〜AW3)ならびにデータ読出(DR)用およびデータライト(DW)用のリードデータスイッチおよびライトデータスイッチ(DR0〜DR3およびDW0〜DW3)と、上記4つのバンク個々に対応付けて設けられリード用グランド端子312aに接続されるリードソーススイッチSR0〜SR3と、個々のバンクに対応付けて設けられライト用グランド端子312bに接続されるライトソーススイッチSW0〜SW3と、データ読出用センスアンプ307aと出力回路307bとを有しリードリファレンス305に接続されたデータ読出用センスアンプブロック307と、データライト用センスアンプ308aと書込回路308bと消去回路308cとを有しライトリファレンス306に接続されたデータライト用センスアンプブロック308と、アドレス端子311を備え4つのバンクに接続可能なアドレスバッファ309と、データ読出用センスアンプブロック307およびデータライト用センスアンプブロック308ならびにアドレスバッファ309に接続されるコントローラ310と、データ読出用センスアンプブロック307に備えられた出力回路307bおよびデータライト用センスアンプブロック308に備えられた書込回路308bと接続されるI/O端子313と、を備えている。   Referring to FIG. 3, the memory cell array 300 includes four banks of memory cells of the 0th bank 301, the 1st bank 302, the 2nd bank 303, and the 3rd bank 304, and an address read (AR) provided in each bank. ) And address write (AW) read address switches and write address switches (AR0 to AR3 and AW0 to AW3) and data read (DR) and data write (DW) read data switches and write data switches ( DR0 to DR3 and DW0 to DW3), read source switches SR0 to SR3 provided in association with the four banks and connected to the read ground terminal 312a, and write ground provided in association with the individual banks. Light source switch connected to terminal 312b SW0 to SW3, a data read sense amplifier 307a having a data read sense amplifier 307a and an output circuit 307b, connected to the read reference 305, a data write sense amplifier 308a, a write circuit 308b, and an erase circuit 308c. , A data write sense amplifier block 308 connected to the write reference 306, an address buffer 309 having an address terminal 311 and connectable to four banks, a data read sense amplifier block 307, and a data write sense amplifier The controller 310 connected to the block 308 and the address buffer 309, the output circuit 307b provided in the data read sense amplifier block 307, and the write circuit provided in the data write sense amplifier block 308 And I / O terminal 313 to be connected to the 308b, and a.

図3に示した構成例では、セルアレイが4つのバンク(301〜304)に分割されており、それぞれのバンク内には図示しないデコーダ回路が設けられている。この構成においてもライト状態でないときにリード動作を行うのは従来構造と変わるところはない。リードしたいアドレスが指定されて外部からアドレス端子311に入力され、この信号をアドレスバッファ309がリード用アドレスとして出力する。コントローラ310はリード用アドレスを選択されたバンクのみに伝達するようにスイッチ群を操作する。リード用アドレスにより選択されたバンクはそのアドレスに対応したメモリセルをデコーダにより選択する。コントローラ310は、リード用回路のセンスアンプ307aに選択されたバンクのみを接続するようにスイッチ群を操作する。これにより、メモリセルのデータがセンスアンプ307aにより判定され、その結果は出力回路307bを介してI/O端子313へと出力されてリード動作が実行される。この時、セル電流が流れるグランド配線320はリード用グランド端子312aに接続されており、ライト用グランド端子312bには電流が流れることはない。ライト用グランド端子312bには、セル電流が流れるグランド配線322が接続されている。グランド配線320と322はそれぞれ、各バンク301〜304に共通に設けられている。グランド配線320にはリード用グランド端子312aが接続され、グランド配線322にはライト用グランド端子312bが設けられている。グランド配線320と322は異なる長さであってもよいが、ほぼ同一の長さであることが好ましい。リード用グランド端子312aとライト用グランド端子312bとはそれぞれ独立した外部接続端子を構成してもよいし、両者を接続して単一の外部接続端子としてもよい。後者の場合には、リード用とライト用のスイッチ群を、共通化した外部接続端子に出来るだけ近接するように配置する。なお、リード及びライト動作をそれぞれ第1及び第2の動作モードと定義することができる。   In the configuration example shown in FIG. 3, the cell array is divided into four banks (301 to 304), and a decoder circuit (not shown) is provided in each bank. Even in this configuration, the read operation is not different from the conventional structure when not in the write state. An address to be read is designated and inputted to the address terminal 311 from the outside, and the address buffer 309 outputs this signal as a read address. The controller 310 operates the switch group so as to transmit the read address only to the selected bank. In the bank selected by the read address, the memory cell corresponding to the address is selected by the decoder. The controller 310 operates the switch group so as to connect only the selected bank to the sense amplifier 307a of the read circuit. As a result, the data in the memory cell is determined by the sense amplifier 307a, and the result is output to the I / O terminal 313 via the output circuit 307b to execute the read operation. At this time, the ground wiring 320 through which the cell current flows is connected to the read ground terminal 312a, and no current flows through the write ground terminal 312b. A ground wiring 322 through which a cell current flows is connected to the write ground terminal 312b. The ground lines 320 and 322 are provided in common to the banks 301 to 304, respectively. The ground wiring 320 is connected to a read ground terminal 312a, and the ground wiring 322 is provided with a write ground terminal 312b. The ground wirings 320 and 322 may have different lengths, but are preferably substantially the same length. The read ground terminal 312a and the write ground terminal 312b may constitute independent external connection terminals, or may be connected to form a single external connection terminal. In the latter case, the read and write switch groups are arranged as close as possible to the common external connection terminal. Note that the read and write operations can be defined as the first and second operation modes, respectively.

一方、デバイスがライト状態の場合は、コントローラ310がアドレスバッファ309にライト用アドレスを出力させ、選択されたバンクのみにライト用アドレスが伝達されるようにスイッチ群を操作する。これと同時に、必要に応じてライト用回路のセンスアンプ308a、書込回路308b、および消去回路308cを接続するようにスイッチ群を操作する。選択されたバンクは、指定されたアドレスに応じたメモリセルのデータを書き換える。ここで、ベリファイ動作中にリード動作をした場合を考えると、先ず、ベリファイ動作中にリードしたいアドレスが外部よりアドレス端子311に入力される。コントローラ310は、このアドレスをベリファイ用アドレスとは独立したリード用アドレスとしてリードが選択されたバンクのみに伝達するようにアドレスバッファ309とスイッチ群を操作する。その後は、上述したリード動作のみの場合と同様に、リード選択されたバンクが対応するメモリセルを選択してセンスアンプ307aと接続し、データの判定を行った後、そのデータをI/O端子313へ出力する。この時、リード用グランド端子312aとライト用グランド端子312bにはそれぞれ、リード動作でのセル電流とベリファイ動作でのセル電流が流れるが、これら2つの電流が独立した経路を通過しているため電流値はそれぞれリード動作もしくはライト動作のみの場合の電流値と同じであり、従来構成のようにデュアルオペレーションにおける電流値の増加が生じることはない。   On the other hand, when the device is in the write state, the controller 310 causes the address buffer 309 to output the write address, and operates the switch group so that the write address is transmitted only to the selected bank. At the same time, the switch group is operated so as to connect the sense amplifier 308a, the write circuit 308b, and the erase circuit 308c of the write circuit as necessary. The selected bank rewrites the data in the memory cell corresponding to the designated address. Here, considering a case where a read operation is performed during the verify operation, first, an address to be read during the verify operation is input to the address terminal 311 from the outside. The controller 310 operates the address buffer 309 and the switch group so that this address is transmitted only to the bank in which the read is selected as a read address independent of the verify address. After that, as in the case of only the read operation described above, the memory cell corresponding to the read-selected bank is selected and connected to the sense amplifier 307a, and after determining the data, the data is transferred to the I / O terminal. To 313. At this time, the cell current in the read operation and the cell current in the verify operation flow through the read ground terminal 312a and the write ground terminal 312b, respectively. However, since these two currents pass through independent paths, Each value is the same as the current value in the case of only the read operation or the write operation, and the current value in the dual operation does not increase unlike the conventional configuration.

図4(a)は、図3に示す構成の本発明のフラッシュメモリにおいて、2番バンク303がライト動作中であるときに1番バンク302に読出動作を実行させた場合の各スイッチの状態を説明するための図である。他のバンクの任意の組み合わせによるデュアルオペレーション時の動作も、オン/オフすべきスイッチを各バンクの対応するスイッチとすることにより以下に説明する例と同様に実行されるものであることは明らかである。なお、比較のために、図2に示した従来構成のフラッシュメモリにおいて、2番バンク203がライト動作中であるときに1番バンク202に読出動作を実行させた場合の各スイッチの状態を図4(b)に示した。また、図5(a)および図5(b)には、2番バンクが書込動作中であるときに1番バンクに読出動作を実行させた場合(すなわち、図4(a)および図4(b)のスイッチ状態に対応)のソース電位の様子を示した。   FIG. 4A shows the state of each switch when the first bank 302 is caused to execute a read operation when the second bank 303 is in the write operation in the flash memory of the present invention having the configuration shown in FIG. It is a figure for demonstrating. It is obvious that the operation at the time of dual operation by any combination of other banks can be executed in the same manner as the example described below by setting the switch to be turned on / off as the corresponding switch of each bank. is there. For comparison, in the flash memory having the conventional configuration shown in FIG. 2, the state of each switch when the first bank 202 is caused to perform a read operation when the second bank 203 is performing a write operation is illustrated. This is shown in 4 (b). 5A and 5B show a case where the first bank is caused to execute a read operation when the second bank is performing a write operation (that is, FIG. 4A and FIG. 4). The state of the source potential (corresponding to the switch state of (b)) is shown.

図4(a)を参照すると、書込動作中の2番バンク303のライトアドレススイッチAW2およびライトデータスイッチDW2がオン状態とされ、アドレスバッファ309およびライトリファレンス306と電気的に接続される。また、ライトソーススイッチSW2がオン状態とされることで2番バンク303がライト用グランド312bに接続される。一方、読出動作を実行する1番バンク302のリードアドレススイッチAR1およびリードデータスイッチDR1がオン状態とされ、アドレスバッファ309およびリードリファレンス305と電気的に接続される。また、リードソーススイッチSR1がオン状態とされることで1番バンク302がリード用グランド312aに接続される。その他のスイッチは何れもオフ状態である。   Referring to FIG. 4A, the write address switch AW2 and the write data switch DW2 of the second bank 303 during the write operation are turned on, and are electrically connected to the address buffer 309 and the write reference 306. Further, when the write source switch SW2 is turned on, the second bank 303 is connected to the write ground 312b. On the other hand, the read address switch AR1 and the read data switch DR1 of the first bank 302 that executes the read operation are turned on, and are electrically connected to the address buffer 309 and the read reference 305. Further, when the read source switch SR1 is turned on, the first bank 302 is connected to the read ground 312a. All other switches are off.

1番バンク302の読出を実行するには、このバンクに属するメモリセルのアドレスが指定されて外部からアドレス端子311に入力され、この信号をアドレスバッファ309がリード用アドレスとして出力する。コントローラ310は第1バンク302のみに伝達するように図4(a)に示したようにスイッチ群を操作する。また、コントローラ310は、リード用回路のセンスアンプ307aに選択された第1バンク302のみを接続するようにスイッチ群を操作する。これにより、メモリセルのデータがセンスアンプ307aにより判定され、その結果は出力回路307bを介してI/O端子313へと出力されてリード動作が実行される。この時、セル電流が流れるグランド配線320はリード用グランド端子312aに接続されており、ライト用グランド端子312bには電流が流れることはない。   In order to perform reading of the first bank 302, the address of the memory cell belonging to this bank is designated and inputted from the outside to the address terminal 311, and this signal is output as a read address by the address buffer 309. The controller 310 operates the switch group as shown in FIG. 4A so as to transmit only to the first bank 302. The controller 310 operates the switch group so as to connect only the selected first bank 302 to the sense amplifier 307a of the read circuit. As a result, the data in the memory cell is determined by the sense amplifier 307a, and the result is output to the I / O terminal 313 via the output circuit 307b to execute the read operation. At this time, the ground wiring 320 through which the cell current flows is connected to the read ground terminal 312a, and no current flows through the write ground terminal 312b.

一方、2番バンク303のライト動作中(プログラムまたは消去中)には、コントローラ310がアドレスバッファ309にライト用アドレスを出力させ、選択された2番バンク303のみにライト用アドレスが伝達されるようにスイッチ群を操作する。これと同時に、必要に応じてライト用回路のセンスアンプ308a、書込回路308b、および消去回路308cを接続するようにスイッチ群を操作する。選択された2番バンク303は、指定されたアドレスに応じたメモリセルのデータを書き換える。ここで、ベリファイ動作中にリード動作をした場合を考えると、先ず、ベリファイ動作中にリードしたいアドレスが外部よりアドレス端子311に入力される。コントローラ310は、このアドレスをベリファイ用アドレスとは独立したリード用アドレスとしてリード選択された第1バンク302のみに伝達するようにアドレスバッファ309とスイッチ群を操作する。その後は、上述したリード動作のみの場合と同様に、リード選択された第1バンク302が対応するメモリセルを選択してセンスアンプ307aと接続し、データの判定を行った後、そのデータをI/O端子313へ出力する。この時、リード用グランド端子312aとライト用グランド端子312bにはそれぞれ、リード動作でのセル電流とベリファイ動作でのセル電流が流れるが、これら2つの電流が独立した経路を通過しているため電流値はそれぞれリード動作もしくはライト動作のみの場合の電流値と同じであり、デュアルオペレーションにおける電流値の増加が生じることはない。   On the other hand, during the write operation (programming or erasure) of the second bank 303, the controller 310 outputs the write address to the address buffer 309 so that the write address is transmitted only to the selected second bank 303. Operate the switch group. At the same time, the switch group is operated so as to connect the sense amplifier 308a, the write circuit 308b, and the erase circuit 308c of the write circuit as necessary. The selected second bank 303 rewrites the data in the memory cell corresponding to the designated address. Here, considering a case where a read operation is performed during the verify operation, first, an address to be read during the verify operation is input to the address terminal 311 from the outside. The controller 310 operates the address buffer 309 and the switch group so that this address is transmitted only to the first bank 302 that is read-read as a read address independent of the verify address. After that, as in the case of only the read operation described above, the read-selected first bank 302 selects the corresponding memory cell and connects it to the sense amplifier 307a, determines the data, and then converts the data to I / O terminal 313 for output. At this time, the cell current in the read operation and the cell current in the verify operation flow through the read ground terminal 312a and the write ground terminal 312b, respectively. However, since these two currents pass through independent paths, Each value is the same as the current value in the case of only the read operation or the write operation, and the current value does not increase in the dual operation.

このように、本発明のフラッシュメモリでは、リード用グランド312aとベリファイ用のライト用グランド312bとを独立に設けているため、図5(a)に示したように、リードとベリファイ動作が同時実行されてもメモリセルのソース電位をリードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中のときの電位と等しくすることが可能となり、デュアルオペレーション動作か否かに関わらず高速かつマージンの増大による安定したリード動作が実現される。   As described above, in the flash memory according to the present invention, the read ground 312a and the verify write ground 312b are provided independently. Therefore, as shown in FIG. 5A, the read and verify operations are executed simultaneously. Even if this is done, it becomes possible to make the source potential of the memory cell equal to the potential when only one of read or verify is being executed, and stable read by increasing the margin at high speed regardless of whether or not it is a dual operation operation. Operation is realized.

これに対して、図4(b)に図示した従来構成では、グランド配線がリードとライトで共通に使用されるため、リードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中の時よりもグランド配線に流れる電流が増えることになり、寄生抵抗による電圧降下も増大する。その結果、図5(b)に示すように、リードやライトで選択しているそれぞれのメモリセルのソース電位が、リードまたはベリファイのどちらか一方のみが実行中の時よりも上昇してセル電流の減少を招く。   On the other hand, in the conventional configuration shown in FIG. 4B, since the ground wiring is used in common for reading and writing, only one of the read and verify flows to the ground wiring than during execution. The current increases, and the voltage drop due to parasitic resistance also increases. As a result, as shown in FIG. 5B, the source potential of each memory cell selected by reading or writing rises higher than when only one of reading or verifying is being executed and the cell current is increased. Will lead to a decrease.

以上説明したように、本発明の半導体記憶装置では、デュアルオペレーション動作時であるか否かに関わらず、リード動作の高速読出しや充分な動作マージンの確保が可能となる。   As described above, in the semiconductor memory device of the present invention, high-speed reading of a read operation and a sufficient operation margin can be ensured regardless of whether or not a dual operation operation is being performed.

上述したように、本発明は、デュアルオペレーション機能を有する半導体装置の高速動作および充分な動作マージンの確保を可能とする技術を提供する。本発明はフラッシュメモリのような半導体記憶装置のみならず、内部に上記構成の記憶部を有するシステムLSIなどの半導体装置を含むものである。
As described above, the present invention provides a technique that enables a high-speed operation and a sufficient operation margin of a semiconductor device having a dual operation function. The present invention includes not only a semiconductor memory device such as a flash memory, but also a semiconductor device such as a system LSI having a storage unit with the above-described configuration.

Claims (7)

データ読み出し及びベリファイモードで同時に動作可能な半導体装置であって、
各々が複数のメモリセルを有する複数のバンクを有する内部回路と、
前記複数のバンクに共通に設けられ前記データ読み出しモードにおいて前記内部回路を接地する第1のグランド配線と、
前記複数のバンクに共通に設けられるとともに前記第1のグランド配線と独立に設けられ、前記ベリファイモードにおいて前記内部回路を接地する第2のグランド配線とを備え 前記複数のバンクのうちの第1のバンクが前記データ読み出しモードで動作し、前複数のバンクの第2のバンクが並行してライトモードで動作し、
前記第1のバンクが前記第1のグランド配線に接続されてメモリセルソース電位を受け、前記第2のバンクが前記ライトモードにおける前記ベリファイモード時に前記第2のグランド配線に接続されてメモリセルのソース電位を受ける、半導体装置。
A semiconductor device capable of simultaneously operating in data read and verify modes,
An internal circuit having a plurality of banks each having a plurality of memory cells;
A first ground wiring for grounding the internal circuit in the data read mode is provided in common to said plurality of banks,
Wherein together provided in common to a plurality of banks provided independently of the first ground wiring, a first of the plurality of banks and a second ground wiring for grounding the internal circuit in the verify mode A bank operates in the data read mode, and a second bank of the plurality of previous banks operates in a write mode in parallel;
The first bank is connected to the first ground wiring to receive a memory cell source potential, and the second bank is connected to the second ground wiring in the verify mode in the write mode to A semiconductor device that receives a source potential .
前記半導体装置は、前記第1のグランド配線に接続された第1のグランド端子と、前記第2のグランド配線に接続された第2のグランド端子とを有する請求項1記載の半導体装置。  The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a first ground terminal connected to the first ground wiring; and a second ground terminal connected to the second ground wiring. 前記第1のグランド配線と前記第2のグランド配線とは略等しい長さを有する請求項1又は2記載の半導体装置。  3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first ground wiring and the second ground wiring have substantially the same length. 前記半導体装置は、前記複数のバンクを選択的に前記第1及び第2のグランド配線に接続するスイッチを有する請求項1からのいずれか一項記載の半導体装置。The semiconductor device includes a semiconductor device according to any one claim of claims 1-3 having a switch for connecting said plurality of banks to selectively said first and second ground wiring. 前記複数のバンクはそれぞれ、複数の不揮発性メモリセルを含む請求項記載の半導体装置。Each of the plurality of banks, a semiconductor device of claim 1 further comprising a plurality of nonvolatile memory cells. 前記半導体装置は不揮発性半導体記憶装置である請求項1からのいずれか一項記載の半導体装置。The semiconductor device a semiconductor device as described in any one of claims 1-5 which is a non-volatile semiconductor memory device. 複数のバンクを含み、データ読み出しモードおよびベリファイモードを含むライトモードで同時に動作可能な半導体装置の制御方法であって、
前記データ読み出しモードにおいて前記複数のバンクの1つの第1のバンクを前記複数のバンクに共通に設けられる第1のグランド配線を介して接地してメモリセルソース電位を供給するステップと、
前記ベリファイモードにおいて前記複数のバンクの第2のバンクを、前記第1のグランド配線とは独立にかつ前記複数のバンクに共通に設けられた第2のグランド配線を介して接地してメモリセルソース電位を供給するステップとを有する方法。
A method for controlling a semiconductor device including a plurality of banks and capable of simultaneously operating in a write mode including a data read mode and a verify mode ,
A step of supplying the memory cell source potential and the ground through a first ground wiring provided to one first bank of the plurality of banks in the data read mode in common to said plurality of banks,
Wherein the second bank of the plurality of banks in the verify mode, the first second ground memory cell source grounded via the wiring provided in common to independently and the plurality of banks and a ground wire method comprising the steps of supplying a potential.
JP2006539081A 2004-09-30 2004-09-30 Semiconductor device and control method thereof Expired - Fee Related JP4642030B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2004/014326 WO2006038249A1 (en) 2004-09-30 2004-09-30 Semiconductor device and method for controlling the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2006038249A1 JPWO2006038249A1 (en) 2008-05-15
JP4642030B2 true JP4642030B2 (en) 2011-03-02

Family

ID=36142340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006539081A Expired - Fee Related JP4642030B2 (en) 2004-09-30 2004-09-30 Semiconductor device and control method thereof

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7307893B2 (en)
JP (1) JP4642030B2 (en)
WO (1) WO2006038249A1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03155667A (en) * 1988-11-23 1991-07-03 Natl Semiconductor Corp <Ns> New architecture for flash erasable eprom memory
JP2000207891A (en) * 1999-01-11 2000-07-28 Toshiba Corp Semiconductor memory
JP2003123493A (en) * 2001-10-12 2003-04-25 Fujitsu Ltd Nonvolatile memory in which program operation is optimized by controlling source potential
JP2004039184A (en) * 2002-07-08 2004-02-05 Fujitsu Ltd Semiconductor memory

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL296214A (en) * 1961-02-15
JPH03148827A (en) * 1989-11-06 1991-06-25 Nec Ic Microcomput Syst Ltd Semiconductor integrated circuit
US5526305A (en) * 1994-06-17 1996-06-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Two-transistor dynamic random-access memory cell
KR0164814B1 (en) * 1995-01-23 1999-02-01 김광호 Voltage driving circuit of semiconductor memory apparatus
US5757816A (en) * 1996-10-24 1998-05-26 Advanced Micro Devices, Inc. IDDQ testing of integrated circuits
US5973985A (en) * 1998-08-11 1999-10-26 Stmicroelectronics, Inc. Dual port SRAM cell having pseudo ground line or pseudo power line
US6181604B1 (en) * 1999-07-22 2001-01-30 Macronix International Co., Ltd. Method for fast programming of EPROMS and multi-level flash EPROMS
US6418046B1 (en) * 2001-01-30 2002-07-09 Motorola, Inc. MRAM architecture and system
JP2006183499A (en) * 2004-12-27 2006-07-13 Hitachi Ltd Displacement compressor
KR100802016B1 (en) * 2005-02-25 2008-02-12 삼성전자주식회사 Variable capacity rotary compressor and method to operate starting thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03155667A (en) * 1988-11-23 1991-07-03 Natl Semiconductor Corp <Ns> New architecture for flash erasable eprom memory
JP2000207891A (en) * 1999-01-11 2000-07-28 Toshiba Corp Semiconductor memory
JP2003123493A (en) * 2001-10-12 2003-04-25 Fujitsu Ltd Nonvolatile memory in which program operation is optimized by controlling source potential
JP2004039184A (en) * 2002-07-08 2004-02-05 Fujitsu Ltd Semiconductor memory

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2006038249A1 (en) 2008-05-15
US7307893B2 (en) 2007-12-11
US20060109711A1 (en) 2006-05-25
WO2006038249A1 (en) 2006-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1077450B1 (en) NAND type nonvolatile memory
US7193897B2 (en) NAND flash memory device capable of changing a block size
JP4907897B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US7016229B2 (en) Page buffer for NAND flash memory
US7221587B2 (en) Semiconductor device and programming method
JP4991148B2 (en) NOR flash memory device and serial sensing method thereof
JPH02125521A (en) Buffer circuit
JPH10144086A (en) Nonvolatile semiconductor memory
US6963509B1 (en) Page buffer having dual register, semiconductor memory device having the same, and program method thereof
US7272048B2 (en) Nonvolatile memory device controlling common source line for improving read characteristic
US6826081B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device, nonvolatile semiconductor memory device-integrated system, and defective block detecting method
JP3204119B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory and data writing method thereof
JP4426868B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and semiconductor integrated circuit device
JP2870328B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US20010042159A1 (en) Multiplexing of trim outputs on a trim bus to reduce die size
JP2005032430A (en) Flash memory device
US7558126B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JP4642030B2 (en) Semiconductor device and control method thereof
US6999349B2 (en) Semiconductor nonvolatile storage device
JP3268732B2 (en) Non-volatile semiconductor memory
US7379365B2 (en) Method and apparatus for charging large capacitances
JPH05290585A (en) Nonvolatile memory writable electrically
US5265062A (en) Row decoder circuit for non-volatile memory device
JP2001023384A (en) Semiconductor integrated circuit device, and supply method of verify-voltage
JPH0426996A (en) Nonvolatile semiconductor memory circuit

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100204

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20100616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100723

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20100805

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101026

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101124

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101130

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4642030

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210

Year of fee payment: 3

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees