JP2001023384A - Semiconductor integrated circuit device, and supply method of verify-voltage - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device, and supply method of verify-voltage

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JP2001023384A
JP2001023384A JP19007299A JP19007299A JP2001023384A JP 2001023384 A JP2001023384 A JP 2001023384A JP 19007299 A JP19007299 A JP 19007299A JP 19007299 A JP19007299 A JP 19007299A JP 2001023384 A JP2001023384 A JP 2001023384A
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verify voltage
verify
data
unit
sector
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Fukuo Owada
福夫 大和田
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Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent delay of a time required for rewriting data and to prevent erroneous discrimination of the data by supplying optimum verify-voltage in accordance with the number of times of rewriting the data. SOLUTION: In the semiconductor integrated circuit device, at the time of rewriting operation of a flash memory, a rewriting number of times discrimination control circuit 15 reads out data of the number of times of rewriting for each sector from a rewriting number of times storing region 14, and outputs a verify-voltage control signal and a switching control signal in accordance with the above to a verify-voltage output circuit 17 and a switching circuit 18. The verify-voltage output circuit 17 selects verify-voltage being suitable for each sector out of verify-voltage V0-Vn generated by a verify-voltage generating circuit 16 and output it to the switching circuit 18. The switching circuit 18 switches an objective of output of the inputted verify-voltage based on a switching control signal, and output is so that the verify-voltage being optimum for each sector is supplied.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性メモリに
おける信頼性の向上技術に関し、特に、データの書き換
え速度における遅延防止および書換え誤判定の防止に適
用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology for improving the reliability of a nonvolatile memory, and more particularly to a technology effective when applied to prevention of delay in data rewriting speed and prevention of erroneous rewriting.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、電
気的にデータの書き込み、消去が可能な半導体集積回路
装置として、たとえば、フラッシュメモリがある。この
フラッシュメモリでは、メモリセルへのデータの書き込
み、消去を該メモリセルのチャネル部全面でトンネル電
流を流し、浮遊ゲートにおける電荷の放出、注入を行っ
ている。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, a flash memory is an example of a semiconductor integrated circuit device capable of electrically writing and erasing data. In this flash memory, when writing and erasing data to and from a memory cell, a tunnel current flows through the entire channel portion of the memory cell to discharge and inject charges at a floating gate.

【0003】なお、この種の半導体集積回路装置につい
て詳しく述べてある例としては、1995年6月1日、
株式会社工業調査会発行、大島雅志(編)、「電子材
料」6月号(第34巻第6号)、P32〜P37があ
り、この文献には、フラッシュメモリの構成などが記載
されている。
[0003] As an example describing this type of semiconductor integrated circuit device in detail, see, for example, June 1, 1995.
Published by Industrial Research Institute Co., Ltd., Masashi Oshima (ed.), "Electronic Materials" June Issue (Vol. 34, No. 6), and P32 to P37. This document describes the configuration of flash memory and the like. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体集積回路装置におけるデータの書き込み、消去
技術では、次のような問題点があることが本発明者によ
り見い出された。
However, the present inventor has found that there are the following problems in the data writing and erasing techniques in the semiconductor integrated circuit device as described above.

【0005】すなわち、前述したメモリセルでは、デー
タの書き込み、消去を繰り返した場合、トンネル膜の劣
化などによってメモリセルを構成するトランジスタのし
きい値が上昇することにより、データの書き込み、消去
が遅くなってしまうという問題がある。
That is, in the above-described memory cell, when data writing and erasing are repeated, the threshold voltage of the transistor constituting the memory cell rises due to deterioration of the tunnel film and the like, so that data writing and erasing are delayed. There is a problem that it becomes.

【0006】また、データの書き込み、消去の遅延によ
り、しきい値領域の狭帯化が生じてしまい、データの誤
判定などが発生し、半導体集積回路装置の信頼性を損な
う恐れがある。
Further, a delay in data writing and erasing causes a narrowing of a threshold region, which may cause erroneous data determination and impair the reliability of the semiconductor integrated circuit device.

【0007】本発明の目的は、データの書き換え回数に
応じて最適なベリファイ電圧を供給することにより、デ
ータの書き換え動作にかかる時間の遅延を防止し、デー
タの誤判定を防止することのできる半導体集積回路装置
およびベリファイ電圧の供給方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of preventing a delay in the time required for a data rewrite operation and preventing erroneous data determination by supplying an optimum verify voltage in accordance with the number of data rewrites. An object of the present invention is to provide an integrated circuit device and a method of supplying a verify voltage.

【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0010】すなわち、本発明の半導体集積回路装置
は、あるビット数から構成されたビット単位毎における
データの書き換え(書き込み/消去)回数を格納する書
き換え回数記憶領域と、該書き換え回数記憶領域に格納
されたデータの書き換え回数を読み出して、それぞれの
ビット単位毎におけるデータの書き換え回数を判断し、
その結果に基づいてそれぞれのビット単位毎に見合った
ベリファイ電圧を演算し、ベリファイ電圧制御信号、な
らびに切り換え制御信号を出力する判定制御部と、複数
の異なる電圧レベルのベリファイ電圧を生成するベリフ
ァイ電圧生成部と、該判定制御部から出力されたベリフ
ァイ電圧制御信号に基づいて、ベリファイ電圧生成部が
生成したベリファイ電圧を選択して出力する選択出力部
と、判定制御部から出力された切り換え制御信号に基づ
いて、選択出力部が選択したベリファイ電圧の供給先を
切り換え、それぞれのビット単位毎に見合ったベリファ
イ電圧を出力する電圧切り換え部とよりなるベリファイ
電圧生成制御手段を備えたものである。
That is, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, a rewrite frequency storage area for storing the number of data rewrites (write / erase) for each bit unit composed of a certain number of bits, and a rewrite frequency storage area for storing the rewrite frequency storage area Read the number of times of data rewriting, and determine the number of times of data rewriting for each bit unit,
Based on the result, a verify voltage corresponding to each bit unit is calculated, a verify control unit that outputs a verify voltage control signal and a switching control signal, and a verify voltage generator that generates a plurality of verify voltages of different voltage levels Unit, a selection output unit that selects and outputs the verify voltage generated by the verify voltage generation unit based on the verify voltage control signal output from the determination control unit, and a switching control signal output from the determination control unit. And a voltage switching unit for switching a supply destination of the verify voltage selected by the selection output unit and outputting a verify voltage corresponding to each bit unit.

【0011】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記書き換え回数記憶領域に格納されるデータの書き換え
回数のビット単位が、セクタ単位、またはブロック単位
のいずれかよりなるものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a bit unit of the number of rewrites of data stored in the rewrite number storage area is either a sector unit or a block unit.

【0012】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
予め任意の回数毎にデータ書き換えが行われた比較用メ
モリセルが設けられた電流比較ビット領域と、該電流比
較ビット領域におけるそれぞれの比較用メモリセルとメ
モリセルアレイにおけるデータの書き換えが行われるセ
クタまたはブロック単位毎に選択した任意のメモリセル
との読み出し電流を比較し、その比較結果に基づいてベ
リファイ電圧制御信号、ならびに切り換え制御信号を出
力する比較判定制御部と、複数の異なる電圧レベルのベ
リファイ電圧を生成するベリファイ電圧生成部と、比較
判定制御部から出力されたベリファイ電圧制御信号に基
づいて、ベリファイ電圧生成部が生成したベリファイ電
圧を選択して出力する選択出力部と、比較判定制御部か
ら出力された切り換え制御信号に基づいて、選択出力部
が選択したベリファイ電圧の供給先を切り換え、それぞ
れのセクタまたはブロック単位毎に見合ったベリファイ
電圧を出力する電圧切り換え部とよりなるベリファイ電
圧生成制御手段を備えたものである。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention,
A current comparison bit region provided with a comparison memory cell in which data has been rewritten in advance at an arbitrary number of times, and a sector or a sector in which data is to be rewritten in each of the comparison memory cells and the memory cell array in the current comparison bit region. A comparison / determination control unit that compares a read current with an arbitrary memory cell selected for each block unit and outputs a verify voltage control signal and a switching control signal based on the comparison result; and a plurality of verify voltages of different voltage levels. A verify voltage generating unit that generates a verify voltage, a select output unit that selects and outputs a verify voltage generated by the verify voltage generating unit based on a verify voltage control signal output from the comparison / determination control unit, The verify output selected by the selection output unit based on the output switching control signal Switches the supply destination of Lee voltage, but with more composed verify voltage generation control means and voltage switching unit to output a verify voltage commensurate for each sector or block.

【0013】また、本発明のベリファイ電圧の供給方法
は、データが書き換えられる際に、データ書き換えが行
われるセクタあるいはブロック単位毎におけるデータの
書き換え回数から、それぞれのセクタあるいはブロック
毎に見合ったベリファイ電圧を判断し、その判断結果に
基づいて、複数の異なる電圧レベルのベリファイ電圧か
ら、それぞれのセクタあるいはブロック単位毎に見合っ
たベリファイ電圧を選択し、選択されたベリファイ電圧
の供給先を切り換え、それぞれのセクタあるいはブロッ
ク単位毎に出力するものである。
Further, according to the verify voltage supply method of the present invention, when data is rewritten, the verify voltage suitable for each sector or block is determined from the number of data rewrites for each sector or block in which data rewrite is performed. Based on the result of the determination, a verify voltage suitable for each sector or block unit is selected from a plurality of verify voltages of different voltage levels, and the supply destination of the selected verify voltage is switched. It is output for each sector or block.

【0014】さらに、本発明のベリファイ電圧の供給方
法は、データが書き換えられる際に、予め任意の回数毎
にデータ書き換えが行われた比較用メモリセルと、メモ
リセルアレイにおけるデータの書き換えが行われるセク
タあるいはブロック単位毎に選択した任意のメモリセル
との読み出し電流を比較し、それぞれのセクタあるいは
ブロック単位毎に見合ったベリファイ電圧を判断し、そ
の判断結果に基づいて、複数の異なる電圧レベルのベリ
ファイ電圧から、それぞれのセクタあるいはブロック単
位毎に見合ったベリファイ電圧を選択し、選択されたベ
リファイ電圧の供給先を切り換え、それぞれのセクタあ
るいはブロック単位毎に出力するものである。
Further, according to the verify voltage supply method of the present invention, when data is rewritten, a comparison memory cell in which data is rewritten in advance at an arbitrary number of times and a sector in the memory cell array in which data is rewritten. Alternatively, a read current with an arbitrary memory cell selected for each block unit is compared, a verify voltage suitable for each sector or block unit is determined, and verify voltages of a plurality of different voltage levels are determined based on the determination result. Then, a verify voltage suitable for each sector or block unit is selected, the supply destination of the selected verify voltage is switched, and output is performed for each sector or block unit.

【0015】以上のことにより、ベリファイ電圧をセク
タまたはブロック毎に最適な電圧レベルで供給するの
で、データの書き換え回数が多くなることによってメモ
リセルのしきい値が高くなっても書き込み、消去時間の
遅延を大幅に低減でき、かつデータの誤判定などを防止
することができる。
As described above, the verify voltage is supplied at the optimum voltage level for each sector or block. Therefore, even if the threshold value of the memory cell is increased due to the increase in the number of data rewrites, the write and erase time can be reduced. Delay can be greatly reduced, and erroneous data determination can be prevented.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1によるフラッシュメモリのブロック図、図2は、
本発明の実施の形態によるフラッシュメモリに設けられ
たベリファイ電圧生成制御部のブロック図、図3は、本
発明の実施の形態によるフラッシュメモリに設けられた
フラッシュメモリセルアレイの説明図、図4は、本発明
の実施の形態1によるフラッシュメモリにおける書き換
え動作のフローチャート、図5は、メモリセルにおける
データ書き換え回数としきい値との説明図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a block diagram of a flash memory according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a block diagram of a verify voltage generation control unit provided in the flash memory according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is an explanatory diagram of a flash memory cell array provided in the flash memory according to the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a flowchart of a rewriting operation in the flash memory according to the first embodiment of the present invention. FIG.

【0018】本実施の形態1において、フラッシュメモ
リ(半導体集積回路装置)1には、図1に示すように、
ロジックコントロール2および入出力コントロール回路
3が設けられている。ロジックコントロール2は、接続
先となるマイクロコンピュータなどのホストから入力さ
れる制御用信号を一時的に格納し、動作ロジックの制御
を行う。
In the first embodiment, a flash memory (semiconductor integrated circuit device) 1 includes, as shown in FIG.
A logic control 2 and an input / output control circuit 3 are provided. The logic control 2 temporarily stores a control signal input from a host such as a microcomputer to be connected, and controls operation logic.

【0019】また、入出力コントロール回路3には、ホ
ストから入出力されるコマンド、外部アドレス、プログ
ラムデータなどの各種信号が入力され、制御用信号に基
づいてコマンド、外部アドレス、データをそれぞれのコ
マンドレジスタ4、アドレスレジスタ5、データレジス
タ/センスアンプ6に出力する。
The input / output control circuit 3 receives various signals such as commands, external addresses, and program data input / output from the host, and outputs commands, external addresses, and data to the respective commands based on control signals. It outputs to register 4, address register 5, and data register / sense amplifier 6.

【0020】アドレスレジスタ5には、カラムアドレス
バッファ7ならびにロウアドレスバッファ8が接続され
ている。これらカラムアドレスバッファ7、ロウアドレ
スバッファ8は、アドレスレジスタ5から出力されたア
ドレスを一時的に格納する。
A column address buffer 7 and a row address buffer 8 are connected to the address register 5. The column address buffer 7 and the row address buffer 8 temporarily store the address output from the address register 5.

【0021】カラムアドレスバッファ7には、カラムア
ドレスデコーダ9が接続されており、ロウアドレスバッ
ファ8には、ロウアドレスデコーダ10が接続されてい
る。カラムアドレスデコーダ9は、カラムアドレスバッ
ファ7から出力されたカラムアドレスに基づいてデコー
ドを行い、ロウアドレスデコーダ10は、ロウアドレス
バッファ8から出力されたロウアドレスに基づいてデコ
ードを行う。
A column address decoder 9 is connected to the column address buffer 7, and a row address decoder 10 is connected to the row address buffer 8. The column address decoder 9 performs decoding based on the column address output from the column address buffer 7, and the row address decoder 10 performs decoding based on the row address output from the row address buffer 8.

【0022】ロジックコントロール2、コマンドレジス
タ4には、制御回路11が接続されており、この制御回
路11によって、データレジスタ/センスアンプ6が制
御されている。
A control circuit 11 is connected to the logic control 2 and the command register 4, and the control circuit 11 controls the data register / sense amplifier 6.

【0023】データレジスタ/センスアンプ6、ロウア
ドレスデコーダ10には、電気的なデータの消去が可能
であり、データの保存に電源が不要なフラッシュメモリ
セルアレイ12が接続されている。フラッシュメモリセ
ルアレイ12は、記憶の最小単位であるメモリセルが規
則正しくアレイ状に並べられている。このフラッシュメ
モリセルアレイ12に設けられたメモリセルは、たとえ
ば、データの書き込み、消去を該メモリセルのチャネル
部全面でトンネル電流を流し、浮遊ゲートにおける電荷
の放出、注入することにより行っている。
The data register / sense amplifier 6 and the row address decoder 10 are connected to a flash memory cell array 12 capable of electrically erasing data and requiring no power supply for storing data. In the flash memory cell array 12, memory cells, which are the minimum units of storage, are regularly arranged in an array. In the memory cells provided in the flash memory cell array 12, for example, data writing and erasing are performed by flowing a tunnel current over the entire channel portion of the memory cell, and discharging and injecting charges in the floating gate.

【0024】また、入出力コントロール回路3には、ベ
リファイ電圧生成制御部(ベリファイ電圧生成制御手
段)13が接続されている。このベリファイ電圧生成制
御部13は、ベリファイ動作に用いられるベリファイ電
圧を生成、ならびに電圧制御してメモリセルアレイ12
に供給する。
A verify voltage generation control section (verify voltage generation control means) 13 is connected to the input / output control circuit 3. The verify voltage generation control unit 13 generates a verify voltage used for a verify operation, controls the voltage, and performs voltage control on the memory cell array 12.
To supply.

【0025】次に、ベリファイ電圧生成制御部13の回
路構成について説明する。
Next, the circuit configuration of the verify voltage generation controller 13 will be described.

【0026】ベリファイ電圧生成制御部13は、図2に
示すように、書き換え回数記憶領域(書き換え回数記憶
領域)14、書き換え回数判定制御回路(判定制御部)
15、ベリファイ電圧発生回路(ベリファイ電圧生成
部)16、ベリファイ電圧出力回路(選択出力部)1
7、ならびに切り換え回路(電圧切り換え部)18から
構成されている。
As shown in FIG. 2, the verify voltage generation control section 13 includes a rewrite frequency storage area (rewrite frequency storage area) 14, a rewrite frequency determination control circuit (determination control section).
15, a verify voltage generating circuit (verify voltage generating unit) 16, a verify voltage output circuit (select output unit) 1
7 and a switching circuit (voltage switching unit) 18.

【0027】書き換え回数記憶領域14は、図3に示す
ように、フラッシュメモリセルアレイ12のデータ管理
領域における一部に設けられており、それぞれのセクタ
におけるデータの書き換え回数を格納する。このセクタ
とは、データの消去/読み出し/書き込みが行われる単
位であり、フラッシュメモリセルアレイ12のデータ領
域に設けられている。
As shown in FIG. 3, the rewrite frequency storage area 14 is provided in a part of the data management area of the flash memory cell array 12, and stores the number of rewrites of data in each sector. The sector is a unit in which data is erased, read, and written, and is provided in the data area of the flash memory cell array 12.

【0028】書き換え回数判定制御回路15は、書き換
え回数記憶領域14に格納された個々のセクタにおける
データの書き換え回数を読み出し、その読み出した書き
換え回数に基づいてベリファイ電圧制御信号をベリファ
イ電圧出力回路17、および切り換え回路18に出力
し、ベリファイ電圧の出力制御を行う。
The rewrite frequency determination control circuit 15 reads the number of rewrites of data in each sector stored in the rewrite frequency storage area 14, and outputs a verify voltage control signal based on the read rewrite frequency, to the verify voltage output circuit 17, And a switching circuit 18 for controlling the output of the verify voltage.

【0029】ベリファイ電圧発生回路16は、複数のベ
リファイ電圧V0〜Vnを生成する。ベリファイ電圧出
力回路17は、書き換え回数判定制御回路15の切り換
え制御信号に基づいてベリファイ電圧発生回路16が生
成したベリファイ電圧V0〜Vnを選択して出力する。
The verify voltage generation circuit 16 generates a plurality of verify voltages V0 to Vn. The verify voltage output circuit 17 selects and outputs the verify voltages V0 to Vn generated by the verify voltage generating circuit 16 based on the switching control signal of the rewrite number determination control circuit 15.

【0030】このベリファイ電圧出力回路17は、たと
えば、トランジスタT1〜Tnによって構成されてお
り、トランジスタT1〜Tnのゲートに入力されるベリ
ファイ電圧制御信号によってトランジスタT1〜Tnが
ON/OFF動作することによってベリファイ電圧発生
回路16が生成したベリファイ電圧V0〜Vnが選択出
力される。
The verify voltage output circuit 17 includes, for example, transistors T1 to Tn. The transistors T1 to Tn are turned on / off by a verify voltage control signal input to the gates of the transistors T1 to Tn. Verify voltages V0 to Vn generated by verify voltage generating circuit 16 are selectively output.

【0031】切り換え回路18は、書き換え回数判定制
御回路15の切り換え制御信号に基づいて、各々のセク
タ毎の供給するベリファイ電圧を接続先を切り換えるこ
とにより、それぞれのセクタに最適なベリファイ電圧を
供給する。
The switching circuit 18 supplies the optimum verifying voltage to each sector by switching the connection destination of the verifying voltage to be supplied for each sector based on the switching control signal of the rewrite number determination control circuit 15. .

【0032】次に、本実施の形態の作用について、図1
〜図3、図4のフローチャート、ならびに図5のメモリ
セルにおけるデータ書き換え回数としきい値との説明図
を用いて説明する。
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to FIG.
3 and FIG. 4 and an explanatory diagram of the number of times of data rewriting and the threshold value in the memory cell of FIG.

【0033】まず、フラッシュメモリ1の書き換え動作
が行われる際に、ベリファイ電圧生成制御部13におけ
る書き換え回数判定制御回路15が、書き換え回数記憶
領域14に格納されているセクタ毎の書き換え回数デー
タのうち、書き換え、消去が行われるセクタの書き換え
回数データを入出力コントロール回路3を介して読み出
す(ステップS101)。
First, when the rewriting operation of the flash memory 1 is performed, the rewriting number determination control circuit 15 in the verify voltage generation control unit 13 uses the rewriting number data of the sector stored in the rewriting number storage area 14 for each sector. Then, the data on the number of times of rewriting of the sector to be rewritten or erased is read out via the input / output control circuit 3 (step S101).

【0034】書き換え回数判定制御回路15は、書き換
え回数記憶領域14に格納されているセクタ毎の書き換
え回数データを読み出し、その書き換え回数データに応
じたベリファイ電圧制御信号をベリファイ電圧出力回路
17に出力する。
The rewrite frequency determination control circuit 15 reads the rewrite frequency data for each sector stored in the rewrite frequency storage area 14 and outputs a verify voltage control signal corresponding to the rewrite frequency data to the verify voltage output circuit 17. .

【0035】そして、ベリファイ電圧出力回路17は、
入力されたベリファイ電圧制御信号に基づいて各々のセ
クタ毎の書き換え回数データに見合ったベリファイ電圧
を、ベリファイ電圧発生回路16が生成したベリファイ
電圧V0〜Vnから選択して切り換え回路18に出力す
る。
The verify voltage output circuit 17
Based on the input verify voltage control signal, a verify voltage corresponding to the rewrite frequency data for each sector is selected from the verify voltages V0 to Vn generated by the verify voltage generating circuit 16 and output to the switching circuit 18.

【0036】ここで、選択されるベリファイ電圧は、た
とえば、書き換え回数が10n 回毎に電圧レベルが高く
なるように設定されている。また、ベリファイ電圧と書
き換え回数とは、図5に示すように、メモリセルにおけ
るデータ書き換え回数としきい値との特性変化を予め測
定することによって対応づけを行い、ベリファイ電圧
が、メモリセルにおける書き込み状態のしきい値と消去
状態のしきい値との中間の電圧レベルに位置するよう設
定する。
Here, the selected verify voltage is set, for example, such that the voltage level becomes higher every 10 n rewrites. Also, as shown in FIG. 5, the verify voltage and the number of rewrites are correlated by previously measuring the characteristic change between the number of data rewrites and the threshold in the memory cell, and the verify voltage is changed to the write state in the memory cell. Is set at a voltage level intermediate between the threshold value of the threshold voltage and the threshold value in the erased state.

【0037】切り換え回路18は、書き換え回数判定制
御回路15の切り換え制御信号に基づいて、入力された
それぞれのベリファイ電圧の供給先を切り換え、各々の
セクタに見合ったベリファイ電圧を出力することによっ
て、セクタ毎に最適なベリファイ電圧が設定される(ス
テップS102)。
The switching circuit 18 switches the supply destination of each input verify voltage based on the switching control signal of the number-of-times-of-rewriting determination control circuit 15, and outputs a verify voltage suitable for each sector. An optimum verify voltage is set for each time (step S102).

【0038】その後、データの書き込み、消去動作が開
始され(ステップS103)、消去ベリファイ、書き込
みベリファイなどのベリファイ動作が行われ(ステップ
S104)、フラッシュメモリ1における書き込み、消
去動作が終了する(ステップS105)。この書き込
み、消去動作の終了後、記憶領域14に格納された該当
するセクタの書き換え回数が更新される(ステップS1
06)。
Thereafter, data write and erase operations are started (step S103), and verify operations such as erase verify and write verify are performed (step S104), and the write and erase operations in the flash memory 1 are completed (step S105). ). After the end of the write / erase operation, the number of rewrites of the corresponding sector stored in the storage area 14 is updated (step S1).
06).

【0039】それにより、本実施の形態では、データの
書き換え回数が多くなることによってメモリセルのしき
い値が高くなってもベリファイ電圧生成制御部13が、
それぞれのセクタ毎に最適なベリファイ電圧を供給する
ので、データの書き換え時間の遅延を大幅に低減でき、
かつデータの誤判定などを防止することができる。
Thus, in the present embodiment, even if the threshold value of the memory cell increases due to the increase in the number of times of rewriting of data, the verify voltage generation control unit 13
Since the optimum verify voltage is supplied for each sector, the delay of data rewriting time can be greatly reduced,
In addition, erroneous determination of data can be prevented.

【0040】(実施の形態2)図6は、本発明の実施の
形態2によるフラッシュメモリに設けられたベリファイ
電圧生成制御部のブロック図、図7は、本発明の実施の
形態2によるフラッシュメモリに設けられたフラッシュ
メモリセルアレイの説明図、図8は、本発明の実施の形
態2によるフラッシュメモリにおける書き換え動作のフ
ローチャートである。
(Embodiment 2) FIG. 6 is a block diagram of a verify voltage generation control unit provided in a flash memory according to Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 7 is a flash memory according to Embodiment 2 of the present invention. And FIG. 8 is a flowchart of a rewriting operation in the flash memory according to the second embodiment of the present invention.

【0041】本実施の形態2においては、フラッシュメ
モリ1(図1)が、前記実施の形態1と同様に、ロジッ
クコントロール2、入出力コントロール回路3、コマン
ドレジスタ4、アドレスレジスタ5、データレジスタ/
センスアンプ6、カラムアドレスバッファ7、ロウアド
レスバッファ8、カラムアドレスデコーダ9、ロウアド
レスデコーダ10、制御回路11、フラッシュメモリセ
ルアレイ12、ならびにベリファイ電圧生成制御部(ベ
リファイ電圧生成制御手段)13aから構成されてい
る。
In the second embodiment, the flash memory 1 (FIG. 1) includes a logic control 2, an input / output control circuit 3, a command register 4, an address register 5, and a data register / similar to the first embodiment.
It comprises a sense amplifier 6, a column address buffer 7, a row address buffer 8, a column address decoder 9, a row address decoder 10, a control circuit 11, a flash memory cell array 12, and a verify voltage generation control section (verify voltage generation control means) 13a. ing.

【0042】また、ベリファイ電圧生成制御部13a
は、図6に示すように、前記実施の形態1と同様である
ベリファイ電圧発生回路16、ベリファイ電圧出力回路
17、切り換え回路18に、電流比較ビット領域19、
および電流比較判定制御回路(比較判定制御部)20が
設けられた構成となっている。
The verify voltage generation controller 13a
As shown in FIG. 6, a verify voltage generating circuit 16, a verify voltage output circuit 17, and a switching circuit 18, which are the same as in the first embodiment,
And a current comparison / determination control circuit (comparison / determination control unit) 20.

【0043】電流比較ビット領域19は、予め所定の回
数(たとえば、102 〜10n )のデータ書き込み、消
去、またはそれに相当するストレスが印加された電流比
較用メモリセルが設けられた領域であり、図7に示すよ
うに、フラッシュメモリセルアレイ12におけるデータ
管理領域の一部に設けられている。
The current comparison bit area 19 is an area provided with a current comparison memory cell to which data has been written or erased a predetermined number of times (for example, 10 2 to 10 n ) or to which a stress corresponding thereto has been applied. As shown in FIG. 7, the flash memory cell array 12 is provided in a part of the data management area.

【0044】電流比較判定制御回路20は、書き換え回
数記憶領域14の電流比較用メモリセルにおけるデータ
の読み出し電流と、正規メモリセルにおけるデータの読
み出し電流と比較し、その比較結果に基づいてベリファ
イ電圧制御信号をベリファイ電圧出力回路17、および
切り換え回路18に出力してベリファイ電圧の出力制御
を行う。
The current comparison / judgment control circuit 20 compares the data read current of the current comparison memory cell in the rewrite frequency storage area 14 with the data read current of the normal memory cell, and performs verify voltage control based on the comparison result. A signal is output to the verify voltage output circuit 17 and the switching circuit 18 to control the output of the verify voltage.

【0045】ここで、正規メモリセルとは、フラッシュ
メモリセルアレイ12における書き込み、消去が行われ
るそれぞれのセクタから選択した任意の1つのメモリセ
ルである。
Here, the normal memory cell is any one memory cell selected from each sector in the flash memory cell array 12 where writing and erasing are performed.

【0046】次に、ベリファイ電圧生成制御部13a動
作について、図6、図7、ならびに図8のフローチャー
トを用いて説明する。
Next, the operation of the verify voltage generation control section 13a will be described with reference to the flowcharts of FIGS. 6, 7, and 8.

【0047】まず、フラッシュメモリ1の書き換え動作
が行われる際において、フラッシュメモリ1にはフラッ
シュメモリセルアレイ12の電流比較ビット領域19
に、予め所定の回数のデータ書き込み、消去、またはそ
れに相当するストレスが印加された電流比較用メモリセ
ルが準備されている(ステップS201)。
First, when the rewriting operation of the flash memory 1 is performed, the current comparison bit area 19 of the flash memory cell array 12 is stored in the flash memory 1.
First, a current comparison memory cell to which a predetermined number of times of data writing, erasing, or a stress equivalent thereto has been applied is prepared in advance (step S201).

【0048】電流比較判定制御回路20は、電流比較用
メモリセルの読み出し電流と、正規メモリセルのうち、
書き換えが行われるセクタの正規メモリセルにおける読
み出し電流とを比較し(ステップS202)、同等程
度、あるいは最も近い電流値の電流比較用メモリセルか
ら、それぞれの正規メモリセルの書き換え回数を判定し
(ステップS203)、それぞれのセクタにおけるデー
タ書き換え回数を判定する。
The current comparison / judgment control circuit 20 determines the read current of the current comparison memory cell and the normal memory cell
The read current in the normal memory cell of the sector to be rewritten is compared with the read current (step S202), and the number of times of rewriting of each normal memory cell is determined from the current comparison memory cells having the same or similar current value (step S202). S203), the number of times of data rewriting in each sector is determined.

【0049】そして、電流比較判定制御回路20は、ベ
リファイ電圧制御信号をベリファイ電圧出力回路17に
出力する。ベリファイ電圧出力回路17は、ベリファイ
電圧制御信号に基づいて、ベリファイ電圧発生回路16
が生成したベリファイ電圧V0〜Vnから、それぞれの
セクタにおける書き換え回数に見合ったベリファイ電圧
を選択して出力する。
Then, the current comparison / judgment control circuit 20 outputs a verify voltage control signal to the verify voltage output circuit 17. The verify voltage output circuit 17 outputs a verify voltage generating circuit 16 based on a verify voltage control signal.
Selects and outputs a verify voltage corresponding to the number of times of rewriting in each sector from the verify voltages V0 to Vn generated by.

【0050】また、電流比較判定制御回路20は、切り
換え回路18にも切り換え制御信号を出力する。切り換
え回路18は、入力された切り換え制御信号に基づい
て、ベリファイ電圧出力回路17が選択したベリファイ
電圧のうち、それぞれのセクタに見合ったベリファイ電
圧が各々のセクタに供給されるように切り換えて出力す
ることにより、セクタ毎に最適なベリファイ電圧が設定
される(ステップS204)。
The current comparison / judgment control circuit 20 also outputs a switching control signal to the switching circuit 18. The switching circuit 18 switches and outputs the verify voltage selected by the verify voltage output circuit 17 based on the input switching control signal so that a verify voltage corresponding to each sector is supplied to each sector. Thus, the optimum verify voltage is set for each sector (step S204).

【0051】この場合も、ベリファイ電圧は、メモリセ
ルにおける書き込み状態のしきい値とメモリセルにおけ
る消去状態のしきい値との中間の電圧レベルに位置する
よう設定される。
Also in this case, the verify voltage is set to be at a voltage level intermediate between the threshold value of the write state in the memory cell and the threshold value of the erase state in the memory cell.

【0052】その後、データの書き込み、消去動作が開
始され(ステップS205)、消去ベリファイ、ベリフ
ァイ読み出しなどのベリファイ動作が行われて(ステッ
プS206)、フラッシュメモリ1における書き込み、
消去動作が終了する(ステップS207)。
Thereafter, data write and erase operations are started (step S205), and verify operations such as erase verify and verify read are performed (step S206).
The erasing operation ends (step S207).

【0053】それにより、本実施の形態2においても、
フラッシュメモリ1における書き換え回数が多くなり、
メモリセルのしきい値が高くなってもベリファイ電圧生
成制御部13aが、それぞれのセクタ毎に最適なベリフ
ァイ電圧を供給するので、書き換え、消去時間の遅延を
大幅に低減でき、かつデータの誤判定などを防止するこ
とができるので、フラッシュメモリ1の信頼性を高める
ことができる。
Thus, also in the second embodiment,
The number of rewrites in the flash memory 1 increases,
Even if the threshold value of the memory cell becomes high, the verify voltage generation control section 13a supplies the optimum verify voltage for each sector, so that the delay of the rewriting and erasing time can be greatly reduced, and the erroneous data judgment is performed. And the like can be prevented, so that the reliability of the flash memory 1 can be improved.

【0054】また、電流比較用メモリセル数を少なくで
きるので、電流比較ビット領域19を小さくでき、半導
体チップのレイアウト面積を小面積化することができ
る。さらに、電流比較によって最適なベリファイ電圧を
設定するので、より短時間でベリファイ電圧を供給する
ことができる。
Also, since the number of memory cells for current comparison can be reduced, the current comparison bit region 19 can be reduced, and the layout area of the semiconductor chip can be reduced. Further, since the optimum verify voltage is set by current comparison, the verify voltage can be supplied in a shorter time.

【0055】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0056】たとえば、前記実施の形態1,2では、ベ
リファイ電圧の供給をセクタ単位で行っていたが、1ブ
ロック(たとえば、8セクタ=1ブロック)単位でベリ
ファイ電圧の設定、供給を行うようにしてもよい。
For example, in the first and second embodiments, the supply of the verify voltage is performed in units of sectors. However, the verify voltage is set and supplied in units of one block (for example, 8 sectors = 1 block). You may.

【0057】[0057]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0058】(1)本発明によれば、ベリファイ電圧生
成制御手段が、データの書き換え回数に応じてベリファ
イ電圧をセクタまたはブロック単位毎に最適な電圧レベ
ルに設定して供給するので、データの書き換え時間の遅
延を大幅に低減でき、かつデータの誤判定などを防止す
ることができる。
(1) According to the present invention, the verify voltage generation control means sets and supplies the verify voltage to the optimum voltage level for each sector or block in accordance with the number of data rewrites, so that the data is rewritten. Time delay can be significantly reduced, and erroneous data determination can be prevented.

【0059】(2)また、本発明では、ベリファイ電圧
がセクタまたはブロック単位毎に最適な電圧レベルで供
給されるので、データの書き換え回数を大幅に向上する
ことができる。
(2) In the present invention, the verify voltage is supplied at the optimum voltage level for each sector or block unit, so that the number of times of data rewriting can be greatly improved.

【0060】(3)さらに、本発明においては、上記
(1)、(2)により、半導体集積回路装置の信頼性を
向上することができる。
(3) Further, in the present invention, the reliability of the semiconductor integrated circuit device can be improved by the above (1) and (2).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態によるフラッシュメモリの
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a flash memory according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態によるフラッシュメモリに
設けられたベリファイ電圧生成制御部のブロック図であ
る。
FIG. 2 is a block diagram of a verify voltage generation control unit provided in the flash memory according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態によるフラッシュメモリに
設けられたフラッシュメモリセルアレイの説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a flash memory cell array provided in the flash memory according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態によるフラッシュメモリに
おける書き換え動作のフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart of a rewriting operation in the flash memory according to the embodiment of the present invention.

【図5】メモリセルにおけるデータ書き換え回数としき
い値との説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the number of times of data rewriting and a threshold in a memory cell.

【図6】本発明の実施の形態2によるフラッシュメモリ
に設けられたベリファイ電圧生成制御部のブロック図で
ある。
FIG. 6 is a block diagram of a verify voltage generation control unit provided in a flash memory according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態2によるフラッシュメモリ
に設けられたフラッシュメモリセルアレイの説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory diagram of a flash memory cell array provided in a flash memory according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2によるフラッシュメモリ
における書き換え動作のフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart of a rewriting operation in the flash memory according to the second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フラッシュメモリ(半導体集積回路装置) 2 ロジックコントロール 3 入出力コントロール回路 4 コマンドレジスタ 5 アドレスレジスタ 6 データレジスタ/センスアンプ 7 カラムアドレスバッファ 8 ロウアドレスバッファ 9 カラムアドレスデコーダ 10 ロウアドレスデコーダ 11 制御回路 12 フラッシュメモリセルアレイ 13 ベリファイ電圧生成制御部(ベリファイ電圧生成
制御手段) 13a ベリファイ電圧生成制御部(ベリファイ電圧生
成制御手段) 14 書き換え回数記憶領域(書き換え回数記憶領域) 15 書き換え回数判定制御回路(判定制御部) 16 ベリファイ電圧発生回路(ベリファイ電圧生成
部) 17 ベリファイ電圧出力回路(選択出力部) 18 切り換え回路(電圧切り換え部) 19 電流比較ビット領域 20 電流比較判定制御回路(比較判定制御部) V0〜Vn ベリファイ電圧
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flash memory (semiconductor integrated circuit device) 2 Logic control 3 I / O control circuit 4 Command register 5 Address register 6 Data register / sense amplifier 7 Column address buffer 8 Row address buffer 9 Column address decoder 10 Row address decoder 11 Control circuit 12 Flash Memory cell array 13 Verify voltage generation control section (verify voltage generation control means) 13a Verify voltage generation control section (verify voltage generation control means) 14 Rewrite count storage area (rewrite count storage area) 15 Rewrite count determination control circuit (determination control section) 16 Verify voltage generation circuit (verify voltage generation unit) 17 Verify voltage output circuit (selection output unit) 18 Switching circuit (voltage switching unit) 19 Current comparison bit area 20 current comparison judgment control circuit (comparison determination control unit) V0~Vn verify voltage

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 あるビット数から構成されたビット単位
毎におけるデータの書き換え回数を格納する書き換え回
数記憶領域と、 前記書き換え回数記憶領域に格納されたデータの書き換
え回数を読み出して、それぞれのビット単位毎における
データの書き換え回数を判断し、その結果に基づいてそ
れぞれのビット単位毎に見合ったベリファイ電圧を演算
し、ベリファイ電圧制御信号、ならびに切り換え制御信
号を出力する判定制御部と、 複数の異なる電圧レベルのベリファイ電圧を生成するベ
リファイ電圧生成部と、 前記判定制御部から出力されたベリファイ電圧制御信号
に基づいて、前記ベリファイ電圧生成部が生成したベリ
ファイ電圧を選択して出力する選択出力部と、 前記判定制御部から出力された切り換え制御信号に基づ
いて、前記選択出力部が選択したベリファイ電圧の供給
先を切り換え、それぞれのビット単位毎に見合ったベリ
ファイ電圧を出力する電圧切り換え部とよりなるベリフ
ァイ電圧生成制御手段を備えたことを特徴とする半導体
集積回路装置。
1. A rewrite frequency storage area for storing a data rewrite frequency for each bit unit composed of a certain number of bits, and a data rewrite frequency stored in the rewrite frequency storage area are read, and each bit unit is read. A judgment control unit for judging the number of data rewrites for each bit, calculating a verify voltage corresponding to each bit unit based on the result, and outputting a verify voltage control signal and a switching control signal; A verify voltage generator that generates a verify voltage of a level, a selection output unit that selects and outputs a verify voltage generated by the verify voltage generator based on a verify voltage control signal output from the determination controller; Based on the switching control signal output from the determination control unit, A semiconductor integrated circuit device comprising a verify voltage generation control means comprising a voltage switching unit for switching a supply destination of the verify voltage selected by the selection output unit and outputting a verify voltage corresponding to each bit unit. .
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記書き換え回数記憶領域に格納されるデータの
書き換え回数のビット単位が、セクタ単位、またはブロ
ック単位のいずれかであることを特徴とする半導体集積
回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein a bit unit of the number of rewrites of data stored in the rewrite number storage area is one of a sector unit and a block unit. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項3】 予め任意の回数毎にデータ書き換えが行
われた比較用メモリセルが設けられた電流比較ビット領
域と、 前記電流比較ビット領域におけるそれぞれの比較用メモ
リセルと、メモリセルアレイにおけるデータの書き換え
が行われるセクタまたはブロック単位毎に選択した任意
のメモリセルとの読み出し電流を比較し、その比較結果
に基づいてベリファイ電圧制御信号、ならびに切り換え
制御信号を出力する比較判定制御部と、 複数の異なる電圧レベルのベリファイ電圧を生成するベ
リファイ電圧生成部と、 前記比較判定制御部から出力されたベリファイ電圧制御
信号に基づいて、前記ベリファイ電圧生成部が生成した
ベリファイ電圧を選択して出力する選択出力部と、 前記比較判定制御部から出力された切り換え制御信号に
基づいて、前記選択出力部が選択したベリファイ電圧の
供給先を切り換え、それぞれのセクタまたはブロック単
位毎に見合ったベリファイ電圧を出力する電圧切り換え
部とよりなるベリファイ電圧生成制御手段を備えたこと
を特徴とする半導体集積回路装置。
3. A current comparison bit area provided with a comparison memory cell in which data has been rewritten in advance at an arbitrary number of times, each comparison memory cell in the current comparison bit area, and a data A comparison determination control unit that compares a read current with an arbitrary memory cell selected for each sector or block to be rewritten, and outputs a verify voltage control signal and a switching control signal based on the comparison result; A verify voltage generator for generating verify voltages of different voltage levels; and a selection output for selecting and outputting a verify voltage generated by the verify voltage generator based on a verify voltage control signal output from the comparison / determination controller. And a switching control signal output from the comparison / determination control unit. And a voltage switching unit for switching a supply destination of the verify voltage selected by the selection output unit and outputting a verify voltage corresponding to each sector or block unit. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項4】 データが書き換えられる際に、データ書
き換えが行われるセクタあるいはブロック単位毎におけ
るデータの書き換え回数から、それぞれのセクタあるい
はブロック毎に見合ったベリファイ電圧を判断し、その
判断結果に基づいて、複数の異なる電圧レベルのベリフ
ァイ電圧から、それぞれのセクタあるいはブロック単位
毎に見合ったベリファイ電圧を選択し、選択されたベリ
ファイ電圧の供給先を切り換え、それぞれのセクタある
いはブロック単位毎に出力することを特徴とするベリフ
ァイ電圧の供給方法。
4. When data is rewritten, a verify voltage appropriate for each sector or block is determined from the number of data rewrites for each sector or block in which data rewrite is performed, and based on the determination result. Selecting a verify voltage suitable for each sector or block unit from a plurality of verify voltage levels, switching the supply destination of the selected verify voltage, and outputting for each sector or block unit. Characteristic supply method of verify voltage.
【請求項5】 データが書き換えられる際に、予め任意
の回数毎にデータ書き換えが行われた比較用メモリセル
と、メモリセルアレイにおけるデータの書き換えが行わ
れるセクタあるいはブロック単位毎に選択した任意のメ
モリセルとの読み出し電流を比較し、それぞれのセクタ
あるいはブロック単位毎に見合ったベリファイ電圧を判
断し、その判断結果に基づいて、複数の異なる電圧レベ
ルのベリファイ電圧から、それぞれのセクタあるいはブ
ロック単位毎に見合ったベリファイ電圧を選択し、選択
されたベリファイ電圧の供給先を切り換え、それぞれの
セクタあるいはブロック単位毎に出力することを特徴と
するベリファイ電圧の供給方法。
5. A memory cell for comparison in which data is rewritten in advance at an arbitrary number of times when data is rewritten, and an arbitrary memory selected for each sector or block in the memory cell array in which data is to be rewritten. The read current with the cell is compared, and a verify voltage suitable for each sector or block unit is determined. Based on the determination result, verify voltages of a plurality of different voltage levels are determined for each sector or block unit. A verify voltage supply method, comprising selecting an appropriate verify voltage, switching the supply destination of the selected verify voltage, and outputting the selected verify voltage for each sector or block unit.
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